KR102109357B1 - Apparatus for cleaning film - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예들에 따르는 필름 클리닝 장치는 기재 필름 공급부, 기재 필름으로부터 정전기를 제거하며 서로 분리되어 배치되는 제1 제전부 및 제2 제전부, 및 제1 제전부 및 제2 제전부 사이에 배치되며 진공 흡입부 및 압력 토출부를 포함하는 건식 제진부를 포함한다. 제진부 및 건신 제전부의 조합을 통해 기재 필름의 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.The film cleaning apparatus according to embodiments of the present invention includes a base film supply unit, a first static elimination unit and a second static elimination unit disposed separately from each other while removing static electricity from the substrate film, and between the first static elimination unit and the second static elimination unit. It is arranged and includes a dry damping part including a vacuum suction part and a pressure discharge part. The contaminants of the base film can be effectively removed through the combination of the damping portion and the dry static removing portion.

Description

필름 클리닝 장치{APPARATUS FOR CLEANING FILM}Film cleaning device {APPARATUS FOR CLEANING FILM}

본 발명은 필름 클리닝 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 복수의 롤러들을 포함하는 필름 클리닝 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a film cleaning device. More specifically, it relates to a film cleaning apparatus comprising a plurality of rollers.

예를 들면, 플렉시블 타입의 디스플레이 혹은 터치 스크린 패널을 제조하기 위해 폴리이미드와 같은 기재 필름될 수 있다. 상기 기재 필름 상에는 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물과 같은 무기 절연 물질, 아크릴계 수지와 같은 유기 절연 물질 등을 포함하는 절연막이 형성될 수 있다. 또한, 감압성 점착제(PSA) 층과 같은 점착제층, 하드코팅층, 반사방지층 또는 대전방지층 등과 같은 경도 향상, 기능성 표면 처리를 위한 추가 막들이 상기 기재 필름 상에 코팅될 수 있다.For example, a base film such as polyimide may be used to manufacture a flexible type display or touch screen panel. An insulating film including an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride and an organic insulating material such as acrylic resin may be formed on the base film. In addition, pressure-sensitive adhesive (PSA) layer, such as a pressure-sensitive adhesive layer, hard coating layer, anti-reflection layer or anti-static layer, etc., to improve the hardness, functional films for the treatment of the additional film may be coated on the base film.

그러나, 상기 절연막, 점착제층 등과 같은 추가 막 형성 공정 전에 상기 기재 필름 상에 정전기가 발생할 수 있으며, 이에 따라 기재 필름 표면에 먼지와 같은 이물질이 부착될 수 있다. 상기 이물질이 충분히 제거되지 않는 경우, 예를 들면 디스플레이 패널과의 접합 시 기능불량, 수율하락 등을 야기할 수 있다.However, before the additional film forming process such as the insulating film and the adhesive layer, static electricity may be generated on the base film, and thus foreign matter such as dust may adhere to the surface of the base film. If the foreign matter is not sufficiently removed, for example, malfunction may occur when bonding to the display panel, yield may be reduced.

또한, 상기 기재 필름으로부터 먼지를 제거했다고 하더라도, 공정 설비로부터 다시 이물질이 부착될 수도 있다.In addition, even if dust is removed from the base film, foreign matter may adhere again from the process equipment.

따라서, 외부로부터의 이물질뿐만 아니라 공정 설비로부터 발생하는 오염까지 고려하여 클리닝 공정을 설계할 필요가 있다. 또한, 반도체 장치 혹은 디스플레이 장치와 같이 고해상도 장치 제조를 위한 기재 필름의 경우 보다 완전한 클리닝 능력이 요구될 수 있다.Therefore, it is necessary to design a cleaning process in consideration of contamination from a process facility as well as foreign substances from the outside. Further, in the case of a base film for manufacturing a high resolution device such as a semiconductor device or a display device, a more complete cleaning capability may be required.

예를 들면, 한국공개특허공보 제2012-0085204호는 이온발생을 통한 제전기를 개시하고 있으나, 상기 제전기만으로는 충분한 오염물질 제거가 어렵다.For example, Korean Patent Publication No. 2012-0085204 discloses a static electricity eliminator through ion generation, but it is difficult to remove sufficient contaminants using the static electricity eliminator alone.

대한민국 공개특허공보 제10-2012-0085204호(2012.07.31)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0085204 (2012.07.31)

본 발명의 일 과제는 우수한 신뢰성 및 제진 효율성을 갖는 필름 클리닝 장치를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a film cleaning device having excellent reliability and vibration damping efficiency.

1. 기재 필름 공급부; 1. Base film supply unit;

상기 기재 필름 공급부로부터 전달된 기재 필름으로부터 정전기를 제거하며 서로 분리되어 배치되는 제1 제전부 및 제2 제전부; 및 A first static elimination unit and a second static elimination unit which are disposed separately from each other while removing static electricity from the substrate film transferred from the substrate film supply unit; And

상기 제1 제전부 및 상기 제2 제전부 사이에 배치되어 상기 기재 필름에 부착된 이물질을 제거하며, 진공 흡입부 및 압력 토출부를 포함하는 건식 제진부를 포함하는, 필름 클리닝 장치.A film cleaning device disposed between the first static elimination part and the second static elimination part to remove foreign matters attached to the base film, and including a dry dust removing part including a vacuum suction part and a pressure discharge part.

2. 위 1에 있어서, 상기 진공 흡입부 및 상기 압력 토출부는 상기 기재 필름의 진행 방향을 따라 순차적으로 연속적으로 배치되는, 필름 클리닝 장치.2. The method of 1 above, wherein the vacuum suction portion and the pressure discharge portion are sequentially and sequentially arranged along the traveling direction of the base film, the film cleaning device.

3. 위 2에 있어서, 상기 압력 토출부는 상기 압력 토출부로부터의 공기 토출 방향이 상기 기재 필름의 진입 방향과 평행한 방향으로 마주보도록 배치되며, 상기 진공 흡입부는 상기 진공 흡입부로의 상기 이물질의 흡인 방향이 상기 기재 필름의 배출방향과 평행한 방향으로 반대되도록 배치되는, 필름 클리닝 장치.3. In the above 2, the pressure discharge portion is arranged so that the air discharge direction from the pressure discharge portion faces in a direction parallel to the entry direction of the base film, and the vacuum suction portion sucks the foreign matter into the vacuum suction portion. The film cleaning apparatus is arranged such that the direction is opposite to the direction parallel to the discharge direction of the base film.

4. 위 1에 있어서, 상기 압력 토출부는 제1 압력 토출부 및 제2 압력 토출부를 포함하는, 필름 클리닝 장치.4. The method of 1 above, wherein the pressure discharge portion includes a first pressure discharge portion and a second pressure discharge portion, the film cleaning device.

5. 위 4에 있어서, 상기 진공 흡입부, 상기 제1 압력 토출부 및 상기 제2 압력 토출부는 상기 기재 필름의 진행 방향을 따라 순차적으로 연속적으로 배치되는, 필름 클리닝 장치.5. The method of 4 above, wherein the vacuum suction unit, the first pressure discharge unit and the second pressure discharge unit are sequentially and sequentially arranged along the traveling direction of the base film, the film cleaning apparatus.

6. 위 1에 있어서, 상기 제1 제전부 및 상기 제2 제전부는 각각 이오나이저(ionizer)를 포함하는, 필름 클리닝 장치.6. The method of 1 above, wherein the first static elimination unit and the second static elimination unit each include an ionizer, a film cleaning device.

7. 위 1에 있어서, 상기 제2 제전부의 후단에 배치되는 에어 블로잉 롤러를 더 포함하는, 필름 클리닝 장치.7. The method of 1 above, further comprising an air blowing roller disposed at the rear end of the second static elimination unit, the film cleaning apparatus.

8. 위 7에 있어서, 상기 에어 블로잉 롤러는 롤러 바디, 및 롤러 바디 내에 형성된 에어 발생 홀들을 포함하는, 필름 클리닝 장치.8. The method of 7 above, wherein the air-blowing roller includes a roller body and air-generating holes formed in the roller body, the film cleaning apparatus.

9. 위 8에 있어서, 상기 기재 필름은 상기 롤러 바디로부터 플로팅되어 이동되는, 필름 클리닝 장치.9. The method of 8 above, wherein the base film is floating and moved from the roller body, the film cleaning device.

본 발명의 실시예들에 따르는 필름 클리닝 장치는 제1 및 제2 제전부들을 포함하고, 상기 제1 및 제2 제전부들 사이에 배치되는 건식 제진부를 포함한다. 상기 건식 제진부는 진공 흡입부 및 압력 토출부를 포함하며, 기재 필름 상에 잔류하는 먼지를 효과적으로 제거할 수 있다.The film cleaning apparatus according to embodiments of the present invention includes first and second static elimination parts, and includes a dry damping part disposed between the first and second static elimination parts. The dry damping part includes a vacuum suction part and a pressure discharge part, and can effectively remove dust remaining on the base film.

상기 건식 제진부의 전단 및 후단에 상기 제1 및 제2 제전부들을 각각 배치함으로써, 제진 공정 전후에 걸쳐 정전기 발생을 실질적으로 완전히 차단할 수 있다.By arranging the first and second static eliminators at the front and rear ends of the dry vibration damper, respectively, static electricity generation can be substantially completely blocked before and after the dust removal process.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제2 제전부 및 막 형성부 사이에 에어 블로잉 롤러(air blowing roller)가 배치될 수 있다. 상기 기재 필름은 상기 에어 블로잉 롤러에 의해 플로팅 상태로 상기 막 형성부로 도입될 수 있으며, 이에 따라 롤러 접촉에 따른 추가 오염물질 부착을 방지할 수 있다.In some embodiments, an air blowing roller may be disposed between the second static elimination part and the film forming part. The base film may be introduced into the film forming part in a floating state by the air blowing roller, thereby preventing adhesion of additional contaminants due to roller contact.

상기 필름 클리닝 장치는 플렉시블 디스플레이 장치 또는 플렉시블 터치 스크린 패널 제조를 위한 기재 필름의 전처리를 위해 효과적으로 활용될 수 있다.The film cleaning device may be effectively used for pretreatment of a base film for manufacturing a flexible display device or a flexible touch screen panel.

도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 필름 클리닝 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 및 도 3은 일부 예시적인 실시예들에 따른 건식 제진부를 나타내는 개략적인 도면들이다.
도 4는 일부 예시적인 실시예들에 따른 에어 블로잉 롤러를 나타내는 개략적인 도면이다.
1 is a view schematically showing a film cleaning apparatus according to exemplary embodiments of the present invention.
2 and 3 are schematic diagrams showing a dry damping unit according to some exemplary embodiments.
4 is a schematic diagram illustrating an air blowing roller in accordance with some example embodiments.

본 발명의 실시예들에 따르면, 필름 클리닝 장치는 기재 필름으로부터 정전기를 제거하며 서로 분리되어 배치되는 제1 제전부 및 제2 제전부, 및 상기 제1 제전부 및 상기 제2 제전부 사이에 배치되며 진공 흡입부 및 압력 토출부를 포함하는 건식 제진부를 포함한다. 상기 필름 클리닝 장치로부터 이물질이 제거된 기재 필름은 플렉시블 디스플레이 장치 또는 터치 스크린 패널과 같은 고정밀도의 디바이스에 적용될 수 있다.According to embodiments of the present invention, the film cleaning apparatus removes static electricity from the base film and is disposed between the first static elimination part and the second static elimination part, and the first static elimination part and the second static elimination part. And a dry damping part including a vacuum suction part and a pressure discharge part. The base film from which the foreign matter has been removed from the film cleaning device may be applied to a high-precision device such as a flexible display device or a touch screen panel.

이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the following drawings attached to this specification are intended to illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the contents of the present invention, the present invention is described in such drawings It should not be interpreted as being limited to the matter.

도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 필름 클리닝 장치를 개략적으로 도시한 도면이다. 이하에서는, 도 1을 참조로, 예시적인 실시예들에 따른 필름 클리닝 장치 및 필름 클리닝 방법을 함께 상세히 설명한다.1 is a view schematically showing a film cleaning apparatus according to exemplary embodiments of the present invention. Hereinafter, a film cleaning apparatus and a film cleaning method according to example embodiments will be described in detail with reference to FIG. 1.

도 1을 참조하면, 필름 클리닝 장치(50)는 기재 필름 공급부, 및 제전 및 제진 유닛을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1, the film cleaning apparatus 50 may include a base film supply unit, and an antistatic and dust removal unit.

상기 기재 필름 공급부는 상기 제전 및 제진 유닛으로 기재 필름(100)을 공급할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 기재 필름 공급 롤러(110)를 통해 기재 필름(100)이 상기 제전 및 제진 유닛으로 이송될 수 있다.The base film supply unit may supply the base film 100 to the antistatic and vibration control units. According to exemplary embodiments, the base film 100 may be transferred to the antistatic and vibration control unit through the base film supply roller 110.

기재 필름(100)은 롤-투-롤(Roll-to-Roll) 공정이 가능한 유연성을 갖는 수지 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 기재 필름(100)은 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 바람직하게는, 기재 필름(100)은 폴리이미드를 포함할 수 있다.The base film 100 may include a resin material having flexibility capable of a roll-to-roll process. For example, the base film 100 is a cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide ( PPS), polyallylate, polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer ( COC), polymethyl methacrylate (PMMA), and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Preferably, the base film 100 may include polyimide.

상기 제전 및 제진 유닛은 상기 기재 필름 공급부로부터 순차적으로 배치되는 제1 제전부(120), 건식 제진부(140) 및 제2 제전부(150)를 포함할 수 있다.The antistatic and anti-vibration unit may include a first anti-static unit 120, a dry anti-vibration unit 140, and a second anti-static unit 150 that are sequentially disposed from the base film supply unit.

제1 및 제2 제전부들(120, 150)로부터 기재 필름(100) 표면의 정전기가 제거될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 및 제2 제전부들(120, 150)은 각각 이오나이저(ionizer)를 포함할 수 있다. 제1 및 제2 제전부들(120, 150)에 의해 기재 필름(100) 표면 주변에 이온 분위기가 형성되어 정전기가 제거될 수 있다.Static electricity on the surface of the base film 100 may be removed from the first and second antistatic parts 120 and 150. According to exemplary embodiments, the first and second static elimination units 120 and 150 may include an ionizer, respectively. An ionic atmosphere is formed around the surface of the base film 100 by the first and second antistatic parts 120 and 150 to remove static electricity.

예를 들면, 제1 및 제2 제전부들(120, 150)은 당해 기술분야에 공지된 이오나이저를 사용할 수 있으며, 본 출원에 참조로서 병합되는 한국공개특허공보 제2012-0085204호에 개시된 이오나이저를 활용할 수도 있다.For example, the first and second static elimination units 120 and 150 may use an ionizer known in the art, and disclosed in Korean Patent Publication No. 2012-0085204, which is incorporated by reference into this application. You can also use Niger.

제1 제전부(120)에 의해 이온 처리되어 정전기가 제거된 기재 필름(100)은 건식 제진부(140)를 통과하여 기재 필름(100) 표면에 부착된 미세 먼지, 이물질들이 제거될 수 있다.The base film 100 in which the static electricity is removed by ion treatment by the first static elimination unit 120 may pass through the dry dust removal unit 140 to remove fine dust and foreign substances attached to the surface of the substrate film 100.

예시적인 실시예들에 따르면, 기재 필름(100)은 제진 롤러(130)에 의해 가이드되어 건식 제진부(140) 내부로 진입할 수 있다. 건식 제진부(140)를 통한 압력 토출 및 진공 흡입 작용에 의해 미세 먼지, 이물질이 기재 필름(100) 표면으로부터 실질적으로 제거될 수 있다.According to exemplary embodiments, the base film 100 may be guided by the vibration damping roller 130 to enter the dry vibration damping unit 140. Fine dust and foreign substances may be substantially removed from the surface of the base film 100 by pressure discharge and vacuum suction through the dry damping unit 140.

건식 제진부(140)의 구조 및 작용에 대해서는 도 2 및 도 3을 참조로 보다 상세히 후술한다.The structure and operation of the dry damping unit 140 will be described in more detail with reference to FIGS. 2 and 3.

건식 제진부(140)로부터 미세 먼지, 이물질이 제거된 기재 필름(100)은 제2 제전부(150)에 의해 다시 이온화 처리될 수 있다. 따라서, 예를 들면, 제진 롤러(130)와의 마찰 등에 의해 다시 유발된 정전기가 제2 제전부(150)를 통해 제거될 수 있다.The base film 100 from which the fine dust and foreign substances are removed from the dry dust removal unit 140 may be ionized again by the second static elimination unit 150. Thus, for example, static electricity caused by friction with the vibration damping roller 130 or the like can be removed through the second static elimination unit 150.

일부 실시예들에 있어서, 상기 제전 및 제진 유닛은 에어 블로잉(air blowing) 롤러(160)를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the static elimination and dedusting unit may further include an air blowing roller 160.

에어 블로잉 롤러(160)는 제2 제전부(150)의 후단에 배치되어, 기재필름(100)에 대한 막 형성 공정이 개시되기 전에, 미세 먼지, 이물질이 다시 부착되는 것을 방지하기 위해 삽입될 수 있다.The air blowing roller 160 is disposed at the rear end of the second static elimination part 150 and may be inserted to prevent re-adherence of fine dust and foreign substances before the film forming process for the base film 100 is started. have.

예시적인 실시예들에 따르면, 에어 블로잉 롤러(160)는 에어 발생 홀(165)을 포함하며, 에어 발생 홀(165)을 통해 배출되는 공기압을 통해 기재 필름(100)과 에어 블로잉 롤러(160)의 표면이 이격될 수 있다. According to exemplary embodiments, the air blowing roller 160 includes an air generating hole 165, and the base film 100 and the air blowing roller 160 through air pressure discharged through the air generating hole 165 The surfaces of can be spaced apart.

에어 블로잉 롤러(160)는 기재 필름(100)을 상기 막 형성 공정을 위한 도공 유닛(180)으로 이송하는 가이드 롤러로 제공될 수도 있다. 상술한 바와 같이, 기재 필름(100)은 에어 블로잉 롤러(160)와 접촉하지 않고 플로팅(floating)된 채로 가이딩되어 이동될 수 있다. 따라서, 상기 가이드 롤러와 마찰에 의해 발생할 수 있는 정전기, 먼지 부착 등이 방지될 수 있다.The air blowing roller 160 may be provided as a guide roller for transferring the base film 100 to the coating unit 180 for the film forming process. As described above, the base film 100 may be guided and moved while floating without contacting the air blowing roller 160. Therefore, static electricity, dust, and the like, which may be generated by friction with the guide roller, can be prevented.

기재 필름(100)은 에어 블로잉 롤러(160)에 의해 가이딩 되어 도공 유닛(180)으로 이동될 수 있다. 도공 유닛(180)은 기재 필름(100) 상에 절연막, 접착층, 표면 처리층 등을 코팅 혹은 라미네이팅 하기 위한 공지된 장치를 포함할 수 있다.The base film 100 may be guided by the air blowing roller 160 and moved to the coating unit 180. The coating unit 180 may include a known device for coating or laminating an insulating film, an adhesive layer, a surface treatment layer, etc. on the base film 100.

예를 들면, 도공 유닛(180)은 슬롯 다이 코팅, 잉크젯 프린팅 장치, 디스펜서 인쇄 장치, 롤 프린팅 장치, 스크린 인쇄 장치 등과 같은 코팅 장치 혹은 프린팅 장치 등을 포함할 수 있다.For example, the coating unit 180 may include a coating device such as a slot die coating, an inkjet printing device, a dispenser printing device, a roll printing device, a screen printing device, or a printing device.

일부 실시예들에 있어서, 에어 블로잉 롤러(160) 및 도공 유닛(180) 사이에 도공 롤러(170)가 더 배치될 수 있다. 도공 롤러(170)에 의해 상기 막 형성 공정 진행을 위한 텐션이 유지되어 막 형성 균일성이 향상될 수 있다.In some embodiments, a coating roller 170 may be further disposed between the air blowing roller 160 and the coating unit 180. Tension for the film formation process is maintained by the coating roller 170 so that the film formation uniformity can be improved.

상술한 예시적인 실시예들에 따르면, 건식 제진부(140)를 통해 미세 먼지를 제거하고, 건식 제진부(140)의 전단 및 후단에 각각 제1 제전부(120) 및 제2 제전부(140)를 각각 배치할 수 있다. 따라서, 제1 제전부(120)를 통해 제진 공정 전에 예비적으로 정전기를 제거한 후, 제진 공정 후에 다시 정전기 제거 처리를 수행할 수 있다. 따라서, 상기 제진 공정에서의 먼지 혹은 이물질 흡입의 효율성을 증가시키면서, 상기 제진 공정에서 재유발되는 정전기를 제2 제전부(140)를 통해 제거할 수 있다. 따라서, 보다 향상된 신뢰성 및 정밀도로 오염 물질 수준을 현저히 감소시킬 수 있다.According to the exemplary embodiments described above, the fine dust is removed through the dry damping unit 140, and the first static elimination unit 120 and the second static elimination unit 140 are respectively disposed at front and rear ends of the dry vibration damping unit 140. ). Therefore, the static electricity may be preliminarily removed before the dust removal process through the first static electricity elimination unit 120, and then the static electricity removal treatment may be performed again after the dust removal process. Accordingly, while increasing the efficiency of inhaling dust or foreign substances in the dust removal process, static electricity regenerated in the dust removal process may be removed through the second static elimination unit 140. Therefore, it is possible to significantly reduce the level of contaminants with improved reliability and precision.

또한, 에어 블로잉 롤러(160)를 통해 기재 필름(100)을 플로팅 시키면서 도공 유닛(180)으로 공급할 수 있다. 따라서, 향상된 제전 및 제진 레벨을 실질적으로 유지하면서 도공 유닛(180)을 통한 막 형성 공정이 수행될 수 있다.In addition, the base film 100 may be floated through the air blowing roller 160 while being supplied to the coating unit 180. Accordingly, a film forming process through the coating unit 180 may be performed while substantially maintaining an improved antistatic and vibration suppression level.

도 2는 및 도 3은 일부 예시적인 실시예들에 따른 건식 제진부를 나타내는 개략적인 도면들이다.2 and 3 are schematic diagrams illustrating a dry damping unit according to some exemplary embodiments.

도 2를 참조하면, 건식 제진부(140)는 진공 흡입부(V)(142) 및 압력 토출부(P)(144)를 포함하며, 기재 필름(100)이 제진 롤러(130) 및 건식 제진부(140) 사이를 통과하며 미세 먼지, 오염 물질의 흡입/제거 공정이 수행될 수 있다.Referring to FIG. 2, the dry damping unit 140 includes a vacuum suction unit (V) 142 and a pressure discharge unit (P) 144, and the base film 100 includes a damping roller 130 and a dry damping unit. The process of suction / removal of fine dust and contaminants may be performed while passing between the sludges 140.

기재 필름(100)은 점선 화살표로 표시된 바와 같이, 도 2의 좌측에서 우측으로 이동할 수 있다. 이 경우, 제진 롤러(130)의 압력 토출부(144)를 통해 기재 필름(100)의 진입방향과 평행하며 상기 진입 방향을 향해 마주보며 진행하도록 공기압 혹은 에어가 토출될 수 있다. 이에 따라, 기재 필름(100) 표면에 부착된 미세 먼지가 상기 공기압에 노출되는 시간, 면적이 증가하며 효율적으로 제거 혹은 탈착될 수 있다.The base film 100 may be moved from left to right in FIG. 2 as indicated by a dotted arrow. In this case, air pressure or air may be discharged through the pressure discharge portion 144 of the vibration damping roller 130 to be parallel to the entry direction of the base film 100 and face toward the entry direction. Accordingly, the time and area at which the fine dust attached to the surface of the base film 100 is exposed to the air pressure increases and can be efficiently removed or detached.

상기 공기압에 의해 탈착된 미세 먼지는 진공 흡입부(142)로 흡인될 수 있다. 예를 들면, 진공 흡입부(142) 내부가 진공 처리됨에 따라 상기 미세 먼지가 진공 흡입부(142) 내부로 유도될 수 있다.The fine dust desorbed by the air pressure may be sucked into the vacuum suction unit 142. For example, as the inside of the vacuum suction unit 142 is vacuum treated, the fine dust may be introduced into the vacuum suction unit 142.

예시적인 실시예들에 따르면, 진공 흡입부(142)에서의 흡인 방향은 기재 필름(100)의 배출 방향과 평행하며, 상기 배출 방향과 반대 방향으로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 미세 먼지가 기재 필름(100)의 배출 방향과 실질적으로 가장 먼 방향으로 이동되므로, 상기 미세 먼지의 재부착을 방지하며 효율적으로 제진 공정이 수행될 수 있다.According to exemplary embodiments, the suction direction in the vacuum suction unit 142 is parallel to the discharge direction of the base film 100 and may be formed in a direction opposite to the discharge direction. Therefore, since the fine dust is moved in a direction substantially distant from the discharge direction of the base film 100, the re-adhesion of the fine dust can be prevented and the dust removal process can be efficiently performed.

도 3을 참조하면, 압력 토출부(144)는 제1 토출부(144a) 및 제2 토출부(144b)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3, the pressure discharge part 144 may include a first discharge part 144a and a second discharge part 144b.

제1 토출부(144a) 및 제2 토출부(144b)는 진공 흡입부(142)로부터 기재필름(100)의 진행방향을 따라 순차적으로 연속적으로 배치될 수 있다.The first discharge part 144a and the second discharge part 144b may be sequentially and sequentially arranged along the traveling direction of the base film 100 from the vacuum suction part 142.

상술한 바와 같이, 제1 토출부(144a) 및 제2 토출부(144b)로부터 기재 필름(100)의 진입 방향과 마주보도록 공기압의 토출 방향이 형성될 수 있다. 압력 토출부(144)의 공기압 토출 공간이 복수로 분할됨에 따라 토출 효율 및 토출 세기가 상승할 수 있다. 따라서, 기재 필름(100) 표면에 부착된 미세 먼지의 탈착 효율이 향상될 수 있다.As described above, a discharge direction of air pressure may be formed to face the entrance direction of the base film 100 from the first discharge portion 144a and the second discharge portion 144b. As the air pressure discharge space of the pressure discharge part 144 is divided into a plurality, discharge efficiency and discharge intensity may increase. Accordingly, the desorption efficiency of fine dust attached to the surface of the base film 100 may be improved.

도 2 및 도 3을 참조로 설명한 바와 같이, 진공 흡입부(142) 및 압력 토출부(144)를 기재 필름(100)의 진행 방향을 따라 순차적으로 배치하고, 상술한 흡인 방향, 토출 방향 설계를 통해 제진 효율성을 현저히 향상시킬 수 있다. As described with reference to FIGS. 2 and 3, the vacuum suction unit 142 and the pressure discharge unit 144 are sequentially arranged along the traveling direction of the base film 100, and the above-described suction direction and discharge direction design Through this, the vibration damping efficiency can be significantly improved.

일부 실시예들에 있어서, 진공 흡입부(142) 및 압력 토출부(144) 각각의 하부에는 진공 처리 및 압력 발생을 위한 배관부(미도시)가 결합될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 압력 토출부(144)는 압력 세기 및 제진 효율 향상을 위한 초음파 생성부(미도시)와 결합될 수도 있다.In some embodiments, a pipe portion (not shown) for vacuum processing and pressure generation may be coupled to the lower portion of each of the vacuum suction portion 142 and the pressure discharge portion 144. In one embodiment, the pressure discharge unit 144 may be combined with an ultrasonic generator (not shown) for improving pressure strength and vibration isolation efficiency.

도 4는 일부 예시적인 실시예들에 따른 에어 블로잉 롤러를 나타내는 개략적인 도면이다.4 is a schematic diagram illustrating an air blowing roller in accordance with some example embodiments.

도 4를 참조하면, 에어 블로잉 롤러(160)는 롤러 바디(162) 및 샤프트(164)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 4, the air blowing roller 160 may include a roller body 162 and a shaft 164.

샤프트(164)는 롤러 바디(162)를 관통하거나, 롤러 바디(162) 내에 삽입되며, 롤러 바디(162)에 회전력을 부여할 수 있다. 롤러 바디(162)는 기재 필름(100)에 텐션을 부여하여 이동시킬 수 있다. 롤러 바디(162) 및 샤프트(164)는 예를 들면, 스테인리스 스틸, 알루미늄 등과 같은 금속 재질을 포함할 수 있다.The shaft 164 penetrates the roller body 162 or is inserted into the roller body 162 and may impart rotational force to the roller body 162. The roller body 162 may be moved by applying tension to the base film 100. The roller body 162 and the shaft 164 may include metal materials, such as stainless steel and aluminum.

롤러 바디(162) 표면에는 복수의 에어 발생 홀들(165)이 형성되어 롤러 바디(162) 주변으로 공기압을 발생시킬 수 있다. 따라서, 기재 필름(100)은 상기 공기압의 회전에 의한 장력으로 이동되며, 롤러 바디(162) 표면으로부터 플로팅될 수 있다. 그러므로, 롤러 바디(162)로부터의 정전기, 이물질 부착 등을 차단하면서 도공 유닛(180)으로 기재 필름(100)을 전달할 수 있다.A plurality of air generating holes 165 may be formed on the surface of the roller body 162 to generate air pressure around the roller body 162. Thus, the base film 100 is moved by the tension by the rotation of the air pressure, it may be floating from the surface of the roller body 162. Therefore, it is possible to transfer the base film 100 to the coating unit 180 while blocking the static electricity from the roller body 162, adhesion of foreign substances, and the like.

에어 발생 홀들(165)은 도 4에 도시된 바와 같이, 롤러 바디(162)의 원주 방향을 따라 배열되어 에어 발생 홀 열을 형성하며, 롤러 바디(162)의 길이 방향을 따라 복수의 상기 에어 발생 홀 열들이 배치될 수 있다.4, the air generating holes 165 are arranged along the circumferential direction of the roller body 162 to form a row of air generating holes, and a plurality of the air is generated along the longitudinal direction of the roller body 162. Hole rows can be arranged.

그러나, 도 4에 도시된 에어 발생 홀들(165)의 배치는 예시적인 것이며, 기재 필름(100)의 플로팅 효율을 고려하여 적절히 변경될 수 있다.However, the arrangement of the air generating holes 165 illustrated in FIG. 4 is exemplary, and may be appropriately changed in consideration of the floating efficiency of the base film 100.

예시적인 실시예들에 따르면, 상술한 필름 클리닝 장치(50)를 활용한 필름의 클리닝 방법(제진 방법)이 제공된다. 상기 필름의 클리닝 방법을 통해 제진 처리된 기재 필름(100)은 플렉시블 디스플레이 장치, 또는 플렉시블 터치 스크린 패널의 기재 혹은 베이스 필름으로 제공될 수 있다.According to exemplary embodiments, a method of cleaning a film using the above-described film cleaning device 50 (a method for removing dust) is provided. The base film 100 subjected to vibration control through the cleaning method of the film may be provided as a base or base film of a flexible display device or a flexible touch screen panel.

50: 필름 클리닝 장치 100: 기재 필름
110: 기재 필름 공급 롤러 120: 제1 제전부
130: 제진 롤러 140: 건식 제진부
142: 진공 흡입부 144: 압력 토출부
150: 제2 제전부 160: 에어 블로잉 롤러
162: 롤러 바디 164: 샤프트
165: 에어 발생 홀 170: 도공 롤러
180: 도공 유닛
50: film cleaning apparatus 100: base film
110: base film supply roller 120: first static elimination part
130: damping roller 140: dry damping unit
142: vacuum suction section 144: pressure discharge section
150: second static elimination unit 160: air blowing roller
162: roller body 164: shaft
165: air generating hole 170: coating roller
180: Coating unit

Claims (9)

기재 필름 공급부;
상기 기재 필름 공급부로부터 전달된 기재 필름으로부터 정전기를 제거하며 서로 분리되어 배치되는 제1 제전부 및 제2 제전부;
상기 제1 제전부 및 상기 제2 제전부 사이에 배치되어 상기 기재 필름에 부착된 이물질을 제거하며, 진공 흡입부 및 압력 토출부를 포함하는 건식 제진부; 및
상기 제2 제전부를 통과한 기재 필름을 바로 플로팅시킨 후 도공 유닛으로 바로 진입시키는 에어 블로잉 롤러를 포함하고,
상기 제1 제전부, 상기 건식 제진부, 상기 제2 제전부 및 상기 에어 블로잉 롤러는 연속적으로 배치되고,
상기 진공 흡입부 및 상기 압력 토출부는 상기 기재 필름의 진행 방향을 따라 순차적으로 연속적으로 배치되고, 상기 진공 흡입부가 상기 압력 토출부보다 전단에 배치되고,
상기 압력 토출부는 상기 압력 토출부로부터의 공기 토출 방향이 상기 기재 필름의 진입 방향과 평행한 방향으로 마주보도록 배치되며,
상기 진공 흡입부는 상기 진공 흡입부로의 상기 이물질의 흡인 방향이 상기 기재 필름의 배출방향과 평행한 방향으로 반대되도록 배치되는, 필름 클리닝 장치.
Base film supply unit;
A first static elimination unit and a second static elimination unit that are disposed separately from each other while removing static electricity from the substrate film transferred from the substrate film supply unit;
A dry damping unit disposed between the first static elimination unit and the second static elimination unit to remove foreign substances attached to the base film, and including a vacuum suction unit and a pressure discharge unit; And
And an air blowing roller that directly floats the base film passing through the second static eliminator and then enters the coating unit directly.
The first static elimination unit, the dry vibration suppression unit, the second static elimination unit, and the air blowing roller are continuously disposed,
The vacuum suction part and the pressure discharge part are sequentially and sequentially arranged along the traveling direction of the base film, and the vacuum suction part is disposed before the pressure discharge part,
The pressure discharge portion is disposed so that the air discharge direction from the pressure discharge portion faces in a direction parallel to the entry direction of the base film,
The vacuum suction unit is arranged such that the direction of suction of the foreign material into the vacuum suction unit is opposite to a direction parallel to the discharge direction of the base film, the film cleaning apparatus.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 압력 토출부는 제1 압력 토출부 및 제2 압력 토출부를 포함하는, 필름 클리닝 장치.
The film cleaning apparatus according to claim 1, wherein the pressure discharge portion includes a first pressure discharge portion and a second pressure discharge portion.
청구항 4에 있어서, 상기 진공 흡입부, 상기 제1 압력 토출부 및 상기 제2 압력 토출부는 상기 기재 필름의 진행 방향을 따라 순차적으로 연속적으로 배치되는, 필름 클리닝 장치.
The method according to claim 4, The vacuum suction portion, the first pressure discharge portion and the second pressure discharge portion, the film cleaning apparatus is sequentially arranged sequentially along the traveling direction of the base film.
청구항 1에 있어서, 상기 제1 제전부 및 상기 제2 제전부는 각각 이오나이저(ionizer)를 포함하는, 필름 클리닝 장치.
The method according to claim 1, The first static elimination unit and the second static elimination unit, each comprising an ionizer (ionizer), the film cleaning apparatus.
삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 에어 블로잉 롤러는 롤러 바디, 및 롤러 바디 내에 형성된 에어 발생 홀들을 포함하는, 필름 클리닝 장치.
The film cleaning apparatus according to claim 1, wherein the air blowing roller includes a roller body and air generating holes formed in the roller body.
삭제delete
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115351012A (en) * 2022-08-18 2022-11-18 东莞汇乐技术股份有限公司 Dry dust remover combining ultrasonic wave and gas dust removal

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109433728B (en) * 2018-08-30 2021-11-09 彩虹集团(邵阳)特种玻璃有限公司 Dust removal cleaning device for planar flexible material
CN111086903B (en) * 2019-11-20 2021-08-06 桐城市华猫软膜有限公司 Thermal contraction membrane processingequipment
CN114104795B (en) * 2021-11-25 2023-11-03 深圳市鑫华辉电子材料有限公司 Teflon sticky tape is with winding up equipment that has guide effect

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017457A (en) * 2001-07-03 2003-01-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method and apparatus for cleaning substrate
JP2013003436A (en) * 2011-06-20 2013-01-07 Sumitomo Chemical Co Ltd Foreign matter removal method

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2820599B2 (en) * 1993-08-31 1998-11-05 株式会社伸興 Dust removal device
JP5508302B2 (en) 2011-01-21 2014-05-28 株式会社キーエンス Static eliminator
KR101426929B1 (en) * 2011-10-20 2014-08-06 주식회사 엘지화학 Method and apparatus for floating substrate

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003017457A (en) * 2001-07-03 2003-01-17 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Method and apparatus for cleaning substrate
JP2013003436A (en) * 2011-06-20 2013-01-07 Sumitomo Chemical Co Ltd Foreign matter removal method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115351012A (en) * 2022-08-18 2022-11-18 东莞汇乐技术股份有限公司 Dry dust remover combining ultrasonic wave and gas dust removal

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