KR101934292B1 - Ｒｆ파워를 이용한 가열조리기기 - Google Patents

Abstract

RF 파워를 이용한 가열조리기기가 개시된다. 본 발명에 따른 실시예들은, RF용 전극을 포함하는 가열장치로부터 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 RF 파워를 조절하여 공급하는 것이 가능하고, RF용 전극 자체를 히터로 구성하는 전극 및 히터 일체형 가열장치를 구현함으로써 소형화된 RF 히팅 기술을 가열조리기기에 적용할 수 있으며, RF 파워 생성부와 다수의 전극들 사이에 적어도 하나의 스위치를 구비하여 피가열체가 놓여진 위치의 전극에만 선택적으로 RF 파워가 인가될 수 있도록 구현함으로써, 전력 손실을 예방하고 사용자 편의를 제공할 수 있다.

Description

ＲＦ파워를 이용한 가열조리기기{HEATING COOKING APPLIANCE MICROWAVE USING RF POWER}

본 발명은 RF 파워를 이용한 가열조리기기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 RF용 전극을 포함하는 가열장치로부터 조리물에 형성되는 전기장의 세기에 따라 RF 파워를 조절하여 공급할 수 있도록 한 RF 파워를 이용한 가열조리기기에 관한 것이다.

일반적으로 가열조리기기에는 예를 들어 오븐, 전자레인지 등 다양한 제품들이 있다. 전자레인지는 마그네트론만을 구비하거나 마그네트론 및 히터를 이용하여 음식물을 조리하는 기기이다. 또한, 오븐은 조리재료를 밀폐시킨 후 가열하여 건열(乾熱)로 음식을 익힐 수 있도록 설계된 조리기구이다.

한편, 고주파 RF 히팅기술은 주로 산업용 히팅 또는 대용량 해동기기에 적용되는데, 가정용 가열조리기기에 상기 고주파 RF 히팅기술을 적용하기 위해서는 기존 가열조리기기와 간섭되지 않는 구조로 형성될 필요가 있다.

이에, 본 발명의 실시예들은 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 RF용 전극에 인가되는 파워의 크기를 조절하여 공급할 수 있도록 한 RF 파워를 이용한 가열조리기기를 제공하는데 그 목적이 있다.

또한, 본 발명의 실시예들은 RF용 전극 자체를 히터로 구성하여 보다 소형화된 가열장치 구조를 갖고 다수의 전극들 중 원하는 위치의 전극에만 선택적으로 파워가 공급될 수 있도록 한 RF 파워를 이용한 가열조리기기를 제공하는데 다른 목적이 있다.

본 발명의 실시예에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기는, 캐비티와, 상기 캐비티의 전면에 설치되어 상기 캐비티를 개폐하는 도어와; 상기 캐비티의 적어도 일측 내벽면에 설치되어, 수용된 피가열체에 고주파열을 공급하는 제1가열부와; 상기 제1가열부와 이격 또는 접합되고, 상기 제1가열부를 보조하여 상기 피가열체에 고주파열을 공급하는 제2가열부와; 전송회로를 통해 상기 제1가열부 및 제2가열부와 연결되고, RF 파워를 생성하여 상기 제1가열부 및 제2가열부에 공급하는 RF 파워 생성부;를 포함하고, 상기 RF 파워 생성부는 상기 제1가열부 및 제2가열부로부터 상기 피가열체에 사이에 형성되는 전기장의 세기에 따라 상기 RF 파워를 조절하여 공급하는 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 제1가열부 및 제2가열부는 전극과 히터가 일체로 형성된 구조인 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 제1가열부 및 제2가열부는 전극과 히터가 분리형 구조로 형성되고, 상기 제1가열부 및 제2가열부 중 적어도 하나의 전극은 서로 이격 및 접근이 가능한 이동전극을 포함하는 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 제1가열부는 피가열체의 하면에 위치하고, 상기 제1가열부의 전극 표면은 절연체 재료로 코팅되는 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 제1가열부는 RF파워가 공급되면 회전가능하도록 형성되는 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 피가열체의 하면에 설치되는 회전가능한 트레이를 더 포함하고, 상기 트레이는 고주파열이 전달될 수 있는 유전체로 이루어지는 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 RF 파워 생성부는, 상기 생성된 RF 파워가 상기 제1가열부 및 제2가열부 중 적어도 하나의 전극에 선택적으로 공급되도록 상기 RF 파워의 전송경로를 분기시키는 하나 이상의 스위치를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.

일 실시예에서, 상기 RF파워는 10MHz 내지 50MHz 범위내의 ISM 밴드 대역의 고주파를 사용하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 실시예에 따른 RF 파워를 이용한 가열조리기기에 의하면, RF용 전극을 포함하는 가열장치로부터 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 RF 파워를 조절하여 공급함으로써 보다 효율적인 가열조리가 이루어지는 효과가 있다.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 RF 파워를 이용한 가열조리기기에 의하면, RF용 전극 자체를 히터로 구성한 가열장치를 구현함으로써 소형화된 RF 히팅 기술을 가열조리기기에 사용할 수 있다.

나아가, 본 발명의 실시예에 따른 RF 파워를 이용한 가열조리기기에 의하면, RF 파워 생성부와 다수의 전극들 사이에 적어도 하나의 스위치를 구비하여서 피가열체가 놓여진 위치의 전극에만 선택적으로 RF 파워가 인가될 수 있도록 구현함으로써, 전력 손실을 예방하고 사용자 편의를 제공한다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기의 개략적인 도면;
도 2는 본 발명의 실시예에 따라, 전극과 히터가 일체형으로 구성되는 RF 파워를 이용한 조리기기의 캐비티 내부 개략도;
도 3은 본 발명의 실시예에 따라, 전극과 히터가 분리형으로 구성되는 RF 파워를 이용한 조리기기의 캐비티 내부 개략도;
도 4a 내지 4c는 본 발명의 실시예에 따라, 전극이 피가열체의 하면에 구성되는 RF 파워를 이용한 조리기기를 보인 도면;
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기에서, 스위치를 이용하여 선택적으로 RF 파워를 전극에 공급하는 전극회로도이다.

이하에서는, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기를 보다 상세하게 기술한다.

먼저, 본 발명의 실시예에 따른 가열조리기기는, 캐비티와, 상기 캐비티의 전면에 설치되어 상기 캐비티를 개폐하는 도어와, 상기 캐비티의 적어도 일측 내벽면에 설치되어, 수용된 피가열체에 고주파열을 공급하는 제1가열부와, 상기 제1가열부와 이격 또는 접합되고, 상기 제1가열부를 보조하여 상기 피가열체에 고주파열을 공급하는 제2가열부를 포함하며, 전송회로를 통해 상기 제1가열부 및 제2가열부와 연결되고, RF 파워를 생성하여 상기 제1가열부 및 제2가열부에 공급하는 RF 파워 생성부를 더 포함한다. 여기서, 상기 RF 파워 생성부는 상기 제1가열부 및 제2가열부로부터 상기 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 상기 생성된 RF 파워를 조절하여 공급한다.

도 1을 참조하여, 본 발명에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기의 개략적인 구성을 살펴보면, 조리를 위해 피가열체를 수용하는 캐비티(30)와, 상기 캐비티 전면 상부에 설치되어 조리기기를 제어하기 위한 제어패널(2)과, 상기 캐비피(30) 본체를 상하 또는 좌우로 개폐하기 위한 도어(35)를 포함하여 이루어진다. 또, 상기 조리기기는 수용된 피가열체를 고주파열(RF)로 가열하기 위한 하나 이상의 가열장치를 더 포함한다. 상기 가열장치에서 발생하는 고주파 열에너지는 대류현상이나 복사현상에 의해 피가열체에 전달된다. 또, 상기 조리기기의 캐비티(30) 내부에는 피가열체의 종류에 따라 전력을 공급하기 위한 변압기(미도시)가 더 설치될 수 있다.

본 발명에 따른 실시예에서, 상기 가열장치는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 캐비티(30)의 적어도 일측 내벽면에 설치되어서, 수용된 피가열체에 고주파열을 공급하는 제1가열부(21)를 포함한다. 또한, 상기 가열장치는 상기 제1가열부(21)와 이격 또는 접합되어 설치되고, 상기 제1가열부(21)를 보조하여 상기 피가열체에 고주파열을 공급하는 제2가열부(22)를 포함한다.

여기서는, 상기 제1가열부(21)와 제2가열부(22)가 상하로 이격되어 설치되었으나, 다른 실시예에서는 좌우 대향되어 설치되거나 또는 캐비티(30)의 내벽면 일측에 접합되어 설치되는 것으로 구현가능하다.

상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)는 각각 하나 이상의 전극을 포함하며, 연결된 전원공급원으로부터 전력을 공급받아 피가열체, 예를 들어 조리물을 가열시키기 위한 열에너지를 발생한다. 본 발명에 따른 실시예에서는 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)가 RF 파워를 공급받아 피가열체에 고주파열을 공급한다.

이를 위해, 본 발명에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기는 전송회로를 통해 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22) - 특히 각각에 포함된 전극들 - 와 연결되며, RF 파워를 생성하여 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)에 공급하기 위한 RF 파워 생성부(10)를 더 포함한다.

상기 RF 파워 생성부(10)는 캐비티(30)로부터 이격 및 노출되어 설치되거나 또는 캐비티(30)의 내부 후면에 설치될 수 있다.

또한, 상기 RF 파워 생성부(10)는 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)로부터 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 상기 생성된 RF 파워를 조절하여 공급한다. 즉, RF 파워 생성부(10)에 의해 생성된 RF 파워가 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)에 공급되면, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)에서는 고주파열을 발생시키고, 그에 따라 피가열체 주변에는 소정 크기의 전기장이 형성된다.

실시예에서, 상기 RF 파워 생성부(10)는 약 10MHz 내지 50MHz 범위내의 ISM밴드 대역의 고주파를 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 상기 RF 파워 생성부(10)에 의해 생성된 RF 파워는 13.56MHz, 27.12MHz, 40.68MHz의 ISM밴드 대역의 고주파를 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)의 전극들에 공급할 수 있다.

또한, RF 파워 생성부(10)는 상기 RF 파워 생성부(10)에 전원을 공급하기 위한 전원공급부를 포함한다. 즉, RF 파워 생성부(10)는 전원공급부로부터 고압의 승압된 직류 전원을 입력받아 RF 파워를 생성하여 전송회로를 통해 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)로 출력하고, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)는 RF 파워로부터 생성시킨 고주파열을 캐비티(30)로 방출하게 된다. 그에 따라, 캐비티(30) 내부에 수용된 피가열체(1), 예를 들어, 조리물이 가열된다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 전극과 히터가 일체로 형성되는 구조로 이루어질 수 있다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 각각 전극(21a, 22a)과 히터(21b, 22b)가 별개로 구비되는 분리형 구조로 형성될 수 있다. 이 경우에는, RF 파워 생성부(10)로부터 생성된 RF 파워가 전기회로를 통해 각각의 전극(21a, 22a)에 인가되면 접합된 각각의 히터(21b, 22b)로 전달되어고주파열이 발생된다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)의 전극은, 도 4a에 도시된 바와 같은 사각의 형상으로 이루어져서 피가열체가 그 상부에 접하는 것으로 구현될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 원형, 링(ring)형 등 다양한 형태로 구현가능하다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22) 중 적어도 하나는, 도 4b 및 도 4c에 도시된 바와 같이 캐비티(30)의 내부 하면에 위치하여 피가열체가 그 상부에 올려지는 구조로 형성될 수도 있다. 이때, 캐비티(30) 내부의 하면에 설치되는 제1가열부(21) 및/또는 제2가열부(22)는 전극 구조물의 오염을 방지하기 위해, 구비된 전극의 표면이 절연체 재료로 코팅된다. 이와 같은 절연체 재료에는 예를 들어, 세라믹, 플라스틱, 유리 등이 포함된다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22) 중 적어도 하나가 캐비티(30)의 내부 하면에 설치되고, 그 전극구조가 절연체 재료로 코팅되는 구조인 경우에는, RF 파워 생성부(10)로부터 RF 파워가 전극구조에 인가됨에 따라 코팅된 제1가열부(21) 및/또는 제2가열부(22) 제자리 회전가능하도록 구현될 수 있다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22) 중 적어도 하나는 서로 이격 및 접근가능한 이동전극을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)가 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 상하 대향하는 구조인 경우 캐비티(30)의 내부 상면에 위치한 제1가열부(21)는 상하 이동가능한 전극을 포함하여 전기장의 세기를 조절할 수 있다. 이때, 이동전극은 전도체로 이루어지는 것이 바람직한다. 상기 이동전극의 표면은 비전도성 재질로 코팅되어 있는 코팅층이 형성되어, 사용자가 이동전극을 이동시킬때도 안전하게 파지할 수 있도록 구현할 수 있다. 또한, 이동전극을 포함하는 제1가열부(21) 및/또는 제2가열부(22)는 전극과 히터가 일체형으로 된 구조이거나 또는 전극과 히터가 분리형으로 되는 구조일 수 있다.

또한, 상기 제1가열부(21) 및/또는 제2가열부(22)의 주변에는 RF 파워가 공급됨에 따라 발생된 고주파열을 캐비티(30) 내부에 골고루 분포하기 위한 송풍팬(미도시)이 더 설치될 수 있다.

또한, 도 4b 및 4c를 참조하면, 캐비티(30)의 내부 하면에는 피가열체(1)가 올려지는 트레이(50)가 설치될 수도 있다. 여기서, 상기 트레이(50)는 상기 트레이(50)를 가이드 하기 위해 마련된 랙(미도시) 위에 착탈가능하게 설치되거나 또는 캐비티(30) 내부 하면에 고정되어 설치될 수 있다. 또한, 상기 트레이(50)는 피가열체가 놓이는 부분의 표면이 예를 들어 플라즈마 표면처리될 수 있다.

또한, 상기 트레이(50)는 회전가능한 구조로 이루어지며, 상기 트레이(50)에 전달된 RF 고주파열이 피가열체에 전도될 수 있는 유전체로 이루어지는 것이 바람직하다. 이와 같은 유전체 재료에는, 예를 들어 세라믹, 플라스틱, 유리 등이 포함된다.

또한, 상기 제어패널(2)은 조리기기의 운전을 조작하기 위한 조작부(미도시)와, 조리기기의 현재 동작을 표시하기 위한 표시부(미도시)를 포함하여 이루어진다.

또한, 상기 도어(35)는 힌지가 결합되어 상기 캐피티(30) 본체를 상하 또는 좌우로 개폐한다. 상기 도어(35)는 캐비티(30) 본체의 전면에서 슬라이딩 되도록 설치될 수 있다. 상기 도어(35)는 테두리를 형성하는 도어 프레임(미도시)과 상기 도어 프레임의 내부에 설치되는 도어 글래스(미도시)를 포함하여 이루어질 수 있다. 여기서, 상기 도어 글래스는 사용자가 상기 조리기기 본체의 내부를 확인할 수 있도록 투명하고, 열에 강한 내열성의 재질로 제작되는 것이 바람직하다.

또한, 상기 캐비티(30)는, 예를 들어 천장을 형성하는 어퍼 플레이트(upper plate)와, 캐비티(30)의 후면을 형성하는 리어 플레이트(rear plate)와, 캐비티(30)의 바닥면을 형성하는 바텀 플레이트(bottom plate)와, 캐비티(30)의 측면을 형성하는 사이드 플레이트(side plate)에 의해 형성될 수 있다. 한편, 캐비티(30)의 전면에 설치된 도어(35) 외의 영역에는, 캐비티(30)의 전면을 형성하는 프론트 플레이트(front plate)가 형성될 수도 있다.

RF 파워 생성부(10)는 캐비티(30)에 수용된 피가열체의 종류, 양, 체적 등에 따라 제어패널(2)에 표시되는 최적의 전기장 세기를 참고하여, 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)의 전극에 인가되는 RF 파워의 크기를 조절할 수 있다.

한편, 적어도 하나의 이동전극을 포함하는 경우에는, 상기 RF 파워 생성부(10)는 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)로부터 피가열체에 형성되는 전기장의 세기만을 감지하고 제어패널(2)을 통해 또는 자동으로 이동전극의 이동시킴으로써 피가열체에 형성되는 전기장의 세기를 조절할 수도 있다.

구체적으로, 전기장의 세기는 전극간의 거리에 반비례하므로, 전기장의 세기는 전극간의 거리(d)가 작을수록 강해진다. 따라서, 피가열체(1)에 형성된 전기장의 세기가 작거나 필요에 따라 전기장의 세기를 증가시켜야하는 경우에는 적어도 하나의 이동전극을 이동시켜서 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)가 접근하도록 제어패널(2) 등을 조절하여 전기장의 세기를 증가시킬 수 있다. 한편, 피가열체(1) 주변에 형성되는 전기장의 세기를 감소시켜야 하는 경우에는 이와 유사하게 적어도 하나의 이동전극을 이동시켜서 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)가 이격되도록 제어패널(2) 등을 조절함으로써 전기장의 세기를 감소시킬 수 있다.

도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 가열조리기기는 RF 파워가 제1가열부 및 제2가열부 중 적어도 하나의 전극에 선택적으로 공급될 수 있도록 상기 RF 파워의 전송경로를 분기시키는 하나 이상의 스위치(40)를 더 포함할 수 있다.

상기 스위치(40)는, 도시된 바와 같이, RF 파워 생성부(10)와 다수의 RF용 전극을 구비한 가열장치(21,22) 사이에 마련된다. 예를 들어, RF 파워 생성부(10)와 연결된 전송회로는 스위치(40)의 스위칭 동작에 따라 적어도 하나의 애노드 전극과 연결된다. 즉, 상기 스위치(40)는 RF 파워의 전달 경로를 다수로 분리시킬 수 있다.

여기서는 하나의 스위치(40)만을 구비하여 RF 파워 생성부(10)가 단 하나의 애노드 전극과 연결되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않고 복수의 스위치들을 구비하여 선택된 다수의 애노드 전극에 동시에 RF 파워가 인가되도록 구현가능하다. 또한, 복수의 RF 파워 생성부(10)를 구비하여 다수의 애노드 전극들에 선택적으로 RF 파워를 공급하는 것도 구현가능하다.

이에 의하면, RF 파워 생성부와 다수의 전극들 사이에 적어도 하나의 스위치를 구비하여서 피가열체가 놓여진 위치의 애노드 전극에만 선택적으로 RF 파워가 인가될 수 있도록 구현함으로써, 에너지를 절약할 수 있다.

이와 같은 구성에 의한, 본 발명의 실시예들에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기는 다음과 같이 동작한다.

먼저, 전원공급부를 통해 승압된 직류전원이 RF 파워 생성부(10)에 공급되면, 상기 RF 파워 생성부(10)는 예를 들어, 10MHz 내지 50MHz 범위내의 ISM 밴드 대역의 고주파를 갖는 RF 파워를 생성하여 전기회로를 통해 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)의 전극에 인가한다. 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)에 인가된 RF 파워는 공급된 전력만큼 히터를 통해 고주파열을 발생시켜서 캐비티(10) 내부에 출력한다. 출력된 고주파열은 캐비티(30)의 내부에 수용된 피가열체에 빠르게 전달됨으로써 조리가 이루어진다. 이때, RF 파워 생성부(10)에서는 제1가열부(21) 및 제2가열부(22)로부터 피가열체에 전달되는 전기장의 세기를 조절하기 위해, RF 파워의 크기를 조절하여 제1가열부(21) 및 제2가열부(22) 공급할 수 있다.

이에 의하면, RF용 전극을 포함하는 가열장치로부터 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 RF 파워를 조절하여 공급함으로써 보다 효율적인 가열조리가 이루어질 수 있다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시 예들에 따른 RF 파워를 이용한 조리기기에 의하면, RF용 전극을 포함하는 가열장치로부터 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 RF 파워를 조절하여 공급함으로써 보다 효율적인 가열조리가 가능하고, RF용 전극 자체를 히터로 구성함으로써 소형화된 RF 히팅 기술을 사용할 수 있고, RF 파워 생성부와 다수의 전극들 사이에 적어도 하나의 스위치를 구비하여서 피가열체가 놓여진 위치의 전극에만 선택적으로 RF 파워가 인가될 수 있도록 구현함으로써, 전력 손실을 예방할 수 있다.

1 - 피가열체 2 - 제어패널
10 - RF 파워 생성부 21, 22 - 가열장치
30 - 캐비티 35 - 도어
40 - 스위치 50 - 트레이

Claims (8)

1. 캐비티와, 상기 캐비티의 전면에 설치되어 상기 캐비티를 개폐하는 도어;
   상기 캐비티의 적어도 일측 내벽면에 설치되어, 수용된 피가열체에 고주파열을 공급하는 복수의 전극으로 이루어진 제1가열부;
   상기 제1가열부와 이격 또는 접합되고, 상기 제1가열부를 보조하여 상기 피가열체에 고주파열을 공급하는 복수의 전극으로 이루어진 제2가열부; 및
   전송회로를 통해 상기 제1가열부 및 제2가열부와 연결되고, RF 파워를 생성하여 상기 제1가열부 및 제2가열부에 공급하는 RF 파워 생성부;를 포함하되,
   상기 RF 파워가 공급됨에 따라 발생된 상기 고주파열을 상기 캐비티 내부에 분포하는 송풍팬; 및
   상기 RF 파워의 전송경로를 상기 제1가열부 및 제2가열부 각각의 복수의 전극 각각으로 분기시키는 하나 이상의 스위치;를 더 포함하고,
   상기 RF 파워 생성부는 상기 제1가열부 및 제2가열부로부터 상기 피가열체에 형성되는 전기장의 세기에 따라 상기 생성된 RF 파워를 조절하여 공급하고,
   상기 스위치는 상기 RF 파워가 상기 제1가열부 또는 제2가열부의 복수의 전극 중 어느 하나의 전극에 선택적으로 공급되도록 동작하여, 상기 RF 파워가 공급된 전극에서 가열이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.
2. 제1 항에 있어서,
   상기 제1가열부 및 제2가열부는 전극과 히터가 일체로 형성된 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.
3. 제1 항에 있어서,
   상기 제1가열부 및 제2가열부는 전극과 히터가 분리된 구조로 이루어지고, 상기 제1가열부 및 제2가열부 중 적어도 하나는 서로 이격 및 접근가능한 이동전극을 포함하는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.
4. 제1 항에 있어서,
   상기 제1가열부는 피가열체의 하면에 위치하고, 상기 제1가열부는 전극의 표면이 절연체 재료로 코팅되는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.
5. 제4 항에 있어서,
   상기 제1가열부는 RF파워가 공급되면 회전가능한 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.
6. 제1 항에 있어서,
   상기 피가열체의 하면에 설치되는 회전가능한 트레이를 포함하고, 상기 트레이는 고주파열이 전도될 수 있는 유전체로 이루어지는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.
7. 삭제
8. 제1 항에 있어서,
   상기 RF파워는 10MHz 내지 50MHz 범위내의 ISM밴드 대역의 고주파를 사용하는 것을 특징으로 하는,
   RF 파워를 이용한 가열조리기기.

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