KR101917759B1 - Method for manufacturing flexible printed circuits board and flexible printed circuits board - Google Patents

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Abstract

연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법이 개시되며, 상기 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법은, (a) 내층 랜드(LAND)가 형성되도록 내층 기판 부재의 내측 동박층의 일부가 노출되게 상기 내층 기판 부재와 외층 기판 부재가 적층된 다층 구조체를 제조하는 단계; (b) 상기 다층 구조체의 층간 통전을 위하여 상기 다층 구조체에 홀을 가공하는 단계; (c) 상기 홀의 내면을 포함하는 상기 다층 구조체의 표면 영역에 동도금층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층이 제거되지 않도록 상기 동도금층을 부분적으로 제거하여 외측 회로 패턴 및 내층 랜드부를 형성 하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing an inner layer non-shielding manufacturing method of a flexible printed circuit board, comprising the steps of: (a) exposing a portion of an inner copper layer of an inner layer substrate member so that an inner layer land (LAND) Forming a multilayered structure in which the inner layer substrate member and the outer layer substrate member are laminated; (b) processing holes in the multi-layer structure for interlayer energization of the multi-layer structure; (c) forming a copper plating layer on a surface region of the multilayered structure including the inner surface of the hole; And (d) partially removing the copper-plated layer so that the copper-plated layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer is not removed, thereby forming the outer circuit pattern and the inner layer land.

Description

연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법 및 연성 인쇄 회로 기판{METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE PRINTED CIRCUITS BOARD AND FLEXIBLE PRINTED CIRCUITS BOARD}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a flexible printed circuit board,

본원은 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법 및 연성 인쇄 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an inner layer non-shielding manufacturing method of a flexible printed circuit board and a flexible printed circuit board.

다층 연성 인쇄 회로 기판은 내층과 외층 회로를 가진 입체구조의 회로기판으로 전자제품에서 입체배선에 의한 고밀도 부품실장 및 선거리의 단축이 가능하여 전자제품의 소형화, 경량화를 위해 필수적인 회로기판 구조이다. 그런데, 종래에는 다층 연성 인쇄 회로 기판의 제조시에 외층의 회로 패턴을 구현하는 과정에서 내층에 형성되어 있던 내층 랜드(LAND)를 손상시켜 전체 제품의 불량을 야기하는 경우가 있었다.A multi-layer flexible printed circuit board is a three-dimensional circuit board having an inner layer and an outer layer circuit. It is an essential circuit board structure for miniaturization and weight reduction of electronic products because it enables high-density component mounting and wire distance reduction by three-dimensional wiring in electronic products. Conventionally, in the process of fabricating the circuit pattern of the outer layer at the time of manufacturing the multilayer flexible printed circuit board, the inner layer land (LAND) formed in the inner layer is damaged, resulting in the failure of the entire product.

이에 따라, 이러한 내층 랜드의 손상을 방지하기 위해, 종래에는 내층 랜드를 차폐하여 외층 공정 진행시 문제가 없게 한다. 예시적으로, 내층 랜드를 보호하기 위해 STRIP MASK 방식, 외층 뜯기 방식, 박리형 INK 방식 등이 다층 연성 인쇄 회로 기판의 제조시에 적용된다.Thus, in order to prevent such inner layer lands from being damaged, conventionally, the inner layer lands are shielded so that there is no problem in progressing the outer layer process. Illustratively, the STRIP MASK method, the outer layering method, the peelable INK method, and the like are applied to manufacture the multilayer flexible printed circuit board in order to protect the innerlayer land.

먼저 STRIP MASK 방식에 대해 설명하자면, 열 또는 IR (INFRA RED)빛에 의해서 경화는 되나 제거가 가능한 잉크(INK)를 STRIP MASK 라고 하는데, 이를 원하는 형상으로 제품(내층)에 인쇄하고 이후 수행되는 동도금이나 Etching 등의 용액을 사용하는 공정으로부터 내층 LAND를 보호하는 방식을 STRIP MASK 방식이라고 한다. 잉크의 인쇄는 제판의 망사를 선택적으로 막거나 열리게 하여 망사의 열린 부분을 통하여 잉크가 흘러 내리게 함으로써 도포가 이루어지고 이것이 건조되어 경화됨으로써 수행된다. 이후, 필요 공정이 진행되고, 필요 공정 진행 후, 수작업으로 인쇄된 STRIP MASK 를 제거하여 내층 LAND를 노출시킬 수 있다. 그런데, 이러한 STRIP MASK 방식에 의하면, STRIP MASK의 제거가 어렵고, 잔사 불량이 다량 발생하며, STRIP MASK 방식을 수행하는데 있어서 공간적 제약이 크고, STRIP MASK의 들뜸 시, 공정 수행 중 사용되는 용액이 내층 LAND에 침투할 수 있으며, STRIP MASK를 제거하는데 있어 제거 인력이 필요하다는 문제점이 있었다.To begin with, STRIP MASK will be described. The ink (INK) which is hardened or removed by heat or IR (Infra Red) light is called STRIP MASK. It is printed on the product (inner layer) The method of protecting inner layer LAND from the process using solution such as etching is called STRIP MASK method. The printing of the ink is carried out by selectively clogging or opening the mesh of the plate making the ink flow down through the open part of the netting, which is dried and cured. Thereafter, the necessary process proceeds, and after the necessary process is performed, the inner layer LAND can be exposed by manually removing the printed STRIP MASK. However, according to the STRIP MASK method, it is difficult to remove the STRIP mask, a large amount of residual defects occur, a large space restriction is imposed on the STRIP MASK method, and when the STRIP MASK is lifted, And there is a problem that a removing force is required to remove the STRIP mask.

또한, 외층 뜯기 방식이란, 내층의 LAND를 보호하기 위하여 외층과 내층 본드 사이에 얇은 CARRIER FILM을 추가하여 내층과 외층이 서로 접착되지 않게 하는 것을 기본으로 하는 방식인데, 외층의 본드 층에 CARRIER FILM을 합지 하고 반칼 가공하여 차폐되어야 하는 부분에만 CARRIER FILM을 남기고 필요 공정(후속 공정)을 진행하고, 필요 공정의 진행 후, 외층을 반칼 가공하고 반칼 가공된 것을 테이프(tape) 등을 이용해 뜯어내어 내층 LAND 를 노출 시키는 것이다. 그런데, 이러한 외층 뜯기 방식에 의하면, 반칼 가공 영역에 반칼 가공에 의한 버(BURR)가 발생하는 문제점이 있었고, 반칼 가공을 위한 제거 인력이 필요하다는 문제점이 있었다.In order to protect the inner layer of the LAND, a thin CARRIER FILM is added between the outer layer and the inner layer bond to prevent the inner layer and the outer layer from adhering to each other. The CARRIER FILM is applied to the outer layer of the bond layer. After performing the required process, the outer layer is processed in a half-cut, and the half-cut process is torn off using tape or the like to leave the CARRIER film on the inner layer LAND . However, according to such an outer layer cutting method, there is a problem that a burr due to the half-cut machining occurs in the half-cut area, and there is a problem that a removal force for machining the half-cut is required.

또한, 박리형 INK 방식은 내층에 INK를 인쇄하고, 필요 공정을 진행 한 후, INK를 제거하고 박리시키는 방식이다. 그런데, 박리형 INK 방식에 의하면, 필요 공정 중 하나로 진행되는 에칭 과정에서 액이 내층 LAND로 침투하고, copperfoil을 뜯어야 하며, 잉크 제거를 위한 인력이 필요하다는 문제점이 있었다.In the peelable INK method, INK is printed on the inner layer, the necessary process is performed, and then the INK is removed and peeled. However, according to the peelable INK method, there is a problem that the liquid penetrates into the inner layer LAND in the etching process which proceeds to one of the required processes, the copper foil must be removed, and a force for removing the ink is required.

본원의 배경이 되는 기술은 한국특허공개공보 제2013-0130503호에 개시되어 있다.The background technology of the present application is disclosed in Korean Patent Laid-Open Publication No. 2013-0130503.

본원은 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 내층 LAND를 차폐하지 않고, 연성 인쇄 회로 기판을 용이하게 제조할 수 있는 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법 및 그에 따라 제조된 연성 인쇄 회로 기판을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in order to solve the above problems of the prior art and it is an object of the present invention to provide an inner layer non-shielding manufacturing method of a flexible printed circuit board capable of easily manufacturing a flexible printed circuit board without shielding the inner layer LAND, And to provide a substrate.

다만, 본원의 실시예가 이루고자 하는 기술적 과제는 상기된 바와 같은 기술적 과제들도 한정되지 않으며, 또 다른 기술적 과제들이 존재할 수 있다.It should be understood, however, that the technical scope of the embodiments of the present invention is not limited to the above-described technical problems, and other technical problems may exist.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본원의 제 1 측면에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법은, (a) 내층 랜드(LAND)가 형성되도록 내층 기판 부재의 내측 동박층의 일부가 노출되게 상기 내층 기판 부재와 외층 기판 부재가 적층된 다층 구조체를 제조하는 단계; (b) 상기 다층 구조체의 층간 통전을 위하여 상기 다층 구조체에 홀을 가공하는 단계; (c) 상기 홀의 내면을 포함하는 상기 다층 구조체의 표면 영역에 동도금층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층이 제거되지 않도록 상기 동도금층을 부분적으로 제거하여 외측 회로 패턴 및 내층 랜드부를 형성 하는 단계를 포함할 수 있다.According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a non-shielded inner layer of a flexible printed circuit board, comprising the steps of: (a) forming an inner layer land (LAND) Layer substrate member and the outer-layer substrate member are laminated such that the inner-layer substrate member and the outer-layer substrate member are partially exposed; (b) processing holes in the multi-layer structure for interlayer energization of the multi-layer structure; (c) forming a copper plating layer on a surface region of the multilayered structure including the inner surface of the hole; And (d) partially removing the copper plating layer so as to prevent the copper plating layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer from being removed, thereby forming an outer circuit pattern and an innerlayer land portion.

또한, 본원의 제2 측면에 따른 연성 인쇄 회로 기판은, 상기 다층 구조체; 층간 통전을 위하여 상기 다층 구조체에 형성되는 홀; 상기 홀의 내면 및 상기 내측 동박층의 노출된 부분을 덮으며 상기 외측 회로 패턴과 상기 내층 랜드부를 형성하는 동도금층을 포함할 수 있다.In addition, the flexible printed circuit board according to the second aspect of the present invention includes: the multilayered structure; A hole formed in the multilayer structure for interlayer energization; And a copper plating layer covering the inner surface of the hole and the exposed portion of the inner copper foil layer to form the outer circuit pattern and the inner layer land portion.

상술한 과제 해결 수단은 단지 예시적인 것으로서, 본원을 제한하려는 의도로 해석되지 않아야 한다. 상술한 예시적인 실시예 외에도, 도면 및 발명의 상세한 설명에 추가적인 실시예가 존재할 수 있다.The above-described task solution is merely exemplary and should not be construed as limiting the present disclosure. In addition to the exemplary embodiments described above, there may be additional embodiments in the drawings and the detailed description of the invention.

전술한 본원의 과제 해결 수단에 의하면, 내층 랜부가 형성된 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층이 제거되지 않도록 동도금층이 부분적으로 제거되어 외측 회로 패턴 및 내층 랜드부가 형성되므로, 내층 랜드를 차폐시키지 않고 다층 구조체의 표면을 따라 형성되는 동도금층을 이용해 내층 랜드를 보호하면서 내층 랜드를 외측으로 연장시키고, 내층 랜드부를 형성 할 수 있다. 이에 따르면, 추가 툴 및 추가 공정없이 종래의 연성 인쇄 회로 기판 제조 방법을 활용해 내층 랜드를 차폐하지 않고 내층 랜드를 보호하면서 용이하게 연성 인쇄 회로 기판을 제조할 수 있으므로, 종래의 내층 차폐 공정을 이용한 연성 인쇄 회로 기판의 제조 방법보다 공정비 및 인건비를 줄일 수 있고, 제품의 설계 및 제작이 간소화될 수 있다.The copper plating layer is partially removed so that the copper plating layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer formed with the inner layer LAN portion is partially removed to form the outer circuit pattern and the inner layer land portion, The innerlayer land can be extended outward while protecting the innerlayer land using the copper plating layer formed along the surface of the multilayer structure without shielding the innerlayer land, and the innerlayer land portion can be formed. According to the present invention, a flexible printed circuit board can be easily manufactured while protecting the innerlayer land without shielding the innerlayer land by utilizing the conventional flexible printed circuit board manufacturing method without additional tools and additional processes. Therefore, The process ratio and the labor cost can be reduced and the design and manufacture of the product can be simplified compared to the manufacturing method of the flexible printed circuit board.

도 1은 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 개략적인 순서도이다.
도 2는 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의S100 단계에서 제조되는 다층 구조체의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 S300 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 4는 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 S500 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 5는 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 S700 단계의 드라이 필름 패턴이 형성된 것을 설명하기 위한 단면도이다.
도 6은 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 S700 단계를 설명하기 위해 드라이 필름 패턴이 형성되기 전에 드라이 필름층이 형성된 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 7은 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 S700 단계의 동도금층에 대한 에칭이 수행되는 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 8 및 도 9는 본 제조 방법의 전도성 부자재를 구비하는 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 10은 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법의 내층 인식 마크를 형성하는 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
1 is a schematic flow diagram of a method of manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a multilayer structure manufactured in step S100 of a method for manufacturing an innerlayer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view illustrating step S300 of a method for manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view illustrating step S500 of a method for manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating a dry film pattern formed in step S700 of a method for manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic cross-sectional view for explaining the formation of a dry film layer before a dry film pattern is formed in order to explain the step S700 of the method of manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic cross-sectional view for explaining that etching is performed on the copper-plated layer in step S700 of the method for manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.
8 and 9 are schematic cross-sectional views for explaining a step of providing the conductive auxiliary material of the present manufacturing method.
10 is a schematic cross-sectional view for explaining a step of forming an inner layer recognition mark in a method of manufacturing an innerlayer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본원이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본원의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본원은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본원을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. It should be understood, however, that the present invention may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. In the drawings, the same reference numbers are used throughout the specification to refer to the same or like parts.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. Throughout this specification, when a part is referred to as being "connected" to another part, it is not limited to a case where it is "directly connected" but also includes the case where it is "electrically connected" do.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에", "상부에", "상단에", "하에", "하부에", "하단에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.It will be appreciated that throughout the specification it will be understood that when a member is located on another member "top", "top", "under", "bottom" But also the case where there is another member between the two members as well as the case where they are in contact with each other.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout this specification, when an element is referred to as "including " an element, it is understood that the element may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.

본원은 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법 및 연성 인쇄 회로 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an inner layer non-shielding manufacturing method of a flexible printed circuit board and a flexible printed circuit board.

우선, 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법(이하 '본 제조 방법'이라 함)에 대해 설명한다.First, a method for manufacturing an inner layer non-shielding of a flexible printed circuit board according to an embodiment of the present invention (hereinafter referred to as "the present manufacturing method") will be described.

도 1은 본 제조 방법의 개략적인 순서도이고, 도 2는 본 제조 방법의 S100 단계에서 제조되는 다층 구조체의 개략적인 단면도이다.FIG. 1 is a schematic flowchart of the present manufacturing method, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a multi-layer structure manufactured in step S100 of the present manufacturing method.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 제조 방법은 내층 랜드(LAND)가 형성되도록 내층 기판 부재(1)의 내측 동박층(12)의 일부가 노출되게(121) 내층 기판 부재(1)와 외층 기판 부재(2)가 적층된 다층 구조체를 제조하는 단계(S100)를 포함한다.1 and 2, the present manufacturing method includes a step of exposing a portion of the inner copper foil layer 12 of the inner layer substrate member 1 to an inner layer land (LAND) And a step (SlOO) of manufacturing a multilayer structure in which the substrate member 2 is laminated.

S100 단계는 내층 기판 부재(1)를 형성하는 단계를 포함한다. 내층 기판 부재(1)는 베이스 필름(11), 베이스 필름(11)의 상면 및 하면 각각에 형성되는 내측 동박층(12) 및 베이스 필름(11)의 상면에 형성된 내측 동박층(12)의 상면 및 베이스 필름(11)의 하면에 형성된 내측 동박층(12)의 하면 각각에 형성되는 커버 레이(Cover Lay)층(13)을 가질 수 있다. 예시적으로, 베이스 필름(11)은 폴리이미드(Polymide) 필름일 수 있다. 그러나, 베이스 필름(11)의 종류는 이에 한정되지 않으며, 폴리이미드 외에 폴리 에스터 필름과 같은 수지로 된 필름이 베이스 필름(11)으로 적용될 수 있다. 내측 동박층(12)은 구리(cu)를 포함하는 재질일 수 있다. 또한, 내측 동박층(12)은 내측 회로 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 일정한 노출 부위(121, 내층 랜드)가 형성되도록 커버 레이층(13)이 형성될 수 있고, 일정한 노출 부위(121)는 콘넥터(connector) 등과 같은 구성의 액세스(access)가 가능한 내층 랜드를 형성할 수 있다.Step S100 includes forming the innerlayer substrate member 1. The inner layer substrate member 1 includes an inner copper foil layer 12 formed on each of the upper and lower surfaces of the base film 11 and the base film 11 and an upper surface of the inner copper foil layer 12 formed on the upper surface of the base film 11. [ And a cover layer 13 formed on the lower surface of the inner copper foil layer 12 formed on the lower surface of the base film 11. Illustratively, the base film 11 may be a polyimide film. However, the type of the base film 11 is not limited to this, and a film made of a resin such as a polyester film other than polyimide may be applied as the base film 11. The inner copper foil layer 12 may be made of a material containing copper (Cu). Further, the inner copper foil layer 12 can form an inner circuit pattern. The coverlay layer 13 may be formed such that a predetermined exposed region 121 is formed and the exposed region 121 may include an innerlayer land having an accessable structure such as a connector or the like .

또한, S100 단계는 내층 기판 부재(1)의 상면 및 하면 각각에 외층 기판 부재를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 외층 기판 부재를 형성하는 단계는 외층 기판 부재(2)를 준비하는 단계 및 준비된 외층 기판 부재(2)를 내층 기판 부재(1)와 적층시키는 단계를 포함할 수 있다.Step S100 may include forming an outer layer substrate member on each of the upper and lower surfaces of the innerlayer substrate member 1. The step of forming the outer layer substrate member may include a step of preparing the outer layer substrate member 2 and a step of laminating the prepared outer layer substrate member 2 with the innerlayer substrate member 1. [

참고로, 외층 기판 부재(2)는 외측 동박층(21) 및 내층 기판 부재(1)와 외측 동박층(21)의 사이에 배치되는 프리프레그(22)를 가질 수 있다. 또한, 외층 기판 부재(2)는 내층 기판 부재(1)와의 적층 이전에, 내측 동박층(12)의 노출되어야 하는 부분을 노출시키는 부분에 대해 컷팅될 수 있다.The outer layer substrate member 2 may have an outer copper foil layer 21 and a prepreg 22 disposed between the inner layer substrate member 1 and the outer copper foil layer 21. [ In addition, the outer layer substrate member 2 can be cut to a portion that exposes a portion of the inner copper foil layer 12 that is to be exposed, prior to lamination with the inner layer substrate member 1. [

도 3은 본 제조 방법의 S300 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view for explaining step S300 of the present manufacturing method.

도 1 및 도 3을 참조하면, 본 제조 방법은 다층 구조체의 층간 통전(층간 전기적 접속)을 위하여 다층 구조체에 홀(3)을 가공하는 단계(S300)를 포함한다. 도 3을 참조하면, 홀(3)은 다층 구조체의 내층 기판 부재(1) 및 외층 기판 부재(2)를 완전히 관통하는 형태로 형성될 수 있다. 예시적으로, S300 단계는 드릴을 이용한 절삭 가공으로 홀(3)을 형성할 수 있다. 형성되는 홀(3)의 내주면에는 후술하는 S500 단계에서 동도금층(4)이 형성될 수 있는데, 형성되는 동도금층(4)에 의해 동전이 필요한 층끼리 전기적으로 연결될 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 3, the manufacturing method includes a step S300 of processing a hole 3 in a multilayer structure for interlayer energization (interlayer electrical connection) of the multilayer structure. Referring to Fig. 3, the hole 3 may be formed so as to completely penetrate the inner layer substrate member 1 and the outer layer substrate member 2 of the multilayered structure. Illustratively, step S300 can form the hole 3 by cutting with a drill. The copper plating layer 4 may be formed on the inner circumferential surface of the hole 3 to be formed in step S500 to be described later. The copper plating layer 4 may be electrically connected to the layers requiring coins.

도 4는 본 제조 방법의 S500 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view for explaining step S500 of the present manufacturing method.

도 1및 도 4를 참조하면, 본 제조 방법은 홀(3)의 내면을 포함하는 다층 구조체의 표면 영역에 동도금층(4)을 형성하는 단계(S500)를 포함한다. 동도금층(4)은 구리(cu)를 포함하는 재질로 이루어질 수 있다. 다시 말해, S500 단계는 홀(3)의 내면과 다층 구조체의 노출된 표면에 구리(cu)를 도금할 수 있다.Referring to FIGS. 1 and 4, the manufacturing method includes forming a copper plating layer 4 on the surface region of the multilayered structure including the inner surface of the hole 3 (S500). The copper plating layer 4 may be made of a material containing copper (Cu). In other words, the step S500 can plated copper (cu) on the inner surface of the hole 3 and the exposed surface of the multi-layer structure.

도 5는 본 제조 방법의 S700 단계의 드라이 필름 패턴이 형성된 것을 설명하기 위한 단면도이고, 도 6은 본 제조 방법의 S700 단계를 설명하기 위해 드라이 필름 패턴이 형성되기 전에 드라이 필름층이 형성된 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도이며, 도 7은 본 제조 방법의 S700 단계의 동도금층에 대한 에칭이 수행되는 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining formation of a dry film pattern in step S700 of the present manufacturing method, and FIG. 6 illustrates a dry film layer formed before a dry film pattern is formed in order to explain step S700 of the present manufacturing method And FIG. 7 is a schematic cross-sectional view for explaining that etching for the copper-plated layer in the step S700 of the present manufacturing method is performed.

도 1을 참조하면, 본 제조 방법은 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 형성된 동도금층(41)이 제거되지 않도록 동도금층(4)을 부분적으로 제거하여 외측 회로 패턴(42) 및 내층 랜드부(121, 41)를 형성하는 단계(S700)를 포함할 수 있다.1, the copper plating layer 4 is partially removed so that the copper plating layer 41 formed on the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12 is not removed, And forming the inner layer land portions 121 and 41 (S700).

구체적으로, 도 5를 참조하면, S700 단계는 동도금층(4) 상에 외측 회로 패턴(42) 및 내층 랜드부(121, 41)에 대응하는 드라이 필름(Dry Film) 패턴(51, 52)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.5, in operation S700, dry film patterns 51 and 52 corresponding to the outer circuit patterns 42 and the inner layer land portions 121 and 41 are formed on the copper plating layer 4, To form a second layer.

예시적으로, 도 6을 참조하면, 드라이 필름 패턴을 형성하는 단계는 동도금층(4)의 외면에 드라이 필름층(5)을 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 드라이 필름층(5)은 홀(3)을 덮으며 형성될 수 있다. 이후에, 드라이 필름 패턴을 형성하는 단계는, 드라이 필름층(5)을 형성되어야 하는 패턴(회로 형상)에 따라 노광하고, 필요한 부분(패턴)만 경화시키며, 현상 공정을 통해 드라이 필름층(5)의 미경화된 부분을 제거할 수 있다. 이에 따라, 드라이 필름 패턴(51, 52)이 형성될 수 있다.Illustratively, referring to FIG. 6, forming the dry film pattern may include forming a dry film layer 5 on the outer surface of the copper plating layer 4. At this time, the dry film layer 5 may be formed so as to cover the hole 3. Thereafter, the step of forming the dry film pattern is carried out by exposing the dry film layer 5 in accordance with a pattern (circuit shape) to be formed, curing only a necessary part (pattern) ) Can be removed. Thus, the dry film patterns 51 and 52 can be formed.

이때, 드라이 필름층(5)의 경화되는 필요한 부분(패턴)은 동도금층(4)의 외측 회로 패턴(42)을 이루게 될 부분(52)과 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 적층된 부분(41)을 덮는 부분(51)을 포함할 수 있다.At this time, a necessary portion (pattern) of the dry film layer 5 to be cured is formed by the portion 52 to be the outer circuit pattern 42 of the copper plating layer 4 and the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12, And a portion 51 covering the portion 41 laminated on the substrate.

또한, 도 7을 참조하면, S700 단계는 외측 회로 패턴(42) 및 내층 랜드 상의 동도금층(41)이 형성되도록 드라이 필름 패턴을 따라 동도금층(4)에 대해 에칭(E/T)하는 단계를 포함할 수 있다. 에칭시에 동도금층(4)의 드라이 필름의 경화된 부분(드라이 필름 패턴)에 덮인 부분은 남게되므로, 도 7을 참조하면, S700 단계에 의해 외측 회로 패턴(42) 및 내측 동박층(12)의 노출된 부분 상에 적층된 동도금층(41)은 남겨질 수 있다.7, step S700 is a step of etching (E / T) the copper plating layer 4 along the dry film pattern so as to form the outer circuit pattern 42 and the copper plating layer 41 on the inner layer land . The portion covered with the cured portion (dry film pattern) of the dry film of the copper plating layer 4 is left at the time of etching. Referring to Fig. 7, the outer circuit pattern 42 and the inner copper foil layer 12 are formed by the step S700, The copper plating layer 41 laminated on the exposed portion of the copper plating layer 41 may be left.

또한, S700 단계는 동도금층(4)에 대해 에칭하는 단계 이후에, 드라이 필름 패턴을 박리하는 단계를 수행할 수 있다. 이러한 S700 단계에 의해, 외측 회로 패턴(42)이 형성될 수 있고, 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 적층된 동도금층(41)을 포함하는 내층 랜드부(121, 41)가 형성될 수 있다.In the step S700, after the step of etching the copper plating layer 4, the step of peeling the dry film pattern may be performed. The inner circuit land portions 121 and 41 (including the copper plating layer 41) laminated on the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12 can be formed by the step S700 May be formed.

본 제조 방법에 의하면, 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121)를 종래와 같이 별도의 재료 또는 공정을 이용하여 차폐시키지 않고 다층 구조체의 표면을 따라 형성되는 동도금층(4)을 이용해 노출된 부분(121)을 보호하면서 노출된 부분(121)을 동도금층(41)을 이용하여 외측으로 연장시켜 내층 랜드부를 형성할 수 있어, 종래의 내층 차폐 공정을 이용한 연성 인쇄 회로 기판의 제조 방법보다 공정비 및 인건비를 줄일 수 있고, 제품의 설계 및 제작이 간소화될 수 있다. 또한, 본 제조 방법은 신규 툴(TOOL) 및 신규 공정의 추가 없이 제조 공정 시에 노광용 데이터(data)의 수정만으로 간단하게 적용이 가능하다. 즉, 본 제조 방법은 신규 툴 및 신규 공정의 추가 없이 종래의 연성 인쇄 회로 기판 제조 방법을 활용해 내층 랜드(121)를 차폐하지 않고 내층 랜드(121)를 보호하면서 용이하게 연성 인쇄 회로 기판을 제조하는데 의의가 있다.According to the present manufacturing method, the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12 is exposed using the copper plating layer 4 formed along the surface of the multilayered structure without shielding it with a different material or process The inner layer land portion can be formed by extending the exposed portion 121 outwardly by using the copper plating layer 41 while protecting the exposed portion 121 of the flexible printed circuit board. Process cost and labor cost can be reduced, and the design and manufacture of the product can be simplified. Further, the present manufacturing method can be easily applied only by modifying exposure data (data) in a manufacturing process without adding a new tool (TOOL) and a new process. That is, the present manufacturing method can easily manufacture a flexible printed circuit board while protecting the inner layer land 121 without shielding the inner layer land 121 by using a conventional flexible printed circuit board manufacturing method without adding new tools and new processes .

이러한 본 제조 방법은 내층 랜드(121)가 GND일 경우와 인식마크일 경우와 같이 제품의 회로에서 직접 연결 LAND 부위가 아닌 부분에 적용이 가능하다.Such a manufacturing method can be applied to a portion of the product circuit not directly connected to the LAND portion, such as when the inner layer land 121 is GND or a recognition mark.

일반적으로, 다층 구조체에는 홀이 가공되고 통전하기 위한 동도금이 진행된다. 동도금 후 외층 회로가 구현되는데 이때 내층 노출 부위에 도금된 동(구리)은 외층 동도금시 모두 Etching에 의해 제거되나, 본 제조 방법은 외층 회로 구현 시(S700 단계) 내층 랜드(121) 상의 동도금층(41)을 남도록 설계 및 공정을 진행함으로써, 전도성 부자재와 접합 할 수 있도록 하여 별도의 내층 차폐공정 없이 생산이 가능하다.Generally, a hole is processed in the multilayered structure and copper plating proceeds for energization. (Copper) on the inner layer exposed area is removed by etching all of the copper plating on the exposed part of the outer layer, but the present manufacturing method is different from the copper plating layer on the inner layer land 121 (step S700) 41), so that it can be bonded to the conductive auxiliary material, so that it can be produced without a separate inner layer shielding process.

도 8 및 도 9는 본 제조 방법의 전도성 부자재를 구비하는 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다. 참고로, 도 8은 EMI shield가 구비되는 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도이고, 도 9는 전도성 SUS가 구비되는 것을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.8 and 9 are schematic cross-sectional views for explaining a step of providing the conductive auxiliary material of the present manufacturing method. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining that an EMI shield is provided, and FIG. 9 is a schematic cross-sectional view for explaining that a conductive SUS is provided.

도 8 및 도 9를 참조하면, 본 제조 방법은 S700 단계 이후에, 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 형성된 동도금층(41) 상에 전도성 부자재를 구비하는 단계를 포함할 수 있다.8 and 9, the manufacturing method includes a step after step S700 of providing a conductive auxiliary material on the copper plating layer 41 formed on the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12 .

예시적으로, 도 8을 참조하면, 전도성 부자재는 EMI shield(6)일 수 있다. EMI shield(6)는 전자기파장애를 차폐하는 장치일 수 있다. 이러한 EMI shield(6)는 통상의 기술자에게 자명하므로 상세한 설명은 생략한다.Illustratively, referring to Fig. 8, the conductive sub-material may be an EMI shield 6. The EMI shield 6 may be a device that shields electromagnetic interference. The EMI shield 6 will be apparent to those skilled in the art and will not be described in detail.

또는, 도 9를 참조하면, 전도성 부자재는 전도성 SUS(71)일 수 있다. 상술한 바와 같이, 외층 회로의 형성 후에 내층 랜드(121) 상에 내층 랜드(121)를 연장시키는 동도금층(41)이 남아 있으므로, 내층 랜드를 보호하기 위해 종래의 STRIP MASK, 외층 뜯기 방식, 박리형 INK 방식 등과 같이 내층 랜드(121)를 폐쇄하였다가 폐쇄를 해제하는 차폐 공정을 수행하지 않고도, 내층 랜드(121)의 손상을 방지하면서 내층 랜드(121)와 전도성 SUS(71)의 통전이 가능케 할 수 있다. 예시적으로, 도 9를 참조하면, 전도성 SUS(7)는 전도성 본드(72)에 의해 내층 랜드(41)와 통전되게 구비될 수 있다.Alternatively, referring to FIG. 9, the conductive auxiliary material may be a conductive SUS 71. As described above, since the copper plating layer 41 for extending the inner layer lands 121 is left on the inner layer lands 121 after the formation of the outer layer circuits, the conventional STRIP MASK, the outer layer etching method, The inner layer land 121 and the conductive SUS 71 can be energized while preventing the inner layer lands 121 from being damaged without performing a shielding step for closing the inner layer lands 121 and closing the inner layer lands 121, can do. Illustratively, referring to Fig. 9, the conductive SUS 7 may be energized with an inner layer land 41 by a conductive bond 72.

도 10은 본 제조 방법의 내층 인식 마크를 형성하는 단계를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.10 is a schematic sectional view for explaining a step of forming an inner layer recognition mark of the present manufacturing method.

도 10을 참조하면, 본 제조 방법은 S700 단계 이후에, 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 및 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 형성된 동도금층(41)을 가공하여 내층 인식 마크(8)를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 내층 인식 마크(8)를 형성하는 단계는 상술한 전도성 부자재를 구비하는 단계 대신에 수행될 수 있다. 예를 들어, 내층 인식 마크(8)는 소정의 패턴으로 형성하기 위한 에칭, 노광, 현상 공정 등을 내층 랜드부(41, 121)에 적용함으로써, 형성될 수 있다.10, after the step S700, a copper plating layer 41 is formed on the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12 and the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12, To form the inner layer recognition mark 8, as shown in FIG. The step of forming the inner layer recognition mark 8 may be performed in place of the step of providing the above-described conductive auxiliary material. For example, the inner layer recognition mark 8 can be formed by applying an etching, exposure, and development process or the like for forming the predetermined pattern to the inner layer land portions 41 and 121.

또한, 본원은 상술한 본 제조 방법에 따라 제조된 본원의 일 실시예에 따른 연성 인쇄 회로 기판(이하 '본 연성 인쇄 회로 기판'이라 함)을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a flexible printed circuit board (hereinafter referred to as 'the present flexible printed circuit board') according to one embodiment of the present invention manufactured according to the present manufacturing method described above.

본 연성 인쇄 회로 기판은 상술한 다층 구조체, 층간 통전을 위하여 다층 구조체에 형성되는 홀(3), 홀(3)의 내면 및 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121)을 덮으며 외측 회로 패턴(42)과 내층 랜드부를 형성하는 동도금층(4)을 포함한다.The flexible printed circuit board includes a multilayer structure as described above, a hole 3 formed in the multilayer structure for interlayer energization, an inner surface of the hole 3 and an exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12, Pattern 42 and a copper plating layer 4 for forming an inner layer land portion.

또한, 본 연성 인쇄 회로 기판은 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 형성된 동도금층(41, 내층 랜드부) 상에 구비되는 전도성 부자재를 포함할 수 있다. 예시적으로, 전도성 부자재는 EMI shield(6)일 수 있다. 또는, 전도성 부자재는 전도성 SUS(71)일 수 있다.The flexible printed circuit board may include a conductive auxiliary material provided on the copper plating layer 41 (inner layer land portion) formed on the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12. Illustratively, the conductive auxiliary material may be an EMI shield 6. Alternatively, the conductive auxiliary material may be the conductive SUS 71.

또는, 본 연성 인쇄 회로 기판은 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 및 내측 동박층(12)의 노출된 부분(121) 상에 형성된 동도금층(41)의 가공에 의해 형성된 내층 인식 마크(8)를 포함할 수 있다.Alternatively, the flexible printed circuit board may be formed by processing the copper plating layer 41 formed on the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12 and the exposed portion 121 of the inner copper foil layer 12, Mark (8).

전술한 본원의 설명은 예시를 위한 것이며, 본원이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본원의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those of ordinary skill in the art that the foregoing description of the embodiments is for illustrative purposes and that those skilled in the art can easily modify the invention without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본원의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

1: 내층 기판 부재
11: 베이스 필름
12: 내측 동박층
13: 커버 레이 층
2: 외층 기판 부재
21: 외측 동박층
22: 프리프레그
3: 홀
4: 동도금층
41: 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층
42: 외측 회로 패턴
5: 드라이 필름층
6: EMI shield
71: 전도성 SUS
72: 전도성 본드
8: 내층 인식 마크
1: Inner layer substrate member
11: base film
12: Inner copper foil layer
13: Coverage layer
2: outer layer substrate member
21: outer copper foil layer
22: prepreg
3: Hall
4: Copper plating layer
41: Copper plating layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer
42: outer circuit pattern
5: Dry film layer
6: EMI shield
71: Conductive SUS
72: Conductive Bond
8: inner layer recognition mark

Claims (10)

연성 인쇄 회로 기판의 제조 방법에 있어서,
(a) 내층 랜드(LAND)가 형성되도록, 베이스 필름, 내측 동박층 및 커버 레이층을 순차적으로 갖는 내층 기판 부재의 상기 내측 동박층의 일부가 노출되게 상기 내층 기판 부재와 외층 기판 부재가 적층된 다층 구조체를 제조하는 단계;
(b) 상기 다층 구조체의 층간 통전을 위하여 상기 다층 구조체에 홀을 가공하는 단계;
(c) 상기 홀의 내면을 포함하는 상기 다층 구조체의 표면 영역에 동도금층을 형성하는 단계;
(d) 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층이 제거되지 않도록 상기 동도금층을 부분적으로 제거하여 외측 회로 패턴 및 내층 랜드부를 형성하는 단계; 및
(f) 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층 상에 드라이 필름 패턴을 노광 현상으로 형성하고 상기 드라이 필름 패턴을 따라 상기 내측 동박층의 노출된 부분 및 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층을 에칭하여 상기 내측 동박층의 노출된 부분 및 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층을 가공하되, 상기 내측 동박층의 노출된 부분 상에 형성된 동도금층 중 상기 커버레이 층과 접촉되는 부분과 그 하측의 내측 동박층을 제거하여 동도금층 및 내측 동박층을 포함하는 내층 인식 마크를 형성하는 단계를 포함하되,
상기 (d) 단계는,
(d1) 상기 동도금층 상에 상기 외측 회로 패턴 및 상기 내층 랜드부를 덮는 부분을 포함하는 드라이 필름(Dry Film) 패턴을 형성하는 단계; 및
(d2) 상기 외측 회로 패턴 및 상기 내층 랜드부가 형성되도록 상기 드라이 필름 패턴을 따라 에칭(E/T)하는 단계를 포함하는 것인, 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법.
A method of manufacturing a flexible printed circuit board,
(a) the inner layer substrate member and the outer layer substrate member are laminated such that a part of the inner copper layer of the inner layer substrate member having the base film, the inner copper foil layer and the coverlay layer successively is formed so that the inner layer land (LAND) Producing a multilayered structure;
(b) processing holes in the multi-layer structure for interlayer energization of the multi-layer structure;
(c) forming a copper plating layer on a surface region of the multilayered structure including the inner surface of the hole;
(d) partially removing the copper plating layer so as not to remove the copper plating layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer to form an outer circuit pattern and an innerlayer land portion; And
(f) forming a dry film pattern on the copper plating layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer by exposure to expose the exposed portion of the inner copper foil layer and the exposed portion of the inner copper foil layer along the dry film pattern The copper plating layer formed on the inner copper foil layer is etched to form a copper plating layer formed on the exposed portion of the inner copper foil layer and the exposed portion of the inner copper foil layer, Forming an inner layer recognition mark including a copper plating layer and an inner copper foil layer by removing a portion in contact with the ray layer and a lower inner copper foil layer,
The step (d)
(d1) forming a dry film pattern on the copper plating layer, the dry film pattern including a portion covering the outer circuit pattern and the inner layer land portion; And
(d2) etching (E / T) along the dry film pattern to form the outer circuit pattern and the inner layer land portion.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 (a) 단계는,
(a1) 상기 베이스 필름, 상기 베이스 필름의 상면 및 하면 각각에 형성되는 상기 내측 동박층 및 상기 베이스 필름의 상면에 형성된 상기 내측 동박층의 상면 및 상기 베이스 필름의 하면에 형성된 상기 내측 동박층의 하면 각각에 형성되는 상기 커버 레이(Cover Lay)층을 갖는 내층 기판 부재를 형성하는 단계;
(a2) 상기 내층 기판 부재의 상면 및 하면 각각에 외층 기판 부재를 형성하는 단계를 포함하되,
상기 외층 기판 부재는 외측 동박층 및 상기 내층 기판 부재와 상기 외측 동박층의 사이에 배치되는 프리프레그를 갖는 것인, 연성 인쇄 회로 기판의 내층 무차폐 제조 방법.
The method according to claim 1,
The step (a)
(a1) an inner copper foil layer formed on the base film, the inner copper foil layer formed on each of upper and lower surfaces of the base film, and an upper surface of the inner copper foil layer formed on the upper surface of the base film, Forming an inner layer substrate member having the cover layer formed on each of the inner layer substrate members;
(a2) forming an outer layer substrate member on each of the upper and lower surfaces of the innerlayer substrate member,
Wherein the outer layer substrate member has an outer copper foil layer and a prepreg disposed between the inner layer substrate member and the outer copper foil layer.
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