KR101821078B1 - 광학 재료용 중합성 조성물, 당해 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 및 플라스틱 렌즈 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, (A) 폴리이소시아네이트 화합물과, (B) 하기 화학식 (1)로 표시되고, 수평균 분자량이 100 이상인 폴리올 화합물과, (C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물(단, 상기 화합물 (B)를 제외함)과, (D) 포토크로믹 화합물을 포함하는 광학 재료용 중합성 조성물.

Description

광학 재료용 중합성 조성물, 당해 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 및 플라스틱 렌즈{POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR OPTICAL MATERIALS, OPTICAL MATERIAL AND PLASTIC LENS OBTAINED FROM COMPOSITION}
본 발명은 포토크로믹 화합물을 포함하는 광학 재료용 중합성 조성물, 당해 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 및 플라스틱 렌즈에 관한 것이다.
플라스틱 렌즈는, 무기 렌즈에 비해, 경량이며 깨지기 어려운 점에서, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 소자에 급속하게 보급되고 있다. 최근에는, 포토크로믹 성능을 갖는 플라스틱 렌즈의 개발이 진행되고 있다.
또한 그 중에서도 폴리(티오)우레탄으로부터 얻어지는 렌즈는, 고굴절률이고, 또한 강도 등의 물성이 우수한 점에서, 주목받고 있다.
특허문헌 1에는, 소정의 포토크로믹 화합물과, 디(메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는 조성물로 이루어지는, 렌즈가 기재되어 있다. 0009 단락에는, 굴절률이 높은 우레탄 수지나 티오우레탄 수지를 사용한 경우, 단량체의 단계에서 수지 원료인 이소시아네이트가 포토크로믹 화합물과 반응하여, 포토크로믹 성능을 전혀 나타내지 않게 된다고 기재되어 있다.
특허문헌 2에는, 크로멘 골격을 갖는 포토크로믹 화합물과 페놀화합물을 포함하는 조성물로 이루어지는 코팅층을, 티오우레탄계 플라스틱 렌즈의 표면에 설치한 렌즈가 개시되어 있다.
특허문헌 3에는, 티오우레탄 수지로 이루어지는 렌즈 기재와, 그 기재 위에, 포토크로믹 화합물과 라디칼 중합성 단량체를 포함하는 용액을 도포함으로써 형성된 포토크로믹막을 갖는 포토크로믹 렌즈가 개시되어 있다. 특허문헌 4에는, 포토크로믹 특성을 갖는 화합물이 개시되어 있다.
특허문헌 5에는, 지방족 이소시아네이트 화합물 및 지환족 이소시아네이트 화합물에서 선택되는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물과, 2관능 이상의 활성 수소 화합물과, 포토크로믹 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물이 개시되어 있다.
일본특허공개 평8-272036호 공보 일본특허공개 제2005-23238호 공보 일본특허공개 제2008-30439호 공보 일본특허공개 제2011-144181호 공보 국제공개공보 제2014/002844호 팸플릿 미국특허 제6506538호 일본특허공개 제2005-305306호 공보 국제공개공보 제2005/087829호 팸플릿 국제공개공보 제2006/109765호 팸플릿 국제공개공보 제2007/020817호 팸플릿 국제공개공보 제2007/020818호 팸플릿 국제공개공보 제2014/002844호 팸플릿
폴리(티오)우레탄으로 이루어지는 포토크로믹 성능을 갖는 광학 재료를 얻으려 해도, 특허문헌 1의 0009 단락에 기재되어 있는 바와 같이, 포토크로믹 화합물이, 단량체인 이소시아네이트와 반응하여, 포토크로믹 성능을 전혀 나타내지 않는다고 하는 문제가 있었다.
또한, 특허문헌 5에는, 특정한 폴리이소시아네이트 화합물을 사용한 폴리(티오)우레탄계의 광학 재료용 조성물에 의하면, 얻어지는 광학 재료에 포토크로믹 성능이 부여되는 것이 기재되어 있다. 그러나, 선글라스와 같은 차광을 주목적으로 하는 용도에는 광선 투과율의 변화량이라고 하는 점에서, 더욱 개선의 여지가 있었다.
본 발명은 이하에 나타낼 수 있다.
[1] (A) 폴리이소시아네이트 화합물과,
(B) 하기 화학식 (1)
Figure 112016075465750-pct00001
(화학식 (1) 중, m은 1 내지 20의 수치를 나타내고, k는 0 내지 2m을 나타내고, n은 1 내지 20의 수치를 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타내고, a는 0 이상의 수치를 나타내고, b는 0 이상의 수치를 나타내고, d는 0 이상의 수치를 나타내고, e는 1 이상의 수치를 나타낸다. Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다. Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다. Z는 방향족기를 포함하고 있어도 되는 탄소수 1 내지 30의 2가의 유기기를 나타내고, 복수 존재하는 Z는 동일해도 되고 달라도 된다)
로 표시되고, 수평균 분자량이 100 이상인 폴리올 화합물과,
(C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물(단, 상기 화합물 (B)를 제외함)과,
(D) 포토크로믹 화합물
을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
[2] 폴리이소시아네이트 화합물 (A)가, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트 및 디페닐메탄디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, [1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[3] 폴리올 화합물 (B)는 수평균 분자량이 100 이상이고, 하기 화학식 (I) 내지 하기 화학식 (IV)로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물;
Figure 112016075465750-pct00002
(화학식 (I) 중, p는 4 내지 100의 수치를 나타내고, X는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 동일해도 되고 달라도 된다)
Figure 112016075465750-pct00003
(화학식 (II) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는 각각 동일해도 되고 달라도 된다. Z는 치환 또는 비치환된 2가의 방향족기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 방향족기를 포함하고 있어도 되는 2가의 지방족기를 나타낸다)
Figure 112016075465750-pct00004
(화학식 (III) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는 각각 동일해도 되고 달라도 된다)
Figure 112016075465750-pct00005
(화학식 (IV) 중, m은 1 내지 20의 수치를 나타내고, k는 0 내지 2m을 나타내고, n은 1 내지 20의 수치를 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타내고, f는 0 이상의 수치를 나타내고, g는 1 이상의 수치를 나타내고, h는 1 이상의 수치를 나타내고, j는 1 이상의 수치를 나타낸다. Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다. Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다. R3은 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지 알킬렌기 또는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지 알킬기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 페닐렌기를 나타내고, 복수 존재하는 R3은 동일해도 되고 달라도 된다)
[4] 폴리올 화합물 (B)가 화학식 (I), 화학식 (III) 또는 화학식 (IV)로 표시되는 화합물인, [3]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[5] 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜인, [3] 또는 [4]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[6] 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 200 내지 4000인, [3] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[7] 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 300 내지 3000인, [3] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[8] 상기 화학식 (II)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 400 내지 2000인, [3] 또는 [4]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[9] 상기 화학식 (III)으로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 400 내지 2000인, [3] 또는 [4]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[10] 상기 화학식 (IV)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 600 내지 3000인, [3] 또는 [4]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[11] 활성 수소 화합물 (C)가 폴리올 화합물, 폴리티올 화합물 및 히드록시기를 갖는 티올 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, [1] 내지 [10] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[12] 활성 수소 화합물 (C)가 3관능 이상의 활성 수소 화합물인, [1] 내지 [11] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[13] 활성 수소 화합물 (C)가 글리세린, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판 및 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, [1] 내지 [12] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[14] 포토크로믹 화합물 (D)는 하기 화학식 (5)로 표시되는, [1] 내지 [13] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물;
Figure 112016075465750-pct00006
(화학식 중 R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로,
수소;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기, -NH2기, -NHR기, -N(R)2기(R이 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다. R이 2개 존재하는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 달라도 된다) 및 메타크릴로일기 또는 아크릴로일기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다)
를 나타내고,
R3은 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로, 할로겐 원자;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알콕시기;
적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 3 내지 12의 할로시클로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 할로알콕시기;
치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기 및 아미노기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다);
치환 또는 비치환된 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 알킬기 또는 알콕시기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
-NH2, -NHR, -CONH2 또는 -CONHR
(R이 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
-OCOR8 또는 -COOR8(여기서, R8이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기, 또는 R1, R2에 있어서, 치환 아릴 또는 치환 헤테로아릴기의 치환기 중 적어도 하나에 의해 치환되어 있는 페닐기 또는 비치환된 페닐기이다);
을 나타내고,
m이 0부터 4까지의 정수이고;
A가, 하기 화학식 (A2) 또는 화학식 (A4)
Figure 112016075465750-pct00007
의 아넬화환을 나타내고, 이들 아넬화환에 있어서,
점선이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 탄소 C6 결합을 나타내고;
아넬화환 (A4)의 α 결합이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 또는 탄소 C6에 결합될 수 있고;
R4가, 동일하거나 또는 다르며, 독립적으로, OH, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고, 또는 2개의 R4가 카르보닐(CO)을 형성하고;
R5가 할로겐;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기;
적어도 하나의 할로겐 원자에 의해 치환된, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알콕시기;
치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다);
-NH2, -NHR
(여기서, R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
치환 또는 비치환인 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 적어도 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 갖는다);
-COR9, -COOR9 또는 -CONHR9기(여기서, R9가, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다));
A가 (A4)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이고, p가 0부터 4까지의 정수이고, A가 (A2)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이다).
[15] 폴리이소시아네이트 화합물 (A)에 대한 폴리올 화합물 (B)의 관능기 당량비(B/A)가 0.02 내지 0.6, 폴리이소시아네이트 화합물 (A)에 대한 활성 수소 화합물 (C)의 관능기 당량비(C/A)가 0.4 내지 0.98인, [1] 내지 [14] 중 어느 하나 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[16] [1] 내지 [15] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 경화물로 이루어지는 성형체.
[17] [16]에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
[18] [16]에 기재된 성형체로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
[19] (A) 폴리이소시아네이트 화합물과,
(B) 하기 화학식 (1)
Figure 112016075465750-pct00008
(화학식 (1) 중, m은 1 내지 20의 수치를 나타내고, k는 0 내지 2m을 나타내고, n은 1 내지 20의 수치를 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타내고, a는 0 이상의 수치를 나타내고, b는 0 이상의 수치를 나타내고, d는 0 이상의 수치를 나타내고, e는 1 이상의 수치를 나타낸다. Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다. Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다. Z는 방향족기를 포함하고 있어도 되는 탄소수 1 내지 30의 2가의 유기기를 나타내고, 복수 존재하는 Z는 동일해도 되고 달라도 된다)
로 표시되고, 수평균 분자량이 100 이상인 폴리올 화합물과,
(C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물(단, 상기 화합물 (B)를 제외함)과,
(D) 포토크로믹 화합물을 혼합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 조제하는 공정과,
상기 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 내에 주형(注型) 중합함으로써 렌즈 기재를 형성하는 공정
을 포함하는, 플라스틱 렌즈의 제조 방법.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물에 의하면, 포토크로믹 화합물의 성능 저하를 일으키지 않고, 우수한 포토크로믹 성능을 발휘함과 함께, 기계적 강도 등의 물성도 우수한, 포토크로믹 화합물을 포함하는 폴리우레탄계 광학 재료 또는 폴리티오우레탄계 광학 재료를 얻을 수 있다.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물을, 이하의 실시 형태에 기초하여 설명한다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은,
(A) 폴리이소시아네이트 화합물과,
(B) 하기 화학식 (1)로 표시되고, 수평균 분자량이 100 이상인 폴리올 화합물과,
(C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물(단, 상기 화합물 (B)를 제외함)과,
(D) 포토크로믹 화합물
을 포함한다.
Figure 112016075465750-pct00009
(화학식 (1) 중, m은 1 내지 20의 수치를 나타내고, k는 0 내지 2m을 나타내고, n은 1 내지 20의 수치를 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타내고, a는 0 이상의 수치를 나타내고, b는 0 이상을 나타내고, d는 0 이상의 수치를 나타내고, e는 1 이상의 수치를 나타낸다. Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다. Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다. Z는 방향족기를 포함하고 있어도 되는 탄소수 1 내지 30의 2가의 유기기를 나타내고, 복수 존재하는 Z는 동일해도 되고 달라도 된다)
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 상기, (A) 내지 (C)의 화합물을 구성에 포함함으로써, 당해 조성물의 중합체 매트릭스 내에서의 포토크로믹 화합물 (D)의 이성화 반응의 장애를 효과적으로 억제하고 있는 것으로 추정된다. 즉, (A) 및 (C)의 화합물로 이루어지는 안경용 렌즈 등에 이용되고 있는 종래 수지에, 본 발명의 필수 성분인 (B)의 화합물을 첨가함으로써, 매트릭스 분자쇄 중에 포토크로믹 화합물의 이성화 반응이 일어나기 쉬워지는 적당한 공간이 형성되고, 그 결과, 양호한 포토크로믹 성능을 실현하고 있는 것으로 생각된다. 또한, 이 구성에 의해, 높은 포토크로믹 성능을 발휘함과 함께, 폴리(티오)우레탄계 수지의 특징인 우수한 기계적 물성을 갖는다고 하는, 밸런스가 우수한 광학 재료를 제공할 수 있다.
이하, 각 성분에 대해서 설명한다.
[(A) 폴리이소시아네이트 화합물]
폴리이소시아네이트 화합물 (A)로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥산디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아나토메틸에스테르, 리신트리이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, o-크실릴렌디이소시아네이트, p-크실릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)나프탈렌, 메시티릴렌트리이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)술피드, 비스(이소시아나토에틸)술피드, 비스(이소시아나토메틸)디술피드, 비스(이소시아나토에틸)디술피드, 비스(이소시아나토메틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)에탄, 비스(이소시아나토메틸티오)에탄 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물;
이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,2-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-2,4'-디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸 등의 지환족 폴리이소시아네이트 화합물;
디페닐술피드-4,4-디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 화합물;
2,5-디이소시아나토티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3, 4-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아나토-1,3-디티올란, 4,5-비스(이소시아나토메틸)-1,3-디티올란 등의 복소환 폴리이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 폴리이소시아네이트 화합물 (A)로서는, 이들에서 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물 (A)로서는, 단량체 이외에, 변성체 및/또는 변성체의 혼합물의 경우도 포함하고, 이소시아네이트의 변성체로서는, 예를 들어 다량체, 뷰렛 변성체, 알로파네이트 변성체, 옥사디아진트리온 변성체, 폴리올 변성체 등을 들 수 있다. 다량체로서는, 예를 들어 우레트디온, 우레토이민, 카르보디이미드 등의 2량체, 이소시아누레이트, 이미노옥사디아진디온 등의 3량체 이상의 다량체를 들 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물 (A)로서는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트가 바람직하고,
m-크실릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄이 보다 바람직하다. 이들 폴리이소시아네이트 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
[(B) 폴리올 화합물]
본 실시 형태에 있어서, 폴리올 화합물 (B)로서는, 하기 화학식 (1)로 표시되고, 수평균 분자량이 100 이상인 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있다.
Figure 112016075465750-pct00010
폴리올 화합물 (B)의 수평균 분자량은, 하한이, 100 이상, 바람직하게는 200 이상, 보다 바람직하게는 300 이상, 더욱 바람직하게는 400 이상이고, 상한이 4000 이하, 보다 바람직하게는 3000 이하, 더욱 바람직하게는 2000 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
화학식 (1) 중, m은 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 더욱 바람직하게는 2 내지 5의 수치를 나타낸다.
n은 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 더욱 바람직하게는 2 내지 5의 수치를 나타낸다.
a는 0 이상, 바람직하게는 0 내지 100, 더욱 바람직하게는 0 내지 25의 수치를 나타낸다.
b는 0 이상, 바람직하게는 0 내지 200, 더욱 바람직하게는 0 내지 100의 수치를 나타낸다.
d는 0 이상, 바람직하게는 1 내지 200, 더욱 바람직하게는 1 내지 100의 수치를 나타낸다.
e는 1 이상, 바람직하게는 1 내지 200, 더욱 바람직하게는 1 내지 100의 수치를 나타낸다.
k는 0 내지 2m을 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타낸다.
Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다.
Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다.
Z는 방향족기를 포함하고 있어도 되는 탄소수 1 내지 30의 2가의 유기기, 바람직하게는 방향족기를 포함하고 있어도 되는 탄소수 1 내지 20의 2가의 유기기이다. 복수 존재하는 Z는 동일해도 되고 달라도 된다.
「방향족기를 포함하고 있어도 되는 탄소수 1 내지 30의 2가의 유기기」로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1 내지 30의 치환 또는 비치환된 쇄상 또는 환상 지방족기;
페닐렌기, 나프틸렌기, 안트라세닐렌기, -C6H4-CH2-C6H4-기, 1,1-디페닐에탄기, 1,1,1-메틸디페닐에탄기, 디페닐프로판기, 디페닐에테르기, 디페닐술피드기, 디페닐술폭시드기, 디페닐술폰기, 디페닐케톤기, 페닐벤조에이트기, 비페닐기, 스틸벤기, 디아조벤젠기, 아닐린벤질리덴기 등의 치환 또는 비치환된 탄소수 6 이상 30 이하의 방향족기;
-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H4-CH2-기, -CH2-C6H3(Cl)-CH2-기, -C10H6-CH2-기, -CH2-C10H6-CH2-기, -CH2CH2-C6H4-CH2CH2-기 등의 치환 또는 비치환된 탄소수 6 이상 30 이하의 방향족-지방족기; 또는
-C(O)-R7-C(O)- (R7은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 20의 방향족기를 나타낸다), -C(O)-R8- (R8은 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지 알킬렌기를 나타낸다) 등의 탄소수 1 이상 30 이하의 카르보닐기 함유 화합물;
등을 들 수 있다.
이들 유기기는, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지 알콕시기 등으로 치환되어 있어도 된다.
본 실시 형태의 중합성 조성물로부터 얻어지는 중합체(성형체)에 양호한 발색 성능을 부여하기 위해서는, 첨가하는 폴리올 화합물 (B)의 분자량을 적절한 범위로 설정할 필요가 있다.
본 실시 형태에 있어서, 폴리올 화합물 (B)로서는, 화학식 (I) 내지 화학식 (IV)로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있다.
(화학식 (I)로 표시되는 화합물)
Figure 112016075465750-pct00011
화학식 (I) 중, p는 4 내지 100의 수치를 나타내고, 바람직하게는 15 내지 50의 수치를 나타낸다. X는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 동일해도 되고 달라도 된다. X는 바람직하게는 메틸기이다.
화학식 (I)로 표시되는 화합물로서는, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜을 들 수 있고, 이들은 에틸렌글리콜이나 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜 등의 저분자 올리고머를 포함하고 있어도 되고, 또한 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량은, 하한이 100 이상, 바람직하게는 200 이상, 보다 바람직하게는 300 이상, 더욱 바람직하게는 400 이상이고, 상한이 4000 이하, 보다 바람직하게는 3000 이하, 더욱 바람직하게는 2000 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이, 상기의 범위에 있는 것에 의해, 폴리(티오)우레탄 수지의 기계 강도 등의 우수한 특성을 손상시키는 일 없이 포토크로믹 성능을 효과적으로 발현할 수 있다.
예를 들어, 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리에틸렌글리콜인 경우, 수평균 분자량이 400 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하고, 수평균 분자량이 2000을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
또한, 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리프로필렌글리콜인 경우, 수평균 분자량이 400 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하고, 수평균 분자량이 1000을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
또한, 폴리프로필렌글리콜인 경우에는 폴리에틸렌글리콜보다 얻어지는 중합체에 따라 높은 내열성, 강성을 부여한다. 따라서, 안경용 렌즈와 같은 다양한 환경, 조건에서 사용되는 용도로는 폴리에틸렌글리콜보다 폴리프로필렌글리콜쪽이 보다 바람직한 경우가 있다.
(화학식 (II)로 표시되는 화합물)
Figure 112016075465750-pct00012
화학식 (II) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 바람직하게는 6 내지 25의 수치를 나타낸다. q 및 r은 q와 r의 합계가 2 내지 100의 수치, 바람직하게는 12 내지 50의 수치를 만족하도록 수치를 취할 수 있는 것이다.
R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는 각각 동일해도 되고 달라도 된다.
Z는 치환 또는 비치환된 2가의 방향족기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 방향족기를 포함하고 있어도 되는 2가의 지방족기를 나타낸다. 또한, Z는 -Ph-C(CH3)2-Ph-(Ph: 페닐렌기)를 포함하지 않는다.
치환 또는 비치환된 2가의 방향족기로서는, 페닐렌기, 나프틸렌기, 안트라센기, 디페닐메탄기, 1,1-디페닐에탄기, 1,1,1-메틸디페닐에탄기, 1,3-디페닐프로판기, 1,2-디페닐프로판기, 디페닐에테르기, 디페닐술피드기, 디페닐술폭시드기, 디페닐술폰기, 디페닐케톤기, 페닐벤조에이트기, 비페닐기, 스틸벤기, 디아조벤젠기, 아닐린벤질리덴기 및 이들 유도체 등을 들 수 있다.
치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 방향족기를 포함하고 있어도 되는 2가의 지방족기로서는, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬렌기, 탄소수 1 내지 20의 비스 알콕시 방향족 화합물로부터 유도되는 2가의 기 등을 들 수 있다.
치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬렌기로서는, 부틸렌기, 펜틸렌 기, 노닐렌기 등을 들 수 있다.
탄소수 1 내지 20의 비스 알콕시 방향족 화합물로서는, 1,4-비스(히드록시에톡시)벤젠, 1,3-비스(히드록시에톡시)벤젠, 2,2-[(1,1-비페닐)-4,4-디일비스(옥시)]비스에탄올 등을 들 수 있다.
2가의 방향족기 및 2가의 지방족기의 치환기로서는, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기 등을 들 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, Z가, 페닐렌기, 나프틸렌기, 비페닐렌기인 것이 바람직하다.
화학식 (II)로 표시되는 화합물로서는, 1,4-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,9-노난디올, 1,4-비스(히드록시에톡시)벤젠, 1,3-비스(히드록시에톡시)벤젠, 2,2-[(1,1-비페닐)-4,4-디일비스(옥시)]비스에탄올 등의 폴리에틸렌글리콜 부가체 또는 폴리프로필렌글리콜 부가체 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
또한, 화학식 (II)로 표시되는 화합물은, 화학식 (III)으로 표시되는 화합물을 포함하지 않는다.
화학식 (II)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량은, 하한이 200 이상, 바람직하게는 300 이상, 보다 바람직하게는 400 이상, 더욱 바람직하게는 500 이상이고, 상한이 4000 이하, 바람직하게는 3000 이하, 보다 바람직하게는 2000 이하, 더욱 바람직하게는 1000 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
화학식 (II)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이, 상기 범위에 있는 것에 의해, 폴리(티오)우레탄 수지의 기계 강도 등의 우수한 특성을 손상시키는 일 없이 포토크로믹 성능을 효과적으로 발현할 수 있다.
(화학식 (III)으로 표시되는 화합물)
Figure 112016075465750-pct00013
화학식 (III) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 바람직하게는 6 내지 25의 수치를 나타낸다. q 및 r은 q와 r의 합계가 2 내지 100의 수치, 바람직하게는 12 내지 50의 수치를 만족하도록 수치를 취할 수 있는 것이다.
R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는 각각 동일해도 되고 달라도 된다.
화학식 (III)으로 표시되는 화합물로서는, 비스페놀 A의 폴리에틸렌글리콜 부가체나 비스페놀 A의 폴리프로필렌글리콜 부가체 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
화학식 (III)으로 표시되는 화합물의 수평균 분자량은, 하한이 200 이상, 바람직하게는 300 이상, 보다 바람직하게는 400 이상, 더욱 바람직하게는 500 이상이고, 상한이 4000 이하, 바람직하게는 3000 이하, 보다 바람직하게는 2000 이하, 더욱 바람직하게는 1500 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
화학식 (III)으로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이, 상기 범위에 있는 것에 의해, 폴리(티오)우레탄 수지의 기계 강도 등의 우수한 특성을 손상시키는 일 없이 포토크로믹 성능을 효과적으로 발현할 수 있다.
예를 들어, 화학식 (III)으로 표시되는 화합물이 비스페놀 A의 폴리에틸렌글리콜 부가체나 비스페놀 A의 폴리프로필렌글리콜 부가체의 경우, 수평균 분자량이 400 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하고, 수평균 분자량이 1000을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
(화학식 (IV)로 표시되는 화합물)
Figure 112016075465750-pct00014
화학식 (IV) 중, m은 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 더욱 바람직하게는 2 내지 5의 수치를 나타낸다.
n은 1 내지 20, 바람직하게는 1 내지 10, 더욱 바람직하게는 2 내지 5의 수치를 나타낸다.
f는 0 이상, 바람직하게는 0 내지 100, 더욱 바람직하게는 0 내지 25의 수치를 나타낸다.
g는 1 이상, 바람직하게는 1 내지 200, 더욱 바람직하게는 1 내지 100의 수치를 나타낸다.
h는 1 이상, 바람직하게는 1 내지 200, 더욱 바람직하게는 1 내지 100의 수치를 나타낸다.
j는 1 이상, 바람직하게는 1 내지 200, 더욱 바람직하게는 1 내지 100의 수치를 나타낸다.
k는 0 내지 2m을 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타낸다.
Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다.
Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다.
R3은 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지 알킬렌기 또는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지 알킬기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 페닐렌기를 나타낸다. 복수 존재하는 R3은 동일해도 되고 달라도 된다.
화학식 (IV)로 표시되는 화합물로서는, 디올 화합물과 디카르복실산으로 이루어지는 폴리에스테르 화합물을 들 수 있다.
폴리에스테르 화합물을 구성하는 디올 화합물로서는 특별히 한정은 없지만, 주쇄의 탄소수 2 내지 12의 지방족 디올이 적절하게 사용되고, 이들의 예로서 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,9-노난디올 등을 들 수 있다.
또한, 폴리에스테르 화합물을 구성하는 디카르복실산으로서도 특별히 한정은 없지만, 주쇄의 탄소수 2 내지 12의 지방족 디카르복실산이나 방향족 디카르복실산이 적절하게 사용되고, 이들의 예로서 숙신산, 아디프산, 세바스산, 이소프탈산, 테레프탈산 등을 들 수 있다.
폴리에스테르 화합물은 이들 디올 화합물의 1종 또는 2종 이상과, 디카르복실산의 1종 또는 2종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 락톤을 개환 중합해서 얻어지는 폴리에스테르 화합물도 본 발명에 사용할 수 있다. 락톤 화합물의 예로서는, α-아세토락톤, β-프로피오락톤, γ-부티로락톤, δ-발레로락톤 등을 들 수 있다.
화학식 (IV)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량은, 하한이 600 이상, 바람직하게는 800 이상, 더욱 바람직하게는 1000 이상이고, 상한은 4000 이하, 보다 바람직하게는 3000 이하, 더욱 바람직하게는 2000 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
화학식 (IV)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이, 상기의 범위에 있는 것에 의해, 폴리(티오)우레탄 수지의 기계 강도 등의 우수한 특성을 손상시키는 일 없이 포토크로믹 성능을 효과적으로 발현할 수 있다.
예를 들어, 화학식 (IV)로 표시되는 화합물이, 3-메틸-1,5-펜탄디올에 아디프산과 이소프탈산의 등몰 혼합물을 등몰로 반응시킨 폴리에스테르 화합물의 경우, 수평균 분자량이 1000 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하고, 수평균 분자량이 2000을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
상기와 같은 화합물로 이루어지는 폴리올 화합물 (B)를 사용함으로써, 포토크로믹 성능을 효과적으로 발현할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 폴리올 화합물 (B)로서, 화학식 (I)로 표시되는 화합물 내지 화학식 (IV)로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있고, 상기 효과의 관점에서, 화학식 (I), 화학식 (III) 또는 화학식 (IV)로 표시되는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 폴리올 화합물 (B)는 2관능 이상의 활성 수소 화합물 (C)의 중량에 대하여 0.3 중량배 내지 6중량배의 범위에서 사용할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 높은 포토크로믹 성능을 유지한 채 용도에 따라 요구되는 수지 성능이 얻어지도록 당해 범위 내에서 사용된다. 바람직하게는 0.7 중량배 내지 5중량배의 범위이다.
활성 수소 화합물 (C)에 대한 폴리올 화합물 (B)의 중량배가, 상기의 범위에 있는 것에 의해, 높은 조광 성능, 즉 짙은 발색 농도와 이른 농도 변화를 적절하게 발휘할 수 있다. 또한, 가교 밀도가 최적인 범위가 되기 때문에, 강성, 표면 경도, 내열성 등이 보다 우수한 광학 재료를 얻을 수 있다.
[(C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물]
2관능 이상의 활성 수소 화합물 (C)(이하, 간단히 「활성 수소 화합물 (C)」)로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리올 화합물, 폴리티올 화합물, 히드록시기를 갖는 티올 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 적절히 조합해서 사용할 수 있다. 또한, 활성 수소 화합물 (C)은 상기 폴리올 화합물 (B)를 포함하지 않는다.
폴리올 화합물로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 부탄트리올, 1,2-메틸글루코사이드, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨, 소르비톨, 에리트리톨, 트레이톨, 리비톨, 아라비니톨, 크실리톨, 알리톨, 만니톨, 둘시톨, 이디톨, 글리콜, 이노시톨, 헥산트리올, 트리글리세로스, 디글리페롤, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 시클로부탄디올, 시클로펜탄디올, 시클로헥산디올, 시클로헵탄디올, 시클로옥탄디올, 시클로헥산디메탄올, 히드록시프로필시클로헥산올, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-디메탄올, 비시클로[4,3,0]-노난디올, 디시클로헥산디올, 트리시클로[5,3,1,1]도데칸디올, 비시클로[4,3,0]노난디메탄올, 트리시클로[5,3,1,1]도데칸-디에탄올, 히드록시프로필트리시클로[5,3,1,1]도데칸올, 스피로[3,4]옥탄디올, 부틸시클로헥산디올, 1,1'-비시클로헥실리덴디올, 시클로헥산트리올, 말티톨, 락토오스 등의 지방족 폴리올;
디히드록시나프탈렌, 트리히드록시나프탈렌, 테트라히드록시나프탈렌, 디히드록시벤젠, 벤젠트리올, 비페닐테트라올, 피로갈롤, (히드록시나프틸)피로갈롤, 트리히드록시페난트렌, 비스페놀A, 비스페놀F, 크실릴렌글리콜, 디(2-히드록시에톡시)벤젠, 비스페놀A-비스-(2-히드록시에틸에테르), 테트라브롬비스페놀A, 테트라브롬비스페놀A-비스-(2-히드록시에틸에테르) 등의 방향족 폴리올;
디브로모네오펜틸글리콜 등의 할로겐화 폴리올;
에폭시 수지 등의 고분자 폴리올을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 이들에서 선택되는 적어도 1종을 조합해서 사용할 수 있다.
또한, 폴리올 화합물로서 그 외에, 옥살산, 글루탐산, 아디프산, 아세트산, 프로피온산, 시클로헥산카르복실산, β-옥소시클로헥산프로피온산, 다이머산, 프탈산, 이소프탈산, 살리실산, 3-브로모프로피온산, 2-브로모글리콜, 디카르복시시클로헥산, 피로멜리트산, 부탄테트라카르복실산, 브로모프탈산 등의 유기산과 상기 폴리올과의 축합 반응 생성물;
상기 폴리올과에틸렌옥시드나 프로필렌옥시드 등 알킬렌옥시드와의 부가 반응 생성물;
알킬렌폴리아민과 에틸렌옥사이드나, 프로필렌옥사이드 등 알킬렌옥사이드와의 부가 반응 생성물; 나아가,
비스-[4-(히드록시에톡시)페닐]술피드, 비스-[4-(2-히드록시프로폭시)페닐]술피드, 비스-[4-(2,3-디히드록시프로폭시)페닐]술피드, 비스-[4-(4-히드록시시클로헥시록시)페닐]술피드, 비스-[2-메틸-4-(히드록시에톡시)-6-부틸페닐]술피드 및 이들 화합물에 수산기당 평균 3분자 이하의 에틸렌옥시드 및/또는 프로필렌옥시드가 부가된 화합물;
디-(2-히드록시에틸)술피드, 1,2-비스-(2-히드록시에틸머캅토)에탄, 비스(2-히드록시에틸)디술피드, 1,4-디티안-2,5-디올, 비스(2,3-디히드록시프로필)술피드, 테트라키스(4-히드록시-2-티아부틸)메탄, 비스(4-히드록시페닐)술폰(상품명 비스페놀 S), 테트라브로모비스페놀S, 테트라메틸비스페놀S, 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀, 1,3-비스(2-히드록시에틸티오에틸)-시클로헥산 등의 황 원자를 함유한 폴리올 등을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 이들에서 선택되는 적어도 1종을 조합해서 사용할 수 있다.
폴리티올 화합물로서는, 예를 들어 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,2-시클로헥산디티올, 비스(2-머캅토에틸)에테르, 테트라키스(머캅토메틸)메탄, 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올에탄트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토메틸)술피드, 비스(머캅토메틸)디술피드, 비스(머캅토에틸)술피드, 비스(머캅토에틸)디술피드, 비스(머캅토프로필)술피드, 비스(머캅토메틸티오)메탄, 비스(2-머캅토에틸티오)메탄, 비스(3-머캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(머캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-머캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-머캅토프로필티오)에탄, 1,2,3-트리스(머캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-머캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-머캅토프로필티오)프로판, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(머캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-머캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-머캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디머캅토프로필)술피드, 2,5-디머캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-디머캅토-1,4-디티안, 2,5-디머캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안 및 이들 티오글리콜산 및 머캅토프로피온산의 에스테르, 히드록시메틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸디술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸디술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 2-머캅토에틸에테르비스(2-머캅토아세테이트), 2-머캅토에틸에테르비스(3-머캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(머캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 트리스(머캅토메틸티오)메탄, 트리스(머캅토에틸티오)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물;
1,2-디머캅토벤젠, 1,3-디머캅토벤젠, 1,4-디머캅토벤젠, 1,2-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리머캅토 벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토에틸렌옥시)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,5-나프탈렌디티올, 2,6-나프탈렌디티올 등의 방향족 폴리티올 화합물;
2-메틸아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 3,4-티오펜디티올, 비스무티올, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 등의 복소환 폴리티올 화합물;
하기 화학식 (2)
Figure 112016075465750-pct00015
(화학식 중 a, b는, 독립적으로 1 내지 4의 정수를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다. Z는 수소 또는 메틸기이며, Z가 복수 존재하는 경우에는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다)로 표시되는 화합물 등
을 들 수 있지만, 이들 예시 화합물만에 한정되는 것은 아니다. 본 실시 형태에 있어서는, 이들에서 선택되는 적어도 1종을 조합해서 사용할 수 있다.
히드록시기를 갖는 티올 화합물로서는, 예를 들어 2-머캅토에탄올, 3-머캅토-1,2-프로판디올, 글루세린비스(머캅토아세테이트), 4-머캅토페놀, 2,3-디머캅토-1-프로판올, 펜타에리트리톨트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(티오글리콜레이트) 등
을 들 수 있지만, 이들 예시 화합물만에 한정되는 것은 아니다.
또한 이들 활성 수소 화합물의 올리고머나 염소 치환체, 브롬 치환체 등의 할로겐 치환체를 사용해도 된다. 이들 활성 수소 화합물은 단독이어도 되고, 2종류 이상을 혼합해도 사용할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서는, 얻어지는 성형체의 기계적 강도 등의 물성의 관점에서, 활성 수소 화합물 (C)로서, 3관능 이상의 활성 수소 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
구체적으로는, 글리세린, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트)에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하게 사용된다.
또한, 폴리올 화합물 (B)와 활성 수소 화합물 (C)의 바람직한 조합으로서는,
폴리에틸렌글리콜과, 글리세린, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트) 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄에서 선택되는 적어도 1종과의 조합,
폴리프로필렌글리콜과, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트) 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄에서 선택되는 적어도 1종과의 조합,
비스페놀 A의 폴리프로필렌글리콜 부가체와, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄과의 조합,
3-메틸-1,5-펜탄디올, 아디프산, 이소프탈산으로 이루어지는 폴리에스테르 화합물에서 선택되는 적어도 1종과, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄과의 조합, 등을 들 수 있지만, 이들 조합에 한정되는 것은 아니다.
[(D) 포토크로믹 화합물]
본 실시 형태에 있어서, 포토크로믹 화합물 (D)로서는, 특별히 제한은 없고, 포토크로믹 렌즈에 사용할 수 있는 종래 공지된 화합물 중에서, 임의의 것을 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 예를 들어, 스피로피란계 화합물, 스피로옥사진계 화합물, 풀기드계 화합물, 나프토피란계 화합물, 비스이미다졸 화합물로부터 원하는 착색에 따라서, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
상기 스피로피란계 화합물의 예로서는, 인돌리노스피로벤조피란의 인돌환 및 벤젠환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로나프토피란의 인돌환 및 나프탈렌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로퀴놀리노피란의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로피리도피란의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 등을 들 수 있다.
상기 스피로옥사진계 화합물의 예로서는, 인돌리노스피로벤조옥사진의 인돌환 및 벤젠환으로 치환된 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로나프토옥사진의 인돌환 및 나프탈렌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로페난트로옥사진의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로퀴놀리노옥사진의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 피페리디노스피로나프토옥사진의 피페리딘환 및 나프탈렌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 등을 들 수 있다.
상기 풀기드계 화합물의 예로서는, N-시아노메틸-6,7-디히드로-4-메틸-2-페닐스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸〕, N-시아노메틸-6,7-디히드로-2-(p-메톡시페닐)-4-메틸스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸, 6,7-디히드로-N-메톡시카르보닐메틸-4-메틸-2-페닐스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸, 6,7-디히드로-4-메틸-2-(p-메틸페닐)-N-니트로메틸스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸), N-시아노메틸-6,7-디히드로-4-시클로프로필-3-메틸스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸), N-시아노메틸-6,7-디히드로-4-시클로프로필스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸), N-시아노메틸-6,7-디히드로-2-(p-메톡시페닐)-4-시클로프로필스피로(5,6-벤조〔b〕티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로〔3.3.1.13,7〕데칸), 등을 들 수 있다.
상기 나프토피란계 화합물의 예로서는, 스피로〔노르보르난-2,2'-〔2H〕벤조〔h〕크로멘〕, 스피로〔비시클로〔3.3.1〕노난-9,2'-〔2H〕벤조〔h〕크로멘〕, 7'-메톡시스피로〔비시클로〔3.3.1〕노난-9,2'-〔2H〕벤조〔h〕크로멘〕, 7'-메톡시스피로〔노르보르난-2,2'-〔2H〕벤조〔f〕크로멘〕, 2,2-디메틸-7-옥톡시〔2H〕벤조〔h〕크로멘, 스피로〔2-비시클로〔3.3.1〕노넨-9,2'-〔2H〕벤조〔h〕크로멘〕, 스피로〔2-비시클로〔3.3.1〕노넨-9,2'-〔2H〕벤조〔f〕크로멘〕, 6-모르폴리노-3,3-비스(3-플루오로-4-메톡시페닐)-3H-벤조(f)크로멘, 5-이소프로필-2,2-디페닐-2H-벤조(h)크로멘 등이나, 하기 화학식 (3)으로 표시되는 화합물이나 하기 화학식 (4)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
Figure 112016075465750-pct00016
Figure 112016075465750-pct00017
화학식 (3) 및 화학식 (4) 중, R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로, 수소;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기;
아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다)를 나타낸다.
치환된 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 치환된 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기의 치환기는, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기, -NH2기, -NHR기, -N(R)2기(R은 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다. R이 2개 존재하는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 달라도 된다) 및 메타크릴로일기 또는 아크릴로일기로부터 적어도 하나 선택된다.
R3은 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로, 할로겐 원자;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알콕시기;
적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 3 내지 12의 할로시클로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 할로알콕시기;
치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기 및 아미노기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다);
치환 또는 비치환된 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 알킬기 또는 알콕시기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
-NH2, -NHR, -CONH2 또는 -CONHR
(R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
-OCOR8 또는 -COOR8(여기서, R8이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기, 또는 R1, R2에 있어서, 치환 아릴 또는 치환 헤테로아릴기의 치환기 중 적어도 하나에 의해 치환되어 있는 페닐기 또는 비치환된 페닐기이다);
을 나타낸다.
적어도 2개의 인접하는 R3끼리가 결합하고, R3가 결합하고 있는 탄소 원자를 포함하고, 1개 이상의 방향환기 또는 비방향환기를 형성할 수 있다. 방향환기 또는 비방향환기는, 산소, 황 및 질소로 이루어지는 군에서 선택되는 헤테로 원자를 포함하고 있어도 되는 1개의 환 또는 2개의 아넬화된 환을 포함한다.
l은, 0부터 2까지의 정수이다. m은, 0부터 4까지의 정수이다.
또한, 그 외에, 나프토피란계 화합물로서, WO2013/78086 공보, WO2012/149599 공보, WO2010/020770 공보, WO2009/146509 공보에 기재된 폴리실록산올리고머, 폴리알킬렌옥사이드, 폴리알킬에스테르 각각 중 적어도 하나의 말단에 조광 염료 분자가 부가한 화합물이나, 상기 기재된 화학식 (3) 또는 화학식 (4)로 표시되는 구조가 연결기로 결합되어, 1분자 중에 나프토피란환을 2개 이상 포함하는 화합물 등을 들 수 있다.
화학식 (3)으로 표시되는 나프토피란계 화합물에 있어서, 하기 화학식 (5)로 표시되는 화합물(이하, 화합물 (5)라고도 표기함)을 바람직한 예로서 들 수 있다.
Figure 112016075465750-pct00018
R1, R2, R3, m은, 상기와 동일하고, A는, 하기 화학식 (A1) 내지 (A5)의 아넬화환을 나타낸다.
Figure 112016075465750-pct00019
이들 아넬화환 (A1) 내지 (A5)에 있어서, 점선이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 탄소 C6 결합을 나타낸다. 아넬화환 (A4) 또는 (A5)의 α 결합이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 또는 탄소 C6에 결합된다.
R4가, 동일하거나 또는 다르고, 독립적으로, OH, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고, 또는 2개의 R4가 카르보닐(CO)을 형성한다.
R5, R6 및 R7이, 독립적으로, 할로겐 원자(바람직하게는 불소, 염소 또는 브롬);
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기(바람직하게는, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기);
적어도 하나의 할로겐 원자에 의해 치환된, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기(바람직하게는, 플루오로알킬기);
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알콕시기;
치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다);
-NH2, -NHR
(여기서, R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
치환 또는 비치환인 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 적어도 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 갖는다);
-COR9, -COOR9 또는 -CONHR9기(여기서, R9가, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다)를 나타낸다)를 나타낸다.
n이 0부터 6까지의 정수이고, o가 0부터 2까지의 정수이고, p가 0부터 4까지의 정수이고, q가 0부터 3까지의 정수이다.
또한, A가 (A4)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이고, p가 0부터 4까지의 정수이고, A가 (A2)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이다.
화학식 (5)의 포토크로믹 화합물 (D)는 요구되고 있는 용도에 적용되는 변색 반응 속도와 조합되고, 40℃에서조차 높은 착색 적성을 갖는다. 용이하게 달성할 수 있는 색은, 오렌지색부터 청색에까지 이른다.
또한, 본 실시 형태에 있어서, A=(A1)인 화합물 (5), A=(A2)인 화합물 (5), A=(A3)인 화합물 (5), A=(A4)인 화합물 (5) 및 A=(A5)인 화합물 (5)로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 상이한 종류에 속하는 화합물 (5)의 혼합물도 포함한다.
본 실시 형태에서는, 화합물 (5)로서, 하기 화학식 (6)으로 표시되는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다.
Figure 112016075465750-pct00020
Ar1, Ar2는, 방향족기이며, 이들은 동일해도 되고 달라도 되며, 치환되어 있어도 되는 벤젠환 또는 티오펜환을 나타낸다. 벤젠환 또는 티오펜환의 치환기로서는, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬모노(또는 디)치환아미노기를 들 수 있다. R3, R4, R5, m, n, p는 상기와 동의이다.
화합물 (5)로서, 하기 화학식 (7)로 표시되는 화합물을 더욱 바람직하게 사용할 수 있다.
Figure 112016075465750-pct00021
화학식 (7) 중, R10, R11은 서로 동일해도 되고 달라도 되며, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬 모노(또는 디)치환 아미노기를 나타낸다. m이 2일 때, 인접하는 R3끼리가 결합하고, R3이 결합하고 있는 탄소 원자를 포함해서 환구조를 형성할 수 있다. r, s는, 0 내지 4의 정수이다. 상기 환구조는, 치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 3 내지 24의 헤테로아릴기이다.
R3, R4, R5, m, n, p는 상기와 동의이다.
화학식 (7)로 표시되는 화합물의 구체예로서는, 하기 화학식 (8) 또는 하기 화학식 (9)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 화학식 (8) 및 화학식 (9)로 표시되는 화합물이 바람직하다.
Figure 112016075465750-pct00022
Figure 112016075465750-pct00023
포토크로믹 화합물 (D)인 화학식 (5)로 표시되는 화합물은, 공지된 방법으로 합성할 수 있다. 예를 들어, 일본 특허 공표 제2004-500319호에 기재된 방법으로 합성할 수도 있다.
또한, 화학식 (3)으로 표시되는 나프토피란계 화합물의 추가의 구체예로서는, 하기 화학식 (10)으로 표시되는 화합물을 바람직한 예로서 들 수 있다.
Figure 112016075465750-pct00024
나프토피란계 화합물로서는, 상기에 기재된 화합물에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물을 사용해도 된다.
[그 밖의 성분]
본 실시 형태에 있어서는, 상기 (A) 내지 (D) 성분 외에, 중합 촉매, 내부 이형제, 수지 개질제 등을 더 포함하고 있어도 된다.
중합 촉매로서는, 3급 아민 화합물 및 그 무기산염 또는 유기산염, 금속 화합물, 4급 암모늄염 또는 유기 술폰산을 들 수 있다.
내부 이형제로서는, 산성인산에스테르를 사용할 수 있다. 산성인산에스테르로서는, 인산모노에스테르, 인산디에스테르를 들 수 있고, 각각 단독 또는 2종류 이상 혼합해서 사용할 수 있다.
수지 개질제로서는, 예를 들어, 에피술피드 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 에폭시 화합물, 유기산 및 그의 무수물, (메트)아크릴레이트 화합물 등을 포함하는 올레핀 화합물 등을 들 수 있다.
<광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법>
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 이소시아네이트 화합물 (A), 폴리올 화합물 (B), 활성 수소 화합물 (C) 및 포토크로믹 화합물 (D)를 혼합하여, 조제할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 폴리이소시아네이트 화합물 (A)에 대한 폴리올 화합물 (B)의 관능기 당량비(B/A)는 하한이 0.02 이상, 바람직하게는 0.10 이상, 보다 바람직하게는 0.15 이상, 더욱 바람직하게는 0.20 이상, 특히 바람직하게는 0.25 이상, 상한이 0.60 이하, 바람직하게는 0.50 이하, 보다 바람직하게는 0.40 이하, 더욱 바람직하게는 0.30 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물 (A)에 대한 활성 수소 화합물 (C)의 관능기 당량비(C/A)는 하한이 0.30 이상, 바람직하게는 0.40 이상, 보다 바람직하게는 0.50 이상, 더욱 바람직하게는 0.60 이상, 상한이 0.99 이하, 바람직하게는 0.98 이하, 보다 바람직하게는 0.90 이하, 더욱 바람직하게는 0.80 이하이다. 상한과 하한은 적절히 조합할 수 있다.
당해 당량비의 범위인 것에 의해, 높은 포토크로믹 성능을 발휘함과 함께, 폴리(티오)우레탄계 수지의 특징인 우수한 기계적 물성을 갖는다는, 밸런스가 우수한 광학 재료를 제공할 수 있다.
예를 들어, 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리에틸렌글리콜의 경우, 관능기 당량비(B/A)가 0.1 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 또한 관능기 당량비(B/A)가 0.6을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
또한, 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리프로필렌글리콜의 경우, 관능기 당량비(B/A)가 0.06 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 또한 관능기 당량비(B/A)가 0.6을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
또한, 화학식 (II)로 표시되는 화합물에 대해서는, 관능기 당량비(B/A)가 0.06 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 또한 관능기 당량비(B/A)가 0.6을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
또한, 화학식 (III)으로 표시되는 화합물이, 비스페놀 A의 폴리에틸렌글리콜 부가체나 비스페놀 A의 폴리프로필렌글리콜 부가체의 경우, 관능기 당량비(B/A)가 0.06 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 또한 관능기 당량비(B/A)가 0.6을 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
또한, 화학식 (IV)로 표시되는 화합물이, 3-메틸-1,5-펜탄디올에 아디프산과 이소프탈산의 등몰 혼합물을 등몰로 반응시킨 폴리에스테르 화합물의 경우, 관능기 당량비(B/A)가 0.02 미만이면 발색 성능의 개선을 충분히 얻지 못하는 경우가 있다. 또한 관능기 당량비(B/A)가 0.2를 초과하면 중합체가 백탁되는 경우가 있다.
상기 조성물에 있어서, 폴리이소시아네이트 화합물 (A) 중의 NCO기에 대한, 활성 수소 화합물 (C)와 폴리올 화합물 (B) 중의 OH기와 SH기의 총합 몰비(NCO기/(OH기+SH기))는, 통상 0.8 내지 1.2의 범위 내이며, 바람직하게는 0.85 내지 1.15의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 1.1의 범위 내이다.
NCO기/(OH기+SH기)의 몰비가 0.8 이상이면 미반응된 OH기나 SH기가 남지 않아, 조성물이 충분히 경화하여, 내열성, 내습성, 내광성이 우수한 수지가 얻어지고, NCO기/(OH기+SH기)의 비율이 1.2 이하이면 미반응된 NCO기가 남지 않아 내열성, 내습성, 내광성이 우수한 수지가 얻어져서, 미반응된 NCO기를 저감시키기 위해서 반응 온도를 높일 필요도 없고, 착색 등의 결점이 보이지 않아, 수지 재료로서 바람직하다.
포토크로믹 화합물 (D)는 이소시아네이트 화합물 (A), 폴리올 화합물 (B) 및 활성 수소 화합물 (C)의 합계량에 대하여, 10ppm 내지 5000ppm으로 사용할 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물 (A)와, 폴리올 화합물 (B)와, 활성 수소 화합물 (C)와, 포토크로믹 화합물 (D)와, 그 외 첨가제를 혼합해서 중합성 조성물을 제조하는 경우의 온도는 통상 25℃ 이하에서 행해진다. 중합성 조성물의 가용 시간의 관점에서, 저온으로 하면 더욱 바람직한 경우가 있다. 단, 촉매, 내부 이형제, 첨가제의 단량체에의 용해성이 양호하지 않은 경우에는, 미리 가온하여, 단량체, 수지 개질제에 용해시키는 것도 가능하다.
조성물 중의 각 성분의 혼합 순서나 혼합 방법은, 각 성분을 균일하게 혼합할 수 있으면 특별히 한정되지 않으며 공지된 방법으로 행할 수 있다. 공지된 방법으로서는, 예를 들어, 첨가제를 소정량 포함하는 마스터 배치를 제작하여, 이 마스터 배치를 용매에 분산·용해시키는 방법 등이 있다.
본 실시 형태에 있어서, 광학 재료의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 제조 방법으로서 주형 중합을 들 수 있다. 처음에, 가스킷 또는 테이프 등으로 유지된 성형 몰드 사이에 중합성 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 플라스틱 렌즈에 요구되는 물성에 따라서는, 필요에 따라서, 감압 하에서의 탈포 처리나 가압, 감압 등의 여과 처리 등을 행하는 것이 바람직한 경우가 많다.
중합 조건에 대해서는, 중합성 조성물의 조성, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 따라 크게 조건이 다르기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 약, -50 내지 150℃의 온도에서 1 내지 50시간 걸쳐서 행해진다. 경우에 따라서는, 10 내지 150℃의 온도 범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 1 내지 25시간으로 경화시키는 것이 바람직하다.
광학 재료는, 필요에 따라서, 어닐 등의 처리를 행해도 된다. 처리 온도는 통상 50 내지 150℃ 사이에서 행해지지만, 90 내지 140℃에서 행하는 것이 바람직하고, 100 내지 130℃에서 행하는 것이 보다 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서, 수지를 성형할 때에는, 상기 「그 밖의 성분」에 더해, 목적에 따라서 공지된 성형법과 마찬가지로, 쇄연장제, 가교제, 광안정제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 블루잉제, 유용 염료, 충전제, 밀착성 향상제 등의 다양한 첨가제를 첨가해도 된다.
<용도>
본 실시 형태의 중합성 조성물은, 주형 중합 시의 몰드의 종류를 바꿈으로써 다양한 형상의 성형체로서 얻을 수 있다. 성형체는, 포토크로믹 성능을 갖춤과 함께, 높은 굴절률 및 높은 투명성을 구비하고, 플라스틱 렌즈 등의 각종 광학 재료에 사용하는 것이 가능하다. 특히, 플라스틱 안경 렌즈로서 적절하게 사용할 수 있다.
[플라스틱 안경 렌즈]
본 실시 형태의 성형체로 이루어지는 렌즈 기재를 사용한 플라스틱 안경 렌즈는 필요에 따라서, 편면 또는 양면에 코팅층을 실시해서 사용해도 된다.
본 실시 형태의 플라스틱 안경 렌즈는, 상술한 중합성 조성물로 이루어지는 렌즈 기재와 코팅층으로 이루어진다.
코팅층으로서, 구체적으로는, 프라이머층, 하드 코트층, 반사 방지층, 김서림 방지 코트층, 오염 방지층, 발수층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 사용할 수도 있고 복수의 코팅층을 다층화해서 사용할 수도 있다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 마찬가지 코팅층을 실시해도 되고, 다른 코팅층을 실시해도 된다.
이들 코팅층은 각각, 자외선으로부터 렌즈나 눈을 지킬 목적으로 자외선 흡수제, 적외선으로부터 눈을 지킬 목적으로 적외선 흡수제, 렌즈의 내후성을 향상시킬 목적으로 광안정제나 산화 방지제, 렌즈의 패션성을 높일 목적으로 염료나 안료, 대전 방지제, 기타, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지된 첨가제를 병용해도 된다. 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 대해서는 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 된다.
프라이머층은 통상, 후술하는 하드 코트층과 렌즈 사이에 형성된다. 프라이머층은, 그 위에 형성하는 하드 코트층과 렌즈의 밀착성을 향상시킬 것을 목적으로 하는 코팅층이며, 경우에 따라 내충격성을 향상시키는 것도 가능하다. 프라이머층에는 얻어진 렌즈에 대한 밀착성이 높은 것이면 어떠한 소재로도 사용할 수 있지만, 통상 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리에스테르계 수지, 멜라닌계 수지, 폴리비닐아세탈을 주성분으로 하는 프라이머 조성물 등이 사용된다. 프라이머 조성물은 조성물의 점도를 조정할 목적으로 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 사용해도 된다. 물론, 무용제로 사용해도 된다.
프라이머층은 도포법, 건식법의 어느 방법에 의해서도 형성할 수 있다. 도포법을 사용하는 경우, 프라이머 조성물을, 스핀 코트, 딥 코트 등 공지된 도포 방법으로 렌즈에 도포한 후, 고화함으로써 프라이머층이 형성된다. 건식법으로 행하는 경우에는, CVD법이나 진공 증착법 등의 공지된 건식법으로 형성된다. 프라이머층을 형성할 때에 있어서, 밀착성의 향상을 목적으로 하여, 필요에 따라 렌즈의 표면은, 알칼리 처리, 플라즈마 처리, 자외선 처리 등의 전처리를 행해 두어도 된다.
하드 코트층은, 렌즈 표면에 내찰상성, 내마모성, 내습성, 내온수성, 내열성, 내후성 등 기능을 부여할 것을 목적으로 한 코팅층이다.
하드 코트층은, 일반적으로는 경화성을 갖는 유기 규소 화합물과 Si, Al, Sn, Sb, Ta, Ce, La, Fe, Zn, W, Zr, In 및 Ti의 원소군에서 선택되는 원소의 산화물 미립자의 1종 이상 및/또는 이들 원소군에서 선택되는 2종 이상의 원소 복합 산화물로 구성되는 미립자의 1종 이상을 포함하는 하드 코트 조성물이 사용된다.
하드 코트 조성물에는 상기 성분 이외에 아민류, 아미노산류, 금속 아세틸아세토네이트 착체, 유기산 금속염, 과염소산류, 과염소산류의 염, 산류, 금속 염화물 및 다관능성 에폭시 화합물 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것이 바람직하다. 하드 코트 조성물에는 렌즈에 영향을 미치지 않는 적당한 용제를 사용해도 되고, 무용제로 사용해도 된다.
하드 코트층은, 통상 하드 코트 조성물을 스핀 코트, 딥 코트 등 공지된 도포 방법으로 도포한 후, 경화해서 형성된다. 경화 방법으로서는, 열경화, 자외선이나 가시광선 등의 에너지선 조사에 의한 경화 방법 등을 들 수 있다. 간섭 줄무늬의 발생을 억제하기 위해, 하드 코트층의 굴절률은, 렌즈와의 굴절률의 차가 ± 0.1의 범위에 있는 것이 바람직하다.
반사 방지층은, 통상 필요에 따라서 상기 하드 코트층 위에 형성된다. 반사 방지층에는 무기계 및 유기계가 있고, 무기계의 경우, SiO2, TiO2 등의 무기 산화물을 사용하여, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 이온빔 어시스트법, CVD법 등의 건식법에 의해 형성된다. 유기계의 경우, 유기 규소 화합물과, 내부 공동을 갖는 실리카계 미립자를 포함하는 조성물을 사용하여, 습식에 의해 형성된다.
반사 방지층은 단층 및 다층이 있고, 단층으로 사용하는 경우에는 하드 코트층의 굴절률보다 굴절률이 적어도 0.1 이상 낮게 되는 것이 바람직하다. 효과적으로 반사 방지 기능을 발현하기 위해서는 다층막 반사 방지막으로 하는 것이 바람직하고, 그 경우, 저굴절률막과 고굴절률막을 교대로 적층한다. 이 경우도 저굴절률막과 고굴절률막의 굴절률차는 0.1 이상인 것이 바람직하다. 고굴절률막으로서는, ZnO, TiO2, CeO2, Sb2O5, SnO2, ZrO2, Ta2O5 등의 막이 있고, 저굴절률막으로서는, SiO2막 등을 들 수 있다.
반사 방지층 위에는, 필요에 따라서 김서림 방지층, 오염 방지층, 발수층을 형성시켜도 된다. 김서림 방지층, 오염 방지층, 발수층을 형성하는 방법으로서는, 반사 방지 기능에 악영향을 초래하는 것이 아니면, 그 처리 방법, 처리 재료 등에 대해서는 특별히 한정되지 않고, 공지된 김서림 방지 처리 방법, 오염 방지 처리 방법, 발수 처리 방법, 재료를 사용할 수 있다. 예를 들어, 김서림 방지 처리 방법, 오염 방지 처리 방법으로는, 표면을 계면 활성제로 덮는 방법, 표면에 친수성의 막을 부가해서 흡수성으로 하는 방법, 표면을 미세한 요철로 덮어 흡수성을 높이는 방법, 광촉매 활성을 이용해서 흡수성으로 하는 방법, 초발수성 처리를 실시해서 물방울의 부착을 방지하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 발수 처리 방법으로는, 불소 함유 실란 화합물 등을 증착이나 스퍼터에 의해 발수 처리층을 형성하는 방법이나, 불소 함유 실란 화합물을 용매에 용해한 뒤, 코팅해서 발수 처리층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
[실시예]
이어서, 본 발명을 실시예에 의해, 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 하등 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 및 비교예에 있어서, 평가에 사용한 방법과 사용한 장치는 이하와 같다.
(a) 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max): 메탈 할라이드 램프(180W) 광원 장치를 사용하여, 온도 19℃, 적산 광량계에서 측정한 자외선 강도 1.2㎽/㎠의 조건에서, 2.0㎜ 두께로 가공한 성형체 샘플을 5분간 발색시켰을 때의 발색 전후의 분광을 투과 측정 시스템에서 측정하고, 하기 식으로 구한다.
발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)=발색 시의 극대 흡수 파장(λmax)에서의 광선 투과율(T%max)-발색 전의 (λmax)에서의 광선 투과율(T%0)
이 투과율 변화량이 클수록 퇴색 시에 밝고 발색 시에 차광성이 높으므로 포토크로믹 성능이 높게 된다.
(b) 퇴색 반감기(F1/2): 상기 5분간의 발색 후, 광선 조사를 멈추고 나서 성형체 샘플의 λmax에 있어서의 흡광도가 발색 전후의 흡광도의 중간값까지 회복하는 데에 필요로 하는 시간으로 정의한다. 이 시간이 짧을수록 퇴색 속도가 빠르므로 포토크로믹 성능이 높게 된다.
·광원: 하야시도께이고교(주) 제조 메탈 할라이드 광원 장치 「LA-180ME」
·적산 광량계: 우시오덴끼(주) 제조 적산 광량계 「UIT-102(수광기 UVD365PD)」
·투과 측정 시스템: 니혼분코(주) 제조 「MV-3150」
(c) 인장 시험: 시마즈세이사꾸쇼 제조 오토그래프 AGS-J를 사용해서 수지 샘플에 뚫린 2개의 구멍에 통과시킨 강철제 샤프트를 매분 5㎜의 속도로 파손될 때까지 인장, 항복점까지의 신장과 이 때의 응력을 인장 강도로서 기록하였다. 양자 수치가 클수록 파손되기 어려운 재료이다.
·인장 시험용 샘플: 직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상의 성형체에, 외주 테투리로부터 중심 방향 5.0㎜의 위치에 있어서, 직경 방향에 대향하는 2점에 직경 1.6㎜의 구멍을 뚫고, 인장 시험용 샘플로 하였다.
[실시예 1]
1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 49.6질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.15질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 400의 폴리에틸렌글리콜 40.9질량부 및 글리세린 9.5질량부를 첨가해서 혼합, 교반을 계속하였다. 액이 투명해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)를 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 575㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 65.2%, 퇴색 반감기(F1/2)가 375초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 32kgf, 신장이 12.6%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 2]
1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 39.3질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.15질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에, 수평균 분자량 400의 폴리에틸렌글리콜 29.1질량부 및 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트) 31.6질량부를 첨가하여, 충분히 혼합, 교반되었을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 575㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 32.5%, 퇴색 반감기(F1/2)가 1500초였다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 38kgf, 신장이 5.9%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 3]
디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트 45.8질량부에 실시예 1과 마찬가지로 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.70질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 1000의 폴리에틸렌글리콜 28.4질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 25.8질량부를 첨가해서 혼합, 용해하였다. 액이 투명해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)를 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 575㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 60.6%, 퇴색 반감기(F1/2)가 345초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 이어서, 성형체에서 얻어진 인장 시험용 샘플을 사용하여, 인장 시험을 행한 바, 인장 강도는 45kgf, 신장은 7.7%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 4]
디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트 44.7질량부에 실시예 1과 마찬가지로 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.70질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 2000의 폴리에틸렌글리콜 27.7질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.6질량부를 첨가해서 혼합, 용해하였다. 액이 투명해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)를 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 575㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 65.9%, 퇴색 반감기(F1/2)가 210초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 39kgf, 신장이 6.9%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 5]
디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트 43.2질량부에 실시예 1과 마찬가지로 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.70질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 1000의 폴리프로필렌글리콜 33.5질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 23.3질량부를 첨가해서 혼합, 용해하였다. 액이 투명해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 70.6%, 퇴색 반감기(F1/2)가 165초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 34kgf, 신장이 7.8%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 6]
m-크실릴렌디이소시아네이트 40.8질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.01질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 1000의 폴리에틸렌글리콜 26.1질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 33.1질량부를 첨가해서 혼합, 교반하였다. 액이 균일해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 49.6%, 퇴색 반감기(F1/2)가 1100초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 42kgf, 신장이 8.3%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 7]
m-크실릴렌디이소시아네이트 40.8질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.01질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 1000의 폴리프로필렌글리콜 26.1질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 33.1질량부를 첨가해서 혼합, 교반하였다. 액이 균일해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 75.5%, 퇴색 반감기(F1/2)가 115초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 41kgf, 신장이 8.4%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 8]
2,5(2,6)-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄 42.8질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.10질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량 1000의 폴리프로필렌글리콜 25.2질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 32.0질량부를 첨가해서 혼합, 교반하였다. 액이 균일해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 71.8%, 퇴색 반감기(F1/2)가 135초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 50kgf, 신장이 6.7%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 9]
2,5(2,6)-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄 41.0질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.10질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량(700)의 폴리프로필렌글리콜 22.5질량부 및 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트) 36.5질량부를 첨가해서 혼합, 교반하였다. 액이 균일해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 57.1%, 퇴색 반감기(F1/2)가 190초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 58kgf, 신장이 6.9%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 10]
2,5(2,6)-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄 38.6질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.10질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 수평균 분자량(927)에 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판(비스페놀 A)의 폴리프로필렌글리콜 부가체(부가 PPG의 수평균 분자량 환산으로 701) 35.2질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 26.2질량부를 첨가해서 혼합, 교반하였다. 액이 균일해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 55.1%, 퇴색 반감기(F1/2)가 1100초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 59kgf, 신장이 7.4%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[실시예 11]
2,5(2,6)-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄 41.9질량부에 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.10질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 3-메틸-1,5-펜탄디올에 아디프산과 이소프탈산의 등몰 혼합물을 등몰로 반응시킨 수평균 분자량 2000의 폴리에스테르 화합물 24.6질량부 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 33.5질량부를 첨가해서 혼합, 교반하였다. 액이 균일해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에 두면 즉시 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하면 소색된다는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 570㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 61.9%, 퇴색 반감기(F1/2)가 145초라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 또한, 인장 시험에 있어서의, 인장 강도가 56kgf, 신장이 7.0%라고 하는 양호한 결과를 나타냈다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[비교예 1]
2,2'-비스〔4-(메타크릴로일옥시에톡시)페닐〕프로판 50질량부, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트 50질량부의 혼합 용액 100질량부에, 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부 용해시켜서, 중합 개시제로서 t-부틸퍼옥시네오데카네이트 1.0질량부, 중합도 조정제로서 2,4-디페닐-4-메틸-1-펜텐 1.0질량부를 첨가하여 혼합, 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 90℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 90℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 무색 투명이며, 태양광선 아래에서 보라색으로 착색되고, 광선을 차폐하는 즉시 소색된다고 하는 양호한 조광 성능을 갖는 것이었다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 575㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 75.4%, 퇴색 반감기(F1/2)가 255초였다. 그러나, 성형체에서 얻어진 인장 시험용 샘플을 사용하여, 인장 시험을 행한 바, 인장 강도는 14kgf, 신장은 0.9%였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
[비교예 2]
디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트 59.4질량부에 실시예 1과 마찬가지로 포토크로믹 화합물로서 상기 화학식 (9) 화합물을 0.05질량부, 디메틸틴디클로라이드 0.70질량부를 첨가하여, 혼합 교반해서 용해하였다. 이 혼합액에 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 40.6질량부를 첨가해서 혼합, 용해하였다. 액이 투명해졌을 즈음에 5㎜Hg 아래 20분간 탈기하고, 이 용액을 폴리에틸렌제의 시트형에 주입하였다. 이것을 20℃의 로에 투입해서 8시간 유지하고, 또한 120℃까지 12시간에 걸쳐 승온하였다. 그대로 120℃에서 3시간 가열한 후, 로로부터 성형형을 꺼내서, 성형형을 떼어내고, 중합해서 얻어진 성형체(직경 45㎜, 두께 2.0㎜의 원반 형상)을 꺼냈다.
성형체는 보라색의 착색이 있고, 태양광선 아래에 놓아두니 조금 착색이 짙어졌다. 성형체의 조광 성능을 평가한 바, 극대 흡수 파장(λmax: 575㎚)에서의 발색 전후의 광선 투과율 변화량(ΔT%max)이 10.0%, 퇴색 반감기(F1/2)는 광선 조사를 멈추고 나서 1시간 경과해도 λmax에 있어서의 흡광도가 발색 전의 흡광도에 대하여 1/2까지 회복하지 않아, 측정 불가능으로 하였다. 한편, 인장 시험에 있어서, 인장 강도가 69kgf, 신장이 4.1%로 되었다. 결과를 표 1에 나타내었다.
실시예 1 내지 11과 비교예 2의 결과로부터, 실시예에서는, 발색 전후의 광선 투과율 변화량 및 퇴색 반감기(F1/2)가 모두, 비교예에 비해 양호하고, 포토크로믹 성능이 우수한 것을 알 수 있었다. 또한, 비교예 1에서 얻어진 수지는, 본 실시예에서 얻어진 폴리(티오)우레탄 수지와 비교하면, 퇴색 반감기(F1/2)를 측정할 수 없고, 또한 물러서, 강도 등 물성이 떨어지는 결과였다.
Figure 112016075465750-pct00025
표 1에 기재된 각 성분은 이하와 같음.
(A 성분)
a-1: 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산
a-2: 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트
a-3: m-크실릴렌디이소시아네이트
a-4: 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과의 혼합물
(B 성분)
b-1: 수평균 분자량 400의 폴리에틸렌글리콜
b-2: 수평균 분자량 1000의 폴리에틸렌글리콜
b-3: 수평균 분자량 2000의 폴리에틸렌글리콜
b-4: 수평균 분자량 1000의 폴리프로필렌글리콜
b-5: 수평균 분자량 700의 폴리프로필렌글리콜
b-6: 수평균 분자량 927의 2,2-비스(4-히드록시페닐)프로판(별명: 비스페놀 A)의 폴리프로필렌글리콜 부가체
b-7: 3-메틸-1,5-펜탄디올에 아디프산과 이소프탈산의 등몰 혼합물을 등몰로 반응시킨 수평균 분자량 2000의 폴리에스테르 화합물
(C 성분)
c-1: 글리세린
c-2: 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트)
c-3: 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄
이상으로, 2관능 이상의 폴리이소시아네이트 화합물 (A), 화학식 (1)로 표시되는 폴리올 화합물 (B), 2관능 이상의 활성 수소 화합물 (C) 및 포토크로믹 화합물 (D)를 포함하는 중합성 조성물을 중합해서 얻어지는, 본 발명의 포토크로믹 광학 재료는, 폴리(티오)우레탄 수지에 종래예가 없을 정도의 높은 포토크로믹 성능을 부여할 수 있었다. 따라서, 안경용 렌즈 등에 사용되는 포토크로믹 성능을 가지는 광학용 재료로서 매우 유용하다.
또한, 본 발명의 제조 방법에 따르면, 2관능 이상의 폴리이소시아네이트 화합물 (A), 화학식 (1)로 표시되는 폴리올 화합물 (B) 및 2관능 이상의 활성 수소 화합물 (C)를 포함하는 단량체 혼합물에 미리 포토크로믹 화합물 (D)를 용해해서 중합성 조성물을 조제하고, 당해 조성물을 몰드에 주입 후, 중합시켜서 포토크로믹 렌즈를 얻을 수 있다. 즉, 렌즈 성형과 동시에 조광 성능이 부여되는 점에서, 포토크로믹 성능을 부여하기 위한 코팅층 등을 별도로 설치할 필요가 없어 제조 상의 공정수가 적기 때문에, 생산 효율이 향상되고, 또한 생산 비용면에서도 우위에 있다. 또한, 중합성 조성물을 경화해서 얻어지는 렌즈 기재 중에, 포토크로믹 화합물을 균일하게 분산시키는 것이 용이하기 때문에, 렌즈 형상에 상관없이 일정한 조광 성능을 갖는 품질이 안정된 렌즈를 양산하는 방법으로서도 매우 유용하다.
이 출원은, 2014년 2월 3일에 출원된 일본특허출원 제2014-018928호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시된 전부를 여기에 포함시킨다.
본 발명은 이하의 형태도 취할 수 있다.
[a1] (A) 1종 이상의 2관능 이상의 폴리이소시아네이트 화합물과,
(B) 화학식 (I) 또는 화학식 (III)으로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물과,
Figure 112016075465750-pct00026
(화학식 (I) 중, p는 4 내지 100의 수치를 나타내고, X는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 동일해도 되고 달라도 된다)
Figure 112016075465750-pct00027
(화학식 (III) 중, q, r은 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는, 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다)
(C) 1종 이상의, 2관능 이상의 활성 수소 화합물(단, 상기 화합물 (B)를 제외함)과,
(D) 포토크로믹 화합물
을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
[a2] 활성 수소 화합물 (C)가 폴리올 화합물, 폴리티올 화합물 및 히드록시기를 갖는 티올 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, [a1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a3] 활성 수소 화합물 (C)가 3관능 이상의 활성 수소 화합물인, [a1] 또는 [a2]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a4] 활성 수소 화합물 (C)가 글리세린, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판 및 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, [a1] 내지 [a3] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a5] 화합물 (B)가 화학식 (I)로 표시되는 화합물인, [a1] 내지 [a4] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a6] 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜인, [a1] 내지 [a5] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a7] 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 200 내지 4000인, [a1] 내지 [a6] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a8] 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 1000 내지 3000인, [a1] 내지 [a7] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a9] 포토크로믹 화합물 (D)는 하기 화학식 (5)로 표시되는, [a1] 내지 [a8] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물;
Figure 112016075465750-pct00028
(화학식 중 R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로,
수소;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기, -NH2기, -NHR기, -N(R)2기(R이 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다. R이 2개 존재하는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 달라도 된다) 및 메타크릴로일기 또는 아크릴로일기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다)
를 나타내고,
R3은 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로, 할로겐 원자;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알콕시기;
적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 3 내지 12의 할로시클로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 할로알콕시기;
치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기 및 아미노기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다);
치환 또는 비치환된 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 알킬기 또는 알콕시기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
-NH2, -NHR, -CONH2 또는 -CONHR
(R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
-OCOR8 또는 -COOR8(여기서, R8이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기, 또는 R1, R2에 있어서, 치환 아릴 또는 치환 헤테로아릴기의 치환기 중 적어도 하나에 의해 치환되어 있는 페닐기 또는 비치환된 페닐기이다);
을 나타내고,
m이 0부터 4까지의 정수이고;
A가, 하기 화학식 (A2) 또는 화학식 (A4)
Figure 112016075465750-pct00029
의 아넬화환을 나타내고, 이들 아넬화환에 있어서,
점선이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 탄소 C6 결합을 나타내고;
아넬화환 (A4)의 α 결합이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 또는 탄소 C6에 결합될 수 있고;
R4가, 동일하거나 또는 다르고, 독립적으로, OH, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고, 또는 2개의 R4가 카르보닐(CO)을 형성하고;
R5가, 할로겐;
탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기;
적어도 하나의 할로겐 원자에 의해 치환된, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기;
탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알콕시기;
치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다);
-NH2, -NHR
(여기서, R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
치환 또는 비치환인 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 적어도 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 갖는다);
-COR9, -COOR9 또는 -CONHR9기(여기서, R9가, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다));
A가 (A4)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이고, p가 0부터 4까지의 정수이고, A가 (A2)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이다).
[a10] 폴리이소시아네이트 화합물 (A)는 크실릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, [a1] 내지 [a9] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[a11] [a1] 내지 [a10] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 경화물로 이루어지는 성형체.
[a12] [a11]에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
[a13] [a11]에 기재된 성형체로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
[a14] (A) 1종 이상의 2관능 이상의 폴리이소시아네이트 화합물과,
(B) 화학식 (I) 또는 화학식 (III)으로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물과,
Figure 112016075465750-pct00030
(화학식 (I) 중, p는 4 내지 100의 수치를 나타내고, X는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 동일해도 되고 달라도 된다)
Figure 112016075465750-pct00031
(화학식 (III) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는, 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다)
(C) 1종 이상의, 2관능 이상의 활성 수소 화합물(단, 상기 화합물 (B)를 제외함)과,
(D) 포토크로믹 화합물을 혼합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 조제하는 공정과,
상기 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 내에 주형 중합함으로써 렌즈 기재를 형성하는 공정을 포함하는, 플라스틱 렌즈의 제조 방법.

Claims (19)

  1. (A) 폴리이소시아네이트 화합물과,
    (B) 폴리올 화합물과,
    (C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물과,
    (D) 포토크로믹 화합물을 포함하고,
    폴리이소시아네이트 화합물 (A)가, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트 및 디페닐메탄디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이고,
    폴리올 화합물 (B)는 수평균 분자량이 100 이상이고, 하기 화학식 (I) 내지 하기 화학식 (IV)로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물이고,
    Figure 112017104258811-pct00041

    (화학식 (I) 중, p는 4 내지 100의 수치를 나타내고, X는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 동일해도 되고 달라도 된다);
    Figure 112017104258811-pct00042

    (화학식 (II) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는, 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다. Z는 치환 또는 비치환된 2가의 방향족기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 방향족기를 포함하고 있어도 되는 2가의 지방족기를 나타낸다);
    Figure 112017104258811-pct00043

    (화학식 (III) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는, 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다);
    Figure 112017104258811-pct00044

    (화학식 (IV) 중, m은 1 내지 20의 수치를 나타내고, k는 0 내지 2m을 나타내고, n은 1 내지 20의 수치를 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타내고, f는 0 이상의 수치를 나타내고, g는 1 이상의 수치를 나타내고, h는 1 이상의 수치를 나타내고, j는 1 이상의 수치를 나타낸다. Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다. Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다. R3은 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지 알킬렌기 또는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지 알킬기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 페닐렌기를 나타내고, 복수 존재하는 R3은 동일해도 되고 달라도 된다);
    활성 수소 화합물 (C)가 글리세린, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판 및 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, 광학 재료용 중합성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 폴리올 화합물 (B)가 화학식 (I), 화학식 (III) 또는 화학식 (IV)로 표시되는 화합물인 광학 재료용 중합성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물이 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리프로필렌글리콜인 광학 재료용 중합성 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 200 내지 4000인 광학 재료용 중합성 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 화학식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 300 내지 3000인 광학 재료용 중합성 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 화학식 (II)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 400 내지 2000인 광학 재료용 중합성 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 화학식 (III)으로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 400 내지 2000인 광학 재료용 중합성 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 화학식 (IV)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 600 내지 3000인 광학 재료용 중합성 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 포토크로믹 화합물 (D)는 하기 화학식 (5)로 표시되는 광학 재료용 중합성 조성물;
    Figure 112017104258811-pct00045

    (화학식 중 R1 및 R2는 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로,
    수소;
    탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
    탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
    치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기, -NH2기, -NHR기, -N(R)2기(R이 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다. R이 2개 존재하는 경우, 2개의 R은 동일해도 되고 달라도 된다) 및 메타크릴로일기 또는 아크릴로일기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
    아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다)
    를 나타내고,
    R3은 동일해도 되고 달라도 되며, 독립적으로, 할로겐 원자;
    탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알킬기;
    탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
    탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 알콕시기;
    적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 3 내지 12의 할로시클로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지 할로알콕시기;
    치환 또는 비치환인, 탄소수 6 내지 24의 아릴기 또는 탄소수 4 내지 24의 헤테로아릴기(치환기로서, 할로겐 원자, 히드록시기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기, 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알콕시기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기, 적어도 하나의 할로겐 원자로 치환된 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 할로알콕시기, 적어도 하나의 탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기에 의해 치환된 페녹시기 또는 나프톡시기, 탄소수 2 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알케닐기 및 아미노기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
    아르알킬 또는 헤테로아르알킬기(탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지 알킬기가 상기 아릴기 또는 헤테로아릴기로 치환되어 있다);
    치환 또는 비치환된 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 알킬기 또는 알콕시기에서 선택되는 적어도 하나의 치환기를 갖는다);
    -NH2, -NHR, -CONH2 또는 -CONHR
    (R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
    -OCOR8 또는 -COOR8(여기서, R8이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기, 또는 R1, R2에 있어서, 치환 아릴 또는 치환 헤테로아릴기의 치환기 중 적어도 하나에 의해 치환되어 있는 페닐기 또는 비치환된 페닐기이다);
    를 나타내고,
    m이 0부터 4까지의 정수이고;
    A가, 하기 화학식 (A2) 또는 식 (A4)
    Figure 112017104258811-pct00046

    의 아넬화환을 나타내고, 이들 아넬화환에 있어서,
    점선이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 탄소 C6 결합을 나타내고;
    아넬화환 (A4)의 α 결합이, 화학식 (5)의 나프토피란환의 탄소 C5 또는 탄소 C6에 결합될 수 있고;
    R4가, 동일하거나 또는 다르고, 독립적으로, OH, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 나타내고, 또는 2개의 R4가 카르보닐(CO)을 형성하고;
    R5가, 할로겐;
    탄소수 1 내지 12의 직쇄 또는 분지의 알킬기;
    적어도 하나의 할로겐 원자에 의해 치환된, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 할로알킬기;
    탄소수 3 내지 12의 시클로알킬기;
    탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알콕시기;
    치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다);
    -NH2, -NHR
    (여기서, R이, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기이다);
    치환 또는 비치환인 페녹시 또는 나프톡시기(치환기로서, 적어도 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 알콕시기를 갖는다);
    -COR9, -COOR9 또는 -CONHR9기(여기서, R9가, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지의 알킬기 또는 탄소수 3 내지 6의 시클로알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐 또는 벤질기(치환기로서, 화학식 (5)의 R1, R2기가 독립적으로 아릴 또는 헤테로아릴기에 대응하는 경우, R1, R2기의 정의에 있어서 상술한 치환기 중 적어도 하나를 갖는다));
    A가 (A4)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이고, p가 0부터 4까지의 정수이고, A가 (A2)를 나타내는 경우, n이 0부터 2까지의 정수이다).
  10. 제1항에 있어서, 폴리이소시아네이트 화합물 (A)에 대한 폴리올 화합물 (B)의 관능기 당량비(B/A)가 0.02 내지 0.6, 폴리이소시아네이트 화합물 (A)에 대한 활성 수소 화합물 (C)의 관능기 당량비(C/A)가 0.4 내지 0.98인 광학 재료용 중합성 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 경화물로 이루어지는 성형체.
  12. 제11항에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
  13. 제11항에 기재된 성형체로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
  14. (A) 폴리이소시아네이트 화합물과,
    (B) 폴리올 화합물과,
    (C) 2관능 이상의 활성 수소 화합물과,
    (D) 포토크로믹 화합물을 혼합하여, 광학 재료용 중합성 조성물을 조제하는 공정과,
    상기 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 내에 주형 중합함으로써 렌즈 기재를 형성하는 공정을 포함하고,
    폴리이소시아네이트 화합물 (A)가, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 톨릴렌디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트 및 디페닐메탄디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상이고,
    폴리올 화합물 (B)는 수평균 분자량이 100 이상이고, 하기 화학식 (I) 내지 하기 화학식 (IV)로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 화합물이고,
    Figure 112017104258811-pct00047

    (화학식 (I) 중, p는 4 내지 100의 수치를 나타내고, X는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 X는 동일해도 되고 달라도 된다);
    Figure 112017104258811-pct00048

    (화학식 (II) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는, 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다. Z는 치환 또는 비치환된 2가의 방향족기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 방향족기를 포함하고 있어도 되는 2가의 지방족기를 나타낸다);
    Figure 112017104258811-pct00049

    (화학식 (III) 중, q, r은 동일해도 되고 달라도 되며, 각각 1 이상의 수치를 나타내고, 또한 q와 r의 합계는 2 내지 100의 수치를 나타낸다. R1 및 R2는, 동일해도 되고 달라도 되며, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 복수 존재하는 R1 또는 R2는, 각각 동일해도 되고 달라도 된다);
    Figure 112017104258811-pct00050

    (화학식 (IV) 중, m은 1 내지 20의 수치를 나타내고, k는 0 내지 2m을 나타내고, n은 1 내지 20의 수치를 나타내고, l은 0 내지 2n을 나타내고, f는 0 이상의 수치를 나타내고, g는 1 이상의 수치를 나타내고, h는 1 이상의 수치를 나타내고, j는 1 이상의 수치를 나타낸다. Q1은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q1은 동일해도 되고 달라도 된다. Q2는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타내고, 복수 존재하는 Q2는 동일해도 되고 달라도 된다. R3은 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지 알킬렌기 또는 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 분지 알킬기를 치환기로서 갖고 있어도 되는 페닐렌기를 나타내고, 복수 존재하는 R3은 동일해도 되고 달라도 된다);
    활성 수소 화합물 (C)가 글리세린, 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판 및 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트)로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상인, 플라스틱 렌즈의 제조 방법.
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