KR101973716B1 - 신규활성제를 포함하는 솔더링 플럭스 - Google Patents
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- 238000005476 soldering Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 230000004907 flux Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 239000012190 activator Substances 0.000 title claims description 21
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims abstract description 31
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 claims description 21
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- SUGXTLFWYRUSKF-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarboxylic acid;octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN.OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O SUGXTLFWYRUSKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- -1 octylamine Octylamine Adipate Chemical compound 0.000 claims description 5
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 claims description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 claims description 4
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 claims description 4
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- QOHWJRRXQPGIQW-UHFFFAOYSA-N cyclohexanamine;hydron;bromide Chemical compound Br.NC1CCCCC1 QOHWJRRXQPGIQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- KJQVUXYMJTWAAB-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCN.OC(CCCCC(O)=O)=O Chemical compound CCCCCCCCN.OC(CCCCC(O)=O)=O KJQVUXYMJTWAAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- UUIVRYOXCOYJDB-UHFFFAOYSA-N 2-carboxyphenolate octylazanium Chemical compound C(C=1C(O)=CC=CC1)(=O)[O-].C(CCCCCCC)[NH3+] UUIVRYOXCOYJDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- QAUCMZPPLIUCQH-UHFFFAOYSA-N hexadecanoate octylazanium Chemical compound CCCCCCCC[NH3+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O QAUCMZPPLIUCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- VXLKHXORYMBCPZ-UHFFFAOYSA-N octadecanoate;octylazanium Chemical compound CCCCCCCC[NH3+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O VXLKHXORYMBCPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- 229910020220 Pb—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HBXNJMZWGSCKPW-UHFFFAOYSA-N octan-2-amine Chemical compound CCCCCCC(C)N HBXNJMZWGSCKPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000003784 tall oil Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/22—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
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- B23K35/36—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
- B23K35/3612—Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
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- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
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- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/60—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
- H01L2021/60007—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving a soldering or an alloying process
- H01L2021/60022—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation involving a soldering or an alloying process using bump connectors, e.g. for flip chip mounting
- H01L2021/60045—Pre-treatment step of the bump connectors prior to bonding
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Abstract
본 발명은 신규활성제를 포함하는 솔더링 플럭스에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 신규활성제를 첨가하여 솔더링 시 홀채움, 젖음성 및 퍼짐성이 개선된 솔더링 플럭스에 관한 것이다.
Description
본 발명은 신규활성제를 포함하는 솔더링 플럭스에 관한 것으로, 더욱 상세하게는, 신규활성제를 첨가하여 솔더링 시 홀채움, 젖음성 및 퍼짐성이 개선된 솔더링 플럭스에 관한 것이다.
전기, 전자, 정밀기기나 반도체 산업에 사용되는 장치에서 부품의 경박단소 및 친환경 규제 등에 의해 솔더링(soldering)은 필수적인 접합 기술이 되었으며, 이러한 솔더링에 반드시 사용하여야 하는 플럭스의 역할도 대단히 중요해졌다. 솔더링은 접합공정의 일종으로서, 450℃ 이하의 온도에서 2개의 이종재료를 저융점의 삽입 금속으로 녹여서 접합하는 접합 방식이다. 납땜이라고도 알려져 있는 이 접합법은 Pb-Sn 제조 공정으로 오랫동안 처리되어 왔으나, 납의 유해성으로 인한 사용 규제화 방침에 따라 최근 무연(無鉛, Pb free) 솔더 또는 인체 유해 원소가 포함되지 않은 솔더의 개발이 활발히 진행되고 있다. 한편, 솔더링에 사용되는 플럭스의 역할은 (1) 솔더링하고자 하는 모재(母材) 표면의 오염물이나 산화막과 반응하여 이를 제거하는 것, (2) 금속 산화물과 반응하는 동안 형성된 금속염을 제거하는 것, (3) 모재 표면이나 솔더 표면에 공기차단막을 형성하여 산화를 방지하는 것, (4) 솔더링이 진행되는 동안 가해지는 열이 골고루 퍼지도록 하는 것, (5) 솔더와 모재면 사이의 표면장력을 줄여서 솔더성(solderability)을 좋게 하는 것을 포함한다. 이를 위해서는 솔더링 플럭스의 홀채움, 필렛형성, 젖음성 및 퍼짐성이 개선되어야 한다.
플럭스로는 종래 로진(rosin, 송진)을 주성분으로 한 로진계 플럭스를 주로 사용하였다. 로진은 소나무 수액을 통칭하는 말로서, 그 제조방법에 따라 크게 GUM ROSIN, WOOD ROSIN, TALL-OIL ROSIN 등으로 나뉘고, 여기에 탈수소, 수소첨가, 중합, 말단에 산(acid)의 부가, 산의 제거 등을 통해 보다 특성화된 제품이 된다. 로진계 플럭스에서는 로진만으로는 활성력이 모자라기 때문에, 활성제로 유기아민의 할로겐화 수소산염, 유기산, 유기산과 유기아민 염을 첨가한다.
기존의 플럭스에서 로진에 첨가되는 활성제는 플럭스의 젖음성 및 퍼짐성을 크게 개선시키지 못하여 솔더링 시 미납, 단락, 핀홀의 홀채움 불량 등 여러 가지 불량이 발생되어 공정 개선의 필요성이 요구되어 왔다.
한편, 솔더링 플럭스에 관한 종래기술로는 대한민국등록특허 제10-1163427호가 있다.
본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 신규활성제를 적용하여 솔더링 시 홀채움, 필렛형성, 젖음성 및 퍼짐성이 개선된 솔더링 플럭스를 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 하나의 양상은, 로진(Rosin) 10 내지 19중량%, 알코올(Alcohol) 70 내지 89중량% 및 활성제 1.1 내지 15중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 신규활성제를 포함하는 솔더링 플럭스를 제공한다.
이때, 상기 활성제는 할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 0.1 내지 5중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 아디핀산(Adipic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 1로 표시되는 옥틸아민아디페이트(Octylamine Adipate) 1 내지 10중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[화학식 1]
또한, 상기 활성제는 할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 0.1 내지 5중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 팔미트산(Palmitic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 2로 표시되는 옥틸아민팔미테이트(Octylamine Palmitate) 1 내지 10중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[화학식 2]
또한, 상기 활성제는 할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 0.1 내지 5중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 스테아린산(Stearic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 3으로 표시되는 옥틸아민스테아레이트(Octylamine Stearate) 1 내지 10중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[화학식 3]
또한, 상기 활성제는 할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 0.1 내지 5중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 살리실산(Salicylic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 4로 표시되는 옥틸아민살리실레이트(Octylamine Salicylate) 1 내지 10중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[화학식 4]
또한, 상기 활성제는 할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 0.1 내지 5중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 시트르산(Citric Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 5로 표시되는 옥틸아민시트레이트(Octylamine Citrate) 1 내지 10중량%를 포함하는 것을 특징으로 한다.
[화학식 5]
본 발명에 따른 신규 활성제를 포함하는 솔더링 플럭스는 솔더링 플럭스의 홀채움, 젖음성 및 퍼짐성을 개선시킬 수 있는 신규 활성제를 첨가하여 솔더링 공정의 효율성을 증대시키고, 생산제품의 품질을 개선시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 첨가되는 신규활성제의 종류에 따라 활성온도가 다양하여 다양한 공정(저온 솔더링 공정, 고온 솔더링 공정)에 적용이 가능한 효과가 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
이하, 본 발명의 일실시형태에 대해서 상세하게 설명한다.
다만 발명의 요지와 무관한 일부 구성은 생략 또는 압축할 것이나, 생략된 구성이라고 하여 반드시 본 발명에서 필요가 없는 구성은 아니며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 결합되어 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 신규 활성제를 포함하는 솔더링 플럭스는 솔더링 플럭스에 신규 활성제를 첨가하여 솔더링 시 홀업, 필렛형성, 퍼짐성 및 젖음성을 개선한 것이다.
이를 위해 본 발명에서는 솔더링 플럭스의 조성물로서 로진(Rosin) 10 내지 19중량%, 알코올 70 내지 89중량%, 활성제 1.1 내지 15중량%를 포함한다.
아래 표는 본 발명의 솔더링 플럭스의 조성을 중량%로 표시한 것이다.
단위 (중량%) |
항목 | 실시예1 | 실시예2 | 실시예3 | 실시예4 | 실시예5 | 비교예1 |
FLUX |
Rosin | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 | 15 |
Alcohol | 82 | 81 | 82 | 81 | 82 | 80 | |
Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | |
Succinic Acid(활성제) | - | - | - | - | - | 4 | |
Octylamine Adipate(신규활성제) | 2 | - | - | - | - | - | |
Octylamine Palmitate(신규활성제) | - | 3 | - | - | - | - | |
Octylamine Stearate(신규활성제) | - | - | 2 | - | - | - | |
Octylamine Salicylate(신규활성제) | - | - | - | 3 | - | - | |
Octylamine Citrate(신규활성제) | - | - | - | - | 2 | - |
표 1에 기재된 바와 같이, 로진을 포함하는 알콜계의 솔벤트에 할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 및 신규활성제를 물리적 또는 화학적으로 완전 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
이때, 활성제는 -COOH(카르복시기)를 갖는 유기산계, -NH₂(아민기)를 갖는 화합물 및 할로겐이 포함된 할로겐 화합물을 포함하는 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상을 사용할 수 있다.
활성제 비율의 경우, Cyclohexylamine Hydrobromide(할로겐 화합물, 활성제) 0.1 내지 5중량% 및 신규활성제 1 내지 10중량%를 포함한다.
신규활성제는 옥틸아민아디페이트(Octylamine Adipate), 옥틸아민팔미테이트(Octylamine Palmitate), 옥틸아민스테아레이트(Octylamine Stearate), 옥틸아민살리실레이트(Octylamine Salicylate) 및 옥틸아민시트레이트(Octylamine Citrate)를 포함하는 군으로부터 선택된 적어도 하나를 사용할 수 있다.
옥틸아민아디페이트(Octylamine Adipate)는 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 아디핀산(Adipic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(20 내지 50℃)에서 약 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된다.
옥틸아민팔미테이트(Octylamine Palmitate)는 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 팔미트산(Palmitic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(20 내지 50℃)에서 약 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된다.
옥틸아민스테아레이트(Octylamine Stearate)는 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 스테아린산(Stearic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(20 내지 50℃)에서 약 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된다.
옥틸아민살리실레이트(Octylamine Salicylate)는 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 살리실산(Salicylic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(20 내지 50℃)에서 약 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된다.
옥틸아민시트레이트(Octylamine Citrate)는 옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 시트르산(Citric Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(20 내지 50℃)에서 약 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된다.
이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다.
이는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
로진(Rosin) 15중량%와 알코올(Alcohol) 82중량%를 포함하는 알콜계의 솔벤트에 Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) 1중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5mole과 아디핀산(Adipic Acid) 0.5mole을 반응기에 투입하고 상온(25℃)에서 30분간 반응시킨 후 열풍건조를 통해 고형분으로 제조한 하기 화학식1로 표시되는 옥틸아민아디페이트(Octylamine Adipate) 2중량%를 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
실시예 2
로진(Rosin) 15중량%와 알코올(Alcohol) 81중량%를 포함하는 알콜계의 솔벤트에 Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) 1중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 0.5mole과 팔미트산(Palmitic Acid) 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(25℃)에서 30분간 반응시킨 후 열풍건조를 통해 고형분으로 제조한 하기 화학식2로 표시되는 옥틸아민팔미테이트(Octylamine Palmitate, 신규활성제) 3중량%를 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
실시예 3
로진(Rosin) 15중량%와 알코올(Alcohol) 82중량%를 포함하는 알콜계의 솔벤트에 Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) 1중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 1.5mole과 스테아린산(Stearic Acid) 0.5mole을 반응기에 투입하고 상온(25℃)에서 30분간 반응시킨 후 열풍건조를 통해 고형분으로 제조한 하기 화학식3으로 표시되는 옥틸아민스테아레이트(Octylamine Stearate, 신규활성제) 2중량%를 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
실시예 4
로진(Rosin) 15중량%와 알코올(Alcohol) 81중량%를 포함하는 알콜계의 솔벤트에 Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) 1중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 1.5mole과 살리실산(Salicylic Acid) 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온(25℃)에서 30분간 반응시킨 후 열풍건조를 통해 고형분으로 제조한 하기 화학식4로 표시되는 옥틸아민살리실레이트(Octylamine Salicylate, 신규활성제) 3중량%를 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
실시예 5
로진(Rosin) 15중량%와 알코올(Alcohol) 82중량%를 포함하는 알콜계의 솔벤트에 Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) 1중량% 및 옥틸아민(Octylamine) 1.0mole과 시트르산(Citric Acid) 1.0mole을 반응기에 투입하고 상온(25℃)에서 30분간 반응시킨 후 열풍건조를 통해 고형분으로 제조한 하기 화학식5로 표시되는 옥틸아민시트레이트(Octylamine Citrate, 신규활성제) 2중량%를 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
비교예 1
로진(Rosin) 15중량%와 알코올(Alcohol) 80중량%를 포함하는 알콜계의 솔벤트에 Cyclohexylamine Hydrobromide(활성제) 1중량% 및 호박산(Succinic Acid, 활성제) 4중량%를 용해시켜 솔더링 플럭스를 제조하였다.
실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1에서 얻어진 솔더링 플럭스를 사용하여 기판에 솔더링 후 홀채움, 필렛형성, 젖음성, 퍼짐성 및 활성온도를 평가하였으며, 하기 표 2의 결과를 얻을 수 있었다.
- 퍼짐성(Spreadability)은 처음 삽입금속의 면적에 대해 솔더링 후의 면적비를 백분율로 표시하였다.
항목 | 실시예1 | 실시예2 | 실시예3 | 실시예4 | 실시예5 | 비교예1 | |
특성 |
젖음성 | 양호 | 양호 | 양호 | 양호 | 양호 | 불량 |
홀채움 | 양호 | 양호 | 양호 | 양호 | 매우양호 | 다소양호 | |
필렛형성 | 양호 | 양호 | 양호 | 양호 | 양호 | 양호 | |
퍼짐성 | 84.1% | 84.8% | 85.4% | 86.3% | 87.8% | 84.5% | |
활성온도 | 130℃ | 70℃ | 180℃ | 140℃ | 150℃ | 150℃ |
표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 실시예 1 내지 실시예 5는 비교예 1에 비하여 젖음성, 홀채움 및 퍼짐성이 우수한 것을 알 수 있었다.
또한, 비교예 1에 비하여 적은양의 활성제를 첨가하고도 우수한 결과를 보였으며, 첨가되는 신규활성제의 종류에 따라 활성온도가 다양하여 다양한 공정(저온 솔더링 공정, 고온 솔더링 공정)에 적용이 가능하다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상술한 실시예에 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 취지 또는 범위를 벗어나지 않고 본 발명을 다양하게 변경하고 변형할 수 있다는 사실은 당업자에게 자명할 것이다. 따라서, 본 발명의 보호범위는 첨부한 청구범위 및 그와 균등한 범위로 정해져야 할 것이다.
Claims (6)
- 로진(Rosin) 10 내지 19중량%, 알코올(Alcohol) 70 내지 89중량% 및 활성제를 포함하며,
상기 활성제는
할로겐이 포함된 할로겐 화합물(활성제) 0.1 내지 5중량%와
옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 아디핀산(Adipic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 1로 표시되는 옥틸아민아디페이트(Octylamine Adipate),
옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 팔미트산(Palmitic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 2로 표시되는 옥틸아민팔미테이트(Octylamine Palmitate),
옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 스테아린산(Stearic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 3으로 표시되는 옥틸아민스테아레이트(Octylamine Stearate),
옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 살리실산(Salicylic Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 4로 표시되는 옥틸아민살리실레이트(Octylamine Salicylate) 및
옥틸아민(Octylamine) 0.5 내지 1.5mole과 시트르산(Citric Acid) 0.5 내지 1.5mole을 반응기에 투입하고 상온에서 30분간 반응시킨 후 가열 또는 열풍건조를 통해 고형분으로 제조된 하기 화학식 5로 표시되는 옥틸아민시트레이트(Octylamine Citrate)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 1 내지 10중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 솔더링 플럭스.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
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KR20180118841A KR20180118841A (ko) | 2018-11-01 |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101973716B1 (ko) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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