KR101901474B1

KR101901474B1 - 적층체의 제조 방법

Info

Publication number: KR101901474B1
Application number: KR1020140083171A
Authority: KR
Inventors: 나오키 도모구치; 도시히로 간노; 사토루 구니카타; 겐타로우 요시다
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2013-07-04
Filing date: 2014-07-03
Publication date: 2018-09-21
Also published as: US9650482B2; KR20150005464A; TWI600540B; CN104280809A; TW201505827A; JP2015013242A; JP6114126B2; US20150010763A1; CN104280809B

Abstract

본 발명의 실시형태에 따른 적층체의 제조 방법은, 수지 기재의 일측에 폴리비닐 알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포한 후, 그 도포액을 건조시켜 폴리비닐 알코올계 수지층을 형성하는 것을 포함한다. 이 방법은 도포 전의 도포액을 여과 정밀도가 50㎛ ~ 100㎛ 인 뎁쓰 타입의 필터에 통과시키는 것; 및 뎁쓰 타입의 필터에 공급되는 도포액에 인가되는 압력을 변동시켜 필터 내부의 기포들을 제거하는 것을 포함한다.

Description

적층체의 제조 방법{METHOD OF PRODUCING LAMINATE}

발명의 배경

본 출원은 2013년 7월 4일에 출원된 일본 특허 출원 제 2013-140345 호에 대해 35 U.S.C. Section 119 하에서 우선권을 주장하며, 이것은 본 명세서에서 참조로써 원용된다.

발명의 분야

본 발명은 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.

대표적인 화상 표시 장치인 액정 표시 장치의 액정 셀의 양측들 각각에 편광판을 배치하고, 그 배치는 장치의 화상 형성 방식에 기인한다. 편광막의 제조 방법으로서, 예를 들어, 수지 기재와 폴리비닐 알코올 (PVA) 계 수지층을 포함하는 적층체를 연신하고, 연신된 적층체를 염색액에 침지시켜 편광막을 제공하는 것을 수반하는 방법이 제안되어 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 제 2001-343521 호). 이와 같은 방법은, 두께가 얇은 편광막을 제공하기 때문에 최근 액정 표시 장치의 박형화에 기여하는 잠재적인 접근법으로서 주목받고 있다. PVA계 수지층은, PVA계 수지를 포함하는 도포액을 도포 및 건조시켜 형성된다. 도포액 중의 기포들의 존재는 형성될 PVA계 수지층에서 스트릭 (streak) 상 또는 도트 상의 외관 결점을 발생시키므로, 도포액으로부터 기포들을 제거하는 것이 바람직하다. 도포액에서 기포들을 제거하는 기술로서, PVA계 중합체 필름의 제조에 있어서, PVA계 중합체를 구성 성분으로 사용하는 성막 원료를 필터에 통과시키는 기술이 알려져 있다 (예를 들어, 일본 공개특허공보 제 2002-144419 호). 그러나, 종래의 기술에서는, 성막 원료 (즉, 도포액) 를 필터에 통과시킬 때 (실질적으로는, 통과와 연관하여 필터가 도포액으로 충전될 때), 필터 내부의 기포들을 제거하는 것이 곤란하다. 그 결과, 도포액으로부터 기포들을 제거하는 것이 곤란하다. 만일 기포들을 제거할 수 있다고 하더라도, 제거에는 많은 시간이 필요하며, 결과적으로 생산성이 불충분해진다.

본 발명의 실시형태에 의하면, 생산성이 우수하고, 외관 결점들이 억제된 적층체를 얻을 수 있는 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 실시형태에 따른 적층체의 제조 방법은, 수지 기재의 일측에 폴리비닐 알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포한 후, 그 도포액을 건조시켜 폴리비닐 알코올계 수지층을 형성하는 것을 포함한다. 이 방법은 도포 전의 도포액을 여과 정밀도가 50㎛ ~ 100㎛ 인 뎁쓰 (depth) 타입의 필터에 통과시키는 것; 및 뎁쓰 타입의 필터에 공급되는 도포액에 인가되는 압력을 변동시켜 필터 내부의 기포들을 제거하는 것을 포함한다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 압력의 변동이 도포액을 뎁쓰 타입의 필터에 공급하는 펌프를 간헐적으로 정지시킴으로써 행해진다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 압력의 변동에 있어서의 최대 압력과 최소 압력 간의 차이가 0.10 MPa ~ 0.25 MPa 이다.

본 발명의 일 실시형태에서는, 도포액의 점도가 100 mPa·s ~ 10,000 mPa·s 이다.

본 발명의 일 실시형태에서, 이 방법은 폴리비닐 알코올계 수지층이 상부에 형성된 수지 기재를 연신하는 것을 더 포함한다.

본 발명의 다른 양태에 의하면, 적층체가 제공된다. 적층체는 상기 언급된 방법에 의해 얻어진다. 적층체는 수지 기재; 및 수지 기재의 일측에 형성된 폴리비닐 알코올계 수지층을 포함하며, 여기서 폴리비닐 알코올계 수지층의 기포 결점들의 수가 1 개/㎡ 이하이다.

도 1 은 본 발명의 실시형태에 따른 제조 방법에 있어서 도포액의 기포들, 이물질 등의 제거의 예를 나타내는 모식도이다.
도 2a ~ 도 2d 는 각각 본 발명의 실시형태에 따른 제조 방법에 있어서 기포 제거시의 압력 변동 프로파일의 예를 나타내는 그래프이다.
도 3 은 본 발명의 실시형태에 따른 적층체의 개략 단면도이다.
도 4 는 실시예 및 비교예의 압력 변동 프로파일들 사이의 비교를 나타내는 그래프이다.

이하, 본 발명의 실시형태들을 설명한다. 하지만, 본 발명은 이 실시형태들에 한정되지 않는다.

A. 적층체의 제조 방법

A-1. 제조 방법의 개략

본 발명의 일 실시형태에 따른 적층체의 제조 방법은, 수지 기재의 일측에 폴리비닐 알코올 (PVA) 계 수지를 포함하는 도포액을 도포한 후, 그 도포액을 건조시켜 PVA계 수지층을 형성하는 것을 포함한다. 본 발명의 적층체의 제조 방법은 도포 전의 도포액을 여과 정밀도가 50㎛ ~ 100㎛ 인 뎁쓰 타입의 필터에 통과시키는 것; 및 뎁쓰 타입의 필터에 공급되는 도포액에 인가되는 압력을 변동시켜 필터 내부의 기포들을 제거하는 것을 포함한다. 이하, 제조 방법의 대표적인 실시형태를 설명한다.

A-2. 수지 기재의 준비

수지 기재는 대표적으로 열가소성 수지로 형성된다. 열가소성 수지로서는 임의의 적절한 수지가 사용된다. 그 예들은 (메타)아크릴계 수지들, 올레핀계 수지들, 노르보르넨계 수지들, 및 폴리에스테르계 수지들을 포함한다. 바람직하게는, 폴리에스테르계 수지들이 사용된다. 그 중에서도, 비정질의 (비결정화된) 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지들이 바람직하게 사용된다. 비결정성의 (결정화하기 어려운) 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지가 특히 바람직하게 사용된다. 비결정성의 폴리에틸렌 테레프탈레이트계 수지들의 구체예들은 디카르본산으로서 이소프탈산을 더 포함하는 공중합체 및 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 더 포함하는 공중합체를 포함한다.

후술되는 연신 처리에서 수중 연신 방식이 채용되는 경우, 상술된 바람직한 수지 기재는 물을 흡수할 수 있고 물은 가소제와 같은 기능을 하여 기재가 가소화될 수 있다. 그 결과, 연신 응력을 대폭 저하시킬 수 있다. 이에 따라, 연신이 고배율로 수행될 수 있고, 수지 기재의 연신성이 공중 연신시에서의 연신성보다 더 우수할 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성을 갖는 편광막을 제조할 수 있다. 일 실시형태에서, 수지 기재의 흡수율은 바람직하게 0.2% 이상이며, 보다 바람직하게 0.3% 이상이다. 한편, 수지 기재의 흡수율은 바람직하게 3.0% 이하이며, 보다 바람직하게 1.0% 이하이다. 이와 같은 수지 기재의 사용은 예를 들어 수지 기재의 치수 안정성이 제조시에 현저하게 감소되고 그로인해 얻어지는 편광막의 외관이 악화된다는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 이와 같은 수지 기재의 사용은 수중 연신시에 기재의 파단과 수지 기재로부터 PVA계 수지층의 박리를 방지할 수 있다. 수지 기재의 흡수율이, 예를 들어, 구성 재료에 변성기를 도입함으로써 조정될 수 있음에 유의해야 한다. 흡수율은 JIS K 7209 에 준거하여 결정되는 값이다.

수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 는 바람직하게 170℃ 이하이다. 이와 같은 수지 기재의 사용은, PVA계 수지층의 결정화를 억제하면서, 적층체의 연신성을 충분히 확보할 수 있다. 게다가, 물에 의한 수지 기재의 가소화와 수중 연신의 양호한 실시를 고려하면, 유리 전이 온도는 120℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 일 실시형태에서, 수지 기재의 유리 전이 온도는 바람직하게 60℃ 이상이다. 이와 같은 수지 기재의 사용은, PVA계 수지를 포함하는 도포액의 도포 및 건조 동안 수지 기재의 변형 (예를 들어, 요철, 슬랙, 또는 주름의 발생) 과 같은 문제를 방지하여, 적층체의 양호한 제조를 가능하게 한다. 또한, 그 사용은 적합한 온도 (예를 들어, 약 60℃) 에서의 PVA계 수지층의 양호한 연신을 가능하게 한다. 다른 실시형태에서는, PVA계 수지를 포함하는 도포액의 도포 및 건조 동안에, 수지 기재가 변형하지 않는 한, 60℃ 미만의 유리 전이 온도가 허용된다. 수지 기재의 유리 전이 온도는, 예를 들어, 구성 재료에 변성기를 도입하거나 또는 결정화 재료로 구성되는 기재를 가열함으로써 조절될 수 있음에 유의해야 한다. 유리 전이 온도 (Tg) 는 JIS K 7121 에 준거하여 결정되는 값이다.

수지 기재의 두께는 바람직하게 20㎛ ~ 300㎛, 보다 바람직하게 30㎛ ~ 200㎛ 이다.

수지 기재에는 미리 표면 처리 (예컨대, 코로나 처리) 가 가해질 수도 있다. 이것은, 수지 기재와 PVA계 수지층 사이의 밀착성이 향상될 수 있기 때문이다.

A-3. 폴리비닐 알코올계 수지층의 형성

A-3-1. 폴리비닐 알코올계 수지

PVA계 수지층을 형성하기 위한 PVA계 수지로서는 임의의 적절한 수지가 채용될 수도 있다. 수지의 예들은 폴리비닐 알코올 및 에틸렌-비닐 알코올 공중합체를 포함한다. 폴리비닐 알코올은 폴리 아세트산 비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐 알코올 공중합체는 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA계 수지의 비누화도는 통상 85 몰% ~ 100 몰%, 바람직하게 95.0 몰% ~ 99.95 몰%, 보다 바람직하게 99.0 몰% ~ 99.93 몰% 이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994 에 준거하여 결정될 수 있다. 이와 같은 비누화도를 갖는 PVA계 수지의 사용은 내구성이 뛰어난 편광막을 제공할 수 있다. 비누화도가 너무 높은 경우에는, 수지가 겔화될 수도 있다.

PVA계 수지의 평균 중합도는 목적에 의존하여 적절히 선택될 수도 있다. 평균 중합도는 통상 1,000 ~ 10,000, 바람직하게 1,200 ~ 4,500, 보다 바람직하게 1,500 ~ 4,300 이다. 평균 중합도는 JIS K 6726-1994 에 준거하여 결정될 수 있음에 유의해야 한다.

A-3-2. 도포액의 조제

도포액은 대표적으로 PVA계 수지를 용매에 용해시킴으로써 조제된 용액이다. 용매의 예들은 물, 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 및 에틸렌디아민 및 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 포함한다. 이들은 단독으로 사용되거나 또는 조합하여 사용될 수도 있다. 이들 중에서도, 물이 바람직하다. 용액의 PVA계 수지의 농도는, 용매 100 중량부에 대해 바람직하게 3 중량부 ~ 20 중량부이다. 이와 같은 수지 농도에서는, 수지 기재에 밀착한 균일한 도포막이 형성될 수 있다.

도포액을 첨가제와 배합해도 된다. 첨가제의 예들은 가소제 및 계면활성제를 포함한다. 가소제의 예들은 에틸렌 글리콜 및 글리세린 등의 다가 알코올류를 포함한다. 계면활성제의 예들은 비이온성 계면활성제들을 포함한다. 이와 같은 첨가제는 얻어지는 PVA계 수지층의 균일성, 염색성, 또는 연신성을 부가적으로 개선하기 위한 목적으로 사용될 수 있다.

도포액의 점도는 바람직하게 100 mPa·s ~ 10,000 mPa·s 이며, 보다 바람직하게 300 mPa·s ~ 5,000 mPa·s 이며, 보다 더 바람직하게 500 mPa·s ~ 3,000 mPa·s 이다.

A-3-3. 도포액의 기포들, 이물질 등의 제거

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 따른 제조 방법은 도포액을 소정의 필터에 통과시키는 것을 포함한다. 도 1 은 본 발명의 실시형태에 따른 제조 방법에서의 기포들, 이물질 등의 제거의 예를 나타내는 모식도이다. 도 1 에 나타낸 바와 같이, 도포액의 기포들, 이물질 등을 제거하기 위한 시스템은 직렬로 제공되는 탱크, 송액 펌프, 및 필터를 포함한다. 도포액을 펌프에 의해 필터로 공급한 다음, 도포액을 필터에서 여과함으로써, 도포액 중의 이물질 등을 제거할 수 있다. 게다가, 상세히 후술되는 바와 같이, 소정의 여과 정밀도를 갖는 뎁쓰 타입의 필터를 필터로서 이용하고, 그 필터에 공급되는 도포액에 인가되는 압력을 변동시킴으로써, 필터에서의 기포들을 신속하고 충분하게 제거할 수 있다. 그 결과, 도포액의 기포들을 제거할 수 있다. 도시된 예는, 여과된 도포액을 탱크로 되돌리는 순환계이다. 도포액의 기포들, 이물질 등의 제거는 도 1 에 나타낸 것과 같은 순환계에 의해 도포액을 필터에 복수회 통과시킴으로써 수행될 수도 있거나, 또는 도포액을 필터에 1회만 통과시킴으로써 수행될 수도 있다. 도포액이 필터에 통과하는 횟수 (순환계의 경우에는 순환 시간) 는 예를 들어 목적, 적층체의 용도들, 및 도포액 상태에 의존하여 적절히 설정될 수 있다.

도 1 에 나타낸 것과 같은 순환계에서의 기포들, 이물질 등의 제거를 보다 구체적으로 설명한다. 상술한 바와 같이, 도포 전의 도포액은 펌프에 의해 필터에 공급되고, 도포액이 필터에 통과할 때에 그 이물질 등이 필터에 의해 여과된다. 도포액은, 3방 밸브의 개방을 전환하는 것에 의해, 도공 다이 ("코팅 다이"라고도 함) 에 송액된 다음, 도공 다이로부터 수지 기재에 도포되거나 (후술되는 섹션 A-3-4), 또는 탱크로 되돌려져 순환된다. 수지 기재에 도포가 개시되는 경우 (3방 밸브가 도공 다이 측으로 개방되는 경우), 송액계 (특히, 필터의 내부) 가 도포액으로 충분한 정도로 충전되는 것이 바람직하다. 즉, 도포액은, 송액계를 충분히 충전한 상태로 필터를 통과하는 것이 바람직하다. 그러한 충전이 불충분한 경우에는, 필터의 내부로부터 도포액으로 기포들이 빠져나가, 도포액에 기포들이 존재하게 되는 경우들이 많다. 그 결과, 얻어질 PVA계 수지층에 결점이 생겨 품질 저하로 이어지는 경우들이 많다. 후술되는 바와 같이, 본 발명에 의하면, 소정의 여과 정밀도를 갖는 뎁쓰 타입의 필터를 이용하고, 그 필터에 공급되는 도포액에 인가되는 압력을 변동시킴으로써, 필터에서의 기포들을 신속하고 충분하게 제거할 수 있다. 그 결과, 도포액에서의 기포들을 충분히 제거할 수 있다.

상술한 바와 같이, 도포액의 기포들, 이물질 등의 제거는 뎁쓰 타입의 필터를 이용해 수행된다. 뎁쓰 타입의 필터로서는 임의의 적절한 구성이 채용될 수 있다. 구체적으로, 예를 들어, 필터 재료의 형태에 의존하여 구분되는, 하기의 종류들 중 어느 하나가 채용된다: 실을 원통 코어에 감아서 얻은 실패 타입, 부직포를 원통 코어에 감아서 얻은 부직포 적층 타입, 및 스펀지와 같은 수지 성형품을 사용하는 수지 성형 타입. 필터 재료의 구성 재료는 예를 들어 폴리올레핀계 복합 섬유 또는 열접착성 폴리에스테르 섬유이다. 대표적으로, 뎁쓰 필터가 압력 용기 (하우징) 에 부착되고, 그리고 여과될 액체 (본 발명에서는 PVA계 도포액) 를 가압하여 하우징 내의 필터의 외측에서 내측으로 흐르게 함으로써, 필터 재료의 두께로 액체 중의 기포들 및/또는 이물질을 제거한다. 뎁쓰 타입의 필터 이외에, 필터로서 표면 타입의 필터 (예컨대, 플리티드 (pleated) 필터) 가 알려져 있다. 하지만, 본 발명에서는 예를 들어 기포들의 제거, 여과 능력 및 내구성 등의 관점에서 뎁쓰 타입의 필터가 사용된다.

뎁쓰 타입의 필터는 카트리지 타입의 필터로서 시판되고 있다. 본 발명에서는, 이와 같은 시판되는 뎁쓰 타입의 필터도 적합하게 사용될 수 있다. 이와 같은 시판품의 구체예들은 Pall Corporation 에 의해 제조된 HDCII, Profile, Profile II, Ultipleat Profile, Profile II-Plus, 또는 Petrosorb 등의 제품; JNC Corporation 에 의해 제조된 CP FILTER, BM FILTER, POROUSFINE, SUPER WOUND FILTER, STEM FILTER, 또는 GF FILTER 등의 제품; ROKI TECHNO CO., LTD 에 의해 제조된 SL Filter, MICRO-CILIA Filter, DIA II Filter, 또는 MICRO-PURE Filter 등의 제품; 및 FUJIFILM Corporation 에 의해 제조된 AstroPore PPE 등의 제품을 포함한다.

뎁쓰 타입의 필터의 여과 정밀도는 50㎛ ~ 100㎛ 이며, 바람직하게 60㎛ ~ 100㎛ 이며, 보다 바람직하게 70㎛ ~ 100㎛ 이다. 용어 "여과 정밀도"는, JIS Z8901 에서 규정되는 시험용 분말 1 을 순수에 0.3 ppm 으로 분산시켜 얻은 액체를 여과 시키는 때에, 분말의 99.9% 이상이 분리될 수 있는 최소 입자경을 말한다. 따라서, 여과 정밀도의 보다 큰 값은, 여과할 수 있는 입자경이 커진다는 것을 (즉, 여과 정밀도가 감소하고, 필터의 메시가 엉성해진다는 것을) 의미한다. 본 발명에 사용되는 뎁쓰 타입의 필터의 여과 정밀도의 값은, 통상적인 정밀여과에 소망되는 여과 정밀도 (예를 들어, 20㎛ 이하) 에 비해 훨씬 더 크다. 이에 따라, 본 발명은, 여과 정밀도가 비교적 낮은 필터를 이용해 기포 제거율을 향상시킨다고 하는, 통상적인 것과는 상반되는 기술 사상에 근거한다. 여기서, 상술한 바와 같이, 수지 기재에 대한 도포의 개시시 도포액에 의한 필터의 충전이 불충분한 경우, 필터 내부로부터 도포액으로 기포들이 빠져나가, 얻어지는 PVA계 수지층에 결점이 생겨 품질 저하로 이어지는 경우들이 많다. 이에 따라, 필터 내부의 공극들이 도포액으로 완전하게 충전될 필요가 있다. 하지만, 그러한 충전은 통상적으로 장시간에 걸친 도포액의 순환을 필요로 하기 때문에, 결과적으로 생산 효율이 나빠진다. 본 발명에서는, 비교적 여과 정밀도가 낮은 뎁쓰 타입의 필터를 사용하며, 필터가 도포액으로 충전되는 경우, 필터에 공급되는 도포액에 인가된 압력을 변동시킴으로써, 필터에서의 공극들에 남아있는 공기를 팽창 및 합체시킬 수 있다. 그 결과, 필터 내의 공기가 쉽게 빠져나가, 필터가 신속하게 도포액으로 충전될 수 있고, 생산성이 향상될 수 있다. 예를 들어, 도포액에 인가되는 0.2 MPa 의 압력이 릴리즈 (release) 되어 대기압으로 되는 경우에는, 압력의 인가 동안 약 100㎛ 였던 기포들의 평균 직경이 약 125㎛ 로 증가될 수도 있다.

본 발명의 실시형태에 따른 제조 방법은 뎁쓰 타입의 필터에 공급되는 도포액에 인가된 압력을 변동시키는 것을 포함한다. 압력의 변동은 예를 들어 펌프로부터 토출되는 도포액의 양 및 펌프의 출력을 변화시킴으로써 행해진다. 압력 변동은, 목적 및 도포액의 종류에 의존하여 임의의 적절한 프로파일에 따라 행해질 수 있다. 예를 들어, 압력은 도 2a 에 나타낸 사인 곡선 방식으로 변동될 수도 있거나, 도 2b 에 나타낸 펄스 방식으로 변동될 수도 있거나, 또는 이 프로파일들을 조합함으로써 얻은 프로파일에 따라 변동될 수도 있다. 일 실시형태에서, 압력 변동은, 도 2c 에 나타낸 바와 같이 적어도 일정한 시간 동안 도포액에 인가되는 압력이 감소하는 것과 같은 프로파일에 따라 행해지기만 하면 되고, 도 2d 에 나타낸 바와 같이 적어도 일정한 시간 동안 도포액에 인가되는 압력이 제로가 되는 것 (도포액이 대기압 상태에 배치되는 것) 과 같은 프로파일에 따라 행해지는 것이 바람직하다. 도 2d 에 나타낸 바와 같은 압력 변동 프로파일은, 예를 들어, 펌프를 간헐적으로 정지시킴으로써 실현될 수 있다. 압력 변동에 있어서의 최대 압력과 최소 압력 간의 차이는 바람직하게 0.10 MPa ~ 0.25 MPa 이며, 보다 바람직하게 0.15 MPa ~ 0.22 MPa 이다. 소정의 프로파일에 따라 압력을 변동시키고 및/또는 압력 변동에 있어서의 최대 압력과 최소 압력 간의 차이를 상술한 바와 같은 범위 내로 설정하는 것에 의해, 상술한 바와 같이 필터 내부의 기포들의 평균 직경이 증대할 수도 있는 경우에, 필터 내부의 기포들은 용이하게 빠져나가고, 필터는 신속하게 도포액으로 충전될 수 있다. 그 결과, 도포액 중의 기포들을 양호하게 제거할 수 있다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 의하면, 도포액에 인가된 압력이 변동되고, 비교적 낮은 여과 정밀도를 갖는 필터가 이와 같은 도포액으로 충전된다. 그 결과, 지금까지 제거하기가 곤란했던 필터 내의 기포들을 단시간 내에 제거할 수 있다. 결과적으로, 도포액 중의 기포들을 양호하게 제거할 수 있다. 도포액에 있어서의 기포 제거율은 일 실시형태에서는 90% 이상이며, 다른 실시형태에서는 95% 이상이다.

A-3-4. 도포액의 도포 및 건조

다음, 기포들이 제거된 도포액을 수지 기재에 도포한다. 도포액의 도포 방법으로서 임의의 적절한 방법이 채용될 수도 있다. 그 예들은 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 및 나이프 코트법 (예컨대, 콤마 코트법) 을 포함한다.

도포액은, 건조 후의 PVA계 수지층의 두께가 바람직하게 3㎛ ~ 40㎛, 보다 바람직하게 3㎛ ~ 20㎛ 가 되도록 도포된다. 도포액이 도포 및 건조되는 온도는 바람직하게 50℃ 이상이다.

이로써, 수지 기재 위에 PVA계 수지층이 형성된다.

A-4. 수지 기재의 연신

상술한 바와 같이 형성된 PVA계 수지층은 편광막의 중간체 (층을 편광막으로 터닝하기 위한 처리가 층에 가해질 수 있는 상태) 일 수도 있거나, 또는 편광막 (층이 편광막으로서 사용될 수 있는 상태) 일 수도 있다.

PVA계 수지층이 편광막의 중간체인 실시형태에서는, 본 발명의 제조 방법은 층을 편광막으로 터닝하기 위한 처리로서 PVA계 수지층이 상부에 형성된 수지 기재를 연신하는 것을 더 포함할 수도 있다. 층을 편광막으로 터닝하기 위한 처리의 예들은 연신 처리에 부가하여 염색 처리, 불용화 처리, 가교 처리, 세정 처리, 및 건조 처리를 포함한다. 이 처리들은 목적에 의존하여 적절히 선택될 수 있다. 또한, 처리들이 행해지는 순서, 각 처리의 타이밍, 각 처리의 횟수 등이 적절히 설정될 수 있다. 이하, 각 처리에 대해 설명한다.

(염색 처리)

염색 처리는 대표적으로 PVA계 수지층을 요오드로 염색함으로써 행해진다. 구체적으로, 처리는 PVA계 수지층에 요오드를 흡착시킴으로써 행해진다. 흡착의 방법은, 예를 들어, 요오드를 포함하는 염색액에 PVA계 수지층 (적층체) 을 침지시키는 것을 수반하는 방법, PVA계 수지층에 염색액을 도포하는 것을 수반하는 방법, 또는 염색액을 PVA계 수지층에 분무하는 것을 수반하는 방법이다. 그 중에서, 염색액에 적층체를 침지시키는 것을 수반하는 방법이 바람직하다. 이것은, 요오드가 층에 양호하게 흡착할 수 있기 때문이다.

염색액은 바람직하게 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.1 중량부 ~ 0.5 중량부이다. 물에서의 요오드의 용해도를 높이기 위해서, 요오드 수용액이 요오드화물과 배합되는 것이 바람직하다. 요오드화물의 구체예들은 요오드화 칼륨, 요오드화 리튬, 요오드화 나트륨, 요오드화 아연, 요오드화 알루미늄, 요오드화 납, 요오드화 구리, 요오드화 바륨, 요오드화 칼슘, 요오드화 주석, 및 요오드화 티탄을 포함한다. 이들 중에서도, 요오드화 칼륨이 바람직하다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.02 중량부 ~ 20 중량부, 보다 바람직하게는 0.1 중량부 ~ 10 중량부이다. 염색시 염색액의 액온은, PVA계 수지의 용해를 억제하기 위해, 바람직하게는 20℃ ~ 50℃ 이다. PVA계 수지층이 염색액에 침지되는 경우, 침지 시간은 PVA계 수지층의 투과율을 확보하기 위해서 바람직하게 5초 ~ 5분이다. 또한, 염색 조건들 (농도, 액온, 및 침지 시간) 은, 최종적으로 얻어질 편광막의 편광도 또는 단축 투과율이 소정의 범위 내가 되도록 설정될 수도 있다. 일 실시형태에서는, 얻어질 편광막의 편광도가 99.98% 이상일 수 있도록, 침지 시간이 설정된다. 다른 실시형태에서는, 얻어질 편광막의 단축 투과율이 40% ~ 44% 가 될 수 있도록, 침지 시간이 설정된다.

(연신 처리)

연신 처리는, 적층체를 연신욕에 침지시키면서 처리를 수행하는 수중 연신 시스템일 수도 있거나, 또는 공중 연신 시스템일 수도 있다. 수중 연신 처리는 적어도 1회 수행되는 것이 바람직하고, 수중 연신 처리와 공중 연신 처리가 조합되는 것이 보다 바람직하다. 수중 연신에 따르면, PVA계 수지층은 수지 기재 또는 PVA계 수지층의 유리 전이 온도 (통상적으로 약 80℃) 보다 낮은 온도에서 연신될 수 있으며, 그 결정화를 억제하면서 고배율로 연신될 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성들 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 편광막이 제조될 수 있다.

적층체를 연신하는 방법으로서 임의의 적절한 방법이 채용될 수도 있다. 구체적으로, 고정단 연신이 채용될 수도 있거나, 또는 자유단 연신 (예컨대, 주속이 상이한 롤들에 적층체를 통과시켜 적층체를 1축 연신하는 것을 수반하는 방법) 이 채용될 수도 있다. 적층체의 연신은 일 단계로 수행될 수도 있거나, 또는 복수의 단계들로 수행될 수도 있다. 연신이 복수의 단계들로 수행되는 경우, 후술되는 적층체의 연신 배율 (최대 연신 배율) 은 각 단계들에서의 연신 배율들의 곱이다.

적층체의 연신 방향으로서는 임의의 적절한 방향들이 선택될 수도 있다. 바람직한 실시형태에서, 장척상의 적층체는 그 길이 방향으로 연신된다.

적층체의 연신 온도는, 예를 들어, 수지 기재의 형성 재료 및 연신 모드에 의존하여 임의의 적절한 값으로 설정될 수도 있다. 공중 연신 모드가 채용되는 경우, 연신 온도는 바람직하게 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 이상이며, 보다 바람직하게 Tg+10℃ 이상, 특히 바람직하게 Tg+15℃ 이상이다. 한편, 적층체의 연신 온도는 바람직하게 170℃ 이하이다. 이러한 온도에서의 연신 수행은 PVA계 수지의 결정화의 급속한 진행을 억제하여, 결정화로 인한 문제 (예컨대, 연신에 의한 PVA계 수지층의 배향 방해) 를 억제할 수 있게 한다.

연신 모드로서 수중 연신 모드가 채용되는 경우, 연신욕의 액온은 바람직하게 40℃ ~ 85℃, 보다 바람직하게 50℃ ~ 85℃ 이다. 이러한 온도에서, PVA계 수지층은 그 용해를 억제하면서 고배율로 연신될 수 있다. 구체적으로, 상술한 바와 같이, 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 는 PVA계 수지층의 형성과 관련하여 60℃ 이상인 것이 바람직하다. 이 경우, 연신 온도가 40℃ 를 밑도는 경우에는, 물에 의한 수지 기재의 가소화를 고려하더라도, 연신이 양호하게 수행될 수 없을 가능성이 있다. 다른 한편, 연신욕의 온도가 증가하는 경우에는, PVA계 수지층의 용해성이 높아져, 우수한 광학 특성들이 얻어지지 않을 수도 있다.

수중 연신 모드가 채용되는 경우, 적층체는 붕산 수용액에 침지되는 동안 바람직하게 연신된다 (붕산 수중 연신). 연신욕으로서의 붕산 수용액의 사용은, PVA계 수지층에, 연신시에 가해지는 장력을 견디기에 충분한 강성 및 층이 물에 용해되지 않는 내수성을 부여할 수 있다. 구체적으로, 붕산은 수용액에서 테트라하이드록시보레이트 아니온을 생성하여 PVA계 수지와 수소 결합을 통해 가교할 수 있다. 그 결과, PVA계 수지층에 부여된 강성 및 내수성의 도움으로 PVA계 수지층이 양호하게 연신될 수 있고, 이로 인해 우수한 광학 특성들을 갖는 편광막이 제조될 수 있다.

붕산 수용액은 바람직하게 용매인 물에 붕산 및/또는 붕산염을 용해시킴으로써 얻어진다. 붕산 농도는 물 100 중량부에 대해 바람직하게 1 중량부 ~ 10 중량부이다. 붕산 농도의 1 중량부 이상으로의 설정은 PVA계 수지층의 용해를 효과적으로 억제할 수 있고, 이로써 추가적으로 높은 특성들을 갖는 편광막을 제조할 수 있게 한다. 붕산 또는 붕산염은 물론, 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르 알데히드 등을 용매에 용해함으로써 얻어진 수용액이 또한 사용될 수도 있음에 유의해야 한다.

연신욕 (붕산 수용액) 은 요오드화물과 배합되는 것이 바람직하다. 요오드화물을 배합하는 것은, PVA계 수지층에 흡착되고 있는 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 구체예들은 상술한 바와 같다. 요오드화물의 농도는 물 100 중량부에 대해 바람직하게 0.05 중량부 ~ 15 중량부, 보다 바람직하게 0.5 중량부 ~ 8 중량부이다.

적층체가 연신욕에 침지되는 시간은 15초 ~ 5분인 것이 바람직하다.

적층체의 연신 배율 (최대 연신 배율) 은 적층체의 원래 길이에 대해 바람직하게 5.0배 이상이다. 이러한 높은 연신 배율은, 예를 들어, 수중 연신 시스템 (붕산 수중 연신) 을 채용함으로써 달성될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 용어 "최대 연신 배율"은 적층체의 파단 직전의 연신 배율을 말하고, 그리고 적층체가 파단되는 때에 별도로 확인된 연신 배율보다 0.2 만큼 낮은 값을 말하는 것임에 유의해야 한다.

수중 연신 처리는 바람직하게 염색 처리 이후 수행된다.

(불용화 처리)

불용화 처리는 통상적으로 붕산 수용액에 PVA계 수지층을 침지함으로써 수행된다. 특히 수중 연신 시스템이 채용되는 경우, PVA계 수지층에 불용화 처리를 가함으로써 그 층에 내수성이 부여될 수 있다. 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해 바람직하게 1 중량부 ~ 4 중량부이다. 불용화 욕 (붕산 수용액) 의 액온은 바람직하게 20℃ ~ 50℃ 이다. 불용화 처리는 적층체의 제조 이후 및 염색 처리 또는 수중 연신 처리 이전에 수행되는 것이 바람직하다.

(가교 처리)

가교 처리는 통상적으로 PVA계 수지층을 붕산 수용액에 침지함으로써 수행된다. PVA계 수지층에 가교 처리를 함으로써 그 층에 내수성이 부여될 수 있다. 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해 바람직하게 1 중량부 ~ 4 중량부이다. 또한, 가교 처리가 염색 처리 이후에 수행되는 경우, 용액은 요오드화물과 더 배합되는 것이 바람직하다. 용액을 요오드화물과 배합하는 것은, PVA계 수지층에 흡착되고 있는 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해 바람직하게 1 중량부 ~ 5 중량부이다. 요오드화물의 구체예들은 상술한 바와 같다. 가교욕 (붕산 수용액) 의 액온은 바람직하게 20℃ ~ 50℃ 이다. 가교 처리는 바람직하게 수중 연신 처리 이전에 수행된다. 바람직한 실시형태에서, 염색 처리, 가교 처리, 및 수중 연신 처리가 언급된 순서대로 수행된다.

(세정 처리)

세정 처리는 통상적으로 PVA계 수지층을 요오드화 칼륨의 수용액에 침지함으로써 수행된다.

(건조 처리)

건조 처리에서의 건조 온도는 바람직하게 30℃ ~ 100℃ 이다.

편광막은 실질적으로 이색성 물질 (예를 들어, 요오드) 을 흡착하고 배향하는 PVA계 수지층이다. 편광막의 두께는 통상적으로 25㎛ 이하이며, 바람직하게 15㎛ 이하, 보다 바람직하게 10㎛ 이하, 보다 더 바람직하게 7㎛ 이하, 특히 바람직하게 5㎛ 이하이다. 한편, 편광막의 두께는 바람직하게 0.5㎛ 이상, 보다 바람직하게 1.5㎛ 이상이다. 편광막은 바람직하게 파장 범위 380 nm ~ 780 nm 의 임의의 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 편광막의 단축 투과율은 바람직하게 40.0% 이상, 보다 바람직하게 41.0% 이상, 보다 더 바람직하게 42.0% 이상, 특히 바람직하게 43.0% 이상이다. 편광막의 편광도는 바람직하게 99.8% 이상, 보다 바람직하게 99.9% 이상, 보다 더 바람직하게 99.95% 이상이다.

B. 적층체

본 발명의 적층체는 섹션 A 에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진다. 도 3 은 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 적층체의 개략 단면도이다. 적층체 (10) 는 수지 기재 (11) 및 수지 기재 (11) 의 일측에 형성된 폴리비닐 알코올 (PVA) 계 수지층 (12) 을 포함한다. 부재 (층) 가 도시되어 있지 않지만, 본 발명의 적층체는 수지 기재 및 PVA계 수지층 이외에 임의의 다른 부재 (층) 를 포함할 수도 있다. 다른 부재 (층) 의 예들은 광학 기능 필름, 점착제층, 접착제층, 및 접착 용이층을 포함한다. 점착제층은 대표적으로 아크릴계 점착제로 형성된다. 접착제층은 대표적으로 PVA계 접착제로 형성된다. 광학 기능 필름은, 예를 들어, 편광막 보호 필름 또는 위상차 필름으로서 기능할 수 있다. 적층체 (10) 는 통상적으로 장척상이다. 적층체의 두께는, 그 구성에 의존하여 변하는데, 대표적으로 20㎛ ~ 500㎛ 이다.

본 발명의 적층체는 섹션 A 에 기재된 제조 방법에 의해 얻어지기 때문에, 본 발명의 적층체의 PVA계 수지층은 매우 적은 수의 기포 결점들을 갖는다. 보다 구체적으로, PVA계 수지층의 기포 결점들의 수는 1개/㎡ 이하이며, 바람직하게 0.7개/㎡ 이하이며, 보다 바람직하게 0.1개/㎡ 이하이며, 보다 더 바람직하게 0.05개/㎡ 이하이다. 적층체에 있어서 PVA계 수지층의 기포 결점들의 수가 상술한 바와 같이 현격히 적어지기 때문에, 품질 및 광학 특성들이 뛰어난 박형 편광막을 얻을 수 있다.

실시예

이하, 본 발명을 실시예들에 의해 구체적으로 설명한다. 하지만, 본 발명은 이 실시예들에 의해 한정되는 것은 아니다.

[실시예 1]

중합도 4,200 및 비누화도 99.2% 의 PVA 분말을 물에 용해하여, 농도 7% 의 PVA 수용액을 조제하였다. 이 PVA 수용액의 점도를 B형 점도계 (Toki Sangyo Co., Ltd. 제조) 를 이용하여 23℃ 에서 로터 회전수 20 rpm 으로 측정하였다. PVA 수용액의 점도는 2,000 mPa·s 였다. 한편, 탱크, 송액 펌프, 및 필터들이 직렬로 제공되고, 송액 펌프에 의해 탱크로부터 필터들로 공급된 PVA 수용액이 필터들을 통과한 후 탱크로 되돌아오는, 도 1 에 나타낸 것과 같은 순환계를 구축하였다. 필터들로서 12개의 뎁쓰 타입의 카트리지 필터들 (ROKI TECHNO CO., LTD. 제조, 제품명: SLOPE-PURE, 여과 정밀도: 75㎛ , 사이즈: 20 인치) 을 사용하였다. 상기에서 조제한 PVA 수용액을 이 순환계에서 1 시간 순환시켰다. 보다 구체적으로, PVA 수용액을 탱크에 투입하고, 송액 펌프 (송액량: 10 L/min) 에 의해 필터들로 공급하고, 그리고 필터들을 통과한 이후 탱크로 되돌렸다. 이것을 1 사이클로 정의하고, 그 사이클을 1시간 동안 반복하였다. 그때, 송액 펌프를 간헐적으로 정지시킴으로써, 도 4 에 나타낸 것과 같은 프로파일에 따라 압력을 변동시켰다. 여기서, 펌프 가동시의 압력과 펌프 정지시의 압력 간의 차이는 0.18 MPa 로 설정되었다. 도 4 는 20분간의 압력 프로파일을 나타내고, 본 실시예에서 사이클은 3회 반복되었음에 유의해야 한다. 필터들의 상류 및 하류에 배치된 초음파 센서들 (미도시: NISSIN ELECTRONIC CO., LTD. 제조, 제품명: BC 미터) 을 이용하여, PVA 수용액을 60분 순환시킨 이후의 기포 제거율을 하기의 식으로부터 산출하였다.

기포 제거율 (%) = (60분 경과 이후 필터들을 통과한 이후의 기포들의 수) / (처음 필터들을 통과하기 이전의 기포들의 수) ×100

처리되지 않은 수지 기재로서, 시판되는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 (Mitsubishi Plastics, Inc. 제조, 상품명: SH046, Tg: 70℃, 두께: 200㎛) 을 사용하였다. 상술한 바와 같이 기포들을 제거한 PVA 수용액을 슬롯 다이 코터에 의해 수지 기재의 일 표면에 도포한 다음, 온도 60℃ 에서 건조하여, 두께 10㎛ 의 PVA계 수지층을 형성하였다. 형성된 PVA계 수지층의 외관 결점들 (기포 결점들) 의 수를 육안으로 관찰한 다음, 1 ㎡ 당의 수로 변환하였다. 표 1 은 평가의 결과를 나타낸다.

[실시예 2]

여과 정밀도 50㎛ 의 뎁쓰 타입의 필터 (Sumitomo 3M Limited 제조, 제품명: Betapure) 를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로, PVA 용액으로부터 기포들의 제거를 실시한 다음, PVA계 수지층을 형성하였다. 또한, 실시예 1 의 평가와 동일한 평가를 실시하였다. 표 1 은 그 결과를 나타낸다.

[실시예 3]

여과 정밀도 100㎛ 의 뎁쓰 타입의 필터 (Sumitomo 3M Limited 제조, 제품명: Betapure) 를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로, PVA 용액으로부터 기포들의 제거를 실시한 다음, PVA계 수지층을 형성하였다. 또한, 실시예 1 의 평가와 동일한 평가를 실시하였다. 표 1 은 그 결과를 나타낸다.

[비교예 1]

송액 펌프를 정지시키지 않고 도 4 에 도시된 바와 같이 압력을 일정하게 유지한 것을 제외하고, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로, PVA 용액으로부터 기포들의 제거를 실시한 다음, PVA계 수지층을 형성하였다. 또한, 실시예 1 의 평가와 동일한 평가를 실시하였다. 표 1 은 그 결과를 나타낸다.

[비교예 2]

여과 정밀도 20㎛ 의 뎁쓰 타입의 필터 (Sumitomo 3M Limited 제조, 제품명: PolyPro-Klean) 를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로, PVA 용액으로부터 기포들의 제거를 실시한 다음, PVA계 수지층을 형성하였다. 또한, 실시예 1 의 평가와 동일한 평가를 실시하였다. 표 1 은 그 결과를 나타낸다.

[비교예 3]

여과 정밀도 70㎛ 의 플리티드 필터 (Nihon Pall Ltd. 제조, 제품명: Profile UP) 를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1 에서와 동일한 방식으로, PVA 용액으로부터 기포들의 제거를 실시한 다음, PVA계 수지층을 형성하였다. 또한, 실시예 1 의 평가와 동일한 평가를 실시하였다. 표 1 은 그 결과를 나타낸다.

표 1 로부터 명백한 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 의하면, 비교예들에 비해, 기포 제거율 및 PVA계 수지층의 기포 결점들의 수의 양자의 측면에서 현저하게 양호한 결과들이 얻어졌다.

[실시예 4]

실시예 1 에서 얻어진 적층체를 액온 30℃ 의 욕조 (물 100 중량부를 붕산 4 중량부와 배합하여 얻어진 붕산 수용액) 에 30초간 침지시켰다 (불용화 단계).

다음, 적층체를 액온 30℃ 의 염색욕 (물 100 중량부를 요오드 0.2 중량부 및 요오드화 칼륨 2 중량부와 배합하여 얻어진 요오드 수용액) 에 60초간 침지시켰다 (염색 단계).

다음, 적층체를 액온 30℃ 의 가교욕 (물 100 중량부를 요오드화 칼륨 3 중량부 및 붕산 3 중량부와 배합하여 얻어진 붕산 수용액) 에 30초간 침지시켰다 (가교 단계).

그 후, 적층체를 액온 60℃ 의 붕산 수용액 (물 100 중량부를 붕산 4 중량부 및 요오드화 칼륨 5 중량부와 배합하여 얻어진 수용액) 에 침지시키면서, 주속이 상이한 롤들 간에 그 세로 방향 (길이 방향) 으로 1축 연신을 실시하였다 (연신 단계). 적층체를 붕산 수용액에 침지한 시간은 120초이며, 연신 배율은 5.0배로 설정되었다.

그 후, 적층체를 세정욕 (물 100 중량부를 요오드화 칼륨 3 중량부와 배합하여 얻어진 수용액) 에 침지시킨 다음, 60℃ 의 온풍으로 건조시켰다 (세정/건조 단계).

이로써, 수지 기재 위에 두께 5㎛ 의 편광막이 형성된 적층체를 얻었다. 얻어진 편광막에는 광학적 결점들이 없다는 것이 확인되었다. 또한, 얻어진 편광막은 품질에 편차가 없고, 수율이 매우 높았다.

[실시예 5]

실시예 2 에서 얻어진 적층체를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4 에서와 동일한 방식으로, 수지 기재 위에 두께 5㎛ 의 편광막이 형성된 적층체를 얻었다. 얻어진 편광막에는 광학적 결점들이 없다는 것이 확인되었다. 또한, 얻어진 편광막은 품질에 편차가 없고, 수율이 매우 높았다.

[실시예 6]

실시예 3 에서 얻어진 적층체를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4 에서와 동일한 방식으로, 수지 기재 위에 두께 5㎛ 의 편광막이 형성된 적층체를 얻었다. 얻어진 편광막에는 광학적 결점들이 없다는 것이 확인되었다. 또한, 얻어진 편광막은 품질에 편차가 없고, 수율이 매우 높았다.

[비교예 4]

비교예 1 에서 얻어진 적층체를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4 에서와 동일한 방식으로, 수지 기재 위에 두께 5㎛ 의 편광막이 형성된 적층체를 얻었다. 얻어진 편광막에는 광학적 결점들이 있다는 것이 발견되었다. 또한, 얻어진 편광막은 광학적 결점들에 기인해 품질에 편차가 있었고, 수율이 낮았다.

[비교예 5]

비교예 2 에서 얻어진 적층체를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4 에서와 동일한 방식으로, 수지 기재 위에 두께 5㎛ 의 편광막이 형성된 적층체를 얻었다. 얻어진 편광막에는 광학적 결점들이 있다는 것이 발견되었다. 또한, 얻어진 편광막은 광학적 결점들에 기인해 품질에 편차가 있었고, 수율이 낮았다.

[비교예 6]

비교예 3 에서 얻어진 적층체를 사용한 것을 제외하고, 실시예 4 에서와 동일한 방식으로, 수지 기재 위에 두께 5㎛ 의 편광막이 형성된 적층체를 얻었다. 얻어진 편광막에는 광학적 결점들이 있다는 것이 발견되었다. 또한, 얻어진 편광막은 광학적 결점들에 기인해 품질에 편차가 있었고, 수율이 낮았다.

본 발명의 제조 방법에 의해 얻어진 적층체는 예를 들어 액정 텔레비젼들, 액정 디스플레이들, 휴대전화들, 디지털 카메라들, 비디오 카메라들, 휴대 게임기들, 카 내비게이션 시스템들, 복사기들, 프린터들, 팩스들, 시계들, 및 전자렌지들의 액정 패널에 적합하게 사용된다.

본 발명의 실시형태에 의하면, 폴리비닐 알코올 (PVA) 계 수지층을 포함하는 적층체의 제조에 있어서, 비교적 낮은 여과 정밀도를 갖는 뎁쓰 타입의 필터를 사용하고, 그리고 필터에 공급되는 도포액에 인가된 압력을 변동시켜 필터 내부의 기포들을 제거함으로써, PVA계 수지층을 형성하기 위한 도포액의 기포들이 제거될 수 있다. 그 결과, 외관 결점들 (기포 결점들) 의 수가 현격히 적은 적층체를 얻을 수 있다. 또한, 기포 제거 조작이 단시간 내에 수행될 수 있기 때문에, 본 발명의 제조 방법은 생산성이 우수하다. 그 결과, 본 발명의 실시형태에 의하면, 품질 및 광학 특성들이 뛰어난 박형 편광막을 높은 생산성으로 얻을 수 있다.

다수의 다른 변형예들이 본 발명의 범주 및 사상으로부터 벗어나지 않으면서 당업자들에게 명백할 것이고 당업자들에 의해 용이하게 실시될 것이다. 따라서, 첨부된 청구범위의 범주가 상세한 설명에 의해 한정되는 것으로 의도되지 않고 오히려 폭넓게 해석되어야 한다는 것을 이해해야 한다.

Claims

수지 기재의 일측에 폴리비닐 알코올계 수지를 포함하는 도포액을 도포한 후, 상기 도포액을 건조시켜 폴리비닐 알코올계 수지층을 형성하는 것을 포함하는 적층체의 제조 방법으로서,
상기 도포 전의 상기 도포액을 여과 정밀도가 50㎛ ~ 100㎛ 인 뎁쓰 (depth) 타입의 필터에 통과시키는 단계; 및
상기 뎁쓰 타입의 필터에 공급되는 상기 도포액에 인가되는 압력을 변동시켜 상기 뎁쓰 타입의 필터 내부의 기포들을 제거하는 단계를 포함하는, 적층체의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 압력의 변동이, 상기 도포액을 상기 뎁쓰 타입의 필터에 공급하는 펌프를 간헐적으로 정지시킴으로써 행해지는, 적층체의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 압력의 변동에 있어서의 최대 압력과 최소 압력 간의 차이가 0.10 MPa ~ 0.25 MPa 인, 적층체의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 도포액은 점도가 100 mPa·s ~ 10,000 mPa·s 인, 적층체의 제조 방법.
제 1 항에 있어서,
상기 폴리비닐 알코올계 수지층이 상부에 형성된 상기 수지 기재를 연신하는 단계를 더 포함하는, 적층체의 제조 방법.
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