KR102119430B1 - Exposure/rendering device, exposure/rendering system, program, and exposure/rendering method - Google Patents
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Abstract
피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있는 노광 묘화 장치를 제공한다. 피노광 기판의 제 1 면을 노광함으로써 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 묘화 수단과, 제 1 면의 화상 정보와 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보(60A), 제 2 면의 화상 정보와 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보(60B), 및 제 1 잡 정보(60A)와 제 2 잡 정보(60B)의 대응 정보를 기억하는 기억 수단과, 제 1 잡 정보(60A)에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 제 1 면을 노광함으로써 제 1 면에 화상을 묘화한 피노광 기판의 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 대응 정보에 의거하여 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보(60A)에 대응된 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 제 2 면을 노광함으로써 제 2 잡 정보(60B)에 의해 나타내어지는 화상을 제 2 면에 묘화한다.Disclosed is an exposure drawing apparatus that can prevent images of images that do not correspond to each other on each side when drawing images on both surfaces of a substrate to be exposed. The first drawing means for drawing an image on the first surface by exposing the first surface of the substrate to be exposed, the first job information 60A corresponding to the image information on the first surface and the exposure condition information, and the image on the second surface In the second job information 60B to which the information and exposure condition information correspond, and storage means for storing corresponding information between the first job information 60A and the second job information 60B, and the first job information 60A. When an image is drawn on the second surface of the substrate to be exposed by drawing the image on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the agent, the agent used when drawing the image on the first surface according to the corresponding information The image represented by the second job information 60B is drawn on the second side by exposing the second side under the exposure conditions indicated by the second job information corresponding to the one job information 60A.
Description
본 발명은 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램 및 노광 묘화 방법에 관한 것이고, 특히 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화하는 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템과, 상기 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템에 의해 실행되는 프로그램과, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화하는 노광 묘화 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure drawing apparatus, an exposure drawing system, a program, and an exposure drawing method. In particular, an exposure drawing apparatus and an exposure drawing system for drawing an image on both surfaces of an exposed substrate, and the exposure drawing apparatus and the exposure drawing system It relates to a program to be executed and an exposure drawing method of drawing an image on both surfaces of a substrate to be exposed.
종래, 프린트 기판인 피노광 기판에 화상 정보에 의거하여 변조된 광빔을 노광하여 상기 피노광 기판에 화상을 묘화하는 노광 묘화 장치가 개발되어 있다. 또한, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화하기 위해서 이 노광 묘화 장치를 2대 병렬시켜 한쪽을 제 1 면의 묘화에 사용하고, 다른쪽을 제 1 면과는 반대인 제 2 면의 묘화에 사용하는 노광 묘화 시스템도 개발되어 있다. 이 노광 묘화 시스템에서는 제 1 면용의 노광 묘화 장치에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 화상이 묘화된 후, 상기 피노광 기판이 제 2 면용의 노광 묘화 장치의 소정 위치까지 반송되어 상기 노광 묘화 장치에 의해 피노광 기판의 제 2 면에 화상이 묘화된다.Conventionally, an exposure drawing apparatus has been developed in which a light beam modulated based on image information is exposed on a substrate to be exposed as a printed circuit board and an image is drawn on the substrate to be exposed. In addition, in order to draw images on both sides of the substrate to be exposed, two exposure drawing devices are paralleled to use one side for drawing on the first side, and the other for drawing on the second side opposite to the first side. An exposure imaging system to be developed has also been developed. In this exposure drawing system, after an image is drawn on the first surface of the substrate to be exposed by the exposure drawing device for the first surface, the substrate to be exposed is conveyed to a predetermined position in the exposure drawing device for the second surface, and then the exposure drawing device By this, an image is drawn on the second surface of the substrate to be exposed.
이 노광 묘화 시스템에 관한 기술로서, 특허문헌 1에는 2대의 노광 묘화 장치를 이용하여 피노광 기판의 제 1 면 및 제 2 면에 각각 화상을 묘화할 때의 피노광 기판의 반송 처리의 스루풋을 향상시킨 노광 묘화 시스템이 개시되어 있다.As a technique relating to this exposure drawing system, Patent Document 1 improves the throughput of conveyance processing of the substrate to be exposed when drawing images on the first and second surfaces of the substrate to be exposed, respectively, using two exposure drawing devices. Disclosed is an exposure imaging system.
이 노광 묘화 시스템이 갖는 각 노광 묘화 장치는 피노광 기판이 적재되는 스테이지와, 스테이지를 직선 형상으로 이동시키는 스테이지 이동 수단과, 스테이지에 적재된 피노광 기판의 제 1 면에 광빔을 주사하는 빔 주사 수단을 갖는 묘화 유닛을 구비한다. 또한, 각 노광 묘화 장치는 스테이지의 이동 방향으로 묘화 유닛의 상류측에 배치된 상류측 유닛과, 스테이지의 이동 방향으로 묘화 유닛의 하류측에 배치된 하류측 유닛을 구비한다. 또한, 각 노광 묘화 장치는 상류측 유닛의 피노광 기판을 유지해서 스테이지의 이동 방향과 동일한 방향인 반송 방향으로 이동시키도록 하고, 묘화 유닛 내의 스테이지 상에 피노광 기판을 반입하는 반입 수단을 구비한다. 또한, 각 노광 묘화 장치는 묘화 유닛 내의 스테이지 상의 피노광 기판을 유지해서 반송 방향으로 이동시키도록 하고, 하류측 유닛에 피노광 기판을 반출하는 반출 수단을 구비한다.Each exposure drawing apparatus of this exposure drawing system includes a stage on which the substrate to be exposed is loaded, stage moving means for moving the stage in a linear shape, and beam scanning for scanning a light beam on a first surface of the substrate to be loaded on the stage. And a drawing unit having a means. Further, each exposure drawing apparatus includes an upstream side unit disposed on the upstream side of the drawing unit in the moving direction of the stage, and a downstream side unit disposed on the downstream side of the drawing unit in the moving direction of the stage. In addition, each exposure drawing apparatus is provided with carrying means for holding the exposed substrate of the upstream unit and moving it in the conveying direction which is the same direction as the moving direction of the stage, and carrying the exposed substrate onto the stage in the drawing unit. . Moreover, each exposure drawing apparatus is equipped with the carrying-out means which hold|maintains the to-be-exposed board|substrate on the stage in a drawing unit, moves it in a conveyance direction, and carries out a to-be-exposed board|substrate to a downstream unit.
각 노광 묘화 장치에서는 피노광 기판의 제 1 면에 광빔을 주사할 때에 스테이지를 반송 방향의 상류측에서 하류측으로 이동시키고, 상류측에 위치하는 스테이지에 피노광 기판을 반입하고, 하류측에 위치하는 스테이지로부터 피노광 기판을 반출한다.In each exposure drawing apparatus, when scanning the light beam on the first surface of the substrate to be exposed, the stage is moved from the upstream side to the downstream side in the conveying direction, and the substrate to be exposed is brought into the stage positioned on the upstream side, and positioned on the downstream side. The substrate to be exposed is taken out from the stage.
일반적으로, 노광 묘화 장치를 이용하여 피노광 기판에 화상을 묘화할 때에는 작업자가 노광 묘화 장치에 대하여 피노광 기판에 묘화하는 화상, 및 묘화할 때의 노광 조건이 지정된 처리 요구(잡)를 나타내는 잡 정보를 입력한다. 복수의 피노광 기판에 동일한 화상을 동일한 노광 조건으로 연속해서 묘화할 경우에는 잡 정보에 있어서 일련의 처리가 일괄로 되어서 나타내어진다. 그리고, 노광 묘화 장치는 입력된 잡 정보에 의거하여 피노광 기판에 대한 노광 묘화 처리를 행한다.In general, when an image is drawn on a substrate to be exposed using an exposure drawing apparatus, an image of an operator drawing on the substrate to be exposed to the exposure drawing apparatus, and a job indicating a processing request (job) in which exposure conditions at the time of drawing are specified Enter your information. When the same image is continuously drawn on the plurality of substrates to be exposed under the same exposure conditions, a series of processes in the job information is collectively shown. Then, the exposure drawing apparatus performs exposure drawing processing for the substrate to be exposed based on the inputted job information.
상기 특허문헌 1에 개시된 노광 묘화 시스템에서는 2대의 노광 묘화 장치의 각각을 이용하여 피노광 기판의 편면씩 화상을 묘화하기 때문에, 작업자는 한쪽 노광 묘화 장치에 제 1 면의 잡 정보를 입력하고, 다른쪽 노광 묘화 장치에 제 2 면의 잡 정보를 입력한다. 이와 같이, 작업자가 각 노광 묘화 장치에 대하여 별개로 잡 정보를 입력하기 때문에, 작업자가 입력을 잘못했을 경우에는 피노광 기판의 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상이 묘화되어 버릴 가능성이 있다고 하는 문제가 있었다.In the exposure drawing system disclosed in Patent Document 1, since an image is drawn on one side of the substrate to be exposed using each of the two exposure drawing devices, the operator inputs job information on the first side into one exposure drawing device, and the other. Job information on the second surface is input to the exposure drawing apparatus. As described above, since the operator inputs job information separately for each exposure drawing apparatus, there is a possibility that images that do not correspond to each other on each surface of the substrate to be exposed may be drawn if the operator inputs the wrong information. there was.
또한, 한쪽 노광 묘화 장치에 있어서 노광 묘화 처리에 실패하여 불량품이 된 피노광 기판이 제거되는 경우가 있다. 이 경우, 잡 정보의 입력이 정확하게 행해지고 있었을 경우라도 다른쪽 노광 묘화 장치에 입력된 잡 정보가 갱신되지 않았을 경우에는 피노광 기판의 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버릴 가능성이 있다고 하는 문제도 있었다.In addition, in one exposure drawing apparatus, the exposed substrate that has failed the exposure drawing process and becomes a defective product may be removed. In this case, even if the job information is input correctly, if the job information input to the other exposure drawing apparatus is not updated, there is a possibility that an image that does not correspond to each other on each surface of the substrate to be exposed may be drawn. There was also.
본 발명은 상기 문제를 고려하여 이루어진 것으로서, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있는 노광 묘화 장치, 노광 묘화 시스템, 프로그램 및 노광 묘화 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in consideration of the above problems, and when an image is drawn on both surfaces of an exposed substrate, an exposure drawing apparatus, an exposure drawing system, a program and an exposure, which can prevent an image that does not correspond to each other on each side are drawn. It is an object to provide a drawing method.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 노광 묘화 장치는 피노광 기판의 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 묘화 수단과, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 기억 수단과, 상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 대응 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비하고 있다.In order to achieve the above object, the exposure drawing apparatus according to the present invention includes first drawing means for drawing an image on the first surface by exposing a first surface of the substrate to be exposed, and on the first surface of the substrate to be exposed First job information to which image information indicating an image to be drawn and exposure condition information indicating an exposure condition are matched, and image information and exposure conditions indicating an image to be drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed Storage means for storing second job information to which exposure condition information indicating, and corresponding information indicating the relationship between the first job information and the second job information, and the first job information as the first drawing means In the case of drawing an image on the second surface of the substrate to be exposed, on which the image represented by the first job information is drawn on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by, the corresponding information An image represented by the second job information by exposing the second side under the exposure conditions indicated by the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side based on And second rendering means for drawing on the second surface.
본 발명에 의한 노광 묘화 장치에 의하면, 제 1 묘화 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 화상이 묘화된다.According to the exposure drawing apparatus according to the present invention, an image is drawn on the first surface by exposing the first surface of the substrate to be exposed by the first drawing means.
여기에서, 본 발명에서는 기억 수단에 의해 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보가 기억된다. 그리고, 본 발명에서는 제 2 묘화 수단에 의해 상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 대응 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.Here, in the present invention, the first job information corresponding to the image information representing the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed by the storage means and the exposure condition information representing the exposure condition, and the agent of the substrate to be exposed An image information representing an image drawn on a second surface opposite to the one surface and the second job information corresponding to the exposure condition information indicating the exposure condition, and a correspondence relationship between the first job information and the second job information Correspondence information is stored. And, in the present invention, the first drawing means is exposed by the first job information on the first surface by exposing the first surface at an upward angle under the exposure conditions indicated by the first job information by the second drawing means. When an image is drawn on the second surface of the substrate to be imaged on which the image is drawn, the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side based on image correspondence information By exposing the second surface under the indicated exposure conditions, an image represented by the second job information is drawn on the second surface.
이와 같이, 본 발명의 노광 묘화 장치에 의하면 제 1 면에 화상을 묘화하기 위한 제 1 잡 정보와 제 2 면에 화상을 묘화하기 위한 제 2 잡 정보를 대응시키는 대응 정보를 이용하여, 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 제 2 잡 정보를 이용하여 제 2 면에 화상을 묘화하므로, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.In this way, according to the exposure drawing apparatus of the present invention, the first side is obtained by using the corresponding information that correlates the first job information for drawing the image on the first side and the second job information for drawing the image on the second side. When an image is drawn on the second side using the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image, when drawing images on both sides of the substrate to be exposed, images that do not correspond to each other on each side are drawn. It can prevent drawing.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 장치는 상기 기억 수단이 상기 제 1 잡 정보를 기억한 제 1 기억 영역 및 상기 제 2 잡 정보를 기억한 제 2 기억 영역을 포함하고, 상기 대응 정보를 상기 제 1 기억 영역 및 상기 제 2 기억 영역 중 어느 한쪽에 기억하도록 해도 좋다. 이에 따라, 각 면에서 서로 대응하는 잡 정보를 간이하게 선택할 수 있다.Further, the exposure drawing apparatus according to the present invention includes a first storage area in which the storage means stores the first job information and a second storage area in which the second job information is stored, and the corresponding information is stored in the first. It may be stored in either the storage area or the second storage area. Accordingly, it is possible to simply select job information corresponding to each other on each side.
한편, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보를 기억하는 제 1 기억 수단, 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 송신하는 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 제 2 기억 수단, 상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 수신하는 수신 수단, 상기 대응 정보에 있어서 상기 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의거하여 상기 제 2 면에 묘화하는 화상 및 노광 조건을 결정하는 결정 수단, 및 상기 결정 수단에 의해 결정된 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 결정 수단에 의해 결정된 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖고 있다.On the other hand, in order to achieve the above object, the exposure drawing system according to the present invention is configured to store first job information corresponding to image information representing an image drawn on a first surface of an exposed substrate and exposure condition information representing an exposure condition. 1 storage means, first rendering means for drawing an image represented by the first job information on the first side by exposing the first side under the exposure conditions indicated by the first job information, and the first The first exposure drawing apparatus including transmission means for transmitting information indicating the first job information used when the image is drawn on the first surface by the drawing means, and the first surface of the substrate to be exposed are opposite. The second job information to which the image information representing the image to be drawn on the second second surface and the exposure condition information representing the exposure condition are correlated, and the corresponding information representing the correspondence relationship between the first job information and the second job information are stored. Second storage means, receiving means for receiving information indicating the first job information transmitted by the transmitting means, and information corresponding to the first job information received by the receiving means in the corresponding information By means for determining an image to be drawn on the second surface and exposure conditions based on the second job information corresponding to the first job information, and by exposing the second surface with exposure conditions determined by the determination means It has a 2nd exposure drawing apparatus provided with the 2nd drawing means which draws the image determined by the said determination means on the said 2nd surface.
본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에 의하면, 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 기억 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보가 기억된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 1 면에 묘화된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 송신 수단에 의해 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보가 송신된다.According to the exposure drawing system according to the present invention, the image information indicating the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed by the first storage means of the first exposure drawing device corresponds to the exposure condition information indicating the exposure condition. Job information is memorized. Further, by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information by the first drawing means of the first exposure drawing apparatus, the image represented by the first job information is drawn on the first surface. do. Further, information indicating the first job information used when an image is drawn on the first surface by the first drawing means is transmitted by the transmitting means of the first exposure drawing device.
한편, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 기억 수단에 의해 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보가 기억된다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치의 수신 수단에 의해 상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보가 수신된다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치의 결정 수단에 의해 상기 대응 정보에 있어서 상기 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의거하여 상기 제 2 면에 묘화되는 화상 및 노광 조건이 결정된다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 묘화 수단에 의해 상기 결정 수단에 의해 결정된 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 결정 수단에 의해 결정된 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.On the other hand, in the exposure drawing system according to the present invention, image information and exposure conditions representing an image drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed by the second storage means of the second exposure drawing device are used. The second job information to which the exposure condition information to be displayed is correlated, and the corresponding information indicating the correspondence relationship between the first job information and the second job information are stored. Further, information indicating the first job information transmitted by the transmitting means is received by the receiving means of the second exposure drawing apparatus. Further, the second job information corresponding to the first job information indicated by the information indicating the first job information received by the receiving means in the corresponding information by the determination means of the second exposure drawing apparatus Based on this, an image to be drawn on the second surface and exposure conditions are determined. Further, the image determined by the determining means is drawn on the second surface by exposing the second surface under the exposure conditions determined by the determining means by the second drawing means of the second exposure drawing apparatus.
이와 같이, 본 발명의 노광 묘화 시스템에 의하면 제 2 노광 묘화 장치가 제 1 면에 화상을 묘화하기 위한 제 1 잡 정보와 제 2 면에 화상을 묘화하기 위한 제 2 잡 정보를 대응시키는 대응 정보를 기억해 두고, 상기 대응 정보를 이용하여 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 제 2 잡 정보를 특정해서 사용하여 제 2 면에 화상을 묘화하므로, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.In this way, according to the exposure drawing system of the present invention, the second exposure drawing apparatus provides corresponding information that corresponds to the first job information for drawing an image on the first surface and the second job information for drawing the image on the second surface. Remember, the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side using the corresponding information is specified and used to draw the image on the second side, so that both sides of the substrate to be exposed are drawn. When drawing an image, it is possible to prevent drawing images that do not correspond to each other on each side.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 대응 정보가 상기 제 1 잡 정보를 식별하기 위한 식별 정보와 상기 제 1 잡 정보에 대응하는 상기 제 2 잡 정보를 식별하기 위한 식별 정보를 대응시킨 정보이며, 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보가 상기 제 1 잡 정보의 상기 식별 정보이도록 해도 좋다. 이에 따라, 제 1 노광 묘화 장치로부터 제 2 노광 묘화 장치에 송신하는 정보의 정보량을, 제 1 잡 정보 그 자체를 송신할 경우에 비교해서 저감시킬 수 있다.In addition, the exposure drawing system according to the present invention is information in which the corresponding information corresponds to identification information for identifying the first job information and identification information for identifying the second job information corresponding to the first job information. , The information indicating the first job information may be the identification information of the first job information. Thereby, the information amount of the information transmitted from the 1st exposure drawing apparatus to the 2nd exposure drawing apparatus can be reduced compared with the case where the 1st job information itself is transmitted.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단이 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 정상으로 종료되었을 경우에만 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 송신하도록 해도 좋다. 이에 따라, 본 발명을 적용하지 않았을 경우에 비교해서 보다 확실하게 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.Further, in the exposure drawing system according to the present invention, the transmission means of the first exposure drawing apparatus may transmit information indicating the first job information only when the drawing by the first drawing means is normally ended. In this way, it is possible to prevent the imaging of images that do not correspond to each other on each surface when drawing images on both surfaces of the substrate to be exposed more reliably as compared with the case where the present invention is not applied.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단이 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 이상으로 종료되었을 경우, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 송신하도록 해도 좋다. 이에 따라, 본 발명을 적용하지 않았을 경우에 비교해서 보다 확실하게 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.Further, in the exposure drawing system according to the present invention, the transmission means of the first exposure drawing apparatus may transmit error information indicating that an error has occurred when the drawing by the first drawing means is abnormally ended. In this way, it is possible to prevent the imaging of images that do not correspond to each other on each surface when drawing images on both surfaces of the substrate to be exposed more reliably as compared with the case where the present invention is not applied.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제 1 잡 정보, 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 기억하는 제 3 기억 수단, 및 상기 제 3 기억 수단에 의해 기억되어 있는 상기 제 1 잡 정보를 상기 제 1 노광 묘화 장치에 송신하고, 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 상기 제 2 노광 묘화 장치에 송신하는 제 2 송신 수단을 구비한 제어 장치를 더 구비하고, 상기 제 1 노광 묘화 장치가 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 수신하는 제 2 수신 수단을 더 구비하고, 상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 제 1 묘화 수단이 상기 제 2 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 이용하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화하고, 상기 제 2 노광 묘화 장치가 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 수신하는 제 3 수신 수단을 더 구비하고, 상기 제 2 노광 묘화 장치의 상기 제 2 결정 수단이 상기 제 3 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 이용하여 상기 제 2 면에 묘화하는 화상 및 노광 조건을 결정하도록 해도 좋다. 이에 따라, 제어 장치에 의해 시스템 전체를 통괄적으로 관리할 수 있다.Further, the exposure drawing system according to the present invention includes the first job information, the third job means for storing the second job information and the corresponding information, and the first job information stored by the third memory means. And a control device having second transmission means for transmitting to the first exposure drawing apparatus, and transmitting the second job information and the corresponding information to the second exposure drawing apparatus, wherein the first exposure drawing apparatus is And second receiving means for receiving the first job information transmitted by the second transmitting means, wherein the first drawing means of the first exposure drawing apparatus is received by the second receiving means. And third receiving means for drawing an image on the first surface using one job information, and for the second exposure drawing apparatus to receive the second job information and the corresponding information transmitted by the second transmitting means. And the second determining means of the second exposure drawing apparatus determines the image and exposure conditions to be drawn on the second surface using the second job information and the corresponding information received by the third receiving means. You may do it. Accordingly, the entire system can be managed comprehensively by the control device.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 제어 장치가 상기 제 1 잡 정보, 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고, 상기 제어 장치의 상기 제 3 기억 수단이 상기 접수 수단에 의해 접수된 상기 제 1 잡 정보, 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 기억하도록 해도 좋다. 이에 따라, 유저가 입력한 잡 정보를 이용하여 피노광 기판의 각 면에 서로 대응하는 화상을 묘화시킬 수 있다.Further, the exposure drawing system according to the present invention further includes receiving means for the control device to receive input of the first job information, the second job information, and the corresponding information, and the third storage means of the control device. The first job information, the second job information, and the corresponding information received by the reception means may be stored. Accordingly, images corresponding to each other on each surface of the substrate to be exposed can be drawn using the job information input by the user.
한편, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보를 기억함과 아울러, 상기 제 1 잡 정보, 및 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 제 1 기억 수단, 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및 상기 대응 정보에 있어서 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보를 송신하는 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와, 상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보를 수신하는 수신 수단, 및 상기 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖고 있다.On the other hand, in order to achieve the above object, the exposure drawing system according to the present invention stores first job information corresponding to image information representing an image drawn on a first surface of an exposed substrate and exposure condition information representing an exposure condition. , The relationship between the first job information and the second job information corresponding to the image information indicating the image drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and the exposure condition information indicating the exposure condition A first storage means for storing corresponding information indicating, an agent for drawing an image represented by the first job information on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information 1 drawing means, and transmitting means for transmitting the second job information corresponding to the first job information used when an image is drawn on the first surface by the first drawing means in the corresponding information. 1 Exposing the second surface under the exposure conditions indicated by the exposure drawing apparatus, the receiving means for receiving the second job information transmitted by the transmitting means, and the second job information received by the receiving means Thereby, it has the 2nd exposure drawing apparatus provided with the 2nd drawing means which draws the image represented by the said 2nd job information on the said 2nd surface.
본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에 의하면, 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 기억 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보를 기억함과 아울러, 상기 제 1 잡 정보, 및 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보가 기억된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 1 면에 묘화된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 송신 수단에 의해 상기 대응 정보에 있어서 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보가 송신된다.According to the exposure drawing system according to the present invention, the image information indicating the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed by the first storage means of the first exposure drawing device corresponds to the exposure condition information indicating the exposure condition. In addition to storing the job information, the first job information and the image information representing the image drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and the exposure condition information representing the exposure condition are associated. Correspondence information indicating the correspondence between two job information is stored. Further, by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information by the first drawing means of the first exposure drawing apparatus, the image represented by the first job information is drawn on the first surface. do. In addition, the second job information corresponding to the first job information used when an image was drawn on the first surface by the first drawing means in the corresponding information by the transmission means of the first exposure drawing apparatus is shown. Information is transmitted.
한편, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제 2 노광 묘화 장치의 수신 수단에 의해 상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보가 수신된다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 묘화 수단에 의해 상기 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.On the other hand, in the exposure drawing system according to the present invention, the second job information transmitted by the transmitting means is received by the receiving means of the second exposure drawing apparatus. Further, the image represented by the second job information by exposing the second surface under the exposure conditions indicated by the second job information received by the receiving means by the second drawing means of the second exposure drawing apparatus. The second surface is drawn.
이와 같이, 본 발명의 노광 묘화 시스템에 의하면 제 1 노광 묘화 장치가 제 1 면에 화상을 묘화하기 위한 제 1 잡 정보와 제 2 면에 화상을 묘화하기 위한 제 2 잡 정보를 대응시키는 대응 정보를 기억하고, 상기 대응 정보를 이용하여 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 제 2 잡 정보를 제 2 노광 묘화 장치에 송신하므로, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the exposure drawing system of the present invention, the first exposure drawing apparatus provides corresponding information that corresponds to the first job information for drawing an image on the first surface and the second job information for drawing the image on the second surface. Remember, the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side using the corresponding information is transmitted to the second exposure drawing apparatus, so that images can be drawn on both sides of the substrate to be exposed. At this time, it is possible to prevent an image that does not correspond to each other on each side from being drawn.
또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보를 기억하는 제 4 기억 수단, 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화에 사용한 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 송신하는 제 3 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와, 상기 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 제 5 기억 수단, 상기 제 3 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 수신하는 제 4 수신 수단, 상기 대응 정보에 있어서 상기 제 4 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보를 송신하는 제 4 송신 수단을 구비한 제어 장치와, 상기 제 4 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보를 수신하는 제 5 수신 수단, 및 상기 제 5 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖고 있다.In addition, in order to achieve the above object, the exposure drawing system according to the present invention is configured to store first job information corresponding to image information representing an image drawn on a first surface of a substrate to be exposed and exposure condition information representing an exposure condition. 4 storage means, first rendering means for drawing the image represented by the first job information on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information, and the first The first exposure drawing apparatus is provided with a third transmission means for transmitting information indicating the first job information used for drawing by the drawing means, and the first job information is opposite to the first surface of the substrate to be exposed. The second job information to which the image information representing the image to be drawn on the second second surface and the exposure condition information representing the exposure condition are correlated, and the corresponding information representing the correspondence relationship between the first job information and the second job information are stored. A fifth storage means, fourth receiving means for receiving information indicating the first job information transmitted by the third transmitting means, and the first job information received by the fourth receiving means in the corresponding information. Information indicating the second job information transmitted by the fourth transmission means, and a control device provided with fourth transmission means for transmitting the second job information corresponding to the first job information indicated by the information indicated. An image represented by the second job information by exposing the second surface under exposure conditions represented by fifth receiving means for receiving the information, and information representing the second job information received by the fifth receiving means It has the 2nd exposure drawing apparatus provided with the 2nd drawing means which draws on the said 2nd surface.
본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에 의하면, 제 1 노광 묘화 장치의 제 4 기억 수단에 의해 피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보가 기억된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 1 면에 묘화된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치의 제 3 송신 수단에 의해 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화에 사용한 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보가 송신된다.According to the exposure drawing system according to the present invention, the image information indicating the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed by the fourth storage means of the first exposure drawing device corresponds to the exposure condition information indicating the exposure condition. Job information is memorized. Further, by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information by the first drawing means of the first exposure drawing apparatus, the image represented by the first job information is drawn on the first surface. do. In addition, information indicating the first job information used for drawing by the first drawing means is transmitted by the third transmitting means of the first exposure drawing device.
한편, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제어 장치의 제 5 기억 수단에 의해 상기 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보가 기억된다. 또한, 제어 장치의 제 4 수신 수단에 의해 상기 제 3 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보가 수신된다. 또한, 제어 장치의 제 4 송신 수단에 의해 상기 대응 정보에 있어서 상기 제 4 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보가 송신된다.On the other hand, in the exposure drawing system according to the present invention, the first job information by the fifth storage means of the control device, and the image information indicating the image drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed, The second job information to which exposure condition information indicating the exposure condition is associated, and the corresponding information to indicate the correspondence relationship between the first job information and the second job information are stored. Further, information indicating the first job information transmitted by the third transmitting means is received by the fourth receiving means of the control device. Further, the second job information corresponding to the first job information indicated by the information indicating the first job information received by the fourth receiving means in the corresponding information by the fourth transmitting means of the control device. Is transmitted.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템에서는 제 2 노광 묘화 장치의 제 5 수신 수단에 의해 상기 제 4 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보가 수신되고, 제 2 노광 묘화 장치의 제 2 묘화 수단에 의해 상기 제 5 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상이 상기 제 2 면에 묘화된다.Further, in the exposure drawing system according to the present invention, information indicating the second job information transmitted by the fourth transmitting means is received by the fifth receiving means of the second exposure drawing apparatus, and the second exposure drawing apparatus is configured to The image represented by the second job information is exposed to the second by exposing the second surface under exposure conditions indicated by information representing the second job information received by the fifth receiving means by the two drawing means. It is drawn on the cotton.
이와 같이, 본 발명의 노광 묘화 시스템에 의하면 제어 장치가 제 1 면에 화상을 묘화하기 위한 제 1 잡 정보와 제 2 면에 화상을 묘화하기 위한 제 2 잡 정보를 대응시키는 대응 정보를 기억하고, 상기 대응 정보를 이용하여 제 1 노광 묘화 장치로부터 수신된 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 제 2 잡 정보를 제 2 노광 묘화 장치에 송신하므로, 노광 묘화 장치에 새로운 기능을 추가하지 않고 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.In this way, according to the exposure drawing system of the present invention, the control device stores corresponding information that associates the first job information for drawing an image on the first surface with the second job information for drawing an image on the second surface, Since the second job information corresponding to the first job information used when drawing an image on the first surface received from the first exposure drawing apparatus using the above-described corresponding information is transmitted to the second exposure drawing apparatus, the exposure drawing apparatus is new. When images are drawn on both surfaces of the substrate to be exposed without adding a function, it is possible to prevent images that do not correspond to each other from being drawn on each side.
또한, 본 발명에 의한 노광 묘화 시스템은 상기 노광 조건이 상기 피노광 기판의 사이즈, 상기 피노광 기판의 노광 대상으로 하는 매수, 상기 피노광 기판에 화상의 묘화 영역을 결정하기 위해서 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴, 및 상기 피노광 기판의 감광 재료 종류 중 적어도 1개를 포함하도록 해도 좋다. 이에 따라, 피노광 기판의 각 면에 적합한 노광 조건으로 화상을 묘화할 수 있다.Further, in the exposure drawing system according to the present invention, marks are formed in order to determine the exposure conditions, the size of the substrate to be exposed, the number of exposure targets of the substrate to be exposed, and the imaging area of the image on the substrate to be exposed. In this case, at least one of the arrangement pattern of the mark and the type of photosensitive material of the substrate to be exposed may be included. Thereby, an image can be drawn under exposure conditions suitable for each surface of the substrate to be exposed.
한편, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 프로그램은, 컴퓨터를 피노광 기판의 상기 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화하는 제 1 묘화 수단과, 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 제 1 잡 정보와 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보에 있어서, 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단으로서 기능시킨다.On the other hand, in order to achieve the above object, the program according to the present invention is based on first job information corresponding to image information representing an image drawing a computer on the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information representing an exposure condition. First rendering means for drawing an image represented by the first job information on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated; and the first by means of exposure conditions indicated by the first job information. When an image is drawn on the second surface of an exposed substrate on which the image represented by the first job information is drawn on the first surface by exposing one surface, the first job information and the In the corresponding information indicating the correspondence relationship between the image information indicating the image drawn on the second surface opposite to the first surface and the second job information indicating the exposure condition information indicating the exposure condition, the image is displayed on the first surface. A second drawing an image represented by the second job information on the second surface by exposing the second surface under exposure conditions indicated by the second job information corresponding to the first job information used when drawing. It functions as a drawing means.
따라서, 본 발명에 의한 프로그램에 의하면 컴퓨터를 본 발명에 의한 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템과 마찬가지로 작용시킬 수 있으므로, 상기 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템과 마찬가지로 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.Therefore, according to the program according to the present invention, the computer can be operated similarly to the exposure drawing device and the exposure drawing system according to the present invention. It is possible to prevent drawing images that do not correspond to each other on each side.
또한, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 노광 묘화 방법은 피노광 기판의 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억 수단에 기억하는 기억 스텝과, 상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화한 피노광 기판의 상기 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 대응 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 스텝을 갖고 있다.Further, in order to achieve the above object, the exposure drawing method according to the present invention represents an image drawn on the first surface by first drawing means for drawing an image on the first surface by exposing the first surface of the substrate to be exposed First job information to which image information and exposure condition information indicating exposure conditions correspond, image information indicating an image drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed, and exposure condition information indicating exposure conditions The second job information corresponding to, and the storage step for storing in the storage means the corresponding information indicating the corresponding relationship between the first job information and the second job information, and the first job information by the first drawing means When an image is drawn on the second surface of the substrate to be exposed on which the image represented by the first job information is drawn on the first surface by exposing the first surface under the indicated exposure conditions, based on the corresponding information The image represented by the second job information is exposed by exposing the second side under the exposure conditions indicated by the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side. It has a 2nd drawing step of drawing on the 2nd surface.
따라서, 본 발명에 의한 노광 묘화 방법에 의하면 본 발명에 의한 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템과 마찬가지로 작용하므로, 상기 노광 묘화 장치 및 노광 묘화 시스템과 마찬가지로 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다.Therefore, the exposure drawing method according to the present invention acts in the same way as the exposure drawing device and the exposure drawing system according to the present invention. In this way, it is possible to prevent images that do not correspond to each other from being drawn.
(발명의 효과)(Effects of the Invention)
본 발명에 의하면, 피노광 기판의 양면에 화상을 묘화할 때에 각 면에서 서로 대응하지 않는 화상을 묘화해 버리는 것을 방지할 수 있다고 하는 효과를 갖는다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when drawing an image on both surfaces of a to-be-exposed board|substrate, it has the effect that it can prevent drawing images which do not correspond to each other on each surface.
도 1은 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템의 전체의 구성을 나타내는 개략 평면도이다.
도 2는 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 노광 묘화 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3a는 실시형태에 의한 노광 헤드에 의한 노광 영역 및 노광 헤드의 배열 패턴을 나타내는 개략 평면도이다.
도 3b는 실시형태에 의한 노광 헤드에 의해 피노광 기판 상에 묘화되는 화상의 화상 영역을 나타내는 개략 평면도이다.
도 4는 실시형태에 의한 반전 장치의 구성을 나타내는 일부 파단 사시도이다.
도 5는 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치 및 제 2 노광 묘화 장치의 전기계의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6은 실시형태에 의한 제어 장치의 전기계의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 7a는 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에 의한 잡 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 7b는 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에 의한 잡 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 8은 제 1 실시형태에 의한 잡 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 9는 제 1 실시형태에 의한 잡 입력 화면의 구성예를 나타내는 구성도이다.
도 10은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 의한 노광 묘화 처리의 설명에 제공하는 모식도이다.
도 11은 제 1 실시형태에 의한 제 1 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 12는 제 1 실시형태에 의한 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 13은 제 2 실시형태에 의한 잡 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 14는 제 2 실시형태에 의한 제 1 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 15는 제 2 실시형태에 의한 잡 선택 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 16은 제 2 실시형태에 의한 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 17a는 제 3 실시형태에 의한 잡 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 17b는 제 3 실시형태에 의한 잡 정보의 일례를 나타내는 모식도이다.
도 18은 제 3 실시형태에 의한 잡 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 19는 제 3 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템에 의한 노광 묘화 처리의 설명에 제공하는 모식도이다.
도 20은 제 3 실시형태에 의한 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다.
도 21은 제 3 실시형태에 의한 잡 선택 화면의 구성예를 나타내는 구성도이다.1 is a schematic plan view showing the overall configuration of an exposure drawing system according to an embodiment.
It is a perspective view which shows the structure of a 1st exposure drawing apparatus and a 2nd exposure drawing apparatus by embodiment.
3A is a schematic plan view showing an exposure area by an exposure head according to an embodiment and an arrangement pattern of the exposure head.
3B is a schematic plan view showing an image area of an image drawn on the substrate to be exposed by the exposure head according to the embodiment.
4 is a partially broken perspective view showing the configuration of an inverting device according to the embodiment.
It is a block diagram which shows the structure of the electric system of the 1st exposure drawing apparatus and 2nd exposure drawing apparatus by embodiment.
6 is a block diagram showing the configuration of the electric system of the control device according to the embodiment.
7A is a schematic diagram showing an example of job information according to the first and second embodiments.
7B is a schematic diagram showing an example of job information according to the first and second embodiments.
8 is a flowchart showing the flow of processing of the job setting processing program according to the first embodiment.
9 is a configuration diagram showing a configuration example of a job input screen according to the first embodiment.
It is a schematic diagram provided for description of the exposure drawing process by the exposure drawing system which concerns on 1st Embodiment.
11 is a flowchart showing the flow of processing of the first job execution processing program according to the first embodiment.
12 is a flowchart showing the flow of processing of the second job execution processing program according to the first embodiment.
13 is a flowchart showing the flow of processing in the job setting processing program according to the second embodiment.
14 is a flowchart showing the flow of processing of the first job execution processing program according to the second embodiment.
15 is a flowchart showing the flow of processing in the job selection processing program according to the second embodiment.
16 is a flowchart showing the flow of processing of the second job execution processing program according to the second embodiment.
17A is a schematic diagram showing an example of job information according to the third embodiment.
17B is a schematic diagram showing an example of job information according to the third embodiment.
18 is a flowchart showing the flow of processing in the job setting processing program according to the third embodiment.
It is a schematic diagram provided for description of the exposure drawing process by the exposure drawing system which concerns on 3rd Embodiment.
20 is a flowchart showing the flow of processing of the second job execution processing program according to the third embodiment.
21 is a configuration diagram showing a configuration example of a job selection screen according to the third embodiment.
[제 1 실시형태][First Embodiment]
이하, 실시형태에 의한 노광 묘화 장치에 대해서 첨부된 도면을 이용하여 상세하게 설명한다. 또한, 각 실시형태에서는 본 발명을 피노광 기판[후술하는 피노광 기판(C)]에 광빔을 노광해서 회로 패턴을 나타내는 화상을 묘화하는 노광 묘화 시스템에 적용했을 경우를 예로 들어서 설명한다. 또한, 피노광 기판(C)은 프린트 배선 기판, 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 등의 평판 기판이다.Hereinafter, the exposure drawing apparatus according to the embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In addition, in each embodiment, the case where the present invention is applied to an exposure drawing system in which an image showing a circuit pattern is drawn by exposing a light beam to a substrate to be exposed (the substrate to be exposed (C) to be described later) is described as an example. Further, the substrate to be exposed C is a flat substrate such as a printed wiring board or a glass substrate for a flat panel display.
도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)은 피노광 기판(C)의 제 1 면에 대한 노광을 행하는 제 1 노광 묘화 장치(2), 및 피노광 기판(C)의 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 대한 노광을 행하는 제 2 노광 묘화 장치(3)를 구비하고 있다. 또한, 노광 묘화 시스템(1)은 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3) 사이에 설치되고, 피노광 기판(C)의 표리를 반전하는 반전 장치(4), 및 피노광 기판(C)의 제 1 면 및 제 2 면에 대한 노광을 제어하는 제어 장치(5)를 구비하고 있다.As shown in FIG. 1, the exposure drawing system 1 by this embodiment is the 1st
또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)와 제어 장치(5) 사이, 제 2 노광 묘화 장치(3)와 제어 장치(5) 사이는 각각 유선 케이블(8a)로 접속되어 있고, 제어 장치(5)는 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3) 사이에서 유선 케이블(8a)을 통해서 통신한다. 마찬가지로, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 유선 케이블(8b)로 접속되어 있고, 이들 각 노광 묘화 장치는 유선 케이블(8b)을 통해서 통신한다.In addition, between the first
이어서, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)의 구성에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 동일한 구성을 갖기 때문에, 여기에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 대하여 설명하고, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 대한 설명을 생략한다.Next, the structures of the first
도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2)는 피노광 기판(C)을 고정하기 위한 평판 형상의 스테이지(10)를 구비하고 있다. 또한, 스테이지(10)의 상면에는 공기를 흡입하는 복수의 흡입 구멍(도시 생략)이 형성되어 있다. 스테이지(10)의 상면에 피노광 기판(C)이 적재되었을 때에, 피노광 기판(C) 및 스테이지(10) 사이의 공기가 흡입 구멍을 통해서 흡입됨으로써 피노광 기판(C)이 스테이지(10)에 진공 흡착된다.2, the 1st
또한, 스테이지(10)는 탁상의 기체(11)의 상면으로 이동 가능하게 설치된 평판 형상의 기대(12)에 지지되어 있다. 즉, 기체(11)의 상면에는 1개 또는 복수개(본 실시형태에서는 2개)의 가이드 레일(14)이 설치되어 있다. 기대(12)는 가이드 레일(14)을 따라 자유롭게 이동할 수 있게 지지되어 있고, 모터 등에 의해 구성된 구동 기구[후술하는 스테이지 구동부(42)]에 의해 구동되어서 이동한다. 스테이지(10)는 기대(12)의 이동에 연동해서 가이드 레일(14)을 따라 이동한다.Further, the
또한, 이하에서는 스테이지(10)가 이동하는 방향을 Y방향이라고 정하고, 이 Y방향에 대하여 수평면 내에서 직교하는 방향을 X방향이라고 정하고, Y방향으로 연직면 내에서 직교하는 방향을 Z방향이라고 정한다.In the following description, the direction in which the
기체(11)의 상면에는 2개의 가이드 레일(14)을 걸치도록 세워서 설치된 문형의 게이트(15)가 설치되어 있다. 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)은 게이트(15)의 개구부를 가이드 레일(14)을 따라 출입하도록 해서 이동한다. 게이트(15)의 개구부의 상부에는 상기 개구부를 향해서 광빔을 노광하는 노광부(16)가 부착되어 있다. 이 노광부(16)에 의해, 스테이지(10)가 가이드 레일(14)을 따라 이동해서 상기 개구부에 위치하고 있을 경우에, 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)의 상면에 광빔이 노광된다.On the upper surface of the aircraft 11, a gate-shaped
본 실시형태에 의한 노광부(16)는 복수개(본 실시형태에서는 16개)의 노광 헤드(16a)를 포함해서 구성되어 있다. 노광 헤드(16a)의 각각은 노광부(16)에 있어서 매트릭스 형상으로 배열되어 있다. 또한, 노광부(16)에는 후술하는 광원 유닛(17)으로부터 인출된 광파이버(18)와, 후술하는 화상 처리 유닛(19)으로부터 인출된 신호 케이블(20)이 각각 접속되어 있다.The
노광 헤드(16a)의 각각은 반사형의 공간 광변조 소자로서의 디지털 마이크로미러 디바이스(DMD)를 갖고 있다. 노광 헤드(16a)는 화상 처리 유닛(19)으로부터 입력되는 화상 정보에 의거하여 DMD를 제어함으로써 광원 유닛(17)으로부터의 광빔을 변조한다. 제 1 노광 묘화 장치(2)는 이 변조한 광빔을 피노광 기판(C)에 조사함으로써 피노광 기판(C)에 대한 노광을 행한다. 또한, 공간 광변조 소자는 반사형에 한정되지 않고, 액정 등의 투과형의 공간 광변조 소자라도 좋다.Each of the exposure heads 16a has a digital micromirror device (DMD) as a reflective spatial light modulation element. The
도 3a에 나타내는 바와 같이, 노광 헤드(16a)로 노광되는 영역인 화상 영역(P1)은 한쪽 변이 스테이지(10)의 이동 방향(Y방향)에 대하여 미리 정해진 경사각으로 경사진 직사각형상이다. 또한, 도 3a에 있어서는 본 실시형태에 의한 복수의 노광 헤드(16a) 중 일부만을 나타내고 있다. 또한, 스테이지(10)가 게이트(15)의 개구부를 이동할 때에 노광 헤드(16a)에 의해 피노광 기판(C)에 광빔이 노광되면, 도 3b에 나타내는 바와 같이 스테이지(10)의 이동에 수반하여 피노광 기판(C)에 노광 헤드(16a)마다 띠 형상의 노광이 완료된 영역(P2)이 형성된다. 매트릭스 형상으로 배열된 노광 헤드(16a)의 각각은 X방향으로, 화상 영역(P1)의 장변의 길이를 자연수배(본 실시형태에서는 1배)한 거리씩 어긋나게 해서 배치되어 있다. 그리고, 노광이 완료된 영역(P2)의 각각은 인접하는 노광이 완료된 영역(P2)과 부분적으로 겹쳐져서 형성된다.As shown in Fig. 3A, the image area P1, which is the area exposed by the
도 2에 나타내는 바와 같이, 기체(11)의 상면에는 2개의 가이드 레일(14)을 걸치도록 세워서 설치된 문형의 게이트(22)가 더 설치되어 있다. 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)은 게이트(22)의 개구부를 가이드 레일(14)을 따라 출입하도록 해서 이동한다.As shown in Fig. 2, a gate-shaped
게이트(22)의 개구부의 상부에는 개구부를 촬영하기 위한 1개 또는 복수개(본 실시형태에서는 3개)의 촬영부(23)가 부착되어 있다. 촬영부(23)는 1회의 발광 시간이 매우 짧은 스트로브를 내장한 CCD 카메라 등이다. 또한, 게이트(22)의 개구부의 상부에는 수평면 내에 있어서 스테이지(10)의 이동 방향(Y방향)에 대하여 수직인 방향(X방향)을 따라 레일(23a)이 설치되고, 촬영부(23)의 각각은 레일(23a)로 안내되어서 이동 가능하게 설치되어 있다. 이 촬영부(23)에 의해, 스테이지(10)가 가이드 레일(14)을 따라 이동해서 상기 개구부에 위치하고 있을 경우에, 스테이지(10)에 적재된 피노광 기판(C)의 상면이 촬영된다.On the upper portion of the opening portion of the
도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 제 1 노광 묘화 장치(2)는 외부로부터 반입된 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)의 소정 위치까지 반송하는 제 1 반송부(6), 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 반전 장치(4)의 소정 위치까지 반송하는 제 2 반송부(7)를 구비하고 있다. 마찬가지로, 제 2 노광 묘화 장치(3)는 피노광 기판(C)을 반전 장치(4)로부터 제 2 노광 묘화 장치(3)의 소정 위치까지 반송하는 제 1 반송부(6), 피노광 기판(C)을 제 2 노광 묘화 장치(3)의 외부로 반송하는 제 2 반송부(7)를 구비하고 있다.1 and 2, the first
제 1 반송부(6) 및 제 2 반송부(7)는 복수의 회전 롤러와 상기 회전 롤러를 회전하는 구동 모터를 갖고 있다. 상기 복수의 회전 롤러는 각각이 평행하게 부설되고, 회전 롤러의 일단에는 벨트 또는 와이어에 의해 전달되는 회전력을 받는 스프로킷 또는 도르래가 부착되어 있다. 회전 롤러를 회전하는 구동 모터의 회전력을 전달하는 수단으로서는 벨트 또는 와이어 이외에 원통 형상의 마그넷에 의한 전달 방법도 채용할 수 있다.The
또한, 도 2에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 1 반송부(6)에 의하여 소정 위치까지 반송되어 온 피노광 기판(C)을 상기 소정 위치로부터 스테이지(10)까지 반송하는 오토 캐리어 핸드(이하, AC 핸드)(24)를 구비하고 있다. AC 핸드(24)는 평판 형상으로 형성됨과 아울러, X방향 및 Z방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. AC 핸드(24)의 하면에는 공기를 흡입하는 복수의 흡입 구멍(25)이 형성되어 있다. AC 핸드(24)는 AC 핸드(24)의 하면이 피노광 기판(C)의 상면에 접하는 위치로 이동했을 때에, AC 핸드(24) 및 피노광 기판(C) 사이의 공기를 흡입 구멍(25)으로 흡입함으로써 피노광 기판(C)을 AC 핸드(24)의 하면에 진공 흡착시켜서 흡착 지지한다. 또한, AC 핸드(24)의 하면에는 피노광 기판(C)을 흡착 지지한 상태에서 AC 핸드(24)가 스테이지(10)의 상면까지 이동했을 때에, 피노광 기판(C)을 하방을 향해서 압출해서 스테이지(10)에 압박하는 Z방향으로 이동 가능한 압박부(26)가 설치되어 있다.2, the 1st
제 1 노광 묘화 장치(2)의 AC 핸드(24)는 제 1 반송부(6)까지 반송되어 온 미노광의 피노광 기판(C)을 흡착 지지해서 상방으로 이동시키고, 스테이지(10)의 상면에 적재한다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)의 AC 핸드(24)는 스테이지(10)의 상면에 적재된 제 1 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 지지함으로써 상방으로 이동시키고, 피노광 기판(C)을 제 2 반송부(7)까지 이동시킨다. 제 2 반송부(7)까지 이동한 제 1 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)은 제 2 반송부(7)에 의해 제 1 노광 묘화 장치(2)의 외부로 반출된다.The
또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)의 AC 핸드(24)는 제 1 반송부(6)까지 반송되어 온 제 1 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 지지해서 상방으로 이동시키고, 피노광 기판(C)을 스테이지(10)의 상면에 적재한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)의 AC 핸드(24)는 스테이지(10)의 상면에 적재된 제 1 면 및 제 2 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)을 흡착 지지함으로써 상방으로 이동시키고, 피노광 기판(C)을 제 2 반송부(7)까지 이동시킨다. 제 2 반송부(7)까지 이동한 제 1 면 및 제 2 면이 노광이 완료된 피노광 기판(C)은 제 2 반송부(7)에 의해 노광 묘화 시스템(1)의 외부로 반출된다.In addition, the
이어서, 본 실시형태에 의한 반전 장치(4)의 구성에 대하여 설명한다.Next, the configuration of the
도 4에 나타내는 바와 같이, 반전 장치(4)는 회동축(L)에 회동 가능하게 축지지된 평판 형상의 서브 프레임(30)을 구비하고 있다. 서브 프레임(30)은 피노광 기판(C)을 내부에 유지한 상태로 180도 회전함으로써 피노광 기판(C)의 표리를 반전시킨다.As shown in Fig. 4, the
또한, 도 4에 나타내는 바와 같이 서브 프레임(30)이 갖는 측면 중 제 1 노광 묘화 장치(2)가 위치하는 측의 측면에 피노광 기판(C)이 서브 프레임(30)의 내부에 반입되는 반입구(31)가 형성되어 있다. 또한, 서브 프레임(30)의 내부에는 모터(33)로 구동되는 복수의 롤러 쌍(34)이 설치되어 있다. 롤러 쌍(34)은 서브 프레임(30)의 내부에 수납된 피노광 기판(C)을 협지한 상태로 반송한다. 피노광 기판(C)은 롤러 쌍(34)에 의해 반입구(31)를 통해서 서브 프레임(30)의 내부로 반송됨과 아울러, 서브 프레임(30)의 회전에 의해 표리가 반전되어 롤러 쌍(34)에 의해 반입구(31)를 통해서 서브 프레임(30)의 외부로 반송된다. 또한, 서브 프레임(30)은 피노광 기판(C)의 반출을 끝내면 다음 피노광 기판(C)을 내부에 반입하기 위해서 다시 180도 회동한다.In addition, as shown in FIG. 4, the substrate to be exposed C is brought into the inside of the
이어서, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)의 전기계의 구성에 대하여 설명한다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 동일한 전기계의 구성을 갖기 때문에, 여기에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 대하여 설명하고, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 대한 설명을 생략한다.Next, the structures of the electric systems of the first
도 5에 나타내는 바와 같이, 제 1 노광 묘화 장치(2)에는 장치 각 부에 각각 전기적으로 접속되는 시스템 제어부(40)가 설치되어 있고, 이 시스템 제어부(40)에 의해 제 1 노광 묘화 장치(2)의 각 부가 통괄적으로 제어된다. 또한, 제 1 노광 묘화 장치(2)는 잡 기억부(41), 스테이지 구동부(42), 표시 장치(43), 입력 장치(44), 촬영 구동부(46), 및 외부 입출력부(48)를 갖고 있다.As shown in FIG. 5, the 1st
시스템 제어부(40)는 CPU(Central Processing Unit), RAM(Random AccessMemory), ROM(Read Only Memory), 및 HDD(Hard Disk Drive)를 갖고 있다. 또한, 시스템 제어부(40)는 상기 CPU에 의해 스테이지(10)의 이동에 따른 타이밍으로 광원 유닛(17)으로부터 광빔을 출사시킴과 아울러, 대응하는 화상 정보를 화상 처리 유닛(19)에 의해 출력시킨다. 시스템 제어부(40)는 이렇게 하여 노광 헤드(16a)에 의한 피노광 기판(C)에 대한 광빔의 노광을 제어한다.The
잡 기억부(41)는 RAM이나 불휘발성 메모리를 갖고, 실행 대상으로 하는 잡을 나타내는 잡 정보를 기억한다. 본 실시형태에 있어서의 잡은 1매 또는 복수매의 피노광 기판(C)의 제 1 면에 동일한 화상을 동일 조건으로 노광 묘화함과 아울러, 상기 피노광 기판(C)의 제 2 면에도 동일한 화상을 동일 조건으로 노광 묘화하는 일괄의 노광 처리 요구이다. 또한, 잡 정보의 상세에 대해서는 후술한다. 본 실시형태에서는 잡 기억부(41)는 실행 대상으로 하는 잡의 잡 정보를 리스트 형식으로 기억하지만, 이것에 한정되지 않고 큐(cue) 형식으로 기억해도 좋다.The
스테이지 구동부(42)는 모터 또는 유압 펌프 등에 의해 구성된 구동 기구를 갖고 있고, 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 스테이지(10)를 구동한다.The
표시 장치(43)는 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 각종 정보를 표시하는 액정 디스플레이 등의 표시 수단이다.The
입력 장치(44)는 유저 조작에 의해 각종 정보를 입력하는 터치 센서나 조작 버튼 등의 입력 수단이다.The
촬영 구동부(46)는 모터 또는 유압 펌프 등에 의해 구성된 구동 기구를 갖고 있고, 시스템 제어부(40)의 제어에 의해 촬영부(23)를 구동한다.The photographing
외부 입출력부(48)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 접속된 제 2 노광 묘화 장치(3) 및 제어 장치(5)를 포함하는 각종 정보 처리 장치와의 사이에서 각종 정보의 입출력을 행한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)의 외부 입출력부(48)는 제 2 노광 묘화 장치(3)에 접속된 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제어 장치(5)를 포함하는 각종 정보 처리 장치와의 사이에서 각종 정보의 입출력을 행한다.The external input/
이어서, 본 실시형태에 의한 제어 장치(5)의 전기계의 구성에 대하여 설명한다.Next, the configuration of the electric system of the
도 6에 나타내는 바와 같이, 제어 장치(5)는 노광 묘화 시스템(1)에 있어서의 노광 묘화 처리를 제어하는 제어부(50)를 구비하고 있다. 또한, 제어 장치(5)는 제어부(50)에 의한 노광 묘화 처리에 필요한 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 ROM 및 HDD 등을 갖는 기억부(51)를 구비하고 있다. 또한, 기억부(51)는 잡 정보, 잡 설정 처리 프로그램, 제 1 잡 실행 처리 프로그램, 제 2 잡 실행 처리 프로그램, 및 제 2 실시형태의 잡 선택 처리 프로그램도 기억하고 있다.As shown in FIG. 6, the
또한, 제어 장치(5)는 제어부(50)의 제어에 의거하여 각종 정보를 표시하는 액정 디스플레이 등의 표시부(52), 및 유저 조작에 의해 각종 정보를 입력하는 키보드나 마우스 등의 입력부(53)를 구비하고 있다. 또한, 제어 장치(5)는 제어부(50)의 제어에 의거하여 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 대한 각종 정보의 송수신을 행하는 통신 인터페이스(54)를 구비하고 있다.Further, the
여기에서, 본 실시형태에 의한 제어 장치(5)는 유저 조작에 의한 잡에 관한 정보의 입력을 접수한다. 또한, 제어 장치(5)는 잡에 관한 정보의 입력을 접수했을 때, 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 각각 대응하는 잡 정보를 생성해서 송신한다. 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)는 잡 정보를 수신했을 때 수신된 잡 정보를 잡 기억부(41)에 기억하고, 기억한 잡의 내용에 따라서 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리를 실행한다. 이때, 본 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2)는 복수의 잡 정보를 기억하고 있을 경우에는, 각 잡 정보를 수신한 순서대로 각 잡 정보에 의해 나타내어지는 잡을 실행한다. 또한, 본 실시형태에 의한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에서 실행된 잡에 대응하는 잡을 순차적으로 실행한다.Here, the
잡 정보의 생성시에 있어서, 제어 장치(5)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화시키는 잡 정보(60A), 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화시키는 잡 정보(60B)를 각각 생성해서 기억부(51)에 기억한다. 즉, 동일한 피노광 기판(C)에 관한 잡이라도 제 1 면 및 제 2 면에 대하여 각각 별개의 노광 묘화 장치로 노광 묘화 처리를 행하기 때문에, 제 1 면용의 잡 정보(60A), 및 제 2 면용의 잡 정보(60B)를 각각 별개로 생성해서 기억한다.At the time of generation of the job information, the
잡 정보(60A, 60B)는 일례로서 도 7a 및 도 7b에 나타내는 바와 같이, 잡 식별 정보(61)와, 화상 정보(61a)와, 노광 조건 정보(62)와, 상대 정보(63)가 각각 잡마다 대응된 정보이다. 또한, 잡 식별 정보(61)는 각각의 잡을 식별하기 위한 정보이다. 또한, 화상 정보(61a)는 묘화 대상으로 하는 화상을 나타내는 정보이다. 또한, 노광 조건 정보(62)는 피노광 기판(C)에 대응하는 화상을 묘화하기 위해서 광빔을 노광할 때의 노광 조건을 나타내는 정보이다. 본 실시형태에 의한 노광 조건 정보(62)는 묘화 대상으로 하는 피노광 기판(C)(이하, 「대상 기판」이라고 함)의 기판 사이즈를 나타내는 기판 사이즈 정보, 및 대상 기판의 묘화 매수를 나타내는 묘화 매수 정보를 포함하고 있다. 또한, 본 실시형태에 의한 노광 조건 정보(62)는 대상 기판에 대응하는 화상의 묘화 영역을 결정하기 위한 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴이 좌표로 나타내어진 마크 정보, 및 대상 기판의 감광 재료 종류를 나타내는 감광 재료 종류 정보 등을 포함하고 있다. 또한, 대상 기판에 형성된 마크의 배치 패턴은 제 1 면과 제 2 면으로 거울상으로 되어 있다. 그러나, 노광 조건 정보(62)에 포함되는 정보는 이것들에 한정되지 않고, 광빔의 강도를 나타내는 정보, 스테이지(10)의 이동 속도를 나타내는 정보 등, 노광 묘화 처리를 행할 때에 사용되는 정보이면 임의의 정보라도 좋다. 또한, 상대 정보(63)는 제 1 면 및 제 2 면에서 서로 대응하는 상대방의 잡(이하, 「상대의 잡」이라고도 함)의 잡 식별 정보를 나타내는 정보이다.As the example of the
작업자는 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 잡을 실행시키고 싶을 경우에, 입력부(53)를 통해서 잡 정보(60A, 60B)에 포함되는 각 정보를 제어 장치(5)에 입력한다. 이것에 따라서, 제어 장치(5)는 입력된 각 정보에 의거하여 제 1 면용의 잡 정보(60A), 및 제 2 면용의 잡 정보(60B)를 생성해서 기억부(51)에 기억하는 잡 설정 처리를 행한다.When the operator wants to execute the job on the first
이어서, 도 8을 참조하여 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 작용을 설명한다. 또한, 도 8은 입력부(53)를 통해서 실행 지시가 입력되었을 때에 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 잡 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.Next, with reference to FIG. 8, the operation of the exposure drawing system 1 according to the present embodiment will be described. 8 is a flowchart showing the flow of processing of the job setting processing program executed by the
우선, 스텝 S101에서는 유저에 의한 잡에 관한 정보의 입력을 보조하기 위한 잡 입력 화면을 표시부(52)에 표시시키는 제어를 행한다. 도 9에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 의한 잡 입력 화면(70)은 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 식별 정보를 입력하는 제 1 면 화상 입력란(71), 및 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 식별 정보를 입력하는 제 2 면 화상 입력란(72)을 갖고 있다. 화상 식별 정보는 화상 정보를 포함하는 파일의 파일명이나, 화상 파일의 격납처를 나타내는 URL(Uniform Resource Locator) 등이다. 또한, 잡 입력 화면(70)은 입력 대상으로 하는 잡에 적용되는 피노광 기판(C)의 기판 종류를 나타내는 기판 종류 정보를 입력하는 기판 종류 입력란(73)을 갖고 있다. 또한, 잡 입력 화면(70)은 대상으로 하는 잡에 있어서의 피노광 기판(C)의 묘화 매수를 나타내는 묘화 매수 정보를 입력하는 묘화 매수 입력란(74)을 갖고 있다. 또한, 잡 입력 화면(70)은 입력이 종료된 취지를 나타내는 정보를 지정하기 위한 입력 종료 버튼(75)을 갖고 있다. 또한, 각 입력란에 각 정보를 입력할 때 입력란마다 리스트 표시 등에 의해 선택 후보가 표시되고, 표시된 선택 후보 중 어느 1개를 입력부(53)를 통해서 선택하도록 해도 좋다. 유저는 입력부(53)를 사용하여 각 입력란에 대응하는 정보를 입력한 후, 입력 종료 버튼(75)을 지정한다.First, in step S101, control is performed to display the job input screen for assisting the user in inputting information on the job on the
그래서, 다음의 스텝 S103에서는 입력 종료 버튼(75)이 지정될 때까지 대기함으로써 잡에 관한 정보의 입력이 종료될 때까지 대기한다.Thus, in the next step S103, the
다음의 스텝 S105에서는 각 입력란에 입력된 각 정보에 의거하여 잡 정보(60A, 60B)를 생성하고, 생성한 잡 정보(60A, 60B)를 기억부(51)에 기억한다. 이때, 제어부(50)는 제 1 면 화상 입력란(71)에 입력된 정보가 나타내는 화상의 화상 정보를 화상 정보(61a)로 하고, 묘화 매수 입력란(74)에 입력된 정보를 묘화 매수 정보로 하고, 제 2 면 화상 입력란(72)에 입력된 정보를 상대 정보(63)로 한다. 그리고, 제어부(50)는 제 1 면의 잡 정보(60A)를 생성한다. 또한, 잡 정보(60A)에서는 기판 종류 입력란(73)에 입력된 정보로부터 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보를 결정한다. 즉, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 피노광 기판(C)의 기판 종류마다 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보가 각각 대응되어 기억부(51)에 기억되어 있다. 그리고, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 기판 종류 입력란(73)에 입력된 정보가 나타내는 기판 종류에 대응하는 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보를 잡 정보(60A)의 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보로 한다.In the next step S105,
또한, 제 2 면 화상 입력란(72)에 입력된 정보가 나타내는 화상의 화상 정보를 화상 정보(61a)로 하고, 묘화 매수 입력란(74)에 입력된 정보를 묘화 매수 정보로 하고, 제 1 면 화상 입력란(71)에 입력된 정보를 상대 정보(63)로 해서 제 2 면의 잡 정보(60B)를 생성한다. 또한, 잡 정보(60B)에서도 잡 정보(60A)와 마찬가지로 해서 기판 사이즈 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보를 결정해서 적용한다.In addition, the image information of the image indicated by the information input in the second-side
다음의 스텝 S107에서는 상기 스텝 S105의 처리에 의해 생성한 제 1 면의 잡 정보(60A)를 제 1 노광 묘화 장치(2)에 유선 케이블(8a)을 통해서 송신한다. 이에 대하여, 제 1 노광 묘화 장치(2)는 수신된 잡 정보(60A)를 자신의 잡 기억부(41)에 기억한다.In the next step S107, the
다음의 스텝 S109에서는 상기 스텝 S105의 처리에 의해 생성한 제 2 면의 잡 정보(60B)를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 유선 케이블(8a)을 통해서 송신한 후, 본 잡 설정 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여, 제 2 노광 묘화 장치(3)는 수신된 잡 정보(60B)를 자신의 잡 기억부(41)에 기억한다.In the next step S109, after the
이와 같이, 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에서는 도 10에 나타내는 바와 같이 제어 장치(5)가 유저에 의해 입력된 정보에 의거하여 제 1 면의 잡 정보(60A), 및 제 2 면의 잡 정보(60B)를 생성한다. 그리고, 각각 대응하는 제 1 면의 잡 정보(60A) 및 제 2 면의 잡 정보(60B)에 있어서 상대 정보(63)를 대응하는 잡 정보에 첨부된 잡 식별 정보로 함으로써 각각 대응하는 잡 정보(60A, 60B)가 서로 대응된다. 또한, 잡 정보(60A, 60B)의 각각에 있어서의 잡 식별 정보(61) 및 상대 정보(63)가 제 1 면의 잡 정보(60A) 및 제 2 면의 잡 정보(60B)의 대응 관계를 나타내는 대응 정보에 상당한다.In this way, in the exposure drawing system 1 according to the present embodiment, as shown in Fig. 10, the
제 1 노광 묘화 장치(2)는 제어 장치(5)로부터 잡 정보(60A)를 수신해서 기억하면, 미리 정해진 유저 조작에 따라 기억한 잡 정보(60A)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 잡 실행 처리를 행한다.When the first
이어서, 도 11을 참조하여 본 실시형태에 의한 제 1 잡 실행 처리를 실행할 때의 제 1 노광 묘화 장치(2)의 작용을 설명한다. 또한, 도 11은 이때에 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 1 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 미리 정해진 유저 조작에 따른 타이밍에 한하지 않고, 잡 정보(60A)를 수신한 타이밍이라도 좋다.Next, the operation of the first
처음에, 스텝 S200에서는 잡 기억부(41)에 기억하고 있는 잡 정보(60A)를 표시 장치(43)에 표시시키는 제어를 행한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 복수의 잡 정보(60A)가 기억되어 있을 경우에는 각 잡 정보(60A)를 리스트 형식으로 표시시키는 제어를 행한다. 실행 대상으로 하는 잡 정보(60A)의 묘화 매수 정보에 의해 나타내어지는 매수의 피노광 기판(C)을 제 1 노광 묘화 장치(2)의 제 1 반송부(6)의 상류측에 배치한다. 그리고, 유저는 입력 장치(44)를 통해서 표시된 잡 정보(60A)를 선택 지정함으로써 지정한 잡 정보(60A)에 의해 나타내어지는 잡의 실행 지시를 입력한다.First, in step S200, control is performed to display the
다음의 스텝 S201에서는 상기 잡의 실행 지시가 입력될 때까지 대기하고, 다음의 스텝 S203에서는 실행이 지시된 잡(이하, 「실행 제 1 면 잡」이라고 함)에 대응하는 잡 정보(60A)로부터 화상 정보를 취득한다. 또한, 본 실시형태에서는 묘화되는 화상의 화상 정보를 취득할 때, 자신의 잡 기억부(41)에 기억되어 있는 화상 정보[잡 정보(60A)의 화상 정보]를 취득하지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 잡 정보(60A)에 상기 화상 식별 정보를 기억해 두고, 상기 화상 식별 정보에 의거하여 묘화하는 화상의 화상 정보를 제어 장치(5)나 외부의 기억 장치로부터 취득해도 좋다.In the next step S201, it waits until the execution instruction of the job is input, and in the next step S203, from the
다음의 스텝 S205에서는 실행 제 1 면 잡의 실행에 의해 피노광 기판(C)에 화상을 묘화할 때의 노광 조건을 결정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 실행 제 1 면 잡의 잡 정보(60A)에 있어서의 기판 사이즈 정보, 묘화 매수 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보에 의거하여 노광 조건을 결정한다. 본 실시형태에서는, 우선 시스템 제어부(40)는 촬영부(23)에 의해 피노광 기판(C)에 형성된 상기 마크를 촬영하고, 촬영에 의해 얻어진 화상으로부터 상기 마크의 위치를 계측한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 계측한 마크의 위치에 의거하여 화상을 묘화하는 묘화 영역을 결정한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 결정한 묘화 영역의 사이즈나 형상에 의거하여 묘화 대상으로 하는 화상을 변형시킨다. 그리고, 시스템 제어부(40)는 상기 감광 재료 종류 정보가 나타내는 감광 재료 종류에 따라서 노광하는 광빔의 강도, 스테이지(10)의 이동 속도(또는 광빔의 노광 시간) 등을 결정한다.In the next step S205, the exposure conditions when drawing an image on the substrate to be exposed C are determined by execution of the execution first surface job. At this time, the
다음의 스텝 S207에서는 결정한 노광 조건에 따라서 피노광 기판(C)에 광빔을 노광해서 화상을 묘화하는 노광 묘화 처리를 시작한다. 본 실시형태에 의한 노광 묘화 처리에서는 시스템 제어부(40)는 변형된 화상에 의거하여 변조시킨 광빔을 노광 헤드(16a)에 의해 노광함으로써 상기 변형시킨 화상을 피노광 기판(C)에 묘화한다.In the next step S207, an exposure drawing process in which an image is drawn by exposing a light beam to the substrate C to be exposed in accordance with the determined exposure conditions. In the exposure drawing process according to the present embodiment, the
다음의 스텝 S209에서는 미리 정해진 에러가 발생했는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 피노광 기판(C)의 변형이나 위치 결정 불량, 광원 유닛(17)이나 화상 처리 유닛(19), 노광부(16) 등의 노광 묘화을 행할 때에 사용되는 부위의 고장 등에 의해 노광 묘화 처리가 도중에 정지했을 경우 등에 에러가 발생했다고 판정한다. 스텝 S209에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S211로 이행하고, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 1 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다. 이에 대하여, 에러 정보를 수신한 제어 장치(5)는 에러 정보를 표시부(52)에 표시시키는 제어를 행한다. 또한, 시스템 제어부(40)는 에러 정보를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신해도 좋다. 이에 대하여, 에러 정보를 수신한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 표시 장치(43)에 에러 정보를 표시시키는 제어를 행하거나, 에러가 발생한 실행 제 1 면 잡에 대응하는 잡의 잡 정보(60B)의 묘화 매수로부터 1을 감산하거나 한다.In the next step S209, it is determined whether or not a predetermined error has occurred. At this time, the
한편, 스텝 S209에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S213으로 이행한다.On the other hand, when it becomes negative determination by step S209, it transfers to step S213.
스텝 S213에서는 1매의 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었는지의 여부를 판정한다. 스텝 S213에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S209로 돌아가는 한편, 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S215로 이행한다.In step S213, it is determined whether or not the exposure drawing process for the single substrate to be exposed C is completed. If a negative determination is made in step S213, the process returns to step S209, whereas in the case of a positive determination, processing proceeds to step S215.
스텝 S215에서는 실행 제 1 면 잡을 나타내는 정보를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 실행 제 1 면 잡의 잡 정보(60A)에 있어서의 잡 식별 정보(61)를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신한다. 또한, 본 실시형태에서는 잡 식별 정보(61)를 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신하지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 송신하는 정보는 제 2 노광 묘화 장치(3)가 실행 제 1 면 잡을 특정할 수 있는 정보이면 좋기 때문에, 예를 들면 잡 정보(60A) 그 자체라도 좋다.In step S215, information indicating the execution first surface job is transmitted to the second
다음의 스텝 S217에서는 실행 제 1 면 잡에 포함되는 모든 처리가 완료되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 노광 조건 정보(62)의 묘화 매수 정보에 의해 나타내어지는 묘화 매수의 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었을 경우에 실행 제 1 면 잡이 완료되었다고 판정한다.In the next step S217, it is determined whether or not all the processes included in the execution first side job have been completed. At this time, the
스텝 S217에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S209로 돌아가는 한편, 긍정 판정이 된 경우에는 본 제 1 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다.If a negative determination is made in step S217, the process returns to step S209. If a positive determination is made, the first job execution processing program is ended.
본 실시형태에 의한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보를 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 수신하면, 상기 잡 식별 정보와 제어 장치(5)로부터 수신된 잡 정보(60B)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화하는 제 2 잡 실행 처리를 행한다.When the second
이어서, 도 12를 참조하여 본 실시형태에 의한 제 2 잡 실행 처리를 실행할 때의 제 2 노광 묘화 장치(3)의 작용을 설명한다. 또한, 도 12는 이때에 제 2 노광 묘화 장치(3)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 잡 식별 정보를 수신한 타이밍에 한하지 않고, 유저에 의해 입력 장치(44)를 통해서 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이라도 좋다.Next, with reference to FIG. 12, the action of the 2nd
처음에, 스텝 S301에서는 수신된 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보에 의해 나타내어지는 잡에 대응하는 제 2 면의 잡(이하, 「실행 제 2 면 잡」이라고 함)을 나타내는 잡 정보(60B)가 존재하는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 잡 기억부(41)에 기억하고 있는 잡 정보(60B) 중, 상대 정보(63)로서 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보(61)를 포함하고 있는 잡 정보(60B)가 존재하는지의 여부를 판정한다.Initially, in step S301,
스텝 S301에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S303으로 이행한다. 한편, 스텝 S301에서 부정 판정이 된 경우에는 후술하는 스텝 S311로 이행하고, 실행 대상으로 하는 잡이 존재하지 않는 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 1 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다.When affirmative determination is made in step S301, the flow proceeds to step S303. On the other hand, when the negative determination is made in step S301, the process proceeds to step S311, which will be described later, and the error information indicating that the job to be executed does not exist is transmitted to the
스텝 S303에서는 실행 제 2 면 잡의 잡 정보(60B)에 있어서 피노광 기판(C)에 묘화하는 화상의 화상 정보를 취득한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 실행 제 2 면 잡의 잡 정보(60B)에 있어서 화상 정보(61a)로서 나타내어지고 있는 화상의 화상 정보를 취득한다. 또한, 본 실시형태에서는 제어 장치(5)의 기억부(51)에 화상 정보가 기억되어 있어 제 2 노광 묘화 장치(3)가 제어 장치(5)로부터 화상 정보를 취득하지만, 이것에 한정되지 않고 제 2 노광 묘화 장치(3)가 갖는 기억 수단에 화상 정보가 기억되어 있어도 좋다.In step S303, the image information of the image to be drawn on the substrate to be exposed in the
다음의 스텝 S305에서는 실행 대상으로 하는 잡인 실행 제 2 면 잡에 있어서 피노광 기판(C)에 화상을 묘화할 때의 노광 조건을 설정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 실행 제 2 면 잡의 잡 정보(60B)에 있어서의 기판 사이즈 정보, 묘화 매수 정보, 마크 정보, 및 감광 재료 종류 정보에 의거하여 노광 조건을 설정한다.In the next step S305, the exposure conditions when drawing an image on the substrate to be exposed C in the job execution second surface job to be executed are set. At this time, the
일례로서, 도 10에 나타내는 바와 같이 제 1 노광 묘화 장치(2)에 있어서 제 1 면 및 제 2 면의 쌍방에 대응하는 화상을 묘화하는 양면 잡에 있어서의 제 1 면의 양면 잡(A), 양면 잡(B)을 나타내는 잡 정보(60A, 60B) 등이 기억되어 있다고 한다. 또한, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 있어서 제 1 면의 양면 잡(A)에 대응하는 제 2 면의 양면 잡(A)을 나타내는 잡 정보(60B), 제 1 면의 양면 잡(B)에 대응하는 제 2 면의 양면 잡(B)을 나타내는 잡 정보(60B)가 기억되어 있다고 한다. 이 상태에서 제 1 노광 묘화 장치(2)에 있어서 제 1 면의 양면 잡(B)이 실행되었을 경우, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 있어서 제 1 면의 양면 잡(B)에 대응하는 제 2 면의 양면 잡(B)이 실행 대상으로 된다.As an example, as shown in FIG. 10, in the first
다음의 스텝 S307에서는 설정한 노광 조건에 따라서 피노광 기판(C)에 대하여 광빔을 노광해서 화상을 묘화하는 노광 묘화 처리를 개시한다.In the next step S307, an exposure rendering process in which an image is drawn by exposing a light beam to the substrate C to be exposed in accordance with the set exposure conditions.
다음의 스텝 S309에서는 실행 제 2 면 잡에 있어서 에러가 발생했는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 피노광 기판(C)의 변형이나 위치 결정 불량, 광원 유닛(17)이나 화상 처리 유닛(19), 노광부(16) 등의 노광 묘화를 행할 때에 사용되는 부위의 고장 등에 의해 노광 묘화 처리가 도중에 정지했을 경우 등에 에러가 발생했다고 판정한다. 스텝 S309에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S311로 이행하고, 실행 중인 잡에 있어서 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 2 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다. 한편, 스텝 S309에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S313으로 이행한다.In the next step S309, it is determined whether or not an error has occurred in the execution second-side job. At this time, the
스텝 S313에서는 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었는지의 여부를 판정한다. 스텝 S313에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S309로 돌아가는 한편, 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S315로 이행한다.In step S313, it is determined whether or not the exposure writing process for the substrate to be exposed C has been completed. If a negative determination is made in step S313, the process returns to step S309. If a positive determination is made, the process proceeds to step S315.
다음의 스텝 S315에서는 실행 제 2 면 잡이 완료되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 노광 조건 정보(62)의 묘화 매수 정보에 나타내어지는 묘화 매수의 피노광 기판(C)에 대한 노광 묘화 처리가 완료되었을 경우에 실행 제 2 면 잡이 완료되었다고 판정한다. 스텝 S314에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S317로 이행한다.In the next step S315, it is determined whether or not the execution second side job has been completed. At this time, the
스텝 S317에서는 실행 제 2 면 잡에 있어서의 다음 피노광 기판(C)에 대한 화상의 묘화를 행하기 위한 잡 식별 정보(61)를 수신할 때까지 대기한다.In step S317, it waits until
다음의 스텝 S319에서는 수신된 잡 식별 정보(61)가 실행 제 2 면 잡의 잡 식별 정보(61)와 동일한지의 여부를 판정한다.In the next step S319, it is determined whether or not the received
스텝 S319에서 긍정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S309로 이행한다. 한편, 스텝 S319에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S311로 이행하고, 실행 제 2 면 잡의 잡 식별 정보(61)와는 다른 잡 식별 정보(61)를 수신한 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 1 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다.When affirmative determination is made in step S319, the process proceeds to step S309. On the other hand, when the negative determination is made in step S319, the process advances to step S311, and the error information indicating the purpose of receiving the
한편, 스텝 S315에서 긍정 판정이 된 경우에는 본 제 1 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다.On the other hand, when affirmative determination is made in step S315, the first job execution processing program is ended.
또한, 본 실시형태에서는 제 1 잡 실행 처리 프로그램의 스텝 S215에서 제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 2 노광 묘화 장치(3)에 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보(61)를 송신하지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 상기 스텝 S215에서 제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 2 노광 묘화 장치(3)에 실행 제 1 면 잡의 잡 정보(60A)의 상대 정보(63)를 송신해도 좋다. 이 경우, 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 스텝 S301에서 수신된 상대 정보(63)를 잡 식별 정보(61)로서 갖는 잡 정보(60B)에 의해 나타내어지는 잡을 실행 제 2 면 잡이라고 한다.Further, in the present embodiment, in step S215 of the first job execution processing program, the first
[제 2 실시형태][Second Embodiment]
이하, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 대해서 첨부된 도면을 이용하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the exposure drawing system 1 according to the second embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
상기 제 1 실시형태에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 제 2 노광 묘화 장치(3)에 실행 제 1 면 잡을 나타내는 정보를 송신하고, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 대응하는 잡을 선택해서 실행한다. 한편, 제 2 실시형태에서는 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 제어 장치(5)에 실행 제 1 면 잡을 나타내는 정보를 송신하고, 제어 장치(5)에 대응하는 잡을 선택하여 선택한 잡을 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신한다.In the above-described first embodiment, information indicating the execution first surface job is transmitted from the first
또한, 제 2 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 구성은 제 1 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)과 마찬가지이므로, 여기에서는 설명은 생략한다.Note that the configuration of the exposure drawing system 1 according to the second embodiment is the same as that of the exposure drawing system 1 according to the first embodiment, and thus descriptions thereof are omitted here.
이어서, 도 13을 참조하여 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 작용을 설명한다. 또한, 도 13은 입력부(53)를 통해서 실행 지시가 입력되었을 때에 노광 묘화 시스템(1)의 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 잡 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.Next, the operation of the exposure drawing system 1 according to this embodiment will be described with reference to FIG. 13. 13 is a flowchart showing the flow of processing of the job setting processing program executed by the
우선, 스텝 S401∼S405에서는 제 1 실시형태의 스텝 S101∼S105와 마찬가지의 처리를 행한다.First, in steps S401 to S405, the same processing as steps S101 to S105 of the first embodiment is performed.
다음의 스텝 S407에서는 생성한 제 1 면의 잡 정보(60A)를 제 1 노광 묘화 장치(2)에 유선 케이블(8a)을 통해서 송신하여 본 잡 설정 처리 프로그램을 종료한다. 제 1 노광 묘화 장치(2)는 수신된 제 1 면의 잡 정보(60A)를 잡 기억부(41)에 기억한다.In the next step S407, the generated
제 1 노광 묘화 장치(2)는 잡 정보(60A)를 기억하면, 잡 정보(60A)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 잡 실행 처리를 행한다.When the first
이어서, 도 14를 참조하여 본 실시형태에 의한 제 1 잡 실행 처리를 실행할 때의 제 1 노광 묘화 장치(2)의 작용을 설명한다. 또한, 도 14는 이때에 제 1 노광 묘화 장치(2)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 1 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 잡 정보(60A)를 수신해서 기억한 타이밍에 한하지 않고, 유저에 의해 입력 장치(44)를 통해서 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이라도 좋다.Next, the operation of the first
스텝 S500∼S513에서는 제 1 실시형태의 스텝 S201∼S213과 마찬가지의 처리를 행한다.In steps S500 to S513, the same processing as steps S201 to S213 of the first embodiment is performed.
스텝 S515에서는 실행 중인 잡의 잡 식별 정보를 제어 장치(5)에 송신한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 실행 제 1 면 잡의 잡 정보(60A)에 있어서의 잡 식별 정보(61)를 제어 장치(5)에 송신한다.In step S515, the job identification information of the running job is transmitted to the
스텝 S517에서는 제 1 실시형태의 스텝 S217과 마찬가지의 처리를 행하고, 본 제 1 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다.In step S517, the same processing as in step S217 of the first embodiment is performed, and the first job execution processing program is ended.
본 실시형태에 의한 제어 장치(5)는 잡 식별 정보(61)를 제 1 노광 묘화 장치(2)로부터 수신하면, 실행 제 1 면 잡에 대응하는 제 2 면의 잡을 상기 잡 식별 정보(61)와 기억부(51)에 기억하고 있는 잡 정보(60B)에 의거하여 선택하는 잡 선택 처리를 행한다.When the
이어서, 도 15를 참조하여 본 실시형태에 의한 잡 선택 처리를 실행할 때의 제어 장치(5)의 작용을 설명한다. 또한, 도 15는 이때에 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 잡 선택 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보(61)를 수신한 타이밍에 한하지 않고, 유저에 의해 입력부(53)를 통해서 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이라도 좋다.Next, the operation of the
우선, 스텝 S601에서는 기억부(51)에 기억하고 있는 제 2 면의 잡 정보(60B) 중, 수신된 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보를 갖는 제 1 면의 잡 정보(60A)에 대응하는 제 2 면의 잡 정보(60B)를 탐색한다. 이때, 제어부(50)는 기억부(51)에 기억하고 있는 잡 정보(60B)로부터 상대 정보(63)로서 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보(61)를 포함하고 있는 잡 정보(60B)를 탐색한다.First, in step S601, among
다음의 스텝 S603에서는 상기 탐색한 결과, 수신된 실행 제 1 면 잡의 잡 식별 정보를 갖는 제 1 면의 잡 정보(60A)에 대응하는 제 2 면의 잡 정보(60B)가 존재하는지의 여부를 판정한다.In the next step S603, as a result of the search, whether the
스텝 S603에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S605로 이행한다. 한편, 스텝 S603에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S607로 이행하고, 대응하는 제 2 면의 잡 정보(60B)가 존재하지 않는 취지를 나타내는 에러 정보를 표시부(52)에 표시하는 제어를 행한다.When affirmative determination is made in step S603, the process proceeds to step S605. On the other hand, when a negative determination is made in step S603, the process proceeds to step S607, and control is performed to display the error information indicating that the
스텝 S605에서는 상기 탐색의 결과로서 얻어진 잡 정보(60B)를 제 2 노광 묘화 장치(3)에 유선 케이블(8a)을 통해서 송신한다. 이에 대하여, 제 2 노광 묘화 장치(3)는 수신된 제 2 면의 잡 정보(60B)를 잡 기억부(41)에 기억한다. 또한, 스텝 S605의 처리에 있어서 상기 탐색의 결과로서 얻어진 잡 정보(60B)를 이미 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신하고 있었을 경우에는 상기 잡 정보(60B)의 잡 식별 정보(61)만을 송신해도 좋다. 이 경우에는 제 2 노광 묘화 장치(3)가 후술하는 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 스텝 S701을 실행할 때에, 수신된 잡 식별 정보(61)를 잡 식별 정보(61)로서 포함한 잡 정보(60B)에 화상 정보(61a)로서 포함되는 화상의 화상 정보를 취득한다.In step S605, the
본 실시형태에 의한 제 2 노광 묘화 장치(3)는 상기 제 2 면의 잡 정보(60B)를 제어 장치(5)로부터 수신하면, 수신된 잡 정보(60B)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화하는 제 2 잡 실행 처리를 행한다.When the second
이어서, 도 16을 참조하여 본 실시형태에 의한 제 2 잡 실행 처리를 실행할 때의 제 2 노광 묘화 장치(3)의 작용을 설명한다. 또한, 도 16은 이때에 제 2 노광 묘화 장치(3)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 실행 대상의 잡의 잡 식별 정보를 수신한 타이밍에 한하지 않고, 유저에 의해 입력 장치(44)를 통해서 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이라도 좋다.Next, the operation of the second
처음에, 스텝 S701에서는 수신된 잡 정보(60B)에 화상 정보(61a)로서 포함되는 화상의 화상 정보를 취득한다.First, in step S701, image information of an image included as
다음의 스텝 S703∼S717에서는 제 1 실시형태의 스텝 S305∼S319와 마찬가지의 처리를 행한다.In the following steps S703 to S717, the same processing as steps S305 to S319 of the first embodiment is performed.
[제 3 실시형태][Third Embodiment]
이하, 제 3 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)에 대해서 첨부된 도면을 이용하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the exposure drawing system 1 according to the third embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
상기 제 1 실시형태 및 제 2 실시형태에서는 양면 잡을 나타내는 잡 정보(60A, 60B)를 이용하여, 피노광 기판(C)의 제 1 면 및 제 2 면에 서로 대응하는 화상을 묘화한다. 한편, 제 3 실시형태에서는 제 1 면 및 제 2 면 중 어느 한쪽의 잡을 나타내는 편면 잡과 상기 양면 잡이 혼재하고 있을 경우라도 피노광 기판(C)의 제 1 면 및 제 2 면에 서로 대응하는 화상을 묘화한다.In the first and second embodiments, images corresponding to each other on the first and second surfaces of the substrate C to be exposed are drawn using the
제 1 실시형태와 마찬가지로, 제어 장치(5)는 제 1 노광 묘화 장치(2)에 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화시키는 잡 정보(60A), 및, 제 2 노광 묘화 장치(3)에 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화시키는 잡 정보(60B)를 기억부(51)에 기억한다.Similar to the first embodiment, the
도 17a 및 도 17b에 나타내는 바와 같이, 잡 정보(60A, 60B)는 잡 식별 정보(61)와, 노광 조건 정보(62)와, 상대 정보(63)가 각각 잡마다 대응된 정보이다. 단, 설정 대상으로 하는 잡이 상기 편면 잡이었을 경우에는 상대 정보(63)를 공란으로 한다. 도 17a 및 도 17b에 나타내는 예에서는 잡 식별 정보(C000001 및 C000002)의 잡이 각각 편면 잡이고, 잡 식별 정보(C000001 및 C000002)의 잡의 상대 정보(63)가 공란으로 되어 있다.17A and 17B, the
작업자는 제 1 노광 묘화 장치(2) 및 제 2 노광 묘화 장치(3)에 잡을 실행시키고 싶을 경우에, 제어 장치(5)에 잡 정보(60A, 60B)에 포함되는 각 정보를 입력부(53)를 통해서 입력한다.When the operator wants to execute the job in the first
제어 장치(5)는 입력된 각 정보를 제 1 면용의 잡 정보(60A), 제 2 면용의 잡 정보(60B)로서 기억부(51)에 기억함으로써 잡을 설정하는 잡 설정 처리를 행한다.The
이어서, 도 18을 참조하여 본 실시형태에 의한 노광 묘화 시스템(1)의 작용을 설명한다. 또한, 도 18은 입력부(53)를 통해서 실행 지시가 입력되었을 때에 노광 묘화 시스템(1)의 제어 장치(5)의 제어부(50)에 의해 실행되는 잡 설정 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 기억부(51)의 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다.Next, the operation of the exposure drawing system 1 according to this embodiment will be described with reference to FIG. 18. 18 is a flowchart showing the flow of processing of the job setting processing program executed by the
우선, 스텝 S801∼S803에서는 제 1 실시형태의 스텝 S101∼S103과 마찬가지의 처리를 행한다.First, in steps S801 to S803, the same processing as steps S101 to S103 of the first embodiment is performed.
스텝 S805에서는 각 입력란에 입력된 각 정보를 잡 정보(60A, 60B) 중 적어도 한쪽을 생성하고, 생성한 잡 정보(60A, 60B) 중 적어도 한쪽을 기억부(51)에 기억한다. 이때, 제 1 면 화상 입력란(71) 및 제 2 면 화상 입력란(72)의 쌍방에 정보가 입력되었을 경우, 설정 대상의 잡을 양면 잡으로 하고 제 1 실시형태의 스텝 S105와 마찬가지로 해서 제 1 면의 잡 정보(60A) 및 제 2 면의 잡 정보(60B)를 생성해서 기억한다. 또한, 제 1 면 화상 입력란(71) 및 제 2 면 화상 입력란(72) 중 제 1 면 화상 입력란(71)에만 정보가 입력되었을 경우, 설정 대상의 잡을 편면 잡으로 하고 제 1 면의 잡 정보(60A)만을 생성해서 기억한다. 또한, 제 1 면 화상 입력란(71) 및 제 2 면 화상 입력란(72) 중 제 2 면 화상 입력란(72)에만 정보가 입력되었을 경우, 설정 대상의 잡을 편면 잡으로 하고 제 2 면의 잡 정보(60B)만을 생성해서 기억한다.In step S805, at least one of the
다음의 스텝 S807에서는 설정 대상의 잡이 양면 잡인지의 여부를 판정한다. 스텝 S807에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S809로 이행하는 한편, 부정 판정이 된 경우에는 설정 대상의 잡이 편면 잡인 것으로 추정하고, 후술하는 스텝 S813으로 이행한다.In the next step S807, it is determined whether or not the job to be set is a double-sided job. In the case of affirmative determination in step S807, the process proceeds to step S809. In the case of a negative determination, it is assumed that the job to be set is a single-sided job, and the procedure proceeds to step S813 described later.
스텝 S809 및 S811에서는 제 1 실시형태의 스텝 S107 및 S109와 마찬가지의 처리를 행하고, 본 잡 설정 처리 프로그램을 종료한다.In steps S809 and S811, the same processing as steps S107 and S109 of the first embodiment is performed, and this job setting processing program ends.
스텝 S813에서는 설정 대상의 잡이 제 1 면의 편면 잡인지의 여부를 판정한다. 스텝 S813에서 긍정 판정이 된 경우에는 스텝 S815로 이행하여 제 1 실시형태의 스텝 S107과 마찬가지의 처리를 행하고, 본 잡 설정 처리 프로그램을 종료한다.In step S813, it is determined whether or not the job to be set is a single-sided job of the first surface. When affirmative determination is made in step S813, the process advances to step S815 to perform the same processing as in step S107 of the first embodiment, and ends the job setting processing program.
한편, 스텝 S813에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S817로 이행하여 제 1 실시형태의 스텝 S109와 마찬가지의 처리를 행하고, 본 잡 설정 처리 프로그램을 종료한다.On the other hand, when a negative determination is made in step S813, the process advances to step S817 to perform the same processing as in step S109 of the first embodiment, and ends this job setting processing program.
도 19에 나타내는 바와 같이, 제 1 면용의 잡 정보(60A)가 제 1 노광 묘화 장치(2)에 송신되어서 제 1 노광 묘화 장치(2)의 잡 기억부(41)에 기억된다. 마찬가지로, 제 2 면용의 잡 정보(60B)가 제 2 노광 묘화 장치(3)에 송신되어서 제 2 노광 묘화 장치(3)의 잡 기억부(41)에 기억된다. 이때, 편면 잡과 양면 잡이 혼재한 상태로 기억된다.As shown in Fig. 19, the
제 1 노광 묘화 장치(2)는 잡 정보(60A)를 기억하면, 잡 정보(60A)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 1 면에 화상을 묘화하는 제 1 잡 실행 처리를 행한다.When the first
본 제 3 실시형태에 의한 제 1 노광 묘화 장치(2)는 제 1 실시형태와 마찬가지의 제 1 잡 실행 처리를 행한다.The 1st
제 2 노광 묘화 장치(3)는 제 1 잡 실행 처리에 의해 송신된 잡 식별 정보(61)를 수신하면, 상기 잡 식별 정보(61)와 제어 장치(5)로부터 수신된 잡 정보(60B)에 의거하여 피노광 기판(C)의 제 2 면에 화상을 묘화하는 제 2 잡 실행 처리를 행한다.When the second
이어서, 도 20을 참조하여 본 실시형태에 의한 제 2 잡 실행 처리를 실행할 때의 제 2 노광 묘화 장치(3)의 작용을 설명한다. 또한, 도 20은 이때에 제 2 노광 묘화 장치(3)의 시스템 제어부(40)에 의해 실행되는 제 2 잡 실행 처리 프로그램의 처리의 흐름을 나타내는 플로우차트이다. 상기 프로그램은 시스템 제어부(40)가 구비하고 있는 ROM의 소정 영역에 미리 기억되어 있다. 또한, 상기 프로그램이 실행되는 타이밍은 실행 대상의 잡의 잡 식별 정보를 수신된 타이밍에 한하지 않고, 상기 잡 식별 정보를 수신하고 또한 유저에 의해 입력 장치(44)를 통해서 미리 정해진 실행 지시가 입력된 타이밍 등이라도 좋다.Next, with reference to FIG. 20, the operation of the second
처음에, 스텝 S301∼S319에서는 제 1 실시형태의 스텝 S301∼S319와 마찬가지의 처리를 행한다.First, in steps S301 to S319, the same processing as steps S301 to S319 of the first embodiment is performed.
단, 본 제 3 실시형태에서는 스텝 S301에서 부정 판정이 된 경우에는 스텝 S901로 이행한다.However, in the third embodiment, when a negative determination is made in step S301, the process proceeds to step S901.
스텝 S901에서는 양면 잡에 대응하는 잡이 없지만 편면 잡에 대응하는 잡이 있을 경우에, 유저에 의한 실행 대상의 잡의 선택을 보조하기 위한 잡 선택 화면을 표시 장치(43)에 표시하는 제어를 행한다.In step S901, when there is no job corresponding to the double-sided job, but there is a job corresponding to the single-sided job, control is performed to display the job selection screen for assisting the user in selecting the job to be executed by the user on the
도 21에 나타내는 바와 같이, 잡 선택 화면(76)은 잡 기억부(41)에 기억되어 있는 편면 잡 중 어느 1개를 선택하는 선택 버튼(77), 및 어느 편면 잡도 선택하지 않는 비선택 버튼(78)을 갖고 있다. 유저는 입력 장치(44)를 사용하여 어느 하나의 선택 버튼(77) 또는 비선택 버튼(78)을 선택한다.As shown in Fig. 21, the job selection screen 76 has a
다음의 스텝 S903에서는 어느 하나의 잡이 선택되었는지의 여부를 판정한다. 이때, 시스템 제어부(40)는 어느 하나의 선택 버튼(77)이 선택되었을 경우 어느 하나의 잡이 선택되었다고 판정하고, 비선택 버튼(78)이 선택되었을 경우 어느 하나의 잡이 선택되지 않았다고 판정한다.In the next step S903, it is determined whether any one job is selected. At this time, the
스텝 S903에서 긍정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S303으로 이행해서 선택된 잡의 잡 정보(60B)에 의거하여 묘화 대상으로 하는 화상을 결정하고, 상기 화상의 화상 정보를 취득한다. 한편, 스텝 S903에서 부정 판정이 된 경우에는 상기 스텝 S311로 이행해서 대응하는 잡이 존재하지 않는 취지를 나타내는 에러 정보를 제어 장치(5)에 송신하여 본 제 2 잡 실행 처리 프로그램을 종료한다.When affirmative determination is made in step S903, the process advances to step S303 to determine an image to be drawn based on the selected
1 : 노광 묘화 시스템 2 : 제 1 노광 묘화 장치
3 : 제 2 노광 묘화 장치 4 : 반전 장치
5 : 제어 장치 10 : 스테이지
16a : 노광 헤드 40 : 시스템 제어부
41 : 잡 기억부 50 : 제어부
51 : 기억부 60A : 제 1 잡 정보
60B : 제 2 잡 정보 C : 피노광 기판DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
3: second exposure drawing device 4: inverting device
5: control device 10: stage
16a: exposure head 40: system control
41: job storage unit 50: control unit
51:
60B: second job information C: substrate to be exposed
Claims (13)
상기 피노광 기판의 상기 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 기억 수단과,
상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화하여 상기 제 1 면의 묘화를 완료한 피노광 기판의 상기 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 대응 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.First rendering means for drawing an image on the first surface by exposing the first surface of the substrate to be exposed;
The first job information to which the image information representing the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed and the exposure condition information representing the exposure condition are correlated, to the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed. Storage means for storing image information indicating an image to be drawn and exposure condition information indicating an exposure condition, and corresponding information indicating a correspondence relationship between the first job information and the second job information;
By exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information by the first drawing means, an image represented by the first job information is drawn on the first surface to draw the first surface. When an image is drawn on the second side of the finished substrate to be exposed, it is indicated by the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side based on the corresponding information. An exposure drawing apparatus comprising second drawing means for drawing an image represented by the second job information on the second surface by exposing the second surface under exposure conditions.
상기 기억 수단은 상기 제 1 잡 정보를 기억한 제 1 기억 영역 및 상기 제 2 잡 정보를 기억한 제 2 기억 영역을 포함하고, 상기 대응 정보를 상기 제 1 기억 영역 및 상기 제 2 기억 영역 중 어느 한쪽에 기억한 것을 특징으로 하는 노광 묘화 장치.According to claim 1,
The storage means includes a first storage area that stores the first job information and a second storage area that stores the second job information, and the corresponding information is one of the first storage area and the second storage area. An exposure drawing device characterized in that it is stored on one side.
상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및
상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 송신하는 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와,
상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 제 2 기억 수단,
상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 수신하는 수신 수단,
상기 대응 정보에 있어서 상기 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의거하여 상기 제 2 면에 묘화하는 화상 및 노광 조건을 결정하는 결정 수단, 및
상기 결정 수단에 의해 결정된 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 결정 수단에 의해 결정된 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.First storage means for storing image information representing an image drawn on a first surface of the substrate to be exposed and first job information corresponding to exposure condition information representing an exposure condition,
First rendering means for drawing an image represented by the first job information on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information, and
A first exposure rendering apparatus comprising transmission means for transmitting information indicating the first job information used when an image is drawn on the first surface by the first rendering means,
Second job information corresponding to image information indicating an image drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and exposure condition information indicating an exposure condition, and the first job information and the second Second storage means for storing corresponding information indicating the correspondence between job information,
Receiving means for receiving information representing the first job information transmitted by the transmitting means,
Images and exposures drawn on the second surface based on the second job information corresponding to the first job information indicated by information indicating the first job information received by the receiving means in the corresponding information Determining means for determining conditions, and
And a second exposure rendering apparatus having second rendering means for drawing the image determined by the determination means on the second surface by exposing the second surface under exposure conditions determined by the determination means. Drawing system.
상기 대응 정보는 상기 제 1 잡 정보를 식별하기 위한 식별 정보와 상기 제 1 잡 정보에 대응하는 상기 제 2 잡 정보를 식별하기 위한 식별 정보를 대응시킨 정보이고,
상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보는 상기 제 1 잡 정보의 상기 식별 정보인 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.The method of claim 3,
The corresponding information is information corresponding to identification information for identifying the first job information and identification information for identifying the second job information corresponding to the first job information,
The information indicating the first job information is the identification information of the first job information.
상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단은 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 정상으로 종료되었을 경우에만 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 송신하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.The method of claim 3 or 4,
The transmitting means of the first exposure drawing apparatus transmits information indicating the first job information only when the drawing by the first drawing means is normally ended.
상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 송신 수단은 상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화가 이상으로 종료되었을 경우, 에러가 발생한 취지를 나타내는 에러 정보를 송신하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.The method of claim 3 or 4,
The transmitting means of the first exposure drawing apparatus transmits error information indicating that an error has occurred when the drawing by the first drawing means ends abnormally.
상기 제 1 잡 정보, 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 기억하는 제 3 기억 수단, 및
상기 제 3 기억 수단에 의해 기억되어 있는 상기 제 1 잡 정보를 상기 제 1 노광 묘화 장치에 송신하고, 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 상기 제 2 노광 묘화 장치에 송신하는 제 2 송신 수단을 구비한 제어 장치를 더 구비하고,
상기 제 1 노광 묘화 장치는 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 수신하는 제 2 수신 수단을 더 구비하고,
상기 제 1 노광 묘화 장치의 상기 제 1 묘화 수단은 상기 제 2 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 이용하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화하고,
상기 제 2 노광 묘화 장치는 상기 제 2 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 수신하는 제 3 수신 수단을 더 구비하고,
상기 제 2 노광 묘화 장치의 상기 결정 수단은 상기 제 3 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 이용하여 상기 제 2 면에 묘화하는 화상 및 노광 조건을 결정하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.The method of claim 3 or 4,
Third storage means for storing the first job information, the second job information and the corresponding information, and
Second transmitting means for transmitting the first job information stored by the third storage means to the first exposure drawing apparatus, and transmitting the second job information and the corresponding information to the second exposure drawing apparatus; Further provided with a control device provided,
The first exposure drawing apparatus further includes second receiving means for receiving the first job information transmitted by the second transmitting means,
The first drawing means of the first exposure drawing apparatus draws an image on the first surface using the first job information received by the second receiving means,
The second exposure drawing apparatus further includes third receiving means for receiving the second job information and the corresponding information transmitted by the second transmitting means,
The determining means of the second exposure drawing apparatus is characterized by determining the image and exposure conditions to be drawn on the second surface using the second job information and the corresponding information received by the third receiving means. Exposure drawing system.
상기 제어 장치는 상기 제 1 잡 정보, 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보의 입력을 접수하는 접수 수단을 더 구비하고,
상기 제어 장치의 상기 제 3 기억 수단은 상기 접수 수단에 의해 접수된 상기 제 1 잡 정보, 제 2 잡 정보 및 상기 대응 정보를 기억하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.The method of claim 7,
The control device further includes receiving means for accepting input of the first job information, the second job information, and the corresponding information,
The third storage means of the control device stores the first job information, the second job information and the corresponding information received by the reception means.
상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및
상기 대응 정보에 있어서 상기 제 1 묘화 수단에 의해 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보를 송신하는 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와,
상기 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보를 수신하는 수신 수단, 및
상기 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.Image information indicating an image to be drawn on a first surface of the substrate to be exposed and first job information to which exposure condition information indicating an exposure condition are stored, and the first job information and the first of the substrate to be exposed First storage means for storing correspondence information indicating a correspondence relationship between image information representing an image drawn on a second surface opposite to the surface and second job information to which exposure condition information representing an exposure condition is associated,
First rendering means for drawing an image represented by the first job information on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information, and
A first exposure drawing apparatus having transmission means for transmitting the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first surface by the first drawing means in the corresponding information; ,
Receiving means for receiving the second job information transmitted by the transmitting means, and
And second rendering means for drawing an image represented by the second job information on the second surface by exposing the second surface under exposure conditions indicated by the second job information received by the receiving means. An exposure imaging system, comprising a second exposure imaging device.
상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 1 면에 묘화하는 제 1 묘화 수단, 및
상기 제 1 묘화 수단에 의한 묘화에 사용한 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 송신하는 제 3 송신 수단을 구비한 제 1 노광 묘화 장치와,
상기 제 1 잡 정보, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보, 및 상기 제 1 잡 정보와 상기 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보를 기억하는 제 5 기억 수단,
상기 제 3 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보를 수신하는 제 4 수신 수단,
상기 대응 정보에 있어서 상기 제 4 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 1 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 상기 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보를 송신하는 제 4 송신 수단을 구비한 제어 장치와,
상기 제 4 송신 수단에 의해 송신된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보를 수신하는 제 5 수신 수단, 및
상기 제 5 수신 수단에 의해 수신된 상기 제 2 잡 정보를 나타내는 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단을 구비한 제 2 노광 묘화 장치를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.Fourth storage means for storing image information representing an image drawn on a first surface of the substrate to be exposed and first job information corresponding to exposure condition information representing an exposure condition,
First rendering means for drawing an image represented by the first job information on the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information, and
A first exposure drawing apparatus comprising third transmitting means for transmitting information indicating the first job information used for drawing by the first drawing means,
The first job information, image information indicating an image drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed, and second job information corresponding to exposure condition information indicating exposure conditions, and the first job Fifth storage means for storing corresponding information indicating a correspondence between the job information and the second job information,
Fourth receiving means for receiving information indicating the first job information transmitted by the third transmitting means,
Control with fourth transmitting means for transmitting the second job information corresponding to the first job information indicated by information indicating the first job information received by the fourth receiving means in the corresponding information. Device,
Fifth receiving means for receiving information indicating the second job information transmitted by the fourth transmitting means, and
An agent for drawing an image represented by the second job information on the second surface by exposing the second surface under exposure conditions indicated by information representing the second job information received by the fifth receiving means An exposure drawing system comprising a second exposure drawing device provided with two drawing means.
상기 노광 조건은 상기 피노광 기판의 사이즈, 상기 피노광 기판의 노광 대상으로 하는 매수, 상기 피노광 기판에 화상의 묘화 영역을 결정하기 위해서 마크가 형성되어 있을 경우의 상기 마크의 배치 패턴, 및 상기 피노광 기판의 감광 재료 종류 중 적어도 1개를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 시스템.The method of claim 3 or 4,
The exposure conditions include the size of the substrate to be exposed, the number of exposure targets of the substrate to be exposed, and the arrangement pattern of the marks when a mark is formed on the substrate to be determined to determine an image drawing area, An exposure writing system comprising at least one of the types of photosensitive materials of the substrate to be exposed.
피노광 기판의 제 1 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화하는 제 1 묘화 수단과,
상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화하여 상기 제 1 면의 묘화를 완료한 피노광 기판의 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 제 1 잡 정보와, 상기 피노광 기판의 상기 제 1 면과는 반대인 제 2 면에 묘화하는 화상을 나타내는 화상 정보와 노광 조건을 나타내는 노광 조건 정보가 대응된 제 2 잡 정보의 대응 관계를 나타내는 대응 정보에 있어서, 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 수단으로서 기능시키기 위한 것을 특징으로 하는 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 매체.Computer,
The first surface is exposed to the first surface by exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information corresponding to the image information representing the image drawn on the first surface of the substrate to be exposed and the exposure condition information representing the exposure condition. First rendering means for drawing an image represented by the first job information;
By exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information, an image exposed by the first job information is drawn on the first surface to complete the imaging of the first surface. When an image is drawn on the second surface, the first job information and the image information indicating the image drawn on the second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed and the exposure condition information indicating the exposure conditions In the correspondence information indicating the correspondence relationship between the corresponding second job information, the second side is exposed under the exposure conditions indicated by the second job information corresponding to the first job information used when an image is drawn on the first side. A computer-readable medium having a program recorded thereon, characterized in that it functions as a second rendering means for drawing an image represented by the second job information on the second surface by exposing.
상기 제 1 묘화 수단으로 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 1 면을 노광함으로써 상기 제 1 면에 상기 제 1 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 묘화하여 상기 제 1 면의 묘화를 완료한 피노광 기판의 상기 제 2 면에 화상을 묘화할 경우, 상기 대응 정보에 의거하여 상기 제 1 면에 화상을 묘화했을 때에 사용한 제 1 잡 정보에 대응된 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 노광 조건으로 상기 제 2 면을 노광함으로써 상기 제 2 잡 정보에 의해 나타내어지는 화상을 상기 제 2 면에 묘화하는 제 2 묘화 스텝을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 묘화 방법.A first job in which image information representing an image drawn on the first surface and exposure condition information indicating an exposure condition are associated with first rendering means for drawing an image on the first surface by exposing the first surface of the substrate to be exposed Information, second job information corresponding to image information indicating an image drawn on a second surface opposite to the first surface of the substrate to be exposed, and exposure condition information indicating an exposure condition, and the first job information and the A storage step for storing the corresponding information indicating the corresponding relationship between the second job information in the storage means,
By exposing the first surface under the exposure conditions indicated by the first job information by the first drawing means, an image represented by the first job information is drawn on the first surface to draw the first surface. When an image is drawn on the second side of the finished substrate to be exposed, it is indicated by the second job information corresponding to the first job information used when drawing the image on the first side based on the corresponding information. And a second drawing step of drawing an image represented by the second job information on the second surface by exposing the second surface under exposure conditions.
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