KR101832124B1 - Coated abrasive article based on a sunflower pattern - Google Patents

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Abstract

연마물품은 불균일 분포 패턴으로 배열되는 다수의 연마영역들을 가지고, 패턴은 나선 또는 엽서 패턴, 예컨대 나선 격자이고, 특히 보겔 식 예컨대 해바라기 패턴으로 기술되는 패턴이다.The abrasive article has a plurality of abrasive areas arranged in a non-uniform distribution pattern, the pattern being a spiral or postcard pattern, such as a spiral lattice, and in particular a pattern described in a Vogelian pattern, such as a sunflower pattern.

Description

해바라기 패턴 기반의 코팅 연마물품{COATED ABRASIVE ARTICLE BASED ON A SUNFLOWER PATTERN}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a COATED ABRASIVE ARTICLE BASED ON A SUNFLOWER PATTERN,

본 발명은 포괄적으로 연마제, 상세하게는 개별, 연속, 반-연속 및 이들의 조합인 해바라기 패턴 기반의 연마 부분을 가지는 코팅 연마물품에 관한 것이다.The present invention relates generally to coated abrasive articles having abrasive parts, in particular discrete, continuous, semicontinuous and combinations thereof, with a sunflower pattern-based abrasive part.

연마물품, 예컨대 코팅 연마물품은, 예컨대 래핑, 연삭, 또는 연마에 의한 공작물 연마 수작업 또는 기계 가공을 위하여 다양한 산업에 적용된다. 연마 물품을 사용하는 기계가공은 광학, 자동차 판금도색, 용접 산업에서 건축 및 목공에 이르기까지 광범위한 산업 분야에 걸쳐있다. 수작업에 의하거나 궤도 연마기 (orbital polisher) (랜덤 및 고정 축 모두), 및 벨트와 진동 샌더들(sanders)과 같은 통상적으로 이용 가능한 공구들에 의한 기계 가공은 또한 대개 가정용 적용들에서 소비자들에 의해 행해진다. 이러한 각각의 경우, 연마제들을 사용하여 재료 표면을 제거하고 연마 표면 특성들 (예를들면, 평탄도, 표면 조도, 광택)에 영향을 끼친다. 또한, 다양한 조성 및 구성의 물품들에 대한 연삭 가공을 위하여 다양한 유형의 자동화 처리시스템이 개발되었다. Abrasive articles, such as coated abrasive articles, are applied to various industries for workpiece polishing or machining, e.g., by lapping, grinding, or polishing. Machining using abrasive articles covers a wide range of industries, from optics, automotive sheet metal painting and welding to construction and woodworking. Machining by hand or by commonly available tools such as orbital polishers (both random and stationary), and belts and vibrating sanders are also commonly used by consumers in domestic applications Is done. In each of these cases, abrasives are used to remove the material surface and affect the abrasive surface properties (e.g., flatness, surface roughness, gloss). In addition, various types of automated processing systems have been developed for grinding of articles of various compositions and configurations.

표면특성은 무엇보다도 윤기, 질감, 광택, 표면조도 및 균일성을 포함한다. 특히, 표면특성, 예컨대 조도 및 광택은 품질 결정에 적용된다. 예를들면, 표면을 도포하거나 도장할 때 소정의 결점 또는 표면 결함이 도포 또는 경화 과정에서 발생된다. 이러한 표면 결점 또는 표면 결함은 얽은 자국들, “오렌지 필” 질감, “은점들”, 또는 피포성 버블 및 더스트 결함을 포함한다. 전형적으로, 도장 표면에서 이러한 결함들은 조질 입자 연마제로 먼저 연마하고, 이어 점차 더욱 미세한 입자 연마제로 연마하고, 심지어는 평활도가 달성될 때까지 양모 또는 폼 패드로 버퍼 연삭하여 제거된다. 따라서, 사용 연마물품 특성들은 포괄적으로 표면 품질에 영향을 준다. Surface properties include, among other things, gloss, texture, gloss, surface roughness and uniformity. In particular, surface properties such as roughness and gloss are applied to quality determination. For example, when applying or painting a surface, certain defects or surface defects are generated during the application or curing process. Such surface defects or surface defects include entangled marks, " orange fill " textures, " spots ", or encapsulated bubble and dust defects. Typically, these defects on the coating surface are first removed by grinding with a crude particle abrasive, followed by grinding with a finer particle abrasive, and even by buffer grinding with a wool or foam pad until smoothness is achieved. Thus, the properties of the abrasive articles used comprehensively affect the surface quality.

표면특성과 더불어, 업계에서는 연마 가공 비용에 민감하다. 가공비용에 영향을 주는 인자들은 표면 처리 속도 및 이러한 표면 처리에 사용되는 소재 비용을 포함한다. 전형적으로, 산업계에서는 높은 연삭률을 가지는 비용 효율적인 소재를 원한다.In addition to the surface properties, the industry is also sensitive to abrasive machining costs. Factors that affect the processing cost include the surface treatment rate and the material cost used for such surface treatment. Typically, the industry wants a cost-effective material with a high grinding rate.

그러나, 높은 연삭률을 보이는 연마제는 때로 바람직한 표면 특성 달성 성능이 불량하다. 역으로, 바람직한 표면특성을 획득할 수 있는 연마제는 때로 낮은 연삭률을 보인다. 이러한 이유로, 표면 처리는 종종 다양한 등급의 연마제 시트들을 이용한 다중-단계 작업으로 이루어진다. 전형적으로, 하나의 단계에서 생긴 표면 결함들 (예를들면, 스크래치)은 하나 이상의 후속 단계들에서 점차로 더욱 미세한 입자 연마제로 보수된다 (예를들면, 제거된다). 따라서, 스크래치 및 표면 결함들을 발생시키는 연마제는 후속 처리 단계들에서 시간, 노력이 요구되고 재료를 소모하여 전체적으로 처리 비용이 높아진다.However, abrasives exhibiting high grinding ratios are sometimes poor in achieving desirable surface properties. Conversely, abrasives that can achieve desirable surface properties often exhibit low grinding rates. For this reason, surface treatment often consists of multi-step operations using abrasive sheets of various grades. Typically, surface defects (e.g., scratches) that occur in one step are repaired (e. G., Removed) with finer particle abrasives in one or more subsequent steps. Thus, the abrasive that generates scratches and surface defects requires time, effort, and consumes material in subsequent processing steps, resulting in a high overall processing cost.

연삭률 및 표면 품질에 영향을 주는 또 하나의 인자는 공작물 표면에서 연삭되어, 연마제 입자들 표면 및 사이에 쌓일 수 있는 “스와프”가 연마제에 "로딩"되는 것이다. 로딩 현상은 전형적으로 연마제품 효율을 떨어뜨리므로 바람직하지 않고 또한 스크래치 결함 가능성을 높임으로써 표면 특성에 악영향을 줄 수 있다.Another factor affecting the grinding rate and surface quality is that the workpiece surface is ground so that " swabs " that can accumulate on and between the surfaces of the abrasive particles are "loaded" onto the abrasive article. The loading phenomenon is typically undesirable because it lowers the abrasive product efficiency and may also adversely affect surface properties by increasing the probability of scratch defects.

유체를 공작물 표면에 도입하여 스와프를 씻어내고 스와프가 발생되면 이를 제거하기 위하여 진공시스템을 적용하는 것과 같은 스와프 누적을 줄이기 위한 다양한 노력들이 있었지만, 연삭 효율이 높고 표면특성을 개선할 수 있는 비용 효율적인 연마물품, 공정 및 시스템에 대한 개선 요구는 여전하다.Various efforts have been made to reduce the accumulation of swarf such as applying a vacuum system to remove the swarf by introducing the fluid to the surface of the workpiece and removing the swarf when the swarf is generated. However, cost-effective polishing There is still a need for improvements to articles, processes and systems.

본 발명은 첨부 도면들을 참조함으로써 더 잘 이해될 수 있으며, 이의 수많은 특징부들 및 이점들은 본 기술분야에서 숙련된 사람들에게 명백해질 수 있다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention may be better understood by reference to the accompanying drawings, and numerous features and advantages thereof may become apparent to those skilled in the art.

도1은 본 발명에 의한 조절된 불균일 연마 영역 (소위 스폿)의 패턴을 가지고 임의의 개구가 없는 예시적 코팅 연마원반이다.
도2는 보겔 모델과 일치하는 점들을 통과하는 다중 나선 아암 형태의 연마 영역을 가지는 예시적 코팅 연마제를 도시한 것이다.
도3은 본 발명에 의한 시계방향 및 반시계방향 사열선 (parastichy)을 가지는 엽서 (phyllotactic) 나선 패턴, 특히 나선 격자 형태의 연마 영역을 가지고 임의의 개구가 없는 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 의한 시계방향 및 반시계방향 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴 형태의 연마 영역을 가지고 임의의 개구가 없는 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도5는 본 발명에 의해 사열선이 교차하는 원형 연마영역(area)이 조합되는 시계방향 및 반시계방향 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴, 특히 나선 격자 형태의 연마 영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도6은 본 발명에 따른 연마영역 배치를 위한 보겔 (Vogel) 모델을 도시한 것이다.
도 7은 연마영역 배치 수열을 보이는 본 발명에 의한 또 다른 보겔 모델을 도시한 것이다.
도8A - 8C는 본 발명에 의한 상이한 발산각 (divergence angle)을 가지고 Vogel 모델과 일치하는 코팅 연마제에서 연마영역 배치를 위한 엽서 나선 패턴들을 도시한 것이다.
도9는 본 발명에 의해 사열선이 교차하는 다양한 크기의 원형 연마영역이 조합되는 시계방향 및 반시계방향 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴, 특히 나선 격자 형태의 연마 영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도10은 본 발명에 의해 사열선이 분기하는 다양한 크기의 원형 연마영역이 조합되는 분기 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴의 연마영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도11은 본 발명에 의해 사열선이 분기하는 다양한 크기의 원형 연마영역이 조합되는 분기 시계방향 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴의 연마영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도12는 본 발명에 의해 사열선이 분기하는 다양한 크기의 원형 연마영역이 조합되는 분기 시계방향 및 반시계방향 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴의 연마영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도13은 본 발명에 의해 사열선이 분기하는 다양한 크기의 원형 연마영역이 조합되는 분기 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴의 연마영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도14는 본 발명에 의해 사열선이 분기하는 다양한 크기의 원형 연마영역이 조합되는 분기 사열선을 가지는 엽서 나선 패턴의 연마영역을 가지는 또 다른 예시적 코팅 연마원반을 도시한 것이다.
도15는 본 발명에 의한148개의 연마영역들을 가지는 예시적 연마영역 패턴의 그래픽 이미지이다.
도 16은 도 15의 연마영역 패턴의 전치 (transpose)인 대안적 연마 패턴의 본 발명에 의한 예시를 도시한 것이다.
도17은 도 16 패턴에 기초한 나선 및 원호 형태의 예시적 연마영역을 도시한 것이다.
도18은 본 발명에 의한344개의 연마영역들을 가지는 예시적 연마영역 패턴의 그래픽 이미지이다.
도 19는 도 18의 연마영역 패턴의 전치인 본 발명에 의한 예시를 도시한 것이다.
도 20은 도 19의 개구 패턴과 조합되는 지지패드인 본 발명의 예시를 도시한 것이다.
도 21은 본 발명에 의한 예시적 코팅 연마제의 단면도이다.
도면들에서 동일 도면부호들은 동일 또는 유사한 부분들을 나타낸다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is an exemplary coating polishing disc with a pattern of a controlled nonuniform polishing region (so-called spot) according to the present invention and without any openings.
Figure 2 illustrates an exemplary coating abrasive having a multi-spiral arm-shaped abrasive region passing through points consistent with the Vogel model.
Figure 3 shows an exemplary coated abrasive disc with a phyllotactic spiral pattern with clockwise and counterclockwise parasitic spirals according to the invention, in particular without any openings, with a grinding area in the form of a spiral grating .
Figure 4 shows an exemplary coated abrasive disc with no opening and with a grinding area in the form of a postcard spiral pattern with clockwise and counterclockwise yarn lines according to the present invention.
Figure 5 is a schematic diagram of a postcard spiral pattern with clockwise and counterclockwise quadrature lines in which circular sweep areas intersecting quadrature lines are combined according to the present invention, The disc is shown.
Figure 6 shows a Vogel model for polishing area placement according to the present invention.
FIG. 7 shows another Vogel model according to the present invention showing a polishing region arrangement sequence.
Figures 8A-8C illustrate postcard spiral patterns for polishing area placement in a coating abrasive consistent with the Vogel model with different divergence angles according to the present invention.
FIG. 9 is a schematic diagram of a postcard spiral pattern having clockwise and counterclockwise quadratic lines in which circularly polished regions of various sizes intersecting quadrature lines are combined according to the present invention, The disc is shown.
10 illustrates another exemplary coating grinding master having a postcard spiral patterned grinding area with a diagonal thread line in which various sizes of circular grinding areas are diverged by the present invention.
Figure 11 illustrates another exemplary coating grinding master having a postcard spiral patterned grinding area with a diagonal clockwise grating area in which various sizes of circular grinding areas are diverged by the present invention according to the present invention.
12 illustrates another exemplary coating grinding master having a grinding region of a postcard spiral pattern having a branch clockwise direction and a counterclockwise grating line in which diagonal circular grinding regions diverging quadriceps are branched according to the present invention will be.
Figure 13 shows another exemplary coating grinding master having a postcard spiral patterned grinding area with a diagonal thread line in which various sizes of circular grinding areas are diverged by the present invention according to the present invention.
Figure 14 illustrates another exemplary coating grinding master having a postcard spiral patterned grinding area with a diagonal thread line in which various sizes of circular grinding areas are diverged by the present invention according to the present invention.
15 is a graphical image of an exemplary abrasive area pattern having 148 abrasive areas according to the present invention.
16 illustrates an example of an alternative polishing pattern according to the present invention that is a transpose of the polishing area pattern of Fig.
Figure 17 shows an exemplary abrasive area in the form of a spiral and an arc based on the pattern of Figure 16;
18 is a graphical image of an exemplary abrasive area pattern having 344 abrasive areas according to the present invention.
FIG. 19 shows an example according to the present invention, which is the transposition of the polishing area pattern of FIG.
Figure 20 illustrates an example of the present invention, which is a support pad combined with the opening pattern of Figure 19;
21 is a cross-sectional view of an exemplary coating abrasive according to the present invention.
In the drawings, the same reference numerals denote the same or similar parts.

실시태양에서, 연마물품은 조절된 불균일 분포 패턴으로 배열되는 다수의 연마영역들을 가지는 코팅 연마제로 구성된다. 패턴은 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴, 또는 이들의 조합을 포함하는 조절된 불균일 분포를 가지는 임의의 패턴일 수 있다. 조합 패턴의 예시로는 나선 격자 패턴이다. 패턴은 부분적으로, 실질적으로, 또는 완전히 비대칭이다. 패턴은 연마물품 전체를 덮고 있거나 (즉, 전체에 걸쳐 분포), 실질적으로 전체 연마물품을 덮고 있거나 (즉 50% 이상 내지 100% 미만), 연마물품의 여러 부분들을 덮고 있거나, 또는 연마물품의 일부분만을 덮고 있다.In an embodiment, the abrasive article comprises a coating abrasive having a plurality of abrasive areas arranged in a controlled, non-uniform distribution pattern. The pattern may be any pattern having a controlled non-uniform distribution comprising a radiation pattern, a spiral pattern, a postcard pattern, an asymmetric pattern, or a combination thereof. An example of a combination pattern is a spiral grid pattern. The pattern is partially, substantially, or completely asymmetric. The pattern may cover the entirety of the article to be polished (i.e., distributed throughout), cover substantially the entirety of the article to be polished (i.e., greater than 50% to less than 100%), cover various portions of the article, Only.

조절된 “불균일 분포”란 패턴이 조절된 비대칭성 (즉, 조절된 무작위성)을 가져, 연마영역들 분포가, 예를들면, 방사, 나선, 또는 엽서 식으로 기술되거나 예측되지만, 패턴은 여전히 완전한 비대칭성에 대한 적어도 일부를 보인다. A controlled " non-uniform distribution " means that the pattern has a controlled asymmetry (i.e., adjusted randomness) and the distribution of the abrasive regions is described or predicted, for example, by radiation, spiral, At least some of the asymmetry is shown.

조절된 비대칭성은 조절된 반사 비대칭성 (소위 거울 대칭성, 라인 대칭성, 및 양측 대칭성), 조절된 회전 비대칭성, 조절된 병진 대칭성, 조절된 미끄럼 반사 대칭성, 또는 이들의 조합일 수 있다. 불균일 분포로는 1차 (order of one) 회전 대칭성을 가지는, 즉 패턴 자체가 중심 주위로 360° 회전할 때만 겹치므로 패턴이 회전 대칭성이 없는 방사, 나선, 또는 엽서 개구 패턴이 예시된다. 즉, 완전 동일한 패턴의 두 사본들이 서로 겹쳐있고 하나의 사본이 고정되고 다른 사본이 중심 주위로 360° 회전될 때, 양 사본들의 모든 연마영역들은 360° 회전 과정에서 단지 1회만 정렬된다.The modulated asymmetry can be controlled asymmetry (so-called mirror symmetry, line symmetry, and bilateral symmetry), controlled rotational asymmetry, controlled translational symmetry, controlled sliding reflection symmetry, or a combination thereof. The non-uniform distribution includes an order of one rotational symmetry, that is, a radiation, a spiral, or a postcard opening pattern in which the pattern is not rotationally symmetric because it overlaps only when the pattern itself rotates 360 degrees around the center. That is, when two copies of a completely identical pattern overlap each other, one copy is fixed and the other copy is rotated 360 degrees around the center, all of the abrasive areas of both copies are aligned only once in a 360 degree rotation process.

전형적으로, 패턴의 모든 연마영역들 (즉, 전체 패턴)이 조절된 비대칭성을 가진다. 그러나, 본 실시태양들에 의한 패턴들은 패턴의 연마영역들 총 개수의 일부 (즉, 패턴 일부)만이 조절된 비대칭성을 가지는 패턴들을 포함한다. 이러한 경우는, 균일 분포 패턴, 또는 완전 무작위 패턴 일부를 조절된 불균일 분포의 패턴과 조합 또는 치환하는 경우 발생되어 형성된 패턴의 일부 연마영역들만이 조절된 불균일 분포를 가진다. 조절된 불균일성을 가지는 총 연마영역들의 일부는 개별 수치 (discrete number), 또는 분수, 백분율 또는 패턴 중 연마영역들 비율로 정량화된다. 실시태양에서, 패턴 중 적어도 50%, 적어도 55%, 적어도 60%, 적어도 65%, 적어도 70%, 적어도 80%, 적어도 85%, 적어도 90%, 적어도 95%, 적어도 96%, 적어도 97%, 적어도 98%, 적어도 99%, 적어도 99.5%, 적어도 99.9%의 연마영역들이 조절된 비대칭성을 가진다. 패턴 중 조절된 비대칭성을 가지는 연마영역들 일부는 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다. 특정 실시태양에서, 패턴의 약 50% 내지 약 99.9%, 약 60% 내지 약 99.5%, 약 75% 내지 약 99%는 조절된 불균일 분포를 가진다. Typically, all of the abrasive areas (i.e., the entire pattern) of the pattern have a controlled asymmetry. However, the patterns according to the embodiments include asymmetric patterns in which only a part (i.e., a part of the pattern) of the total number of polishing regions of the pattern is adjusted. In this case, only a part of the polishing regions of the pattern formed and generated when the uniform distribution pattern or a part of the completely random pattern is combined with or replaced with the pattern of the uneven distribution to be controlled has a regulated non-uniform distribution. Some of the total abrasive areas with controlled non-uniformity are quantified as a discrete number, or a fraction, percentage, or ratio of abrasive areas in the pattern. In embodiments, at least 50%, at least 55%, at least 60%, at least 65%, at least 70%, at least 80%, at least 85%, at least 90%, at least 95%, at least 96%, at least 97% At least 98%, at least 99%, at least 99.5%, at least 99.9% of the polishing regions have controlled asymmetry. Some of the asymmetric controlled polishing regions of the pattern may be in the range of any pair of the upper and lower limits. In certain embodiments, from about 50% to about 99.9%, from about 60% to about 99.5%, from about 75% to about 99% of the pattern have a controlled non-uniform distribution.

다른 실시태양에서, 패턴은 적어도 대략 5 연마영역들, 적어도 대략 10 연마영역들, 적어도 대략 15 연마영역들, 적어도 대략 20 연마영역들, 적어도 대략 25 연마영역들, 또는 적어도 대략 50 연마영역들에 걸쳐 조절된 비대칭성을 가진다. 다른 실시태양에서, 패턴은 대략 100,000 연마영역들 이하, 대략 10,000 연마영역들 이하, 대략 5,000 연마영역들 이하, 대략 2,500 연마영역들 이하, 대략 1,000 연마영역들 이하, 대략 750 연마영역들 이하, 또는 대략 500 연마영역들 이하에 걸쳐 조절된 비대칭성을 가진다. 조절된 비대칭성을 가지는 연마영역들 개수는 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다. In another embodiment, the pattern comprises at least about 5 abrasive regions, at least about 10 abrasive regions, at least about 15 abrasive regions, at least about 20 abrasive regions, at least about 25 abrasive regions, or at least about 50 abrasive regions Asymmetry controlled across. In other embodiments, the pattern may be less than or equal to about 100,000 polishing regions, less than or equal to about 10,000 polishing regions, less than or equal to about 5,000 polishing regions, less than or equal to about 2,500 polishing regions, less than or equal to about 1,000 polishing regions, Has asymmetry regulated over about 500 polishing zones. The number of polishing regions having controlled asymmetry may be in the range of any pair of the upper and lower limits.

상기된 바와 같이, 본 실시태양들의 패턴은 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴, 또는 이들의 조합을 포함하는 조절된 불균일 분포를 가지는 임의의 패턴일 수 있다. 조합 패턴의 예시로는 나선 격자 패턴이다. 나선 격자 패턴은 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴으로 분류될 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 방사 패턴은 중심점에서, 예컨대 바퀴 중심에서 스포크와 같이 방사상으로 보이는 임의의 패턴이다.As described above, the pattern of the embodiments may be any pattern having a controlled non-uniform distribution including a radiation pattern, a spiral pattern, a postcard pattern, an asymmetric pattern, or a combination thereof. An example of a combination pattern is a spiral grid pattern. It should be understood that helical lattice patterns can be classified into radiation patterns, spiral patterns, postcard patterns, and asymmetric patterns. The radiation pattern is any pattern that appears radially at the center point, e.g., spokes, at the center of the wheel.

실시태양에서, 나선 패턴은 연마물품 중심점에서 발산되고 중심점 주위로 회전할 때 외부로 점차 연장되는 임의의 곡선, 또는 일조의 곡선들이다. 중심점은 연마물품 중심 또는 인근에 위치하거나, 대안으로, 연마물품 중심 밖에 놓인다. 단일 나선 또는 다중 나선들 (즉, 다수의 나선들)이 존재할 수 있다. 나선들은 개별 또는 연속, 분리 또는 연결될 수 있다. 분리 나선들은 다른 중심점들에서 발산될 수 있고 (즉, 각각의 나선은 자체 중심점을 가진다), 공동 중심점에서 발산될 수 있고 (즉, 각각의 나선은 중심점을 공유한다), 또는 이들의 조합일 수 있다. 나선 패턴들은: 아르키메데스 나선; 오일러 나선, 코르뉴 나선, 또는 클로소이드; 페르마 나선; 쌍곡 나선; 리투스; 대수 나선; 피보나치 나선; 황금 나선; 또는 이들의 조합을 포함한다. In an embodiment, the helical pattern is any curve, or a set of curves, that diverges from the center point of the article to be polished and gradually extends outward as it rotates about the center point. The center point is located at or near the center of the item to be polished, or, alternatively, lies outside the center of the item to be polished. There may be a single spiral or multiple spirals (i.e., multiple spirals). The spirals can be individually or sequentially, separated or connected. The split spirals can be diverged at different center points (i.e., each spiral has its own center point), can be diverged at a common center point (i.e., each spiral shares a center point), or a combination thereof have. The spiral patterns are: Archimedes spiral; Euler helix, corundum helix, or clozoid; Fermat spiral; Hyperbolic helix; Litus; Algebraic helix; Fibonacci spiral; Golden spiral; Or a combination thereof.

실시태양에서, 패턴은 엽서 패턴일 수 있다. 본원에서 사용되는, “엽서 패턴”이란 잎 차례와 관련된 패턴을 의미한다. 잎 차례는 옆 기관들 (lateral organs) 예컨대 많은 종류의 식물들에서 잎, 꽃, 비늘포, 낱꽃, 및 종자들의 배열이다. 많은 엽서 패턴들이 원호들, 나선들, 및 와상들 (whorls)을 가지는 현저한 패턴들의 자연 발생적 현상으로 나타난다. 해바라기 머리에 있는 종자들의 패턴은 이러한 현상의 예시이다. 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 사열선이라고도 부르는 다중 원호들 또는 나선들은, 중점 (C)에서 유래하고 외향 연장되고, 다른 나선들은 내부 나선들에 의해 남겨진 간격들을 채우도록 유래한다. Jean's Phyllotaxis A Systemic Study in Plant Morphogenesis at p. 17 참조. 빈번하게, 나선-패턴 배열들은 시계방향 및 반시계방향 모두로 외향 방사하는 것으로 관찰할 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 이러한 유형의 패턴들은 (m, n)으로 표기되는 대향 사열선 쌍들로 관찰할 수 있고 이때 시계방향으로 방사하는 중심점에서 일정 거리에 있는 나선들 또는 원호들 개수는 “m”이고 반시계방향으로 방사하는 나선들 또는 원호들의 개수는 “n”이다. 또한, 중심에서 2개의 연속 나선들 또는 원호들 사이 각도를 발산각 “α”으로 칭한다. 본 발명자들은 놀랍게도 엽서 패턴들이 연마물품, 특히 코팅 연마물품의 새로운 패턴들을 형성하는데 유용하다는 것을 알았다.In an embodiment, the pattern may be a postcard pattern. As used herein, " postcard pattern " means a pattern associated with the leaf turn. Leaf turn is an arrangement of leaves, flowers, scales, flowers, and seeds in lateral organs, for example many kinds of plants. Many postcard patterns appear as spontaneous phenomena of remarkable patterns with arcs, spirals, and whorls. The pattern of seeds in the sunflower head is an example of this phenomenon. As shown in Figs. 3 and 4, the multiple arcs or spirals, also referred to as quadrants, originate at midpoint C and extend outward, while the other spirals are derived to fill the spacing left by internal spirals. Jean ' s Phyllotaxis Systemic Study in Plant Morphogenesis at p. 17. Frequently, spiral-pattern arrays can be observed to outwardly radiate both clockwise and counterclockwise. As shown in Fig. 4, these types of patterns can be observed with pairs of oppositely arranged hot lines labeled as (m, n), where the number of spirals or arcs at a distance from the center point radiating in the clockwise direction is " m ", and the number of spirals or arcs emitting in a counterclockwise direction is " n ". Also, the angle between two consecutive spirals or arcs in the center is referred to as the divergence angle " a ". The present inventors have surprisingly found that postcard patterns are useful for forming new patterns of abrasive articles, especially coated abrasive articles.

실시태양에서, 패턴은 다수의 시계방향 나선들 및 다수의 반시계방향 나선들을 가지고, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 피보나치 수들 또는 피보나치 수들의 배수이다. 특정 실시태양에서, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는, 쌍 (m, n)으로써: (3, 5), (5, 8), (8, 13), (13, 21), (21, 34), (34, 55), (55, 89), (89, 144) 또는 이러한 쌍들의 배수이다. 다른 실시태양에서, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 루카스 수들 루카스 수들의 배수이다. 특정 실시태양에서, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는, 쌍 (m, n)으로써: (3, 4), (4, 7), (7, 11), (11, 18), (18, 29), (29, 47), (47, 76), 또는 (76, 123), 또는 이러한 쌍들의 배수이다. 다른 실시태양에서, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 황금비로 수렴되는 비율의 임의의 수들이고, 여기에서 황금비는 1 더하기 루트 5의 합, 나누기 2, (1+√5)/2와 같고, 대략 1.6180339887이다. 특정 실시태양에서, 반시계방향 나선들에 대한 시계방향 나선들의 비율은 대략 황금비와 같다.In an embodiment, the pattern has a plurality of clockwise spirals and a plurality of counter-clockwise spirals, wherein the number of clockwise spirals and the number of counter-clockwise spirals is a multiple of Fibonacci numbers or Fibonacci numbers. In a particular embodiment, the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals is: (3, 5), (5,8), (8,13), (13,21) , (21, 34), (34, 55), (55, 89), (89, 144) or a multiple of these pairs. In another embodiment, the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals is a multiple of the number of Lucas numbers. In a particular embodiment, the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals can be determined as pairs (m, n): (3, 4), (4, 7), (7, 11) , (18, 29), (29, 47), (47, 76), or (76, 123), or a multiple of such pairs. In another embodiment, the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals are any number of ratios converging to the golden ratio, where the golden ratio is the sum of one plus root 5, division 2, (1 +? 5) / 2, and is approximately 1.6180339887. In certain embodiments, the ratio of clockwise spirals to counterclockwise spirals is approximately equal to the golden ratio.

상기된 바와 같이, 해바라기 종자들은 나선 엽서 패턴으로 배열된다. 실시태양에서, 패턴은 해바라기 패턴이다.As described above, sunflower seeds are arranged in a spiral postcard pattern. In an embodiment, the pattern is a sunflower pattern.

해바라기 패턴은 Vogel 모델로 기술되며, 이는 "피보나치 나선" 또는 연속 점들 사이 발산각이 137.508°인 황금 각도로 접근하는 고정 피보나치 각도인 나선 유형이다. The sunflower pattern is described by the Vogel model, which is the "Fibonacci helix" or divergence angle between consecutive points of 137 . It is a spiral type with a fixed Fibonacci angle approaching a golden angle of 508 °.

도 6 및 도 7은 아래 Vogel 모델을 보이고:Figures 6 and 7 show the following Vogel model:

Figure 112016004573392-pct00001
(식 1)
Figure 112016004573392-pct00001
(Equation 1)

식 중:        Where:

n은 중심에서 외향으로 계수할 때 낱꽃의 순번; n is the order of the number of the spots when counting from the center to the outward;

φ는 기준방향 및 두상화 (capitulum) 중심에서 시작하는 극좌표계에서 n번째 낱꽃의 위치벡터 사이의 각도이고, 해바라기 패턴에 있어서 임의의 두 연속 낱꽃의 위치벡터들 사이의 발산각 α은 137.508°로서 일정하고; φ is the angle between the position vector of the nth field in the polar coordinate system starting from the reference direction and the capitulum center, and the divergence angle α between the position vectors of any two consecutive fields in the sunflower pattern is 137 . Lt; / RTI >

r 은 두상화 중심 및 n번째 낱꽃 중심 사이의 거리이고; r is the distance between the central center of the pyramid and the center of the nth circle;

c는 일정한 환산계수이다. c is a constant conversion factor.

실시태양에서, 패턴은 Vogel 모델 또는 Vogel 모델 변형으로 기술된다. 특정 실시태양에서, 개구 패턴은 Vogel 모델로 기술되고:In an embodiment, the pattern is described as a Vogel model or a Vogel model variant. In certain embodiments, the aperture pattern is described as a Vogel model:

n은 패턴 중심에서 외향으로 계수하는 연마영역의 순번;n is the order of the polishing area counted from the center of the pattern to the outward;

임의의 두 연속 연마영역들의 위치벡터들 사이의 발산각이 일정 각도 α로 되도록, φ는 기준방향 및 패턴 중심에서 시작되는 극좌표계에서 n번째 연마영역의 위치벡터 사이의 각도이고; Phi is the angle between the position vector of the n-th abrasive area in the reference direction and the polar coordinate system starting at the pattern center, so that the divergence angle between the position vectors of any two consecutive abrasive areas is a constant angle alpha;

r은 패턴 중심에서 n번째 연마영역 중심까지의 거리이고; r is the distance from the center of the pattern to the center of the n-th polishing region;

c는 일정한 환산계수이다.c is a constant conversion factor.

상기된 바와 같이, 패턴의 모든, 실질적으로 모든, 또는 일부 연마영역들은 Vogel 모델로 기술된다 (즉, 모델과 일치한다). 실시태양에서, 패턴의 모든 연마영역들은 Vogel 모델로 기술된다. 다른 실시태양에서 적어도 50%, 적어도 60%, 적어도 70%, 적어도 80%, 적어도 90%, 적어도 95%, 적어도 99%의 연마영역들은 Vogel 모델로 기술된다.As noted above, all, substantially all, or some of the polishing regions of the pattern are described in the Vogel model (i.e., consistent with the model). In an embodiment, all of the abrasive areas of the pattern are described by the Vogel model. In other embodiments, at least 50%, at least 60%, at least 70%, at least 80%, at least 90%, at least 95%, at least 99% of the polishing regions are described by the Vogel model.

또 다른 실시태양에서, 적합한 나선 또는 엽서 패턴은 임의의 엽서 패턴, 예컨대 보겔 모델, 또는 조절된 불균일 분포를 가지는 다른 적합한 패턴, 예를들면 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴 또는 이들의 조합의 x 및 y 좌표로부터 형성될 수 있다. 실시태양에서, 나선 또는 엽서 패턴의 x 및 y 좌표는 전치 및 회전되어 나선 또는 엽서 패턴의 x’y’ 좌표를 형성하고, 다음 식 중 θ는 π/n 도이고 n은 임의의 정수이다:In another embodiment, a suitable spiral or postcard pattern may be any postcard pattern, such as a Vogel model, or other suitable pattern having a controlled non-uniform distribution, such as a radiation pattern, a spiral pattern, a postcard pattern, And the x and y coordinates of x and y . In an embodiment, the x and y coordinates of the spiral or postcard pattern are transposed and rotated to form the x ' and y' coordinates of the spiral or postcard pattern, where θ is π / n degrees and n is any integer:

Figure 112016004573392-pct00002
(식 2)
Figure 112016004573392-pct00002
(Equation 2)

전치 및 회전된 생성 좌표 (x’ 및 y’) 는 예컨대 컴퓨터 활용 설계 (CAD) 소프트웨어를 이용하여 도시되어, 나선 또는 엽서 패턴을 형성한다. 전치된 엽서 패턴들의 특정 실시태양들은 도 16에, 이는 도 15 엽서 패턴의 전치이고, 도 19에 도시되는, 이는 도 18 엽서 패턴의 전치이다.The transposed and rotated production coordinates (x 'and y') are shown, for example, using computer-aided design (CAD) software to form a spiral or postcard pattern. Certain embodiments of transposed postcard patterns are shown in Figure 16, which is the transposition of the postcard pattern in Figure 15, and Figure 19 is the transposition of the postcard pattern in Figure 18.

놀랍게도 본 발명자들은 예컨대 결합 연마물품 및 코팅 연마물품과 같은 고정 연마물품을 포함한 연마물품 성능을 개선하는 새로운 패턴들 생성에 있어서 엽서 패턴들이 유용하다는 것을 알았다. 특히, 엽서 패턴들은 코팅 연마물품의 새로운 연마영역 패턴들 생성에 유용하다. 엽서 패턴들은 높은 표면 연삭률을 달성하면서도 허용 가능한 표면 품질을 달성하여 상충적 문제들을 해결하고, 연마제 표면에서 스와프 로딩량을 감소시키고, 연마제의 높은 내구성 및 장수명을 유지하는데 조력할 수 있다. 이러한 결과는 부분적으로 적어도 다음과 같은 관점들에서 놀라운 것이다. 첫째, 본 실시태양들의 엽서 패턴들은 예기치 못하게 우수한 스와프 제거 범위를 개선하고 총 연마영역이 최신 패턴의 총 연마영역보다 적을지라도 최신 연마제 패턴들과 비교하여 연마 표면에 걸쳐 더욱 완전한 연계된 스와프 추출 부위들 (즉, 개방영역 경로 및/또는 채널들) 및 연마영역 (예를들면, 개별 연마 스폿, 긴 노드, 반-연속 원호, 소용돌이 무늬, 나선 및 기재되고 본원에 도시되는 이들의 조합의 형태) 분포를 가진다. 둘째, 본 실시태양들의 엽서 패턴들은 최신 패턴들과 비교하여, 진공 적용 여부와 무관하게, 연마 총면적이 최신 패턴들보다 적을지라도 예기치 못하게 적어도 대등한 우수한 연마제 성능 (예를들면, 누계 절삭량)을 제공한다. 셋째, 본원에서 더욱 상세하게 후기되는 바와 같이, 본 실시태양들의 효율 및 성능은 조합되는 지지패드 및 진공시스템과 결부될 때 더욱 향상된다.Surprisingly, the inventors have found that postcard patterns are useful in creating new patterns to improve abrasive article performance, including, for example, bonded abrasive articles and fixed abrasive articles such as coated abrasive articles. In particular, postcard patterns are useful for generating new abrasive area patterns of coated abrasive articles. The postcard patterns can achieve acceptable surface quality while achieving high surface grinding ratios, helping to resolve conflicting problems, reduce the amount of swarf loading on the abrasive surface, and maintain high durability and long life of the abrasive article. These results are, at least in part, surprising in terms of: First, the postcard patterns of the embodiments improve the unexpectedly good swarf removal range, and even though the total abrasive area is less than the total abrasive area of the newest pattern, more fully associated swab extraction areas (E.g., open area paths and / or channels) and polishing areas (e.g., individual polishing spots, long nodes, semi-continuous arcs, swirls, spirals, and combinations of these, . Second, the postcard patterns of these embodiments provide excellent abrasive performance (e.g., cumulative amount of cut) that is unexpectedly at least equal, even if the total area of polishing is less than the latest patterns, do. Third, as will be discussed in greater detail herein, the efficiency and performance of these embodiments are further enhanced when coupled with the combined support pad and vacuum system.

코팅 연마물품의 패턴 설계에서 중요한 측면들은 코팅 연마물품의 연마 총표면적 백분율, 개방영역에 대한 연마 총표면적 비율, 연마물품이 사용될 때 (예를들면, 궤도 샌더에서의 회전 운동, 시트 샌더에서의 왕복 운동, 벨트 샌더에서의 연속 측방 이동) 예측되는 연마영역이 덮고있는 위치 및 범위, 환산계수, 연마영역들 개수, 연마영역들 사이 발산각, 연마영역들 크기 및 형태, 인접 연마영역들 사이 거리, 및 최외곽 연마영역들 및 모서리, 또는 모서리들 사이 거리를 포함한다.Important aspects in the pattern design of coated abrasive articles are the percentage of abrasive total surface area of the coated abrasive article, the ratio of the total abrasive surface area to the open area, when the abrasive article is used (e.g., rotational movement in an orbital sander, Motion and continuous sideways movement in the belt sander) The position and range covered by the predicted abrasive area, the conversion factor, the number of abrasive areas, the divergence angle between the abrasive areas, the size and shape of the abrasive areas, the distance between adjacent abrasive areas, And outermost abrasive regions and edges, or distances between edges.

연마원반 크기Abrasive disc size

전형적으로 직경이 대략 인치의 분수에서 피트에 이르는 산업계 및 상업적 소비자들이 공통으로 사용하는 다양한 크기의 연마제품들이 존재한다. 본 패턴들은 다양한 표준 크기의 연마원반들 (예를들면, 3 인치 내지 20 인치)을 포함한 대부분의 임의 크기의 연마제에 사용하기에 적합하다. 실시태양에서, 연마물품은 원형 디스크이고 직경은 적어도 약 0.25 인치, 적어도 약 0.5 인치, 적어도 약 1.0 인치, 적어도 약 1.5 인치, 적어도 약 2.0 인치, 적어도 약 2.5 인치, 또는 적어도 약 3.0 인치이다. 다른 실시태양에서, 연마물품은 원형 디스크이고 직경은 약 72 인치 이하, 약 60 인치 이하, 약 48 인치 이하, 약 36 인치 이하, 약 24 인치 이하, 약 20 인치 이하, 약 18 인치 이하, 약 12 인치 이하, 약 10 인치 이하, 약 9 인치 이하, 약 8 인치 이하, 약 7 인치 이하, 또는 약 6 인치 이하이다. 다른 실시태양에서, 연마물품의 크기는 직경이 약 0.5 인치 내지 약 48 인치, 약 1.0 인치 내지 약 20 인치, 약 1.5 인치 내지 약 12 인치이다.There are various sizes of abrasive products commonly used by industry and commercial consumers, typically ranging from fractions of a few inches in diameter to feet. These patterns are suitable for use with most any size abrasives, including abrasive discs of various standard sizes (e.g., 3 inches to 20 inches). In an embodiment, the abrasive article is a circular disk and has a diameter of at least about 0.25 inches, at least about 0.5 inches, at least about 1.0 inches, at least about 1.5 inches, at least about 2.0 inches, at least about 2.5 inches, or at least about 3.0 inches. In another embodiment, the abrasive article is a circular disk and has a diameter of about 72 inches or less, about 60 inches or less, about 48 inches or less, about 36 inches or less, about 24 inches or less, about 20 inches or less, about 18 inches or less, about 12 About 10 inches or less, about 9 inches or less, about 8 inches or less, about 7 inches or less, or about 6 inches or less. In another embodiment, the size of the abrasive article is from about 0.5 inches to about 48 inches in diameter, from about 1.0 inches to about 20 inches in diameter, from about 1.5 inches to about 12 inches.

잠재적 총표면적 Potential total surface area

연마물품의 크기 및 형상은 연마물품의 잠재적 총 표면적을 결정한다. 예시로써, 1 인치 직경의 연마원반은 잠재적 총표면적이 0.7854 in2이다. 다른 예시로써, 2 인치 * 3 인치의 직사각형 연마시트의 잠재적 총표면적은 6 in2이다.The size and shape of the abraded article determines the potential total surface area of the abraded article. By way of example, a 1 inch diameter abrasive disc has a potential total surface area of 0.7854 in 2 . As another example, the potential total surface area of a 2 inch * 3 inch rectangular polishing sheet is 6 in 2 .

총 개방 (open) 영역 Total open area

총 개방영역은 스와프 추출량에 영향을 미친다. 전형적으로, 개방영역이 증가하면, 스와프 추출량이 증가하고 이에 따라 사용 과정에서 연마물품의 연삭률 (즉 “절삭”률)이 유지되거나 때로 향상된다. 그러나, 개방영역을 증가시키면 또한 가용 연마영역이 직접 줄어들고, 이는 소정 지점에서 연삭률을 감소시킨다. 실시태양에서, 총 개방영역은 연마물품 정면에서 모든 개방영역의 합이다. 즉, 총 개방영역은 연마물품의 잠재적 총 표면적에서 총 연마영역 (즉, 모든 연마영역들의 합)을 뺀 것과 같다. 따라서, 총 개방영역은 원하는 연마영역 정도에 따라 잠재적 총표면적의 약 15% 내지 약 95.5%이다. 실시태양에서, 총 개방영역은 연마물품의 잠재적 총표면적의 적어도 약 15%, 적어도 약 20%, 적어도 약 25%, 적어도 약 30%, 적어도 약 35%, 적어도 약 40%, 적어도 약 45%, 적어도 약 50%, 적어도 약 55%, 적어도 약 60%, 적어도 약 65%, 적어도 약 70%, 적어도 약 75%, 또는 적어도 약 80%이다. 다른 실시태양에서, 총 개방영역은 약 95.5% 이하, 약 95% 이하, 약 94.5% 이하, 약 94% 이하, 약 93.5% 이하, 약 93% 이하, 약 92.5% 이하, 약 92% 이하, 약 91.5% 이하, 약 91% 이하, 약 90.5% 이하, 또는 약 90% 이하이다. 총 개방영역은 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다. 다른 실시태양에서, 총 개방영역의 범위는 약 65% 내지 약 93%, 약 70% 내지 약 92%, 약 75% 내지 약 91%, 또는 약 80% 내지 약 90%이다. 총 개방영역은 비율이 아닌 개별 수치로 고려될 수 있다. 예를들면, 5 인치 연마원반의 총 개방영역은 약 2.95 in2 내지 약 18.75 in2이다.The total open area affects the amount of swarf extraction. Typically, as the open area increases, the amount of swarf extraction increases and thus the grinding rate (i.e., " cutting ") of the abrasive article during use is maintained or sometimes improved. However, increasing the open area also directly reduces the available grinding area, which reduces the grinding rate at a given point. In an embodiment, the total open area is the sum of all open areas at the front of the abraded article. That is, the total open area is equal to the potential total surface area of the abraded article minus the total abrading area (i. E., The sum of all abrading areas). Thus, the total open area is from about 15% to about 95.5% of the potential total surface area, depending on the desired area of abrasion. In embodiments, the total open area is at least about 15%, at least about 20%, at least about 25%, at least about 30%, at least about 35%, at least about 40%, at least about 45% At least about 50%, at least about 55%, at least about 60%, at least about 65%, at least about 70%, at least about 75%, or at least about 80%. In another embodiment, the total open area comprises no more than about 95.5%, no more than about 95%, no more than about 94.5%, no more than about 94%, no more than about 93.5%, no more than about 93%, no more than about 92.5% , About 91.5%, about 91%, about 90.5%, about 90% or less. The total open area may be in the range consisting of any pair of the upper and lower limits. In another embodiment, the total open area ranges from about 65% to about 93%, from about 70% to about 92%, from about 75% to about 91%, or from about 80% to about 90%. The total open area can be considered as an individual value rather than a ratio. For example, the total open area of the 5 inch polishing disc is about 2.95 in 2 to about 18.75 in 2 .

연마 총 표면적 Abrasive total surface area

연마 총표면적은 제거되는 표면 재료량에 영향을 미친다. 전형적으로, 연마 총표면적이 증가할수록, 제거되는 표면 재료량은 증가한다. 또한 전형적으로, 제거되는 표면 재료량이 늘어나면, 스와프 형성 경향이 증가하고 표면 조도가 증가하는 경향이 있다. 실시태양에서, 코팅 연마제의 연마 총표면적은 연마물품의 잠재적 총표면적 (즉, 개구들 부재에서의 연마 표면적)에서 총 개방영역 (즉, 모든 개방영역들의 합)을 제한 것이다. 따라서, 연마 총표면적은 원하는 개방영역에 따라 잠재적 총표면적의 약 4.5% 내지 약 85%이다. The polishing total surface area affects the amount of surface material removed. Typically, as the polishing total surface area increases, the amount of surface material removed increases. Also, typically, as the amount of surface material removed increases, the tendency to form swarf increases and the surface roughness tends to increase. In an embodiment, the polishing total surface area of the coating abrasive will limit the total open area (i.e., the sum of all open areas) at the potential total surface area of the abrasive article (i.e., the polishing surface area in the apertures). Thus, the polishing total surface area is from about 4.5% to about 85% of the total potential surface area depending on the desired open area.

실시태양에서, 연마 총표면적은 연마물품에 대한 잠재적 총표면적의 적어도 약 4%, 적어도 약 4.5%, 적어도 약 5%, 적어도 약 5.5%, 적어도 약 6%, 적어도 약 7.5%, 적어도 약 8%, 적어도 약 8.5%, 적어도 약 9%, 적어도 약 9.5%, 또는 적어도 약 10%이다. 또 다른 실시태양에서, 연마 총표면적은 약 85% 이하, 약 80% 이하, 약 75% 이하, 약 70% 이하, 약 65% 이하, 약 60% 이하, 약 55% 이하, 약 50% 이하, 약 45% 이하, 약 40% 이하, 약 35% 이하, 약 30% 이하, 약 25% 이하, 또는 약 20% 이하이다. 연마 총표면적은 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다. 또 다른 실시태양에서, 연마 총표면적은 약 7% 내지 약 35%, 약 8% 내지 약 30%, 약 9% 내지 약 25%, 또는 약 10% 내지 약 20%이다. 연마 총표면적은 비율이 아닌 개별 수치로 고려될 수 있다. 예를들면, 5 인치 연마원반의 연마 총표면적은 약 0.88 in2 내지 약 16.69 in2이다.In embodiments, the polishing total surface area is at least about 4%, at least about 4.5%, at least about 5%, at least about 5.5%, at least about 6%, at least about 7.5%, at least about 8% , At least about 8.5%, at least about 9%, at least about 9.5%, or at least about 10%. In yet another embodiment, the polishing total surface area is less than or equal to about 85%, less than or equal to about 80%, less than or equal to about 75%, less than or equal to about 70%, less than or equal to about 65%, less than or equal to about 60%, less than or equal to about 55% About 45% or less, about 40% or less, about 35% or less, about 30% or less, about 25% or less, or about 20% or less. The polishing total surface area may be in the range comprised of any pair of the upper and lower limits. In another embodiment, the total surface area of the abrasive is from about 7% to about 35%, from about 8% to about 30%, from about 9% to about 25%, or from about 10% to about 20%. The total surface area of the abrasive can be considered as an individual number rather than a ratio. For example, the polishing total surface area of a 5 inch polishing disc is about 0.88 in 2 to about 16.69 in 2 .

총 개방영역에 대한 연마 총표면적의 비율 The ratio of the total surface area of the abrasive to the total open area

실시태양에서, 총 개방영역에 대한 연마 총표면적의 비율은 적어도 약 1:199, 적어도 약 1:99, 적어도 약 1:65.7; 적어도 약 1:49, 적어도 약 1:39, 적어도 약 1:29, 적어도 약 1:19, 또는 적어도 약 1: 9이다. 또 다른 실시태양에서, 총 개방영역에 대한 연마 총표면적의 비율은 약 1:0.05 이하, 약 1:0.1 이하, 약 1:0.2 이하, 약 1:0.3 이하, 약 1:0.4 이하, 약 1:0.5 이하, 약 1:0.6 이하, 약 1:0.7 이하, 약 1:0.8 이하, 약 1:0.9 이하, 또는 약 1:1 이하. 총 개방영역에 대한 연마 총표면적의 비율은 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다.In an embodiment, the ratio of the total surface area of polishing to the total open area is at least about 1: 199, at least about 1:99, at least about 1: 65.7; At least about 1:49, at least about 1:39, at least about 1:29, at least about 1:19, or at least about 1: 9. In another embodiment, the ratio of the total polishing surface area to the total open area is less than about 1: 0.05, less than about 1: 0.1, less than about 1: 0.2, less than about 1: 0.3, 0.5 or less, about 1: 0.6 or less, about 1: 0.7 or less, about 1: 0.8 or less, about 1: 0.9 or less, or about 1: The ratio of the total surface area of polishing to the total open area may be in the range consisting of any pair of said upper and lower limits.

연마영역들 개수 Number of polishing areas

연마영역들 개수는 총 개방영역 및 연마 총면적에 영향을 미친다. 또한, 연마영역들 개수는 연마물품 표면에서 연마 범위의 밀도 및 분포에 영향을 미치고, 이는 다시 연마물품의 재료 절삭률 및 스와프 추출 효율에 직접 영향을 미친다. 실시태양에서, 연마영역들 개수는 적어도 약 5, 적어도 약 10, 적어도 약 15; 적어도 약 18, 또는 적어도 약 21이다. 다른 실시태양에서, 연마영역들 개수는 약 100,000 이하; 약 50,000 이하; 약 10,000 이하; 약 1,000 이하; 약 800 이하; 약 750 이하; 약 600 이하; 또는 약 550 이하이다. 연마영역들 개수는 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다. 다른 실시태양에서, 연마영역들 개수는 약 21 내지 약 10,000; 약 25 내지 약 1,000; 약 30 내지 약 750; 또는 약 35 내지 약 550이다. 특정 실시태양에서, 연마영역들 개수는 약 21 내지 약 550이다.The number of polishing regions affects the total open area and the total polishing area. In addition, the number of polishing regions affects the density and distribution of the polishing range at the surface of the polishing article, which again directly affects the material cutting rate and swab extraction efficiency of the polishing article. In an embodiment, the number of polishing regions is at least about 5, at least about 10, at least about 15; At least about 18, or at least about 21. In another embodiment, the number of polishing regions is about 100,000 or less; About 50,000 or less; About 10,000 or less; About 1,000 or less; About 800 or less; About 750 or less; About 600 or less; Or about 550 or less. The number of polishing regions may be in the range consisting of any pair of the upper and lower limits. In another embodiment, the number of polishing regions is from about 21 to about 10,000; From about 25 to about 1,000; From about 30 to about 750; Or from about 35 to about 550. In certain embodiments, the number of polishing regions is from about 21 to about 550.

발산각 Divergence angle

발산각 α 증감은 패턴 내에 연마영역들이 배치되는 형상 및 시계방향 및 반시계방향 나선들의 형상에 영향을 미친다. 발산각은 360° 나누기 상수 또는 변수와 같고, 따라서 발산각은 상수 또는 가변적이다. 발산각을 약간 변경시키면 패턴을 상당히 변경시킬 수 있다는 것을 알았다. 도8a, 도8b, 및 도8c는 발산각 수치만이 다른 엽서 패턴들을 도시한 것이다. 도8a의 발산각은 137.3°이다. 도8b의 발산각은 137.5°이다. 도8c의 발산각은 137.6°이다. 실시태양에서, 발산각은 적어도 약 30°, 적어도 약 45°, 적어도 약 60°; 적어도 약 90°, 또는 적어도 약 120°이다. 다른 실시태양에서, 발산각은 180° 미만, 예컨대 약 150° 이하이다. 발산각은 상기 상한 및 하한의 임의의 쌍으로 이루어진 범위에 있을 수 있다. 다른 실시태양에서, 발산각은 약 90° 내지 약 179°, 약 120° 내지 약 150°, 약 130° 내지 약 140°, 또는 약 135° 내지 약 139°이다. 실시태양에서, 발산각은 360° 나누기 무리수로 결정된다. 특정 실시태양에서, 발산각은 360° 나누기 황금비로 결정된다. 특정 실시태양에서, 발산각은 약 137° 내지 약 138°, 예컨대 약 137.5° 내지 약 137.6°, 예컨대 약 137.50° 내지 약 137.51°이다. 특정 실시태양에서, 발산각은 137.508°이다.The divergence angle a increase / decrease affects the shape in which the polishing regions are arranged in the pattern and the shape of the clockwise and counterclockwise spirals. The divergence angle is equal to the 360 ° division constant or variable, so the divergence angle is constant or variable. We found that changing the divergence angle slightly can change the pattern considerably. Figures 8a, 8b and 8c show different postcard patterns only in divergence angle values. The divergence angle in FIG. 8A is 137.3 DEG. The divergence angle in FIG. 8B is 137.5 DEG. The divergence angle in FIG. 8C is 137.6 degrees. In an embodiment, the divergence angle is at least about 30 degrees, at least about 45 degrees, at least about 60 degrees; At least about 90 degrees, or at least about 120 degrees. In another embodiment, the divergence angle is less than 180 degrees, such as less than about 150 degrees. The divergence angle may be in the range consisting of any pair of the upper and lower limits. In other embodiments, the divergence angle is from about 90 degrees to about 179 degrees, from about 120 degrees to about 150 degrees, from about 130 degrees to about 140 degrees, or from about 135 degrees to about 139 degrees. In an embodiment, the divergence angle is determined by a 360 degree division number. In a particular embodiment, the divergence angle is determined by a 360 deg. Golden ratio. In certain embodiments, the divergence angle is from about 137 degrees to about 138 degrees, such as from about 137.5 degrees to about 137.6 degrees, such as from about 137.50 degrees to about 137.5 degrees. In certain embodiments, the divergence angle is 137.508 degrees.

연마제 모서리까지의 거리Distance to edge of abrasive

연마물품 구조 및 용법에 따라, 패턴 전체 치수가 결정된다. 패턴 중심에서 최외곽 연마영역들까지의 거리는 연마물품 모서리와 접하는 거리까지 연장된다. 따라서, 최외곽 연마영역들의 모서리들은 연마물품 모서리까지 연장되거나 교차한다. 대안으로, 패턴 중심에서 최외곽 연마영역들까지의 거리는 최외곽 연마영역들의 모서리들 및 연마물품 모서리 사이의 소정의 공간에 연마영역들이 부재하도록 연장될 수 있다. 최외곽 연마영역들의 모서리들로부터의 최소 거리는 원한다면 특정된다. 실시태양에서, 최외곽 연마영역들의 모서리들로부터 연마물품의 외부 모서리까지의 최소 거리는 특정 (specific) 거리이고, 개별 길이 또는 패턴이 나타나는 연마물품 정면 거리의 비율로 나타난다. 실시태양에서, 최외곽 연마영역들의 모서리들에서 연마물품의 외부 모서리까지의 최소 거리는 적어도 약 0 (즉, 최외곽 연마영역들 모서리는 연마물품 모서리와 교차하거나 접한다) 내지 연마물품 정면 길이의 약 15%이다. Depending on the structure and use of the abrasive article, the overall pattern dimension is determined. The distance from the pattern center to the outermost polishing regions extends to a distance in contact with the edge of the polishing article. Thus, the edges of the outermost abrasive regions extend or cross to the edge of the abrasive article. Alternatively, the distance from the pattern center to the outermost abrasive regions may be extended such that there are no abrasive regions in a predetermined space between the edges of the outermost abrasive regions and the edge of the abrasive article. The minimum distance from the edges of the outermost polishing regions is specified if desired. In an embodiment, the minimum distance from the edges of the outermost polishing regions to the outer edge of the abrasive article is a specific distance and is expressed as a ratio of the individual article length or the abrasive article front distance at which the pattern appears. In embodiments, the minimum distance from the corners of the outermost polishing regions to the outer edge of the polishing article is at least about zero (i.e., the edges of the outermost polishing regions intersect or abut the corners of the polishing article) to about 15 %to be.

연마영역들 크기Size of polishing areas

연마영역들 크기는, 적어도 부분적으로, 연마물품에 대해 원하는 연마 총표면적에 의해 결정된다. 연마영역들 크기는 패턴에 걸쳐 일정하거나 패턴 내에서 가변적이다. 실시태양에서, 연마영역들 크기는 일정하다. 다른 실시태양에서, 연마영역들 크기는 패턴 중심으로부터 연마영역들 거리에 따라 가변된다.The size of the abrasive areas is determined, at least in part, by the desired abrasive total surface area for the abrasive article. The size of the polishing regions is constant across the pattern or variable within the pattern. In an embodiment, the size of the polishing regions is constant. In another embodiment, the size of the polishing regions varies with the distance of the polishing regions from the pattern center.

환산계수 Conversion factor

환산계수는 패턴의 전체 크기 및 치수에 영향을 미친다. 환산계수는 최외곽 연마영역들의 모서리들이 연마물품 외부 모서리의 원하는 거리 내에 있도록 조정된다.The conversion factor affects the overall size and dimensions of the pattern. The conversion factor is adjusted so that the edges of the outermost abrasive areas are within a desired distance of the outer edge of the abrasive article.

최근접 연마영역들 사이 거리Distance between nearest abrasive areas

연마영역들 개수 및 크기를 고려하여, 최근접 연마영역들 중심들 사이 거리가 결정된다. 임의의 두 연마영역들 중심들 간의 거리는 다른 설계 고려 사상들의 함수이다. 실시태양에서, 임의의 두 연마영역들 중심들 간의 최단 거리는 반복적이지 않다 (즉, 중심-대-중심 간격은 동일한 거리가 아니다). 이러한 유형의 간격은 또한 조절된 비대칭성의 예시이다. Considering the number and size of the polishing regions, the distance between the centers of the nearest polishing regions is determined. The distance between centers of any two polishing regions is a function of other design considerations. In an embodiment, the shortest distance between any two centers of abrasion is not repetitive (i.e., the center-to-center spacing is not the same distance). This type of spacing is also an example of regulated asymmetry.

패턴 범위 - 허용 가능한 이상도 (Anomalies) Pattern range - acceptable anomalies

패턴은 전체가 또는 연속적으로 연마물품에 적용될 필요는 없다는 것은 명백하다. 패턴 일부가 적용되거나 생략되어 연마물품 정면에서 다양한 분할구역들 또는 구간들은 완전한 개구 패턴을 가지지 않을 수 있다. 실시태양에서, 패턴의 절반, 1/3, 1/4, 1/5, 1/6, 1/7, 1/8, 1/9, 1/10은 생략될 수 있다. 다른 실시태양에서, 패턴은 연마물품의 하나 이상의 동심 환형 구역들에만 적용될 수 있다. 다른 실시태양에서, 패턴의 개별 원호들 또는 나선 아암들을 따라 통상 나타나는 일련의 연마영역들 중 하나 이상의 연마영역들이 생략될 수 있다. 실시태양에서, 모든 n번째, 또는 모든 n번째 다수가 생략될 수 있다. 다른 실시태양에서, 특정 수열에 따른 개별 연마영역들, 연마영역들의 군, 또는 연마영역들이 생략될 수 있다. 역으로, 소정의 추가 연마영역들이 패턴에 포함될 수 있다. 연마영역들의 추가 또는 제거는 패턴에 대한 이상도로 간주되고, 패턴에 대한, 플러스 또는 마이너스의 소정의 이상도는 허용 가능하다. 실시태양에서, 허용 가능한 패턴 이상도는 연마물품에 대한 연마 총 면적의0.1% 내지 10%이다. It is clear that the pattern need not be applied to the abrasive article in whole or in succession. Some of the patterns may be applied or omitted so that the various subdivisions or sections in the front of the abraded article may not have a complete opening pattern. In an embodiment, half, 1/3, 1/4, 1/5, 1/6, 1/7, 1/8, 1/9, 1/10 of the pattern may be omitted. In another embodiment, the pattern may be applied only to one or more concentric annular zones of the abrasive article. In other embodiments, one or more of the series of abrasive regions, which typically appear along the individual arcs or spiral arms of the pattern, may be omitted. In an embodiment, all nth, or all nth, multiple may be omitted. In other embodiments, individual polishing regions, groups of polishing regions, or polishing regions according to a particular sequence may be omitted. Conversely, certain additional polishing areas may be included in the pattern. The addition or removal of polishing regions is regarded as an anomaly for the pattern, and a predetermined anomaly of the pattern, plus or minus, is acceptable. In an embodiment, the allowable pattern anomaly is 0.1% to 10% of the total polishing area for the abraded article.

연마영역들 형상Shape of polishing areas

범위는 연마영역들 형상에 의해 영향을 받는다. 연마영역들 형상은 규칙적이거나 불규칙할 수 있다. 실시태양에서, 연마영역들 형상은 단선들, 규칙 다각형들, 불규칙 다각형들, 타원형들, 원형들, 원호들, 나선들, 소용돌이들, 격자들, 또는 이들의 조합일 수 있다. 특정 실시태양에서, 연마영역들의 형상은 원형이다. 다른 실시태양에서, 연마영역 형상은 본원에 기재된 조절된 불균일 분포를 가지는 하나 이상의 선, 원호, 나선, 또는 소용돌이 형태일 수 있다. 하나 이상의 선, 원호, 나선 또는 소용돌이는 다중 선이 교차될 수 있다. The range is affected by the shape of the polishing regions. The shape of the abrasive regions may be regular or irregular. In an embodiment, the shape of the abrasive regions may be discrete lines, regular polygons, irregular polygons, ellipses, circles, arcs, spirals, vortices, gratings, or a combination thereof. In certain embodiments, the shape of the polishing regions is circular. In other embodiments, the abrasive region shape may be in the form of one or more lines, arcs, spirals, or vortices having the controlled non-uniform distribution described herein. One or more lines, arcs, spirals, or vortices may intersect multiple lines.

연마영역은 연마물품 지지체 (back)에 진공 부여와 무관하게 충분한 스와프 제거가 가능하도록 구성된다. 실시태양에서, 연마영역은 연마물품 중심에서 외향으로 방사 방향으로 연장되는 나선 또는 사열선 형태이다. 나선 또는 사열선은 연마영역들 사이에서 개방영역의 공기 유동 채널을 생성하도록 구성된다. 또 다른 실시태양에서, 연마영역들은 나선 격자와 유사하게 형성된다. 격자에 의해 둘러싸인 개방영역 내에서 개구들이 배치된다. 연마물품 외부 모서리와 유체적으로 연결되거나, 또는 진공원에 개방되는 연마물품 내의 개구들과 유체적으로 연결되는, 또는 양자인 개방영역의 존재로 스와프 제거가 촉진된다고 판단된다. 공기 유로를 생성하는 구성되는 이러한 연마영역 및 개방영역은 스와프를 안내하여 연마영역으로부터 원심력으로 또는 직접 진공시스템 구멍으로 토출시켜, 연마물품 정면의 연마영역 및 연마물품 배면에 부착될 수 있는 임의의 개방 섬유층, 예컨대 후크 및 로프 재료층에 스와프 동반을 방지한다. The polishing area is configured to allow sufficient swab removal regardless of the application of vacuum to the abrasive article back. In an embodiment, the abrasive region is in the form of a spiral or quadrilateral extending radially outwardly from the center of the abrasive article. The helical or quadrature lines are configured to create an open flow air flow channel between the polishing regions. In another embodiment, the polishing regions are formed similar to a helical grating. Openings are arranged in an open area surrounded by a grating. It is determined that swarf removal is facilitated by the presence of an open area in fluid communication with the outer edge of the abrasive article, or in fluid communication with the apertures in the abrasive article that is open to the vacuum source, or both. Such an abrasive area and an open area constituted to create an air flow path guide the swab and discharge it from the abrasive area by centrifugal force or directly into the vacuum system hole so that the abrasive area in front of the abrasive article and any open Thereby preventing the swelling of the fibrous layer, for example, the hook and the rope material layer.

실시태양에서, 연마영역 패턴은 규칙 다각형들, 불규칙 다각형들, 타원형들, 원호들, 나선들, 엽서 패턴들, 또는 이들의 조합으로 구성된다. 연마영역들 패턴은 방사상 원호들, 방사상 나선들, 또는 이들의 조합으로 구성된다. 연마영역들 패턴은 시계방향 방사상 나선들 및 반시계방향 방사상 나선들의 조합으로 구성된다. 연마영역들은 서로 개별적이거나, 불연속적이다. 대안으로, 하나 이상의 연마영역들은 유체적으로 연결된다.In an embodiment, the abrasive area pattern is comprised of regular polygons, irregular polygons, ellipses, arcs, spirals, postcard patterns, or a combination thereof. The pattern of abrasive areas consists of radial arcs, radial spirals, or a combination thereof. The pattern of polishing areas consists of a combination of clockwise radial spirals and counterclockwise radial spirals. The abrasive regions are either separate or discontinuous. Alternatively, the at least one polishing region is fluidly coupled.

방사상 원호들, 방사상 나선들, 또는 이들의 조합의 개수는 가변적이다. 실시태양에서, 방사상 원호들, 방사상 나선들, 또는 이들의 조합의 개수는 1000 이하, 예컨대 750 이하, 500 이하, 250 이하, 100 이하, 90 이하, 80 이하, 또는 75 이하이다. 실시태양에서, 방사상 원호들, 방사상 나선들, 또는 이들의 조합의 개수는 2 이상, 예컨대 3 이상, 5 이상, 7 이상, 9 이상, 11 이상, 15 이상, 또는 20 이상이다. 실시태양에서, 방사상 원호들, 방사상 나선들, 또는 이들의 조합의 개수는 2 내지 500, 예컨대 2 내지 100이다.The number of radial arcs, radial spirals, or combinations thereof is variable. In embodiments, the number of radial arcs, radial spirals, or combinations thereof is no greater than 1000, such as no greater than 750, no greater than 500, no greater than 250, no greater than 100, no greater than 90, no greater than 80, In embodiments, the number of radial arcs, radial spirals, or combinations thereof is at least 2, such as at least 3, at least 5, at least 7, at least 9, at least 11, at least 15, In an embodiment, the number of radial arcs, radial spirals, or combinations thereof is 2 to 500, such as 2 to 100.

연마영역들의 폭은 가변된다. 연마영역들 폭은 일정하거나 가변 되거나 또는 이들의 조합이다. 실시태양에서, 연마영역들 폭은 고정 길이들의 범위에 있다. 실시태양에서, 연마영역들 폭은 0.1 mm 내지 10 cm이다. 다른 실시태양에서, 연마영역들 폭은 연마물품의 인접 개방영역의 원하는 크기와 연관된다. 실시태양에서, 연마영역들 폭은 연마물품의 개방영역의 크기의1/10 이상, 예컨대 코팅 연마품 개방영역 크기의 1/8, 1/6, 1/5, 1/4, 1/3, 또는 1/2 이상이다. 실시태양에서, 연마영역들 폭은 코팅 연마품 개방영역 크기의 10 배 이하, 예컨대 코팅 연마품 개방영역 크기의 8 배 이하, 6 배 이하, 5 배 이하, 4 배 이하, 3 배 이하, 2 배 이하이다. 실시태양에서, 연마영역들 폭은 코팅 연마품 개방영역 크기와 거의 같다.The width of the polishing regions is variable. The widths of the polishing regions are constant or variable, or a combination thereof. In an embodiment, the widths of the polishing regions are in the range of fixed lengths. In an embodiment, the widths of the polishing regions are from 0.1 mm to 10 cm. In another embodiment, the widths of the abrasive regions are associated with the desired size of the adjacent open region of the abrasive article. In embodiments, the widths of the abrasive regions may be at least one tenth of the size of the open area of the abrasive article, e.g., 1/8, 1/6, 1/5, 1/4, 1/3, Or more than 1/2. In embodiments, the widths of the abrasive regions may be less than 10 times the size of the coated abrasive article open area, e.g., less than 8 times, 6 times, 5 times, 4 times, 3 times, 2 times Or less. In an embodiment, the widths of the polishing regions are approximately equal to the size of the coating abrasive article open area.

다른 실시태양에서, 연마영역들은 패턴으로 배치되는 다수의 공기 유로들을 생성하도록 형성되고 구성된다. 공기 유로들 패턴은 규칙 다각형들, 불규칙 다각형들, 타원형들, 원호들, 나선들, 엽서 패턴들, 또는 이들의 조합을 포함한다. 공기 유로들 패턴은 방사상 만곡 경로들, 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합으로 구성된다. 공기 유로들 패턴은 내부 방사상 나선 경로들 및 외부 방사상 나선 경로들의 조합으로 구성된다. 공기 유로들 패턴은 시계방향 방사상 나선 경로들 및 반시계방향 방사상 나선 경로들의 조합으로 구성된다. 공기 유로들은 서로 개별적이거나, 불연속적이다. 대안으로, 하나 이상의 공기 유로들은 유체적으로 연결된다. In another embodiment, the polishing regions are configured and configured to produce a plurality of air flow paths disposed in a pattern. The air flow patterns include regular polygons, irregular polygons, ellipses, arcs, spirals, postcard patterns, or combinations thereof. The air flow paths pattern is comprised of radial curved paths, radial spiral paths, or a combination thereof. The air flow paths pattern consists of a combination of internal radial spiral paths and external radial spiral paths. The air flow patterns consist of a combination of clockwise radial spiral paths and counterclockwise radial spiral paths. The air channels are either separate or discontinuous. Alternatively, the one or more air channels are fluidly connected.

방사상 만곡 경로들 (“원호들”), 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합의 개수는 가변적이다. 실시태양에서, 방사상 만곡 경로들, 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합의 개수는 1000 이하, 예컨대 750 이하, 500 이하, 250 이하, 100 이하, 90 이하, 80 이하, 또는 75 이하이다. 실시태양에서, 방사상 만곡 경로들, 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합의 개수는 2 이상, 예컨대 3 이상, 5 이상, 7 이상, 9 이상, 11 이상, 15 이상, 또는 20 이상이다. 실시태양에서, 방사상 만곡 경로들, 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합의 개수는 2 내지 500, 예컨대 2 내지 100이다.The number of radial curved paths (" arcs "), radial spiral paths, or combinations thereof is variable. In embodiments, the number of radial curved paths, radial helical paths, or combinations thereof is no greater than 1000, such as up to 750, up to 500, up to 250, up to 100, up to 90, up to 80, In embodiments, the number of radial curved paths, radial helical paths, or combinations thereof is at least 2, such as at least 3, at least 5, at least 7, at least 9, at least 11, at least 15, In an embodiment, the number of radial curved paths, radial helical paths, or combinations thereof is 2 to 500, such as 2 to 100.

공기 유로들의 폭은 가변된다. 공기 유로들 폭은 일정하거나 가변 되거나 또는 이들의 조합이다. 실시태양에서, 공기 유로들 폭은 고정 길이들의 범위에 있다. 실시태양에서, 공기 유로들 폭은 0.1 mm 내지 10 cm이다. 다른 실시태양에서, 공기 유로들 폭은 코팅 연마제의 연마면적들 크기와 연관된다. 실시태양에서, 공기 유로들 폭은 코팅 연마제의 연마면적들 크기의1/10 이상, 예컨대 코팅 연마제의 연마면적들 크기의 1/8, 1/6, 1/5, 1/4, 1/3, 또는 1/2 이상이다. 실시태양에서, 공기 유로들 폭은 코팅 연마제의 연마면적들 크기의 10 배 이하, 예컨대 코팅 연마제의 연마면적들 크기의 8 배 이하, 6 배 이하, 5 배 이하, 4 배 이하, 3 배 이하, 2 배 이하이다. 실시태양에서, 공기 유로들 폭은 코팅 연마제의 연마면적들 크기와 거의 같다. The widths of the air channels are variable. The widths of the air flow paths are constant or variable, or a combination thereof. In an embodiment, the widths of the air channels are in the range of fixed lengths. In an embodiment, the width of the air channels is from 0.1 mm to 10 cm. In another embodiment, the width of the air channels is related to the size of the polishing areas of the coating abrasive. In embodiments, the width of the air channels is at least 1/10 of the size of the polishing areas of the coating abrasive, such as 1/8, 1/6, 1/5, 1/4, 1/3 , Or more than 1/2. In embodiments, the width of the air channels may be less than 10 times the size of the abrasive areas of the coating abrasive, such as less than 8 times, 6 times, 5 times, 4 times, 3 times, 2 times or less. In an embodiment, the width of the air flow paths is approximately equal to the size of the abrasive areas of the coating abrasive.

공기 유로들은 연마물품 몸체를 관통하여 연장되는 공기 유로들을 따라 또는 내부에 배치되는 하나 이상의 공동들, 오리피스들, 경로들, 구멍들, 개구들, 또는 이들의 조합을 가진다. 실시태양에서, 각각의 공기 유로는 연마물품 몸체를 관통하여 연장되는 적어도 하나의 구멍이 공기 유로 내부에 배치된다. The air flow paths have one or more cavities, orifices, paths, holes, openings, or combinations thereof disposed along or within the air flow paths extending through the abrasive article body. In an embodiment, each air passage is disposed within the air passage with at least one hole extending through the polishing article body.

연마물품 형상 및 구조Abrasive article shape and structure

연마물품은 원하는 연마영역 패턴을 수용하고 연마 공정 및 구성 소재에 적합한 임의의 형상일 수 있다. 실시태양에서, 연마물품은 결합 연마물품이다. 다른 실시태양에서, 연마물품은 코팅 연마물품이다. 특정 실시태양에서, 연마물품은 시트, 벨트 또는 원반 중 하나이다. The abrasive article may be of any shape that accommodates the desired abrasive area pattern and is suitable for the polishing process and constituent material. In an embodiment, the abrasive article is a bonded abrasive article. In another embodiment, the abraded article is a coated abraded article. In certain embodiments, the abrasive article is one of a sheet, a belt, or a disc.

도 1은 다수의 연마영역들 (101)이 불균일 분포의 패턴으로 배열되는 코팅 연마물품 (100)의 평면도를 도시한 것이고, 패턴은 보겔 모델 (통상 '해바라기' 패턴이라 칭함)과 일치하는 엽서 나선 패턴이다. 개방영역들 (103)은 연마영역들을 둘러싼다. 코팅 연마제는 실질적으로 평면 (즉, 대체로 평탄) 원반 형상이다. 1 shows a top view of a coated abrasive article 100 in which a plurality of abrasive areas 101 are arranged in a pattern of non-uniform distribution, the pattern being a postcard spiral coincident with a Vogel model (commonly referred to as a 'sunflower' pattern) Pattern. The open areas 103 surround the abrasive areas. The coating abrasive is substantially planar (i.e., substantially flat) disc-shaped.

도 21은 코팅 연마물품 (2100)의 측면도이고, 제1 주 표면 (2103) 및 제2 주 표면 (2105)을 가지는 지지체 (2101)를 포함한다. 연마층 (2107)은 지지체 제1 주 표면에 적층된다. 연마층은 다중 층들로 구성되며, 메이크 코트라고도 칭하는 바인더 층 (2109)을 포함한다. 다수의 연마입자들 (2111)이 바인더 층 내부에 분산, 관통 또는 정치되거나, 또는 이들의 조합으로 형성된다. 연마영역들 (2113) 패턴이 지지체 표면에 존재한다. 하나 이상의 개방영역들 (2115)이 연마영역들에 인접한다. 사이즈 코트 (2117)는 선택적으로 바인더 층에 적층된다. 슈퍼사이즈 코트 (2119)는 선택적으로 사이즈 코트에 적층된다. 백 코트 (2121)는 지지체 층의 제2 주 표면 (즉, 비-연마 측)에 적층된다. 파스너 층 (2123)은 백 코트에 적층되거나, 대안으로 지지체의 제2 주 표면에 직접 적층된다. 특정 실시태양에서, 코팅 연마물품 (2100)은 선택적으로 지지패드 (미도시) 또는 진공시스템 (미도시)에 부착된다. 21 is a side view of the coated abrasive article 2100 and includes a support 2101 having a first major surface 2103 and a second major surface 2105. The polishing layer 2107 is laminated on the first main surface of the support. The abrasive layer is comprised of multiple layers and includes a binder layer 2109, also referred to as a make coat. A plurality of abrasive grains 2111 are dispersed, penetrated, or settled within the binder layer, or a combination thereof. A pattern of polishing areas 2113 is present on the surface of the support. One or more open regions 2115 are adjacent to the polishing regions. The size coat 2117 is selectively laminated on the binder layer. The super-size coat 2119 is optionally stacked on a size coat. The back coat 2121 is laminated to the second main surface (i.e., non-polishing side) of the support layer. The fastener layer 2123 is laminated to the backcoat or, alternatively, is directly laminated to the second major surface of the support. In certain embodiments, the coated abrasive article 2100 is optionally attached to a support pad (not shown) or a vacuum system (not shown).

지지체 (Backing) Backing

지지체는 유연하거나 경질일 수 있다. 지지체는 코팅 연마제에 통상 사용되는 지지체를 포함한 다양한 소재들로 제조된다. 예시적 유연성 지지체는 중합체 필름 (예를들면, 프라임 처리 필름), 예컨대 폴리올레핀 필름 (예를들면, 이축 배향 폴리프로필렌을 포함한 폴리프로필렌), 폴리에스테르 필름 (예를들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트), 폴리아미드 필름, 또는 셀룰로오스 에스테르 필름; 금속박; 메쉬; 발포체 (예를들면, 천연 스폰지 재료 또는 폴리우레탄 발포); 천 (예를들면, 폴리에스테르, 나일론, 실크, 면, 폴리코튼 또는 레이온을 포함한 섬유 또는 방적사로 제조된 천); 종이; 경화 종이; 가황 고무; 경화 섬유; 부직 재료; 이들의 조합; 또는 이들을 처리한 것을 포함한다. 천 지지체는 편직 또는 스티치 접착될 수 있다. 특정 예시로써, 지지체는 종이, 중합체 필름, 천, 면, 폴리코튼, 레이온, 폴리에스테르, 폴리-나일론, 가황고무, 경화섬유, 금속박 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된다. 다른 예시로써, 지지체는 폴리프로필렌 필름 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (PET) 필름을 포함한다. The support may be flexible or rigid. The support is made of a variety of materials including a support commonly used in coating abrasives. Exemplary flexible supports include, but are not limited to, polymer films (e.g. prime treated films) such as polyolefin films (e.g., polypropylene including biaxially oriented polypropylene), polyester films (e.g., polyethylene terephthalate) Film, or cellulose ester film; Metal foil; Mesh; Foams (e. G., Natural sponge materials or polyurethane foams); Fabrics (for example, fabrics made of polyester, nylon, silk, cotton, poly-cotton or rayon, or yarns made of yarn); paper; Hardened paper; Vulcanized rubber; Cured fiber; Nonwoven materials; Combinations thereof; Or treating them. The fabric support may be knitted or stitched. As a specific example, the support is selected from the group consisting of paper, polymer film, cloth, cotton, polycotton, rayon, polyester, poly-nylon, vulcanized rubber, cured fiber, metal foil and combinations thereof. As another example, the support comprises a polypropylene film or a polyethylene terephthalate (PET) film.

지지체는 선택적으로 포화제 (saturant), 프리사이즈 (presize) 층 또는 백사이즈 (backsize) 층 중 적어도 하나를 가진다. 이들 층의 목적은 전형적으로 지지체를 밀폐하거나 지지체의 실 (yarn) 또는 섬유들을 보호하는 것이다. 지지체가 천 소재이면, 전형적으로 이들 층 중 적어도 하나가 사용된다. 프리사이즈 층 또는 백사이즈 층을 부가하면 또한 지지체 정면 또는 배면에서 더욱 "평활한" 표면을 얻을 수 있다. 본 분야에서 알려진 다른 선택적 층들 역시 사용될 수 있다 (예를들면, 타이 (tie) 층; 미국특허번호 5,700,302 (Stoetzel 등) 참고, 본원에 참고문헌으로 통합). The support optionally has at least one of a saturant, a presize layer or a backsize layer. The purpose of these layers is typically to seal the support or to protect the yarn or fibers of the support. If the support is a fabric material, typically at least one of these layers is used. Adding a free-sized layer or a back-sized layer can also provide a more "smooth" surface at the front or back of the support. Other optional layers known in the art may also be used (e.g., a tie layer; see U.S. Patent No. 5,700,302 (Stoetzel et al.), Incorporated herein by reference).

대전방지제가 천 처리 소재에 포함될 수 있다. 대전방지제를 부가하면 코팅 연마물품은 목재 또는 목재-유사 소재 연삭 시 정전기 축전 경향을 낮출 수 있다. 대전방지 지지체 및 지지체 처리와 관련된 추가적인 상세 사항들은, 예를들면, 본원에 참고문헌들로 통합되는 미국특허번호 5,108,463 (Buchanan 등); 5,137,542 (Buchanan 등); 5,328,716 (Buchanan); 및 5,560,753 (Buchanan 등)에 개시된다. An antistatic agent may be included in the cloth material. With the addition of antistatic agents, the coated abrasive article can lower the electrostatic storage tendency when grinding wood or wood-like materials. Additional details relating to antistatic support and support treatments may be found, for example, in U.S. Patent No. 5,108,463 (Buchanan et al.), Which is incorporated herein by reference; 5,137,542 (Buchanan et al.); No. 5,328,716 (Buchanan); And 5,560,753 (Buchanan et al.).

지지체는 예를들면, 본원에 참고문헌으로 통합되는 미국특허번호 5,417,726 (Stout 등)에 기재된 섬유강화플라스틱, 또는 예를들면, 미국특허번호 5,573,619 (Benedict 등)에 기재된 무첨첩 무한 벨트이다. 유사하게, 지지체는 예를들면, 본원에 참고문헌으로 통합되는 미국특허번호 5,505,747 (Chesley 등)에 기재된 돌출 후크대 (hooking stem)를 가지는 중합 기재이다. 유사하게, 지지체는 예를들면, 본원에 참고문헌으로 통합되는 미국특허번호 5,565,011 (Follett 등)에 기재된 루프 직물이다. The support is, for example, a fiber reinforced plastic as described in U.S. Patent No. 5,417,726 (Stout et al.), Which is incorporated herein by reference, or a non-spindle infinite belt as described, for example, in U.S. Patent No. 5,573,619 (Benedict et al. Similarly, the support is a polymeric substrate having a hooking stem as described, for example, in U.S. Patent No. 5,505,747 (Chesley et al.), Which is incorporated herein by reference. Similarly, the support is, for example, a loop fabric as described in U.S. Patent No. 5,565,011 (Follett et al.), Which is incorporated herein by reference.

연마층Abrasive layer

연마층은 하나 이상의 코트들 및 다수의 연마입자들로 형성된다. 예를들면, 연마층은 메이크 코트를 포함하고 선택적으로 사이즈 코트 또는 슈퍼사이즈 코트를 포함한다. 연마층들은 포괄적으로 바인더 내부 또는 바인더에 적층, 매몰, 분산 또는 이들의 조합적으로 형성되는 연마입자들을 포함한다. The abrasive layer is formed of one or more coats and a plurality of abrasive particles. For example, the abrasive layer comprises a make coat and optionally a size coat or a super-size coat. The abrasive layers generally comprise abrasive particles that are laminated, buried, dispersed, or formed in combination in the binder or in the binder.

연마입자들Abrasive particles

연마입자들은 실질적으로 단일상 무기 재료들, 예컨대 알루미나, 탄화규소, 실리카, 세리아, 및 더욱 단단한, 고성능 초연마입자들 예컨대 입방정 질화붕소 및 다이아몬드를 포함한다. 또한, 연마입자들은 복합체 미립자를 포함할 수 있다. 이러한 재료는 응집체들을 포함하고, 이들은 액상 캐리어를 휘발 또는 증발시켜 제거하여 미처리 (green) 응집체들을 잔류시키고 선택적으로 연속하여 고온 처리 (즉, 소성)하여 불안정한 소성 응집체들을 형성하는 슬러리 처리 공정을 통하여 형성된다. 또한, 연마제는 매크로조직 및 특정 3차원 조직을 포함하는 공학적 연마제를 포함한다.The abrasive particles include substantially single-phase inorganic materials such as alumina, silicon carbide, silica, ceria, and harder, high performance superabrasive particles such as cubic boron nitride and diamond. The abrasive particles may also comprise composite particulates. These materials include agglomerates which are formed by slurry treatment processes which volatilize or evaporate to remove the liquid carrier to leave green agglomerates and optionally subsequent high temperature treatment (i.e., firing) to form unstable fired agglomerates do. Further, the abrasive includes an engineering abrasive including macro-structure and specific three-dimensional structure.

예시적 실시태양에서, 연마입자들은 바인더 배합물과 혼합되어 연마제 슬러리를 형성한다. 대안으로, 바인더 배합물이 지지체에 도포된 후 바인더 배합물에 연마입자들이 적용된다. 선택적으로, 기능성 분말이 연마영역들에 적용되어 연마영역들이 패턴화 도구에 점착되지 않도록 한다. 대안으로, 패턴들은 기능성 분말 부재에서 연마영역들에 형성된다.In an exemplary embodiment, the abrasive particles are mixed with the binder formulation to form an abrasive slurry. Alternatively, abrasive particles are applied to the binder formulation after the binder formulation is applied to the support. Optionally, a functional powder is applied to the polishing regions such that the polishing regions do not adhere to the patterning tool. Alternatively, the patterns are formed in the polishing regions in the functional powder member.

연마입자들은 실리카, 알루미나 (용융 또는 소결), 지르코니아, 지르코니아/알루미나 산화물, 탄화규소, 석류석, 다이아몬드, 입방정 질화붕소, 질화규소, 세리아, 이산화티탄, 이붕화티탄, 탄화붕소, 산화주석, 탄화텅스텐, 탄화티탄, 산화철, 크로미아, 플린트, 에머리를 포함한 임의의 연마입자들 하나 또는 이의 조합으로 형성된다. 예를들면, 연마입자들은 실리카, 알루미나, 지르코니아, 탄화규소, 질화규소, 질화붕소, 석류석, 다이아몬드, 공융 알루미나 지르코니아, 세리아, 이붕화티탄, 탄화붕소, 플린트, 에머리, 질화알루미나, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다. 주로 알파-알루미나로 구성되는 조밀한 연마입자들을 이용한 특정 실시태양들이 설명된다. The abrasive particles may be selected from the group consisting of silica, alumina (fused or sintered), zirconia, zirconia / alumina oxide, silicon carbide, garnet, diamond, cubic boron nitride, silicon nitride, ceria, titanium dioxide, titanium diboride, boron carbide, tin oxide, Titanium oxide, iron carbide, iron oxide, chromia, flint, and emery, or a combination thereof. For example, the abrasive particles may be formed of a material selected from the group consisting of silica, alumina, zirconia, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, garnet, diamond, eutectic alumina zirconia, ceria, titanium diboride, boron carbide, flint, emery, . Certain embodiments using dense abrasive particles consisting predominantly of alpha-alumina are described.

연마제 입자는 또한 특정 형상을 가진다. 이러한 형상의 예시로는 막대형, 삼각형, 피라미드, 원추형, 중실 구형, 중공 구체 또는 기타 등을 포함한다. 대안으로, 연마제 입자는 무작위 형상을 가질 수 있다.The abrasive particles also have a specific shape. Examples of such shapes include rod-shaped, triangular, pyramidal, conical, solid spherical, hollow spherical, or the like. Alternatively, the abrasive particles may have a random shape.

실시태양에서, 연마입자들의 평균 입도는 800 미크론 이하, 예컨대 약 700 미크론 이하, 500 미크론 이하, 200 미크론 이하, 또는 100 미크론 이하이다. 다른 실시태양에서, 연마제 입도는 적어도 0.1 미크론, 적어도 0.25 미크론, 또는 적어도 0.5 미크론이다. 다른 실시태양에서, 연마입자들의 크기는 약 0.1 미크론 내지 약 200 미크론 및 더욱 전형적으로는 약 0.1 미크론 내지 약 150 미크론 또는 약 1 미크론 내지 약 100 미크론이다. 연마입자들의 입도는 전형적으로 연마제 입자의 최장 치수로 특정된다. 일반적으로, 입도 분포의 범위가 존재한다. 일부 실시예들에서, 입도 분포는 엄밀하게 조절된다.In embodiments, the average particle size of the abrasive particles is less than 800 microns, such as less than about 700 microns, less than 500 microns, less than 200 microns, or less than 100 microns. In another embodiment, the abrasive particle size is at least 0.1 micron, at least 0.25 micron, or at least 0.5 micron. In another embodiment, the size of the abrasive particles is from about 0.1 micron to about 200 microns, and more typically from about 0.1 micron to about 150 microns or from about 1 micron to about 100 microns. The particle size of the abrasive particles is typically specified as the longest dimension of the abrasive particles. Generally, there is a range of particle size distribution. In some embodiments, the particle size distribution is tightly regulated.

메이크 코트 - 바인더 Make coat - binder

메이크 코트 또는 사이즈 코트의 바인더는 단일 중합체 또는 중합체 혼합물로 형성된다. 예를들면, 바인더는 에폭시, 아크릴 중합체, 또는 이들의 조합으로 형성된다. 추가로, 바인더는 충전제, 예컨대 나노-크기의 충전제 또는 나노-크기의 충전제 및 미크론-크기의 충전제의 조합을 포함한다. 특정 실시태양에서, 바인더는 콜로이드 바인더이고, 경화되어 바인더를 형성하는 배합물은 콜로이드 현탁액으로 미립자 충전제를 포함한다. 대안으로, 또는 추가로, 바인더는 나노복합체 바인더이고 1 미크론 이하의 미립자 충전제를 포함한다. The binder of the make coat or the size coat is formed of a homopolymer or a mixture of polymers. For example, the binder is formed of an epoxy, an acrylic polymer, or a combination thereof. Additionally, the binder includes a filler, such as a combination of a nano-sized filler or a nano-sized filler and a micron-sized filler. In certain embodiments, the binder is a colloidal binder and the formulation that is cured to form the binder comprises a particulate filler as a colloidal suspension. Alternatively, or in addition, the binder is a nanocomposite binder and comprises a particulate filler of 1 micron or less.

바인더는 일반적으로 연마입자들을 지지체 또는 존재한다면 유연 코트에 결합시키는 중합체 기지를 포함한다. 전형적으로, 바인더는 경화성 바인더 배합물로 형성된다. 하나의 예시적 실시태양에서, 바인더 배합물은 중합체 성분 및 분산상을 포함한다. The binder generally comprises a polymeric base which bonds the abrasive particles to a support or, if present, a flexible coat. Typically, the binder is formed from a curable binder formulation. In one exemplary embodiment, the binder formulation comprises a polymer component and a dispersed phase.

바인더 배합물은 하나 이상의 반응 구성성분들 또는 중합체 제조용 중합체 구성성분들을 포함한다. 중합체 구성성분은 단량체 분자, 중합체 분자, 또는 이들의 조합을 포함한다. 바인더 배합물은 용매, 가소제, 사슬이동제, 촉매, 안정제, 분산제, 경화제, 반응 조절제 및 분산 유동 조절제에서 선택되는 성분들을 더욱 포함한다.The binder formulation includes one or more reactive components or polymeric components for making the polymer. Polymeric components include monomeric molecules, polymeric molecules, or combinations thereof. The binder formulation further comprises components selected from solvents, plasticizers, chain transfer agents, catalysts, stabilizers, dispersants, curing agents, reaction modifiers and dispersing flow control agents.

중합체 구성성분들은 열가소성 또는 열경화성 중합체를 형성한다. 예를들면, 중합체 구성성분들은 폴리우레탄, 폴리우레아, 중합 에폭시, 폴리에스테르, 폴리이미드, 폴리실록산 (실리콘), 중합 알키드, 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 폴리부타디엔 형성용 단량체들 및 수지들, 또는, 포괄적으로 열경화성 중합체 제조용 반응성 수지들을 포함한다. 다른 예시로는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트 중합체 구성성분을 포함한다. 전구체 중합체 구성성분들은 전형적으로 경화성 유기 재료 (즉, 중합 단량체 또는 열 또는 다른 에너지원, 예컨대 전자빔, 자외선, 가시광선 등에 노출하여, 또는 화학 촉매, 습기 또는 중합체를 경화 또는 중합시키는 기타 조제 첨가와 함께 중합 또는 가교 가능한 재료)이다. 전구체 중합체 구성성분 예로는 아미노 중합체 또는 아미노플라스트 중합체, 예컨대 알킬화 요소-포름알데히드 중합체, 및 알킬화 벤조구아나민-포름알데히드 중합체; 아크릴레이트 중합체 에컨대 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중합체, 알킬 아크릴레이트, 아크릴레이트 에폭시, 아크릴레이트 우레탄, 아크릴레이트 폴리에스테르, 아크릴레이트 폴리에테르, 비닐 에테르, 아크릴레이트화 오일, 또는 아크릴레이트 실리콘; 알키드 중합체 예컨대 우레탄 알키드 중합체; 폴리에스테르 중합체; 반응성 우레탄 중합체; 페놀 중합체 예컨대 레졸 및 노보락 중합체; 페놀/라텍스 중합체; 에폭시 중합체 예컨대 비스페놀 에폭시 중합체; 이소시아네이트; 이소시아누레이트; 폴리실록산 중합체 예컨대 알킬알콕시실란 중합체; 또는 반응성 비닐 중합체 형성용 반응성 구성성분을 포함한다. 바인더 배합물은 단량체, 올리고머, 중합체, 또는 이들의 조합을 포함한다. 특정 실시태양에서, 바인더 배합물은 경화될 때 가교되는 적어도 2 유형의 중합체 단량체들을 포함한다. 예를들면, 바인더 배합물은 경화될 때 에폭시/아크릴 중합체를 형성하는 에폭시 구성성분들 및 아크릴 구성성분들을 포함한다.The polymeric components form a thermoplastic or thermoset polymer. For example, the polymeric components may be selected from the group consisting of polyurethanes, polyureas, polymeric epoxies, polyesters, polyimides, polysiloxanes (silicones), polymeric alkyds, styrene-butadiene rubbers, acrylonitrile-butadiene rubbers, polybutadiene- Resins, or reactive resins for the production of thermoset polymers in general. Other examples include acrylate or methacrylate polymer components. The precursor polymeric components are typically combined with a curable organic material (i. E., By exposure to polymeric monomers or heat or other energy sources such as electron beams, ultraviolet light, visible light or the like, or with the addition of other auxiliaries which cure or polymerize the chemical catalyst, Polymerizable or crosslinkable material). Examples of precursor polymeric components include amino polymers or aminoplast polymers such as alkylated urea-formaldehyde polymers and alkylated benzoguanamine-formaldehyde polymers; Acrylate polymers such as acrylate and methacrylate polymers, alkyl acrylates, acrylate epoxies, acrylate urethanes, acrylate polyesters, acrylate polyethers, vinyl ethers, acrylated oils, or acrylate silicon; Alkyd polymers such as urethane alkyd polymers; Polyester polymers; Reactive urethane polymers; Phenolic polymers such as resole and novolac polymers; Phenol / latex polymer; Epoxy polymers such as bisphenol epoxy polymers; Isocyanate; Isocyanurate; Polysiloxane polymers such as alkylalkoxy silane polymers; Or a reactive vinyl polymer forming reactive component. The binder formulation includes monomers, oligomers, polymers, or combinations thereof. In certain embodiments, the binder formulation comprises at least two types of polymeric monomers that crosslink when cured. For example, the binder formulation includes epoxy components and acrylic components that, when cured, form an epoxy / acrylic polymer.

첨가제들 - 연삭 조제 (Aid)Additives - grinding aid (Aid)

연마층은 또한 연삭 효율 및 절삭 속도를 높이기 위하여 연삭조제를 포함한다. 유용한 연삭조제는 무기 기반의, 예컨대 할로겐 염, 예를들면, 빙정석 나트륨(sodium cryolite), 및 사불화붕산칼륨; 또는 유기 기반의, 예컨대 염소화 왁스, 예를들면, 폴리염화비닐일 수 있다. 특정 실시태양은 입도가 1 미크론 내지 80 미크론, 가장 전형적으로 5 미크론 내지 30 미크론인 빙정석 및 사불화붕산칼륨을 포함한다. 슈퍼사이즈 코트는 항-글레이징 (anti-glazing) 및 항-로딩 특성을 부여하기 위하여 연마입자들에 도포되는 중합체 층이다. The abrasive layer also includes a grinding aid to increase the grinding efficiency and the cutting rate. Useful grinding aids include inorganic based, such as halogen salts, such as sodium cryolite, and potassium tetrafluoroborate; Or organic based, such as chlorinated waxes, such as polyvinyl chloride. Certain embodiments include cryolite and potassium tetrafluoroborate having a particle size of 1 micron to 80 microns, most typically 5 microns to 30 microns. The super-size coat is a polymer layer applied to abrasive particles to impart anti-glazing and anti-loading properties.

백 코트 - 유연 코트Back Coat - Flexible Coat

코팅 연마물품은 선택적으로 유연 및 백 코트 (미도시)를 포함한다. 이들 코트는 상기된 바와 같은 기능들을 수행하고 바인더 조성물로 형성될 수 있다. The coated abrasive article optionally includes a flexible and backcoat (not shown). These coats may perform the functions described above and may be formed of a binder composition.

코팅 연마물품 제조방법Coated abrasive article manufacturing method

연마영역 패턴을 가지는 코팅 연마물품 제조방법에 있어서, 지지체는 롤로부터 분배되고, 지지체는 코팅장치로부터 분배되는 바인더 배합물로 도포된다. 예시적 코팅장치는 드롭 다이 (drop die) 코팅기, 나이프 코팅기, 커튼 코팅기, 진공 다이 코팅기 또는 다이 코팅기를 포함한다. 코팅 방법은 접촉식 또는 비-접촉식이다. 이러한 방법으로는 2 롤, 3롤 역전, 나이프 오버 롤, 슬롯 다이, 그라비어, 회전 인쇄, 압출 또는 분사 코팅 방식 또는 이들의 조합을 포함한다. In a process for producing a coated abrasive article having an abrasive area pattern, the support is dispensed from a roll, and the support is applied with a binder formulation dispensed from the coating apparatus. An exemplary coating apparatus includes a drop die coater, a knife coater, a curtain coater, a vacuum die coater or a die coater. The coating method is contact type or non-contact type. Such methods include two rolls, three roll reversals, knife over rolls, slot die, gravure, rotary printing, extrusion or spray coating, or combinations thereof.

실시태양에서, 바인더 배합물은 배합물 및 연마입자들을 포함한 슬러리로 제공된다. 대안적 실시태양에서, 바인더 배합물은 연마입자들과는 별개로 배분된다. 연마입자들은 바인더로 지지체를 코팅한 후, 바인더 배합물 부분 경화 후, 바인더 배합물 패턴화 후, 가능하다면, 또는 바인더 배합물이 완전히 경화된 후 제공된다. 연마입자들은, 예를들면, 예컨대 정전 코팅, 드롭 코팅, 또는 기계적 투사 (mechanical projection)에 의해 도포된다.In an embodiment, the binder formulation is provided as a slurry including formulations and abrasive particles. In an alternative embodiment, the binder formulation is dispensed separately from the abrasive particles. The abrasive particles are provided after coating the support with a binder, after hardening the binder formulation part, after patterning the binder formulation, or after the binder formulation is fully cured, if possible. The abrasive particles are applied, for example, by electrostatic coating, drop coating, or mechanical projection.

다른 실시태양에서, 바인더 및 연마입자들로 도포된 지지체는, 압인, 따내기, 레이저 절삭 또는 이들의 조합으로 코팅 연마제 (즉, 둥근 원반) 형상 또는 필요하다면 코팅 연마제를 관통하는 개구들 패턴을 형성한다. 다른 실시태양에서, 지지체는 바인더로 선택적으로 코팅되어 미코팅 영역들을 남기고 여기에 연마입자들로 도포하여 연마영역들을 형성한다. 예를들면, 바인더는 지지체에, 예컨대 스크린 인쇄, 옵셋 인쇄, 또는 플렉소그래픽 인쇄로 인쇄된다. 다른 실시예에서, 바인더는 그라비어 코팅, 슬롯 다이 코팅, 마스크 분사 코팅, 또는 기타 등으로 선택적으로 도포된다. 대안으로, 예컨대 사진제판을 통하여 감광 또는 UV 경화성 마스크를 지지체에 도포하고 현상하여, 지지체 일부를 차단시킨다. 다른 실시예에서, 바인더 도포 전에 지지체에 비침윤제를 도포한다. In another embodiment, the support coated with the binder and abrasive particles may be formed in the form of a coating abrasive (i. E., A disc) or a pattern of apertures through the coating abrasive, if desired, by stamping, spinning, laser cutting, do. In another embodiment, the support is selectively coated with a binder to leave the uncoated areas and apply the abrasive particles thereto to form the abrasive areas. For example, the binder is printed on a support, for example, by screen printing, offset printing, or flexographic printing. In another embodiment, the binder is selectively applied with a gravure coating, a slot die coating, a mask spray coating, or the like. Alternatively, a photothermographic or UV curable mask is applied to the support through, for example, photolithography and development to block some of the support. In another embodiment, non-spin finish is applied to the support before application of the binder.

사용 방법 - 공작물 연마How to use - Workpiece polishing

공작물 연마방법에 있어서, 공작물을 코팅 연마제와 접촉시킨다. 코팅 연마제는 공작물에 대하여 회전된다. 예를들면, 코팅 연마제를 궤도 샌더에 장착하고 공작물과 접촉시킨다. 공작물이 연마되면, 공작물로부터 연마된 물질이 연마영역들 사이 또는 인접한 개방영역에 누적된다. 누적 재료는 코팅 연마제를 사용하면서 이동 중에 코팅 연마제 정면에서 토출된다. 달리, 연마물품에 진공시스템이 구비된다. 진공시스템은 연마물품과 연동하도록 구성되는 지지패드를 포함한다. In the workpiece polishing method, the workpiece is brought into contact with the coating abrasive. The coating abrasive is rotated relative to the workpiece. For example, a coating abrasive is mounted on an orbital sander and brought into contact with the workpiece. When the workpiece is polished, the polished material from the workpiece accumulates between the polishing regions or adjacent open regions. The accumulating material is discharged from the front side of the coating abrasive during transportation while using the coating abrasive. Alternatively, a vacuum system is provided on the abrasive article. The vacuum system includes support pads configured to interact with the abrasive article.

지지패드Support pads

조절된 불균일 연마입자들 분포를 가지는 코팅 연마제에 상응하는 지지패드들은 종래 코팅 연마제뿐 아니라 조절된 불균일 연마영역들 분포를 가지는 특정 코팅 연마제와 성공적으로 조합되어 사용될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 본 발명자들은 놀랍게도 지지패드 실시태양들을 적용하면 우수한 스와프 제거가 가능하고 종래 연마제로 연마제 성능을 향상시킬 수 있다는 것을 알았다. It will be appreciated that the support pads corresponding to the coating abrasive having a controlled non-uniform abrasive particle distribution can be used successfully in combination with a conventional coating abrasive as well as a specific coating abrasive with controlled non-uniform polishing areas. The inventors have surprisingly found that applying the support pad embodiments can provide superior swab removal and improve abrasive performance with conventional abrasives.

실시태양에서, 지지패드는 조절된 불균일 분포 패턴을 가지는 코팅 연마제와 조합되어 연동적으로 작동될 수 있는 공기 유로들 패턴을 가진다. 전기된 바와 같이, 이러한 지지패드는 종래 천공 코팅 연마제와 조합적으로 사용되어 스와프 제거 및 연마제 성능을 향상시킨다. In an embodiment, the support pad has a pattern of air flow paths that can be operated interlockingly in combination with a coating abrasive having a controlled non-uniform distribution pattern. As noted, these support pads are used in combination with conventional perforated coating abrasives to improve swarf removal and abrasive performance.

실시태양에서, 지지패드는 공기 유로들 패턴을 포함하고, 공기 유로들 패턴은 조절된 불균일 분포 패턴의 x 및 y 좌표로 생성된다. 지지패드 공기 유로 패턴을 생성하기 위하여 사용되는 조절된 불균일 분포 패턴은 지지패드와 함께 사용되는 코팅 연마제 패턴과 동일하거나 다를 수 있다. 실시태양에서, 조절된 불균일 분포 패턴은 지지패드와 함께 사용되는 코팅 연마제 패턴과 동일하다. 다른 실시태양에서, 조절된 불균일 분포 패턴은 지지패드와 함께 사용되는 코팅 연마제 패턴과 다르다. In an embodiment, the support pads include a pattern of air flow paths, and the pattern of air flow paths is created with the x and y coordinates of the controlled non-uniform distribution pattern. The controlled non-uniform distribution pattern used to create the support pad air flow pattern may be the same as or different from the coating abrasive pattern used with the support pad. In an embodiment, the controlled non-uniform distribution pattern is the same as the coating abrasive pattern used with the support pads. In another embodiment, the controlled non-uniform distribution pattern is different from the coating abrasive pattern used with the support pads.

실시태양에서, 지지패드는 본원에 기재된 코팅 연마제 실시태양들에 의한 엽서 패턴들을 가지는 코팅 연마제와 조합하여 연동된다. 지지패드는 엽서 패턴들을 가지는 코팅 연마제와 조합되고, 지지패드는 다수의 개구들, 다수의 공동들, 다수의 채널들, 다수의 경로들, 또는 이들의 조합을 포함하고, 이들은 엽서 패턴을 가지는 코팅 연마제의 개구들을 통해 연마 과정에서 공작물 표면에서 흡입 및 스와프 제거를 촉진하도록 구성되는 패턴으로 형성된다. 개구들, 공동들, 채널들, 경로들, 또는 이들의 조합은 공기 유로들을 형성하고 이들은 지지패드를 따라 내부에 또는 관통하여, 또는 이들의 조합으로 배치된다. 공기 유로들은 연마 과정에서 공작물 표면으로부터 코팅 연마제 개구들을 통하여 흡입 및 스와프 제거를 촉진시킨다. 실시태양에서, 개구들 패턴, 공동들, 채널들, 경로들 또는 이들의 조합은 규칙 다각형들, 불규칙 다각형들, 타원형들, 원호들, 나선들, 엽서 패턴들, 또는 이들의 조합 형태일 수 있다. 다른 실시태양에서, 공기 유로들은 규칙 다각형들, 불규칙 다각형들, 타원형들, 원호들, 나선들, 엽서 패턴들, 또는 이들의 조합 형태일 수 있다. In an embodiment, the support pad is interlocked in combination with a coating abrasive having postcard patterns by the coating abrasive embodiments described herein. The support pad is combined with a coating abrasive having postcard patterns, and the support pad comprises a plurality of openings, a plurality of cavities, a plurality of channels, a plurality of paths, or a combination thereof, Is formed in a pattern that is configured to facilitate suction and sweep removal from the workpiece surface during polishing through the apertures of the abrasive article. The openings, cavities, channels, paths, or combinations thereof, form air channels, which are disposed in or through the support pads, or a combination thereof. The air channels facilitate suction and swab removal through the coating abrasive openings from the workpiece surface during the polishing process. In an embodiment, the apertures pattern, cavities, channels, paths, or combinations thereof may be in the form of regular polygons, irregular polygons, ellipses, arcs, spirals, postcard patterns, or combinations thereof . In another embodiment, the air channels can be in the form of regular polygons, irregular polygons, ellipses, arcs, spirals, postcard patterns, or a combination thereof.

패턴들을 이용하여 방사상 만곡 및 나선 채널들뿐 아니라 만곡 및 나선 채널들과 교차하는 환형 채널들, 또는 이들의 조합을 형성한다. 환형, 만곡, 나선, 또는 조합적 채널들은, 예컨대 홈들, 공동들, 오리피스들, 경로들, 또는 다른 경로들 형태로 적합한 소재로 절단되어 조합적인 지지패드를 형성한다. Patterns to form radial curvature and helical channels as well as annular channels that intersect the curved and spiral channels, or a combination thereof. Annular, curved, helical, or combinatorial channels are cut into a suitable material in the form of, for example, grooves, cavities, orifices, paths, or other paths to form a combined support pad.

소정의 실시태양들에서, 지지패드의 공기 유로들은 부분적으로, 완전히, 코팅 연마제 개구들과 일치한다. 적어도 개방영역의 일부가 공기 유로의 일부와 일치하거나 또는 정렬될 때 공기 유로는 개구와 일치된다는 것을 이해하여야 한다. 실시태양에서, 상응 지지패드의 공기 유로들은 적어도 5%, 적어도 10%, 적어도 15%, 적어도 20%, 적어도 25%의 개구들과 일치한다. 실시태양에서, 상응 지지패드의 공기 유로들은 적어도 5%, 적어도 10%, 적어도 15%, 적어도 20%, 적어도 25%, 적어도 30%, 적어도 35%, 적어도 40%, 적어도 55%, 적어도 50%, 적어도 55%, 적어도 60%, 적어도 65%, 적어도 70%, 적어도 75%, 적어도 80%, 적어도 85%, 적어도 90%, 적어도 95%, 또는 적어도 100%의 코팅 연마제 개구들과 일치한다. In certain embodiments, the air channels of the support pad are partially, completely, coincident with the coating abrasive openings. It is to be understood that the air flow path coincides with the opening when at least a portion of the opening area coincides with or is aligned with a part of the air flow path. In an embodiment, the air channels of the corresponding support pad correspond to openings of at least 5%, at least 10%, at least 15%, at least 20%, at least 25%. In embodiments, the air channels of the corresponding support pad may comprise at least 5%, at least 10%, at least 15%, at least 20%, at least 25%, at least 30%, at least 35%, at least 40%, at least 55% , At least 55%, at least 60%, at least 65%, at least 70%, at least 75%, at least 80%, at least 85%, at least 90%, at least 95%, or at least 100% of the coating abrasive openings.

특히 공기 유로 패턴이 코팅 연마제의 연마영역들 좌표의 전치 및 회전에 기초할 때 소정의 지지패드 나선 및 엽서 공기 유로 패턴들은 코팅 연마제의 개구 패턴과 소정의 정렬도를 보인다는 것을 이해하여야 한다. 실시태양에서, 코팅 연마제에 대하여 지지패드가 특정 위상, 또는 회전도에 있을 때 지지패드의 공기 유로 패턴은 거의 모든 대부분의 코팅 연마제 개구들과 일치한다. 지지패드 공기 유로들이 코팅 연마제 개구들과 일치할 때 지지패드가 코팅 연마제와 비교하여90° 또는 180° 회전하고 거의 모든 대부분의 코팅 연마제 개구들이 지지패드의 적어도 하나의 공기 유로들과 일치하면 지지패드는 단일-정렬 (또한 소위 2-단 정렬) 지지패드라고 칭한다. It should be understood that certain support pad spiral and postcard air flow patterns exhibit a certain degree of alignment with the opening pattern of the coating abrasive, particularly when the air flow path pattern is based on transposition and rotation of the abrasive areas coordinates of the coating abrasive. In an embodiment, the air flow pattern of the support pad coincides with most nearly all of the coating abrasive openings when the support pad is in a particular phase, or rotation, relative to the coating abrasive. When the support pad air flow paths coincide with the coating abrasive openings, the support pad rotates 90 or 180 degrees compared to the coating abrasive and when almost all of the coating abrasive openings coincide with at least one air flow paths of the support pad, Is called a single-alignment (also called a so-called two-stage alignment) support pad.

실시태양에서, 지지패드는 정렬 표시자를 포함하거나 포함되도록 구성될 수 있다. 정렬 표시자는 코팅 연마제와의 지지패드 정렬도를 나타내는 표기, 기구, 노치, 부착구, 칼라, 돌기, 또는 이들의 조합일 수 있다. 특정 실시태양에서, 정렬 표시자는 표기 (marking)일 수 있다. In an embodiment, the support pad may be configured to include or include an alignment indicator. The alignment indicator may be indicia, a tool, a notch, an attachment, a collar, a projection, or a combination thereof, indicative of a support pad alignment with the coating abrasive. In certain embodiments, the alignment indicator may be marking.

본원에 기재된 연마물품 실시태양들은 조합적으로 기재되지만, 이러한 지지패드들은 또한 표준 최신 천공 코팅 연마제와도 사용될 수 있다. 예기치 못하게 적합한 나선 또는 엽서 패턴 공기 유로들을 형성하는 다수의 개구들, 다수의 공동들, 다수의 채널들, 또는 이들의 조합을 가지는 지지패드들은 스와프 제거율을 개선하고, 연마제 절삭 성능, 및 표준 최신 천공 코팅 연마제 및 엽서 천공 패턴들을 가지는 코팅 연마제 모두에 대하여 연마제 수명을 향상시킨다는 것을 알았다.While the embodiments of the abrasive articles described herein are described in combination, such support pads may also be used with standard standard perforated coating abrasives. Support pads having multiple openings, multiple cavities, multiple channels, or a combination thereof that form unexpectedly helix or postcard pattern air channels can improve the swarf removal rate, improve abrasive cutting performance, Coating abrasive, and coating abrasive having both postcard boring patterns.

지지패드는 유연성 또는 경질일 수 있다. 지지패드는 종래 지지패드들 제작에 사용된 것을 포함한 임의의 다양한 소재들, 또는 소재들의 조합으로 제작될 수 있다. 지지패드는 단일 조각 (piece), 일체형 조립체, 또는 다중-조각 조립체, 예컨대 다중-층 조립체 또는 동심층 조립체로 제작될 수 있다. 지지패드는 바람직하게는 탄성재 예컨대 유연성 발포체이다. 적합한 발포체는 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리에스테르-우레탄, 폴리에테르우레탄; 천연 또는 인조 고무 예컨대 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, EPDM 중합체, 폴리염화비닐 (PVC), 폴리클로로프렌, 또는 스티렌/부타디엔 공중합체; 또는 이들의 조합일 수 있다. 발포는 개방 또는 폐쇄 셀일 수 있다. 첨가제들, 예컨대 결합제, 강화제, 경화제, 산화방지제, 보강 소재들, 및 기타 등이 발포 배합물에 첨가되어 원하는 특성이 달성된다. 염료, 안료, 충전제, 대전방지제, 난연제, 및 스크림 (scrim) 또한 발포체 또는 다른 탄성재에 첨가되어 지지패드를 제작한다. The support pad may be flexible or rigid. The support pads may be made of any of a variety of materials, including those used in making conventional support pads, or a combination of materials. The support pads may be fabricated from a single piece, an integral assembly, or a multi-piece assembly, such as a multi-layer assembly or a co-extrusion assembly. The support pad is preferably an elastic material such as a flexible foam. Suitable foams include polyurethanes, polyesters, polyester-urethanes, polyetherurethanes; Natural or synthetic rubbers such as polybutadiene, polyisoprene, EPDM polymers, polyvinyl chloride (PVC), polychloroprene, or styrene / butadiene copolymers; Or a combination thereof. Foaming may be an open or closed cell. Additives, such as binders, reinforcing agents, hardeners, antioxidants, reinforcing materials, and the like, are added to the foam formulation to achieve the desired properties. Dyes, pigments, fillers, antistatic agents, flame retardants, and scrims are also added to the foam or other resilient material to form support pads.

특히 유용한 발포체는 TDI (톨루엔 디이소시아네이트)/폴리에스테르 및 MDI (메틸렌 디페닐 디이소시아네이트)/폴리에스테르 발포체를 포함한다. 실시태양에서, 지지패드는 탄성의, 개발 셀 폴리우레탄 발포체로 제작되며, 이는 폴리에테르 폴리올 및 방향족 폴리이소시아네이트의 반응 생성물로 형성된다. 다른 실시태양에서, 지지패드는 발포체, 가황고무, 또는 임의의 이들의 조합일 수 있다. Particularly useful foams include TDI (toluene diisocyanate) / polyester and MDI (methylenediphenyl diisocyanate) / polyester foams. In an embodiment, the support pads are made of an elastic, developed cell polyurethane foam, which is formed from the reaction product of a polyether polyol and an aromatic polyisocyanate. In other embodiments, the support pads can be foam, vulcanized rubber, or any combination thereof.

포괄적인 설명 또는 실시예들에서 상기되는 모든 작용들이 요구되지는 않으며, 특정한 작용의 일부는 요구되지 않을 수 있으며, 하나 이상의 다른 작용이 기술된 것들에 추가하여 실행될 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 게다가, 작용들이 나열되는 순서가 반드시 이들이 실행되는 순서일 필요는 없다.It is to be understood that not all of the acts described above in the broad description or embodiments are required, that some of the specific acts may not be required, and that one or more other acts may be practiced in addition to those described. In addition, the order in which the actions are listed does not have to be the order in which they are executed.

상기 명세서에서, 개념들이 특정한 실시태양들을 참조하여 설명되었다. 그러나, 본 기술분야에서 통상의 기술을 가진 사람은 다양한 변형들과 변화들이 하기 청구범위에 기술되는 바와 같은 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 가능하다고 인정한다. 따라서, 명세서와 도면들은 제한적인 의미보다는 오히려 설명적인 의미로 간주되며, 모든 이와 같은 변형들은 본 발명의 범위의 내에 포함되도록 의도된다.In the foregoing specification, the concepts have been described with reference to specific embodiments. However, those of ordinary skill in the art will recognize that various modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention as set forth in the following claims. Accordingly, the specification and figures are to be regarded in an illustrative rather than a restrictive sense, and all such modifications are intended to be included within the scope of the present invention.

본원에서 사용되는 용어 "구성한다(comprises)", "구성하는(comprising)", "포함한다(includes)", "포함하는(including)", "가진다(has)", 가지는(having)" 또는 이들의 임의의 다른 변형은 비배타적인 포함을 커버하기 위한 것이다. 예를들면, 특징부들의 목록을 포함하는 공정, 방법, 물품, 또는 장치는 반드시 이러한 특징부들에만 한정될 필요는 없으며 명시적으로 열거되지 않거나 이와 같은 공정, 방법, 물품, 또는 장치에 고유한 다른 특징부들을 포함할 수 있다. 게다가, 명시적으로 반대로 기술되지 않는다면, "또는"은 포괄적인 의미의 "또는"을 가리키며 배타적인 의미의 "또는"을 가리키지 않는다. 예를들면, 조건 A 또는 B는 다음 중의 어느 하나에 의해 만족된다: A가 참이고 (또는 존재하고) B는 거짓이며 (또는 존재하지 않으며), A가 거짓이고 (또는 존재하지 않고) B는 참이며 (또는 존재하며), A와 B 모두가 참 (또는 존재한다)이다.As used herein, the terms "comprises", "comprising", "includes", "including", "has", "having" Any other variation of these is intended to cover a non-exclusive inclusion. For example, a process, method, article, or apparatus that comprises a list of features need not necessarily be limited to such features, It should be understood that the phrase "or" is used in an inclusive sense to refer to a "or" in an inclusive sense, For example, condition A or B is satisfied by any of the following: A is true (or exists), B is false (or does not exist), and A False (or nonexistent) B is True (or present), and both A and B are true (or present).

또한, "하나의 (a)" 또는 "하나의 (an)"은 여기에서 설명되는 요소들과 구성요소들을 설명하는데 사용된다. 이는 단지 편의성을 위해 그리고 본 발명의 범위의 일반적인 의미를 부여하기 위해 행해진다. 이 설명은 하나 또는 적어도 하나를 포함하는 것으로 읽혀져야 하며, 다르게 의미한다는 것이 명백하지 않다면 단수는 또한 복수를 포함한다.Also, "a" or "an" is used to describe the elements and components described herein. This is done merely for convenience and to give the general meaning of the scope of the present invention. This description should be read to include one or at least one, and the singular also includes the plural unless it is expressly meant to mean differently.

장점들, 다른 이점들, 및 문제점들에 대한 해결방안이 특정한 실시태양들과 관련하여 상기되었다. 그러나, 장점들, 이점들, 문제들에 대한 해결방안, 및 임의의 장점, 이점, 또는 해결방안을 발생하게 하거나 더 현저하게 할 수 있는 임의의 특징(들)이 청구항들의 일부 또는 전부의 중요하거나, 요구되거나, 또는 필수적인 특징으로 해석되지 말아야 한다.Benefits, other advantages, and solutions to problems have been described above with regard to specific embodiments. However, it is to be understood that advantages (s), advantages, solutions to problems, and any feature (s) that may cause or may cause any benefit, advantage, , Nor should it be interpreted as a required or essential feature.

명세서를 읽은 후에, 숙련된 기술자들은 명료성을 위해 각각의 실시태양들과 관련해서 여기에서 설명되는 임의의 특징들이 또한 단일 실시태양에서 조합하여 제공될 수 있다고 인정할 것이다. 이와 반대로, 간결성을 위해 단일의 실시태양과 관련하여 설명되는 다양한 특징들은 또한 별도로 또는 임의의 하위 조합으로 제공될 수 있다. 또한, 범위에서 기술되는 값들에 대한 언급은 이 범위의 내에 있는 각각의 값 및 모든 값을 포함한다. 용어 "약" 또는 "대략"이 수치에 선행할 때, 예컨대 수치 범위를 기술할 때, 정확한 수치 역시 포함되는 것이다. 예를들면 "약 25"라 시작되는 수치 범위는 정확하게 25로 개시되는 범위 역시 포함되는 것이다.After reading the specification, skilled artisans will appreciate that any feature described herein in connection with each of the embodiments for clarity may also be provided in combination in a single embodiment. Conversely, various features described in connection with a single embodiment for brevity may also be provided separately or in any subcombination. Also, reference to values described in ranges includes each value and all values within this range. When the term " about "or" approximately " precedes this number, for example, when describing a numerical range, the exact numerical value is also included. For example, a numerical range beginning with "about 25 " also includes a range beginning exactly 25.

항목 1. 연마물품에 있어서, 조절된 불균일 분포를 가지는 패턴으로 배열되는 다수의 연마영역들을 포함하는 코팅 연마제를 포함하고, 패턴은 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나인, 연마물품.Item 1. A polishing article comprising a coating abrasive comprising a plurality of abrasive regions arranged in a pattern having a controlled non-uniform distribution, the pattern comprising a radiation pattern, a spiral pattern, a postcard pattern, an asymmetric pattern, At least one abrasive article.

항목 2. 제1항목에 있어서, 패턴은 나선 패턴인, 연마물품.Item 2. The abrasive article according to item 1, wherein the pattern is a spiral pattern.

항목 3. 제2항목에 있어서, 나선 패턴은 아르키메데스 나선, 오일러 나선, 페르마 나선, 쌍곡 나선, 리투스, 대수 나선, 피보나치 나선, 황금 나선, 또는 이들의 조합 중 하나인, 연마물품.Item 3. In the second item, the helical pattern is one of an Archimedes spiral, an Euler spiral, a Fermat spiral, a hyperbolic spiral, a lithus, an algebraic spiral, a Fibonacci spiral, a golden spiral, or a combination thereof.

항목 4. 제3항목에 있어서, 패턴은 조절된 비대칭성을 가지는, 연마물품.Item 4. In the third item, the pattern has a controlled asymmetry.

항목 5. 제4항목에 있어서, 조절된 비대칭성은 패턴 중심 주위로 적어도 부분 회전 비대칭성인, 연마물품.Item 5. The article of item 4, wherein the adjusted asymmetry is at least partially rotationally asymmetric around the pattern center.

항목 6. 제5항목에 있어서, 회전 비대칭성은 패턴 중 적어도 51%, 적어도 70%, 또는 적어도 85%의 연마영역들로 연장되는, 연마물품.Item 6. The article of item 5, wherein the rotational asymmetry extends to at least 51%, at least 70%, or at least 85% of the patterned areas of the pattern.

항목 7. 제5항목에 있어서, 회전 비대칭성은 패턴의 연마영역들 중 적어도 20 연마영역들, 적어도 50 연마영역들, 또는 적어도 100 연마영역들로 연장되는, 연마물품.Item 7. The article of 5, wherein the rotational asymmetry extends at least 20 of the abrasive areas of the pattern, at least 50 of the abrasive areas, or at least 100 of the abrasive areas.

항목 8. 제5항목에 있어서, 패턴은 패턴 중심 주위로 회전 비대칭인, 연마물품.Item 8. The article of item 5, wherein the pattern is rotationally asymmetric about the center of the pattern.

항목 9. 제1항목에 있어서, 패턴은 엽서 패턴인, 연마물품.Item 9. The abrasive article of item 1, wherein the pattern is a postcard pattern.

항목 10. 제9항목에 있어서, 패턴은 나선 엽서 패턴인, 연마물품.Item 10. The article of item 9, wherein the pattern is a spiral postcard pattern.

항목 11. 제10항목에 있어서, 패턴은 다수의 시계방향 나선들 및 다수의 반시계방향 나선들을 가지고, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 피보나치 수이거나 피보나치 수의 배수인, 연마물품.Item 11. The method of item 10, wherein the pattern has a plurality of clockwise spirals and a plurality of counterclockwise spirals, the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals is a Fibonacci number or a multiple of the Fibonacci number, article.

항목 12. 제11항목에 있어서, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 루카스 수이거나 루카스 수의 배수인, 연마물품.Item 12. The article of item 11, wherein the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals is a number of LUCAS or a multiple of LUCAS.

항목 13. 제11항목에 있어서, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 황금비로 수렴되는 비율인, 연마물품.Item 13. The article of item 11, wherein the number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals converge to a golden ratio.

항목 14. 제10항목에 있어서, 나선 엽서 패턴은 조절된 비대칭성을 가지는, 연마물품.Item 14. The article of Paragraph 10, wherein the spiral postcard pattern has a controlled asymmetry.

항목 15. 제10항목에 있어서, 나사 엽서 패턴은 해바라기 패턴인, 연마물품.Item 15. The article of item 10, wherein the screw postcard pattern is a sunflower pattern.

항목 16. 제11항목에 있어서, 패턴은 식에 의해 극좌표에 기술되는, 연마물품.Item 16. The article of item 11, wherein the pattern is described in polar coordinates by an equation.

Figure 112016004573392-pct00003
(식 1)
Figure 112016004573392-pct00003
(Equation 1)

식 중: Where:

n은 패턴 중심에서 외향으로 계수할 때 연마영역 의 순번;n is the order of the polishing area when counting from the center of the pattern to the outward;

임의의 두 연속 연마영역들의 위치벡터들 사이의 발산각이 일정 각도 α로 되도록, φ는 기준방향 및 패턴 중심에서 시작되는 극좌표계에서 n번째 연마영역의 위치벡터 사이의 각도이고; Phi is the angle between the position vector of the n-th abrasive area in the reference direction and the polar coordinate system starting at the pattern center, so that the divergence angle between the position vectors of any two consecutive abrasive areas is a constant angle alpha;

r은 패턴 중심에서 n번째 연마영역 중심까지의 거리이고; r is the distance from the center of the pattern to the center of the n-th polishing region;

c는 일정한 환산계수이다.c is a constant conversion factor.

항목 17. 제16항목에 있어서, 적어도 약 51%, 적어도 약 70%, 적어도 약 85%의 연마영역들은 식1을 따르는, 연마물품.Item 17. The article of Paragraph 16, wherein at least about 51%, at least about 70%, and at least about 85% of the abrasive areas conform to Formula 1.

항목 18. 제16항목에 있어서, 패턴은 극좌표에서 약 100° 내지 약 170°의 발산각을 가지는, 연마물품.Item 18. The article of Paragraph 16, wherein the pattern has a divergence angle from about 100 DEG to about 170 DEG in polar coordinates.

항목 19. 제16항목에 있어서, 패턴은 137.508° 의 발산각을 가지는, 연마물품.Item 19. The article of Paragraph 16, wherein the pattern has a divergence angle of 137.508 degrees.

항목 20. 제16항목에 있어서, 적어도 약 80%, 적어도 약 85%, 적어도 약 90%의 총 연마면적이 식1을 따르는, 연마물품.Item 20. The article of Paragraph 16, wherein the total abrasive area of at least about 80%, at least about 85%, at least about 90%, is according to Formula 1.

항목 21. 제16항목에 있어서, 다수의 연마영역들의 범위는 약 5/10/20 연마영역들 내지 약 500/1000/10,000 연마영역들인, 연마물품.Item 21. The article of Paragraph 16, wherein the range of the plurality of polishing regions is from about 5/10/20 polishing regions to about 500/1000/10 thousand polishing regions.

항목 22. 제16항목에 있어서, 패턴은 실질적으로 연마물품의 전체 정면을 덮고 있는, 연마물품.Item 22. The article of Paragraph 16, wherein the pattern substantially covers the entire front surface of the article to be polished.

항목 23. 제16항목에 있어서, 패턴의 최외곽 연마영역 모서리는 연마물품 모서리와 교차하는, 연마물품.Item 23. The article of Paragraph 16, wherein the edge of the outermost abrasive region of the pattern intersects the edge of the abrasive article.

항목 24. 제16항목에 있어서, 패턴의 최외곽 연마영역 모서리는 연마물품 모서리로부터 적어도 특정 (specific) 거리인, 연마물품.Item 24. The article of Paragraph 16, wherein the edge of the outermost abrasive region of the pattern is at least a specific distance from the edge of the abrasive article.

항목 25. 제16항목에 있어서, 패턴은 연마물품 정면 일부만을 덮고있는, 연마물품.Item 25. The article of Paragraph 16, wherein the pattern covers only a part of the front surface of the article to be polished.

항목 26. 제16항목에 있어서, 패턴은 연마물품 정면의 반복적 부분을 덮고 있는, 연마물품.Item 26. The article of Paragraph 16, wherein the pattern covers a repetitive portion of the front surface of the article to be polished.

항목 27. 제16항목에 있어서, 패턴의 총 개방영역은 연마물품의 잠재적 표면적의 약 15% 내지 약 99.5%인, 연마물품.Item 27. The abrasive article of Item 16, wherein the total open area of the pattern is from about 15% to about 99.5% of the potential surface area of the abrasive article.

항목 28. 제16항목에 있어서, 연마 총표면적은 잠재적 총표면적의 약 4.5% 내지 약 85% 인, 연마물품.Item 28. The abrasive article of Item 16, wherein the polishing total surface area is from about 4.5% to about 85% of the total potential surface area.

항목 29. 제16항목에 있어서, 원반 형상을 가지는, 연마물품.Item 29. The abrasive article of Item 16, wherein the article has a disc shape.

항목 30. 제16항목에 있어서, 연마영역들 형상은 단선 영역, 다각형들, 타원형들, 원형들, 원호들, 나선들, 소용돌이들, 나선 격자, 또는 이들의 조합 중 하나에서 선택되는, 연마물품.Item 30. The method of item 16, wherein the shape of the abrasive regions is selected from one of a single line region, polygons, ellipses, circles, arcs, spirals, vortices, spiral gratings, .

항목 31. 코팅 연마물품에 있어서,Item 31. A coated abrasive article,

제1 주요 면 및 제2 주요 면을 가지는 지지체 층; 및A support layer having a first major surface and a second major surface; And

지지체 층의 제1 주요 면에 적층되는 연마층을 포함하고,And an abrasive layer stacked on the first major surface of the support layer,

연마층은 조절된 불균일 분포를 가지는 패턴으로 배열되는 다수의 연마영역들을 포함하고, 패턴은 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나인, 코팅 연마물품.Wherein the polishing layer comprises a plurality of polishing regions arranged in a pattern having a controlled non-uniform distribution, the pattern being at least one of a radiation pattern, a spiral pattern, a postcard pattern, an asymmetric pattern, or a combination thereof.

항목 32. 연마물품 제조방법에 있어서,Item 32. A method for manufacturing an abrasive article,

지지체에 연마층을 적층하는 단계를 포함하고, Laminating an abrasive layer on a support,

상기 연마층은 조절된 불균일 분포를 가지는 패턴으로 배열되는 다수의 연마영역들을 포함하고, 패턴은 방사 패턴, 나선 패턴, 엽서 패턴, 비대칭 패턴, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나인, 연마물품 제조방법.Wherein the polishing layer comprises a plurality of polishing regions arranged in a pattern having a controlled non-uniform distribution, wherein the pattern is at least one of a radiation pattern, a spiral pattern, a postcard pattern, an asymmetric pattern, or a combination thereof.

항목 33. 코팅 연마물품으로서, 코팅 연마물품의 주 표면에 적층되는 다수의 연마영역들을 포함하고, 상기 연마영역들은 다수의 공기 유로를 형성하도록 구성되고, 공기 유로는 원호들, 나선들, 소용돌이들 (whorls), 엽서 패턴들, 또는 이들의 조합을 포함하는, 코팅 연마물품. Item 33. A coated abrasive article, comprising: a plurality of abrasive areas stacked on a major surface of a coated abrasive article, the abrasive areas configured to form a plurality of air flow paths, the air flow path including arcs, spirals, whorls, postcard patterns, or a combination thereof.

항목 34. 제34항목에 있어서, 공기 유로들 패턴은 방사상 만곡 경로들, 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합으로 구성되는, 코팅 연마물품 (abrasive).Item 34. The coated abrasive article of Item 34, wherein the air flow patterns are comprised of radial curved paths, radial spiral paths, or a combination thereof.

항목 35. 제34항목에 있어서, 공기 유로들 패턴은 내부 방사상 나선 경로들 및 외부 방사상 나선 경로들의 조합으로 구성되는, 코팅 연마물품.Item 35. The coated abrasive article of Item 34, wherein the air flow patterns are comprised of a combination of internal radial spiral paths and external radial spiral paths.

항목 36. 제34항목에 있어서, 공기 유로들 패턴은 시계방향 방사상 나선 경로들 및 반시계방향 방사상 나선 경로들의 조합으로 구성되는, 코팅 연마물품.Item 36. The coated abrasive article of Item 34, wherein the air flow patterns are composed of a combination of clockwise radial spiral paths and counterclockwise radial spiral paths.

항목 37. 제34항목에 있어서, 공기 유로들 패턴은 방사상 만곡 경로들 또는 방사상 나선 경로들, 또는 이들의 조합과 교차하는 환형 공기 유로를 더욱 포함하는, 코팅 연마물품.Item 37. The coated abrasive article of Item 34, wherein the pattern of air flow paths further comprises an annular air flow passage intersecting radial curved paths or radial spiral paths, or a combination thereof.

항목 38. 코팅 연마물품으로서, 공기 유로들 패턴을 포함하고, 상기 공기 유로들 패턴은 조절된 불균일 분포 패턴의 x 및 y 좌표로부터 생성되는, 코팅 연마물품.Item 38. A coated abrasive article, comprising: a pattern of air flow paths, the pattern of air flow paths being generated from x and y coordinates of a controlled non-uniform distribution pattern.

항목 39. 제38항목에 있어서, 조절된 불균일 분포 패턴의 x 및 y 좌표는 식 (2)에 따라 전치 및 회전되어, 공기 유로들 패턴의x’ 및 y 좌표를 결정하고, 식 중 θ는 π/n 도이고 n은 임의의 정수인, 코팅 연마물품. Item 39. The method according to item 38, wherein the x and y coordinates of the adjusted non-uniform distribution pattern are transposed and rotated according to equation (2) to determine the x ' and y ' coordinates of the air flow patterns, / n, where n is an arbitrary integer.

Figure 112016004573392-pct00004
식 (2)
Figure 112016004573392-pct00004
Equation (2)

항목 40. 제39항목에 있어서, 조절된 불균일 분포 패턴은 엽서 패턴인, 코팅 연마물품.Item 40. The coated abrasive article of Item 39, wherein the controlled non-uniform distribution pattern is a postcard pattern.

항목 41. 제40항목에 있어서, 조절된 불균일 분포 패턴은 Vogel 식인, 코팅 연마물품. Item 41. The coated abrasive article of Item 40, wherein the controlled non-uniform distribution pattern is Vogel's equation.

항목 42. 제41항목에 있어서, n은 1 내지 10의 임의의 정수인, 코팅 연마물품.Item 42. The coated abrasive article of Item 41, wherein n is an arbitrary integer of 1 to 10.

항목 43. 제42항목에 있어서, n은 1, 2, 3, 4, 5, 또는 6인, 코팅 연마물품.Item 43. The coated abrasive article of Item 42, wherein n is 1, 2, 3, 4, 5, or 6.

항목 44. 제39항목에 있어서, 공기 유로들 패턴은 다수의 개구들, 공동들, 채널들, 경로들, 또는 이들의 조합으로 구성되는, 코팅 연마물품.Item 44. The coated abrasive article of Item 39, wherein the air flow patterns are comprised of a plurality of openings, cavities, channels, paths, or a combination thereof.

항목 45. 연마 시스템에 있어서, Item 45. A polishing system comprising:

코팅 연마제; 및Coating abrasive; And

지지패드를 포함하고,Comprising a support pad,

상기 코팅 연마제는 조절된 불균일 연마영역들 분포 패턴으로 구성되고, Wherein the coating abrasive is constituted by a distribution pattern of controlled nonuniform polishing areas,

상기 지지패드는 코팅 연마제의 연마영역들과 일치하도록 구성되는 패턴으로 배치되는 다수의 공기 유로들을 포함하는, 연마 시스템.Wherein the support pad comprises a plurality of air channels arranged in a pattern configured to coincide with the abrasive areas of the coating abrasive.

Claims (45)

연마물품에 있어서,
조절된 불균일 분포를 가지는 패턴으로 배열되는 다수의 연마영역들 및 인접 개방영역들을 포함하는 코팅 연마제를 포함하고, 패턴은 나선 엽서 패턴이고, 패턴은 다수의 시계방향 나선들 및 다수의 반시계방향 나선들을 가지고, 시계방향 나선들 개수 및 반시계방향 나선들 개수는 피보나치 수이거나 피보나치 수의 배수이고,
패턴은 다음 식에 의해 극좌표에서 기술되고,
Figure 112017074866610-pct00030
(식 1)
위 식에서,
n은 패턴 중심에서 외향으로 계수되는 연마영역의 순번이고,
Figure 112017074866610-pct00031
는 기준방향 및 패턴 중심에서 시작되는 극좌표계에서 n번째 연마영역의 위치벡터 사이의 각도여서, 임의의 두 연속 연마영역들의 위치벡터들 사이의 발산각이 일정 각도 α이고,
r은 패턴 중심에서 n번째 연마영역 중심까지의 거리이고,
c는 일정한 환산계수이며,
패턴은 극좌표에서 100° 부터 170°까지 범위의 발산각을 가지고,
패턴의 총 개방영역은 연마물품의 잠재적 총표면적의 65% 내지 99.5%이고,
연마영역들의 각각은 연마물품의 인접 개방영역들의 크기의 1/10 이상 내지 10배 이하의 폭을 가지며,
연마영역들의 각각은 0.1㎜ 부터 10㎝ 까지의 범위의 폭을 가지는, 연마물품.
In a polishing article,
A coating abrasive comprising a plurality of abrasive areas and adjacent open areas arranged in a pattern having a controlled non-uniform distribution, the pattern being a spiral postcard pattern, the pattern comprising a plurality of clockwise spirals and a plurality of counter- , The number of clockwise spirals and the number of counterclockwise spirals is a Fibonacci number or a multiple of the Fibonacci number,
The pattern is described in polar coordinates by the following equation,
Figure 112017074866610-pct00030
(Equation 1)
In the above equation,
n is the order number of the polishing region counted outward from the center of the pattern,
Figure 112017074866610-pct00031
Is the angle between the position vector of the n-th abrasive region in the reference direction and the polar coordinate system starting at the pattern center, so that the divergence angle between the position vectors of any two consecutive abrasive regions is a certain angle a,
r is the distance from the center of the pattern to the center of the n-th polishing region,
c is a constant conversion factor,
The pattern has divergent angles ranging from 100 ° to 170 ° in polar coordinates,
The total open area of the pattern is 65% to 99.5% of the total potential surface area of the abrasive article,
Each of the abrasive regions having a width of at least 1/10 and no more than 10 times the size of adjacent open regions of the abrasive article,
Each of the polishing regions having a width ranging from 0.1 mm to 10 cm.
제1항에 있어서, 적어도 51%의 연마영역들은 식 1을 따르는, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein at least 51% of the abrasive areas conform to formula (1). 삭제delete 제1청구항에 있어서, 패턴은 137.508° 의 발산각을 가지는, 연마물품.8. The abrasive article of claim 1, wherein the pattern has a divergence angle of 137.508 degrees. 제1항에 있어서, 적어도 80%의 총 연마영역이 식 1을 따르는, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein at least 80% of the total abrasive area follows equation (1). 제1항에 있어서, 다수의 연마영역들의 범위는 5 연마영역들 내지 10,000 연마영역들인, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein the range of the plurality of abrasive areas is from 5 to 10,000 abrasive areas. 제1항에 있어서, 패턴은 연마물품의 전체 정면을 덮고 있는, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein the pattern covers the entire front surface of the abrasive article. 제1항에 있어서, 패턴의 최외곽 연마영역 모서리는 연마물품의 모서리와 교차하는, 연마물품.The abrasive article of claim 1 wherein the edge of the outermost abrasive region of the pattern intersects the edge of the abrasive article. 제1항에 있어서, 패턴의 최외곽 연마영역 모서리는 연마물품의 모서리로부터 적어도 특정 (specific) 거리인, 연마물품.The abrasive article of claim 1 wherein the edge of the outermost abrasive region of the pattern is at least a specific distance from the edge of the abrasive article. 제1항에 있어서, 패턴은 연마물품 정면 일부만을 덮고 있는, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein the pattern covers only a portion of the front surface of the abrasive article. 삭제delete 제1항에 있어서, 패턴의 총 개방영역은 연마물품의 잠재적 총표면적의 80% 내지 95.5%인, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein the total open area of the pattern is between 80% and 95.5% of the total potential surface area of the abraded article. 제1항에 있어서, 연마 총표면적은 잠재적 총표면적의 4.5% 내지 35% 인, 연마물품.The abrasive article of claim 1, wherein the polishing total surface area is between 4.5% and 35% of the total potential surface area. 제1항에 있어서, 원반 형상을 가지는, 연마물품.The abrasive article of claim 1, having a disc shape. 제1항에 있어서, 연마영역들 형상은 단선 (short line)영역, 다각형들, 타원형들, 원형들, 원호들, 나선들, 소용돌이들, 나선 격자, 또는 이들의 조합 중 하나에서 선택되는, 연마물품.The method of claim 1, wherein the shape of the polishing regions is selected from one of a short line region, polygons, ellipses, circles, arcs, spirals, vortices, spiral gratings, article. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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