KR101876331B1 - Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same - Google Patents

Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
KR101876331B1
KR101876331B1 KR1020110107754A KR20110107754A KR101876331B1 KR 101876331 B1 KR101876331 B1 KR 101876331B1 KR 1020110107754 A KR1020110107754 A KR 1020110107754A KR 20110107754 A KR20110107754 A KR 20110107754A KR 101876331 B1 KR101876331 B1 KR 101876331B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
stick
alignment key
frame
substrate
Prior art date
Application number
KR1020110107754A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130043538A (en
Inventor
이한주
박관우
엄성열
김성은
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110107754A priority Critical patent/KR101876331B1/en
Publication of KR20130043538A publication Critical patent/KR20130043538A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101876331B1 publication Critical patent/KR101876331B1/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Abstract

본 발명은 유기발광다이오드 표시장치가 형성되는 대면적 기판에 공통막을 형성하기 위한 증착장치에 적용되는 마스크에 관한 것으로서, 특히, 밴드 형태의 마스크 스틱이 마스크 프레임에 부착되어 있는, 마스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. 이를 위해 본 발명에 따른 마스크는, 유기발광표시장치의 증착공정에 이용되기 위해, 밴드 형태로 형성되는 복수의 마스크 스틱; 및 상기 복수의 마스크 스틱 각각이 부착되는 마스크 프레임을 포함한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a mask applied to a deposition apparatus for forming a common film on a large area substrate on which an organic light emitting diode display device is formed, and more particularly to a mask having a band- And to provide a method of manufacturing the same. To this end, a mask according to the present invention includes a plurality of mask sticks formed in a band shape for use in a deposition process of an organic light emitting display device; And a mask frame to which each of the plurality of mask sticks is attached.

Description

마스크, 그 제조 방법 및 그를 제조하기 위한 스트레처{MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND STRETCHER FOR MANUFACTURING THE SAME}MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND STRETCHER FOR MANUFACTURING THE SAME,

본 발명은 기판에 막을 증착시킬 때 이용되는 마스크에 관한 것으로서, 특히, 유기발광다이오드 표시장치가 형성되는 대면적 기판에 공통막을 형성하기 위한 이베포레이션(evaporation)에 적용되는 마스크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a mask used for depositing a film on a substrate, and more particularly, to a mask applied to evaporation for forming a common film on a large area substrate on which an organic light emitting diode display is formed.

일반적으로, 기상증착법(Vapor Deposition)은 크게 물리적기상증착법(PVD)과 화학적기상증착법(CVD)으로 구분된다.Generally, vapor deposition is divided into physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD).

PVD와 CVD의 차이는 증착시키려는 물질이 기체상태에서 고체상태로 변경될 때 어떤 과정을 거치느냐에 있다. 특히, 공정상의 뚜렷한 차이점은 PVD는 진공 환경을 요구하지만, CVD는 수십 ~ 수백 torr 내지는 상압의 환경에서도 충분히 가능하다는 것이다. 이때, CVD는 일반적으로 PVD보다 훨씬 고온의 환경을 요구한다. The difference between PVD and CVD is in the process when the material to be deposited changes from a gaseous state to a solid state. Particularly, the distinctive difference in the process is that PVD requires a vacuum environment, but CVD is also possible in environments of tens to hundreds of torr or atmospheric pressure. At this time, CVD generally requires a much higher temperature environment than PVD.

또한, 기상증착법에는 이베포레이션(evaporation)이 포함될 수 있으며, 이베포레인션은 PVD로 분류될 수 있다.
Also, the vapor deposition method may include evaporation, and the evaporation may be classified as PVD.

도 1은 종래의 마스크를 기판에 정렬하는 상태를 나타낸 예시도이다.1 is an exemplary view showing a state in which a conventional mask is aligned with a substrate.

상기한 바와 같은 다양한 증착법을 이용하여 유기발광다이오드 표시장치(OLED)의 보호막(Passivation Layer) 등을 형성하는 경우에는 도 1에 도시된 바와 같이 마스크(10)가 이용될 수도 있다. When a passivation layer or the like of the organic light emitting diode display OLED is formed using various deposition methods as described above, the mask 10 may be used as shown in FIG.

한편, 도 1에 도시된 마스크(10)는 복수의 유기발광다이오드 표시장치(OLED)를 제조하기 위한 것으로서, 마스크(10)에 형성된 복수의 증착영역(셀)(11)에 의해, 기판(20) 상에 복수의 유기발광다이오드 표시장치가 제조될 수 있다.The mask 10 shown in FIG. 1 is for manufacturing a plurality of organic light emitting diode display devices OLED and is formed by a plurality of deposition regions (cells) 11 formed on a mask 10, A plurality of organic light emitting diode display devices can be manufactured.

유기발광다이오드 표시장치를 제조하기 위한 증착장치에 적용되는 마스크(10)는 도 1에 도시된 바와 같이, 증착영역(11)과 마스킹영역(12)이 형성되어 있는 마스크 스틱(13) 및 마스크 스틱을 지지하기 위한 마스크 프레임(14)을 포함하여 구성된다. A mask 10 applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting diode display device includes a masking stick 13 and a mask stick 12 on which a deposition area 11 and a masking area 12 are formed, And a mask frame 14 for supporting the mask frame 14.

즉, 종래의 4G Half Size(370x460㎜) 기판(Glass)(20)을 이용한 OLED 증착 공정에서 사용되는 마스크(10)는, 두께가 50~100㎛의 금속 박판에 리소그래피(Lithography)와 습식에칭(Wet Etching)을 통하여 마스킹(Masking)영역(12)과 증착영역(11)을 패터닝(Patterning)하여 마스크 스틱(Mask Stick)(13)을 제작하는 과정과, 이 마스크 스틱을 도 1에 도시된 바와 같이 스트레처(Stretcher)의 그리퍼(Gripper)(30)를 이용하여 팽팽하게 인장하여 마스크 프레임(Mask Frame)(14)에 부착하는 과정을 통해 제조되고 있다. That is, the mask 10 used in the OLED deposition process using the conventional 4G Half Size (370x460 mm) substrate 20 is formed by performing lithography and wet etching on a metal thin plate having a thickness of 50 to 100 μm The mask stick 13 is patterned by patterning the masking region 12 and the deposition region 11 through wet etching so as to form the mask stick as shown in FIG. And is stretched and stretched using a gripper 30 of a stretcher and attached to a mask frame 14.

부연하여 설명하면, 마스크(10) 아래에 실제 OLED 패널의 픽셀이 패터닝된 기판(Master Glass)(20)을 두고, 마스크(10) 상부에 위치되는 CCD 카메라(Camera)(40)를 이용하여, 마스크 스틱(13)의 패턴과, 기판(20)의 픽셀 또는 활성영역(Active Area)(21)이 맞추어 지도록 마스크 스틱(13)의 위치를 조정한 후, 마스크 스틱(13)을 마스크 프레임(14)에 용접한다. 여기서, 모든 활성영역(21)들의 최외곽 영역을 활성영역 외곽면(23)이라 한다. 즉, 모든 활성영역(21)들은 활성영역 외곽면(23) 내측에 존재하게 된다.In more detail, using a CCD camera 40 positioned above the mask 10 with a substrate (Master Glass) 20 on which pixels of an actual OLED panel are patterned under the mask 10, The position of the mask stick 13 is adjusted so that the pattern of the mask stick 13 is matched with the pixel or active area 21 of the substrate 20 and then the mask stick 13 is moved to the mask frame 14 ). Here, the outermost region of all the active regions 21 is referred to as an active region outer surface 23. That is, all of the active areas 21 are present inside the active area outer surface 23.

이때, CCD 카메라(40)를 움직이지 않은 상태에, FOV(Field of View) 안에 내에 들어와 있는 마스크 스틱(13) 위의 특정 증착영역(11) 패턴과, 기판 상의 특정 활성영역(21) 패턴 간 간격을 측정하여 마스크 스틱의 위치를 판단한다. At this time, in a state in which the CCD camera 40 is not moved, the pattern of the specific deposition area 11 on the mask stick 13 and the pattern of the specific active area 21 on the substrate, which are inside the FOV (Field of View) The interval is measured to determine the position of the mask stick.

스트레처(Stretcher) 내에서 마스크 스틱(13)은 복수의 그리퍼(Gripper)(30)에 물려 인장력(Stretching Force)이 가해지면서 팽팽하게 당겨지고, 각 그리퍼(30) 간 힘의 세기의 조합에 의해서, 그 위치가 조정된다. 이때, 전체 기판(20)에 대해서 증착영역(11) 패턴과 활성영역(21) 패턴 또는 비활성영역(22) 패턴의 위치 정확도가 수 ㎛ 이하로 맞추어 질 때까지 그리퍼(30)의 인장력이 반복하여 조정된다. In the stretcher, the mask stick 13 is struck by a plurality of grippers 30 and is pulled tightly with a stretching force applied thereto. By the combination of the strengths of the forces between the grippers 30 , Its position is adjusted. The pulling force of the gripper 30 is repeated until the positional accuracy of the pattern of the deposition region 11 and the pattern of the active region 21 or the inactive region 22 is adjusted to a few micrometers or less with respect to the entire substrate 20 .

한편, 상기한 바와 같은 마스크 스틱(13)은 제작하고자 하는 유기발광다이오드 패널의 크기 및 형태별로 각각의 마스크 스틱(13)이 패터닝되어야 한다. 따라서, 각각의 마스크 스틱(13) 제작용 포토 마스크(Photo Mask)가 필요하고, 스트레처(Stretcher)내에서 기판(Master Glass)(20)과 마스크 프레임(Mask Frame)(14) 및 마스크 스틱(Mask Stick)(13)이 모두 정렬(Align) 되어야 하므로, 마스크 프레임(14)도 수 ㎛ 이내의 제작 공차로 정밀하게 제작되어야 한다. 또한, 스트레처(Stretcher)에는 마스크 스틱(13)의 위치를 조정하기 위한 기판(20)이 제품별로 준비되어야 한다.Meanwhile, in the mask stick 13, each mask stick 13 must be patterned according to the size and shape of the organic light emitting diode panel to be manufactured. Therefore, a photomask for fabricating each of the mask sticks 13 is required, and a substrate (Master Glass) 20, a mask frame (mask frame) 14, and a mask stick The mask frame 14 must be precisely manufactured with a manufacturing tolerance within a few micrometers. In addition, a substrate 20 for adjusting the position of the mask stick 13 must be prepared for each product in the stretcher.

즉, 상기한 바와 같은 종래의 마스크(10)는 제조 공정이 복잡할 뿐만 아니라, 제조 단가도 높다는 문제점을 가지고 있다. That is, the conventional mask 10 as described above has a problem that the manufacturing process is complicated and the manufacturing cost is high.

또한, 유기발광다이오드 표시장치를 제조하기 위한 증착장치에 적용되는 마스크는, 기판을 반송하는 트레이(Tray) 위에 중간 살대를 형성시키는 방법에 의해 제작될 수 있다. 이하, 이러한 마스크를 트레이 마스크라 한다. 이 경우, 트레이 마스크는 반송 캐리어(Carrier)의 기능도 수행하게 되므로, 트레이 마스크 제조를 위한 초기 투자 비용이 적어지고, 트레이 마스크 자체의 구조가 간단해질 뿐만 아니라 증착기 내 반송 기구 구성의 복잡성을 줄일 수도 있다는 장점이 있다. Further, a mask applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting diode display device can be manufactured by a method of forming a middle rib on a tray for transporting a substrate. Hereinafter, such a mask is referred to as a tray mask. In this case, since the tray mask also functions as a carrier, the initial investment cost for manufacturing the tray mask is reduced, the structure of the tray mask itself is simplified, and the complexity of the transport mechanism configuration in the evaporator can be reduced .

그러나, 상기한 바와 같은 종래의 트레이 마스크는 정밀 절삭, 용접 등 기계 가공을 통해 제작되는데, 증착 면적이 대형화됨에 따라 대형 트레이 마스크(Tray Mask) 제작 시 제작 공차가 증가하게 되고, 제작 정밀도가 저하될 수 있고, 증착 패턴의 정밀도 확보가 어렵다는 문제점이 발생하고 있다. However, the conventional tray mask as described above is manufactured through mechanical processing such as precision cutting and welding. As the deposition area becomes larger, manufacturing tolerances increase in manufacturing a large tray mask, and manufacturing precision is lowered And it is difficult to ensure the accuracy of the deposition pattern.

특히, 고진공 챔버(Chamber) 내에서 유기물 증착 소스(Source)의 위쪽에 기판을 두고 기판의 아랫면에 유기물 등을 증착하는 통상적인 증착 공정의 특성상, 디바이스(Device) 면이 아래쪽을 향하게 하면서, 기판(Glass)을 트레이 마스크(Tray Mask) 위에 올려놓기 위해서는 기판 핀(Glass Pin) 등이 이용될 수 밖에 없으며, 이로 인해 정렬(Align) 정밀도 확보가 어렵다는 문제점이 있다.Particularly, in a typical vacuum deposition chamber in which a substrate is placed above an organic material deposition source in a high vacuum chamber and an organic material or the like is deposited on the bottom surface of the substrate, A glass pin or the like is inevitably used for placing a glass substrate on a tray mask, which makes it difficult to ensure alignment accuracy.

또한, 기판의 전체 면적 중, 테두리 및 중간 살대 부분만 지지되므로 상당한 수준의 기판 처짐 현상이 발생될 수 있다. Also, since only the rim and the middle rib are supported in the entire area of the substrate, a considerable level of substrate deflection may occur.

유기발광다이오드 표시장치를 제조하기 위한 증착장치에 적용되는 상기한 바와 같은 종래의 마스크들의 문제점을 정리하면 다음과 같다.Problems of the above-described conventional masks applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting diode display device are summarized as follows.

첫째, OLED 증착 면적이 대면적화되면서, 마스크 스틱(13)의 스트레칭(Stretching)을 통한 패턴 정렬(Pattern Align) 기술의 난이도가 급격히 상승하였으며, 이로 인해, 마스크 제작의 정밀도 저하가 불가피하고, 제작 비용의 증가가 유발되며, 마스크 제작 정밀도의 저하는 기판에 증착되는 패턴의 정밀도 저하를 초래한다. 즉, 마스크 스틱(13)의 길이가 길어지면서 스트레칭 힘(Stretching Force) 조절을 통한 패턴 위치의 조정이 둔감해 지고, 넓은 영역의 모든 패턴이 동시에 정확하게 맞추어지기 어려워지고 있다. 실제로, 기판(20)의 크기가 커질수록, 마스크 스트레칭에 소요되는 시간은 열 배 이상 증가하며, 최종 패턴 정확도는 점점 낮아지고 있는 실정이다. First, as the OLED deposition area becomes large, the difficulty of the pattern alignment technique through the stretching of the mask stick 13 has been drastically increased. As a result, the precision of mask fabrication is inevitably lowered, And the decrease in the accuracy of mask fabrication results in a reduction in the precision of the pattern to be deposited on the substrate. That is, as the length of the mask stick 13 becomes long, the adjustment of the pattern position through the adjustment of the stretching force becomes insensitive, and it becomes difficult for all the patterns in a wide area to be precisely aligned at the same time. Actually, as the size of the substrate 20 increases, the time required for mask stretching increases more than ten times, and the final pattern accuracy is getting lower.

또한, FMM용 마스크 스틱을 제작하기 위해서는 패터닝에 필요한 포토 마스크를 만들어야 하는데, 면적 증가에 따른 포토 마스크의 제작비용이 지수적으로 증가 하게 되고, 통상 제품 개발 과정에서 발생하는 몇 차례의 마스크 수정(Mask Revision) 과정에서 매 번 포토 마스크를 재제작할 수밖에 없으므로, 급격한 비용 증가가 불가피 하다.In addition, in order to fabricate the mask stick for FMM, a photomask necessary for patterning must be made. The cost of manufacturing the photomask increases exponentially with an increase in the area, and a number of mask modifications Revision, it is necessary to rebuild the photomask every time, so a rapid increase in cost is inevitable.

또한, 마스크 면적의 증가는 에칭(Etching) 과정에서 결함(Defect)에 의한 수율 저하를 가속시켜, 마스크 제작 공정에서 급격한 수율 저하를 동반하게 되고, 양품 확보에 필요한 비용을 증가시키고 있다. In addition, the increase in the mask area accelerates the yield reduction due to defects in the etching process, accompanies a rapid decrease in the yield in the mask fabrication process, and increases the cost required for obtaining good products.

둘째, 고진공 챔버에서 기판의 디바이스(Device) 면을 아래로 향하여 트레이(Tray) 마스크 위에 올려놓기 위해 기판 핀(Glass Pin)을 사용할 수밖에 없는데, 이로 인해 기판과 트레이 마스크 간 정렬 정밀도 저하가 발생할 수 있고, 정렬 공정의 택 타임(Tact Time)이 증가될 수 있다.Secondly, it is inevitable to use a glass pin for placing the device surface of the substrate downward on the tray mask in the high vacuum chamber, which may cause a reduction in alignment accuracy between the substrate and the tray mask , The tact time of the alignment process can be increased.

또한, 트레이 마스크(Tray Mask) 안쪽 기판의 처짐이 커지고, 동시에 트레이 마스크 위에 얹힌 부분에서 들뜸이 발생하는데, 곡면으로 휘어지는 기판과 직선으로 가공된 트레이 마스크 간에 간극이 발생하고, 이로 인해, 국부적인 증착 패턴 불량이 유발될 수 있다. In addition, the sagging of the substrate inside the tray mask becomes large, and at the same time, lifting occurs at the portion laid on the tray mask. However, a gap is generated between the curved substrate and the linearly processed tray mask, Pattern defects may be caused.

또한, 기판을 기판 핀으로 지지한 상태에서 트레이 마스크와 정렬시켜 내려 놓아야 하는데, 기판 핀이 트레이 마스크를 관통하여 올라오므로, 핀 위치에서는 트레이 마스크에 구멍을 내야 하는데, 이는 원치 않는 위치에 증착 패턴이 만들어 질 수 있어 핀용 구멍을 많이 만들 수 없다. 이것은, 기판 핀의 숫자가 제한됨을 의미라며, 제한된 숫자의 핀 위에 올려진 기판은 많이 처질 수 밖에 없다. 따라서, 상당히 처져 있는 기판을 평평한 트레이 마스크와 정렬하는 과정에서 정밀도 확보가 어렵다. 또한, 기판과 트레이 마스크의 정렬이 잘 되었다 하더라도, 이후 기판이 트레이 마스크 위에 올려 졌을 경우, 처지는 형상이 달라짐에 따라 정렬(Align)정밀도가 저하될 수 있다.In addition, the substrate must be placed in alignment with the tray mask in a state of being supported by the substrate pins. Since the substrate pins are lifted up through the tray mask, a hole must be made in the tray mask at the pin position, Can be made, and it is not possible to make many holes for pins. This means that the number of substrate pins is limited, and a substrate on which a limited number of pins are mounted can not be removed much. Therefore, it is difficult to ensure accuracy in aligning the substrate with the flat tray mask. Also, even if alignment between the substrate and the tray mask is performed well, alignment accuracy may be lowered as the sagging shape is changed when the substrate is placed on the tray mask.

또한, 트레이 마스크 위에 위치하는 기판의 처짐 및 들뜸에 의한, 트레이 마스크와 기판 간의 간극은 패널의 코너(Corner) 부에 발생하는데, 증착 공정 과정에서 이 간극 부분으로 유기물 또는 금속의 증기(Vapor)가 침투하면서, 증착되지 않아야 하는 곳에 증착막이 형성되어 패턴 불량이 유발될 수도 있다. In addition, the gap between the tray mask and the substrate due to sagging and lifting of the substrate placed on the tray mask occurs in the corner of the panel. In the deposition process, organic material or metal vapor A vapor deposition film may be formed in a place where vapor deposition should not be performed, and pattern defects may be caused.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 밴드 형태의 마스크 스틱이 마스크 프레임에 부착되어 있는, 마스크, 그 제조 방법 및 그를 제조하기 위한 스트레처를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a mask having a band-shaped mask stick attached to a mask frame, a method for manufacturing the mask, and a stracher for manufacturing the mask.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 마스크는, 유기발광표시장치의 증착공정에 이용되기 위해, 밴드 형태로 형성되는 복수의 마스크 스틱; 및 상기 복수의 마스크 스틱 각각이 부착되는 마스크 프레임을 포함한다. 상기 마스크 스틱 및 상기 마스크 프레임은, 금속 또는 세라믹으로 형성되는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 스틱들은, 상기 증착공정에 의해 공통막이 형성될 기판 상의 활성영역으로 증착물이 전달되도록 하기 위한 적어도 하나 이상의 증착영역을 형성하며, 상기 마스크 스틱들 각각은 상기 증착물이 상기 기판으로 전달되는 것을 차단하는 기능을 수행하는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 스틱은 양쪽 끝단이 인장된 상태에서 상기 프레임에 고정되는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 스틱은 스트레처의 그리퍼를 통해 인장된 상태에서, 상기 스트레처의 선반에 놓여져 있는 상기 프레임 상에 레이저를 통해 부착되는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a mask comprising: a plurality of mask sticks formed in a band shape for use in a deposition process of an organic light emitting display; And a mask frame to which each of the plurality of mask sticks is attached. The mask stick and the mask frame are formed of metal or ceramic. Wherein the mask sticks form at least one or more deposition areas for transferring the deposition material to the active areas on the substrate on which the common film is to be formed by the deposition process and each of the mask sticks is configured to prevent the deposition material from being transferred to the substrate And the like. And the mask stick is fixed to the frame with both ends thereof being stretched. The mask stick is attached through a laser onto the frame placed on the shelf of the stretcher in a state of being stretched through the gripper of the stretcher.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 마스크 제조 방법은, 밴드 형태의 마스크 스틱을 복수개 제조하는 단계; 증착공정에 의해 공통막이 증착될 복수의 유기발광표시장치가 구비되어 있는 기판의 크기에 대응되는 크기를 갖는 마스크 프레임을 제조하는 단계; 상기 마스크 스틱의 양쪽 끝단을 인장시킨 상태에서, 상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착시키는 단계; 및 상기 마스크 스틱 부착 과정을 반복적으로 수행하여, 상기 기판 상의 활성영역으로 증착물이 전달되도록 하기 위한 적어도 하나 이상의 증착영역을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 마스크 스틱을 제조하는 단계는, 금속 롤을 일정한 폭을 가지고 있는 금속 밴드 형태로 절단시킨 후 상기 금속 밴드를 일정한 폭으로 절단시키는 방법을 통해 제조하거나, 또는 스텝 노광과 습식 에칭을 이용하여 제조하거나, 또는 슬릿 노광과 습식 에칭을 이용하여 제조하는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착시키는 단계는, 상기 마스크 스틱이 상기 마스크 프레임에 부착될 위치를 마스크 프레임 좌표계, 장비 좌표계 및 카메라를 이용하여 파악하는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에, 상기 기판에 형성될 기판 정렬키와 정렬되도록 마스크 정렬키를 형성하는 단계를 더 포함한다. 상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착시키는 단계는, 상기 마스크 스틱의 양쪽 끝단을 스트레처의 그리퍼로 인장시킨 상태에서, 상기 마스크 스틱을 상기 스트레처에 장착되어 있는 레이저를 이용하여 상기 마스크 프레임에 부착시키는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 프레임에 부착된 상시 마스크 스틱의 상태 및 위치 정보가, 상기 스트레처에 장착되어 있는 카메라에 의해 촬영 및 측정되어, 상기 마스크 스틱의 위치가 상기 스트레처의 모니터를 통해 출력되는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에, 상기 마스크 정렬키를 생성하는 단계는, 정렬키 생성기에 의해 이루어지며, 상기 정렬열키 생성기는, 상기 카메라의 위치를 제어하는 제어부를 공유함으로써, 상기 카메라를 이용하여 부착된 상기 마스크 스틱과 동일한 좌표계를 사용하며, 상기 마스크 정렬키의 좌표정보의 위치를 이용하여 상기 마스크 정렬키를 생성시킬 경우, 상시 기판에 형성될 기판 정렬키와 증착영역 간 상대적인 위치와, 상기 마스크 스틱 또는 마스크 프레임에 형성된 상기 마스크 정렬키와, 상기 마스크 스틱에 의해 정의된 증착영역의 상대적인 위치가 같게 하는 것을 특징으로 한다. 상기 마스크 정렬키를 형성하는 단계는, 상기 마스크 프레임이 놓여있는 스트레처에 장착되어 있는 가스주입부를 통해, 상기 마스크 정렬키가 형성될 위치에 비활성 가스를 공급하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a mask, including: fabricating a plurality of band-shaped mask sticks; Fabricating a mask frame having a size corresponding to a size of a substrate having a plurality of organic light emitting display devices to which a common film is to be deposited by a deposition process; Attaching the mask stick to the mask frame while both ends of the mask stick are stretched; And repeating the step of attaching the mask stick to form at least one or more deposition areas for transferring the deposition material to the active areas on the substrate. The mask stick may be manufactured by cutting a metal roll into a metal band having a predetermined width and then cutting the metal band to a predetermined width or by using a step exposure and a wet etching , Or slit exposure and wet etching. The step of attaching the mask stick to the mask frame is characterized in that the position where the mask stick is to be attached to the mask frame is grasped by using a mask frame coordinate system, an equipment coordinate system, and a camera. And forming a mask alignment key on the mask stick or the mask frame so as to be aligned with a substrate alignment key to be formed on the substrate. The step of attaching the mask stick to the mask frame may include attaching the mask stick to the mask frame using a laser mounted on the stretcher in a state in which both ends of the mask stick are stretched by a gripper of a stretcher . The state and positional information of the normally masked stick attached to the mask frame are photographed and measured by a camera mounted on the stretcher and the position of the mask stick is outputted through the monitor of the stretcher . Wherein the step of generating the mask alignment key in the mask stick or the mask frame is performed by a alignment key generator, wherein the alignment alignment key generator is configured to share a control unit When the mask alignment key is generated using the coordinate information of the mask alignment key using the same coordinate system as that of the mask stick attached to the substrate, a relative position between the substrate alignment key and the deposition area to be formed on the substrate at all times, The mask alignment key formed on the mask stick or the mask frame and the relative position of the deposition area defined by the mask stick are the same. The forming of the mask alignment key may include supplying an inert gas to a position where the mask alignment key is to be formed through a gas injection unit mounted on the stretcher on which the mask frame is placed.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 마스크를 제조하기 위한 스트레처는, 마스크 프레임이 놓여지는 선반; 상기 선반을 지지하기 위한 지지대; 상기 지지대에 형성되어 있는 레일을 따라 이동하면서 상기 마스크 프레임에 부착될 마스크 스틱을 이동 또는 인장시키기 위한 그리퍼; 상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착하기 위한 부착기; 상기 지지대에 의해 지지된 상태에서, 상기 선반을 사이에 두고 상기 지지대의 Y축 방향으로 연장되어 있는 두 개의 Y축스테이지; 상기 두 개의 Y축스테이지에 양쪽 끝단이 지지되어 있으며, 상기 Y축스테이지에 형성되어 있는 레일을 따라 상기 지지대의 Y축 방향으로 이동되는 X축스테이지; 및 상기 부착기가 연결되어 있는 상태에서, 상기 X축스테이지에 형성된 레일을 따라 상기 지지대의 X축 방향으로 이동되는 헤드를 포함한다. 상기 헤드에 장착되어 있으며, 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에 마스크 정렬키를 형성시키기 위한 정렬키 생성기를 더 포함한다. 상기 정렬열키 생성기는, 카메라의 위치를 제어하기 위한 제어부를 상기 카메라와 공유함으로써, 상기 카메라를 이용하여 부착된 상기 마스크 스틱과 동일한 좌표계를 사용하며, 상기 마스크 정렬키의 좌표정보의 위치를 이용하여 상기 마스크 정렬키를 생성시킬 경우, 상시 기판에 형성될 기판 정렬키와 증착영역 간 상대적인 위치와, 상기 마스크 스틱 또는 마스크 프레임에 형성된 상기 마스크 정렬키와, 상기 마스크 스틱에 의해 정의된 증착영역의 상대적인 위치가 같게 하는 것을 특징으로 한다. 상기 정렬키 생성기에 의해 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에 상기 마스크 정렬키가 생성될 때, 상기 마스크 정렬키가 생성될 위치에 비활성 가스를 공급하기 위한 가스주입부를 더 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a mask for manufacturing a mask, including: a shelf on which a mask frame is placed; A support for supporting the shelf; A gripper for moving or tensioning a mask stick to be attached to the mask frame while moving along a rail formed on the support frame; An attacher for attaching the mask stick to the mask frame; Two Y-axis stages extending in the Y-axis direction of the supporter with the shelf therebetween in a state of being supported by the supporter; An X-axis stage having both ends supported on the two Y-axis stages and moved in the Y-axis direction of the support along a rail formed on the Y-axis stage; And a head moved in the X-axis direction of the support along the rail formed on the X-axis stage in a state where the attachment unit is connected. And a alignment key generator mounted on the head for forming a mask alignment key on the mask stick or the mask frame. Wherein the alignment key key generator uses the same coordinate system as the mask stick attached using the camera by sharing a control unit for controlling the position of the camera with the camera and uses the position of the coordinate information of the mask alignment key When the mask alignment key is generated, the relative position between the substrate alignment key and the deposition area to be formed on the substrate at all times, the mask alignment key formed on the mask stick or the mask frame, and the relative position of the deposition area defined by the mask stick So that the positions are the same. And a gas injection unit for supplying an inert gas to a position where the mask alignment key is to be generated when the mask alignment key is generated in the mask stick or the mask frame by the alignment key generator.

상술한 해결 수단에 따라 본 발명은 다음과 같은 효과를 제공한다. According to the above-mentioned solution, the present invention provides the following effects.

즉, 본 발명은 밴드 형태의 마스크 스틱이 마스크 프레임에 부착되므로써, 4세대 이상의 대면적 기판의 OLED 증착 공정에 필요한 마스크를 적은 비용으로 정밀하게 제작할 수 있다는 효과를 제공한다. That is, since the band-shaped mask stick is attached to the mask frame, the present invention provides an effect that a mask required for the OLED deposition process of a large-sized substrate of 4th generation or more can be manufactured with low cost and accuracy.

또한, 본 발명은 대면적 기판용 마스크의 제작 정밀도 개선을 통한 증착 패턴의 정밀도를 향상시킴으로써, 최종적으로 제조되는 제품의 상품성을 향상시킬 수 있다는 효과를 제공한다. Further, the present invention improves the precision of the deposition pattern by improving the manufacturing precision of the mask for a large-area substrate, thereby providing the effect of improving the merchantability of the finally manufactured product.

또한, 본 발명은 별도의 패터닝 공정 없이 금속 밴드를 마스크 스틱으로 사용하여 마스크를 제작함으로써, 비용을 절감시킬 수 있고 수급을 용이하게 할 수 있다는 효과를 제공한다. Further, according to the present invention, a mask is manufactured by using a metal band as a mask stick without a separate patterning process, thereby reducing costs and facilitating supply and demand.

또한, 본 발명은 대형 마스크를 위한 마스크 프레임 제작 과정의 제작 공차가 마스크 스틱의 부착과정에서 제거될 수 있으므로, 마스크 대형화에 따른 정밀도 저하를 막을 수 있다는 효과를 제공한다. In addition, since the fabrication tolerance of the process of fabricating a mask frame for a large mask can be removed during the process of attaching the mask stick, the present invention provides an effect of preventing a reduction in precision due to mask enlargement.

또한, 본 발명은 OLED 패널의 디자인 또는 복수의 OLED 패널이 제조되는 기판의 디자인이 변경되더라도, 마스크 스틱의 폭과 위치를 조정함으로써 간단하게 마스크의 형태를 수정할 수 있다는 효과를 제공한다. Further, the present invention provides an effect that the shape of the mask can be easily modified by adjusting the width and position of the mask stick, even if the design of the OLED panel or the design of the substrate on which a plurality of OLED panels are manufactured is changed.

또한, 본 발명은 마스크 스틱을 인장시키는 인장 공정이 단순화되고 인장 작업 시간의 단축 및 인장기 관련 투자 비용을 절감시킬 수 있다는 효과를 제공한다. Further, the present invention provides the effect of simplifying the tensile process of pulling the mask stick, shortening the tensile work time, and reducing the investment cost related to the tensile machine.

도 1은 종래의 마스크를 기판에 정렬하는 상태를 나타낸 예시도.
도 2는 본 발명에 따른 마스크의 구성 및 제조 방법을 대략적으로 설명하기 위한 예시도.
도 3은 본 발명에 따른 마스크에 적용되는 마스크 스틱을 제조하는 방법을 설명하기 위한 예시도.
도 4는 본 발명에 따른 마스크를 제조하기 위한 스트레처의 일실시예 구성도.
도 5 내지 도 8은 본 발명에 따른 마스크를 제조하는 방법을 나타낸 예시도.
도 9는 본 발명에 따른 마스크에 기판이 부착된 상태에서 공통막 증착 공정이 수행되고 있는 상태를 나타낸 예시도. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is an exemplary view showing a state in which a conventional mask is aligned with a substrate. Fig.
FIG. 2 is an exemplary view for schematically explaining a configuration and a manufacturing method of a mask according to the present invention; FIG.
3 is an exemplary view for explaining a method of manufacturing a mask stick applied to a mask according to the present invention;
4 is a schematic view of an embodiment of a stracher for manufacturing a mask according to the present invention;
FIGS. 5 to 8 are illustrations showing a method of manufacturing a mask according to the present invention; FIG.
9 is a view illustrating a state in which a common film deposition process is performed in a state where a substrate is attached to a mask according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 마스크의 구성 및 제조 방법을 대략적으로 설명하기 위한 예시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 마스크에 적용되는 마스크 스틱을 제조하는 방법을 설명하기 위한 예시도이다.FIG. 2 is a schematic view for explaining the structure and manufacturing method of a mask according to the present invention, and FIG. 3 is an exemplary view for explaining a method of manufacturing a mask stick applied to the mask according to the present invention.

기판에 박막을 형성시키기 위한 증착장치는, 기판의 전면에 박막을 형성시키는 경우에 별도의 마스크 없이 이용되고 있으나, 유기발광다이오드 표시장치(OLED)의 보호막(Passivation Layer) 등(이하, 간단히 '공통막'이라 함)을 형성하는 경우에는 본 발명에 따른 마스크가 이용될 수도 있다. 즉, 본 발명에 따른 마스크는 복수의 유기발광다이오드 표시장치(OLED)가 형성되는 하나의 기판에 공통막을 제조하기 위한 것으로서, 각각의 유기발광다이오드 표시장치를 구분하기 위한 마스크 스틱이 마스크 프레임에 연결된 상태로 구성되어 있다.A vapor deposition apparatus for forming a thin film on a substrate is used without a separate mask when a thin film is formed on the entire surface of the substrate. However, a passivation layer of the organic light emitting diode display (OLED) Quot; film "), a mask according to the present invention may be used. That is, the mask according to the present invention is for manufacturing a common film on one substrate on which a plurality of organic light emitting diode display devices OLED are formed, and a mask stick for distinguishing each organic light emitting diode display device is connected to the mask frame .

여기서, 증착장치는 이베포레이션(evaporation)과 같은 PVD 방식을 적용하는 것일 수도있으나, CVD 방식을 이용한 것일 수도 있다. Here, the deposition apparatus may be a PVD system such as an evaporation system, or a CVD system.

유기발광다이오드 표시장치를 제조하기 위한 증착장치에 적용되는 본 발명에 따른 마스크(100)는 도 2에 도시된 바와 같이, 금속 밴드 형태의 복수의 마스크 스틱(110) 및 복수의 마스크 스틱 각각이 인장된 상태에서 정렬되어 부착되는 마스크 프레임(120)을 포함하여 구성될 수 있다.
A mask 100 according to the present invention applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting diode display device includes a plurality of mask sticks 110 in the form of metal bands and a plurality of mask sticks, And a mask frame 120 which is aligned and attached in a state in which the mask frame 120 is attached.

여기서, 마스크 스틱(110)은, 도 3에 도시된 바와 같은 금속 롤(111)을 일정한 폭을 가지고 있는 금속 밴드(112) 형태로 절단(Slitting) 시킨 후, 금속 밴드(112)를 원하는 길이만큼 절단시킴으로써 제조될 수 있다. Here, the mask stick 110 slits the metal roll 111 as shown in FIG. 3 into a metal band 112 having a predetermined width, and then slides the metal band 112 to a desired length Followed by cleavage.

금속 롤(111)로부터 절단된 금속 밴드(112)는 일정한 길이만큼 절단되기에 앞서, 미도시된 마스크 스틱 롤에 의해 감긴 상태로 관리될 수 있다. The metal band 112 cut from the metal roll 111 can be managed in a state of being wound by a mask stick roll (not shown) before being cut by a predetermined length.

마스크 스틱(110)으로는 Invar, Kovar, Elinvar 등과 같이 열팽창률(~ 5.0 ppm/degree)이 작은 금속이나 세라믹(ceramic) 등이 사용될 수 있다. 즉, 증착공정 중 열이 발생하기 때문에, 마스크 스틱(110)으로는 열에 대한 팩터(factor)가 최소화되는 즉, 열팽창률이 작은 금속 재질이 사용되는 것이 바람직하다. 즉, 마스크 스틱의 재료로 Invar 등을 사용함으로써, 열변형을 최소화시킬 수 있다.The mask stick 110 may be made of a metal such as Invar, Kovar, Elinvar, or the like having a small coefficient of thermal expansion (~ 5.0 ppm / degree) or ceramic. That is, since heat is generated during the deposition process, it is preferable that the mask stick 110 has a factor of heat minimized, that is, a metal material having a small coefficient of thermal expansion. That is, by using Invar or the like as a material of the mask stick, thermal deformation can be minimized.

마스크 스틱(110)의 폭은 마스크 프레임의 크기 및 유기발광표시장치(OLED)의 크기 등에 따라 다양하게 설정될 수 있다.The width of the mask stick 110 may be variously set according to the size of the mask frame and the size of the organic light emitting diode OLED.

예를 들어, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같은 마스크 프레임(120)에, 도 2의 (b)에 도시된 6개의 마스크 스틱(110)을 부착하여, 도 2의 (c)에 도시된 바와 같은 마스크(100)를 제조하고자 하는 경우, 미도시된 기판에는 네 개의 유기발광다이오드 표시장치가 제조될 수 있다.For example, six mask sticks 110 shown in FIG. 2 (b) are attached to the mask frame 120 as shown in FIG. 2 (a) Four organic light emitting diode display devices may be fabricated on a substrate (not shown).

따라서, 마스크 프레임(120)의 상단과 하단 또는 좌측과 우측을 가로지르도록 마스크 프레임(120)에 부착되는 마스크 스틱(110)의 폭은, 두 개의 유기발광다이오드 표시장치에 공통막이 증착되어서는 않되는 비활성영역을 커버할 수 있도록 형성되어야 한다. Therefore, the width of the mask stick 110 attached to the mask frame 120 so as to cross the upper and lower ends, or the left and right sides of the mask frame 120 can be set such that the common film is not deposited on the two organic light emitting diode display devices Should be formed to cover the inactive areas.

즉, 마스크 스틱(110)은 기판의 활성영역에 증착되어야할 증착물이 기판의 비활성영역으로 전달되는 것을 차단하는 역할을 하는 것으로서, 기판에 형성될 비활성영역과 동일한 폭을 갖도록 형성되어야 한다. That is, the mask stick 110 serves to prevent deposition of the deposition material to be deposited on the active region of the substrate from being transferred to the inactive region of the substrate, and must be formed to have the same width as the inactive region to be formed on the substrate.

따라서, 마스크 스틱(110)에 의해 상기한 바와 같이 증착물이 기판으로 전달될 수 있는 복수의 증착영역(111)이 형성될 수 있다.Accordingly, a plurality of deposition regions 111, through which the deposition material can be transferred to the substrate, can be formed by the mask stick 110 as described above.

한편, 상기한 바와 같은 마스크 스틱(110)은 다음과 같은 특징들을 가지고 있다.Meanwhile, the mask stick 110 as described above has the following features.

첫째, 마스크 스틱(110)은 별도의 패터닝(Patterning)이 되어 있지 않으며, 일정 폭의 금속 밴드(Metal Band)를 절단하는 방법에 의해 제조된다.First, the mask stick 110 is not patterned separately, but is manufactured by cutting a metal band having a predetermined width.

둘째, 금속 밴드를 절단하여 마스크 스틱을 제조하는 방법에서, 스텝(Step) 노광을 이용하되, 연속되는 샷(Shot) 간 일정 폭 중첩되도록 하고, 이때, 앞 샷(Shot)의 노광 패턴을 검사하여 뒷 샷의 패턴의 위치를 조절하는 방법으로 직진도가 유지되는 연속적인 밴드의 패터닝을 만들고 습식 에칭(Wet Etching)을 하여, 마스크 스틱이 제조될 수 있다. Second, in the method of manufacturing a mask stick by cutting a metal band, the step exposure is used to overlap a certain width between consecutive shots. At this time, an exposure pattern of the shot (Shot) is inspected A mask stick can be manufactured by patterning a continuous band in which the straightness is maintained and performing wet etching by adjusting the position of the rear shot pattern.

셋째, 마스크 스틱(110)은 금속롤(111)을 절단(Slitting)하는 방법에 의해 제조될 수 있다. 또한, 마스크 스틱은 절단(Slitting) 이외에, 슬릿 노광(Slit 노광) 또는 스텝 노광(Step 노광) 방식을 통해 일정 폭의 연속적인 밴드 패턴(Band Pattern)으로 형성하고, 이를 습식 에칭(Wet etching) 함으로써 제작될 수 있다. 이 경우 단면 프로파일(Profile)에 사면을 형성할 수 있어 증착 쉐도우(Shadow) 억제에 도움이 된다.Thirdly, the mask stick 110 can be manufactured by a method of slitting the metal roll 111. In addition to slitting, the mask stick may be formed into a continuous band pattern having a constant width through a slit exposure (slit exposure) or a step exposure (step exposure), and wet etching Can be produced. In this case, it is possible to form a slope on a cross-sectional profile (Profile), which helps to suppress the deposition shadow.

넷째, 마스크 스틱의 두께를 0.01~0.1mm 사이로 제조함으로써, 증착 쉐도우(Shadow)를 최소화시킬 수 있다. 또한, 인장된 마스크 스틱이 마스크로 사용될 수 있는 일정 이상의 내구성을 갖도록 할 수 있다.Fourth, the thickness of the mask stick is set between 0.01 mm and 0.1 mm, thereby minimizing the deposition shadow. It is also possible to make the stretched mask stick have a certain durability that can be used as a mask.

다섯째, 마스크 스틱은 일반적인 금속 롤 절단(Metal Roll Slitting) 방법으로 필요한 폭으로 제작될 수 있으며, 이때 금속 롤(111)을 풀고 감을 때 발생하는 사행으로 인해 일정량의 횡곡(Camber)이 발생될 수 있는데, 허용할 수 있는 캠버(Camber)의 양은 필요한 마스크 제작 정밀도를 고려하여 결정될 수 있다.
Fifth, the mask stick can be manufactured with a required width by a general metal roll slitting method. At this time, a certain amount of camber may be generated due to the meandering occurring when the metal roll 111 is unwound and wound , The amount of allowable camber can be determined in consideration of the required mask fabrication precision.

마스크 프레임(120)은 기판과 유사한 크기를 가지고 있는 사각형 프레임으로서, 마스크 스틱(110)을 지지하는 기능을 수행한다. The mask frame 120 is a rectangular frame having a size similar to that of the substrate, and functions to support the mask stick 110.

특히, 본 발명에 적용되는 마스크 프레임(120)의 내부 절단면(121)은, 미도시된 기판에 형성되는 유기발광다이오드 표시장치들의 모든 활성영역들의 외부 형상(이하, 간단히 '활성영역 외곽면'이라 함)(122)과 동일할 필요가 없다는 특징을 가지고 있다.Particularly, the inner cut surface 121 of the mask frame 120 according to the present invention has an outer shape (hereinafter referred to simply as an 'active area outer surface') of all the active areas of the organic light emitting diode display devices formed on the substrate ) 122 of the first embodiment of the present invention.

즉, 본 발명에 따른 마스크는, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 마스크 프레임(120)의 내부 절단면(121)이 기판의 활성영역 외곽면(122)과 일치되지 않더라도, 마스크 스틱(110)이 활성영역 외곽면(122)과 일치되도록 마스크 프레임(120)에 부착되도록 함으로써, 활성영역 외곽면(122)과 동일한 크기를 갖는 증착영역 외곽면을 가질 수 있다. 부연하여 설명하면, 마스크 프레임의 내부 절단면(121)과 활성영역 외곽면(122)의 제작 공차는 마스크 스틱(110)에 의해 제거될 수 있다.That is, even if the inner cut surface 121 of the mask frame 120 does not coincide with the active area outer surface 122 of the substrate, as shown in FIG. 2A, 110 may be attached to the mask frame 120 to coincide with the active area outer surface 122 to have a deposition area outer surface that is the same size as the active area outer surface 122. In other words, the manufacturing tolerances of the inner cut surface 121 of the mask frame and the active area outer surface 122 can be removed by the mask stick 110.

여기서 증착영역 외곽면이란 증착영역(119)들에 의해 형성되는 면을 말하는 것으로서, 상기한 바와 같이 증착영역 외곽면은 미도시된 기판에 형성된 활성영역 외곽면(122)과 동일하게 형성될 수 있다.The outer surface of the deposition region refers to a surface formed by the deposition regions 119. As described above, the outer surface of the deposition region may be formed in the same manner as the active region outer surface 122 formed on the substrate .

본 발명에 적용되는 마스크 프레임의 내부 절단면(121)이 상기한 바와 같이 활성영역 외곽면(122)과 일치되도록 정밀하게 제작될 필요가 없기 때문에, 본 발명은 마스크의 제조 공정을 단순화시킬 수 있다는 특징을 가지고 있다.Since the inner cut surface 121 of the mask frame according to the present invention does not need to be precisely fabricated to coincide with the active region outer surface 122 as described above, the present invention can simplify the manufacturing process of the mask Lt; / RTI >

즉, 마스크 프레임은 내부 절단면(121)과 활성영역 외곽면(122)의 제작 공차가 수백 ㎛, 예를 들어, ±250㎛ 정도를 갖도록 제작될 수 있음으로, 그 제작 공정에 정밀도를 요하지 않으며, 따라서, 그 제작 공정이 단순화될 수 있다. That is, since the mask frame can be manufactured so that the manufacturing tolerances of the inner cut surface 121 and the active area outer surface 122 are several hundred micrometers, for example, about ± 250 micrometers, Therefore, the manufacturing process can be simplified.

상기한 바와 같은 마스크 프레임(120)은 무기 화합물인 세라믹(Ceramic) 또는 금속(Metal(Invar)) 등의 재질로 형성될 수 있으며, 금속의 경우에는 인장을 하여 쳐짐을 최소화한 상태에서 사용될 수 있다. 또한, 마스크 프레임(120)은 열팽창 계수가 작은 재질을 사용함으로써, 온도에 따른 마스크 프레임 형상 변형을 최소화시킬 수 있다. 여기서, 열팽창 계수는 10-7mm/℃ 내지 2.0X10-6mm/℃ 이하인 것이 바람직하다. The mask frame 120 may be formed of a material such as ceramics or metal (Invar) which is an inorganic compound. In the case of a metal, the mask frame 120 may be used in a state of being minimized in tensile force . Further, by using a material having a small thermal expansion coefficient, the mask frame 120 can minimize the deformation of the mask frame depending on the temperature. Here, the thermal expansion coefficient is preferably 10 -7 mm / ° C to 2.0 x 10 -6 mm / ° C or lower.

즉, 본 발명에 따른 마스크는, 유기발광표시장치(유기EL Display)의 제조 과정 중 증착 공정에 이용되는 것으로서, 금속 소재의 마스크 프레임(120)을 제작하고, 그 위에 얇은 금속 시트(Metal Sheet) 형태의 마스크 스틱(Mask Stick)(110)을 인장하고 부착하여, 마스킹(Masking) 영역을 정의하는 방법에 의해 제조되고 있다.
That is, the mask according to the present invention is used in a deposition process during the manufacturing process of an organic light emitting display (OLED), and a mask frame 120 made of a metal material is manufactured, and a thin metal sheet is formed thereon. Is formed by stretching and attaching a mask stick 110 in the shape of a mask to define a masking region.

이하에서는, 도 2 내지 도 8을 참조하여 본 발명에 따른 마스크 제조 방법이 설명된다.Hereinafter, a method of manufacturing a mask according to the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 8. FIG.

도 4는 본 발명에 따른 마스크를 제조하기 위한 스트레처의 일실시예 구성도이다. 또한, 도 5 내지 도 8은 본 발명에 따른 마스크를 제조하는 방법을 나타낸 예시도이다.4 is a block diagram of an embodiment of a stracher for manufacturing a mask according to the present invention. 5 to 8 are illustrations showing a method of manufacturing a mask according to the present invention.

본 발명에 다른 마스크를 제조하기 위해서는 우선, 도 2의 (a)에 도시된 바와 같은 마스크 프레임(120)을 제조한다. 이러한 마스크는 상기한 바와 같이, 내부 절단면(121)과 활성영역 외곽면(122)의 제작 공차가 수백 ㎛ 정도를 갖도록 제작될 수 있다. In order to manufacture a mask according to the present invention, first, a mask frame 120 as shown in Fig. 2 (a) is manufactured. As described above, such a mask can be manufactured such that the manufacturing tolerances of the inner cut surface 121 and the active region outer surface 122 are several hundreds of micrometers.

다음으로, 도 2의 (b)에 도시된 바와 같은 복수의 마스크 스틱(110)을 도 3에 도시된 방법 등을 이용하여 제조한다.Next, a plurality of mask sticks 110 as shown in Fig. 2 (b) are manufactured using the method shown in Fig. 3 or the like.

다음으로, 도 5에 도시된 바와 같이, 마스크 프레임(120)을 스트레처(Stretcher) 내부의 장비 좌표계(A)가 형성되어 있는 선반(S)에 배치시킨다. 이때, 마스크 프레임(120)이 선반(S) 상의 최적의 위치 및 방향에 배치될 수 있도록, 마스크 프레임 좌표계(B)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 5, the mask frame 120 is placed on the shelf S on which the equipment coordinate system A inside the stretcher is formed. At this time, a mask frame coordinate system B is formed so that the mask frame 120 can be arranged at an optimum position and direction on the shelf S.

여기서, 장비 좌표계(A) 및 마스크 프레임 좌표계(B)는 선반(S)과 마스크 프레임(120)을 모니터링하고 있는 모니터의 화면을 통해 출력될 수도 있다. 즉, 사용자는 선반(S) 또는 모니터의 화면을 통해 출력되는 장비 좌표계(B) 및 마스크 프레임 좌표계(B)를 이용하여, 마스크 프레임(120)을 선반 상의 최적 위치에 배치시킨다. 그러나, 이러한 배치 동작은 스트레처의 제어부에 의해 제어될 수도 있다.Here, the equipment coordinate system A and the mask frame coordinate system B may be output through a screen of a monitor that monitors the shelf S and the mask frame 120. That is, the user places the mask frame 120 at the optimum position on the shelf by using the equipment coordinate system B and the mask frame coordinate system B output from the shelf S or the screen of the monitor. However, this arrangement operation may be controlled by the control unit of the stretcher.

즉, 도 5 내지 도 8에 도시된 공정은 도 4에 도시되어 있는 스트레처(Stretcher)(200)라는 장비에서 이루어지는 것으로서, 스트레처(200)는 상기한 바와 같이 마스크 프레임(120)이 안착되는 선반(S), 지지대(250)에 형성되어 있는 레일을 따라 이동하면서 마스크 스틱(110)을 이동 또는 인장시키기 위한 목적으로 사용되는 그리퍼(Gripper)(210), 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착하기 위한 부착기(레이저)(230), 스트레처 내부의 작업 공정을 촬영하기 위한 카메라(220), 마스크 스틱에 마스크 정렬키(300)를 형성시키기 위한 정렬키 생성기(레이저)(240), 상기한 바와 같은 구성요소들을 지지하기 위한 지지대(250), 지지대의 Y축 방향으로 연장되어 지지대(250)에 의해 지지되고 있는 두 개의 Y축스테이지(260), 두 개의 Y축스테이지에 양쪽 끝단이 지지되어 있으며 Y축스테이지에 형성되어 있는 레일을 따라 지지대의 Y축 방향으로 이동되는 X축스테이지(270), 카메라(220)와 정렬키 생성기(240)와 부착기(230)가 연결되어 있는 상태에서 X축스테이지에 형성된 레일을 따라 지지대의 X축 방향으로 이동되는 헤드(280)를 포함하고 있다. 또한, 스트레처는 상기한 바와 같은 구성요소들 이외에도, 카메라(220)에 의해 촬영된 스트레처 내부의 각종 상황을 사용자가 모니터링할 수 있도록 하기 위한 모니터(미도시), 마스크의 설계정보와 활성영역 외곽면(122)의 크기에 대한 정보와 마스크 스틱을 프레임에 부착시킬 위치에 대한 정보와 마스크 프레임의 좌표정보 등을 저장하고 있는 저장부(미도시) 및 상기 구성요소들의 기능을 제어하기 위한 제어부(미도시)를 포함하여 구성될 수 있다.That is, the process shown in FIGS. 5 to 8 is performed in the equipment of the stretcher 200 shown in FIG. 4, and the stretcher 200 is configured such that the mask frame 120 is seated A gripper 210 used for the purpose of moving or tensioning the mask stick 110 while moving along a rail formed on the shelf S and the support table 250, (Laser) 230 for forming a mask alignment key 300 on the mask stick, a camera 220 for capturing a work process inside the stretcher, A support 250 for supporting the components as described above, two Y-axis stages 260 supported by a support 250 extending in the Y-axis direction of the support, two Y- The end is supported and the Y axis The X-axis stage 270 moves along the rail formed on the X-axis stage in the Y-axis direction of the support. The X-axis stage 270 is formed on the X-axis stage in a state where the camera 220 and the alignment key generator 240 and the attaching unit 230 are connected. And a head 280 which is moved along the rail in the X-axis direction of the support. In addition to the above-described components, the stracher may include a monitor (not shown) for allowing a user to monitor various situations within the stretcher taken by the camera 220, A storage unit (not shown) for storing information on the size of the outer surface 122, information about a position to attach the mask stick to the frame, coordinate information of the mask frame, and the like, (Not shown).

따라서, 이하에서 설명되는 모든 동작들은, 사용자가 제어부를 조작하거나 또는 제어부가 저장부에 저장되어 있는 각종 정보들을 이용하여 자동적으로 수행될 수 있다. Therefore, all the operations described below can be automatically performed by the user operating the control unit or using various information stored in the storage unit by the control unit.

다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 마스크 프레임(120)이 선반(S)의 정위치에 배치되면, 프레임 좌표계(B) 상에서 마스크의 설계 정보를 반영하여 마스크 스틱(110)의 부착위치(C)를 결정한다. 즉, 마스크 프레임(120)이 배치되면, 상기한 바와 같이, 스트레처(100)의 제어부는 장비 좌표계(A), 마스크 프레임 좌표계(B), 마스크의 설계 정보, 활성영역 외곽면(122)의 크기에 대한 정보 등을 이용하여, 마스크 스틱(110)이 프레임에 부착될 부착위치(C)를 결정한 후, 해당 부착위치(C)의 좌표정보 등을 저장부에 저장한다. 6, when the mask frame 120 is disposed at a predetermined position on the shelf S, the design information of the mask is reflected on the frame coordinate system B, C). That is, when the mask frame 120 is disposed, the control unit of the stretcher 100 controls the apparatus coordinate system A, the mask frame coordinate system B, the design information of the mask, The mask stick 110 determines the attachment position C to be attached to the frame and then stores the coordinate information and the like of the attachment position C in the storage unit.

다음으로, 도 7에 도시된 바와 같이, 제어부(미도시)는 그리퍼(210)를 제어하여 마스크 스틱(110)을 부착위치(C)로 이동시킨 후, 부착기(230)를 이용하여 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착시킨다. 7, the control unit (not shown) controls the gripper 210 to move the mask stick 110 to the attachment position C, and then the mask stick 210 110 are attached to the mask frame 120.

즉, 제어부의 제어에 따라 그리퍼(Gripper)(210)는 마스크 스틱(110)을 잡은(Gripping) 후, 정해진 인장률로 스트레칭(Stretching) 시킨 상태에서 부착위치(C)로 이동시키며, 부착위치(C)의 가상선에 맞추어 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120) 상에 배치시킨다. 이후, 제어부의 제어에 따라 부착기(230)가 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착시킨다. That is, the gripper 210 grips the mask stick 110 according to the control of the control unit, and then moves to the attachment position C in a state of being stretched at a predetermined tensile rate, The mask stick 110 is disposed on the mask frame 120 in accordance with the imaginary line of the mask frame 120. [ Then, the attaching unit 230 attaches the mask stick 110 to the mask frame 120 under the control of the control unit.

여기서, 부착기(230)로는 레이저를 이용한 용접기 등이 적용될 수 있다. 즉, 부착기(240)는 레이저를 이용하여 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착시킬 수 있다. 이러한 레이저는 이하에서 설명될 정렬키 생성기(240)로도 이용될 수 있다. 따라서, 하나의 레이저가 부착기(230) 또는 정렬키 생성기(240)의 기능을 모두 수행할 수 있다. 그러나, 부착기(230)와 정렬키 생성기(240)의 기능을 수행하는 복수의 레이저가 헤드(280)에 장착되어 있을 수도 있다. Here, as the attaching unit 230, a laser welder or the like may be applied. That is, the attaching unit 240 can attach the mask stick 110 to the mask frame 120 using a laser. Such a laser may also be used as an alignment key generator 240, which will be described below. Thus, one laser can perform all of the functions of the attacher 230 or the alignment key generator 240. However, a plurality of lasers performing the functions of attacher 230 and alignment key generator 240 may be mounted on head 280.

또한, 헤드(280)에 장착되어 있는 카메라(220) 역시, 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착시키기 위해 부착위치를 찾는 기능 및 정렬키의 위치를 찾는 기능을 모두 수행할 수 있다. 그러나, 상기 기능을 수행하기 위하여 복수의 카메라(220)가 헤드(280)에 장착될 수도 있다.The camera 220 attached to the head 280 can also perform both a function of finding the attachment position and a function of finding the position of the alignment key in order to attach the mask stick 110 to the mask frame 120 . However, a plurality of cameras 220 may be mounted on the head 280 to perform the above function.

상기한 바와 같은 마스크 스틱(110) 부착 과정은 모든 마스크 스틱(110)에 대하여 반복적으로 수행된다.The process of attaching the mask stick 110 as described above is repeatedly performed with respect to all the mask sticks 110.

즉, 기판의 레이아웃에 필요한 마스크 스틱의 갯수 만큼 상기 과정들이 반복적으로 수행된다. 한편, 이러한 모든 작업은 상기한 바와 같이, 스트레처에 프로그래밍되어 자동으로 수행될 수 있다. That is, the above processes are repeatedly performed by the number of mask sticks required for the layout of the substrate. On the other hand, all of these operations can be performed automatically and programmed in the stretcher as described above.

마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착시키는 과정에서 이루어지는 본 발명의 특징은 다음과 같다.The features of the present invention in the process of attaching the mask stick 110 to the mask frame 120 are as follows.

첫째, 본 발명은 비 접촉식 3D 측정기(카메라)(220)와 종래의 스트레처(Stretcher)의 스트레칭 모듈(Stretching Module)(그리퍼)(210)을 결합한 형태의 스트레처(Stretcher)를 이용하여, 마스크 스틱(110)을 마스크 프레임(120)에 부착한다.First, the present invention uses a stretcher in the form of a non-contact 3D measuring device (camera) 220 combined with a conventional stretching module (gripper) 210 of a stretcher, The mask stick 110 is attached to the mask frame 120.

둘째, 마스크 스틱(110)을 그리퍼(210)로 인장하여 제작한 본 발명에 따른 마스크에 기판이 올려질 경우, 기판의 하중이 마스크 스틱에 가해지면서, 마스크 스틱과 기판이 동시에 처지게 되는데, 이를 방지하기 위해 본 발명은 마스크 스틱(110)의 두께와 인장률을 높임으로서 처지는 량을 조절할 수 있다. Second, when the substrate is loaded on the mask according to the present invention produced by pulling the mask stick 110 with the gripper 210, the load of the substrate is applied to the mask stick, so that the mask stick and the substrate are simultaneously sagged. The present invention can adjust the sag amount by increasing the thickness and the tensile ratio of the mask stick 110. [

셋째, 상기한 바와 같은 과정들이 이루어지는 스트레처(200)에는 설계상 마스크 스틱이 부착되어야 할 위치가 저장부에 저장되어 있으며, 스트레처(200)에는 정밀 좌표계에 연동되는 CCD 카메라(220)가 설치되어 있어서, 마스크 스틱의 위치가 측정될 수 있다. 또한, 본 발명은 설계상의 마스크 스틱의 위치와 비교하여, 마스크 스틱의 양측을 잡고 있는 그리퍼(Gripper)(210)가 각각의 리니어(Linear) 축을 필요한 만큼 이동하게 하여 마스크 스틱이 정확한 위치에 올 수 있게 할 수 있다. 이때, 마스크 스틱(110)의 양쪽 끝단은 그리퍼(Gripper)(210)에 의해 일정한 인장력(Stretching Force)으로 당겨지고 있고, 이로 인해 마스크 스틱(110)에 걸려진 텐션(Tension)은 마스크 스틱이 직선을 유지할 수 있게 한다. Third, the position where the mask stick is to be attached is stored in the storage unit in the structure of the stretcher 200 in which the above-described processes are performed, and the CCD camera 220 linked to the precision coordinate system is installed in the stretcher 200 So that the position of the mask stick can be measured. In addition, the present invention allows the mask stick to move to the correct position by allowing each of the linear axes to move as required by a gripper 210 holding both sides of the mask stick, You can do it. At this time, both ends of the mask stick 110 are pulled by a gripper 210 with a constant stretching force, so that a tension hanging on the mask stick 110 is a straight line .

넷째, 마스크 스틱(110)의 위치는, 마스크 스틱의 캠버(Camber)를 고려하여 결정될 수 있다. 즉, 본 발명은 CCD 카메라(220)를 이용하여 캠버(Camber)를 포함한 마스크 스틱(Mask Stick)의 측변을 검사하고, 보정(Interpolation) 등의 방법으로 직선화하여, 직선인 설계상 마스크 스틱의 경계선과 엄밀히 곡선인 마스크 스틱이 최대한 일치 또는 근접되도록 할 수 있다. 부연하여 설명하면, 마스크 스틱(110)의 위치를 검사함에 있어서, 본 발명은 마스크 스틱이 설계상 지정된 위치에 가장 근접한 위치에 놓여 질 수 있도록, 마스크 스틱의 전체 길이에서 캠버(횡곡, Camber)가 있는 마스크 스틱의 측면의 충분히 많은 지점에서 직진도를 검사하고, 이들 측정치의 보정(Interpolation)을 이용하여 마스크 스틱(110)의 정확한 위치를 판단할 수 있다. Fourth, the position of the mask stick 110 can be determined in consideration of the camber of the mask stick. That is, according to the present invention, side faces of a mask stick including a camber are inspected using a CCD camera 220, linearized by a method such as interpolation or the like, And the tightly curved mask sticks can be matched or approximated as closely as possible. In addition, in examining the position of the mask stick 110, the present invention is characterized in that a camber (camber) is formed on the entire length of the mask stick so that the mask stick can be placed at a position closest to the design- It is possible to determine the correct position of the mask stick 110 by inspecting the straightness at a sufficient number of points on the side of the mask stick having the mask stick and interpolating these measurements.

다섯째, 마스크 스틱(110)을 인장하고 부착하는 장치인 스트레처(인장기, Mask Stretcher)를 구성함에 있어서, 본 발명은 인장기에 내장된 리니어 모션(Linear Motion) 값을 이용한 좌표계를 사용하여, 마스크 스틱의 위치를 조정하되, 좌표계에 연동하는 CCD 카메라(220)나 프로브(Probe) 같은 감지(Sensing) 장치(미도시)를 이용하여, 마스크 스틱(110)의 위치를 감지하고, 또한, 마스크 설계상 필요한 마스크 스틱의 위치와 비교하여 마스크 스틱의 위치를 보정함으로써, 정밀한 마스크를 제작할 수 있다.Fifth, in constructing a stretcher (stretcher) which is a device for stretching and attaching the mask stick 110, the present invention can be applied to a masking apparatus using a coordinate system using a linear motion value built in a tensioner, The position of the mask stick 110 is sensed by using a sensing device (not shown) such as a CCD camera 220 or a probe that adjusts the position of the stick and is linked to a coordinate system, It is possible to manufacture a precise mask by correcting the position of the mask stick in comparison with the position of the mask stick necessary for the mask.

여섯째, 상기한 바와 같은 본 발명에 따른 마스크는, 정밀 좌표계를 활용하여 마스크 스틱(110)의 위치를 정밀하게 결정하므로, 동일한 사양의 정밀 좌표계를 사용하는 3D 측정기의 정밀도 이내에서 마스크 제작 정밀도를 보장할 수 있고, 이는 대면적 증착용 마스크의 제작 정밀도를 충분히 만족시키고도 남음이 있다.Sixth, since the mask according to the present invention as described above precisely determines the position of the mask stick 110 by utilizing the precision coordinate system, the accuracy of the mask production is guaranteed within the precision of the 3D measuring device using the precision coordinate system of the same specification Which can sufficiently satisfy the manufacturing precision of the mask for large area deposition masks.

마지막으로, 도 8에 도시된 바와 같이 모든 마스크 스틱(110)이 마스크 프레임(120)에 부착되면, 제어부는 정렬키 생성기(240)를 구동시켜 마스크 정렬키(300)를 마스크 스틱(110) 또는 마스크 프레임(120) 상에 형성한다. 8, when all the mask sticks 110 are attached to the mask frame 120, the control unit drives the alignment key generator 240 to move the mask alignment key 300 to the mask stick 110 or And is formed on the mask frame 120.

여기서, 마스크 정렬키(300)는 본 발명에 따른 마스크(100)에 의해 공통막이 형성될 기판을, 마스크(100)와 정렬시키는 기능을 수행한다.Here, the mask alignment key 300 functions to align the substrate on which the common film is to be formed, with the mask 100 by the mask 100 according to the present invention.

정렬키 생성기(240)로는 상기한 바와 같이 레이저가 이용될 수 있다.
As the alignment key generator 240, a laser may be used as described above.

상기 설명 중, 상기 마스크 프레임에 부착된 상시 마스크 스틱의 상태 및 위치 정보는, 상기 스트레처에 장착되어 있는 카메라에 의해 촬영 및 측정되어, 상기 마스크 스틱의 위치가 상기 스트레처의 모니터를 통해 출력될 수 있다.In the above description, the state and positional information of the normally masked stick attached to the mask frame are photographed and measured by a camera mounted on the stretcher, and the position of the mask stick is outputted through the monitor of the stretcher .

또한, 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에, 상기 마스크 정렬키를 생성하는 단계는, 정렬키 생성기에 의해 이루어지며, 상기 정렬열키 생성기는, 상기 카메라의 위치를 제어하는 제어부를 공유함으로써, 상기 카메라를 이용하여 부착된 상기 마스크 스틱과 동일한 좌표계를 사용하며, 상기 마스크 정렬키의 좌표정보의 위치를 이용하여 상기 마스크 정렬키를 생성시킬 경우, 상시 기판에 형성될 기판 정렬키와 증착영역 간 상대적인 위치와, 상기 마스크 스틱 또는 마스크 프레임에 형성된 상기 마스크 정렬키와, 상기 마스크 스틱에 의해 정의된 증착영역의 상대적인 위치가 같게 된다.
Further, in the mask stick or the mask frame, the step of generating the mask alignment key may be performed by an alignment key generator, and the alignment hot key generator may include a control unit for controlling the position of the camera, When the mask alignment key is generated using the position of the coordinate information of the mask alignment key, the relative position between the substrate alignment key and the deposition area to be formed on the substrate at all times , The relative positions of the mask alignment key defined in the mask stick or mask frame and the deposition area defined by the mask stick are the same.

상기한 바와 같은 마지막 과정에서 이루어지는 본 발명의 특징은 다음과 같다.The characteristics of the present invention in the last step as described above are as follows.

첫째, 마스크 스틱이(110) 마스크 프레임(120)에 부착되면, 증착기의 정렬기(Aligner)에서 기판의 기판 정렬키(Align Key)와 맞추어질 마스크 정렬키(Align Hole)(300)가 마스크 스틱(110) 위에 형성된다. 이때, 본 발명은 3D 측정기의 정밀 좌표계에 연동하는 레이저 마킹(Laser Marking) 장치와 같은 정렬키 생성기(240)를 스트레처에 저장되어 있는 위치로 이동시켜 그 위치에 정밀하게 마스크 정렬키(300)를 형성할 수 있다. 여기서 마스크 정렬키(300)는 반드시 구멍(Hole)만을 의미하지는 않는다. 즉, 본 발명은 마스크 정렬키(300)를 형성함에 있어서, 스트레처(인장기, Mask Stretcher)에 구비된 레이저(Laser) 장치를 장비 좌표계에 연동하여 움직이게 하고, 마스크 위에 구비되는 기판의 기판 정렬키에 상응하는 위치에 일정한 형상을 형성케 하여, 마스크 정렬키(300)로 사용할 수도 있다. 부연하여 설명하면, 마스크 정렬키(300)는 구멍 또는 일정한 형상으로 구성될 수도 있다. First, when the mask stick 110 is attached to the mask frame 120, a mask alignment key (Align Hole) 300 to be aligned with the substrate alignment key of the substrate in the aligner of the deposition apparatus is attached to the mask stick 120 (110). At this time, the alignment key generator 240 such as a laser marking device linked to the precision coordinate system of the 3D measuring instrument is moved to a position stored in the stracher, and the mask alignment key 300 is precisely positioned at that position. Can be formed. Here, the mask alignment key 300 does not necessarily mean only a hole. That is, in forming the mask alignment key 300, a laser device provided in a stretcher (a stretcher) is moved in conjunction with a machine coordinate system, and a substrate alignment A predetermined shape may be formed at a position corresponding to the key, and the mask alignment key 300 may be used. In other words, the mask alignment key 300 may be configured as a hole or a constant shape.

둘째, 본 발명은 레이저와 같은 정렬키 생성기(240)를 이용하여 마스크 정렬키(300)를 형성하는 과정에 있어서, 그 주변에 N2 등과 같은 비활성 가스(Inert Gas)를 채워주어, 마스크 정렬키(300) 주변이 고열에 의해 변성되는 것을 최소화함으로써, 선명한 마스크 정렬키(300)를 만들 수 있다. 이를 위해 본 발명에 따른 스트레처에는 가스주입부(미도시)가 더 포함될 수 있다. 이러한 가스주입부는 지지대(250) 또는 헤드(280) 등에 장착되어 있을 수 있다. In the process of forming the mask alignment key 300 using the alignment key generator 240 such as a laser, an inert gas such as N 2 is filled in the periphery of the mask alignment key 300, It is possible to make a clear mask alignment key 300 by minimizing the denaturation of the periphery of the mask 300 by high temperature. To this end, the stretcher according to the present invention may further include a gas injection unit (not shown). The gas injection unit may be mounted on the support 250 or the head 280 or the like.

셋째, 상기한 바와 같은 과정들을 통해, 마스크 스틱(110)이 마스크 프레임(120)에 부착되고, 마스크 정렬키(300)가 형성됨으로써, 본 발명에 따른 마스크(100)의 제조 공정이 완료된다. 이러한 작업이 완료되면 역시 스트레처의 저장부에 프로그램 되어 있는 검사 과정(Procedure)이 자동으로 수행될 수 있다. Third, through the above-described processes, the mask stick 110 is attached to the mask frame 120, and the mask alignment key 300 is formed, thereby completing the manufacturing process of the mask 100 according to the present invention. When this operation is completed, the inspection procedure programmed in the storage unit of the stretcher can be automatically performed.

넷째, 본 발명에 따른 마스크는, 마스크 스틱(110)의 제거 및 재부착 만으로 마스크 수정(Mask Revision)이 가능하다. 따라서, 본 발명은 마스크의 유지 비용을 감소시킬 수 있다는 특징을 가지고 있다.
Fourth, the mask according to the present invention is capable of mask correction only by removing and reattaching the mask stick 110. Therefore, the present invention is characterized in that the maintenance cost of the mask can be reduced.

상기한 바와 같은 본 발명에 따른 마스크의 특징을 정리하면 다음과 같다.The features of the mask according to the present invention as described above can be summarized as follows.

즉, 본 발명은 대형 유기발광표시장치(OLED)의 제조 공정 중, 증착공정을 통해 공통막을 형성시키기 위한 증착 공정에 사용되는 마스크로서, 별도의 패터닝(patterning)을 하지 않은 금속 밴드(Metal Band) 형태의 마스크 스틱(110)을 인장(Stretching)한 상태로 마스크 프레임(120)에 부착하여 제조되고 있다.That is, the present invention is a mask used in a deposition process for forming a common film through a deposition process in the process of manufacturing a large-sized organic light emitting display (OLED), and includes a metal band without additional patterning, Shaped mask stick 110 is attached to the mask frame 120 in a state of being stretched.

이때, 마스크 스틱의 부착 위치는 장비의 절대 좌표계를 이용하여 결정됨으로써, 마스킹(Masking) 영역의 위치 정밀도가 확보될 수 있다. 또한, 절대 좌표계와 연동되는 레이저 마킹(Laser Marking) 장치(240)를 이용하여 마스크에 마스크 정렬키(Align Key)를 형성한다.At this time, the attachment position of the mask stick is determined using the absolute coordinate system of the equipment, so that the positional accuracy of the masking area can be secured. In addition, a mask alignment key is formed on the mask using a laser marking device 240 interlocked with an absolute coordinate system.

또한, 본 발명에 의하면 Gen 4(Glass Size 730x460㎜) 이상의 대면적 OLED 증착 공정에서 사용될 수 있는 대면적 증착 마스크가 간단한 공정을 통해 제조될 수 있다. In addition, according to the present invention, a large-area deposition mask that can be used in a large-area OLED deposition process of Gen 4 (Glass Size 730 x 460 mm) or more can be manufactured through a simple process.

또한, 본 발명은 마스크 스틱의 부착 위치를 정밀하게 조정함으로써, 대형 마스크 프레임의 제조 과정에서 발생하는 가공 공차를 제거하여, 대면적 OLED 증착용 마스크의 제작 정밀도를 확보할 수 있다. Further, the present invention can precisely adjust the attaching position of the mask stick, thereby eliminating the machining tolerance generated in the manufacturing process of the large mask frame, and securing the manufacturing precision of the large area OLED deposition mask.

또한, 본 발명은 마스크 스틱을 얇은 금속 밴드(Metal Band)를 사용하여 제조함으로써, 증착 쉐도우(Shadow)를 최소화하며, Invar를 이용하여 마스크 스틱을 제조함으로써 마스크 스틱의 열변형을 최소화하여, 종합적으로 증착 패턴의 정밀도를 극대화시킬 수 있다. In addition, the present invention minimizes the deposition shadow by manufacturing a mask stick using a thin metal band, minimizes thermal deformation of the mask stick by manufacturing a mask stick using Invar, The accuracy of the vapor deposition pattern can be maximized.

또한, 본 발명은 마스크 스틱의 제거 및 재부착 만으로, 마스크 수정(Mask Revision)이 가능하여 마스크의 유지 비용을 절감시킬 수 있다. Further, according to the present invention, it is possible to mask correction (mask revision) only by removing and reattaching the mask stick, thereby reducing the maintenance cost of the mask.

또한, 본 발명은 마스크 제작 기간을 단축시키고, 제작 비용을 절감시킬 수 있다. Further, the present invention can shorten the mask making period and reduce the manufacturing cost.

또한. 본 발명은, 절단(Slitting) 및 스텝(Step) 노광 방식 등으로 마스크 스틱을 적은 비용으로 정밀하게 제작할 수 있다. Also. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can precisely manufacture a mask stick at a small cost with a slitting and step exposure method or the like.

또한, 본 발명은 유기발광다이오드(OLED)의 공통막을 형성하기 위한 증착공정에서 이용되는 마스크에 관한 것으로서, 이러한 증착공정에는, 이베포레이션(evaporation), PECVD, PVD, APCVD, LPCVD 등이 모두 포함될 수 있으나, 특히, 이베포레이션(evaporation)을 이용한 증착공정에서 유용하게 적용될 수 있다.
In addition, the present invention relates to a mask used in a deposition process for forming a common film of an organic light emitting diode (OLED). Such a deposition process includes evaporation, PECVD, PVD, APCVD, LPCVD, However, it can be usefully applied especially in a deposition process using evaporation.

도 9는 본 발명에 따른 마스크에 기판이 부착된 상태에서 공통막 증착 공정이 수행되고 있는 상태를 나타낸 예시도이다. 9 is a view illustrating a state in which a common film deposition process is performed in a state where a substrate is attached to a mask according to the present invention.

상기한 바와 같은 본 발명에 따른 마스크(100)는 도 8에 도시된 바와 같이, 기판(500)의 디바이스면이, 증착물 분사기(410)가 배치되어 있는 아랫쪽을 향하도록 하는 공정에서도 이용될 수 있다. 이 경우, 기판(500)은 롤러(420)에 의해 이동되면서, 박막이 증착될 수 있다.The mask 100 according to the present invention as described above can also be used in a process in which the device surface of the substrate 500 faces downward where the deposition material sprayer 410 is disposed, as shown in FIG. 8 . In this case, as the substrate 500 is moved by the rollers 420, a thin film can be deposited.

이 경우, 기판(500) 크기의 처짐을 최소화하는 두께 또는 형상을 갖는 플레이트(Plate)(미도시)에 고진공 환경에서 사용될 수 있는 점착 필름(Film)이나 정전기 디바이스(Device)가 설치된 기판 운반체를 만들고, 기판의 뒷면을 상기 플레이트의 아랫면에 부착할 수 있으며, 이를 본 발명에 따른 마스크(100) 위에 얹음으로써, 기판의 처짐을 막을 수 있다. 즉, 도 8에서 기판(500)의 상단에는 플레이트가 구비될 수 있다. In this case, a substrate carrier provided with a film or an electrostatic device that can be used in a high vacuum environment is formed on a plate (not shown) having a thickness or shape to minimize deflection of the substrate 500 , The rear surface of the substrate can be attached to the bottom surface of the plate, and it can be prevented from sagging by placing the substrate on the mask 100 according to the present invention. That is, a plate may be provided on the top of the substrate 500 in FIG.

이때, 마스크 스틱이 지나가는 위치에 대응되는 플레이트(Plate)의 위치에 자석을 설치하고, 이 자석의 힘으로 마스크 스틱(110)을 들어올림으로써, 기판과 마스크 스틱이 밀착되도록 할 수도 있다. 즉, 미도시된 플레이트와 마스크(100) 사이에 기판(500)이 있으므로, 마스크 스틱이 지나가는 위치에 대응되는 플레이트의 위치에 자석이 설치되어 있다면, 자석과 마스크 스틱이 인력을 작용하게 되며, 이로 인해, 마스크(100)의 마스크 스틱(110)이 기판(500)과 더 밀착될 수 있다.At this time, a magnet may be provided at a position of a plate corresponding to a position where the mask stick passes, and the mask stick 110 may be raised by the force of the magnet so that the substrate and the mask stick closely contact each other. That is, if the magnet is provided at the position of the plate corresponding to the position where the mask stick passes, the magnet and the mask stick act on the attraction force, because there is the substrate 500 between the plate and the mask 100 The mask stick 110 of the mask 100 can be brought into closer contact with the substrate 500. [

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.　 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

100 : 마스크 110 : 마스크 스틱
120 : 마스크 프레임 200 : 스트레처
S : 선반 210 : 그리퍼
220 : 카메라 230 : 부착기
240 :정렬키 생성기 250 : 지지대
260 : Y축스테이지 270 : X축스테이지
280 : 헤드 500 : 기판100: mask 110: mask stick
120: mask frame 200: stretcher
S: Shelf 210: Gripper
220: camera 230: attacher
240: Alignment key generator 250: Support
260: Y-axis stage 270: X-axis stage
280: head 500: substrate

Claims (17)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 밴드 형태의 마스크 스틱을 복수개 제조하는 단계;
증착공정에 의해 공통막이 증착될 복수의 유기발광표시장치가 구비되어 있는 기판의 크기에 대응되는 크기를 갖는 마스크 프레임을 제조하는 단계;
상기 마스크 스틱의 양쪽 끝단을 인장시킨 상태에서, 상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착시키는 단계; 및
상기 마스크 스틱 부착 과정을 반복적으로 수행하여, 상기 기판 상의 활성영역으로 증착물이 전달되도록 하기 위한 적어도 하나 이상의 증착영역을 형성하는 단계를 포함하고,
적어도 하나 이상의 상기 증착영역은, 적어도 네 개의 상기 마스크 스틱들에 의해 형성되며,
상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착시키는 단계는,
상기 마스크 스틱이 상기 마스크 프레임에 부착될 위치를 마스크 프레임 좌표계, 장비 좌표계 및 카메라를 이용하여 파악하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.　Fabricating a plurality of band-shaped mask sticks;
Fabricating a mask frame having a size corresponding to a size of a substrate having a plurality of organic light emitting display devices to which a common film is to be deposited by a deposition process;
Attaching the mask stick to the mask frame while both ends of the mask stick are stretched; And
And repeating the step of attaching the mask stick to form at least one or more deposition areas for transferring the deposition material to the active areas on the substrate,
Wherein at least one of said deposition areas is formed by at least four said mask sticks,
Wherein attaching the mask stick to the mask frame comprises:
Wherein a position at which the mask stick is attached to the mask frame is grasped by using a mask frame coordinate system, an equipment coordinate system, and a camera. 제 6 항에 있어서,
상기 마스크 스틱을 제조하는 단계는,
금속 롤을 일정한 폭을 가지고 있는 금속 밴드 형태로 절단시킨 후 상기 금속 밴드를 일정한 폭으로 절단시키는 방법을 통해 제조하거나, 또는 스텝 노광과 습식 에칭을 이용하여 제조하거나, 또는 슬릿 노광과 습식 에칭을 이용하여 제조하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법. The method according to claim 6,
Wherein the step of fabricating the mask stick comprises:
A metal roll is cut into a metal band having a predetermined width and then the metal band is cut to a predetermined width. Alternatively, the metal band is manufactured by using a step exposure and a wet etching, or by using a slit exposure and a wet etching Wherein the mask is manufactured by a method of manufacturing a mask. 삭제delete 제 6 항에 있어서,
상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에, 상기 기판에 형성될 기판 정렬키와 정렬되도록 마스크 정렬키를 형성하는 단계를 더 포함하는 마스크 제조 방법.　The method according to claim 6,
Further comprising forming a mask alignment key on the mask stick or the mask frame so as to be aligned with a substrate alignment key to be formed on the substrate. 제 6 항에 있어서,
상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착시키는 단계는,
상기 마스크 스틱의 양쪽 끝단을 스트레처의 그리퍼로 인장시킨 상태에서, 상기 마스크 스틱을 상기 스트레처에 장착되어 있는 레이저를 이용하여 상기 마스크 프레임에 부착시키는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.　The method according to claim 6,
Wherein attaching the mask stick to the mask frame comprises:
And attaching the mask stick to the mask frame using a laser mounted on the stretcher in a state in which both ends of the mask stick are stretched by a gripper of a stretcher. 제 10 항에 있어서,
상기 마스크 프레임에 부착된 상시 마스크 스틱의 상태 및 위치 정보가, 상기 스트레처에 장착되어 있는 카메라에 의해 촬영 및 측정 되어, 상기 마스크 스틱의 위치가 상기 스트레처의 모니터를 통해 출력되는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.　11. The method of claim 10,
The state and position information of the normally masked stick attached to the mask frame are photographed and measured by a camera mounted on the stretcher and the position of the mask stick is outputted through the monitor of the stretcher / RTI > 제 9 항에 있어서,
상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에, 상기 마스크 정렬키를 생성하는 단계는, 정렬키 생성기에 의해 이루어지며,
상기 정렬키 생성기는, 카메라의 위치를 제어하는 제어부를 공유함으로써, 상기 카메라를 이용하여 부착된 상기 마스크 스틱과 동일한 좌표계를 사용하며,
상기 마스크 정렬키의 좌표정보의 위치를 이용하여 상기 마스크 정렬키를 생성시킬 경우, 상시 기판에 형성될 기판 정렬키와 증착영역 간 상대적인 위치와, 상기 마스크 스틱 또는 마스크 프레임에 형성된 상기 마스크 정렬키와, 상기 마스크 스틱에 의해 정의된 증착영역의 상대적인 위치가 같게 하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.　　10. The method of claim 9,
Wherein generating the mask alignment key on the mask stick or the mask frame is performed by an alignment key generator,
Wherein the alignment key generator uses the same coordinate system as the mask stick attached using the camera by sharing a control unit for controlling the position of the camera,
When the mask alignment key is generated by using the position of the coordinate information of the mask alignment key, the relative position between the substrate alignment key and the deposition area to be formed on the substrate at all times, the mask alignment key formed on the mask stick or the mask frame, Wherein the relative positions of the deposition areas defined by the mask stick are the same. 제 9 항에 있어서,
상기 마스크 정렬키를 형성하는 단계는,
상기 마스크 프레임이 놓여있는 스트레처에 장착되어 있는 가스주입부를 통해, 상기 마스크 정렬키가 형성될 위치에 비활성 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 마스크 제조 방법.　10. The method of claim 9,
Wherein forming the mask alignment key comprises:
Wherein an inert gas is supplied to a position where the mask alignment key is to be formed, through a gas injection unit mounted on the stretcher on which the mask frame is placed. 마스크 프레임이 놓여지는 선반;
상기 선반을 지지하기 위한 지지대;
상기 지지대에 형성되어 있는 레일을 따라 이동하면서 상기 마스크 프레임에 부착될 마스크 스틱을 이동 또는 인장시키기 위한 그리퍼;
상기 마스크 스틱을 상기 마스크 프레임에 부착하기 위한 부착기;
상기 지지대에 의해 지지된 상태에서, 상기 선반을 사이에 두고 상기 지지대의 Y축 방향으로 연장되어 있는 두 개의 Y축스테이지;
상기 두 개의 Y축스테이지에 양쪽 끝단이 지지되어 있으며, 상기 Y축스테이지에 형성되어 있는 레일을 따라 상기 지지대의 Y축 방향으로 이동되는 X축스테이지; 및
상기 부착기가 연결되어 있는 상태에서, 상기 X축스테이지에 형성된 레일을 따라 상기 지지대의 X축 방향으로 이동되는 헤드를 포함하는 마스크를 제조하기 위한 스트레처.　A shelf on which the mask frame is placed;
A support for supporting the shelf;
A gripper for moving or tensioning a mask stick to be attached to the mask frame while moving along a rail formed on the support frame;
An attacher for attaching the mask stick to the mask frame;
Two Y-axis stages extending in the Y-axis direction of the supporter with the shelf therebetween in a state of being supported by the supporter;
An X-axis stage having both ends supported on the two Y-axis stages and moved in the Y-axis direction of the support along a rail formed on the Y-axis stage; And
And a head moved in the X-axis direction of the support along a rail formed on the X-axis stage in a state where the attachment unit is connected. 제 14 항에 있어서,
상기 헤드에 장착되어 있으며, 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에 마스크 정렬키를 형성시키기 위한 정렬키 생성기를 더 포함하는 마스크를 제조하기 위한 스트레처.　15. The method of claim 14,
Further comprising an alignment key generator mounted on the head for forming a mask alignment key on the mask stick or the mask frame. 제 15 항에 있어서,
상기 정렬키 생성기는, 카메라의 위치를 제어하기 위한 제어부를 상기 카메라와 공유함으로써, 상기 카메라를 이용하여 부착된 상기 마스크 스틱과 동일한 좌표계를 사용하며,
상기 마스크 정렬키의 좌표정보의 위치를 이용하여 상기 마스크 정렬키를 생성시킬 경우, 상시 기판에 형성될 기판 정렬키와 증착영역 간 상대적인 위치와, 상기 마스크 스틱 또는 마스크 프레임에 형성된 상기 마스크 정렬키와, 상기 마스크 스틱에 의해 정의된 증착영역의 상대적인 위치가 같게 하는 것을 특징으로 하는 마스크를 제조하기 위한 스트레처.　16. The method of claim 15,
Wherein the alignment key generator uses the same coordinate system as the mask stick attached using the camera by sharing a control unit for controlling the position of the camera with the camera,
When the mask alignment key is generated by using the position of the coordinate information of the mask alignment key, the relative position between the substrate alignment key and the deposition area to be formed on the substrate at all times, the mask alignment key formed on the mask stick or the mask frame, Wherein the relative positions of the deposition regions defined by the mask stick are the same. 제 15 항에 있어서,
상기 정렬키 생성기에 의해 상기 마스크 스틱 또는 상기 마스크 프레임에 상기 마스크 정렬키가 생성될 때, 상기 마스크 정렬키가 생성될 위치에 비활성 가스를 공급하기 위한 가스주입부를 더 포함하는 마스크를 제조하기 위한 스트레처.16. The method of claim 15,
Further comprising a gas injection unit for supplying an inert gas to a position where the mask alignment key is to be generated when the mask alignment key is generated in the mask stick or the mask frame by the alignment key generator Lecher.
KR1020110107754A 2011-10-20 2011-10-20 Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same KR101876331B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110107754A KR101876331B1 (en) 2011-10-20 2011-10-20 Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110107754A KR101876331B1 (en) 2011-10-20 2011-10-20 Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130043538A KR20130043538A (en) 2013-04-30
KR101876331B1 true KR101876331B1 (en) 2018-07-10

Family

ID=48441762

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110107754A KR101876331B1 (en) 2011-10-20 2011-10-20 Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101876331B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020032511A1 (en) * 2018-08-08 2020-02-13 주식회사 티지오테크 Mask-transfer system, and method for manufacturing mask having integrated frame

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102177784B1 (en) * 2013-12-18 2020-11-12 삼성디스플레이 주식회사 Open mask assembly
CN111095592A (en) * 2017-09-01 2020-05-01 悟勞茂材料公司 Method for manufacturing frame-integrated mask
KR102426445B1 (en) 2017-10-30 2022-07-29 엘지전자 주식회사 Mask Stretcher
KR102266251B1 (en) * 2017-11-30 2021-06-17 주식회사 오럼머티리얼 Producing method of grid frame
KR20220004880A (en) * 2020-07-03 2022-01-12 삼성디스플레이 주식회사 Mask assembly and deposition apparatus having the same
KR20230109818A (en) * 2022-01-13 2023-07-21 삼성디스플레이 주식회사 Mask, mask assembly including the same, and panel carrying apparatus

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040060596A (en) * 2002-12-30 2004-07-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Mask assembly
JP2006114402A (en) * 2004-10-15 2006-04-27 Dainippon Printing Co Ltd Metal mask position alignment method and device
KR20100119675A (en) * 2009-05-01 2010-11-10 삼성모바일디스플레이주식회사 Mask frame assembly for thin layer deposition and manufacturing method of organic light emitting display device thereused
KR20110088612A (en) * 2010-01-29 2011-08-04 엘지디스플레이 주식회사 Mask frame
KR20110101767A (en) * 2010-03-09 2011-09-16 삼성모바일디스플레이주식회사 Mask frame assembly for thin film deposition and the assembling method thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040060596A (en) * 2002-12-30 2004-07-06 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Mask assembly
JP2006114402A (en) * 2004-10-15 2006-04-27 Dainippon Printing Co Ltd Metal mask position alignment method and device
KR20100119675A (en) * 2009-05-01 2010-11-10 삼성모바일디스플레이주식회사 Mask frame assembly for thin layer deposition and manufacturing method of organic light emitting display device thereused
KR20110088612A (en) * 2010-01-29 2011-08-04 엘지디스플레이 주식회사 Mask frame
KR20110101767A (en) * 2010-03-09 2011-09-16 삼성모바일디스플레이주식회사 Mask frame assembly for thin film deposition and the assembling method thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020032511A1 (en) * 2018-08-08 2020-02-13 주식회사 티지오테크 Mask-transfer system, and method for manufacturing mask having integrated frame

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130043538A (en) 2013-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101876331B1 (en) Mask, method for manufacturing the same and stretcher for manufacturing the same
KR101901066B1 (en) Substrate clamping method, substrate clamping apparatus, film formation method, film formation apparatus, manufacturing method of electronic device, substrate mounting method, alignment method and substrate mounting apparatus
KR102241187B1 (en) Substrate supporting apparatus, substrate mounting apparatus, film formation apparatus, substrate supporting method, film formation method, and manufacturing method of electronic device
US8628620B2 (en) Vapor deposition device and vapor deposition method
KR101893708B1 (en) Substrate mounting apparatus, substrate mounting method, film formation apparatus, film formation method, alignment apparatus, alignment method, and manufacturing method of electronic device
KR102219478B1 (en) Substrate mounting method, film forming method, electronic device manufacturing method
US20130040047A1 (en) Method for manufacturing el device
KR20230007527A (en) Metal plate, metal plate production method, and method for producing vapor deposition mask using metal plate
WO2016080235A1 (en) Vapor deposition device, vapor deposition method, and method for manufacturing organic electroluminescence element
CN111378925B (en) Alignment system, film forming apparatus, film forming method, and method for manufacturing electronic device
JP7244401B2 (en) Alignment apparatus, film formation apparatus, alignment method, film formation method, and electronic device manufacturing method
CN111378932B (en) Substrate mounting method, film forming apparatus, and system for manufacturing organic EL panel
KR102540726B1 (en) Alignment apparatus, film forming apparatus, alignment method, manufacturing method of electronic device, program, and storage medium
JP2013110072A (en) Organic el light emitting device manufacturing method and manufacturing device
CN113106395B (en) Film forming apparatus, electronic device manufacturing apparatus, film forming method, and electronic device manufacturing method
KR102582584B1 (en) Alignment apparatus, film forming apparatus, alignment method, manufacturing method of electronic device, program, and storage medium
JP7440356B2 (en) Alignment equipment, film forming equipment, alignment method, electronic device manufacturing method, program and storage medium
KR20200048841A (en) Mask replacement timing determination apparatus, film forming apparatus, mask replacement timing determination method, film forming method, and manufacturing method of electronic device
KR101904671B1 (en) Structure for supporting substrate, vacuum deposition apparatus including the same and deposition method
JP6580105B2 (en) measuring device
KR20210057117A (en) Material deposition apparatus, vacuum deposition system, and method of processing large area substrates
KR102209482B1 (en) A quartz window for adjusting the focus height of the uplook review camera mounted on tension mask assembly manufacture equipments, and the method adjusting the focus height
JP2021073373A (en) Substrate mounting method, substrate holding device, and method for producing electronic device
JP5392945B2 (en) Proximity exposure apparatus and top plate transfer method for negative pressure chamber of proximity exposure apparatus
KR20230016606A (en) Substrate carrier, film forming apparatus, film forming method, and manufacturing method of electronic device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant