KR101941404B1 - Plate-to-be-treated storage apparatus, plate-to-be-treated storage method and deposition method using the same - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a processing member storage method storing a plurality of processing members conducting a processing, which respectively vertically arranges and installs a first processing member storage cassette and a second processing member storage cassette capable of plurally storing the plurality of processing members respectively in a multistage way, wherein the first processing member storage cassette is installed in an upper part and the second processing member storage cassette is installed in a lower part than the first processing member storage cassette. The first processing member storage cassette stores the processing member before the processing among the plurality of processing members, and the second processing member storage cassette stores the processing member after the processing among the plurality of processing members.

Description

처리체 수납 장치와, 처리체 수납 방법 및 이를 사용한 증착 방법{PLATE-TO-BE-TREATED STORAGE APPARATUS, PLATE-TO-BE-TREATED STORAGE METHOD AND DEPOSITION METHOD USING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a processing body accommodating apparatus, a processing body accommodating method, and a deposition method using the same. BACKGROUND ART [0002]

본 발명은 마스크 등과 같은 처리체를 수납하는 처리체 수납 장치와, 동 수납 장치로부터 처리체를 반출 및 반입하기 위한 방법 및 이를 이용한 증착 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a processing body accommodating device for accommodating a processing body such as a mask and the like, and a method for carrying out and bringing a processing body from the accommodating device and a deposition method using the same.

최근 평판 표시 장치로서 유기 EL 표시 장치가 각광을 받고 있다. 유기 EL 표시장치는 자발광 디스플레이로서, 응답 속도, 시야각, 박형화 등의 특성이 액정 패널 디스플레이보다 우수하여, 모니터, 텔레비전, 스마트폰으로 대표되는 각종 휴대 단말 등에서 기존의 액정 패널 디스플레이를 빠르게 대체하고 있다. 또한, 자동차용 디스플레이 등으로도 그 응용분야를 넓혀가고 있다. Recently, an organic EL display device has been spotlighted as a flat panel display device. The organic EL display device is a self-luminous display, and its characteristics such as response speed, viewing angle, and thinness are superior to those of a liquid crystal panel display, and thus various types of portable terminals represented by monitors, televisions, and smart phones are rapidly replacing existing liquid crystal panel displays . In addition, automotive displays are expanding their applications.

유기 EL 표시장치의 소자는 2개의 마주보는 전극(캐소드 전극, 애노드 전극) 사이에 발광을 일으키는 유기물 층이 형성된 기본 구조를 가진다. 유기 EL 표시 장치 소자의 유기물층 및 전극 금속층은, 진공 챔버 내에서 화소 패턴이 형성된 마스크를 통해 기판에 증착 물질을 증착시킴으로써 제조된다.The element of the organic EL display device has a basic structure in which an organic material layer causing light emission is formed between two opposing electrodes (cathode electrode, anode electrode). The organic layer and the electrode metal layer of the organic EL display device are manufactured by depositing a deposition material on a substrate through a mask in which pixel patterns are formed in a vacuum chamber.

기판에 대한 증착(성막) 공정이 반복 진행됨에 따라, 마스크 상에는 증착 재료의 잔류물이 점차 부착되게 되므로, 마스크는 소정 매수의 기판에 대한 증착이 끝나면, 새로운 마스크로 교체될 필요가 있다. 이러한 마스크의 교환을 위해, 통상 성막실 옆에는 증착 처리에 사용되기 전의 새로운 마스크와 사용이 끝난 마스크를 수납하는 수납 장치로서의 마스크 스톡 장치가 설치되어 있다. 마스크 스톡 장치로의 마스크의 반입 및 반출은 반송 로봇에 의해 행해진다.As the deposition (film forming) process for the substrate is repeated, the residue of the deposition material gradually adheres to the mask, so that the mask needs to be replaced with a new mask after deposition of a predetermined number of substrates is completed. In order to exchange such a mask, a mask stock device is provided next to the film deposition chamber as a storage device for storing a new mask and a used mask prior to the deposition process. The carry-in and carry-out of the mask to the mask stock device are performed by the carrying robot.

본 발명은, 이러한 마스크 등의 처리체를 다단식으로 수납하는 처리체 수납 장치의 구조와, 동 수납 장치로부터 처리체를 반출 및 반입하기 위한 방법을 개선함으로써, 수납 장치 내에서의 처리체의 오염을 방지하고, 또는 처리체의 반입 및 반출을 보다 용이하게 행할 수 있으며, 또는 처리체의 수납 가능 매수도 증가시킬 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.The present invention improves the structure of a processing body accommodating apparatus for accommodating a processing body such as a mask in a multistage manner and the method for carrying out and bringing a processing body out of the housing accommodating apparatus to prevent contamination of the processing body in the accommodating apparatus Or the processing body can be carried in and out more easily, or the number of receivable items of the processing body can be increased.

본 발명의 일 태양에 따른 처리체 수납 방법은, 처리가 행해지는 복수의 처리체를 수납하는 처리체 수납 방법으로서, 상기 복수의 처리체를 각각 다단식으로 복수 수납 가능한 제1 처리체 수납 카세트와 제2 처리체 수납 카세트를, 상기 제1 처리체 수납 카세트는 상부에, 상기 제2 처리체 수납 카세트는 상기 제1 처리체 수납 카세트보다는 하부에, 각각 상하로 배치하여 설치하고, 상기 제1 처리체 수납 카세트에는, 상기 복수의 처리체 중 상기 처리 전의 상기 처리체를 수납하고, 상기 제2 처리체 수납 카세트에는, 상기 복수의 처리체 중 상기 처리 후의 상기 처리체를 수납하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a processing body accommodating method for accommodating a plurality of processing bodies to be processed, comprising: a first processing body storage cassette capable of storing a plurality of the processing bodies in a plurality of stages, Wherein the first processing object storage cassette is disposed at the upper portion and the second processing object storage cassette is disposed at the lower portion than the first processing object storage cassette, The storage cassette stores the processing object before the processing among the plurality of processing objects, and the processing object after the processing among the plurality of processing objects is received in the second processing object storage cassette.

본 발명의 다른 일 태양에 따른 처리체 반출 방법은, 처리 전의 복수의 처리체가 다단식으로 수납 가능한 처리체 수납 카세트로부터, 복수의 처리체를 반출하는 처리체 반출 방법으로서, 상기 복수의 처리체를, 상기 처리체 수납 카세트의 최하단으로부터 상단을 향하는 순으로 반출하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a processing body carry-out method for carrying out a plurality of processing bodies from a processing body storage cassette in which a plurality of processing bodies before processing can be stored in a multistage manner, Out of the processing-object storage cassettes in the order from the lowermost end to the upper end of the processing-object storage cassette.

본 발명의 다른 일 태양에 따른 처리체 반입 방법은, 처리 후의 복수의 처리체가 다단식으로 수납 가능한 처리체 수납 카세트에, 복수의 처리체를 반입하는 처리체 반입 방법으로서, 상기 복수의 처리체를, 상기 처리체 수납 카세트의 최상단으로부터 하단을 향하는 순으로 반입하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a processing body loading method for loading a plurality of processing bodies into a processing body storage cassette in which a plurality of processing bodies after processing can be stacked in a multistage manner, In the order from the uppermost end to the lower end of the processing object storage cassette.

본 발명의 다른 일 태양에 따른 처리체 반출입 방법은, 처리전의 처리체가 다단식으로 복수 수납된 제1 처리체 수납 카세트로부터 상기 처리 전의 처리체를 반출하고, 처리 후의 처리체를 다단식으로 수납 가능한 복수의 수납부가 구비된 제2 처리체 수납 카세트에 상기 처리 후의 처리체를 반입하는, 처리체 반출입 방법으로서, 상기 제1 처리체 수납 카세트에 수납된 상기 처리 전의 처리체를, 상기 제1 처리체 수납 카세트의 최하단에 수납되어 있는 처리체로부터 순차로 반출하고, 상기 처리 후의 처리체를, 상기 제2 처리체 수납 카세트의 최상단으로부터 하단을 향하는 순으로 상기 제2 처리체 수납 카세트로 순차 반입하는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a process body loading / unloading method for carrying out a process object before a process from a first process object storage cassette in which a plurality of process objects before the process are stored in a multi-stage manner, A processing body loading / unloading method for loading a processing body after the processing into a second processing body storage cassette having a storage unit, characterized in that the processing body before the processing stored in the first processing body storage cassette is loaded on the first processing body storage cassette And sequentially transferring the processed body to the second processing body storage cassette in order from the uppermost end of the second processing body storage cassette to the lower end thereof. do.

본 발명의 다른 일 태양에 따른 증착 방법은, 처리실에서 기판의 표면에 증발원으로부터의 증발원 재료를 마스크를 거쳐 퇴적시켜 성막을 행하는 증착 방법으로서, 상기 처리체 반출입 방법에 있어서의 상기 처리체를 상기 마스크로 하고, 상기 처리체를 사용해서 상기 기판에 대한 상기 증발원에 의한 증착을 행하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a deposition method for depositing a deposition material by depositing an evaporation source material from an evaporation source on a surface of a substrate in a treatment chamber through a mask, the deposition method comprising: And the evaporation source is evaporated on the substrate by using the processing body.

본 발명의 다른 일 태양에 따른 처리체 수납 카세트는, 처리체를 다단식으로 복수 수납 가능한 처리체 수납 카세트로서, 상기 처리체 수납 카세트의 양 측벽에 서로 대향되게 다단으로 설치되어, 상기 처리체를 각각 지지하는 복수의 지지부를 포함하고, 상기 처리체 수납 카세트의 저면으로부터 상기 복수의 지지부 중 최하단의 지지부까지의 거리는, 상기 복수의 지지부 중 상기 최하단의 지지부를 제외한 나머지 지지부 간의 거리보다 큰 것을 특징으로 한다.A processing object storage cassette according to another aspect of the present invention is a processing object storage cassette capable of storing a plurality of processing bodies in a plurality of stages in a multistage manner and is provided at both ends of the processing body storage cassette so as to face each other in multiple stages, Wherein a distance from a bottom surface of the processing-object storage cassette to the lowermost support portion of the plurality of support portions is larger than a distance between the support portions excluding the lowermost support portion of the plurality of support portions .

본 발명의 다른 일 태양에 따른 처리체 수납 장치는, 상기 처리체 수납 카세트가 상하로 2개 배치되고, 상기 상하로 배치된 2개의 처리체 수납 카세트를 적재하는 스테이지와, 상기 스테이지를 승강시키는 승강 기구를 더 포함하며, 상기 2개의 처리체 수납 카세트 중 상부에 배치되는 제1 처리체 수납 카세트에는 처리 전의 처리체가 수납되고, 상기 2개의 처리체 수납 카세트 중 하부에 배치되는 제2 처리체 수납 카세트에는 처리 후의 처리체가 수납되는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a processing body accommodating apparatus comprising: a stage for stacking two processing body accommodating cassettes each having the processing body accommodating cassette disposed vertically and vertically arranged; Wherein the processing object before processing is stored in a first processing object storage cassette disposed at an upper portion of the two processing object storage cassettes and a second processing object storage cassette disposed at a lower portion of the two processing object storage cassettes Is characterized in that the treated body after the treatment is housed.

본 발명에 따른 처리체 수납 장치 및 동 수납 장치로부터의 처리체 반출 및 반입 방법에 의하면, 수납 장치 내에 수납되어 있는 처리 전의 처리체의 오염을 방지할 수 있고, 또는 처리체의 반입 및 반출을 보다 용이하게 행할 수 있으며, 또는 처리체의 수납 가능 매수도 증가시킬 수 있다.According to the processing body accommodating apparatus and the method of carrying out and bringing the processing body out of the accommodating apparatus according to the present invention, it is possible to prevent contamination of the processing body before the processing stored in the accommodating apparatus, Or the number of receivable items of the processing body can be increased.

도 1은, 유기 EL 표시장치의 제조라인의 일부의 모식도이다
도 2는. 성막실의 구성을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 3은, 본 발명에 따른 처리체 수납 장치(마스크 스톡 장치)를 도시한 정면도이다.
도 4는, 본 발명에 따른 처리체 수납 장치(마스크 스톡 장치)를 도시한 측단면도이다.
도 5는, 본 발명에 따른 처리체(마스크) 반출 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은, 본 발명에 따른 처리체(마스크) 반입 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic diagram of a part of a manufacturing line of an organic EL display device
Fig. 1 is a view schematically showing a configuration of a deposition chamber.
Fig. 3 is a front view showing the processing body storage apparatus (mask stock apparatus) according to the present invention.
Fig. 4 is a side cross-sectional view showing the processing body accommodating apparatus (mask stock apparatus) according to the present invention.
Fig. 5 is a diagram for explaining a process body (mask) carry-out method according to the present invention.
Fig. 6 is a diagram for explaining a process body (mask) bring-in method according to the present invention.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시형태 및 실시예를 설명한다. 다만, 이하의 실시형태 및 실시예는 본 발명의 바람직한 구성을 예시적으로 나타내는 것이며, 본 발명의 범위는 이들 구성에 한정되지 않는다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 처리 흐름, 제조조건, 크기, 재질, 형상 등은, 특히 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 이것으로 한정하려는 취지인 것은 아니다. Hereinafter, preferred embodiments and examples of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiments and examples are illustrative of preferred configurations of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these configurations. In the following description, the hardware configuration, the software configuration, the process flow, the manufacturing conditions, the size, the material, the shape, and the like of the apparatus are intended to limit the scope of the present invention unless otherwise specified no.

<전자 디바이스 제조 라인><Electronic Device Manufacturing Line>

도 1은 전자 디바이스의 제조 라인의 구성의 일부를 모식적으로 도시한 평면도이다. 1 is a plan view schematically showing a part of the configuration of a manufacturing line of an electronic device.

도 1의 제조 라인은, 예를 들면, 스마트폰 용의 유기 EL 표시장치의 표시 패널의 제조에 사용된다. 스마트폰 용의 표시 패널의 경우, 예를 들면, 풀사이즈(약 1500 ㎜ × 약 1850 ㎜) 또는 하프컷 사이즈(약 1500 ㎜ × 약 925 ㎜) 의 기판에 유기 EL의 성막을 행한 후, 해당 기판을 잘라내어 복수의 작은 사이즈의 패널로 제작한다. The manufacturing line of Fig. 1 is used, for example, in the manufacture of a display panel of an organic EL display device for a smart phone. In the case of a display panel for a smart phone, for example, organic EL is formed on a substrate of a full size (about 1500 mm x about 1850 mm) or a half-cut size (about 1500 mm x about 925 mm) Are cut out to produce a plurality of panels of small size.

유기 EL 표시 장치의 제조 라인의 성막 클러스터(1)는, 일반적으로 도 1에 도시한 바와 같이, 기판(S)에 대한 처리(예컨대, 성막)가 행해지는 복수의 성막실(11)과, 사용 전후의 마스크(M)가 수납되는 복수의 마스크 스톡 장치(12)와, 그 중앙에 배치되는 반송실(13)을 구비한다. 1, the film-forming cluster 1 of the production line of the organic EL display device generally includes a plurality of film formation chambers 11 in which processing (e.g., film formation) is performed on the substrate S, A plurality of mask stock devices 12 in which front and rear masks M are accommodated, and a transport chamber 13 disposed at the center thereof.

반송실(13) 내에는, 복수의 성막실(11)　사이에서 기판(S)을 반송하고, 성막실(11)과 마스크 스톡 장치(12) 사이에서 마스크(M)를 반송하기 위한 반송 로봇(14)이 설치된다. 반송 로봇(14)은, 예를 들면, 다관절 아암에, 기판(S) 또는 마스크(M)를 보유지지하는 로봇 핸드가 장착된 구조를 갖는 로봇일 수 있다. A transfer robot 13 for transferring a substrate S between a plurality of deposition chambers 11 and transferring a mask M between the deposition chamber 11 and the mask stocker 12 14 are installed. The carrying robot 14 may be, for example, a robot having a structure in which a robot hand holding a substrate S or a mask M is mounted on a multi-joint arm.

성막 클러스터(1)에는 기판(S)의 흐름 방향으로 상류측으로부터의 기판(S)을 성막 클러스터(1)로 전달하는 패스실(15)과, 해당 성막 클러스터(1)에서 성막 처리가 완료된 기판(S)을 하류측의 다른 성막 클러스터로 전달하기 위한 버퍼실(16)이 연결된다. 반송실(13)의 반송 로봇(14)은 상류 측의 패스실(15)로부터 기판(S)을 받아서, 해당 성막 클러스터(1)내의 성막실(11) 중 하나(예컨대, 성막실(11a))로 반송한다. 또한, 반송 로봇(14)은 해당 성막 클러스터(1)에서의 성막 처리가 완료된 기판(S)을 복수의 성막실(11) 중 하나(예컨대, 성막실(11b))로부터 받아서, 하류측에 연결된 버퍼실(16)로 반송한다. 버퍼실(16)과 패스실(15) 사이에는 기판(S)의 방향을 바꾸어 주는 선회실(17)이 설치된다. 이를 통해, 상류측 성막 클러스터와 하류측 성막 클러스터에서 기판의 방향이 동일하게 되어 기판 처리가 용이해 진다. 버퍼실(16), 선회실(17), 패스실(15)은, 성막 클러스터 사이를 연결하는, 소위 중계 장치이고, 성막 클러스터의 상류측 및/또는 하류측에 설치되는 중계 장치는, 버퍼실, 선회실, 패스 실 중 적어도 하나를 포함한다. 성막실(11), 마스크 스톡 장치(12), 반송실(13), 버퍼실(16), 선회실(17) 등의 각 챔버는 유기 EL 표시 패널의 제조 과정 동안, 고진공 상태로 유지된다. The film formation cluster 1 is provided with a path seal 15 for transferring the substrate S from the upstream side in the flow direction of the substrate S to the film formation clusters 1, A buffer chamber 16 for transferring the film S to another film formation cluster on the downstream side is connected. The transfer robot 14 of the transfer chamber 13 receives the substrate S from the pass space 15 on the upstream side and transfers the substrate S to one of the deposition chambers 11 in the deposition clusters 1 ). The transport robot 14 receives the substrate S on which the film formation process in the film formation cluster 1 has been completed from one of the plurality of the film formation chambers 11 (for example, the film formation chamber 11b) To the buffer chamber (16). A vortex chamber 17 for changing the direction of the substrate S is provided between the buffer chamber 16 and the pass chamber 15. As a result, the orientation of the substrate in the upstream-side film-forming clusters and the downstream-side film-forming clusters becomes the same, facilitating the substrate processing. The relay device installed on the upstream side and / or the downstream side of the film formation clusters includes a buffer chamber (16), a vortex chamber (17), and a pass chamber (15) , A swiveling chamber, and a pass room. Chambers such as the deposition chamber 11, the mask stock device 12, the transfer chamber 13, the buffer chamber 16, and the vortex chamber 17 are kept in a high vacuum state during the manufacturing process of the organic EL display panel.

도 2를 참조하여, 성막실(11)의 구성 및 성막실(11)에서 행해지는 증착 공정에 대해 설명한다. 도 2(a)에 도시된 바와 같이, 성막실(11)은, 기판(S)에 대해 증착 물질을 증발시켜 방출하는 증발원 유닛(100)을 포함한다. 증발원 유닛(100)은 증착 물질을 수용하는 수용부와 증착 물질을 가열하여 증발시키기 위한 가열부 등으로 구성된 증발원(110)을 포함한다. 증발원(110)은, 기판(S)의 증착면을 향하여 증착 재료를 방출하는 방출공 내지 노즐을 복수 구비한 구조를 가지나, 이에 한정되지 않고, 기판(S), 마스크(M)의 패턴, 증착 물질의 종류 등에 따라, 적절히 선택할 수 있다. 예컨대, 점(point) 증발원이나 선형(linear) 증발원, 소형의 증착 물질 수용부에, 증착 재료를 방출하는 복수의 방출공을 구비하는 확산실을 접속한 구조의 증발원 등을 사용해도 된다. 또한, 성막실(11)은, 도 2(b)에 도시된 바와 같이, 막두께 모니터(114), 막두께 계측기(113), 전원(116), 기판 홀더(111), 마스크 홀더(112) 등의 다른 구성 부품을 더 포함할 수 있다. 막두께 모니터(114)는 증발원(110)으로부터 방출된 증착 재료의 증발 레이트(rate)를 모니터링한다. 막두께 계측기(113)는 막두께 모니터(114)로부터 입력 신호를 받아 막두께를 계측한다. 전원(116)은 증발원(110)에 설치된 가열 장치를 제어한다. 기판 홀더(111)는 기판(S)을 지지하고, 기판(S)을 마스크(M)나 증발원에 대해 상대적으로 이동시킬 수 있다. 마스크 홀더(112)는 마스크(M)를 지지하고, 마스크(M)를 기판이나 증발원(110)에 대해 상대적으로 이동시킬 수 있다. 도시한 성막실(11)은, 하나의 챔버 내로 2개의 기판(S)이 반입되고, 그 중 하나의 기판에 대해 증착이 행해지는 동안(예컨대, A측 스테이지) 다른 기판에 대해서(예컨대, B측 스테이지)는 마스크(M)와 기판(S) 간의 정렬(얼라인먼트)이 수행되는, 소위 "듀얼 스테이지" 구성의 성막실이지만, 성막실은, 하나의 기판이 반입되어, 얼라인먼트·증착 후에, 반출되는 "싱글 스테이지"구성이어도 된다.The configuration of the deposition chamber 11 and the deposition process performed in the deposition chamber 11 will be described with reference to FIG. 2 (a), the deposition chamber 11 includes an evaporation source unit 100 that evaporates and discharges the evaporation material with respect to the substrate S. As shown in Fig. The evaporation source unit 100 includes an evaporation source 110 including a receiving part for receiving the evaporation material and a heating part for heating and evaporating the evaporation material. The evaporation source 110 has a structure in which a plurality of discharge holes or nozzles for discharging the evaporation material toward the deposition surface of the substrate S are provided but the present invention is not limited thereto and may be a pattern of the substrate S, Depending on the type of material, etc. For example, an evaporation source having a structure in which a diffusion chamber having a plurality of discharge holes for discharging an evaporation material is connected to a point evaporation source, a linear evaporation source, and a small evaporation material receiving portion may be used. 2 (b), the film deposition chamber 11 includes a film thickness monitor 114, a film thickness meter 113, a power source 116, a substrate holder 111, a mask holder 112, And the like. The film thickness monitor 114 monitors the evaporation rate of the evaporation material emitted from the evaporation source 110. The film thickness meter 113 receives an input signal from the film thickness monitor 114 and measures the film thickness. The power source 116 controls the heating device installed in the evaporation source 110. The substrate holder 111 supports the substrate S and can relatively move the substrate S relative to the mask M or the evaporation source. The mask holder 112 supports the mask M and can relatively move the mask M relative to the substrate or the evaporation source 110. [ The illustrated film formation chamber 11 is a film formation chamber in which two substrates S are carried into one chamber and while one of the substrates is being vapor-deposited (for example, the A-side stage) Quot; dual stage "configuration in which the alignment (alignment) between the mask M and the substrate S is performed, but the deposition chamber is taken out after one of the substrates is brought into alignment and deposition Or a "single stage" configuration.

성막실(11) 내에서의 증착 공정은 다음과 같은 과정을 거쳐 행해진다. 증착 대상인 기판(S)과 증착 패턴이 형성된 마스크(M)을 각각 전술한 반송 로봇(14)에 의해 성막실(11) 내로 반입하여, 기판 홀더(111) 및 마스크 홀더(112) 상에 각각 배치한다. 이어서, 마스크(M)에 형성된 얼라인먼트 마크와 기판(S)에 형성된 얼라인먼트 마크를 사용하여, 마스크(M)와 기판(S) 간의 얼라인먼트를 행한다. 마스크(M)와 기판(S)의 얼라인먼트는, 기판 홀더(111)를 이동 제어하여 기판을 이동시켜 행하여도 되고, 마스크 홀더(112)를 이동 제어하여 마스크를 이동시켜 행하여도 된다. 얼라인먼트의 종료 후, 증발원(110)의 셔터를 열고, 증발원(110)에 접속된 회전 이동부(115)를 움직여 가면서, 마스크(M) 패턴에 따라 기판(S)에 성막 재료를 증착한다. 이 때, 수정 진동자 등의 막두께 모니터(114)는, 증발 레이트를 계측하여, 막두께 계측기(113)에서 막두께를 환산한다. 막두께 계측기(113)에서 환산된 막두께가 목표로 하는 막두께가 될 때까지 증착을 계속한다. 막두께 계측기(113)로 환산된 막두께가 목표값에 도달하면, 증발원(110)의 셔터를 닫아 증착을 종료한다.The deposition process in the deposition chamber 11 is performed through the following process. The substrate S to be deposited and the mask M on which the deposition pattern is formed are carried into the deposition chamber 11 by the transfer robot 14 and are respectively placed on the substrate holder 111 and the mask holder 112 do. Alignment is performed between the mask M and the substrate S by using the alignment mark formed on the mask M and the alignment mark formed on the substrate S. [ Alignment of the mask M and the substrate S may be performed by moving the substrate holder 111 by moving the substrate holder 111 or by moving the mask holder 112 to move the mask. After the completion of the alignment, the shutter of the evaporation source 110 is opened, and the film forming material is deposited on the substrate S in accordance with the pattern of the mask M, while moving the rotation moving part 115 connected to the evaporation source 110. At this time, the film thickness monitor 114 such as a quartz crystal vibrator measures the evaporation rate and converts the film thickness by the film thickness meter 113. The deposition is continued until the film thickness calculated by the film thickness meter 113 reaches a target film thickness. When the film thickness calculated by the film thickness meter 113 reaches the target value, the shutter of the evaporation source 110 is closed to terminate the deposition.

<처리체 수납 장치 및 동 수납 장치로의 처리체 반출입 방법>&Lt; Process body accommodating device and method of carrying and loading the processing body into the same accommodating device >

이하, 이와 같은 유기 EL 표시장치의 제조라인에서 사용될 수 있는 본 발명에 따른 처리체 수납 장치의 구조 및 동 수납 장치로의 처리체 반출입 방법을, 마스크 스톡 챔버(12)를 예로 들어 설명한다.Hereinafter, the structure of the processing body accommodating apparatus according to the present invention, which can be used in the production line of such an organic EL display device, and the processing body loading / unloading method in the same accommodating apparatus will be described with reference to the mask stock chamber 12 as an example.

도 3은 본 발명에 따른 마스크 스톡 장치(12)를 도시한 정면도이고, 도 4는 마스크 스톡 장치(12)의 측단면도이다. 마스크 스톡 장치(12)는 기판(S)에 대해 증착 공정을 행할 때 사용되는 마스크(M)를 수납하는 장치이다. Fig. 3 is a front view showing the mask stock apparatus 12 according to the present invention, and Fig. 4 is a side sectional view of the mask stock apparatus 12. Fig. The mask stock device 12 is a device for containing a mask M used for performing a deposition process on the substrate S.

마스크(M)에는 소정의 증착 패턴이 형성되어 있고, 증발원으로부터 증발된 증착 재료는 이 마스크(M)의 증착 패턴을 거쳐 피증착체인 기판(S) 상에 증착된다. 증착(성막) 공정이 반복 진행됨에 따라, 마스크(M) 상에는 증착 재료의 잔류물이 점차 부착되게 되는데, 이러한 증착 잔류물은 마스크 상의 증착 패턴의 정밀도를 떨어뜨리는 원인이 될 수 있다. 따라서, 마스크(M)는 소정 매수의 기판(S)에 대한 증착이 행해졌을 때마다 새로운 마스크로 교체될 필요가 있다. A predetermined vapor deposition pattern is formed on the mask M. The vaporized material evaporated from the evaporation source is deposited on the substrate S to be vapor deposited through the vapor deposition pattern of the mask M. [ As the deposition (deposition) process is repeated, the residue of deposition material is gradually deposited on the mask M, which may cause the deposition pattern on the mask to degrade in accuracy. Therefore, the mask M needs to be replaced with a new mask every time deposition of a predetermined number of substrates S is performed.

마스크 스톡 장치(12)는 이러한 마스크(M) 교환을 위해, 증착 처리에 사용되기 전의 새로운 마스크와 사용이 끝난 마스크를 수납하기 위한 수납 장치로서의 역할을 한다. 즉, 사용이 끝난 마스크는 전술한 반송실(13)의 반송 로봇(14)에 의해 성막실(11)로부터 마스크 스톡 장치(12) 내로 반송되어 수납되고, 새로운 마스크가 마스크 스톡 장치(12)로부터 반출되어 성막실(11) 내의 마스크 홀더 상에 설치된다.The mask stock device 12 serves as a storage device for accommodating new masks and used masks before being used in the vapor deposition process, for the exchange of the masks M. That is, the used mask is transported from the deposition chamber 11 into the mask stock device 12 by the transport robot 14 of the transport chamber 13 and stored therein, and a new mask is transported from the mask stock device 12 And is placed on the mask holder in the deposition chamber 11.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 마스크 스톡 장치(12)는, 마스크(M)을 수납하는 카세트(210, 211)와, 카세트(210, 211)를 적재하는 스테이지(212)와, 스테이지(212)를 승강시키기 위한 승강 기구를 포함하여 구성된다. 3, the mask stock device 12 according to the present invention includes cassettes 210 and 211 for accommodating a mask M, a stage 212 for mounting the cassettes 210 and 211, And a lifting mechanism for lifting the stage 212 up and down.

카세트는 증착 처리에 사용되기 전의 새로운 마스크를 수납하기 위한 상단 카세트(210)와, 사용이 완료되어 성막실(11)로부터 반출된 마스크를 수납하기 위한 하단 카세트(211)로 구성된다. 상단 및 하단 카세트(210, 211)는, 각각 복수의 마스크(M)를 수납할 수 있는 복수의 단(도시한 예에서는 4단) 구조로 되어 있다. 즉, 상단 및 하단 카세트(210, 211)는, 카세트의 양 측벽에 마스크의 양단을 지지할 수 있는 지지부(213)가 상하로 복수 단으로 설치되어 있으며, 이들 지지부(213) 단 사이의 공간으로 전술한 반송 로봇(14)의 로봇 핸드가 진입함으로써, 카세트로의 마스크의 반입(또는 카세트로부터의 마스크의 반출)을 행하도록 되어 있다. The cassette is composed of an upper cassette 210 for accommodating a new mask before being used for deposition processing and a lower cassette 211 for receiving a mask carried out from the deposition chamber 11 after use. The upper and lower cassettes 210 and 211 each have a plurality of stages (four stages in the illustrated example) in which a plurality of masks M can be accommodated. That is, the upper and lower cassettes 210 and 211 are provided on both side walls of the cassette with a plurality of support portions 213, which can support both ends of the mask, The transfer of the mask to the cassette (or the removal of the mask from the cassette) is performed by the robot hand of the above-described transfer robot 14 entering.

도 3(b)는 상단 및 하단 카세트(210, 211)의 이러한 복수의 단 구조를 확대하여 나타낸 것으로, 도시한 바와 같이, 상단 및 하단 카세트(210, 211)에 있어서, 최하단의 높이(카세트 저면으로부터 최하단 지지부까지의 높이: h1)가, 그 이외의 단 높이(각 지지부 간의 높이: h2)보다 높게 형성되어 있다. 이러한 단 높이 차는, 본 발명에 따른 마스크 반입/반출 방법의 일 특징을 반영한 구성으로서, 해당 기술적 의미의 상세에 대해서는 후술한다.3 (b) is an enlarged view of such a plurality of end structures of the upper and lower cassettes 210 and 211. As shown in the figure, in the upper and lower cassettes 210 and 211, The height h1 from the uppermost support portion to the lowermost support portion is formed to be higher than the other height (height between the respective support portions: h2). This step height difference reflects one feature of the mask carry-in / carry-out method according to the present invention, and the details of the technical meaning will be described later.

상단 및 하단 카세트(210, 211)는 스테이지(212) 상에 적재되고, 스테이지(212)는 그에 연결된 승강 기구에 의해 마스크 스톡 장치(12)의 대략 중앙 높이 위치에 설치된 마스크 반송구(도4 참조)를 향해 승강된다.The upper and lower cassettes 210 and 211 are stacked on a stage 212 and the stage 212 is moved by a lifting mechanism connected thereto to a mask conveying port .

승강 기구는, 마스크 스톡 장치(12)의 양측에 설치된 가이드 레일(214)과, 스테이지의 양단에 각각 연결되어 가이드 레일(214)을 따라 상하 이동하는 가이드 블록(215)과, 가이드 레일(214)을 따른 상하 이동의 구동력을 제공하는 도시하지 않은 볼 스크류 및 모터를 포함한다. 즉, 모터의 구동에 따라 볼 스크류가 회전하면, 그 회전 방향에 상응하여 볼 스크류에 연결된 가이드 레일(214)을 따라 카세트(210, 211)를 적재한 스테이지(212)가 마스크 스톡 장치(12) 내에서 승강하는 구조로 되어 있다.The elevating mechanism includes a guide rail 214 provided on both sides of the mask stock device 12, a guide block 215 which is connected to both ends of the stage and moves up and down along the guide rail 214, And a ball screw and a motor (not shown) that provide a driving force of up and down movement along the axis. That is, when the ball screw rotates in accordance with the driving of the motor, the stage 212 on which the cassettes 210 and 211 are mounted along the guide rails 214, And is structured such that it ascends and descends within the range.

이러한 카세트(210, 211)를 적재한 스테이지(212)의 승강에 연동한 본 발명에 따른 마스크(M) 반입 및 반출 방법의 상세에 대해, 도 5 및 도 6을 참조하여, 설명한다.Details of the method of carrying in and carrying out the mask M according to the present invention in conjunction with the lifting and lowering of the stage 212 on which the cassettes 210 and 211 are mounted will be described with reference to Figs. 5 and 6. Fig.

도 5는 본 발명에 따른 마스크 반출 방법, 즉, 증착 처리에 사용되기 전의 새로운 마스크(M)를 마스크 스톡 장치(12)로부터 반출하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. FIG. 5 is a view for explaining a mask carry-out method according to the present invention, that is, a method for carrying out a new mask M before being used in a deposition process from the mask stock apparatus 12.

전술한 바와 같이, 증착 처리에 사용되기 전의 새로운 마스크는 상단 카세트(210)에, 증착 처리에 사용된 후의 마스크는 하단 카세트(211)에 각각 수납되는데, 도 5(a)는 하단 카세트(211)는 빈 상태에서, 상단 카세트(210)로부터 새 마스크(M)를 최초로 반출할 때의 모습을 도시한 도면이다. 도시된 바와 같이, 새 마스크의 최초 반출 시에는, 상단 카세트(210)에 수납된 복수의 새 마스크 중 최하단의 마스크부터 반출한다. 즉, 스테이지(212)를 하강시켜, 마스크 스톡 챔버(12)의 대략 중앙 높이 위치에 설치된 마스크 반송구에 상단 카세트(210) 최하단의 마스크(M)가 오도록 위치시킨 상태에서, 반송 로봇(14)의 로봇 핸드를 진입시켜 최하단의 마스크를 수취 및 반출한다. As described above, the new mask before being used in the deposition process is stored in the upper cassette 210, and the mask after being used in the deposition process is stored in the lower cassette 211. FIG. 5A shows the lower cassette 211, Is a view showing a state in which the new mask M is first carried out from the upper cassette 210 in an empty state. As shown in the figure, at the time of the first carrying out of the new mask, the lowermost mask among the plurality of new masks stored in the upper cassette 210 is taken out. The stage 212 is lowered and the transfer robot 14 is moved in a state in which the mask M at the lowermost end of the upper cassette 210 is positioned in a mask transporting port provided at a substantially central height position of the mask stock chamber 12, The robot arm of the robot arm enters the robot hand and receives and removes the mask at the lowermost end.

이어서, 마스크 교환 시, 즉, 성막실(11)로부터 증착 처리에 사용된 후의 마스크를 마스크 스톡 챔버(12)의 하단 카세트(211)로 반입한 이후(증착 처리에 사용된 후의 마스크의 반입 과정에 대해서는 후술한다), 상단 카세트(210)로부터 증착 처리에 사용되기 전의 새 마스크를 다시 반출할 때에는, 도 5(a)에 도시된 상태보다 한 단만큼 상단 카세트(210)가 더 하강한 상태(즉, 상단 카세트(210)의 최하단에서부터 두 번째 단에 수납된 마스크가 마스크 반송구에 위치하는 상태)가 되도록 스테이지(212)를 하강시킨 뒤, 로봇 핸드를 진입시켜 마스크를 반출한다. 이에 의해, 상단 카세트(210)의 최하단에서부터 두 번째 단에 수납된 마스크가 반출되게 된다.Subsequently, after the mask is exchanged, that is, the mask used for the deposition process from the deposition chamber 11 is transferred to the lower cassette 211 of the mask stock chamber 12 (after the mask is used for the deposition process, The upper cassette 210 is further lowered by one stage than the state shown in FIG. 5 (a), that is, , The stage 212 is lowered so that the mask accommodated in the second stage from the lowermost stage of the upper cassette 210 is positioned in the mask transporting port), and then the robot hand is taken in and the mask is taken out. Thereby, the mask stored in the second stage from the lowermost stage of the upper cassette 210 is carried out.

마스크 교환 시마다, 이러한 과정이 순차로 진행되게 되고, 도 5(b)는 상단 카세트(210)에 수납된 새 마스크 중 마지막으로 최상단의 마스크(M)를 반출할 때의 모습을 도시한다. 도시된 바와 같이, 이 때에는 스테이지(212)가 마스크 스톡 장치(12)의 저면 가까이까지 하강하여, 상단 카세트(210)의 최상단에 수납된 마스크(M)가 마스크 반송구에 위치하도록 한 상태에서, 로봇 핸드를 통해 해당 마스크를 반출하도록 하고 있다.5 (b) shows a state in which the lastmost mask M out of the new masks stored in the upper cassette 210 is taken out. At this time, in this state, the stage 212 is lowered to the vicinity of the bottom surface of the mask stock device 12, and the mask M accommodated in the uppermost end of the upper cassette 210 is positioned in the mask conveying port, And the mask is taken out through the robot hand.

이상과 같이, 본 발명에 따르면, 증착 처리에 사용되기 전의 새 마스크와 증착 처리에 사용된 후의 마스크를 각각 마스크 스톡 장치(12) 내의 별도의 카세트에, 보다 구체적으로는, 새 마스크는 상단 카세트(210)에, 증착 처리에 사용된 후의 카세트는 하단 카세트(211)에 각각 수납하는 것을 일 특징으로 한다. 이와 같이 함으로써, 증착 처리에 사용된 후의 마스크에 부착된 증착 잔류물이 마스크로부터 떨어져 낙하하더라도 이로 인해 증착 처리에 사용되기 전의 새 마스크가 오염되는 것을 방지할 수 있다. As described above, according to the present invention, the new mask before being used in the deposition process and the mask after being used in the deposition process are respectively transferred to a separate cassette in the mask stock device 12, more specifically, 210), and the cassettes after being used in the vapor deposition process are housed in the lower cassettes 211, respectively. By doing so, it is possible to prevent contamination of the new mask before it is used in the deposition process even if the deposition residue adhered to the mask after being used for the deposition process falls off the mask.

또한, 본 발명에 따르면, 상단 및 하단 카세트(210, 211) 각각에 대하여, 마스크를 수납하기 위한 최하단의 높이(카세트 저면으로부터 최하단 지지부까지의 높이: h1)를 그 이외의 단 높이(각 지지부 간의 높이: h2)보다 높게 형성함과 동시에, 상단 카세트(210)로부터 증착 처리에 사용되기 전의 마스크를 반출함에 있어서는 승강 기구의 순차 승강을 통해 최하단에 수납된 마스크로부터 순차적으로 반출하도록 하고 있다. 이와 같이 함으로써, 증착 처리에 사용되기 전의 마스크를 최초 반출할 때에는, 마스크를 수취하는 로봇 핸드가 진입 공간이 충분히 확보된 최하단으로부터 진입하게 되므로, 로봇 핸드의 진입 시 로봇 핸드와 마스크 간의 충돌 간섭을 최대한 회피할 수 있게 된다. 따라서, 로봇 핸드와 마스크 간의 충돌 시 발생할 수 있는 파티클 등에 의한 마스크의 오염도 방지할 수 있게 된다. According to the present invention, with respect to each of the upper and lower cassettes 210 and 211, the height of the lowermost stage for accommodating the mask (the height h1 from the bottom of the cassette to the lowermost support portion) Height: h2). In order to take out the mask before being used for the deposition process from the upper cassette 210, the mask is sequentially carried out from the mask stored in the lowermost stage through the ascending and descending of the ascending and descending mechanisms. By doing so, when the mask before being used in the deposition process is first carried out, the robot hand for receiving the mask enters from the lowermost end where the entrance space is sufficiently secured. Therefore, the collision interference between the robot hand and the mask It can be avoided. Therefore, it is possible to prevent the contamination of the mask due to the particles or the like that may be generated in the collision between the robot hand and the mask.

한편, 두 번째 마스크 반출 시부터는, 그 보다 아래에 수납되어 있던 마스크가 이미 반출되고 난 뒤에 반출 동작이 행해지게 되므로, 이 빈 마스크 공간만큼 로봇 핸드의 진입 공간을 더 많이 확보할 수 있게 되어, 로봇 핸드의 진입 시의 충돌 간섭을 더욱 효과적으로 방지할 수 있게 된다. 나아가, 이와 같이 두 번째 마스크 반출 시부터는 로봇 핸드의 진입 공간이 효과적으로 확보될 수 있으므로, 카세트 최하단보다 위쪽에 위치한 각 단의 높이(h2)는 최하단 높이(h1)보다는 낮게 형성하더라도 마스크의 반출에 장애를 주지 않게 되고, 따라서 그 만큼 카세트 내에 수납 가능한 마스크의 매수를 증가시킬 수 있는 효과가 있다.On the other hand, from the time of the second mask export, the carrying operation is performed after the mask stored below it is already carried out, so that more space for entry of the robot hand can be secured by this empty mask space, It is possible to more effectively prevent the collision interference at the time of entering the hand. In addition, since the space for entry of the robot hand can be effectively secured from the second mask exporting, even if the height h2 of each end located above the lowermost end of the cassette is lower than the lowest end height h1, So that the number of masks that can be accommodated in the cassette can be increased correspondingly.

도 6은 본 발명에 따른 마스크 반입 방법, 즉, 증착 처리에 사용된 후의 마스크(M)를 마스트 스톡 장치(12) 내로 반입하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. Fig. 6 is a view for explaining a mask carry-in method according to the present invention, that is, a method of bringing a mask M into a mast stock apparatus 12 after it has been used in a deposition process.

전술한 바와 같이, 증착 처리에 사용된 후의 마스크는 하단 카세트(211)에 수납된다. 도 6(a)은 하단 카세트(211)에 증착 처리에 사용된 후의 마스크(M)를 최초로 반입할 때의 모습을 도시한 도면이고, 도 6(b)은 하단 카세트(211)에 증착 처리에 사용된 후의 마스크를 마지막으로 반입할 때의 모습을 도시한 도면이다. As described above, the mask after being used for the deposition process is housed in the lower cassette 211. [ 6A is a view showing a state in which the mask M after being used in the vapor deposition process is first carried in the lower cassette 211. Fig. Fig. 8 is a view showing the state when the mask after use is lastly brought in. Fig.

하단 카세트(211)로의 마스크의 반입은, 전술한 상단 카세트(210)로부터의 마스크의 반출과는 역순으로 진행된다. 즉, 증착 처리에 사용된 후의 마스크의 최초 반입 시에는, 마스크 스톡 장치(12)의 대략 중앙 높이의 마스크 반송구 위치에 하단 카세트(211) 최상단의 마스크 수납 공간이 오도록 스테이지(212)를 상승시켜, 하단 카세트(211)의 최상단의 수납 공간으로부터 수납되도록 마스크를 반입한다(도 6(a)). The carrying in of the mask to the lower cassette 211 proceeds in the reverse order to the carrying out of the mask from the upper cassette 210 described above. That is, at the time of initial loading of the mask after being used for the deposition process, the stage 212 is raised so that the mask storage space at the uppermost end of the lower cassette 211 is located at the position of the mask conveying port at the substantially central height of the mask stock device 12 , And the mask is carried so as to be accommodated from the uppermost storage space of the lower cassette 211 (Fig. 6 (a)).

이어서, 증착 처리에 사용된 후의 마스크를 추가로 반입할 때마다, 스테이지(212)를 최초 마스크의 반입 시보다 한 단씩 상승시켜 가면서 하단 카세트(211)의 최하단을 향해 순차로 반입시켜 가고, 마지막으로 최후 마스크의 반입 시에는 스테이지(212)를 최대한 상승시켜 하단 카세트(211)의 최하단 위치에 마스크를 반입한다(도 6(b)).Subsequently, each time the mask after being used in the deposition process is further carried in, the stage 212 is sequentially carried in the direction of the lowermost end of the lower cassette 211, At the time of carrying the last mask, the stage 212 is elevated to the maximum, and the mask is carried to the lowermost position of the lower cassette 211 (Fig. 6 (b)).

이와 같이, 본 발명에 따르면, 하단 카세트(211)에 증착 처리에 사용된 후의 마스크를 반입할 때, 최상단으로부터 아래쪽으로 순차적으로 반입·수납해 가기 때문에, 전술한 마스크 반출과 마찬가지로, 마스크 반입 시에도 로봇 핸드의 진입 공간이 충분히 확보된 상태에서 반입 동작을 수행할 수 있게 되어, 로봇 핸드와 마스크 간의 충돌 간섭을 최대한 회피할 수 있게 된다. 또한, 이러한 로봇 핸드의 진입 공간은 하단 카세트(211) 최하단 위치로의 마스크 반입 시 간섭을 방지할 수 있는 공간을 확보하는 것으로 충분하기 때문에, 하단 카세트(211) 최하단보다 위쪽에 위치한 각 단의 높이(h2)는 최하단 높이(h1)보다는 낮게 형성하더라도 마스크의 반입에 장애를 주지 않게 되고, 따라서 그 만큼 카세트 내에 수납 가능한 마스크의 매수를 증가시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, when the mask after being used in the deposition process is carried in the lower cassette 211, the mask is carried in and out sequentially from the uppermost stage to the lower stage. The carry-in operation can be performed in a state in which the entrance space of the robot hand is sufficiently secured, so that the collision interference between the robot hand and the mask can be avoided as much as possible. Since the space for entering the robot hand is sufficient to secure a space for preventing interference when the mask is brought into the lowest position of the lower cassette 211, even if the height h2 is set to be lower than the lowermost height h1, there is no obstacle to bringing in the mask, and thus the number of masks that can be accommodated in the cassette can be increased accordingly.

이상, 본 발명을 실시하기 위한 형태를 구체적으로 설명하였지만, 본 발명의 취지는 이들 기재로 한정되는 것은 아니고, 특허청구의 범위의 기재에 기초하여 넓게 해석되어야 한다. 또한, 이들 기재에 기초하여, 다양한 변경, 개변 등을 한 것 역시 본 발명의 취지에 포함되는 것은 말할 필요도 없다. Although the embodiments for carrying out the present invention have been described above concretely, the spirit of the present invention is not limited to these embodiments, but should be broadly interpreted based on the description of the claims. It is needless to say that various changes, modifications, and the like based on these descriptions are included in the spirit of the present invention.

예를 들어, 이상의 설명에서는, 마스크 스톡 장치(12)에 본 발명을 적용한 예에 대해 주로 설명하였으나, 처리 전의 처리체와 처리 후의 처리체(예컨대, 성막 전의 기판과 성막 완료 후의 기판 등)를 함께 다단식으로 수납하는 임의의 처리체 수납 장치에 대하여, 본 발명에 따른 수납 장치의 구조 및 반출입 방법을 적용할 수 있다.For example, in the above description, the example in which the present invention is applied to the mask stock device 12 has been mainly described. However, it is also possible to use the processing body before processing and the processing body after processing (for example, a substrate before film formation and a substrate after completion of film formation) The structure of the accommodating apparatus according to the present invention and the loading and unloading method can be applied to any processing body accommodating apparatus to be accommodated in a multistage manner.

1: 성막 클러스터
11: 성막실
12: 마스크 스톡 장치
13: 반송실
14: 반송 로봇
15: 패스실
16: 버퍼실
17: 선회실
100: 증발원 유닛
110: 증발원
S: 기판
111: 기판 홀더
M: 마스크
112: 마스크 홀더
116: 전원
113: 막두께 계측기
114: 막두께 모니터
115: 회전이동부
210: 상단 카세트
211: 하단 카세트
212: 스테이지
213: 지지부
214: 가이드 레일
215: 가이드 블록1: Tape Clusters
11: The deposition room
12: mask stock device
13: Carrier
14: Transfer robot
15: Pass room
16: buffer chamber
17: Turning room
100: evaporation source unit
110: evaporation source
S: substrate
111: substrate holder
M: Mask
112: mask holder
116: Power supply
113: Thickness measuring instrument
114: Film thickness monitor
115:
210: Upper cassette
211: Lower cassette
212: stage
213: Support
214: guide rail
215: guide block

Claims (22)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 처리 전의 처리체가 다단식으로 복수 수납된 제1 처리체 수납 카세트로부터 상기 처리 전의 처리체를 반출하고, 처리 후의 처리체를 다단식으로 수납 가능한 복수의 수납부가 구비된 제2 처리체 수납 카세트에 상기 처리 후의 처리체를 반입하는, 처리체 반출입 방법으로서,
상기 제1 및 제2 처리체 수납 카세트는, 처리체 수납 장치 내에, 상기 제2 처리체 수납 카세트의 상부에 상기 제1 처리체 수납 카세트가 배치되도록 설치되고,
상기 제1 처리체 수납 카세트에 수납된 상기 처리 전의 처리체를, 상기 제1 처리체 수납 카세트의 최하단에 수납되어 있는 처리체로부터 순차로 반출하고,
상기 처리 후의 처리체를, 상기 제2 처리체 수납 카세트의 최상단으로부터 하단을 향하는 순으로 상기 제2 처리체 수납 카세트로 반입하고,
상기 제1 처리체 수납 카세트의 상기 최하단에 수납되어 있는 상기 처리 전의 처리체의 반출에서부터 상기 제2 처리체 수납 카세트의 최하단의 상기 수납부로의 상기 처리 후의 처리체의 반입에 이르기까지, 각 처리체 단위별로, 상기 제1 처리체 수납 카세트로부터의 상기 처리 전의 처리체의 반출 및 상기 제2 처리체 수납 카세트로의 상기 처리 후의 처리체의 반입이 교대로 행해지는 것을 특징으로 하는 처리체 반출입 방법. The processing object before the processing is taken out from the first processing object storage cassette in which a plurality of processing bodies before the processing are stacked in a plurality of stages and a plurality of processing units in which the processing bodies after the processing are stacked can be stored in the second processing object storage cassette, A processing body loading / unloading method for loading a processing body,
Wherein the first and second processing object storage cassettes are installed in the processing object storage device so that the first processing object storage cassette is disposed above the second processing object storage cassette,
The processing object before the processing stored in the first processing object storage cassette is sequentially taken out from the processing object stored in the lowermost end of the first processing object storage cassette,
The processing object after the processing is carried into the second processing object storage cassette in the order from the uppermost end to the lower end of the second processing object storage cassette,
From the unloading of the processing object before the processing stored in the lowermost end of the first processing object storage cassette to the loading of the processing object after the processing into the storage section at the lowermost end of the second processing object storage cassette, The processing body is carried out from the first processing body storage cassette for each unit and the processing body is carried into the second processing body storage cassette after the processing is carried out alternately. 제12항에 있어서,
상기 처리체 수납 장치는, 상하로 배치된 상기 제1 및 제2 처리체 수납 카세트를 적재하는 스테이지와, 상기 스테이지를 승강시키는 승강 기구와, 상기 제1 처리체 수납 카세트로부터의 상기 처리 전의 처리체의 반출 및 상기 제2 처리체 수납 카세트로의 상기 처리 후의 처리체의 반입을 위한 반송구를 갖는 용기를 포함하고,
상기 처리 전 처리체의 반출에서는,
상기 제1 처리체 수납 카세트의 상기 최하단에 수납되어 있는 상기 처리 전의 처리체로부터 순차적으로 각 상기 처리 전의 처리체가 상기 반송구의 위치에 오도록, 상기 승강 기구에 의해 상기 제1 처리체 수납 카세트를 순차로 하강시켜, 상기 반송구의 위치에 온 처리 전의 처리체를 순차 반출하고,
상기 처리 후의 처리체의 반입에서는,
상기 제2 처리체 수납 카세트의 상기 최상단으로부터 하단에 걸쳐 상기 처리 후의 처리체를 순차적으로 수납하도록, 상기 승강 기구에 의해 상기 제2 처리체 수납 카세트를 순차로 상승시켜, 상기 처리 후의 처리체를 순차 반입하는 것을 특징으로 하는 처리체 반출입 방법.13. The method of claim 12,
The processing body accommodating apparatus includes a stage for stacking the first and second processing object storage cassettes arranged vertically, a lifting mechanism for lifting and lowering the stage, a processing body before the processing from the first processing body storage cassette, And a container having a transporting port for transporting the processing body into the second processing body storage cassette after the processing,
In carrying out the pre-treatment object,
The first processing object storage cassettes are sequentially moved by the lifting mechanism such that the processing bodies before the processing are sequentially positioned from the processing body before the processing stored in the lowermost end of the first processing object storage cassette to the position of the transporting mouth The processing object before the on-processing is sequentially taken out at the position of the transporting port,
In the carrying-in of the processing body after the above processing,
The second processing object storage cassettes are sequentially raised by the lifting mechanism such that the processing bodies after the processing are sequentially stored from the uppermost end to the lower end of the second processing object storage cassette, And transferring the processing object into the processing container. 삭제delete 제12항 또는 제13항에 있어서,
상기 복수의 처리체는, 진공 증착에 사용되는 마스크인 것을 특징으로 하는 처리체 반출입 방법. The method according to claim 12 or 13,
Wherein the plurality of processing bodies are masks used for vacuum deposition. 제12항 또는 제13항에 있어서,
상기 복수의 처리체는, 진공 증착을 통해 성막되는 기판인 것을 특징으로 하는 처리체 반출입 방법.The method according to claim 12 or 13,
Wherein the plurality of processing bodies are substrates that are formed through vacuum vapor deposition. 처리실에서 기판의 표면에 증발원으로부터의 증발원 재료를 마스크를 거쳐 퇴적시켜 성막을 행하는 증착 방법으로서,
제12항 또는 제13항에 기재된 처리체 반출입 방법에 있어서의 상기 처리체를 상기 마스크로 하고,
상기 처리체를 사용하여 상기 기판에 대한 상기 증발원에 의한 증착을 행하는 것을 특징으로 하는 증착 방법.A deposition method for depositing an evaporation source material from an evaporation source on a surface of a substrate in a treatment chamber via a mask,
The process body according to claim 12 or 13, wherein the processing body is used as the mask,
And the evaporation source is caused to evaporate on the substrate by using the processing body. 기판에 형성된 유기막 및 금속막의 적어도 한쪽 막을 가지는 전자 디바이스의 제조 방법으로서,
제17항의 증착 방법에 의해 상기 적어도 한쪽의 막이 형성되는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.A method of manufacturing an electronic device having at least one film of an organic film and a metal film formed on a substrate,
The method of manufacturing an electronic device according to claim 17, wherein the at least one film is formed by the vapor deposition method. 제18항에 있어서,
상기 전자 디바이스는, 표시 패널인 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.19. The method of claim 18,
Wherein the electronic device is a display panel. 표시 패널의 제조 방법으로서,
제12항 또는 제13항에 기재된 처리체 반출입 방법을 사용해서 상기 처리체를 반송하는 표시 패널의 제조방법.A manufacturing method of a display panel,
A method for manufacturing a display panel, which transports the processing body by using the processing body loading / unloading method according to claim 12 or claim 13. 삭제delete 삭제delete
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