KR102102010B1 - 광변조 제어 방법, 제어 프로그램, 제어 장치, 및 레이저광 조사 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 레이저광의 전파 과정에 있어서의 수차의 발생에 대해서 도시하는 도면이다.
도 3은 광변조 제어 장치의 구성의 일례를 나타내는 블록도이다.
도 4는 광변조 제어 방법의 일례를 나타내는 순서도이다.
도 5는 레이저광의 전파에 있어서 생기는 수차 조건의 도출에 대해서 도시하는 도면이다.
도 6은 변조 패턴의 설계 방법의 일례를 나타내는 순서도이다.
도 7은 레이저광 조사 장치에 의한 레이저광의 조사 패턴의 예를 도시하는 도면이다.
도 8은 레이저광 조사 장치에 의한 레이저광의 조사 패턴의 예를 도시하는 도면이다.
도 9는 레이저광 조사 장치에 의한 레이저광의 조사 패턴의 예를 도시하는 도면이다.
도 10은 변조 패턴의 설계 방법의 다른 예를 나타내는 순서도이다.
도 11은 레이저광 조사 장치의 다른 실시 형태의 구성을 도시하는 도면이다.
도 12는 조사 대상물로의 레이저광의 집광 조사의 일례에 대해서 도시하는 도면이다.
11: 빔 익스팬더, 12: 반사 미러,
13: 반사 미러, 15: 조사 대상물,
18: 가동 스테이지, 20: 공간광 변조기,
21: 4f 광학계 렌즈, 22: 4f 광학계 렌즈,
25: 대물 렌즈, 28: 광변조기 구동 장치,
40: 검출부, 41: 렌즈,
42: 다이클로익 미러, 30: 광변조 제어 장치,
31: 조사 조건 취득부, 32: 집광 조건 설정부,
33: 수차 조건 도출부, 34: 변조 패턴 설계부,
35: 광변조기 구동 제어부, 37: 입력 장치,
38: 표시 장치.
Claims (20)
- 레이저광을 입력하고, 상기 레이저광의 위상을 변조하여, 위상 변조 후의 레이저광을 출력하는 위상 변조형의 공간광 변조기를 이용하여 상기 공간광 변조기에 제시하는 변조 패턴에 의해서, 설정된 집광점으로의 상기 레이저광의 집광 조사를 제어하는 광변조 제어 방법으로서,
상기 레이저광의 조사 조건으로서, 상기 공간광 변조기로의 상기 레이저광의 입사 패턴, 상기 공간광 변조기로부터 상기 집광점으로의 상기 레이저광의 전파 경로상에 있는 제1 전파 매질의 제1 굴절률 n1, 및 상기 제1 전파 매질보다도 상기 집광점측에 있는 제2 전파 매질의 상기 제1 굴절률과는 다른 제2 굴절률 n2를 취득하는 조사 조건 취득 스텝과,
상기 레이저광의 집광 조건으로서, 상기 공간광 변조기로부터의 상기 레이저광을 집광 조사하는 상기 집광점의 개수 st(st는 1이상의 정수), 및 st개의 집광점 s의 각각에 대한 집광 위치, 집광 강도를 설정하는 집광 조건 설정 스텝과,
상기 공간광 변조기로부터 상기 집광점 s로의 상기 레이저광의 전파에 있어서, 서로 굴절률이 다른 상기 제1 전파 매질, 및 상기 제2 전파 매질에 의해서 생기는 수차 조건을 도출하는 수차 조건 도출 스텝과,
상기 수차 조건 도출 스텝에서 도출된 상기 수차 조건을 고려하여, 상기 공간광 변조기에 제시하는 상기 변조 패턴을 설계하는 변조 패턴 설계 스텝을 구비하고,
상기 변조 패턴 설계 스텝은, 상기 공간광 변조기에 있어서 2차원 배열된 복수의 화소를 상정하여, 상기 복수의 화소에 제시하는 상기 변조 패턴의 1화소에서의 위상값의 변경이 상기 집광점에 있어서의 상기 레이저광의 집광 상태에 주는 영향에 주목하여, 그 집광 상태가 원하는 상태에 가까워지도록 상기 위상값을 변경하고, 그러한 위상값의 변경 조작을 상기 변조 패턴의 모든 화소에 대해서 행함으로써 상기 변조 패턴을 설계함과 아울러,
상기 집광점에서의 상기 집광 상태를 평가할 때에, 상기 공간광 변조기의 상기 변조 패턴에 있어서의 화소 j로부터 상기 집광점 s로의 광의 전파에 대해서, 전파 매질이 균질한 상태의 자유 전파의 파동 전파 함수 φjs에 상기 수차 조건을 더하여 변환한 전파 함수 φjs'를 이용하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 방법. - 청구항 1에 있어서,
상기 수차 조건 도출 스텝은, 상기 화소 j로부터 상기 집광점 s로의 광의 전파에 대한 상기 수차 조건으로서, 그 전파에서의 광로 길이차를 주는 위상 φj- OPD를 구하고,
상기 변조 패턴 설계 스텝은, 변환식
φjs'= φjs+φj- OPD
에 의해서, 상기 수차 조건이 고려된 상기 전파 함수 φjs'를 구하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 스텝은, 상기 공간광 변조기의 상기 화소 j로의 상기 레이저광의 입사 진폭을 Aj - in, 위상을 φj- in, 상기 화소 j에서의 위상값을 φj라고 하고, 하기 식
Us=Asexp(iφs)
=ΣjAj - inexp(iφjs')exp(i(φj+φj- in))
에 의해서, 상기 집광점 s에 있어서의 상기 집광 상태를 나타내는 복소 진폭 Us를 구하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 스텝은, 상기 변조 패턴의 상기 화소 j에서의 상기 위상값의 변경에 있어서, 상기 집광점 s에 있어서의 상기 집광 상태를 나타내는 복소 진폭의 위상 φs, 상기 수차 조건이 고려된 상기 전파 함수 φjs', 및 상기 화소 j에서의 변경 전의 위상값 φj에 기초하여 해석적으로 구해진 값에 의해서, 상기 위상값을 변경하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 스텝은, 상기 변조 패턴의 상기 화소 j에서의 상기 위상값의 변경에 있어서, 등산법, 소둔법, 또는 유전적 알고리즘 중 어느 방법을 이용하여 탐색으로 구해진 값에 의해서, 상기 위상값을 변경하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 방법. - 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제2 전파 매질은 상기 집광점이 내부에 설정되는 조사 대상물이고,
상기 제1 전파 매질은 상기 공간광 변조기와 상기 조사 대상물의 사이에 있는 분위기 매질인 것을 특징으로 하는 광변조 제어 방법. - 레이저광을 입력하고, 상기 레이저광의 위상을 변조하여, 위상 변조 후의 레이저광을 출력하는 위상 변조형의 공간광 변조기를 이용하여 상기 공간광 변조기에 제시하는 변조 패턴에 의해서, 설정된 집광점으로의 상기 레이저광의 집광 조사를 제어하는 광변조 제어를 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체로서,
상기 레이저광의 조사 조건으로서, 상기 공간광 변조기로의 상기 레이저광의 입사 패턴, 상기 공간광 변조기로부터 상기 집광점으로의 상기 레이저광의 전파 경로상에 있는 제1 전파 매질의 제1 굴절률 n1, 및 상기 제1 전파 매질보다도 상기 집광점측에 있는 제2 전파 매질의 상기 제1 굴절률과는 다른 제2 굴절률 n2를 취득하는 조사 조건 취득 처리와,
상기 레이저광의 집광 조건으로서, 상기 공간광 변조기로부터의 상기 레이저광을 집광 조사하는 상기 집광점의 개수 st(st는 1이상의 정수), 및 st개의 집광점 s의 각각에 대한 집광 위치, 집광 강도를 설정하는 집광 조건 설정 처리와,
상기 공간광 변조기로부터 상기 집광점 s로의 상기 레이저광의 전파에 있어서, 서로 굴절률이 다른 상기 제1 전파 매질, 및 상기 제2 전파 매질에 의해서 생기는 수차 조건을 도출하는 수차 조건 도출 처리와,
상기 수차 조건 도출 처리에서 도출된 상기 수차 조건을 고려하여, 상기 공간광 변조기에 제시하는 상기 변조 패턴을 설계하는 변조 패턴 설계 처리를 컴퓨터에 실행시키고,
상기 변조 패턴 설계 처리는, 상기 공간광 변조기에 있어서 2차원 배열된 복수의 화소를 상정하여, 상기 복수의 화소에 제시하는 상기 변조 패턴의 1화소에서의 위상값의 변경이 상기 집광점에 있어서의 상기 레이저광의 집광 상태에 주는 영향에 주목하여, 그 집광 상태가 원하는 상태에 가까워지도록 상기 위상값을 변경하고, 그러한 위상값의 변경 조작을 상기 변조 패턴의 모든 화소에 대해서 행함으로써 상기 변조 패턴을 설계함과 아울러,
상기 집광점에서의 상기 집광 상태를 평가할 때에, 상기 공간광 변조기의 상기 변조 패턴에 있어서의 화소 j로부터 상기 집광점 s로의 광의 전파에 대해서, 전파 매질이 균질한 상태의 자유 전파의 파동 전파 함수 φjs에 상기 수차 조건을 더하여 변환한 전파 함수 φjs'를 이용하는 것을 특징으로 하는, 광변조 제어 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체. - 청구항 7에 있어서,
상기 수차 조건 도출 처리는, 상기 화소 j로부터 상기 집광점 s로의 광의 전파에 대한 상기 수차 조건으로서, 그 전파에서의 광로 길이차를 주는 위상 φj-OPD를 구하고,
상기 변조 패턴 설계 처리는, 변환식
φjs'=φjs+φj-OPD
에 의해서, 상기 수차 조건이 고려된 상기 전파 함수 φjs'를 구하는 것을 특징으로 하는, 광변조 제어 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체. - 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 처리는, 상기 공간광 변조기의 상기 화소 j로의 상기 레이저광의 입사 진폭을 Aj-in, 위상을 φj-in, 상기 화소 j에서의 위상값을 φj라고 하고, 하기 식
Us=Asexp(iφs)
=ΣjAj-inexp(iφjs')exp(i(φj+φj-in))
에 의해서, 상기 집광점 s에 있어서의 상기 집광 상태를 나타내는 복소 진폭 Us를 구하는 것을 특징으로 하는, 광변조 제어 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체. - 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 처리는, 상기 변조 패턴의 상기 화소 j에서의 상기 위상값의 변경에 있어서, 상기 집광점 s에 있어서의 상기 집광 상태를 나타내는 복소 진폭의 위상 φs, 상기 수차 조건이 고려된 상기 전파 함수 φjs', 및 상기 화소 j에서의 변경 전의 위상값 φj에 기초하여 해석적으로 구해진 값에 의해서, 상기 위상값을 변경하는 것을 특징으로 하는, 광변조 제어 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체. - 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 처리는, 상기 변조 패턴의 상기 화소 j에서의 상기 위상값의 변경에 있어서, 등산법, 소둔법, 또는 유전적 알고리즘 중 어느 방법을 이용하여 탐색으로 구해진 값에 의해서, 상기 위상값을 변경하는 것을 특징으로 하는, 광변조 제어 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체. - 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
상기 제2 전파 매질은 상기 집광점이 내부에 설정되는 조사 대상물이고,
상기 제1 전파 매질은 상기 공간광 변조기와 상기 조사 대상물의 사이에 있는 분위기 매질인 것을 특징으로 하는, 광변조 제어 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체. - 레이저광을 입력하고, 상기 레이저광의 위상을 변조하여, 위상 변조 후의 레이저광을 출력하는 위상 변조형의 공간광 변조기를 이용하여, 상기 공간광 변조기에 제시하는 변조 패턴에 의해서, 설정된 집광점으로의 상기 레이저광의 집광 조사를 제어하는 광변조 제어 장치로서,
상기 레이저광의 조사 조건으로서, 상기 공간광 변조기로의 상기 레이저광의 입사 패턴, 상기 공간광 변조기로부터 상기 집광점으로의 상기 레이저광의 전파 경로상에 있는 제1 전파 매질의 제1 굴절률 n1, 및 상기 제1 전파 매질보다도 상기 집광점측에 있는 제2 전파 매질의 상기 제1 굴절률과는 다른 제2 굴절률 n2를 취득하는 조사 조건 취득 수단과,
상기 레이저광의 집광 조건으로서, 상기 공간광 변조기로부터의 상기 레이저광을 집광 조사하는 상기 집광점의 개수 st(st는 1이상의 정수), 및 st개의 집광점 s의 각각에 대한 집광 위치, 집광 강도를 설정하는 집광 조건 설정 수단과,
상기 공간광 변조기로부터 상기 집광점 s로의 상기 레이저광의 전파에 있어서, 서로 굴절률이 다른 상기 제1 전파 매질, 및 상기 제2 전파 매질에 의해서 생기는 수차 조건을 도출하는 수차 조건 도출 수단과,
상기 수차 조건 도출 수단에서 도출된 상기 수차 조건을 고려하여, 상기 공간광 변조기에 제시하는 상기 변조 패턴을 설계하는 변조 패턴 설계 수단을 구비하고,
상기 변조 패턴 설계 수단은, 상기 공간광 변조기에 있어서 2차원 배열된 복수의 화소를 상정하여, 상기 복수의 화소에 제시하는 상기 변조 패턴의 1화소에서의 위상값의 변경이 상기 집광점에 있어서의 상기 레이저광의 집광 상태에 주는 영향에 주목하여, 그 집광 상태가 원하는 상태에 가까워지도록 상기 위상값을 변경하고, 그러한 위상값의 변경 조작을 상기 변조 패턴의 모든 화소에 대해서 행함으로써 상기 변조 패턴을 설계함과 아울러,
상기 집광점에서의 상기 집광 상태를 평가할 때에, 상기 공간광 변조기의 상기 변조 패턴에 있어서의 화소 j로부터 상기 집광점 s로의 광의 전파에 대해서, 전파 매질이 균질한 상태의 자유 전파의 파동 전파 함수 φjs에 상기 수차 조건을 더하여 변환한 전파 함수 φjs'를 이용하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 청구항 13에 있어서,
상기 수차 조건 도출 수단은, 상기 화소 j로부터 상기 집광점 s로의 광의 전파에 대한 상기 수차 조건으로서, 그 전파에서의 광로 길이차를 주는 위상 φj- OPD를 구하고,
상기 변조 패턴 설계 수단은, 변환식
φjs'=φjs+φj- OPD
에 의해서, 상기 수차 조건이 고려된 상기 전파 함수 φjs'를 구하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 수단은, 상기 공간광 변조기의 상기 화소 j로의 상기 레이저광의 입사 진폭을 Aj - in, 위상을 φj- in, 상기 화소 j에서의 위상값을 φj라고 하고, 하기 식
Us=Asexp(iφs)
=ΣjAj - inexp(iφjs')exp(i(φj+φj- in))
에 의 해서, 상기 집광점 s에 있어서의 상기 집광 상태를 나타내는 복소 진폭 Us를 구하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 수단은, 상기 변조 패턴의 상기 화소 j에서의 상기 위상값의 변경에 있어서, 상기 집광점 s에 있어서의 상기 집광 상태를 나타내는 복소 진폭의 위상 φs, 상기 수차 조건이 고려된 상기 전파 함수 φjs', 및 상기 화소 j에서의 변경 전의 위상값 φj에 기초하여 해석적으로 구해진 값에 의해서, 상기 위상값을 변경하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 변조 패턴 설계 수단은, 상기 변조 패턴의 상기 화소 j에서의 상기 위상값의 변경에 있어서, 등산법, 소둔법, 또는 유전적 알고리즘 중 어느 방법을 이용하여 탐색으로 구해진 값에 의해서, 상기 위상값을 변경하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 제2 전파 매질은 상기 집광점이 내부에 설정되는 조사 대상물이고,
상기 제1 전파 매질은 상기 공간광 변조기와 상기 조사 대상물의 사이에 있는 분위기 매질인 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 공간광 변조기를 구동 제어하여, 상기 변조 패턴 설계 수단에 의해서 설계된 상기 변조 패턴을 상기 공간광 변조기에 제시하는 광변조기 구동 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 광변조 제어 장치. - 레이저광을 공급하는 레이저 광원과,
상기 레이저광을 입력하고, 상기 레이저광의 위상을 변조하여, 위상 변조 후의 레이저광을 출력하는 위상 변조형의 공간광 변조기와,
상기 공간광 변조기에 제시하는 변조 패턴에 의해서, 설정된 집광점으로의 상기 레이저광의 집광 조사를 제어하는 청구항 13 또는 청구항 14에 기재된 광변조 제어 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저광 조사 장치.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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PCT/JP2012/073474 WO2014041660A1 (ja) | 2012-09-13 | 2012-09-13 | 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP6648399B1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-02-14 | 株式会社東京精密 | レーザ加工装置、レーザ加工装置の収差調整方法、レーザ加工装置の収差制御方法、及びレーザ加工方法 |
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US12028625B2 (en) * | 2019-12-03 | 2024-07-02 | Sony Group Corporation | Imaging device manufacturing apparatus, method for manufacturing imaging device, and imaging device |
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DE102020134416B4 (de) * | 2020-12-21 | 2024-02-29 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Verfahren zur Einstellung und/oder dynamischen Anpassung der Leistungsdichteverteilung von Laserstrahlung |
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272635A (ja) | 2000-01-19 | 2001-10-05 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工装置 |
JP2011180290A (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Hamamatsu Photonics Kk | 収差補正方法、この収差補正方法を用いた顕微鏡観察方法、この収差補正方法を用いたレーザ照射方法、収差補正装置、及び、収差補正プログラム |
Family Cites Families (11)
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---|---|---|---|---|
JPH04300101A (ja) | 1991-03-27 | 1992-10-23 | Ube Nitto Kasei Co Ltd | 光ファイバ担持用スペーサの切削加工装置及び切削加工方法 |
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