KR101868703B1 - Reactor for coating powder - Google Patents
Reactor for coating powder Download PDFInfo
- Publication number
- KR101868703B1 KR101868703B1 KR1020160170921A KR20160170921A KR101868703B1 KR 101868703 B1 KR101868703 B1 KR 101868703B1 KR 1020160170921 A KR1020160170921 A KR 1020160170921A KR 20160170921 A KR20160170921 A KR 20160170921A KR 101868703 B1 KR101868703 B1 KR 101868703B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- hollow cylindrical
- chamber
- cylindrical chamber
- reaction space
- powder
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4417—Methods specially adapted for coating powder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45587—Mechanical means for changing the gas flow
- C23C16/45589—Movable means, e.g. fans
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 기상 증착 기술에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 기상 증착법에 의해 분말에 기능성 코팅을 형성하기 위한 분말 코팅 반응기에 관한 것이다.The present invention relates to vapor deposition techniques and, more particularly, to a powder coating reactor for forming a functional coating on a powder by vapor deposition.
자외선 또는 전자파 차폐용 분말, 토너, 도료, 자성체, 전지의 활물질 또는기능성 코팅막 분야와 같은 다양한 기술 분야에 걸쳐 분말형 재료가 광범위하게 적용되고 있다. 상기 분말형 재료는 이의 표면 개질을 통해, 전기적, 화학적, 또는 기계적 성질의 개선 또는 변경을 통해 그 성능이나 수명의 향상을 얻을 수 있으며, 통상적으로 상기 표면 개질은 원료인 분말의 표면 상에 기능성 박막 또는 반응층을 형성하거나 분말 표면을 식각하는 것에 의해 달성된다. BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] Powdered materials have been extensively applied to various technical fields such as powders for ultraviolet or electromagnetic shielding, toners, paints, magnetic materials, active materials for cells or functional coating films. The surface modification of the powdered material can improve the performance or the life of the powdered material through improvement or alteration of its electrical, chemical, or mechanical properties through its surface modification. Usually, Or by forming a reactive layer or etching the powder surface.
최근, 상기 분말 상에 기능성 박막 또는 반응층과 같은 기능성 코팅을 형성하는 방법으로서, 화학기상증착(CVD) 또는 원자층증착(ALD)와 같은 기상 증착 방법이 적용되고 있다. 상기 기상 증착 방법을 통하여 분말 상에 균일한 기능성 코팅층을 형성하기 위해서는 기상 전구체의 균일한 흐름을 확보하여야 하고, 상기 분말이 상기 기상 전구체에 노출되는 빈도 및 정도의 균일성을 확보해야 한다. 그러나, 상기 기상 증착 방법은 전통적으로 면상 기판에 대하여 적용이 되어 왔기 때문에, 유동성과 입자간 분리성을 갖는 분말 상에 균일한 기능성 코팅층을 형성하기 위한 반응기에 관한 기술은 더욱 절실해지고 있다. Recently, a vapor deposition method such as chemical vapor deposition (CVD) or atomic layer deposition (ALD) has been applied as a method of forming a functional coating such as a functional thin film or a reactive layer on the powder. In order to form a uniform functional coating layer on the powder through the vapor deposition method, it is necessary to ensure a uniform flow of the gaseous precursor and ensure uniformity in frequency and degree of exposure of the powder to the gaseous precursor. However, since the above-described vapor deposition method has been conventionally applied to a planar substrate, the technology relating to a reactor for forming a uniform functional coating layer on a powder having flowability and inter-particle separability is becoming more and more urgent.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 기상 증착 방법에 의하여 분말 표면 상에 기능성 코팅층을 형성하기 위하여, 기상 전구체를 균일하게 공급할 수 있으며, 상기 분말이 기상 전구체에 노출되는 정도와 빈도의 균일성을 확보하여 균일한 기능성 코팅층을 형성하면서도 유지 보수의 용이성과 다양한 공정 변수를 적용할 수 있는 분말 코팅 반응기를 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for uniformly supplying a gaseous precursor to form a functional coating layer on a powder surface by a vapor deposition method and to provide uniformity of the degree and frequency of exposure of the powder to a gaseous precursor And to provide a powder coating reactor capable of applying various process parameters and ease of maintenance while forming a uniform functional coating layer.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 코팅 반응기는, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 갖는 중공 실린더형 챔버; 상기 중공 실린더형 챔버의 내부 공간 내에 적재되는 분말 상에 코팅될 화합물을 형성하기 위한 전구체 가스를 공급하는 가스 공급부; 상기 중공 실린더형 챔버의 제 1 및 제 2 단부 중 적어도 어느 하나와 상기 가스 공급부를 연통시키는 전구체 유로; 및 상기 중공 실린더형 챔버의 반응 공간으로부터 배기 가스를 배출하는 가스 배출부를 포함한다. 상기 중공 실린더형 챔버가 재치되어 외기와 단절되도록 기밀을 유지하는 챔버 하우징을 더 포함하고, 상기 챔버 하우징의 일 측에 상기 가스 공급부가 연결되고, 상기 챔버 하우징의 타 측에 상기 가스 배출부가 연결되어, 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버 사이에 상기 전구체 유로가 형성될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a powder coating reactor comprising: a hollow cylindrical chamber defining a reaction space therein and having first and second ends communicating with the reaction space; A gas supply unit for supplying a precursor gas for forming a compound to be coated on the powder loaded in the inner space of the hollow cylindrical chamber; A precursor flow passage for communicating at least one of the first and second ends of the hollow cylindrical chamber with the gas supply section; And a gas discharge portion for discharging the exhaust gas from the reaction space of the hollow cylindrical chamber. Further comprising a chamber housing which holds the hollow cylindrical chamber so as to be hermetically sealed with the outside air, wherein the gas supply section is connected to one side of the chamber housing and the gas discharge section is connected to the other side of the chamber housing , The precursor flow path may be formed between the inner wall of the chamber housing and the hollow cylindrical chamber.
일 실시예에서, 상기 중공 실린더형 챔버의 외벽과 상기 챔버 하우징의 내벽 사이에 상기 전구체 유로가 제공될 수 있다. 일 실시예에서는, 상기 중공 실린더형 챔버는 상기 제 1 단부와 상기 제 2 단부 사이에 상기 반응 공간과 상기 중공 실린더형 챔버의 외부를 연통시키는 중간 개구부를 더 포함하고, 상기 중간 개구부를 통하여 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 유출입이 일어날 수 있다. 상기 중간 개구부는 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 상기 반응 공간 내의 출입은 허용하고, 상기 분말의 외부 유출을 막는 필터에 의해 차폐될 수 있다.In one embodiment, the precursor flow path may be provided between an outer wall of the hollow cylindrical chamber and an inner wall of the chamber housing. In one embodiment, the hollow cylindrical chamber further comprises an intermediate opening between the first end and the second end for communicating the reaction space with the exterior of the hollow cylindrical chamber, Gas or the exhaust gas can flow out. The intermediate opening may be shielded by a filter that allows entry and exit of the precursor gas or the exhaust gas into and out of the reaction space and prevents the outflow of the powder.
일 실시예에서,상기 임펠러는 상기 중공 실린더형 챔버의 상기 제 1 단부 및 제 2 단부에 각각 배치되는 제 1 임펠러 및 제 2 임펠러를 포함하며, 상기 제 1 임펠러 및 상기 제 2 임펠러의 회전은 분말 코팅 공정 중에 상기 반응 공간 내에서 일 단부로 치우친 상기 분말을 다른 단부로 이동시키기 위해 제어될 수 있다. In one embodiment, the impeller includes a first impeller and a second impeller, respectively, disposed at the first end and the second end of the hollow cylindrical chamber, wherein the rotation of the first impeller and the second impeller, Can be controlled to move the powder biased to one end in the reaction space to the other end during the coating process.
상기 중공 실린더형 챔버는 상기 반응 공간 내에 적재된 상기 분말의 교반을 위해 회전하고, 회전 동력부로부터 상기 중공 실린더형 챔버의 회전력 전달은 상기 중공 실린더형 챔버의 외주와 접촉하는 마찰 풀리에 의해 수행될 수 있다.The hollow cylindrical chamber rotates for agitation of the powder loaded in the reaction space and the transmission of the rotational force of the hollow cylindrical chamber from the rotary power section is performed by a friction pulley in contact with the outer periphery of the hollow cylindrical chamber .
상기 다른 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 코팅 반응기는, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 각각 가지며, 측 방향으로 나란히 이격 배치된 복수의 중공 실린더형 챔버들; 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 내부 공간 내에 적재되는 분말 상에 코팅될 화합물을 형성하기 위한 전구체 가스를 공급하는 가스 공급부; 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 제 1 및 제 2 단부 중 적어도 어느 하나와 상기 가스 공급부를 연통시키는 전구체 유로; 및 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 반응 공간으로부터 배기 가스를 배출하는 가스 배출부를 포함한다. 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 내부의 각 반응 공간에 동종의 또는 이종의 분말이 적재될 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a powder coating reactor including a reaction space defined therein and having first and second ends communicating with the reaction space, A plurality of hollow cylindrical chambers; A gas supply unit for supplying a precursor gas for forming a compound to be coated on a powder loaded in each of the plurality of hollow cylindrical chambers; A precursor flow path communicating at least any one of the first and second end portions of the plurality of hollow cylindrical chambers with the gas supply portion; And a gas discharge portion for discharging exhaust gas from each reaction space of the plurality of hollow cylindrical chambers. And homogeneous or heterogeneous powders may be loaded in the respective reaction spaces inside the plurality of hollow cylindrical chambers.
일 실시예에서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이 재치되어 외기와 단절되도록 기밀을 유지하는 챔버 하우징을 더 포함하고, 상기 챔버 하우징의 일 측에 상기 가스 공급부가 연결되고, 상기 챔버 하우징의 타 측에 상기 가스 배출부가 연결되어, 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 사이에 상기 전구체 유로가 형성될 수 있다. 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이, 상기 전구체 유로를 따라 흐르는 상기 전구체 가스의 흐름 방향이 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 연장 방향에 평행하도록 정렬 배치될 수 있다. 또한, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이, 상기 전구체 유로를 따라 흐르는 상기 전구체 가스의 흐름 방향이 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 연장 방향과 수직하도록 정렬 배치된다.In one embodiment, the apparatus further comprises a chamber housing that holds the plurality of hollow cylindrical chambers in place so as to be disconnected from the outside air, wherein the gas supply section is connected to one side of the chamber housing, And the precursor flow path may be formed between the inner wall of the chamber housing and the plurality of hollow cylindrical chambers. The plurality of hollow cylindrical chambers may be aligned so that the flow direction of the precursor gas flowing along the precursor flow path is parallel to the extending direction of the plurality of hollow cylindrical chambers. The plurality of hollow cylindrical chambers are arranged so that the flow direction of the precursor gas flowing along the precursor flow path is perpendicular to the extending direction of the plurality of hollow cylindrical chambers.
일 실시예에서, 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 중 적어도 어느 하나는 상기 제 1 단부와 상기 제 2 단부 사이에 상기 반응 공간과 중공 실린더형 챔버의 외부를 연통시키는 중간 개구부를 갖고, 상기 중간 개구부를 통하여 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 유출입이 일어날 수 있다. 또한, 상기 중간 개구부는 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 상기 반응 공간 내의 출입은 허용하고, 상기 분말의 외부 유출을 막는 필터에 의해 차폐될 수 있다.In one embodiment, at least one of the plurality of hollow cylindrical chambers has an intermediate opening between the first end and the second end for communicating the reaction space with the outside of the hollow cylindrical chamber, So that the precursor gas or the exhaust gas can flow in and out. In addition, the intermediate opening may be shielded by a filter that allows entry and exit of the precursor gas or the exhaust gas into and out of the reaction space, and prevents the outflow of the powder.
일 실시예에서, 상기 임펠러는 상기 중공 실린더형 챔버의 상기 제 1 및 제 2 단부에 각각 배치되는 제 1 임펠러 및 제 2 임펠러를 포함하며, 상기 제 1 임펠러 및 상기 제 2 임펠러의 회전은 분말 코팅 공정 중에 상기 반응 공간 내에서 일 단부로 치우친 상기 분말을 다른 단부로 이동시키기 위해 제어될 수 있다. 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 중 적어도 하나는 각 반응 공간 내에 적재된 상기 분말의 교반을 위해 회전하고, 회전 동력부로부터 상기 중공 실린더형 챔버의 회전력 전달은 상기 중공 실린더형 챔버의 외주와 접촉하는 적어도 하나 이상의 마찰 풀리에 의해 수행될 수 있다.In one embodiment, the impeller includes a first impeller and a second impeller, respectively, disposed at the first and second ends of the hollow cylindrical chamber, wherein rotation of the first impeller and the second impeller is performed by a powder coating May be controlled to move the powder biased to one end in the reaction space to the other end during the process. Wherein at least one of the plurality of hollow cylindrical chambers is rotated for agitation of the powder loaded in each reaction space and the transmission of rotational force of the hollow cylindrical chamber from the rotational power section is in contact with the periphery of the hollow cylindrical chamber And may be performed by at least one friction pulley.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 분말 코팅 반응기는, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 갖는 중공 실린더형 챔버에 대하여, 전구체 공급을 위해 상기 중공 실린더형 챔버에 직결된 별도의 폐쇄형 유로가 아닌 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버 사이에 전구체 유로를 형성함으로써, 상기 중공 실린더형 챔버의 반응 공간 내로 기상 전구체를 균일하게 전달할 수 있으며, 임펠러 또는 회전 메커니즘을 통하여 분말이 기상 전구체에 노출되는 정도와 빈도의 균일성을 확보함으로써 균일한 기능성 코팅층을 형성할 수 있다. According to an aspect of the present invention, there is provided a powder coating reactor including a hollow cylindrical chamber having a reaction space defined therein and having first and second ends communicating with the reaction space, A precursor flow path is formed between the inner wall of the chamber housing and the hollow cylindrical chamber rather than a separate closed flow path directly connected to the hollow cylindrical chamber to uniformly transfer the vapor precursor into the reaction space of the hollow cylindrical chamber And a homogeneous functional coating layer can be formed by ensuring the uniformity of the degree and frequency of exposure of the powder to the gaseous precursor through the impeller or the rotating mechanism.
또한, 본 발명의 실시예에 따르면, 중공 실린더형 챔버의 임펠러 또는 회전 메커니즘의 부가에도 불구하고 마찰 풀리 상에 중공 실린더형 챔범의 외주를 접촉시키는 것만으로 체결이 가능하도록 하여 상기 중공 실린더형 챔버를 유지 보수 또는 세정하기 위한 중공 실린더형 챔버의 탈부착 용이성을 확보할 수 있으며, 중공 실린더형 챔버를 복수 개화하더라도 전술한 이점이 유지될 수 있는 분말 코팅 반응기가 제공될 수 있다.Also, according to the embodiment of the present invention, it is possible to tighten the hollow cylinder type chamber only by contacting the outer circumference of the hollow cylinder type chamber on the friction pulley in spite of the addition of the impeller or the rotation mechanism of the hollow cylinder type chamber, It is possible to ensure ease of detachment of the hollow cylindrical chamber for maintenance or cleaning and to provide a powder coating reactor in which the advantages described above can be maintained even when a plurality of hollow cylindrical chambers are formed.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 분말 코팅 반응기들을 도시한다.
도 2a는 본 발명이 일 실시예에 따른 중공 실린더형 챔버를 도시하는 사시도이며, 도 2b 및 도 2c는 중공 실린더형 챔버의 임펠러의 구동 방법을 도시하는 단면도들이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 중공 실린더형 챔버를 도시하는 사시도이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 분말 코팅 반응기들을 도시하는 사시도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 중공 실린더형 챔버들을 도시하는 사시도들이다.
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 마찰 풀리들의 배치를 설명하기 위한 도면들이다.Figures 1a and 1b illustrate powder coating reactors according to various embodiments of the present invention.
FIG. 2A is a perspective view showing a hollow cylindrical chamber according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2B and 2C are sectional views showing a method of driving an impeller of a hollow cylindrical chamber.
3 is a perspective view illustrating a hollow cylindrical chamber according to another embodiment of the present invention.
4A and 4B are perspective views illustrating powder coating reactors according to various embodiments of the present invention.
5 is a perspective view showing hollow cylindrical chambers according to another embodiment of the present invention.
6A and 6B are views for explaining the arrangement of the friction pulleys according to various embodiments of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. The embodiments of the present invention are described in order to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following embodiments may be modified into various other forms, It is not limited to the embodiment. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be more faithful and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art.
또한, 이하의 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는" 는 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. In the following drawings, thickness and size of each layer are exaggerated for convenience and clarity of description, and the same reference numerals denote the same elements in the drawings. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of any of the listed items.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a," "an," and "the" include singular forms unless the context clearly dictates otherwise. Also, " comprise "and / or" comprising "when used herein should be interpreted as specifying the presence of stated shapes, numbers, steps, operations, elements, elements, and / And does not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, operations, elements, elements, and / or groups.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다. Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various elements, components, regions, layers and / or portions, these members, components, regions, layers and / It is obvious that no. These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Thus, a first member, component, region, layer or section described below may refer to a second member, component, region, layer or section without departing from the teachings of the present invention.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 분말 코팅 반응기들(100)을 도시한다.Figures 1A and 1B illustrate
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 분말 코팅 반응기(100)는 중공 실린더형 챔버(100), 기상 전구체를 공급하는 가스 공급부(200), 전구체 유로(FR) 및 배기 가스를 배출하는 가스 배출부(400)를 포함할 수 있다. 중공 실린더형 챔버(100)의 내부에 피처리체인 분말이 제공되고, 처리 공정을 통해 분말 상에 기능성 코팅 또는 표면 개질이 이루어질 수 있다. 1A and 1B, a
중공 실린더형 챔버(100)는 수평으로 배치될 수 있다. 중공 실린더형 챔버(100)의 내부에 반응 공간(RS)이 정의되고, 반응 공간(RS) 내에 분말을 적재하여, 화학기상증착법 또는 원자층 증착법과 같은 기상증착법에 의해 상기 분말 상에 기능성 코팅 또는 표면 개질(이하, 통칭하여 기능성 코팅이라 함)이 수행된다. 반응 공간(RS)은 중공 실린더형 챔버(100)의 제 1 단부(100A)의 개구(11a) 및 제 2 단부(100B)의 개구(11b)를 통하여 외부와 연통된다. The hollow
일 실시예에서, 중공 실린더형 챔버(100)의 제 1 단부(100A) 및 제 2 단부(100B)에는 각각 필터(11a, 11b)가 결합될 수 있다. 필터(11a, 11b)는 분말의 기능성 코팅을 위한 기상 전구체의 출입과, 이의 반응 가스 및 비반응된 잔류 기상 전구체를 포함하는 배기 가스의 출입은 허용하지만, 반응 공간(RS) 내의 분말이 외부로 유출되는 것은 차단하는 구조체이다. 필터(11a, 11b)는 개구(11a, 11b)를 막는 통기성 멤브레인 또는 메쉬와 같은 구조체일 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 도 1a 및 도 1b에서는 필터(1a, 11b)로서 메쉬를 예시한다. In one embodiment,
가스 공급부(200)는 중공 실린더 챔버(100)의 내부 공간(RS)에 적재된 분말로 기상 전구체를 공급하여 화학기상증착 또는 원자층 증착에 부합하는 흐름 제어를 할 수 있는 유량 조절기 또는 밸브 시스템을 포함할 수 있으며, 이에 관하여는 공지 기술이 참작될 수 있다. 가스 공급부(200)로부터 제어된 흐름을 갖는 기상 전구체가 화살표 P로 나타낸 것과 같이 중공 실린더형 챔버(100)의 제 1 개구(11a) 측으로 별도의 폐쇄적 공급 라인 없이 공급된다. The
중공 실린더형 챔버(100)는 챔버 하우징(300) 내에 배치되고, 하우징(100)으로 둘러 싸여 외기와 단절될 수 있으며, 중공 실린더형 챔버(100)가 대기압 이하의 적절한 압력 수준을 유지할 수 있도록 챔버 하우징(300)은 기밀을 유지할 수 있다. 일 실시예애서, 챔버 하우징(300)은 내부에 재치되는 중공 실린더형 챔버(100)를 용이하게 접근하여 중공 실린더형 챔버(100)를 취출하거나 재치시킬 수 있도록 챔버 하우징(300)의 상부 또는 측부 개방이 용이한 밀폐 뚜껑(미도시)을 가질 수 있다. 상기 밀폐 뚜껑의 형상, 위치, 및 크기는 중공 실린더형 챔버(100)를 재치하고나 취출하기 용이하도록 결정될 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The hollow
일 실시예에서, 중공 실린더형 챔버(100)는 챔버 하우징(300)의 내벽으로부터 이격되어 재치될 수 있다. 그 결과, 중공 실린더형 챔버(100)의 내부는 물론 서로 이격된 중공 실린더형 챔버(100)의 외벽과 챔버 하우징(300)의 내벽 사이에 전구체 유로(FR)가 형성될 수 있다. 전구체 유로(FR)에 의해 화살표 U1으로 나타낸 것과 같이, 가스 공급부(200)로부터 공급되는 기상 전구체(P)가 중공 실린더형 챔버(100)의 제 1 단부(100A)의 개구(11a)를 통하여 내부의 반응 공간으로 유입되고, 나머지 기상 전구체(P)는 화살표 U2로 나타낸 것과 같이 중공 실린더형 챔버(100)의 외벽과 챔버 하우징(300)의 내벽 사이를 통해 흐를 수 있다. 다른 실시예에서, 중공 실린더형 챔버(100)의 외벽과 챔버 하우징(300)의 내벽 사이의 전구체 유로(FR)를 통한 기상 전구체의 불필요한 낭비를 방지하기 위해서 챔버 하우징(300)과 중공 실린더형 챔버(100)의 외측벽 사이의 간격은 최소화되거나 부존재하도록 챔버 하우징(300)의 내벽과 중공 실린더형 챔버(100)의 외측벽 사이의 간격을 제어할 수 있다. In one embodiment, the hollow
분말 코팅 반응기(1000)는 내부 공간(RS)으로부터 중공 실린더형 챔버(100)의 제 2 단부(100B)의 개구(10b)를 통해 나오는 미반응 기상 전구체, 반응 생성물 가스, 또는 다른 반응 생성물 가스가 방출될 수 있으며, 이들 가스는 가스 배출부(400)를 통해 화살표 Q로 나타낸 것과 같이 외부로 배출될 수 있다. 가스 배출부(400)는 반응 공간 내의 가스의 퍼징이나 공정 압력을 제어할 수 있는 진공 펌프와 같은 감압 시스템을 포함할 수 있다. The
도 1b에 도시된 것과 같이, 분말 코팅 반응기(1000)는 내부 공간(RS)에 적재되는 분말을 공정 중에 교반하기 위한 수단으로서 임펠러(13)를 포함할 수 있다. 임펠러(13)는 도시된 것과 같이 3 겹의 블레이드(13B)를 가질 수 있지만, 이는 예시적일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 1 겹, 2 겹, 또는 4 겹 이상의 블레이드를 가질 수도 있다. 다른 실시예에서, 분말 코팅 반응기(1000)는 분발의 교반과 유동화를 촉진하기 위하여 중공 실린더형 챔버(100)를 일정한 주기로 기계적으로 진동시킬 수 있는 진동자를 더 포함할 수도 있다. 분말 코팅 반응기(1000)의 상기 진동자에 관하여는 공지의 기술이 참조될 수 있다. As shown in Figure IB, the
전술한 실시예에서, 중공 실린더형 챔버(100) 내부의 내부 공간뿐만 아니라 중공 실린더형 챔버(100)와 챔버 하우징(300) 사이의 공간이 서로 연통되어 이들 공간들이 모두 균일한 등압력 영역을 형성함으로써, 중공 실린더형 챔버(100) 내에 실질적으로 균일한 압력 분포를 형성할 수 있으며, 그 결과 본 발명의 실시예에 따르면, 반응 공간(RS) 내의 분말에 대해 불규칙한 흐름 없이 균일한 기상 전구체의 흐름, 예를 들면, 층류를 제공할 수 있으며, 이로써 코팅층 또는 표면 개질이 균일하게 일어날 수 있다.In the above-described embodiment, not only the internal space inside the hollow
도 2a는 본 발명이 일 실시예에 따른 중공 실린더형 챔버(100')를 도시하는 사시도이며, 도 2b 및 도 2c는 중공 실린더형 챔버(100')의 임펠러의 구동 방법을 도시하는 단면도들이다. FIG. 2A is a perspective view showing a hollow cylindrical chamber 100 'according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2B and 2C are sectional views showing a method of driving an impeller of a hollow cylindrical chamber 100'.
도 2a를 참조하면, 중공 실린더형 챔버(100')는 반응 공간(RS) 내에 적재된 분말의 교반을 위한 하나 이상의 임펠러(13a, 13b)를 더 포함할 수 있다. 임펠러(13a, 13b)는 중공 실린더형 챔버(100')의 제 1 단부(100A)와 제 2 단부(100B)에 각각 배치되는 제 1 임펠러(13a) 및 제 2 임펠러(13b)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 제 1 임펠러(13a)와 제 2 임펠러(13b)는 각각 중공 실린더형 챔버(100')의 각 단부에 체결되는 뚜껑 지지체(14)에 의해 고정될 수 있다. 뚜껑 지지체(14) 밖으로 임펠러들(13a, 13b)의 샤프트가 노출되어 모터와 같은 구동 부재에 결합될 수 있다.Referring to FIG. 2A, the hollow cylindrical chamber 100 'may further include one or
뚜껑 지지체(14)는 중공 실린더형 챔버(100')와 나사선 결합 또는 요철 패턴에 의해 회전 결합이나 끼움 결합이 가능한 여하의 구성에 의해 체결될 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 뚜껑 지지체(14)를 중공 실린더형 챔버(100')로부터 해제하는 것만으로도 임펠러(13a, 13b)가 중공 실린더형 챔버(100')로부터 쉽게 분리되고, 내부 반응 공간(RS)을 노출시키는 개구가 확보되므로, 중공 실린더형 챔버(100')의 세정과 보수 용이성이 향상될 수 있다. The
제 1 임펠러(13a)와 제 2 임펠러(13b)는 서로 독립적으로 회전될 수 있으며, 도 2a에 도시된 것과 같이 서로 반대 방향으로 회전하거나 동일 방향으로 회전할 수도 있다. 일 실시예에서, 제 1 임펠러(13a)와 제 2 임펠러(13b)의 각 회전은 분말 코팅 공정 중에 반응 공간(RS) 내에서 제 1 단부(100A) 또는 제 2 단부(100B) 중 어느 한쪽으로 치우친 분말을 다른 쪽으로 이동시키기 위해 제어될 수 있다. 도 2b를 참조하면, 분말(PD)이 공정 중에 제 1 단부(100A) 측으로 편재되면, 제 1 임펠러(13a)가 회전하여 화살표 K1으로 나타낸 것과 같이 제 2 단부(100B) 측으로 분말(PD)을 이동시킨다. 도 2c를 참조하면, 분말(PD)이 제 2 단부(100B) 측으로 편재되면, 제 2 임펠러(13b)가 회전하여 화살표 K2로 나타낸 것과 같이 제 1 단부(100A) 측으로 분말(PD)을 이동시킨다. The
이와 같이 공정 중에, 분말(PD)은 중공 실린더형 챔버(100')의 각 단부에 마련된 임펠러(13a, 13b)에 의해 반응 공간 내에서 왕복 운동을 통해 어느 한쪽으로 편재되는 것을 방지할 수 있다. 임펠러(13a, 13b)의 회전은 반응 공간(RS) 내 분말을 균일하게 분산시키고 반응 공간(RS) 내로 유입되는 기상 전구체(P)가 분말에 균일하게 접촉할 수 있도록 하고 미반응 기상 전구체나 반응 생성 가스(Q)가 반응 공간(RS) 내에서 쉽게 배출되도록 하여, 상기 분말의 기능성 코팅 공정이 상기 분말의 전 부피에 걸쳐 균일하게 일어나도록 할 수 있다.In this way, during the process, the powder PD can be prevented from being unevenly distributed to one side through the reciprocating motion in the reaction space by the
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 중공 실린더형 챔버(100")를 도시하는 사시도이다. 3 is a perspective view illustrating a hollow
도 3을 참조하면, 중공 실린더형 챔버(100")는 제 1 단부(100A)와 제 2 단부(100B) 사이에 중간 개구부(11c)를 더 포함할 수 있다. 중간 개구부(11c)에는 기상 전구체(P)의 유입과 배기 가스(Q)의 유출을 허용하면서 반응 공간 내 분말의 외부 유출을 막는 필터(12)를 더 포함할 수 있다. 필터(12)는 통기성 멤브레인 또는 메쉬일 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 3, the hollow cylindrical chamber 100 '' may further include an
중간 개구부(11c)를 통하여 반응 공간 내 균일한 압력 분포를 얻을 수 있으여, 상기 분말의 코팅 또는 표면 처리가 전 부피에 걸쳐 균일하게 일어나도록 할 수 있다. 일 실시예에서는, 전술한 제 1 및 제 2 임펠러(13a, 13b)가 더 제공되어 처리 공정의 균일도를 더욱 향상시킬 수 있다. A uniform pressure distribution can be obtained in the reaction space through the
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 분말 코팅 반응기들(4000A, 4000B)을 도시하는 사시도이다.4A and 4B are perspective views illustrating
도 4a를 참조하면, 본말 코팅 반응기(4000A)는 챔버 하우징(3000) 내에 4 개의 중공 실린더형 챔버들(100)을 포함한다. 중공 실린더형 챔버들(100)의 개수는 예시적이며, 2 이상일 수 있다. Referring to FIG. 4A, a
중공 실린더형 챔버들(100)은 전구체 유로를 따라 흐르는 기상 전구체(P)의 흐름 방향이 중공 실린더형 챔버들(100)의 연장 방향과 평행하도록 정렬 배치될 수 있다. 이들 중공 실린더형 챔버들(100)은 서로 이격 배치될 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. The hollow
도 4b를 참조하면, 분말 코팅 반응기(4000B)는 챔버 하우징(3000) 내에 4 개의 중공 실린더형 챔버들(100)을 포함한다. 중공 실린더형 챔버들(100)의 개수는 예시적이며, 2 이상일 수 있다. Referring to FIG. 4B, a powder coating reactor 4000B includes four hollow
중공 실린더형 챔버들(100)은 전구체 유로를 따라 흐르는 기상 전구체(P)의 흐름 방향이 중공 실린더형 챔버들(100)의 연장 방향과 수직하도록 정렬 배치될 수 있다. 마찬가지로, 중공 실린더형 챔버들(100)은 서로 이격되거나 접촉하여 챔버 하우징(300) 내에 배치될 수 있을 것이다. The hollow
도 4a 및 도 4b를 참조하여 전술한 것과 같이, 챔버 하우징(300) 내에 복수의 중공 실린더형 챔버들(100)을 독립된 전구체 유로 없이 배치함으로써 유입되는 기상 전구체 P의 각 중공 실린더형 챔버들(100)로의 균일한 배분을 확보할 수 있다. 또한, 이들 중공 실린더형 챔버들(100)은 서로 크기와 형상이 동일할 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 용량과 분말 특성의 다양성을 고려하여 이들의 크기와 형상이 서로 다를 수도 있다. 중공 실린더형 챔버들(100) 내에 적재되는 분말들은 동종의 분말이거나 이종의 분말일 수 있다. 동종의 분말인 경우, 단일 공정에서 쓰루풋(throughput)을 향상시킬 수 있는 이점이 있으며, 이종의 분말인 경우, 단일 공정으로 복수의 독립적 공정들을 수행할 수 있는 이점이 있어 다품종 소량 생산에 유리하다. 또한, 도 4b에 도시한 것과 같이, 중공 실린더형 챔버들(100)은 임펠러(13a, 13b)를 더 포함할 수도 있다.As described above with reference to FIGS. 4A and 4B, by arranging a plurality of hollow
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 중공 실린더형 챔버들(100)을 도시하는 사시도들이다.5 is a perspective view showing a hollow
도 5를 참조하면, 중공 실린더형 챔버들(100)은 반응 공간 내부의 분말들을 교반하기 위해 회전할 수 있다. 이를 위하여, 분말 코팅 반응기는 모터(MT)와 같은 회전 동력부를 더 포함할 수 있다. 상기 회전 동력부의 회전력은 동력 전달 장치인 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)에 의해 전달될 수 있다. 마찰 풀리(PU ~ PU4)는 중공 실린더형 챔버들(100)의 외주와 마찰 풀리(PU ~ PU4)가 서로 접촉하는 것만으로 회전력 전달이 될 수 있기 때문에, 챔버 하우징(도 4a의 300 참조) 내에 중공 실린더형 챔버들(100)의 유지 보수 또는 세정을 위해 회전 동력부와 동력 전달 장치의 조립이나 해제가 필요 없다. 그 결과, 상기 회전 동력부와 상기 동력 전달 장치로부터 중공 실린더형 챔버들(100)을 수직 상방으로 이동시키는 것만으로도 동력 시스템으로부터 중공 실린더형 챔버들(1000)의 탈착이 가능하며, 반대로 중공 실린더형 챔버들(100)을 재치하는 것 만으로도 회전력 전달 메커니즘이 완성되어 유지 보수의 용이성이 향상될 수 있다. Referring to FIG. 5, hollow
중공 실린더형 챔버들(100)은 상기 챔버 하우징 내에서 지지 프레임(500)에 고정되어 정렬될 수 있다. 중공 실린더형 챔버들(100)의 다양한 배치나 직경 변화에 대응할 수 있도록 지지 프레임(500) 상에서 중공 실린더형 챔버들(100)이 고정될 수 있다. 일 실시예에서, 중공 실린더형 챔버들(100)의 배치나 직경 변화에 대응하여 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)의 위치와 개수가 다양하게 변경될 수 있도록, 풀리 지지체(FB)를 일정한 위치에 배치 고정할 수 있는 가이드 부재가 제공될 수 있다. The hollow
도 5에 도시된 것과 같이, 상기 가이드 부재는, 지지 프레임(500) 상에 마련된 복수의 홈들(500H)을 포함하는 앰플 레일일 수 있다. 복수의 홈들(500H)은 일정한 간격을 갖도록 지지 프레임(500) 상에 이격 형성될 수 있다. 복수의 홈들(500H)은 도시된 홈에 한정되지 않고, 관통 홀이거나 풀리 지지체(FB)가 쉽게 탈부착 가능하면서 정의된 간격으로 쉽게 이동 고정될 수 있는 여하의 패턴을 가질 수도 있다. 일 실시예에서, 폴리 지지체(FB)는 복수의 홈들(500H)에 삽입 체결되는 볼트와 같은 고정 부재(FC)에 의해 지지 프레임(500) 상에 고정될 수 있을 것이다. As shown in FIG. 5, the guide member may be an ampule including a plurality of
일 실시예에서, 회전하는 중공 실린더형 챔버(100)가 회전시 진동에 의해 변위되거나 마찰 풀리(FB)로부터 분리되는 것을 방지하기 위해, 중공 실린더형 챔버(100)는 중공 실린더형 챔버(100)와 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)가 서로 체결되어 회전이 가이드될 수 있는 회전 가이드 부재를 더 포함할 수 있다. 상기 회전 가이드 부재는, 중공 실린더형 챔버(100)의 뚜껑 지지체(도 2a의 14 참조) 또는 단부(100A, 100B)에 마련된 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)와 교합되는 요철 패턴일 수 있다. 도 5에서는, 상기 요철 패턴으로서 중공 실린더형 챔버(100)의 뚜껑 지지체(15)에 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)의 외주를 수용할 수 있는 트렌치 패턴(TP)이 개시된다. 전술한 요철 패턴은 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)와 뚜껑 지지체(14) 중 적어도 어느 하나에 교합 가능하게 형성될 수 있는 것이어서, 그 크기와 형상에 본 발명이 한정되는 것은 아니다. In one embodiment, to prevent the rotating hollow
도 6a 및 도 6b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 마찰 풀리(PU1 ~ PU4)의 배치를 설명하기 위한 도면들이다. 6A and 6B are views for explaining the arrangement of the friction pulleys PU1 to PU4 according to various embodiments of the present invention.
도 6a 및 도 6b는 회전하는 중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2) 사이의 회전력 전달은 마찰 풀리에 의해 이루어진다. 그 결과, 최초 마찰 풀리(PU1)가 회전 동력부(MT)에 결합되어 회전하면, 이에 접촉하는 제 1 중공 실린더형 챔버(100_1)로부터 다음 마찰 풀리(PU2 ~ PU4)와 중공 실린더형 챔버(100_2)까지 연쇄적으로 회전력이 전달될 수 있다. 6A and 6B, the rotational force transmission between the rotating hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2 is performed by a friction pulley. As a result, when the first friction pulley PU1 is coupled to the rotary power unit MT and rotates, the first frictional pulleys PU2 to PU4 and the hollow cylindrical cylinders 100_2 The rotational force can be transmitted in a chain manner.
이웃하는 중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2) 사이의 회전력 전달을 위해서 마찰 풀리는 1 개 또는 2 개 이상일 수 있으며, 도 6a는 2 개의 마찰 풀리들(PU2, PU3)이 적용되고, 도 6b는 1개의 마찰 풀리(PU2)가 적용된 배치를 예시한다. 이웃하는 중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2) 사이의 마찰 풀리(PU2, PU3)의 개수가 달라짐에 따라 중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2)의 각 회전 방향 b을 변경할 수도 있다. 화살표 a는 마찰 풀리들(PU1 ~ PU4)의 회전 방향을 가리킨다.The friction pulleys PU2 and PU3 may be applied to one or more friction pulleys for transmitting the rotational force between the adjacent hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2, ≪ / RTI > friction pulley PU2 is applied. The rotation directions b of the hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2 may be changed as the number of the friction pulleys PU2 and PU3 between the adjacent hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2 is changed. The arrow a indicates the direction of rotation of the friction pulleys PU1 to PU4.
중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2)의 개수와 크기가 다양하게 변경 적용되더라도 인접하는 중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2) 사이의 마찰 풀리의 개수와 크기를 변경하면 별도의 체결을 위한 설계 변경이 필요 없이 중공 실린더형 챔버들을 회전시키기 위한 회전 메커니즘을 제공할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에 따르면 복잡한 회전 메커니즘 없이 중공 실린더형 챔버들(100_1, 100_2)을 지지 프레임(500P) 상에 재치하는 것 만으로도 구성 요소들 사이의 체결이 가능하므로, 공정 전 후 세정 및 유지 보수를 위한 분해 및 조립이 용이한 이점이 있다. Even if the number and size of the hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2 are variously changed, if the number and size of the friction pulleys between the adjacent hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2 are changed, a design change It is possible to provide a rotation mechanism for rotating the hollow cylindrical chambers without the need for such a mechanism. Also, according to the embodiment of the present invention, it is possible to fasten between the constituent elements by simply placing the hollow cylindrical chambers 100_1 and 100_2 on the
이상에서 설명한 본 발명이 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Will be clear to those who have knowledge of.
Claims (16)
상기 챔버 하우징 내에 배치되며, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 갖는 중공 실린더형 챔버;
상기 중공 실린더형 챔버의 내부 공간 내에 적재되는 분말 상에 코팅될 화합물을 형성하기 위한 전구체 가스를 공급하는 가스 공급부;
상기 중공 실린더형 챔버의 제 1 및 제 2 단부 중 적어도 어느 하나와 상기 가스 공급부를 연통시키는 전구체 유로; 및
상기 중공 실린더형 챔버의 반응 공간으로부터 배기 가스를 배출하는 가스 배출부를 포함하며,
상기 전구체 유로는 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버의 외벽 사이에 정의되는 공간을 포함하고, 상기 공간에 의해 상기 공간과 상기 중공 실린더형 챔버 내의 압력이 균일한 압력 분포를 갖는 분말 코팅 반응기. Chamber housing;
A hollow cylindrical chamber disposed within the chamber housing and defining a reaction space therein and having first and second ends communicating with the reaction space;
A gas supply unit for supplying a precursor gas for forming a compound to be coated on the powder loaded in the inner space of the hollow cylindrical chamber;
A precursor flow passage for communicating at least one of the first and second ends of the hollow cylindrical chamber with the gas supply section; And
And a gas discharging portion for discharging the exhaust gas from the reaction space of the hollow cylindrical chamber,
Wherein said precursor flow path includes a space defined between an inner wall of said chamber housing and an outer wall of said hollow cylindrical chamber and wherein said space and said pressure in said hollow cylindrical chamber have a uniform pressure distribution, .
상기 중공 실린더형 챔버가 재치되어 외기와 단절되도록 기밀을 유지하는 챔버 하우징을 더 포함하고,
상기 챔버 하우징의 일 측에 상기 가스 공급부가 연결되고, 상기 챔버 하우징의 타 측에 상기 가스 배출부가 연결되어, 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버 사이에 상기 전구체 유로가 형성되는 분말 코팅 반응기.The method according to claim 1,
Further comprising a chamber housing that holds the hollow cylindrical chamber so as to be hermetically sealed with the outside air,
A powder coating reactor in which the gas supply part is connected to one side of the chamber housing and the gas discharge part is connected to the other side of the chamber housing and the precursor flow path is formed between the inner wall of the chamber housing and the hollow cylindrical chamber; .
상기 중공 실린더형 챔버는 상기 제 1 단부와 상기 제 2 단부 사이에 상기 반응 공간과 상기 중공 실린더형 챔버의 외부를 연통시키는 중간 개구부를 더 포함하고,
상기 중간 개구부를 통하여 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 유출입이 일어나는 분말 코팅 반응기.The method according to claim 1,
Wherein the hollow cylindrical chamber further comprises an intermediate opening between the first end and the second end for communicating the reaction space and the outside of the hollow cylindrical chamber,
Wherein the precursor gas or the exhaust gas flows in and out through the intermediate opening.
상기 중간 개구부는 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 상기 반응 공간 내의 출입은 허용하고, 상기 분말의 외부 유출을 막는 필터에 의해 차폐된 분말 코팅 반응기.5. The method of claim 4,
Wherein the intermediate opening permits entry and exit of the precursor gas or the exhaust gas into and out of the reaction space and is shielded by a filter that prevents the outflow of the powder.
상기 중공 실린더형 챔버의 상기 제 1 단부 및 제 2 단부에 각각 배치되는 제 1 임펠러 및 제 2 임펠러를 더 포함하며,
상기 제 1 임펠러 및 상기 제 2 임펠러의 회전은 분말 코팅 공정 중에 상기 반응 공간 내에서 일 단부로 치우친 상기 분말을 다른 단부로 이동시키기 위해 제어되는 분말 코팅 반응기.The method according to claim 1,
Further comprising a first impeller and a second impeller disposed respectively at the first end and the second end of the hollow cylindrical chamber,
Wherein the rotation of the first impeller and the second impeller is controlled during the powder coating process to move the powder biased to one end in the reaction space to the other end.
상기 중공 실린더형 챔버는 상기 반응 공간 내에 적재된 상기 분말의 교반을 위해 회전하고, 회전 동력부로부터 상기 중공 실린더형 챔버의 회전력 전달은 상기 중공 실린더형 챔버의 외주와 접촉하는 마찰 풀리에 의해 수행되는 분말 코팅 반응기.The method according to claim 1,
Wherein the hollow cylindrical chamber rotates for agitation of the powder loaded in the reaction space and the transmission of the rotational force of the hollow cylindrical chamber from the rotational power section is performed by a friction pulley in contact with the periphery of the hollow cylindrical chamber Powder Coating Reactor.
상기 챔버 하우징 내에 배치되며, 내부에 반응 공간을 정의하고 상기 반응 공간과 연통된 제 1 및 제 2 단부들을 각각 가지며, 측 방향으로 나란히 이격 배치된 복수의 중공 실린더형 챔버들;
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 내부 공간 내에 적재되는 분말 상에 코팅될 화합물을 형성하기 위한 전구체 가스를 공급하는 가스 공급부;
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 제 1 및 제 2 단부 중 적어도 어느 하나와 상기 가스 공급부를 연통시키는 전구체 유로; 및
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 각 반응 공간으로부터 배기 가스를 배출하는 가스 배출부를 포함하며,
상기 전구체 유로는 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 중공 실린더형 챔버의 외벽 사이에 정의되는 공간을 포함하고, 상기 공간에 의해 상기 공간과 상기 중공 실린더형 챔버 내의 압력이 균일한 압력 분포를 갖는 분말 코팅 반응기. Chamber housing;
A plurality of hollow cylindrical chambers disposed in the chamber housing and defining a reaction space therein and having first and second ends communicating with the reaction space, the first hollow cylindrical chambers being laterally spaced apart;
A gas supply unit for supplying a precursor gas for forming a compound to be coated on a powder loaded in each of the plurality of hollow cylindrical chambers;
A precursor flow path communicating at least any one of the first and second end portions of the plurality of hollow cylindrical chambers with the gas supply portion; And
And a gas discharge portion for discharging exhaust gas from each reaction space of the plurality of hollow cylindrical chambers,
Wherein said precursor flow path includes a space defined between an inner wall of said chamber housing and an outer wall of said hollow cylindrical chamber and wherein said space and said pressure in said hollow cylindrical chamber have a uniform pressure distribution, .
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 내부의 각 반응 공간에 동종의 또는 이종의 분말이 적재되는 분말 코팅 반응기.9. The method of claim 8,
Wherein a powder of the same or different kind is loaded in each reaction space in the plurality of hollow cylindrical chambers.
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이 재치되어 외기와 단절되도록 기밀을 유지하는 챔버 하우징을 더 포함하고,
상기 챔버 하우징의 일 측에 상기 가스 공급부가 연결되고, 상기 챔버 하우징의 타 측에 상기 가스 배출부가 연결되어, 상기 챔버 하우징의 내벽과 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 사이에 상기 전구체 유로가 형성되는 분말 코팅 반응기.9. The method of claim 8,
Further comprising a chamber housing that holds the plurality of hollow cylindrical chambers so as to be airtight so as to be disconnected from the outside air,
The gas supply portion is connected to one side of the chamber housing and the gas discharge portion is connected to the other side of the chamber housing so that the precursor flow path is formed between the inner wall of the chamber housing and the plurality of hollow cylindrical chambers Powder Coating Reactor.
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이, 상기 전구체 유로를 따라 흐르는 상기 전구체 가스의 흐름 방향이 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 연장 방향에 평행하도록 정렬 배치되는 분말 코팅 반응기.11. The method of claim 10,
Wherein the plurality of hollow cylindrical chambers are aligned and arranged so that the flow direction of the precursor gas flowing along the precursor flow path is parallel to the extending direction of the plurality of hollow cylindrical chambers.
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들이, 상기 전구체 유로를 따라 흐르는 상기 전구체 가스의 흐름 방향이 상기 복수의 중공 실린더형 챔버들의 연장 방향과 수직하도록 정렬 배치되는 분말 코팅 반응기.11. The method of claim 10,
Wherein the plurality of hollow cylindrical chambers are aligned and arranged such that the flow direction of the precursor gas flowing along the precursor flow path is perpendicular to the extending direction of the plurality of hollow cylindrical chambers.
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 중 적어도 어느 하나는 상기 제 1 단부와 상기 제 2 단부 사이에 상기 반응 공간과 중공 실린더형 챔버의 외부를 연통시키는 중간 개구부를 갖고,
상기 중간 개구부를 통하여 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 유 출입이 일어나는 분말 코팅 반응기.9. The method of claim 8,
At least one of the plurality of hollow cylindrical chambers having an intermediate opening between the first end and the second end for communicating the reaction space with the outside of the hollow cylindrical chamber,
Wherein the precursor gas or the exhaust gas flows in and out through the intermediate opening.
상기 중간 개구부는 상기 전구체 가스 또는 상기 배기 가스의 상기 반응 공간 내의 출입은 허용하고, 상기 분말의 외부 유출을 막는 필터에 의해 차폐된 분말 코팅 반응기.14. The method of claim 13,
Wherein the intermediate opening permits entry and exit of the precursor gas or the exhaust gas into and out of the reaction space and is shielded by a filter that prevents the outflow of the powder.
상기 중공 실린더형 챔버의 상기 제 1 및 제 2 단부에 각각 배치되는 제 1 임펠러 및 제 2 임펠러를 더 포함하며,
상기 제 1 임펠러 및 상기 제 2 임펠러의 회전은 분말 코팅 공정 중에 상기 반응 공간 내에서 일 단부로 치우친 상기 분말을 다른 단부로 이동시키기 위해 제어되는 분말 코팅 반응기.9. The method of claim 8,
Further comprising a first impeller and a second impeller disposed respectively at said first and second ends of said hollow cylindrical chamber,
Wherein the rotation of the first impeller and the second impeller is controlled during the powder coating process to move the powder biased to one end in the reaction space to the other end.
상기 복수의 중공 실린더형 챔버들 중 적어도 하나는 각 반응 공간 내에 적재된 상기 분말의 교반을 위해 회전하고, 회전 동력부로부터 상기 중공 실린더형 챔버의 회전력 전달은 상기 중공 실린더형 챔버의 외주와 접촉하는 적어도 하나 이상의 마찰 풀리에 의해 수행되는 분말 코팅 반응기.9. The method of claim 8,
Wherein at least one of the plurality of hollow cylindrical chambers is rotated for agitation of the powder loaded in each reaction space and the transmission of rotational force of the hollow cylindrical chamber from the rotational power section is in contact with the periphery of the hollow cylindrical chamber Wherein at least one friction pulley is used.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160170921A KR101868703B1 (en) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | Reactor for coating powder |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160170921A KR101868703B1 (en) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | Reactor for coating powder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR101868703B1 true KR101868703B1 (en) | 2018-06-18 |
Family
ID=62765400
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160170921A KR101868703B1 (en) | 2016-12-14 | 2016-12-14 | Reactor for coating powder |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101868703B1 (en) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020159162A1 (en) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 주식회사 엘지화학 | Coating device |
CN111575676A (en) * | 2019-02-19 | 2020-08-25 | 现代自动车株式会社 | Surface treatment apparatus and method for surface treating powder |
KR20200139968A (en) * | 2019-06-05 | 2020-12-15 | (주)씨엔원 | Coating device of 3 dimension structure including evacuated chamber with space partitionable rotary reactor |
KR20210018426A (en) * | 2019-05-24 | 2021-02-17 | 가부시키가이샤 크리에이티브 코팅즈 | Powder film formation method, powder film formation container and ALD device |
WO2021235772A1 (en) * | 2020-05-19 | 2021-11-25 | (주)아이작리서치 | Powder atomic layer deposition equipment and gas supply method therefor |
CN113767188A (en) * | 2019-04-24 | 2021-12-07 | 应用材料公司 | Reactor for coating particles in a stationary chamber with rotating paddles |
KR20220050442A (en) * | 2020-10-16 | 2022-04-25 | 서울과학기술대학교 산학협력단 | Reactor used for atomic layer deposition apparatus |
WO2022097861A1 (en) * | 2020-11-09 | 2022-05-12 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition apparatus for powders |
KR20220095389A (en) * | 2020-12-29 | 2022-07-07 | 한국전자기술연구원 | Batch-type powder ALD and usage system |
WO2022239888A1 (en) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition equipment for powders |
WO2023027262A1 (en) * | 2021-08-27 | 2023-03-02 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition apparatus for powders |
KR20230085047A (en) * | 2021-12-06 | 2023-06-13 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Apparatus for coating powder |
KR102711839B1 (en) | 2021-08-27 | 2024-10-02 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition apparatus for powder |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140006420A (en) * | 2012-07-05 | 2014-01-16 | (주)씨엔원 | Nano particle coating apparatus and coating method |
KR20140128645A (en) * | 2013-04-29 | 2014-11-06 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Coating methodfor nano particle |
KR20150013296A (en) * | 2012-05-14 | 2015-02-04 | 피코순 오와이 | Powder particle coating using atomic layer deposition cartridge |
KR20150108832A (en) * | 2013-01-23 | 2015-09-30 | 피코순 오와이 | Method and apparatus for ALD processing particulate material |
-
2016
- 2016-12-14 KR KR1020160170921A patent/KR101868703B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150013296A (en) * | 2012-05-14 | 2015-02-04 | 피코순 오와이 | Powder particle coating using atomic layer deposition cartridge |
KR20140006420A (en) * | 2012-07-05 | 2014-01-16 | (주)씨엔원 | Nano particle coating apparatus and coating method |
KR20150108832A (en) * | 2013-01-23 | 2015-09-30 | 피코순 오와이 | Method and apparatus for ALD processing particulate material |
KR20140128645A (en) * | 2013-04-29 | 2014-11-06 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Coating methodfor nano particle |
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020159162A1 (en) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 주식회사 엘지화학 | Coating device |
CN112739850B (en) * | 2019-01-31 | 2023-03-28 | 株式会社 Lg新能源 | Coating apparatus |
CN112739850A (en) * | 2019-01-31 | 2021-04-30 | 株式会社Lg化学 | Coating apparatus |
CN111575676A (en) * | 2019-02-19 | 2020-08-25 | 现代自动车株式会社 | Surface treatment apparatus and method for surface treating powder |
CN111575676B (en) * | 2019-02-19 | 2023-04-07 | 现代自动车株式会社 | Surface treatment apparatus and method for surface treating powder |
CN113767188B (en) * | 2019-04-24 | 2024-02-09 | 应用材料公司 | Reactor for coating particles in a stationary chamber with rotating paddles |
CN113767188A (en) * | 2019-04-24 | 2021-12-07 | 应用材料公司 | Reactor for coating particles in a stationary chamber with rotating paddles |
US11717800B2 (en) | 2019-04-24 | 2023-08-08 | Applied Materials, Inc. | Reactor for coating particles in stationary chamber with rotating paddles |
JP7451561B2 (en) | 2019-04-24 | 2024-03-18 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Reactor for coating particles in a fixed chamber with rotating paddles |
EP3959353A4 (en) * | 2019-04-24 | 2023-01-18 | Applied Materials, Inc. | Reactor for coating particles in stationary chamber with rotating paddles |
JP2022531102A (en) * | 2019-04-24 | 2022-07-06 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Reactor for coating particles in a fixed chamber with rotating paddles |
KR102586579B1 (en) * | 2019-05-24 | 2023-10-10 | 가부시키가이샤 크리에이티브 코팅즈 | Powder film forming method, powder film forming container and ALD device |
KR20210018426A (en) * | 2019-05-24 | 2021-02-17 | 가부시키가이샤 크리에이티브 코팅즈 | Powder film formation method, powder film formation container and ALD device |
KR102312108B1 (en) * | 2019-06-05 | 2021-10-13 | (주)씨엔원 | Coating device of 3 dimension structure including evacuated chamber with space partitionable pendulum movement reactor |
KR20200139968A (en) * | 2019-06-05 | 2020-12-15 | (주)씨엔원 | Coating device of 3 dimension structure including evacuated chamber with space partitionable rotary reactor |
KR102409310B1 (en) * | 2020-05-19 | 2022-06-16 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition equipment for powder and its gas supply method |
KR20210142846A (en) * | 2020-05-19 | 2021-11-26 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition equipment for powder and its gas supply method |
WO2021235772A1 (en) * | 2020-05-19 | 2021-11-25 | (주)아이작리서치 | Powder atomic layer deposition equipment and gas supply method therefor |
KR20220050442A (en) * | 2020-10-16 | 2022-04-25 | 서울과학기술대학교 산학협력단 | Reactor used for atomic layer deposition apparatus |
KR102519577B1 (en) * | 2020-10-16 | 2023-04-13 | 서울과학기술대학교 산학협력단 | Reactor used for atomic layer deposition apparatus |
WO2022097861A1 (en) * | 2020-11-09 | 2022-05-12 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition apparatus for powders |
KR20220095389A (en) * | 2020-12-29 | 2022-07-07 | 한국전자기술연구원 | Batch-type powder ALD and usage system |
KR102517247B1 (en) * | 2020-12-29 | 2023-04-04 | 한국전자기술연구원 | Batch-type powder ALD and usage system |
WO2022239888A1 (en) * | 2021-05-13 | 2022-11-17 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition equipment for powders |
WO2023027262A1 (en) * | 2021-08-27 | 2023-03-02 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition apparatus for powders |
KR102711839B1 (en) | 2021-08-27 | 2024-10-02 | (주)아이작리서치 | Atomic layer deposition apparatus for powder |
KR102593289B1 (en) * | 2021-12-06 | 2023-10-25 | 알페스 주식회사 | Apparatus for coating powder |
KR20230085047A (en) * | 2021-12-06 | 2023-06-13 | 한양대학교 에리카산학협력단 | Apparatus for coating powder |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101868703B1 (en) | Reactor for coating powder | |
KR101563749B1 (en) | Film formation apparatus and substrate processing apparatus | |
US20120225193A1 (en) | Apparatus And Process For Atomic Layer Deposition | |
KR101452262B1 (en) | Nano particle coating apparatus and coating method | |
KR101564112B1 (en) | Film formation apparatus substrate processing apparatus film formation method and storage medium readable by computer | |
US10513777B2 (en) | Film formation device | |
KR20100027040A (en) | Film forming apparatus and substrate processing apparatus | |
KR101584817B1 (en) | Film deposition apparatus | |
US9831067B2 (en) | Film-forming apparatus | |
KR101072670B1 (en) | Apparatus for atomic layer deposition | |
CN216864317U (en) | Deposition apparatus | |
CN106252268B (en) | Substrate processing method and substrate processing apparatus | |
TWI725867B (en) | Reactor assembly and use thereof, coating method, and coated item | |
EP4087955A1 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
KR20150098456A (en) | Apparatus for processing substrate | |
KR101450573B1 (en) | Thin film deposition apparatus | |
CN216404592U (en) | Reaction device and thin film deposition equipment | |
CN213596393U (en) | Atomic layer deposition device | |
US11414753B2 (en) | Processing method | |
JP2020164995A (en) | Coating of three-dimensional substrate | |
CN112176321A (en) | Atomic layer deposition device and atomic layer deposition method | |
CN216998571U (en) | Deposition apparatus for improving substrate temperature distribution | |
KR101656651B1 (en) | Thin film deposition apparatus | |
KR101372275B1 (en) | Thin film deposition apparatus | |
KR102711839B1 (en) | Atomic layer deposition apparatus for powder |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |