KR101998638B1 - 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈 - Google Patents

고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈 Download PDF

Info

Publication number
KR101998638B1
KR101998638B1 KR1020180018578A KR20180018578A KR101998638B1 KR 101998638 B1 KR101998638 B1 KR 101998638B1 KR 1020180018578 A KR1020180018578 A KR 1020180018578A KR 20180018578 A KR20180018578 A KR 20180018578A KR 101998638 B1 KR101998638 B1 KR 101998638B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
diisocyanate
resin composition
optical material
group
Prior art date
Application number
KR1020180018578A
Other languages
English (en)
Inventor
이상희
Original Assignee
군산대학교산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 군산대학교산학협력단 filed Critical 군산대학교산학협력단
Priority to KR1020180018578A priority Critical patent/KR101998638B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101998638B1 publication Critical patent/KR101998638B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G75/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G75/02—Polythioethers
    • C08G75/04—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof
    • C08G75/045—Polythioethers from mercapto compounds or metallic derivatives thereof from mercapto compounds and unsaturated compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/3855—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having sulfur
    • C08G18/3876—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having sulfur containing mercapto groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/64—Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63
    • C08G18/6453—Macromolecular compounds not provided for by groups C08G18/42 - C08G18/63 having sulfur
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L81/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of polysulfones; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L81/04—Polysulfides
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041—Lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Abstract

본 발명은 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법 및 이를 이용한 광학렌즈에 관한 것으로, 본 발명에서는 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하되, 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함함에 따라, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 동시에 가지는 광학재료용 수지 조성물을 제공한다. 또한, 상기 광학재료용 수지 조성물을 이용한 고아베수 및 고굴절률의 특성을 동시에 가지는 광학재료의 제조방법 및 광학렌즈를 제공한다.

Description

고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈{RESIN COMPOSITION FOR USE IN OPTICAL MATERIAL WITH HIGH ABBE'S NUMBER AND　HIGH REFRACTIVE INDEX, MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL MATERIAL USING IT, AND OPTICAL LENS USING IT}
본 발명은 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법 및 이를 이용한 광학렌즈에 관한 것이다.
플라스틱 광학재료는 경량하며 인성이 풍부하고 염색이 용이한 이점 등에 의해 그 사용이 증가하고 있으며, 그 중에서도 광학 렌즈로서의 활용도가 높다. 특히, 플라스틱 광학재료를 이용한 광학 렌즈에는 저비중성, 고투명성, 저황색도, 고내열성, 고강도 등의 물리적 특성과 고아베수, 고굴절률 등의 광학 성능이 동시에 요구됨에 따라, 물리적 특성과 광학 특성을 향상시키기 위한 다양한 광학재료용 수지 조성물이 개발되고 있다.
이에, 대한민국 등록특허 제10-1665831호에서는 폴리이소시아네이트, 폴리티올, 티올 및 촉매로 구성되어, 우수한 충격 강도와 경도를 가지면서도 굴절률이 높은 광학부품용 중합성 조성물에 대해 개시하고 있다. 또한, 대한민국 공개특허 제10-2011-0021371호에서는 폴리티올 화합물과 폴리이소시아네이트 화합물 또는 폴리티오이소시아네트 화합물을 포함하여, 투명하면서도 굴절률, 내열성, 성형성, 광투과도, 색균일성, 염색성, 아베수 등의 광학 특성이 향상된 수지 조성물 및 이를 이용한 광학렌즈에 대해 개시하고 있다.
그러나, 상기 특허와 같이 폴리이소시아네이트 및 폴리티올의 중합에 의해 제조된 티오우레탄 수지를 포함하는 종래의 광학재료용 수지 조성물은 광학재료로서 적합한 충격 강도, 경도 및 염색성을 가지나, 굴절률과 아베수가 충분하지 못한 문제가 있었다. 한편, 대한민국 공개특허 제10-2015-0102122호에서는 에피설파이드 화합물을 포함하여 고굴절률 특성을 구현하고자 하였으나, 굴절률은 향상된 반면에 여전히 아베수가 낮아 광학 특성이 충분하지 못한 문제가 있었다.
이에 따라, 우수한 물리적 특성과 함께 고아베수 및 고굴절률의 우수한 광학 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물에 대한 개발이 요구되고 있다.
대한민국 등록특허 제10-1665831호 대한민국 공개특허 제10-2011-0021371호 대한민국 공개특허 제10-2015-0102122호
본 발명의 첫 번째 목적은 우수한 물리적 특성과 함께 고아베수 및 고굴절률의 우수한 광학 특성을 가지는, 광학재료용 수지 조성물을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 두 번째 목적은 우수한 물리적 특성과 함께 고아베수 및 고굴절률의 우수한 광학 특성을 가지는, 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 세 번째 목적은 우수한 물리적 특성과 함께 고아베수 및 고굴절률의 우수한 광학 특성을 가지는, 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학렌즈를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 목적은 상기된 바와 같은 기술적 과제로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수 있다.
상기 첫 번째 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하며, 상기 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 제공한다.
상기 비닐설폰계 화합물은 상기 설폰일기의 알파 위치에 상기 비닐기를 포함할 수 있다.
상기 수지 조성물은 디이소시아네이트계 화합물을 더 포함할 수 있다.
상기 수지 조성물은 촉매를 더 포함할 수 있다.
상기 촉매는 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화될 수 있다.
상기 두 번째 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 제 1 항의 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법에 있어서, 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하는 수지 조성물을 제조하는 단계, 상기 수지 조성물을 몰드에 주입하는 단계 및 상기 몰드에 주입된 수지 조성물을 경화시키는 단계를 포함하며, 상기 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법을 제공한다.
상기 세 번째 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하며, 상기 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 경화시켜 얻은 광학렌즈를 제공한다.
본 발명의 광학재료용 수지 조성물은 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하되, 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함함에 따라, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 동시에 가질 수 있다.
또한, 본 발명의 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법에 따르면, 폴리티올 화합물 및 적어도 하나 이상의 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 비닐설폰계 화합물을 포함하는 수지 조성물을 제조하고, 이를 몰드에 주입한 후 경화시킴으로써, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 동시에 가지는 광학재료를 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학재료용 수지 조성물을 경화시켜 얻은 광학렌즈는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 동시에 가질 수 있어, 광학렌즈로서의 특성이 우수할 수 있다.
아래에서는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본 발명의 명세서 및 청구범위에 사용된 용어 또는 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정 해석되지 아니하며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명의 명세서 전체에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 발명의 명세서 전체에 있어서, "A 및/또는 B"는, A 또는 B, 또는 A 및 B를 의미한다.
본 발명의 명세서 전체에 있어서, "고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물"은 "광학재료용 수지 조성물" 또는 "수지 조성물"로 간략하게 호칭될 수 있다.
이하에서 본 발명을 구체적으로 설명하였으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에서는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에서는 폴리티올 화합물 및 적어도 하나 이상의 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 비닐설폰계 화합물을 포함함에 따라, 색분자지수가 낮은 설폰일기에 의해 고아베수의 특성을 가지면서도 설폰일기의 황에 의해 고굴절률의 특성을 동시에 가질 수 있는 광학재료용 수지 조성물을 제공한다.
폴리티올 화합물은 분자 내에 적어도 하나 이상의 황 원자를 포함한다. 예를 들어, 폴리티올 화합물은 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)-에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-{2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오}-프로판-1-티올, 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-{2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오}에틸티오)프로판-1-티올 및 티올에스테르 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.
본 실시예의 티올에스테르 화합물은 하나의 분자내에 티올기가 3개 존재하는 3가 티올에스테르 화합물을 일 수 있다. 예를 들어, 상기 티올에스테르 화합물은 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토프로피오네이트), 글리세롤 트리스(메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올클로로트리스(메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토아세테이트) 및 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토아세테이트)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.
또한, 본 실시예의 티올에스테르 화합물은 하나의 분자 내에 티올기가 4개 이상 존재하는 4가 이상의 티올에스테르 화합물 일 수 있다. 예를 들어, 상기 티올에스테르 화합물은 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토프로피오네이트)(PETMP), 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)(PETMA), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(메르캅토프로피오네이트)(BPEHMP), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(2-메르캅토아세테이트)(BPEHMA), 비스펜타에리트리톨헥사(2-메르캅토아세테이트)(BPEMA), 비스트리메틸올프로판테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트)(BTMPMP) 및 비스트리메틸올프로판테트라키스(2-메르캅토아세테이트)(BTMPMA)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.
바람직하게, 본 실시예의 폴리티올 화합물은 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올[GST] 및 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)[PETMA]으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 폴리티올 화합물은 상기 개시된 폴리티올 화합물 이외에, 공지된 모든 종류의 폴리티올 화합물을 포함할 수 있다.
비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함한다. 특히, 본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하되, 설폰일기의 알파 위치에 비닐기를 포함하는 것일 수 있다. 이에 따라, 설폰일기의 알파 위치에 형성된 비닐기와 폴리티올 화합물의 티올기가 Micheal 첨가반응을 함으로써, 중합될 수 있다.
본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 화학식 1 내지 14와 같을 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
[화학식 1]
Figure 112018016433998-pat00001
[화학식 2]
Figure 112018016433998-pat00002
[화학식 3]
Figure 112018016433998-pat00003
[화학식 4]
Figure 112018016433998-pat00004
[화학식 5]
Figure 112018016433998-pat00005
[화학식 6]
Figure 112018016433998-pat00006
[화학식 7]
Figure 112018016433998-pat00007
[화학식 8]
Figure 112018016433998-pat00008
[화학식 9]
Figure 112018016433998-pat00009
[화학식 10]
Figure 112018016433998-pat00010
[화학식 11]
Figure 112018016433998-pat00011
[화학식 12]
Figure 112018016433998-pat00012
[화학식 13]
Figure 112018016433998-pat00013
[화학식 14]
Figure 112018016433998-pat00014
상기 화학식에서 n은 1 이상의 정수이다. 또한, 상기 화학식에서 R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하고, 이들 각각은 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 ~ 6의 알킬 사슬형 탄화수소기, 또는 탄소수 3 ~ 6의 고리형 탄화수소기이다.
상기 화학식 1은 디비닐설폰(Divinyl sulfone)일 수 있으며, 화학식 6은 1,3-비스(비닐설포닐)벤젠[1,3-bis(vinylsulfonyl)benzene], 화학식 7은 1,4-비스(비닐설포닐)벤젠[1,4-bis(vinylsulfonyl)benzene], 화학식9는 2,3-비스(비닐설포닐)-1-프로판[2,3-bis(vinylsulfonyl)-1-propane], 화학식 10은 2-메틸-1,3-비스(비닐설포닐)-2-(비닐설포닐메틸)프로판[2-methyl-1,3-bis(vinylsulfonyl)-2-(vinylsulfonylmethyl)propane], 화학식 11은 2,3-비스(비닐설포닐)-1,3-부타디엔[2,3-bis(vinylsulfonyl)-1,3-butadiene], 화학식 12는 1,3-비스(비닐설포닐)-2,2-비스(비닐설포닐메틸)프로판[1,3-bis(vinylsulfonyl)-2,2-bis(vinylsulfonylmethyl)propane], 화학식 13은 1,3,5-트리스(3-(비닐설포닐)프로필)-1,3,5-트리아지네인-2,4,6,-트리온[1,3,5-tris(3-(vinylsulfonyl)propyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione]일 수 있다.
바람직하게, 본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 디비닐설폰(DVS), 비스비닐설포닐메탄(BVSM) 및 비스비닐설포닐에탄(BVSE)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. 더욱 바람직하게, 본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 디비닐설폰 및 비스비닐설포닐메탄을 포함하거나, 디비닐설폰 및 비스비닐설포닐에탄을 포함함으로써, 아베수를 더욱 향상시킬 수 있다.
본 실시예의 수지 조성물에서 폴리티올 화합물의 티올기 및 비닐설폰계 화합물의 비닐기는 1 : 1의 당량비로 반응될 수 있다. 즉, 티올기 및 비닐기가 1 : 1의 당량비로 반응될 때, 티올기와 비닐기가 모두 반응에 참여함에 따라, 물리적 특성이 향상되면서도 동시에 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가질 수 있다. 따라서, 본 실시예의 수지 조성물은 폴리티올 화합물의 티올기 및 비닐설폰계 화합물의 비닐기가 1 : 1의 당량비로 반응할 수 있도록, 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 적정한 함량으로 포함할 수 있다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 디이소시아네이트계 화합물을 더 포함할 수 있다.
디이소시아네이트계 화합물은 알킬렌 디이소시아네이트 화합물, 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 지환족 디이소시아네이트 화합물, 헤테로고리 디이소시아네이트 화합물 및 황을 함유한 디이소시아네이트 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
알킬렌 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 에틸렌디이소시아네이트, 트리메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 옥타메틸렌디이소시아네이트, 노나메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 데카메틸렌디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,3,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이토-4-이소시아네이토메틸옥탄, 2,5,7-트리메틸-1,8-디이소시아네이토-5-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-1,2-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-1,3-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-1,4-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-2,3-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-2,4-디이소시아네이트, 메틸리신디이소시아네이트, 리신트리이소시아네이트, 2-이소시아네이토에틸-2,6-디이소시아네이토헥사노에이트, 2-이소시아네이토프로필-2,6-디이소시아네이토헥사노에이트. 메시틸릴렌트리이소시아네이트 및 2,6-디(이소시아네이토메틸)푸란으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
방향족 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 2,4-톨릴렌디 이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸페닐4,4'-디이소시아네이트, 메타크실렌디이소시아네이트, 디아니시딘디이소시아네이트, 테트라메틸 크실렌디이소시아네이트 및 1,5-나프탈렌디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
지환족 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄디이소시아네이트, 2,2'-디메틸디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 비스(4-이소시아네이토-n-부틸리덴)펜타에리트리톨, 다이머산디이소시아네이트, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-5-이소시아네이토메틸비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3 -이소시아네이토프로필)-6-이소시아네이토메틸비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-5-이소시아네이토메틸-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-6-이소시아네이토메틸-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6 -(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-5-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 1,3,5-트리스(이소시아네이토메틸)-시클로헥산 및 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
헤테로고리 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸 티오펜-2,5-디이소시아네이트, 1,4-디티안-2,5-디이소시아네이트, 메틸 1,4-디티안-2,5-디이소시아네이트, 1,3-디티올란-4,5-디이소시아네이트, 메틸 1,3-디티올란-4,5-디이소시아네이트, 메틸 1,3-디티올란-2-메틸-4,5-디이소시아네이트, 에틸 1,3-디티올란-2,2-디이소시아네이트, 테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 에틸 테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸 테트라히드로티오펜-3,4-디이소시아네이트, 1,2-디이소티오시아네이토에탄, 1,3-디이소티오시아네이토프로판, 1,4-디이소티오시아네이토부탄, 1,6-디이소티오시아네이토헥산, p-페닐렌디이소프로필리덴디이소티오시아네이트 및 시클로헥산디이소티오시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
황을 함유한 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 4-이소시아네이토-4'-이소티오시아네이토디페닐술피드, 2-이소시아네이토-2'-이소티오시아네이토디에틸디술피드, 티오디에틸디이소시아네이트, 티오디프로필디이소시아네이트, 티오디헥실디이소시아네이트, 디메틸술폰디이소시아네이트, 디티오디메틸디이소시아네이트, 디티오디에틸디이소시아네이트, 디티오디프로필디이소시아네이트, 디시클로헥실술피-4,4'-디이소시아네이트 및 1-이소시아네이토메틸티아-2,3-비스(2-이소시아네이토에틸티아)프로판으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 더 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 디이소시아네이트계 화합물은 상기된 바에 제한되지 않으며, 공지된 모든 종류의 디이소시아네이트계 화합물이 적용될 수 있다.
한편, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물이 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물을 포함할 때, 티올기, 비닐기 및 이소시아네이트기가 반응에 참여할 수 있다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물에서 티올기의 당량수와 비닐기 및 이소시아네이트기의 혼합 당량수는 약 1 : 1의 비율인 것이 바람직할 수 있다. 상기 비닐기 및 이소시아네이트기의 혼합 당량수는 비닐기의 당량수와 이소시아네이트기의 당량수의 총 합을 의미할 수 있다. 이때, 비닐기 및 이소시아네이트기의 혼합 당량수에서 비닐기 및 이소시아네이트기의 당량비는 1 : 10 ~ 10 : 1일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 촉매를 더 포함할 수 있다.
본 실시예의 촉매는 폴리티올 화합물의 티올기와 비닐설폰계 화합물의 비닐기의 반응을 활성화시키는 역할을 하며, 상온에서는 비활성 상태이고 폴리티올 화합물의 존재하에서는 약 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되는 것일 수 있다.
기존의 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물의 반응에 사용된 염기촉매는 상온에서도 활성화되어 티올기와 비닐기의 반응을 활성화시킴으로써, 조성물이 균일하게 혼합되거나 성형 몰드에 주입되기 전에 겔 상태로 변하는 문제가 있었다. 이에 따라, 조성이 불균일하며, 성형이 어려운 문제가 있었다. 그러나, 본 실시예에서는 상온에서는 경화되지 않으며, 폴리티올 화합물의 존재하에서는 약 70 ℃의 온도에서 활성화되는 촉매를 포함함으로써, 균일한 조성을 가지는 광학재료를 형성할 수 있다. 이에 의해, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가질 수 있을 뿐 아니라 우수한 물리적 특성을 가질 수 있다.
본 실시예의 촉매는 상온에서는 촉매로 작용하지 않는 비활성 상태이며, 약 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되어 촉매로 작용하는 것이라면, 제한 없이 적용될 수 있다.
예를 들어, 본 실시예의 촉매는 폴리티올 화합물의 존재하에서는 이미다졸(Imidazole)로 변하는 카보닐 이미다졸(Carbonyl imidazole) 또는 설폰 이미다졸(Sulfone imidazole)일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 더 상세히, 본 실시예의 촉매는 이소포론(Isophorone)과 이미다졸(Imidazole)을 1 : 1로 반응시킨 이소포론-이미다졸 화합물일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 이때, 이소포론과 이미다졸을 1 : 1로 반응시킨 이소포론-이미다졸 화합물은 화학식 15와 같을 수 있으며, 상온에서는 화학식 15와 같은 이소포론-이미다졸 화합물(IPDI-IM)의 형태이고, 폴리티올 화합물의 존재하에서 약 70 ℃ 이상에서는 이미다졸로 형성되어, 활성화될 수 있다.
상기 카보닐 이미다졸은 카보닐기를 포함하는 이미다졸계 화합물을 의미하며, 설폰 이미다졸은 설폰일기를 포함하는 이미다졸계 화합물을 의미할 수 있다.
[화학식 15]
Figure 112018016433998-pat00015
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 촉매를 상기 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물의 총 중량 대비 0.001 ~ 0.01 배 포함할 수 있다. 바람직하게, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 촉매를 상기 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물의 총 중량 대비 0.001 ~ 0.005 배, 더욱 바람직하게는 0.001 ~ 0.003 배로 포함할 수 있다. 이때, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물이 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물을 포함할 때, 촉매를 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물의 총 중량 대비 0.001 ~ 0.01배 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 물리적 특성 및 광학 특성을 향상시키기 위한 공지된 모든 종류의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 안료, 자외서 흡수제, 광안정제, 산화 방지제, 색상 보정제, 반응 촉매, 경화제, 이형제, 중합개시제, 계면활성제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
본 발명에서는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예에서는 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하는 상기 광학재료용 수지 조성물을 제조하는 단계, 상기 수지 조성물을 몰드에 주입하는 단계 및 상기 몰드에 주입된 수지 조성물을 경화시키는 단계를 포함하며, 상기 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함함에 따라, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료의 제조방법을 제공한다.
(a) 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하는 상기 광학재료용 수지 조성물을 제조하는 단계
본 실시예의 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 포함하는 광학재료용 수지 조성물을 제조하는 단계에서는 폴리티올 화합물과 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 비닐설폰계 화합물을 반응기에 투입한 후, 상온에서 교반하여 혼합함으로써, 균일한 조성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 제조할 수 있다.
특히, 본 실시예에서는 상온에서는 비활성 상태이며, 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되는 촉매를 사용함으로써, 본 실시예의 (a) 단계의 광학재료용 수지 조성물은 겔화 또는 경화되지 않은 상태로 형성될 수 있다. 이에 의해, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 균일한 조성을 가질 수 있으면서도 본 실시예의 (b) 단계에서 몰드 내에 용이하게 주입될 수 있다.
본 실시예의 (a) 단계의 광학재료용 수지 조성물은 상기된 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물의 내용을 모두 포함한다.
폴리티올 화합물은 분자 내에 적어도 하나 이상의 황 원자를 포함한다. 예를 들어, 폴리티올 화합물은 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)-에탄, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)술피드, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-{2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오}-프로판-1-티올, 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸 에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-{2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오}에틸티오)프로판-1-티올, 및 티올에스테르 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.
본 실시예의 티올에스테르 화합물은 하나의 분자 내에 티올기가 3개 존재하는 3가 티올에스테르 화합물을 일 수 있다. 예를 들어, 상기 티올에스테르 화합물은 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토프로피오네이트), 글리세롤 트리스(메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올클로로트리스(메르캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판 트리스(메르캅토아세테이트) 및 트리메틸올에탄 트리스(메르캅토아세테이트)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.
또한, 본 실시예의 티올에스테르 화합물은 하나의 분자 내에 티올기가 4개 이상 존재하는 4가 이상의 티올에스테르 화합물 일 수 있다. 예를 들어, 상기 티올에스테르 화합물은 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토프로피오네이트)(PETMP), 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)(PETMA), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(메르캅토프로피오네이트)(BPEHMP), 비스펜타에리트리톨-에테르-헥사키스(2-메르캅토아세테이트)(BPEHMA), 비스펜타에리트리톨헥사(2-메르캅토아세테이트)(BPEMA), 비스트리메틸올프로판테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트)(BTMPMP) 및 비스트리메틸올프로판테트라키스(2-메르캅토아세테이트)(BTMPMA)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있다.
바람직하게, 본 실시예의 폴리티올 화합물은 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올[GST] 및 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트)[PETMA]으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 폴리티올 화합물은 상기 개시된 폴리티올 화합물 이외에, 공지된 모든 종류의 폴리티올 화합물을 포함할 수 있다.
비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 이상의 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함한다. 특히, 본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 적어도 하나 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하되, 설폰일기의 알파 위치에 비닐기를 포함하는 것일 수 있다. 이에 따라, 설폰일기의 알파 위치에 형성된 비닐기와 폴리티올 화합물의 티올기가 Micheal 첨가반응을 함으로써, 중합될 수 있다.
본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 화학식 1 내지 14와 같을 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
바람직하게, 본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 디비닐설폰(DVS), 비스비닐설포닐메탄(BVSM) 및 비스비닐설포닐에탄(BVSE)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. 더욱 바람직하게, 본 실시예의 비닐설폰계 화합물은 디비닐설폰 및 비스비닐설포닐메탄을 포함하거나, 디비닐설폰 및 비스비닐설포닐에탄을 포함함으로써, 아베수를 더욱 향상시킬 수 있다.
본 실시예의 수지 조성물에서 폴리티올 화합물의 티올기 및 비닐설폰계 화합물의 비닐기는 1 : 1의 당량비로 반응될 수 있다. 즉, 티올기 및 비닐기가 1 : 1의 당량비로 반응될 때, 티올기와 비닐기가 모두 반응에 참여함에 따라, 물리적 특성이 향상되면서도 동시에 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가질 수 있다. 따라서, 본 실시예의 수지 조성물은 폴리티올 화합물의 티올기 및 비닐설폰계 화합물의 비닐기가 1 : 1의 당량비로 반응할 수 있도록, 폴리티올 화합물 및 비닐설폰계 화합물을 적정한 함량으로 포함할 수 있다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 디이소시아네이트계 화합물을 더 포함할 수 있다.
디이소시아네이트계 화합물은 알킬렌 디이소시아네이트 화합물, 방향족 디이소시아네이트계 화합물, 지환족 디이소시아네이트 화합물, 헤테로고리 디이소시아네이트 화합물 및 황을 함유한 디이소시아네이트 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
알킬렌 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 에틸렌디이소시아네이트, 트리메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 옥타메틸렌디이소시아네이트, 노나메틸렌디이소시아네이트, 2,2-디메틸펜탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 데카메틸렌디이소시아네이트, 부텐디이소시아네이트, 1,3-부타디엔-1,4-디이소시아네이트, 2,3,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,6,11-운데칸트리이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌트리이소시아네이트, 1,8-디이소시아네이토-4-이소시아네이토메틸옥탄, 2,5,7-트리메틸-1,8-디이소시아네이토-5-이소시아네이토메틸옥탄, 비스(이소시아네이토에틸)카보네이트, 비스(이소시아네이토에틸)에테르, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-1,2-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-1,3-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-1,4-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-2,3-디이소시아네이트, 1,4-부틸렌글리콜디프로필에테르-2,4-디이소시아네이트, 메틸리신디이소시아네이트, 리신트리이소시아네이트, 2-이소시아네이토에틸-2,6-디이소시아네이토헥사노에이트, 2-이소시아네이토프로필-2,6-디이소시아네이토헥사노에이트. 메시틸릴렌트리이소시아네이트 및 2,6-디(이소시아네이토메틸)푸란으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
방향족 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 2,4-톨릴렌디 이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트, 3,3'-디메틸페닐4,4'-디이소시아네이트, 메타크실렌디이소시아네이트, 디아니시딘디이소시아네이트, 테트라메틸 크실렌디이소시아네이트 및 1,5-나프탈렌디이소시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
지환족 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로[5,2,1,02,6]데칸, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]헵탄, 이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아네이토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄디이소시아네이트, 2,2'-디메틸디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 비스(4-이소시아네이토-n-부틸리덴)펜타에리트리톨, 다이머산디이소시아네이트, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-5-이소시아네이토메틸비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3 -이소시아네이토프로필)-6-이소시아네이토메틸비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-5-이소시아네이토메틸-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-6-이소시아네이토메틸-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-3-(3-이소시아네이토프로필)-6 -(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-5-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 2-이소시아네이토메틸-2-(3-이소시아네이토프로필)-6-(2-이소시아네이토에틸)-비시클로[2,2,1]-헵탄, 1,3,5-트리스(이소시아네이토메틸)-시클로헥산 및 디시클로헥실메탄-4,4-디이소시아네이트(H12MDI)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
헤테로고리 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸 티오펜-2,5-디이소시아네이트, 1,4-디티안-2,5-디이소시아네이트, 메틸 1,4-디티안-2,5-디이소시아네이트, 1,3-디티올란-4,5-디이소시아네이트, 메틸 1,3-디티올란-4,5-디이소시아네이트, 메틸 1,3-디티올란-2-메틸-4,5-디이소시아네이트, 에틸 1,3-디티올란-2,2-디이소시아네이트, 테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 에틸 테트라히드로티오펜-2,5-디이소시아네이트, 메틸 테트라히드로티오펜-3,4-디이소시아네이트, 1,2-디이소티오시아네이토에탄, 1,3-디이소티오시아네이토프로판, 1,4-디이소티오시아네이토부탄, 1,6-디이소티오시아네이토헥산, p-페닐렌디이소프로필리덴디이소티오시아네이트 및 시클로헥산디이소티오시아네이트로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
황을 함유한 디이소시아네이트 화합물은, 예를 들어, 4-이소시아네이토-4'-이소티오시아네이토디페닐술피드, 2-이소시아네이토-2'-이소티오시아네이토디에틸디술피드, 티오디에틸디이소시아네이트, 티오디프로필디이소시아네이트, 티오디헥실디이소시아네이트, 디메틸술폰디이소시아네이트, 디티오디메틸디이소시아네이트, 디티오디에틸디이소시아네이트, 디티오디프로필디이소시아네이트, 디시클로헥실술피-4,4'-디이소시아네이트 및 1-이소시아네이토메틸티아-2,3-비스(2-이소시아네이토에틸티아)프로판으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 더 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 디이소시아네이트계 화합물은 상기된 바에 제한되지 않으며, 공지된 모든 종류의 디이소시아네이트계 화합물이 적용될 수 있다.
한편, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물이 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물을 포함할 때,티올기, 비닐기 및 이소시아네이트기가 반응에 참여할 수 있다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물에서 티올기의 당량수와 비닐기 및 이소시아네이트기의 혼합 당량수는 약 1 : 1의 비율인 것이 바람직할 수 있다. 상기 비닐기 및 이소시아네이트기의 혼합 당량수는 비닐기의 당량수와 이소시아네이트기의 당량수의 총 합을 의미할 수 있다. 이때, 비닐기 및 이소시아네이트기의 혼합 당량수에서 비닐기 및 이소시아네이트기의 당량비는 1 : 10 ~ 10 : 1일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 촉매를 더 포함할 수 있다.
본 실시예의 촉매는 폴리티올 화합물의 티올기와 비닐설폰계 화합물의 비닐기의 반응을 활성화시키는 역할을 하며, 상온에서는 비활성 상태이고 폴리티올 화합물의 존재하에서는 약 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되는 것일 수 있다.
기존의 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물의 반응에 사용된 염기촉매는 상온에서도 활성화되어 티올기와 비닐기의 반응을 활성화시킴으로써, 조성물이 균일하게 혼합되거나 성형 몰드에 주입되기 전에 겔 상태로 변하는 문제가 있었다. 이에 따라, 조성이 불균일하며, 성형이 어려운 문제가 있었다. 그러나, 본 실시예에서는 상온에서는 경화되지 않으며, 폴리티올 화합물의 존재하에서는 약 70 ℃의 온도에서 활성화되는 촉매를 포함함으로써, 균일한 조성을 가지는 광학재료를 형성할 수 있다. 이에 의해, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가질 수 있을 뿐 아니라 우수한 물리적 특성을 가질 수 있다.
본 실시예의 촉매는 상온에서는 촉매로 작용하지 않는 비활성 상태이며, 약 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되어 촉매로 작용하는 것이라면, 제한 없이 적용될 수 있다.
예를 들어, 본 실시예의 촉매는 폴리티올 화합물의 존재하에서는 이미다졸(Imidazole)로 변하는 카보닐 이미다졸(Carbonyl imidazole) 또는 설폰 이미다졸(Sulfone imidazole)일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 더 상세히, 본 실시예의 촉매는 이소포론(Isophorone)과 이미다졸(Imidazole)을 1 : 1로 반응시킨 이소포론-이미다졸 화합물일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 이때, 이소포론과 이미다졸을 1 : 1로 반응시킨 이소포론-이미다졸 화합물은 화학식 15와 같을 수 있으며, 상온에서는 화학식 15와 같은 이소포론-이미다졸 화합물(IPDI-IM)의 형태이고, 폴리티올 화합물의 존재하에서 약 70 ℃ 이상에서는 이미다졸로 형성되어, 활성화될 수 있다.
상기 카보닐 이미다졸은 카보닐기를 포함하는 이미다졸계 화합물을 의미하며, 설폰 이미다졸은 설폰일기를 포함하는 이미다졸계 화합물을 의미할 수 있다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 촉매를 상기 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물의 총 중량 대비 0.001 ~ 0.01 배 포함할 수 있다. 바람직하게, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 촉매를 상기 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물의 총 중량 대비 0.001 ~ 0.005 배, 더욱 바람직하게는 0.001 ~ 0.003 배로 포함할 수 있다. 이때, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물이 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물을 포함할 때, 촉매를 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물의 총 중량 대비 0.001 ~ 0.01배 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.
본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 물리적 특성 및 광학 특성을 향상시키기 위한 공지된 모든 종류의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물은 안료, 자외서 흡수제, 광안정제, 산화 방지제, 색상 보정제, 반응 촉매, 경화제, 이형제, 중합개시제, 계면활성제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
(b) 수지 조성물을 몰드에 주입하는 단계
본 실시예의 (b) 수지 조성물을 몰드에 주입하는 단계에서는 상기 (a) 단계에서 제조된 광학재료용 수지 조성물을 특정 형태의 몰드에 주입한다. 이때, 몰드는 제조하고자 하는 광학재료의 형상에 맞게 다양한 형태로 형성될 수 있다. 특히, 본 실시예의 수지 조성물은 상온에서는 비활성 상태이며 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되는 촉매를 포함함으로써, 본 실시예의 (b) 단계에서는 겔화 또는 경화되지 않은 상태 수지 조성물을 성형 몰드에 용이하게 주입할 수 있다.
(c) 몰드에 주입된 수지 조성물을 경화시키는 단계
본 실시예의 (c) 몰드에 주입된 수지 조성물을 경화시키는 단계에서는 몰드에 열을 가함으로써, 몰드 내에 수지 조성물의 중합 반응을 유도하여, 수지 조성물을 경화시킬 수 있다. 더 상세히, 본 실시예의 (c) 단계에서는 몰드에 주입된 수지 조성물을 약 70 ℃ 이상의 온도로 가열시킴으로써, 촉매를 활성화시켜 티올기와 비닐기 또는 티올기, 비닐기 및 이소시아네이트기의 열 중합 반응을 유도할 수 있다. 이때, 몰드에 주입된 수지 조성물의 온도를 약 70 ℃ 이상의 온도로 가열시키기 위해, 몰드는 70 ℃ 이상의 온도로 가열될 수 있다.
이어서, 몰드에 주입된 수지 조성물을 경화시키고 이를 상온으로 냉각시킨 후 몰드로부터 분리함으로써, 광학재료를 얻을 수 있다.
이때, 광학재료는 그 자체로 활용될 수 있으며, 가열, 코팅, 연마 등의 후처리를 실시한 후 광학재료로 활용될 수 있다.
본 실시예의 광학재료는 안경렌즈, 카메라렌즈 등의 광학렌즈, 광파이프, 광디스크, 자기디스크, 기록매체 기관, 착색필트, 적외선 흡수필터, 플라스틱 가공품, 디스플레이, LED, 광소자 등일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 상기 광학재료는 공지된 모든 종류의 광학재료를 포함할 수 있다.
본 발명에서는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학렌즈를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에서는 폴리티올 화합물 및 적어도 하나 이상의 설폰일기와 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 비닐설폰계 화합물을 포함하는 광학재료용 수지 조성물을 경화시켜 얻음으로써, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 동시에 가지는 광학렌즈를 제공한다.
본 실시예의 광학렌즈는 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물을 중합한 다음 이를 열경화시켜 얻을 수 있다. 더 상세히, 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물을 중합시킨 다음, 질소를 불어 내부 공기를 제거하고, 감압교반을 실시한 후 감압 탈포하여 몰드에 주입한다. 상기 몰드에 주입된 수지 조성물을 특정 온도로 가열하여 경화시킨 후, 이를 냉각시켜 몰드로부터 고형물을 분리시킴으로써, 광학렌즈를 얻을 수 있다.
본 실시예의 광학렌즈에는 광학특성을 향상시키기 위한 하드코팅 또는 멀티코팅이 실시될 수 있다.
본 실시예의 광학렌즈는 상기된 본 실시예의 광학재료용 수지 조성물의 내용을 모두 포함한다.
이하 실시예, 비교예, 및 실험예를 통하여 본 발명의 본 발명에서는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법 및 이를 이용한 광학렌즈에 대해 구체적으로 설명하기로 한다. 이들 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이므로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것으로 해석되지는 않는다.
실시예 1 내지 6
표 1의 조성에 따라, 반응기에 폴리티올 화합물, 이형제, 촉매를 투입하여 상온에서 약 20 분간 교반한 후, 비닐설폰계 화합물(또는 디이소시아네이트계 화합물)을 추가로 투입하고 상온에서 약 20 분간 교반함으로써, 균일한 상태의 수지 조성물을 제조하였다.
상기 수지 조성물을 약 1 시간 동안 감압탈포(1 torr)한 후, 질소를 채웠다. 상기에 따라 감압탈포된 수지 조성물을 광학렌즈 제조용 유리 몰드에 주입한 후 오븐에 투입하였다.
이어서, 약 20 시간 동안 오븐의 온도를 25 ℃에서 130 ℃로 승온시킨 후, 130 ℃에서 2 시간 유지하였다. 이 후, 약 1 시간 동안 상온으로 냉각시킨 다음, 유리 몰드로부터 1차 광학렌즈를 분리한 뒤, 1차 광학렌즈를 130 ℃에서 약 4 시간 동안 가열함으로써, 광학렌즈(두께 1.5 mm)를 제조하였다.
실시예 (단위 : g) 1 2 3 4 5 6
폴리티올 화합물 GST 59.5 - 50.5 - 52.1 51.1
PETMA - 64.5 - 56.0 - -
비닐설폰계 화합물 DVS 40.5 35.5 17.2 15.3 18.0 17.6
BVSM - - - - 29.9 -
BVSE - - - - - 31.3
디이소시아네이트계
화합물		 IPDI - - 32.3 28.7 - -
촉매 BTC - - 0.1 0.1 - -
IPDI-IM 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1 0.1
이형제 ZELEC UN - - - - - -
RA-10 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
*GST: 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올 [2,3-Bis(2-mercaptoethylthio)propane-1-thiol]
*PETMA: 펜타에리트리톨테트라키스(메르캅토아세테이트) [Pentaerythritol Tetrakis(mercaptoacetate)]
*DVS: 디비닐설폰(divinylsulfone)
*BVSM: 비스(비닐설포닐)메탄(Bis(vinylsulfonyl)methane)
*BVSE: 비스(비닐설포닐)에탄(1,2-bis(vinylsulfonyl)ethane)
*IPDI: 이소포론디이소시아네이트(Isophorone diisocyanate)
*IPDI-IM: 이소포론-이미다졸 1:1 반응물(Isophorone diisocyanate-imidazole)
*BTC: 디부틸틴디클로라이드(dibutyltin dichloride)
*ZELEC UN(상품명): Stepan 사에서 제조하는 산성 인산에스테르화합물
*RA-10: Union continental 사의 Phosphorodithioic acid alkyl ester
비교예 1 내지 2
표 2의 조성에 따라 제조된 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일하게 광학렌즈를 제조하였다.
비교예 (단위 : g) 1 2
폴리티올 화합물 GST 43.9 -
PETM - 49.3
비닐설폰계 화합물 DVS - -
BVSM - -
BVSE - -
디이소시아네이트계 화합물 IPDI 56.1 50.7
촉매 BTC 0.1 0.1
IPDI-IM - -
이형제 ZELEC UN 0.5 0.5
RA-10 - -
[ 실험예 ]
실험예 1 : 아베수 측정
실시예 및 비교예에 따른 광학렌즈의 아베수를 측정하여 하기 표 3에 개시하였다. 아베수는 Atago 사의 IT 및 DR-M4 모델인 아베굴절계를 이용하여, 약 20 ℃에서 측정하였다.
아베수 (v) 아베수 (v)
실시예 1 44.3 실시예 5 45.5
실시예 2 47.8 실시예 6 46.1
실시예 3 42.3 비교예 1 39.7
실시예 4 48.4 비교예 2 43.4
표 3을 보면, 본 실시예에 따를 경우에는 아베수가 42 이상으로 매우 높음을 확인할 수 있다. 더 상세히, 폴리티올 화합물과 디이소시아네이트계 화합물을 포함하는 비교예 보다 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물 또는 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물을 포함하는 실시예의 경우 아베수가 현저히 높아짐을 확인할 수 있다. 즉, 비닐설폰계 화합물을 포함함으로써, 아베수를 향상시킬 수 있음을 의미한다.
또한, 실시예 1 내지 6 중에서도 폴리티올 화합물로 GST 보다 PETM 사용한 경우에 아베수가 높아짐을 확인할 수 있다.
또한, 폴리티올 화합물로 GST를 사용하는 실시예 1, 3, 5 및 6 중에서 비닐설폰계 화합물로 디비닐설폰만을 포함하는 경우 보다, 디비닐설폰과 비스비닐설포닐메탄을 포함하거나 디비닐설폰과 비스비닐설포닐에탄을 포함하는 경우에 아베수가 향상됨을 확인할 수 있다. 이는 비닐설폰계 화합물을 사용하되, 동일한 당량의 비닐기를 갖는 범위 내에서, 복수 개의 비닐설폰계 화합물을 혼합하여 사용함으로써, 아베수가 더욱 향상될 수 있음을 의미한다.
실험예 2 : 굴절률 측정
실시예 및 비교예에 따른 광학렌즈의 굴절률을 측정하여 하기 표 4에 개시하였다. 굴절률은 Atago 사의 IT 및 DR-M4 모델인 아베굴절계를 이용하여, 약 20 ℃에서 측정하였다.
굴절률(nE, 20℃) 굴절률(nE, 20℃)
실시예 1 1.65 실시예 5 1.64
실시예 2 1.57 실시예 6 1.63
실시예 3 1.63 비교예 1 1.59
실시예 4 1.56 비교예 2 1.54
표 4를 보면, 본 실시예에 따를 경우에는 비교예에 비해 굴절률이 높음을 확인할 수 있다. 더 상세히, 폴리티올 화합물과 디이소시아네이트계 화합물을 포함하는 비교예 보다 폴리티올 화합물과 비닐설폰계 화합물 또는 폴리티올 화합물, 비닐설폰계 화합물 및 디이소시아네이트계 화합물을 포함하는 실시예의 경우 굴절률이 현저히 높아짐을 확인할 수 있다. 즉, 비닐설폰계 화합물을 포함함으로써, 굴절률을 향상시킬 수 있음을 의미한다.
또한, 폴리티올 화합물로 PETM 보다 GST를 사용할 경우에 높은 굴절률을 보임을 확인할 수 있다.
상기 실험예 1 및 2의 결과를 종합하면, 본 실시예에 따를 경우에는 42.3 이상의 높은 아베수와 1.56 이상의 높은 굴절률을 동시에 구현해낼 수 있음을 확인할 수 있다.
특히, 실시예 1, 3, 5 및 6에 따르면, 42.3 이상의 높은 아베수와 1.63 이상의 높은 굴절율을 동시에 구현해낼 수 있음을 확인할 수 있는바, 본 실시예에서는 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물 및 광학렌즈를 제공할 수 있음을 의미한다.
전술한 바와 같이, 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (7)

  1. 폴리티올 화합물;
    적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 비닐설폰계 화합물; 및
    촉매로서 카보닐기를 포함하는 이미다졸계 화합물;을 포함하는 것을 특징으로 하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 비닐설폰계 화합물은
    상기 설폰일기의 알파 위치에 상기 비닐기를 포함하는 것을 특징으로 하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 조성물은
    디이소시아네이트계 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 촉매는 70 ℃ 이상의 온도에서 활성화되는 것을 특징으로 하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물.
  6. 제 1 항의 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법에 있어서,
    폴리티올 화합물, 적어도 하나 이상의 설폰일기 및 적어도 둘 이상의 비닐기를 포함하는 비닐설폰계 화합물, 및 촉매로서 카보닐기를 포함하는 이미다졸계 화합물을 포함하는 제 1 항의 수지 조성물을 제조하는 단계;
    상기 수지 조성물을 몰드에 주입하는 단계; 및
    상기 몰드에 주입된 수지 조성물을 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물을 이용한 광학재료의 제조방법.
  7. 제 1 항의 수지 조성물을 경화시켜 얻은 광학렌즈.
KR1020180018578A 2018-02-14 2018-02-14 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈 KR101998638B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180018578A KR101998638B1 (ko) 2018-02-14 2018-02-14 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180018578A KR101998638B1 (ko) 2018-02-14 2018-02-14 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101998638B1 true KR101998638B1 (ko) 2019-07-10

Family

ID=67254770

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180018578A KR101998638B1 (ko) 2018-02-14 2018-02-14 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101998638B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3960791A4 (en) * 2019-10-31 2022-08-24 Lg Chem, Ltd. CURABLE COMPOSITION AND OPTICAL MATERIAL COMPRISING IT
WO2024003383A1 (en) * 2022-06-30 2024-01-04 Essilor International Method of fast curing a polythiourethane based substrate using a delayed-action catalyst

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110021371A (ko) 2009-08-26 2011-03-04 장동규 광 조사에 의해 얻은 광학렌즈용 폴리티올 화합물을 포함한 수지 조성물 및 이를 이용한 광학렌즈
KR20150102122A (ko) 2006-09-19 2015-09-04 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 광학재료용 수지 조성물 및 그것을 사용한 광학재료
KR20160106659A (ko) * 2014-02-06 2016-09-12 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 광학 재료용 중합성 조성물 및 광학 재료
KR101665831B1 (ko) 2011-11-18 2016-10-12 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 중합성 조성물, 이로부터 얻어진 광학부품 및 그 광학부품의 제조방법
WO2017077927A1 (ja) * 2015-11-04 2017-05-11 三菱レイヨン株式会社 硬化性組成物、接着剤、コーティング層を有する物品、繊維強化複合材料および硬化性組成物キット

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150102122A (ko) 2006-09-19 2015-09-04 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 광학재료용 수지 조성물 및 그것을 사용한 광학재료
KR20110021371A (ko) 2009-08-26 2011-03-04 장동규 광 조사에 의해 얻은 광학렌즈용 폴리티올 화합물을 포함한 수지 조성물 및 이를 이용한 광학렌즈
KR101665831B1 (ko) 2011-11-18 2016-10-12 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 중합성 조성물, 이로부터 얻어진 광학부품 및 그 광학부품의 제조방법
KR20160106659A (ko) * 2014-02-06 2016-09-12 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤 광학 재료용 중합성 조성물 및 광학 재료
WO2017077927A1 (ja) * 2015-11-04 2017-05-11 三菱レイヨン株式会社 硬化性組成物、接着剤、コーティング層を有する物品、繊維強化複合材料および硬化性組成物キット

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3960791A4 (en) * 2019-10-31 2022-08-24 Lg Chem, Ltd. CURABLE COMPOSITION AND OPTICAL MATERIAL COMPRISING IT
WO2024003383A1 (en) * 2022-06-30 2024-01-04 Essilor International Method of fast curing a polythiourethane based substrate using a delayed-action catalyst

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6077146B2 (ja) ウレタン系光学材料用樹脂の製造方法、樹脂組成物、及び製造された光学材料
JP5026432B2 (ja) 光学材料用樹脂の製造方法
JP5658808B2 (ja) 光学材料用重合性組成物、光学材料および光学材料の製造方法
KR101349273B1 (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법과 그 중합성 조성물
KR101735751B1 (ko) 에피설파이드 화합물의 보관방법과 이 에피설파이드 화합물을 이용한 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20110063847A (ko) 광학 재료용 중합성 조성물, 광학 재료 및 광학 재료의 제조방법
JP2015533874A (ja) チオウレタン系光学材料の製造方法
KR20150014418A (ko) 고리개환을 통해 사슬연장된 폴리티올화합물과 그 제조 방법 및 이를 이용한 우레탄계 광학재료용 수지 조성물
KR101998638B1 (ko) 고아베수 및 고굴절률의 특성을 가지는 광학재료용 수지 조성물, 이를 이용한 광학재료의 제조방법, 및 이를 이용한 광학렌즈
KR101487709B1 (ko) 티오에폭시계 광학재료용 중합성 조성물과 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20170018305A (ko) 새로운 티올화합물과 이를 포함하는 중합성 조성물
KR101464943B1 (ko) 티오에폭시계 광학재료용 폴리티올화합물의 제조방법과 이를 포함하는 티오에폭시계 광학재료용 공중합체 조성물
KR101831889B1 (ko) 플라스틱 렌즈용 폴리티올 조성물
KR20180120651A (ko) 티오에폭시 화합물을 포함하는 광학재료용 중합성 조성물과 광학재료의 제조방법
JP4684427B2 (ja) 新規なポリチオール
KR20150008829A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 주형중합 방법과 그 중합성 조성물
KR20190079956A (ko) 광학 재료용 중합성 조성물
KR20130086007A (ko) 티오에폭시계 공중합체 조성물과 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20190057237A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
JP4977309B2 (ja) 光学部品用光重合性組成物およびその用途
KR20190060706A (ko) 광학재료용 지방족 폴리싸이올 화합물과 이를 이용한 광학재료 조성물
KR102150592B1 (ko) 광학 재료용 중합성 조성물
KR20190057238A (ko) 티오에폭시계 광학재료의 제조방법
KR20180090721A (ko) 플라스틱 렌즈용 폴리티올 조성물
KR20150030571A (ko) 티오우레탄계 광분산용 플라스틱 렌즈 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant