KR101880371B1 - 쉐도우 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

쉐도우 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

퇴적된 성막 재료가 박리되기 어려운 쉐도우 마스크 및 당해 쉐도우 마스크를 사용하여 제조되는 표시 장치를 제공한다.
성막 재료를 증착 또는 스퍼터링에 의해 퇴적시키는 것에 의한 성막 프로세스에서 패터닝에 사용되는 쉐도우 마스크이며, 성막 대상물과 대향하는 측에 설치된 제1 수지막과, 슬릿이 형성되고, 상기 제1 수지막의 상방에 설치된 금속부와, 상기 금속부의 상방의 적어도 일부를 덮도록 설치된 제2 수지막을 갖고, 상기 제2 수지막은 상기 성막 재료에 노출되는 측에 설치되고, 상기 제2 수지막의 표면은 조면화되어 있는 것을 특징으로 한다.

Description

쉐도우 마스크의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법{METHOD OF MANUFACTURING SHADOW MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY DEVICE}
본 발명은 쉐도우 마스크, 쉐도우 마스크의 제조 방법, 및 쉐도우 마스크를 사용한 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 유기 EL(Electro-luminescent) 소자를 사용한 유기 EL 표시 장치가 실용화되어 있어, 유기 EL 소자의 유기층이나 캐소드 전극을 형성할 때에, 증착법이 채용되는 경우가 있고, 전술한 유기층이나 캐소드 전극을 원하는 형상으로 형성하기 위해서, 다수의 미세한 슬릿을 평행하게 배열하여 구성된 쉐도우 마스크가 사용되고 있다. 표시 장치의 고정밀화, 고화질화가 진행함에 따라, 당해 쉐도우 마스크의 개발도 진행되고 있다. 쉐도우 마스크는, 증착 마스크, 메탈 마스크라고도 부르고 있다.
예를 들어, 특허문헌 1은, 슬릿이 설치된 금속 마스크와, 당해 슬릿과 겹치는 위치에 증착 제작하는 패턴이 설치된 수지 마스크를 적층하여 형성한 증착 마스크를 포토리소그래피에 의해 형성함으로써, 증착 마스크의 가공 정밀도를 고정밀화하는 점을 개시하고 있다.
특허문헌 2는, 기판 상에 유기 EL층을 형성하는 유기 EL용 메탈 마스크에 있어서, 당해 유기 EL용 메탈 마스크의, 증착 시에 기판과 대향하는 면측의 표시부의 외주에 수지의 돌기부를 설치함으로써, 메탈 마스크와 기판의 접촉을 방지하여 이물이나 흠집에 의한 기판 표면의 손상을 방지하는 점을 개시하고 있다.
또한, 특허문헌 3은, 기판의 표면에 증착 마스크를 밀착시키고, 증착원으로부터 증착 마스크의 개구부를 통해서, 기판의 표면에 증착 재료를 증착함으로써 패턴 형성을 행하는 증착 방법에 있어서, 증착 마스크의 기판 표면에 대향하는 표면에 샌드블라스트 처리를 실시함으로써 조면화하여, 증착 재료의 박리를 방지하는 점을 개시하고 있다.
일본 특허 공개 제2013-241667호 공보 일본 특허 공개 제2007-95411호 공보 일본 특허 공개 제2003-253434호 공보
상기 특허문헌 1 및 2와 같이, 표면이 수지로 형성된 증착 마스크는, 표면이 금속으로 형성된 증착 마스크와 비교하여 표면이 평활하기 때문에, 증착 마스크 표면에 퇴적된 막이 박리될 우려가 있다. 증착 마스크 표면에 퇴적된 막이 박리된 경우, 박리된 막에 의해 증착원이 오염되고, 오염된 증착원에 의해 형성된 막에는 불순물이 혼입되어버린다.
또한, 상기 특허문헌 3과 같이, 조면화 처리의 대상이, 표면이 수지로 형성된 증착 마스크일 경우, 샌드블라스트 처리에 의해 조면화하면 수지 자체가 박리되어버릴 우려가 있다.
본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은, 표면에 수지가 설치된 성막 프로세스에서 패터닝에 사용되는 쉐도우 마스크이며, 조면화 처리 시에 수지가 박리되지 않아, 수지에 퇴적된 성막 재료가 박리되기 어려운 쉐도우 마스크, 및 당해 쉐도우 마스크를 사용하여 제조된 표시 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 일 형태는, 성막 재료를 증착 또는 스퍼터링에 의해 퇴적시키는 것에 의한 성막 프로세스에서 패터닝에 사용되는 쉐도우 마스크이며, 성막 대상물과 대향하는 측에 설치된 제1 수지막과, 슬릿이 형성되고, 상기 제1 수지막의 상방에 설치된 금속부와, 상기 금속부의 상방의 적어도 일부를 덮도록 설치된 제2 수지막을 갖고, 상기 제2 수지막은 상기 성막 재료에 노출되는 측에 형성되고, 상기 제2 수지막의 표면은 조면화되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 성막 재료를 증착 또는 스퍼터링에 의해 퇴적시키는 것에 의한 성막 프로세스에서 패터닝에 사용되는 쉐도우 마스크의 제조 방법이며, 기재 상에 제1 수지막을 형성하는 공정과, 상기 제1 수지막 상에 슬릿이 설치된 금속부를 접합하는 공정과, 상기 슬릿이 설치된 영역의 일부에 형성된 상기 제1 수지막을 제거하는 공정과, 상기 금속부, 상기 제1 수지막 및 상기 기재를 덮도록, 제2 수지막을 형성하는 공정과, 상기 제2 수지막의 표면을 조면화하는 공정과, 상기 제2 수지막에, 제작하는 패턴에 대응한 개구부를 형성하는 공정과, 상기 기재를 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 다른 일 형태는, 표시 패널을 포함하는 표시 장치의 제조 방법이며, 기재 상에 제1 수지막을 형성하는 공정과, 상기 제1 수지막 상에 슬릿이 설치된 금속부를 접합하는 공정과, 상기 슬릿이 설치된 영역의 일부에 형성된 상기 제1 수지막을 제거하는 공정과, 상기 금속부, 상기 제1 수지막 및 상기 기재를 덮도록, 제2 수지막을 형성하는 공정과, 상기 제2 수지막의 표면을 조면화하는 공정과, 상기 제2 수지막에, 제작하는 패턴에 대응한 개구부를 형성하는 공정과, 상기 기재를 제거하여 쉐도우 마스크를 얻는 공정과, 상기 쉐도우 마스크를 사용하여, 상기 표시 패널 내에 상기 패턴의 막을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 쉐도우 마스크를 개략적으로 도시하는 도면이다.
도 2는 마스크 박의 일부를 확대한 도면이다.
도 3은 도 2에 있어서의 III-III 단면을 도시하는 단면도 및 III-III 단면의 근방에 있어서의 부감도이다.
도 4는 형성된 막의 두께에 분포가 발생하는 예에 대하여 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 기타의 실시예에 있어서의 마스크 박의 단면을 도시하는 도면이다.
도 6은 마스크 박의 제조 공정에 대하여 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 마스크 박의 제조 공정에 대하여 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 마스크 박의 제조 공정에 대하여 설명하기 위한 도면이다.
이하에, 본 발명의 각 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다. 도면은, 설명을 보다 명확히 하기 위해서, 실제의 형태에 비해, 각 부의 폭, 두께, 형상 등에 대하여 모식적으로 나타내지는 경우가 있지만, 어디까지나 일례이며, 본 발명의 해석을 한정하는 것이 아니다. 또한, 본 명세서와 각 도면에 있어서, 기출된 도면에 대하여 전술한 것과 동일한 요소에는 동일한 부호를 부여하여 상세한 설명을 적절히 생략하는 경우가 있다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 쉐도우 마스크(100)의 개략을 도시하는 도면이다. 도 1의 (a)는 쉐도우 마스크(100)를 성막 재료에 노출되는 측으로부터 본 도면을 도시하고, 도 1의 (b)는 쉐도우 마스크(100)를 성막 대상물과 대향하는 측으로부터 본 도면을 도시한다. 도면에 도시한 바와 같이, 쉐도우 마스크(100)는 금속제의 프레임(102)과, 용접부(106)에서 프레임(102)에 용접된 직사각형의 복수의 마스크 박(104)을 포함하여 형성된다.
마스크 박(104)은 성막 패턴에 따른 개구부(200)(도 2 참조)를 갖는다. 구체적으로는, 예를 들어, 성막 대상물이 1매의 유리 기판 상에 형성되는 복수의 표시 패널일 경우, 마스크 박(104)은 복수의 표시 패널에 대응하는 위치(108) 각각에 있어서, 성막 패턴에 따른 개구부(200)를 갖는다.
또한, 쉐도우 마스크(100)는 성막 재료를 퇴적시키는 것에 의한 성막 프로세스에 있어서 패터닝에 사용된다. 구체적으로는, 쉐도우 마스크(100)는 성막 재료를 퇴적시킬 때, 마스크 박(104)이 용접된 측에 성막 대상물이 배치되고, 반대측에 증착원 등이 배치된 상태에서 사용된다.
또한, 용접된 마스크 박(104)은 프레임(102)으로부터 박리할 수 있다. 따라서, 도 1에 도시한 쉐도우 마스크(100)의 구성에 의하면, 성막 패턴의 형상을 변경하는 경우에도, 마스크 박(104)만을 교환하면 되고, 프레임(102)을 유용할 수 있기 때문에, 쉐도우 마스크(100)의 비용을 저감시킬 수 있다. 또한, 도 1에서 도시한 쉐도우 마스크(100)의 구성은 일례이며, 프레임(102)을 갖지 않는 구성이어도 된다.
도 2는, 마스크 박(104)에 있어서의, 복수의 표시 패널 각각 대응하는 위치(108) 중, 1개의 표시 패널에 대응하는 영역의 일부를 확대한 도면이다. 도 2에 도시한 바와 같이, 마스크 박(104)은 제작하는 패턴에 대응한 개구부(200)를 갖는다. 또한, 도 2에 있어서는, 표시 패널의 1개의 부화소마다에 대응하는, 직사각 형상의 개구부(200)가 설치되는 패턴을 예시하고 있지만, 성막 패턴은 이것에 한정되지 않는다.
또한, 도 2에 있어서의, 마스크 박(104)의 개구부(200)에 대하여 상세하게 설명한다. 도 3은, 도 2에 있어서의 III-III 단면을 도시하는 도면(도 3의 (a)) 및 III-III 단면의 근방을 부감하여 도시하는 도면(도 3의 (b))이다. 도 3의 (a) 및 도 3의 (b)에 도시한 바와 같이, 마스크 박(104)은 제1 수지막(300)과, 금속부(302)와, 제2 수지막(304)을 포함하여 형성된다.
제1 수지막(300)은 성막 대상물과 대향하는 측에 설치된다. 구체적으로는, 예를 들어, 제1 수지막(300)은 성막 대상물로 되는 표시 패널측에, 개구부(200)의 근방에 경사부를 갖도록 설치된다. 또한, 제1 수지막(300)은 예를 들어, 폴리이미드, 에폭시, 아크릴 등의 수지에 의해 형성되는 것이 바람직하지만, 산화 실리콘 등의 무기 재료여도 된다.
금속부(302)는 제1 수지막(300)의 상방에 설치되고, 슬릿이 형성된다. 구체적으로는, 예를 들어, 금속부(302)는 개구부(200)와 겹치는 위치에, 개구부(200)보다도 큰 슬릿이 형성된다. 또한, 금속부(302)는 슬릿이 형성되는 면이 경사를 갖도록 형성되고, 제1 수지막(300)의 상방에, 제1 수지막(300)과 합쳐서 계단 형상으로 되도록 설치된다. 또한, 금속부(302)는 예를 들어, 인바재에 의해 형성된다.
제2 수지막(304)은 금속부(302)의 상방의 적어도 일부를 덮도록, 성막 재료에 노출되는 측에 설치된다. 구체적으로는, 예를 들어 도 3에 도시한 바와 같이, 제1 수지막(300) 및 금속부(302)를 모두 덮도록, 증착원이나 스퍼터 장치의 타깃 등이 배치되는 측에 설치된다. 제2 수지막(304)은 제1 수지막(300)과 마찬가지로, 예를 들어, 폴리이미드, 에폭시, 아크릴 등의 수지에 의해 형성되는 것이 바람직하지만, 산화 실리콘 등의 무기 재료여도 된다.
또한, 제2 수지막(304)은 표면이 조면화된다. 구체적으로는, 예를 들어, 제2 수지막(304)은 금속부(302)의 정상부 및 측면을 덮도록 형성된 영역에서, 요철을 갖도록 조면화 처리가 행하여진다. 여기서, 마스크 박(104)의 두께는 0.02 내지 0.2mm 정도이기 때문에, 제2 수지막(304)의 표면의 오목부와 볼록부의 고저차는 0.02mm보다도 충분히 작은 것이 바람직하다. 또한, 도 3에 있어서는, 제2 수지막(304) 중, 금속부(302)의 정상부 및 측면을 덮도록 설치된 영역만 조면화되어 있지만, 제2 수지막(304) 전체에 걸쳐서 조면화되어 있어도 된다. 또한, 조면화 처리의 방법에 대해서는 후술한다.
제2 수지막(304)의 표면을 조면화함으로써, 마스크 박(104)에 퇴적된 성막 재료가 박리될 우려를 저감할 수 있다. 즉, 제2 수지막(304)의 표면에 형성된 오목부에 퇴적된 성막 재료는, 평평한 수지막 등에 퇴적된 성막 재료보다도 박리되기 어려워지기 때문에, 퇴적된 증착 재료가 박리되어, 제2 수지막(304)측에 배치된 증착원이나 스퍼터 장치의 내부 등을 오염시키는 것이 방지된다.
또한, 제2 수지막(304)은 슬릿과 겹치는 위치에 제작하는 패턴에 대응한 개구부(200)를 갖는다. 구체적으로는, 금속부(302)의 슬릿과 겹치는 위치에, 표시 패널에 대하여 제작하는 패턴에 대응한 개구부(200)를 갖는다. 제2 수지막(304)에 형성된 개구부(200)의 형상에 의해, 성막 대상에 형성되는 막의 형상이 정해진다. 예를 들어, 도 2 및 도 3의 (a) 및 도 3의 (b)에서 도시하는 바와 같은 직사각 형상의 개구부(200)를 갖는다. 당해 마스크 박(104)을 사용하여 형성된 막은, 제2 수지막(304)에 형성된 개구부(200)와 동일한 형상으로 된다.
또한, 제2 수지막(304)은 제1 수지막(300)보다도 얇게 형성되는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들어, 도 3에 도시한 바와 같이, 제2 수지막(304)은 제1 수지막(300)의 절반 정도의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 제2 수지막(304)을 제1 수지막(300)보다도 얇게 형성함으로써, 마스크 박(104)은 금속부(302)의 상부에 제2 수지막(304)이 형성된 영역, 제1 수지막(300) 상에 제2 수지막(304)이 형성된 영역, 및 제2 수지막(304)만이 형성된 영역이 설치되고, 3종류의 높이의 영역이 계단 형상으로 형성된다.
마스크 박(104)이 계단 형상으로 형성됨으로써, 개구부(200)에 형성되는 막의 높이를 균일하게 할 수 있다. 여기서, 예를 들어, 슬릿을 갖는 금속부(302)만에 의해서 형성되는 마스크 박(104)을 사용하여 성막을 행한 경우에 있어서의, 막압 분포에 대하여 설명한다.
도 4의 (a)는 성막 대상에 대하여 퇴적하는 막의 분자가 입사하는 방향을 도시하는 도면이다. 여기서, 도 4에 있어서의 화살표는, 성막 대상에 대하여 입사하는 분자가, 성막 대상에 대하여 입사하는 방향(400)을 나타낸다. 도 4의 (b)는 평면에서 보아, 1군데의 개구부(200)에 형성된 막의 두께를 도시하는 도면이다. 또한, 도 4의 (c)는 도 4의 (b)의 IV-IV 단면에 있어서의 막 두께의 분포를 도시하는 도면이며, 도면의 횡축은 위치를 나타내고, 종축은 두께를 나타낸다.
도 4에 도시한 바와 같이, 슬릿을 갖는 금속부(302)만에 의해서 형성되는 마스크 박(104)을 사용하여 성막을 행한 경우, 성막된 막은, 막 두께에 분포가 발생한다. 구체적으로는, 도 4의 (a)에 도시한 바와 같이, 슬릿의 중앙부(404)에 퇴적하는 막은, 성막 대상에 대하여 수직으로 입사하는 분자와, 경사 방향으로부터 입사하는 분자를 포함하여 형성된다.
한편, 슬릿의 단부(402)에 있어서는, 경사 방향으로부터 입사하는 분자 중 일부는 금속부(302)가 장벽이 되어서 성막 대상에 도달하지 않는다. 그로 인해, 도 4의 (b) 및 도 4의 (c)에 도시한 바와 같이, 슬릿의 단부(402)에 퇴적하는 막은, 슬릿의 중앙부(404)에 퇴적하는 막보다도 얇아지도록, 막 두께에 분포가 발생한다.
그러나, 상기 실시 형태와 같이, 개구부(200) 근방의 제2 수지막(304)을 얇게 형성하고, 마스크 박(104)을 계단 형상으로 형성함으로써, 개구부(200)의 단부에 있어서, 경사 방향으로부터 입사하는 분자가 차단되는 것을 방지하여, 균일한 높이의 막을 형성할 수 있다.
또한, 상기에 있어서는, 마스크 박(104)이 3종류의 높이의 영역을 갖도록, 계단 형상으로 형성되는 실시 형태에 대하여 설명했지만, 마스크 박(104)은 2종류의 높이의 영역을 갖도록 형성해도 된다. 즉, 도 5에 도시한 바와 같이, 제1 수지막(300)이 슬릿과 겹치는 위치에 제작하는 패턴에 대응한 개구부(200)를 갖고, 제2 수지막(304)은 금속부(302) 및 제1 수지막(300)의 일부를 덮도록 형성하는 구성으로 해도 된다. 당해 구성이어도, 마스크 박(104)이 2종류의 높이의 영역을 갖도록 계단 형상으로 형성됨으로써, 단지 금속부(302)만에 의해서 마스크 박(104)을 형성하는 경우와 비교하여, 막 두께의 분포를 저감할 수 있다.
계속해서, 본 발명에 있어서의 마스크 박(104)의 제조 공정에 대하여 설명한다. 도 6 내지 도 8은, 본 발명의 실시 형태에 있어서의, 성막 재료를 퇴적시키는 것에 의한 성막 프로세스에서 패터닝에 사용되는 마스크 박(104)의 제조 방법을 도시하는 도면이다.
먼저, 도 6의 (a)에 도시한 바와 같이, 제1 수지막(300)이 기재(600) 상에 기재(600)의 전체면에 걸쳐서 형성된다. 또한, 제1 수지막(300) 상에 슬릿이 설치된 금속부(302)가 접합된다. 슬릿이 설치된 금속부(302)의 제조 방법에 대해서는 종래 기술과 마찬가지이기 때문에, 여기에서는 설명을 생략한다.
이어서, 도 6의 (b)에 도시한 바와 같이, 슬릿이 설치된 영역의 일부에 형성된 제1 수지막(300)이 제거된다. 구체적으로는, 예를 들어, 제1 수지막(300)을 제거하는 영역만 레이저광(602)을 투과하는 차광 마스크를 통해서, 차광 마스크 전체에 레이저광(602)을 조사함으로써, 제1 수지막(300)을 제거하는 영역에만 레이저광(602)을 조사한다. 레이저광(602)에 의해, 슬릿이 설치된 영역의 일부에 형성된 제1 수지막(300)이 제거된다.
계속해서, 도 6의 (c)에 도시한 바와 같이, 금속부(302), 제1 수지막(300) 및 기재(600)를 덮도록 제2 수지막(304)이 형성된다. 또한, 도 7의 (a)에 도시한 바와 같이, 제2 수지막(304)의 표면이 조면화된다. 구체적으로는, 예를 들어, 조면화 처리를 행하는 영역만 레이저광(602)을 투과하는 차광 마스크를 통해서, 차광 마스크 전체에 레이저광(602)을 조사함으로써, 조면화 처리를 행하는 영역에만 레이저광(602)을 조사한다.
여기서, 조면화 처리할 때에 사용되는 레이저광(602)은 제1 수지막(300)을 제거하는 공정에서 사용된 레이저광(602)보다도 에너지가 작은 레이저광(602)이 사용된다. 즉, 조면화 처리를 행하는 영역에 설치된 제2 수지막(304)에는, 제2 수지막(304)이 제거되지 않는 강도의 에너지 레이저광(602)이 조사된다. 레이저광(602)이 조사됨으로써, 레이저광(602)이 조사된 영역에 설치된 제2 수지막(304)은 도 7의 (b)에 도시하는 바와 같이 조면화된다.
계속해서, 도 7의 (c)에 도시한 바와 같이, 제2 수지막(304)에, 증착 제작하는 패턴에 대응한 개구부(200)를 형성한다. 구체적으로는, 예를 들어, 개구부(200)를 형성하는 영역만 레이저광(602)을 투과하는 차광 마스크를 통해서, 차광 마스크 전체에 레이저광(602)을 조사함으로써, 개구부(200)를 형성하는 영역에만, 레이저광(602)을 조사한다. 여기서, 제2 수지막(304)에 개구부를 형성하는 공정에서 사용되는 레이저광(602)은 제1 수지막(300)을 제거하는 공정에서 사용되는 레이저광(602)과 마찬가지로, 조면화 처리할 때에 사용되는 레이저광(602)보다도 에너지가 높은 레이저광(602)이 사용된다. 또한, 제2 수지막(304)을 조면화하는 공정과, 제2 수지막(304)에 개구부(200)를 형성하는 공정은 순서부동이며, 어느 공정을 먼저 행해도 상관없다.
레이저광(602)에 의해, 도 8의 (a)에 도시한 바와 같이, 개구부(200)를 형성하는 영역에 형성된 제2 수지막(304)이 제거된다. 그리고, 마지막으로, 도 8의 (b)에 도시하는 바와 같이 기재(600)를 제거함으로써, 마스크 박(104)이 완성된다.
상기한 바와 같이 제1 수지막(300)을 제거하는 공정과, 제2 수지막(304)을 조면화하는 공정과, 제2 수지막(304)에 개구부(200)를 형성하는 공정에 있어서, 모두 레이저광(602)을 사용함으로써, 각 공정을 공통의 레이저광(602) 발사 장치를 사용하여 행할 수 있다. 그러나, 제2 수지막을 조면화하는 방법은 이것에 한정되지 않는다. 구체적으로는, 예를 들어, 도 7의 (a)에 도시하는 공정에 있어서, 제2 수지막(304)에 대하여 레이저광(602)을 조사하는 대신, 애싱 처리를 행함으로써, 제2 수지막(304)을 조면화해도 상관없다.
또한, 제2 수지막(304)을 조면화하는 공정과, 제2 수지막(304)에 개구부를 형성하는 공정을 동일한 공정에서 행하도록 해도 된다. 구체적으로는, 예를 들어, 제2 수지막(304)에 개구부(200)를 형성하는 영역에서는 레이저광(602)을 투과하고, 제2 수지막(304)을 조면화하는 영역에서는, 레이저광(602)을 반투과하고, 다른 영역에서 레이저광(602)을 투과하지 않는 차광 마스크를 사용하여, 당해 공정을 행하도록 해도 된다. 당해 차광 마스크를 통하여 성막 대상으로 되는 표시 패널에 레이저광(602)을 조사한 경우, 제2 수지막(304)에 개구부(200)를 형성하는 영역에서는, 제2 수지막(304)을 제거하는 높은 에너지를 갖는 레이저광(602)이 조사된다. 또한, 제2 수지막(304)을 조면화하는 영역에서는, 제2 수지막(304)이 제거되는 것 보다도 낮게, 조면화하기 위하여 충분한 에너지를 갖는 레이저광(602)이 조사된다. 또한, 다른 영역에는 레이저광(602)이 조사되지 않기 때문에, 제2 수지막(304)을 조면화하는 공정과, 제2 수지막(304)에 개구부를 형성하는 공정을 동일한 공정에서 행할 수 있다.
계속해서, 상기 방법에 의해 제조된 쉐도우 마스크(100)를 사용한 표시 장치의 제조 방법에 대하여 설명한다. 본 표시 장치의 제조 방법은, 표시 패널을 포함하는 표시 장치의 제조 방법이며, 상기 방법에 의해 쉐도우 마스크(100)를 얻는 공정과, 당해 쉐도우 마스크(100)를 사용하여, 표시 패널 내에 마스크 박(104)에 형성된 개구부(200)에 대응한 패턴의 막을 형성하는 공정을 포함한다.
구체적으로는, 먼저, 증착 장치 등의 성막 장치 중에서, 쉐도우 마스크(100)가 제1 수지막(300)이 설치된 면이 표시 패널에 마주보도록 고정된다. 이어서, 제2 수지막(304)이 설치된 측에 배치된 증착원으로부터, 쉐도우 마스크(100)가 고정된 표시 패널을 향하여, 성막 재료의 분자가 방출된다. 방출된 분자는, 마스크 박(104)의 제2 수지막(304) 표면, 및 제2 수지막(304)에 형성된 개구부(200)로부터 노출되는 표시 패널의 표면에 퇴적된다.
그리고, 고정된 쉐도우 마스크(100)가 표시 패널로부터 제거되면, 표시 패널에는, 마스크 박(104)에 형성된 개구부(200)에 대응한 패턴의 막이 형성된다. 형성된 막은, 예를 들어 도 2에 도시한 바와 같은, 표시 패널의 1개의 부화소마다에 대응하는, 발광 재료를 포함하는 발광 소자막이나, 당해 발광 소자막에 전류를 흘리기 위한 전극이 포함된다. 또한, 표시 장치의 제조 방법에는, 상기 개구부(200)에 대응한 패턴의 막을 형성하는 공정 이외의 공정이 포함되지만, 여기에서는 설명을 생략한다. 또한, 성막 재료의 분자를 퇴적하는 방법은, 증착법에 한정되지 않고, 스퍼터 등의 방법이어도 된다.
상기 제조 방법에 의하면, 표시 패널 표면뿐만 아니라, 마스크 박(104)의 제2 수지막(304) 표면에도 성막 재료가 퇴적된다. 그러나, 본 발명에 따르면, 제2 수지막(304) 표면은 조면화되어 있기 때문에, 조면화되어 있지 않은 경우와 비교하여, 제2 수지막(304) 표면에 퇴적된 성막 재료가 박리되기 어렵다. 그로 인해, 박리된 성막 재료에 의해 증착원이 오염되어, 표시 패널에 불순물이 혼입될 우려를 경감할 수 있다.
본 발명의 사상의 범주에 있어서, 당업자라면 각종 변경예 및 수정예에 상도할 수 있을 것이며, 그들 변경예 및 수정예에 대해서도 본 발명의 범위에 속하는 것이라고 이해된다. 예를 들어, 전술한 각 실시 형태에 대하여 당업자가 적절히, 구성 요소의 추가, 삭제 또는 설계 변경을 행한 것, 또는, 공정의 추가, 생략 또는 조건 변경을 행한 것도, 본 발명의 요지를 구비하고 있는 한, 본 발명의 범위에 포함된다.
100: 쉐도우 마스크
102: 프레임
104: 마스크 박
106: 용접부
108: 표시 패널에 대응하는 위치
200: 개구부
300: 제1 수지막
302: 금속부
304: 제2 수지막
400: 분자가 입사하는 방향
402: 슬릿의 단부
404: 슬릿의 중앙부
600: 기재
602: 레이저광

Claims (8)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 기재 상에 제1 수지막을 형성하는 공정과,
    상기 제1 수지막 상에 슬릿이 설치된 금속부를 접합하는 공정과,
    상기 슬릿이 설치된 영역의 일부에 형성된 상기 제1 수지막을 제거하는 공정과,
    상기 금속부, 상기 제1 수지막 및 상기 기재를 덮도록, 제2 수지막을 형성하는 공정과,
    상기 제2 수지막의 표면을 조면화하는 공정과,
    상기 제2 수지막에, 제작하는 패턴에 대응한 개구부를 형성하는 공정과,
    상기 기재를 제거하는 공정
    을 포함하는 쉐도우 마스크의 제조 방법.
  8. 기재 상에 제1 수지막을 형성하는 공정과,
    상기 제1 수지막 상에 슬릿이 설치된 금속부를 접합하는 공정과,
    상기 슬릿이 설치된 영역의 일부에 형성된 상기 제1 수지막을 제거하는 공정과,
    상기 금속부, 상기 제1 수지막 및 상기 기재를 덮도록, 제2 수지막을 형성하는 공정과,
    상기 제2 수지막의 표면을 조면화하는 공정과,
    상기 제2 수지막에, 제작하는 패턴에 대응한 개구부를 형성하는 공정과,
    상기 기재를 제거하여 쉐도우 마스크를 얻는 공정과,
    상기 쉐도우 마스크를 사용하여, 표시 패널 내에 상기 패턴의 막을 형성하는 공정
    을 포함하는 표시 장치의 제조 방법.
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