KR101791197B1 - Dry cleaner - Google Patents

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KR101791197B1
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명은 건식 세정 장치에 관한 것으로서, 특히, 정전기에 의해 이물질이 붙어있는 기판을 건조 상태에서 세정하기 위해 이오나이저와, 롤브러쉬를 이용하고 있는, 건식 세정 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. 이를 위해 본 발명에 따른 건식 세정 장치는, 세정 대상인 기판이 투입되는 투입부; 상기 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지하고, 상기 기판의 표면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 제1세정부; 및 상기 제1세정부를 통해 세정된 상기 기판을 배출하기 위한 배출부를 포함한다.The present invention relates to a dry cleaning apparatus, and more particularly, to a dry cleaning apparatus using an ionizer and a roll brush for cleaning a substrate adhering a foreign object by static electricity in a dry state. To this end, the dry cleaning apparatus according to the present invention comprises: a charging unit into which a substrate to be cleaned is charged; A first cleaner for preventing the substrate from being charged by static electricity and cleaning the surface of the substrate using a brush; And a discharge portion for discharging the substrate cleaned through the first cleaning portion.

Description

건식 세정 장치{DRY CLEANER}[0001] DRY CLEANER [0002]

본 발명은 기판을 세정하는 세정 장치에 관한 것으로서, 특히, 건조한 상태에서 기판의 표면을 세정하는 건식 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning a substrate, and more particularly to a dry cleaning apparatus for cleaning a surface of a substrate in a dry state.

액정표시장치(LCD) 또는 플라즈마표시장치(PDP) 등과 같은 평판표시장치에 사용되는 기판을 제조하는 공정에는, 소정의 표면처리가 완료된 기판으로부터 각종 유기성 오염물질 또는 무기성 오염물질을 제거하는 세정 공정이 요구되며, 이러한 세정공정은 세정 장치에 의해 이루어지고 있다. A process for manufacturing a substrate used for a flat panel display such as a liquid crystal display (LCD) or a plasma display (PDP) includes a cleaning process for removing various organic contaminants or inorganic contaminants from a substrate having been subjected to a predetermined surface treatment And this cleaning process is performed by a cleaning device.

이러한 세정 공정은 메인 공정에 투입되기 전, 또는 메인 공정 중의 기판 표면으로부터 각종 오염물질을 제거함으로써, 불량이 발생하지 않도록 하는 것을 목적으로 하고 있다. The cleaning process is intended to prevent defects by removing various contaminants from the substrate surface before or during the main process.

한편, 세정 장치는 오존 등의 액체물질을 이용하여 기판을 세정하는 습식 세정 장치와, 고압의 공기를 기판에 분사하거나 자외선을 이용하여 기판을 세정하는 건식 세정 장치로 구분될 수 있다. 즉, 습식 세정 장치는 습한 상태에서 기판을 세정하는 장치이며, 건식 세정 장치는 건조한 상태에서 기판을 세정하는 장치이다.
On the other hand, the cleaning apparatus may be classified into a wet cleaning apparatus for cleaning a substrate using liquid material such as ozone, and a dry cleaning apparatus for spraying high-pressure air onto a substrate or cleaning a substrate using ultraviolet rays. That is, the wet cleaning apparatus is an apparatus for cleaning a substrate in a wet state, and the dry cleaning apparatus is an apparatus for cleaning a substrate in a dry state.

도 1은 압출식 도광판을 나타낸 사시도로서, 압출식 도광판(3)은 보호지(2)가 도광판 패널(1)의 표면에 압출식으로 부착되어 있는 도광판을 말한다.Fig. 1 is a perspective view showing an extrusion type light guide plate, and the extrusion type light guide plate 3 refers to a light guide plate in which a protective paper 2 is extruded and attached to the surface of the light guide plate panel 1. Fig.

도광판은 일반적으로 습식 세정 장치를 통해 세정되고 있다. The light guide plate is generally cleaned through a wet cleaning apparatus.

이러한 습식 세정 장치는, 분사노즐을 통하여 도광판 전면에 오존액을 분사시켜 도광판의 이물질을 제거하는 샤워(Shower)부, 상기 샤워부에서 1차적으로 이물질이 제거된 도광판을 전달받아 2열 롤 브러쉬(Roll Brush)로 도광판을 물리적으로 세정하여 2차적으로 도광판의 이물질을 제거하는 롤브러쉬 세정부, 상기 롤브러쉬 세정부에서 물리적 세정을 거친 도광판을 전달받아 파이널 린스(Final Rinse)에서 분사노즐을 통하여 최종 세정을 하는 린스부 및 세정 작업이 끝난 도광판을 받아 건조하는 건조부를 포함하여 구성되어 있다. 상기와 같은 종래의 습식 세정 장치에 있어서, 기판은 운반 수단인 롤러에 의해 각 부로 운반되어 진다. The wet cleaning apparatus includes a shower unit for spraying an ozone solution on the entire surface of the light guide plate through an injection nozzle to remove foreign substances from the light guide plate, a light guide plate having a primary foreign substance removed from the shower unit, A roll brush cleaner for physically cleaning the light guide plate with a roll brush to remove foreign substances from the light guide plate, a light guide plate that has been physically cleaned by the roll brush cleaner, receives the light guide plate from a final rinse through a spray nozzle, And a drying unit for drying and drying the rinsing unit for cleaning and the light guide plate for which the cleaning operation has been completed. In the conventional wet type cleaning apparatus as described above, the substrate is conveyed to each section by a roller serving as a conveying means.

즉, 종래의 습식 세정 장치는, 샤워부로 운반된 도광판의 전면에 오존액 또는 초순수(DI)를 분사하여 샤워부 내에서 도광판에 형성된 이물질을 제거한다. That is, in the conventional wet cleaning apparatus, ozone solution or DI water is sprayed on the entire surface of the light guide plate conveyed to the shower unit to remove foreign matters formed on the light guide plate in the shower.

다음으로, 습식 세정 장치는, 샤워부에서 1차 이물질 제거공정이 끝난 도광판을 롤러에 의해 롤브러쉬 세정부로 운반한 후, 롤브러쉬 세정부 내로 운반된 도광판을 2열의 롤브러쉬로 물리적 세정을 하여 2차적으로 도광판의 이물질을 제거한다. Next, in the wet type cleaning apparatus, after the light guide plate having been subjected to the primary foreign matters removing process in the shower is conveyed to the roll brush cleaning section by a roller, the light guide plate conveyed into the roll brush cleaning section is physically cleaned with two rows of roll brushes Secondarily, the foreign substance of the light guide plate is removed.

마지막으로, 습식 세정 장치는, 롤브러쉬 세정부에서 표면 처리된 도광판을 롤러에 의해 세정부로 반송하고, 탈이온수(DIW)를 이용하여 도광판의 전면을 세정하며, 도광판을 롤러에 의해 건조(Dry)부로 운반한 후, 건조 처리를 실시하게 된다.Finally, in the wet cleaning apparatus, the light guide plate surface-treated in the roll brush cleaning section is transported to the cleaning section by a roller, the front surface of the light guide plate is cleaned using deionized water (DIW), and the light guide plate is dried ), And then dried.

그러나, 상기한 바와 같은 종래의 습식 세정 장치는 현재 이용되고 있는 모든 도광판을 세정하지는 못하고 있다.However, the conventional wet cleaning apparatus as described above can not clean all light guide plates currently used.

즉, 도 1에 도시된 도광판은 보호지(2)가 도광판 패널(1)의 표면에 압출식으로 부착되어 있는 압출식 도광판(모델명 V11)(3)으로서, 이러한 압출식 도광판에는 보호지와 도광판 패널 사이에 작은 틈이 있으며, 이러한 압출식 도광판을 습식 세정 장치를 통하여 세정하게 되면, 작은 틈 사이로 물이 들어가 건조되지 않기 때문에, 도광판 표면에 얼룩이 발생하고 있으며, 침투된 세정액에 의해 도광판이 완전히 건조되지 않게 된다. That is, the light guide plate shown in Fig. 1 is an extruded light guide plate (model name V11) 3 in which the protective paper 2 is attached to the surface of the light guide panel 1 in an extrusion manner. In this extruded light guide plate, When the extruded light guide plate is cleaned through the wet type cleaning apparatus, water is not allowed to enter the space between the small gaps, so that the surface of the light guide plate is smudged and the light guide plate is not completely dried by the penetrated cleaning liquid do.

따라서, 종래의 습식 세정 장치에 의해서는 압출식 도광판(3)과 같이, 습식 세정 공정 중 물이 스며들 수 있는 틈이 있는 도광판은 세정될 수 없다. Therefore, the conventional wet cleaning apparatus can not clean the light guide plate having gaps with which water can permeate during the wet cleaning process, like the extrusion light guide plate 3.

그러나, 상기한 바와 같이 습식 세정 장치로 세정될 수 없는 도광판은 종래의 일반적인 건식 세정 장치에 의해서도 세정될 수 없다는 문제점이 있다.However, as described above, there is a problem that the light guide plate which can not be cleaned by the wet type cleaning apparatus can not be cleaned by the conventional general dry type cleaning apparatus.

즉, 건식 세정 장치는 상기한 바와 같이, 고압의 공기를 기판(도광판 포함)에 분사하여 기판을 세정하는 장치이기 때문에, 플라스틱과 같은 투명한 합성수지로 제작되는 도광판의 경우에는 정전기에 의해 이물질이 도광판에 달라붙기 때문에, 단순히 고압의 공기를 분사하는 것에 의해서는 도광판 표면에 달라붙어 있는 이물질을 완전히 제거시킬 수 없다는 문제점이 있다. That is, since the dry cleaning apparatus is an apparatus for cleaning the substrate by spraying high-pressure air onto the substrate (including the light guide plate) as described above, in the case of the light guide plate made of transparent synthetic resin such as plastic, There is a problem that it is impossible to completely remove foreign substances sticking to the surface of the light guide plate by simply injecting high-pressure air.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 정전기에 의해 이물질이 붙어있는 기판을 건조 상태에서 세정하기 위해 이오나이저와, 롤브러쉬를 이용하고 있는, 건식 세정 장치를 제공하는 것을 기술적 과제로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is a technical object of the present invention to provide a dry cleaning apparatus using an ionizer and a roll brush for cleaning a substrate adhered with a foreign substance by static electricity in a dry state.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 건식 세정 장치는, 세정 대상인 기판이 투입되는 투입부; 상기 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지하고, 상기 기판의 표면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 제1세정부; 및 상기 제1세정부를 통해 세정된 상기 기판을 배출하기 위한 배출부를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a dry cleaning apparatus comprising: a charging unit to which a substrate to be cleaned is charged; A first cleaner for preventing the substrate from being charged by static electricity and cleaning the surface of the substrate using a brush; And a discharge portion for discharging the substrate cleaned through the first cleaning portion.

상술한 해결 수단에 따른 본 발명은 정전기에 의해 이물질이 붙어있는 기판을 건조 상태에서 세정하기 위해 이오나이저와 브러쉬를 이용하고 있기 때문에, 종래에 화학적 습식 세정 공정에 의해 세정 되던 기판을 건조 상태에서 간편하게 세정할 수 있다는 효과를 제공한다.The present invention according to the above-mentioned solution uses an ionizer and a brush to clean a substrate adhered with a foreign substance by static electricity in a dry state. Therefore, the substrate, which has been conventionally cleaned by a chemical wet cleaning process, Cleaning effect can be obtained.

즉, 본 발명은 이오나이저를 이용하여 기판에 붙어있는 이물질을 일차적으로 기판으로부터 분리시키고 있기 때문에, 종래의 일반적인 습식 세정 장치와 일반적인 건식 세정 장치에 의해서는 세정될 수 없는 기판을, 건조 상태에서 간편하게 세정할 수 있다는 효과를 제공한다. That is, according to the present invention, since the foreign substances adhering to the substrate are separated from the substrate by using the ionizer, the substrate which can not be cleaned by the conventional general wet type cleaning apparatus and general dry type cleaning apparatus can be easily Cleaning effect can be obtained.

도 1은 압출식 도광판을 나타낸 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 건식 세정 장치의 외관을 나타낸 사시도.
도 3은 본 발명에 따른 건식 세정 장치의 구성을 상세히 나타낸 정면도.
도 4는 본 발명에 따른 건식 세정 장치 중 제1세정부의 구성을 나타낸 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 건식 세정 장치 중 제1세정부와 제2세정의 구성을 나타낸 단면도.
1 is a perspective view showing an extruded light guide plate;
2 is a perspective view showing the external appearance of the dry cleaning apparatus according to the present invention.
3 is a front view showing the construction of the dry cleaning apparatus according to the present invention in detail.
4 is a cross-sectional view showing a configuration of a first cleaning section of a dry cleaning apparatus according to the present invention.
5 is a cross-sectional view showing a configuration of a first cleaning part and a second cleaning part of the dry cleaning device according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 건식 세정 장치의 외관을 나타낸 사시도이며, 도 3은 본 발명에 따른 건식 세정 장치의 구성을 상세히 나타낸 정면도이다. FIG. 2 is a perspective view showing the appearance of a dry cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is a front view showing a detailed structure of a dry cleaning apparatus according to the present invention.

본 발명에 따른 건식 세정 장치는 습식 세정이 불가능한 기판을 건조 상태에서 세정하기 위한 것으로서, 특히, 도광판과 같이, 플라스틱 재질로 형성되어 있어서, 무기물 성분의 이물질이 정전기에 의해 쉽게 달라붙어 일반적인 에어 분사에 의해서는 세정 될 수 없는 기판을 세정하기 위한 것이다.The dry cleaning apparatus according to the present invention is for cleaning a substrate which can not be wet-cleaned in a dry state, and in particular, like a light guide plate, is made of a plastic material so that foreign matter of an inorganic component easily sticks to static air, To clean a substrate that can not be cleaned by the cleaning process.

즉, 본 발명은 정전기에 이물질이 쉽게 달라붙기 때문에 습한 환경에서 세정액으로 세정 되어야 하지만, 기판 내부에 형성되어 있는 틈 사이로 세정액이 스며들어 얼룩이 생길 수 있는 기판을 건조 환경에서 세정하기 위한 것으로서, 이러한 기판의 예로는, 보호지가 도광판 패널의 표면에 압출식으로 부착되어 있는 압출식 도광판이 될 수 있다. 그러나, 본 발명은 이러한 압출식 도광판뿐만 아니라, 상기한 바와 같은 특성을 갖는 모든 기판에 적용될 수 있는바, 이하에서는 간단히 본 발명에 의해 세정되는 대상을 기판이라 한다.That is, the present invention is to clean a substrate in a dry environment where the foreign matter easily adheres to the static electricity, so that the substrate may be cleaned with a cleaning liquid in a humid environment, but the cleaning liquid may penetrate through gaps formed in the substrate, May be an extrusion type light guide plate in which the protective paper is attached to the surface of the light guide plate panel in an extrusion manner. However, the present invention can be applied not only to such an extruded light guide plate but also to all substrates having the above-mentioned characteristics. Hereinafter, a substrate to be cleaned by the present invention is simply referred to as a substrate.

한편, 상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 건식 세정 장치는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 세정 대상인 기판(90)이 투입되는 투입부(10), 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지하고 기판의 상하단 표면을 물리적으로 세척하며 기판으로부터 이탈된 이물질을 흡입하여 외부로 배출하기 위한 제1세정부(20), 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지하고 기판의 상단 표면을 물리적으로 세척하며 기판으로부터 이탈된 이물질을 흡입하여 외부로 배출하기 위한 제2세정부(30), 이온화된 공기를 고압으로 분사하여 기판으로부터 이탈된 이물질을 제거 위한 제3세정부(40), 세정된 기판을 배출하기 위한 배출부(50) 및 기판을 상기 각 부로 연속적으로 이동시키기 위한 이송부(60)를 포함하여 구성될 수 있다.2 and 3, the dry cleaning apparatus according to the present invention includes a charging unit 10 into which a substrate 90 to be cleaned is charged, A first cleaner 20 for physically cleaning the upper and lower end surfaces of the substrate and sucking and discharging the foreign materials separated from the substrate to the outside, a step for preventing the substrate from being electrostatically charged, A third cleaning unit 40 for removing foreign substances separated from the substrate by spraying the ionized air at a high pressure, a cleaning unit 40 for cleaning the cleaned substrate 40, A discharge unit 50 for discharging the substrate, and a transfer unit 60 for continuously moving the substrate to the respective units.

우선, 투입부(10)는, 본 발명에 의해 세정되는 기판이 투입되는 부분으로서, 이러한 기판은 상기한 바와 같이 평판표시장치의 상부기판 또는 하부기판으로 이용되는 유리기판이나, 도광판과 같은 플라스틱기판이 될 수도 있으며, 특히, 무기물 성분의 이물질(이하, 간단히 '이물질'이라 함)이 정전기에 의해 쉽게 달라붙어 습식 세정 방식에 의해 세정 되어야 하나, 습식 세정을 이용할 경우 틈새로 스며든 세정액에 의해 얼룩이 발생될 수 있는 성질을 가진 기판이 될 수 있는바, 이러한 기판으로는, 압출식 도광판이 있다.First, the charging unit 10 is a portion into which a substrate to be cleaned by the present invention is charged. Such a substrate is a glass substrate used as an upper substrate or a lower substrate of a flat panel display device, a plastic substrate such as a light guide plate In particular, a foreign matter (hereinafter, simply referred to as a "foreign matter") of an inorganic component is easily adhered by static electricity and needs to be cleaned by a wet cleaning method. However, when wet cleaning is used, A substrate having properties that can be generated. As such a substrate, there is an extrusion-type light guide plate.

다음, 제1세정부(20)는, 1차적으로 기판을 세정하기 위한 것으로서, 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지하기 위해 전단부 상단 이오나이저와 전단부 하단 이오나이저를 이용하여 이온화된 에어를 기판의 상단면 및 하단면으로 분사하고, 상단 롤브러쉬와 하단 롤브러쉬를 이용하여 이온화된 에어가 분사된 기판의 상단면과 하단면을 물리적으로 세정하며, 기판으로부터 상단 롤브러쉬와 하단 롤브러쉬의 브러쉬로 옮겨간 이물질을 상단 브러쉬 나이프와 하단 브러쉬 나이프를 이용하여 털어준 후, 상단 브러쉬 나이프와 하단 브러쉬 나이프에 의해 상단 롤브러쉬와 하단 롤브러쉬의 브러쉬로부터 이탈된 이물질을 상단 석션(Suction)과 하단 석션을 통해 흡입하여 외부로 배출하는 기능을 수행한다. Next, the first cleaning unit 20 is used for primarily cleaning the substrate. In order to prevent the substrate from being electrostatically charged, an ionized air is ionized by using a front end upper ionizer and a front end lower ionizer, The top and bottom surfaces of the substrate are cleaned physically by using the upper roll brush and the lower roll brush and the upper and lower surfaces of the substrate on which the ionized air is sprayed are cleaned from the substrate by the upper roll brush and the brush of the lower roll brush, The upper and lower brush knives are separated by the upper brush knife and the lower brush knife. Then, the upper and lower brush knives are separated from the brushes of the upper roll brush and the lower roll brush by the upper suction brush and the lower suction brush, And discharges it to the outside.

또한, 제1세정부(20)는 석션을 통해 이물질이 흡입된 상태의 기판의 상단 표면에 다시 이온화된 에어를 분사하기 위한 후단부 상단 이오나이저를 더 포함하여 구성될 수 있다.The first cleaning unit 20 may further include a rear end top ionizer for spraying again ionized air onto the upper surface of the substrate in a state where the foreign matter is sucked through the suction.

한편, 제1세정부(20)의 상기한 구성요소들 중 도 3에는, 유입된 기판의 하단면에 이온화된 에어를 분사하기 위한 전단부 하단 이오나이저가 도시되어 있지는 않지만, 상기한 바와 같이 제1세정부(20)에 포함될 수 있다. 3, the front end lower ionizer for injecting the ionized air is not shown in the lower end surface of the introduced substrate. However, as described above, May be included in the first-generation unit 20.

이러한, 제1세정부(20)의 세부 구성 및 기능은 도 4를 참조하여 상세히 설명된다.The detailed configuration and function of the first cleaning section 20 will be described in detail with reference to FIG.

다음, 제2세정부(30)는, 2차적으로 기판을 세정하기 위한 것으로서, 제1세정부의 구성요소들 중 일부 구성만으로 구성될 수 있다. 즉, 제2세정부는 기판의 상단면을 중점적으로 세정하기 위한 것으로서, 제1세정부의 구성요소들 중, 제2세정부로 유입되는 기판의 전면에 이온화된 에어를 분사하기 위한 전단부 상단 이오나이저, 전단부 상단 이오나이저를 통해 이온화된 에어가 분사된 기판의 상단면을 브러쉬를 이용하여 물리적으로 세정하기 위한 상단 롤브러쉬, 상단 롤브러쉬의 브러쉬 표면을 털어주어 기판의 표면에서 상단 롤브러쉬의 브러쉬로 이동된 이물질을 털어내기 위한 상단 브러쉬 나이프 및 상단 브러쉬 나이프에 의해 털려진 이물질을 흡입하여 외부로 배출하기 위한 상단 석션을 포함하여 구성될 수 있다.Next, the second cleaning section 30 is for cleaning the substrate 2, and may be constituted by only a part of the constituent elements of the first cleaning section. That is, the second cleaning part is for cleaning the upper surface of the substrate, and the front part of the substrate flowing into the second cleaning part, among the components of the first cleaning part, An upper roll brush for physically cleaning the upper surface of the substrate on which the ionized air is blown through the upper end ionizer at the upper stage by using a brush, a brush roller for brushing the upper surface of the upper roll brush, An upper brush knife for shaking off foreign matter moved by the brush of the upper brush knife, and an upper suction for sucking the foreign matter cleaned by the upper brush knife to discharge the foreign matter to the outside.

이러한 제2세정부(30)의 세부 구성 및 기능은, 이하에서 도 4를 참조하여 설명되는 제1세정부의 각 구성요소들과 대응될 수 있는바, 이에 대한 구체적인 설명은 생략된다.The detailed configuration and function of the second cleansing unit 30 can be corresponded to the respective components of the first cleansing unit described below with reference to FIG. 4, and a detailed description thereof will be omitted.

다음, 제3세정부(40)는, 3차적으로 기판을 세정하기 위한 것으로서, 이오나이징 에어 나이프(Air Knife)로 구성될 수 있다. 즉, 제3세정부는 기판으로부터 이탈되어 기판 주위에 남아 있는 이물질을, 이온화된 공기를 고압으로 기판에 충돌시켜 제거하기 위한 것으로서, 이러한 기능을 수행하는 상단 이오나이징 에어 나이프(Air Knife)만을 포함하여 구성될 수 있다. Next, the third cleaning part 40 is for cleaning the substrate 3, and may be formed of an ionizing air knife. That is, the third cleaning unit removes foreign matter remaining around the substrate from the substrate by colliding the ionized air with the substrate at a high pressure, and it is possible to remove only the upper ionizing air knife And the like.

즉, 상단 이오나이징 에어 나이프는 이온화된 공기를, 제2세정부를 통해 세정된 기판의 상단면에 고압으로 충돌시켜 주므로써, 정전기에 의해 기판에 붙어있는 이물질 또는 기판으로부터 이탈되어 기판의 주위 공간에 잔류하고 있는 정전기를 가진 이물질을 제거하는 기능을 수행한다.That is, the upper ionizing air knife causes the ionized air to collide with the upper surface of the substrate cleaned through the second cleaner at a high pressure, so that the foreign matter adhered to the substrate or the substrate adhered to the substrate by the static electricity, And removes foreign matter having static electricity remaining in the space.

그러나, 제3세정부는 상단 이오나이징 에어 나이프 이외에도 제1세정부의 각 구성요소들과 대응될 수 있는 구성을 더 포함하여 구성될 수도 있다. However, in addition to the upper Ionizing Air Knife, the third-tier government may also include a configuration that can be mapped to each component of the first tier government.

다음, 배출부(50)는, 제1세정부 내지 제3세정부를 거치면서 세정된 기판(90)이 배출되는 부분으로서, 배출된 기판은 또 다른 공정라인으로 이송된다. Next, the discharge portion 50 is a portion through which the substrate 90 cleaned while passing through the first to third cleaning portions is discharged, and the discharged substrate is transferred to another process line.

마지막으로, 이송부(60)는, 투입부를 통해 투입된 기판을 제1세정부 내지 제3세정부를 거쳐 배출부(50)로 이송시키기 위한 것으로서, 롤러로 구성될 수 있다.Lastly, the transfer unit 60 is for transferring the substrate, which has been inserted through the loading unit, to the discharge unit 50 via the first to third cleaning units, and may be constituted by a roller.

즉, 기판은 이송부의 롤러를 따라 상기 각 부를 이동해 가면서 세정되다가 최종적으로 배출부를 통해 배출된다. That is, the substrate is cleaned while being moved along the rollers of the conveyance unit, and finally discharged through the discharge unit.

한편, 본 발명은 상기한 바와 같은 제1세정부(20), 제2세정부(30), 제3세정부(40) 순서로 반드시 구성되는 것은 아니다. 즉, 제1세정부 내지 제3세정부의 구성은 그 위치가 서로 변경될 수 있다. 예를 들어, 제2세정부가 1차세정 공정을 수행하고, 제1세정부가 2차세정 공정을 수행하며, 제3세정부가 3차세정 공정을 수행할 수 있도록, 제1세정부 내지 제3세정부의 위치가 변경될 수도 있다.On the other hand, the present invention is not necessarily constructed in the order of the first taxing part 20, the second taxing part 30, and the third taxing part 40 as described above. That is, the configurations of the first to third government may be changed in position. For example, if a second-tier government performs a first-tier process, a first-tier government performs a second-tier process, and a third-tier government performs a third-tier process, The position of the government may change.

또한, 각 세정부의 구성 또한 상기한 바와 같은 구성에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제1세정부(20)의 경우, 후단부 하단 이오나이저를 더 포함하여 구성될 수 있고, 제2세정부(30)의 경우, 전단부 하단 이오나이저를 더 포함하여 구성될 수도 있으며, 제3세정부(40)의 경우, 하단 이오나이징 에어 나이프를 더 포함하여 구성될 수도 있다.
Further, the configurations of the respective cleaning units are not limited to those described above. For example, in the case of the first weft section 20, it may be further comprised of a rear end lower ionizer, and in the case of the second weft section 30, it may be further comprised of a front end lower ionizer And in the case of the third cleaning part 40, a lower Ionizing air knife may be further included.

도 4는 본 발명에 따른 건식 세정 장치 중 제1세정부의 구성을 나타낸 단면도이다. 또한, 도 5는 본 발명에 따른 건식 세정 장치 중 제1세정부와 제2세정의 구성을 나타낸 단면도이다. 4 is a cross-sectional view showing a configuration of a first cleaning unit of the dry cleaning apparatus according to the present invention. 5 is a cross-sectional view showing a configuration of a first cleaning part and a second cleaning part of the dry cleaning device according to the present invention.

본 발명에 따른 건식 세정 장치에 적용되는 제1세정부(20)는 투입부(10)를 통해 투입된 기판을 1차적으로 세정하기 위한 것으로서 상기한 바와 같이, 전단부 상단 이오나이저(21), 전단부 하단 이오나이저(22), 상단 롤브러쉬(23), 하단 롤브러쉬(24), 상단 브러쉬 나이프(25), 하단 브러쉬 나이프(26), 상단 석션(27), 하단 석션(28) 및 후단부 상단 이오나이저(29)를 포함하고 있으며, 상기 구성요소들은 프레임에 장착되어 있다.The first cleaning part 20 applied to the dry cleaning device according to the present invention is for cleaning the substrate introduced through the charging part 10 in a primary way. As described above, the first cleaning part 20 includes a front end upper ionizer 21, The lower end ionizer 22, the upper roll brush 23, the lower roll brush 24, the upper brush knife 25, the lower brush knife 26, the upper suction 27, the lower suction 28, And a top ionizer 29, the components being mounted to the frame.

우선, 전단부 상단 이오나이저(21)와 전단부 하단 이오나이저(22)는, 제1세정부로 투입되는 상태에 있는 기판의 상단면과 하단면에 이온화된 에어를 분사하여, 기판에 붙어있는 이물질을 기판으로부터 분리시키기 위한 것으로서, 특히, 정전기에 의해 기판에 붙어있는 이물질을 효율적으로 분리시키기 위한 목적으로 이용되고 있다.First, the front end upper ionizer 21 and the front end lower ionizer 22 inject ionized air onto the upper end surface and the lower end surface of the substrate in a state of being introduced into the first cleaning part, And is used for separating a foreign substance from a substrate, particularly for the purpose of efficiently separating foreign substances attached to the substrate by static electricity.

즉, 본 발명에 따른 건식 세정 장치는 상기한 바와 같이, 습식 세정이 이루여져야 하나 그 구조상 습식 세정이 이루어질 수 없는 기판을 세정하기 위한 것으로서, 특히, 정전기 발생이 쉬운 플라스틱 재질의 기판을 세정하기 위한 것이다. 한편, 무기물 성분의 이물질의 경우 정전기에 의해 기판에 쉽게 붙을 수 있으며, 이러한 무기물 성분의 이물질은 고압의 에어를 분사하더라도 쉽게 기판으로부터 분리될 수 없다.That is, as described above, the dry cleaning apparatus according to the present invention is for cleaning a substrate which must be wet-cleaned but can not be wet-cleaned due to its structure, and more particularly to a method for cleaning a substrate of a plastic material . On the other hand, in the case of a foreign matter of an inorganic component, it can be easily adhered to a substrate by static electricity, and a foreign matter of such an inorganic component can not be easily separated from the substrate even if high pressure air is injected.

따라서, 본 발명은 롤브러쉬(23, 24)를 이용하여 이물질을 기판으로부터 털어내기에 앞서, 정전기에 의해 기판에 붙어있는 무기물 성분의 이물질을 기판으로부터 분리시키기 위하여, 제1세정부(20)로 기판이 투입되는 전단부의 상단과 하단에 각각 전단부 상단 이오나이저(21)와, 전단부 하단 이오나이저(22)를 구비하고 있다.Therefore, in order to separate the foreign matter of the inorganic component attached to the substrate from the substrate by the static electricity before the foreign matter is shaken from the substrate by using the roll brushes 23 and 24, the first cleaning part 20 And a front end upper ionizer 21 and a front end lower ionizer 22 at the upper and lower ends of the front end portion into which the substrate is inserted.

한편, 상기한 바와 같이 제1세정부는 전단부 하단 이오나이저(22)가 없는 상태로 구성될 수도 있다. 즉, 전단부 하단 이오나이저는 기판의 하단면에 이온화된 에어를 분사하기 위한 것으로서, 하단면에 대한 정밀한 세정이 요구되지 않는 기판을 세정하고자 하는 경우에는 전단부 하단 이오나이저(22)가 생략될 수도 있다.Meanwhile, as described above, the first cleaner may be configured without the front end lower ionizer 22. That is, the front end lower ionizer 22 is for spraying the ionized air to the lower end surface of the substrate. In the case where the substrate which is not required to precisely clean the lower end surface is to be cleaned, the front end lower ionizer 22 is omitted It is possible.

다음, 상단 롤브러쉬(23)와 하단 롤브러쉬(24)는 이온화된 에어의 분사에 의해 정전기력이 약화되어 기판과의 밀착력이 떨어진 이물질을 브러쉬를 이용하여 털어내기 위한 것으로서, 각각, 롤러 및 롤러의 외주면에 장착되어 있는 브러쉬로 구성되어 있다.Next, the upper roll brush 23 and the lower roll brush 24 are used for brushing off foreign substances having weakened electrostatic force due to jetting of ionized air and having a weak adhesive force with the substrate, And a brush mounted on the outer peripheral surface.

즉, 상단 롤브러쉬와 하단 롤브러쉬는 이오나이저를 거치면서 기판에 들떠 있는 상태의 이물질을 브러쉬를 이용하여 쓸어내는 기능을 수행한다.That is, the upper roll brush and the lower roll brush perform a function of sweeping the foreign object floating on the substrate by using the brush while passing through the ionizer.

한편, 전단부 하단 이오나이저와 마찬가지로, 하단 롤브러쉬(24)는 생략될 수도 있다. On the other hand, like the front-end lower ionizer, the lower roll brush 24 may be omitted.

다음, 상단 브러쉬 나이프(25)와 하단 브러쉬 나이프(26)는 각각 상단 롤브러쉬(23)와 하단 롤브러쉬(24)의 브러쉬와 터치가 가능한 위치에 배치되어, 브러쉬에 붙어있는 이물질을 공간상으로 털어내는 기능을 수행한다. Next, the upper brush knife 25 and the lower brush knife 26 are disposed at positions where the brushes of the upper roll brush 23 and the lower roll brush 24 can be touched, respectively, It carries out the function of shaking out.

즉, 상단 롤브러쉬와 하단 롤브러쉬에 의해 기판의 표면으로부터 분리된 이물질은 다시 브러쉬에 붙어 있을 수 있으며, 이 경우, 브러쉬에 붙어 있는 이물질들이 다시 기판의 표면으로 옮겨가 붙을 수도 있다.That is, the foreign matter separated from the surface of the substrate by the upper roll brush and the lower roll brush may be attached to the brush again, and in this case, the foreign substances attached to the brush may be transferred again to the surface of the substrate.

따라서, 본 발명은 도 4에 도시된 바와 같이, 제1세정부의 후단부 근처에서 상단 롤브러쉬와 하단 롤브러쉬와 접촉될 수 있는 위치에 상단 브러쉬 나이프와 하단 브러쉬 나이프를 구비하여, 이들에 의해 각각의 브러쉬에 붙어있는 이물질이 공간상으로 털어지도록 하고 있다. 4, the upper brush knife and the lower brush knife are provided at positions that can be brought into contact with the upper roll brush and the lower roll brush near the rear end of the first washing machine, So that foreign matter attached to each brush is whitened in space.

이러한 상단 브러쉬 나이프(25)와 하단 브러쉬 나이프(26)는 도 4의 확대된 도면에 도시되어 있는 바와 같이, 브러쉬와 접촉하여 브러쉬에 붙어있는 이물질을 털어내기 위한 나이프(25a, 26a), 나이프가 회전가능하도록 하여 나이프가 브러쉬에 밀착되거나 또는 브러쉬로부터 분리되도록 하기 위한 회전부(25b, 26b) 및 나이프에 의해 공간상으로 떨어져 나온 이물질을 흡입하기 위한 흡입부(25c, 26c)를 포함하여 구성될 수 있다.As shown in the enlarged view of FIG. 4, the upper brush knife 25 and the lower brush knife 26 are provided with knives 25a and 26a for contacting foreign objects adhering to the brush, (25b, 26b) for allowing the knife to come into contact with the brush or from the brush so that the knife can be rotated, and suction portions (25c, 26c) for sucking in foreign substances spatially separated by the knife have.

여기서, 상단 브러쉬 나이프(25)의 흡입부(25c)는 도 4에 도시된 바와 같이, 나이프의 하단에 위치되어 있으며, 하단 브러쉬 나이프(26)의 흡입부(26c)는 나이프의 상단에 위치되어 있다. The suction portion 25c of the upper brush knife 25 is located at the lower end of the knife as shown in Fig. 4 and the suction portion 26c of the lower end brush knife 26 is located at the upper end of the knife have.

따라서, 상단 브러쉬 나이프(25)를 통해 브러쉬로부터 떨어져 나온 이물질은 나이프 하단에 위치되어 있는 흡입부로 흡입되므로써, 다시 기판의 상단면으로 이동될 수 없으며, 마찬가지로, 하단 브러쉬 나이프(26)를 통해 브러쉬로부터 떨어져 나온 이물질은 나이프(26a) 상단에 위치되어 있는 흡입부로 흡입되므로써, 다시 기판의 하단면으로 이동될 수 없다. 한편, 이하에서 설명될 석션이 이물질을 흡입하여 외부로 배출하는 것과 마찬가지로, 흡입부 역시 이물질을 흡입하여 외부로 배출하는 기능을 수행한다.Therefore, the foreign matter coming off the brush through the upper brush knife 25 can not be moved to the upper surface of the substrate again by being sucked into the suction portion located at the lower end of the knife. Similarly, Foreign matter that has fallen off is sucked into the suction portion located at the upper end of the knife 26a, so that it can not be moved to the lower end surface of the substrate again. On the other hand, just as the suction to be described below sucks foreign substances and discharges them to the outside, the suction unit also functions to suck foreign substances and discharge them to the outside.

또한, 상단 브러쉬 나이프(25)에 의해 상단 방향으로 떨어져 나간 이물질은 중력에 의해 기판의 상단면으로 떨어지기 전에 이하에서 설명될 상단 석션(27)에 의해 흡입되어 외부로 배출되며, 하단 브러쉬 나이프(26)에 의해 하단 방향으로 떨어져 나간 이물질은 중력에 의해 하단 방향으로 떨어지면서 하단 석션(28)에 의해 흡입되어 외부로 배출된다.In addition, the foreign matter falling in the upper direction by the upper brush knife 25 is sucked by the upper suction 27 to be discharged to the outside before being dropped by the gravity to the upper surface of the substrate, and the lower brush knife 26 are lowered in the lower direction by gravity and sucked by the lower suction 28 and discharged to the outside.

다음, 상단 석션(27) 및 하단 석션(28)은 상기한 바와 같이 상단 브러쉬 나이프(25)의 상단 및 하단 브러쉬 나이프(26)의 하단에 각각 장착되는 것으로서, 상단 브러쉬 나이프(25)와 하단 브러쉬 나이프(26)를 통해 브러쉬로부터 떨어져 나가 공기중으로 이송된 이물질을 흡입하여 외부로 배출시키는 기능을 수행한다.The upper suction brush 27 and the lower suction brush 28 are attached to the upper end of the upper brush knife 25 and the lower end of the lower brush knife 26 as described above. And separates foreign matter transferred to the air from the brush through the knife 26 and discharges the foreign substance to the outside.

마지막으로, 후단부 상단 이오나이저(29)는 제1세정부에 의한 세정을 마치고 제1세정부로부터 배출되는 기판의 상단면에 이온화된 에어를 분사하여 공기중에 떠 다니는 이물질이 정전기에 의해 다시 기판에 붙는 현상을 방지하는 기능을 수행한다. Finally, the rear end upper ionizer 29 completes the cleaning by the first cleaner, and the ionized air is sprayed onto the upper surface of the substrate discharged from the first cleaner, so that the foreign material floating in the air is returned to the substrate To prevent the phenomenon of sticking to the surface.

또한, 제1세정부(20)는 후단부 상단 이오나이저(29)와 같은 기능을 기판의 하단면에 대하여 수행하기 위한 후단부 하단 이오나이저(미도시)를 더 포함하여 구성될 수 있다.
The first cleaner 20 may further comprise a rear end lower ionizer (not shown) for performing the same function as the rear end top ionizer 29 on the bottom surface of the substrate.

한편, 상기한 바와 같이, 도 3에 도시되어 있는 제2세정부(30)에는 상기한 바와 같은 구성들 중, 적어도 어느 하나가 장착되어 있는 상태로 구성되어, 제1세정부 후단에서 2차 또는 3차적으로 기판을 세정하는 기능을 수행한다. As described above, the second cleaner 30 shown in FIG. 3 is configured such that at least one of the above-described configurations is mounted, And performs a function of cleaning the substrate in a tertiary manner.

즉, 제2세정부(30)는 제1세정부(20) 후단에서, 보충적으로 기판을 세정하기 위한 것으로서, 제1세정부의 구성요소들 중 적어도 어느 하나를 구비한 상태로 다양하게 형성될 수 있는바, 도 5에서는, 상기한 바와 같이 구성되어 있는 제1세정부(20)와 함께, 전단부 상단 이오나이저, 상단 롤브러쉬, 상단 브러쉬 나이프, 상단 석션 및 후단부 상단 이오나이저로 구성되어 있는 제2세정부(30)가 도시되어 있다.That is, the second cleaning part 30 is provided for cleaning the substrate at the rear end of the first cleaning part 20, and may be variously formed with at least one of the components of the first cleaning part In Fig. 5, the first washing unit 20 constructed as described above is provided with a front end top ionizer, an upper roll brush, an upper brush knife, an upper suction and a rear end upper ionizer Is shown in Fig.

즉, 제2세정부930)는 전단부 하단 이오나이저, 하단 롤브러쉬, 하단 브러쉬 나이프 및 하단 석션이 없는 상태로 구성될 수 있다.That is, the second cleansing portion 930 may be configured without a lower end ionizer at the lower end, a lower roll brush, a lower brush knife, and a lower suction.

또한, 도 5에 도시되어 있지는 않지만, 제3세정부(40)는 상기한 바와 같이, 이온화된 공기를 고압으로 기판에 충돌시켜 기판 주위에 남아있는 이물질을 제거하기 위한 이오나이징 에어 나이프로 구성될 수 있으며, 그 이외에도 제1세정부의 구성요소들과 대응되는 구성요소들을 더 포함하여 구성될 수도 있다. 즉, 제3세정부(40)는 제1세정부와 제2세정부를 통해 세정된 기판 주위에 잔존하는 이물질을 최종적으로 제거한 후 기판을 외부로 배출하는 기능을 수행할 수 있다.Although not shown in FIG. 5, as described above, the third cleaning section 40 is constituted by an ionizing air knife for removing foreign matter remaining around the substrate by colliding the ionized air with the substrate at a high pressure And may further include components corresponding to those of the first-tier government. That is, the third cleaning unit 40 may perform a function of ultimately removing foreign substances remaining around the substrate cleaned through the first cleaning unit and the second cleaning unit, and then discharging the substrate to the outside.

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다. It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

10 : 투입부 20 : 제1세정부
30 : 제2세정부 40 : 제3세정부
50 : 배출부 60 : 이송부
21 : 전단부 상단 이오나이저 22 : 전단부 하단 이오나이저
23 : 상단 롤브러쉬 24 : 하단 롤브러쉬
25 : 상단 브러쉬 나이프 26 : 하단 브러쉬 나이프
27 : 상단 석션 28 : 하단 석션
29 : 후단부 상단 이오나이저 90 : 기판
10: Input section 20: 1st generation government
30: The Second Government 40: The Third Government
50: discharge part 60: transfer part
21: upper end front end ionizer 22: lower end ionizer at the front end
23: Upper roll brush 24: Lower roll brush
25: Upper Brush Knife 26: Lower Brush Knife
27: Upper suction 28: Lower suction
29: rear end top ionizer 90: substrate

Claims (13)

세정 대상인 기판이 투입되는 투입부;
이온화된 에어를 분사하여 상기 기판이 정전기로 대전되는 것을 방지한 후, 상기 기판의 표면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 제1세정부; 및
상기 제1세정부를 통해 세정된 상기 기판을 배출하기 위한 배출부를 포함하고,
상기 제1세정부는,
상기 기판에 이온화된 에어를 분사하기 위해 상기 기판이 유입되는 전단부에 장착되어 있는 전단부 이오나이저; 및
상기 전단부 이오나이저의 후단부에 배치되어, 상기 에어가 분사된 상기 기판의 표면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 롤브러쉬를 포함하는 건식 세정 장치.
A charging unit into which a substrate to be cleaned is charged;
A first cleaning unit for cleaning the surface of the substrate with a brush after jetting ionized air to prevent the substrate from being charged by static electricity; And
And a discharge unit for discharging the substrate cleaned through the first cleaning unit,
The first three-
A front end ionizer mounted on a front end of the substrate through which the substrate is introduced to inject ionized air into the substrate; And
And a roll brush disposed at a rear end of the front end ionizer for cleaning the surface of the substrate on which the air is ejected using a brush.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제1세정부는,
상기 기판으로부터 상기 브러쉬로 이동되어온 이물질을 흡입하여 외부로 배출하기 위한 석션을 더 포함하는 건식 세정 장치.
The method according to claim 1,
The first three-
Further comprising: a suction unit for sucking a foreign substance moved from the substrate to the brush and discharging the foreign substance to the outside.
제 3 항에 있어서,
상기 제1세정부는,
상기 기판으로부터 이탈하여 상기 브러쉬에 붙은 이물질을 상기 브러쉬로부터 털어내기 위한 브러쉬 나이프를 더 포함하며,
상기 석션은 상기 브러쉬 나이프에 의해 공간상으로 배출된 상기 이물질을 배출하는 것을 특징으로 하는 건식 세정 장치.
The method of claim 3,
The first three-
Further comprising: a brush knife for removing foreign matter adhering to the brush from the brush,
Wherein the suction discharges the foreign matter discharged in a space by the brush knife.
제 4 항에 있어서,
상기 브러쉬 나이프는,
상기 브러쉬와 접촉하여 상기 브러쉬에 붙어있는 이물질을 털어내기 위한 나이프;
상기 나이프가 회전가능하도록 하여 상기 나이프가 상기 브러쉬에 밀착되거나 또는 상기 브러쉬로부터 분리되도록 하기 위한 회전부; 및
상기 나이프에 의해 공간상으로 떨어져 나온 상기 이물질을 흡입하여 외부로 배출하기 위한 흡입부를 포함하는 건식 세정 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the brush knife comprises:
A knife for contact with the brush to remove foreign matter adhering to the brush;
A rotating portion for allowing the knife to rotate so that the knife is brought into close contact with the brush or separated from the brush; And
And a suction unit for sucking the foreign matter separated in space by the knife and discharging the foreign matter to the outside.
제 1 항에 있어서,
상기 전단부 이오나이저는,
상기 기판의 상단에 상기 에어를 분사하기 위한 전단부 상단 이오나이저; 및
상기 기판의 하단에 상기 에어를 분사하기 위한 전단부 하단 이오나이저를 포함하는 건식 세정 장치.
The method according to claim 1,
The front end ionizer may be configured to:
A front end top ionizer for spraying the air onto the top of the substrate; And
And a front end lower stage ionizer for spraying the air to the lower end of the substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 제1세정부는,
상기 롤브러쉬에 의해 세정된 상기 기판이 배출되는 후단부에 장착되어, 상기 배출되는 기판에 이온화된 에어를 분사하기 위한 후단부 이오나이저를 더 포함하는 건식 세정 장치.
The method according to claim 1,
The first three-
And a rear end ionizer mounted on a rear end of the substrate cleaned by the roll brush for ejecting ionized air to the discharged substrate.
제 7 항에 있어서,
상기 후단부 이오나이저는,
상기 기판의 상단에 상기 에어를 분사하기 위한 후단부 상단 이오나이저인 것을 특징으로 하는 건식 세정 장치.
8. The method of claim 7,
The rear end ionizer,
And a rear end upper ionizer for spraying the air onto the upper end of the substrate.
제 1 항에 있어서,
상기 롤브러쉬는,
상기 에어가 분사된 상기 기판의 상단면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 상단 롤브러쉬; 및
상기 에어가 분사된 상기 기판의 하단면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 하단 롤브러쉬를 포함하는 건식 세정 장치.
The method according to claim 1,
The roll brush includes:
An upper roll brush for cleaning the upper surface of the substrate on which the air is sprayed by using a brush; And
And a lower roll brush for cleaning the lower end surface of the substrate on which the air is sprayed by using a brush.
제 1 항에 있어서,
상기 제1세정부를 통해 세정된 상기 기판을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 제2세정부를 더 포함하는 건식 세정 장치.
The method according to claim 1,
And a second cleaner for cleaning the substrate cleaned through the first cleaner using a brush.
제 10 항에 있어서,
상기 제2세정부는,
상기 제1세정부를 거친 상기 기판의 상단면에 이온화된 에어를 분사하기 위해 상기 기판이 유입되는 전단부에 장착되어 있는 전단부 상단 이오나이저;
상기 에어가 분사된 상기 기판의 상단면을 브러쉬를 이용하여 세정하기 위한 상단 롤브러쉬;
상기 기판으로부터 이탈하여 상기 브러쉬에 붙은 이물질을 상기 브러쉬로부터 털어내기 위한 상단 브러쉬 나이프; 및
상기 상단 브러쉬 나이프에 의해 상기 브러쉬로부터 떨어져 나간 이물질을 흡입하여 외부로 배출하기 위한 상단 석션을 포함하는 건식 세정 장치.
11. The method of claim 10,
The second taxing unit includes:
A front end top ionizer mounted on a front end of the substrate through which the substrate flows to eject the ionized air to the top surface of the substrate through the first cleaning part;
An upper roll brush for cleaning the upper surface of the substrate on which the air is sprayed by using a brush;
An upper brush knife for removing foreign matter adhering to the brush from the brush, And
And an upper suction unit for sucking a foreign substance separated from the brush by the upper brush knife and discharging the foreign substance to the outside.
제 10 항에 있어서,
상기 제2세정부를 통해 세정된 상기 기판에, 이온화된 공기를 고압으로 분사하여 상기 기판 주위의 이물질을 제거하기 위한 제3세정부를 더 포함하는 건식 세정 장치.
11. The method of claim 10,
And a third cleaning unit for spraying the ionized air at a high pressure on the substrate cleaned through the second cleaning unit to remove foreign substances around the substrate.
제 12 항에 있어서,
상기 제3세정부는,
이온화된 공기를 고압으로 상기 기판의 상단면에 충돌시켜 상기 기판 주위에 남아있는 이물질을 제거하기 위한 상단 이오나이징 에어 나이프를 포함하는 건식 세정 장치.
13. The method of claim 12,
The third taxing unit includes:
And a top ionizing air knife for removing foreign matter remaining around the substrate by colliding the ionized air with the upper surface of the substrate at a high pressure.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105618447A (en) * 2014-10-31 2016-06-01 青岛富润玻璃有限公司 Dust removal device of glass processing line
KR102454766B1 (en) * 2017-10-25 2022-10-13 엘지전자 주식회사 Roll to roll cleaning apparatus
CN109158342A (en) * 2018-08-24 2019-01-08 安徽名特玻璃有限公司 A kind of glass post-processing cleaning device
CN116527578B (en) * 2023-07-03 2023-08-25 合肥岭雁科技有限公司 Dustproof heat dissipation formula router

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002172369A (en) * 2000-06-29 2002-06-18 Dms Co Ltd Multi-functional cleaning module for plate display production apparatus and cleaning apparatus using the module

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002172369A (en) * 2000-06-29 2002-06-18 Dms Co Ltd Multi-functional cleaning module for plate display production apparatus and cleaning apparatus using the module

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