KR101780908B1 - Copper alloy foil - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이차 전지의 부극 집전체, FCCL, 전자파 실드체 등의 용도에 바람직한 구리 합금박을 제공하는 것을 과제로 하고, Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지고, 80 % IACS 이상의 도전율을 갖고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하는 구리 합금박에 관한 것이다.The present invention provides a copper alloy foil suitable for use as a negative electrode current collector, an FCCL, and an electromagnetic shielding body of a secondary battery. , Zn and Zr in a total amount of 0.01 to 0.50 mass%, the balance of Cu and impurities, having an electrical conductivity of 80% IACS or more, maintaining a tensile strength of 300 MPa or more after heating at 300 ° C for 30 minutes To a copper alloy foil.

Description

구리 합금박{COPPER ALLOY FOIL}Copper alloy foil {COPPER ALLOY FOIL}

본 발명은 리튬 이온 이차 전지 (LIB) 를 비롯한 이차 전지의 부극 집전체 재료, 플렉시블 구리 피복 적층판 (FCCL) 의 도전체 재료, 전선 피복재 등의 전자파 실드체 재료 등으로서 바람직한 구리 합금박 및 그것을 사용한 전자 부품에 관한 것이다.The present invention relates to a copper alloy foil suitable for a negative electrode collector material of a secondary battery including a lithium ion secondary battery (LIB), a conductor material of a flexible copper clad laminate (FCCL), an electromagnetic shield material such as an electric wire covering material, ≪ / RTI >

전자·전기 기기에는 구리박이 다용되고 있다. 여기에서는 두께가 0.05 ㎜ 이하인 금속판을 박 (箔) 으로 한다. 구리박에는 압연 구리박과 전해 구리박이 있다. 전해 구리박에 대한 압연 구리박의 특징은, 합금 원소의 첨가와 압연·열처리 조건의 조정에 의해서 강도, 영률, 피로, 내열성, 도전성, 내식성 등의 제특성을 임의로 조정할 수 있는 점에 있다. 따라서, 보다 높은 기능이 요구되는 용도에는 압연 구리 합금박 (이하, 구리 합금박이라고 한다) 이 사용되는 경우가 많다.Copper foil is widely used in electronic and electric devices. Here, a metal plate having a thickness of 0.05 mm or less is used as a foil. Copper foil has rolled copper foil and electrolytic copper foil. The feature of the rolled copper foil for the electrolytic copper foil is that the characteristics such as strength, Young's modulus, fatigue, heat resistance, conductivity, and corrosion resistance can be arbitrarily adjusted by adding alloying elements and adjusting the rolling and heat treatment conditions. Therefore, a rolled copper alloy foil (hereinafter referred to as a copper alloy foil) is often used for applications requiring higher functions.

예를 들어, 일본 공개특허공보 2009-097075 (특허문헌 1) 에서는, FCCL 용 구리박으로서 Cu 에 Sn, Mg, In, Ag 중의 2 종 이상을 첨가하여 내열성과 굴곡성을 개선한 구리 합금박이 개시되어 있다. 또, 일본 공개특허공보 2011-216463 (특허문헌 2) 에서는, 이차 전지의 충방전 사이클 수명을 개선시키는 것을 목적으로, 그 부극 집전체용 구리박으로서 Cu 에 Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn, Zr 중의 1 종 이상을 첨가함과 함께 영률의 이방성을 저감시킨 구리 합금박을 사용하고 있다.For example, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-097075 (Patent Document 1) discloses a copper alloy foil in which at least two of Sn, Mg, In, and Ag are added to Cu as a copper foil for FCCL to improve heat resistance and bendability have. In order to improve the charge / discharge cycle life of the secondary battery, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-216463 (Patent Document 2) discloses a method for manufacturing a secondary battery, which comprises depositing Cu, Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn, and Zr is added and anisotropy of the Young's modulus is reduced.

일본 공개특허공보 2009-097075호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2009-097075 일본 공개특허공보 2011-216463호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-216463

전자·전기 기기의 소형화, 고기능화에 수반하여, 구리박의 특성에 대한 요구는 더욱 더 높아지고 있다. 예를 들어, 이차 전지의 부극 집전체에 있어서의 충방전 사이클 수명, FCCL 에 있어서의 굴곡 수명, 전자파 실드체에 있어서의 내구성 등을 들 수 있다. 본 발명은 이들 요구에 대응할 수 있는 구리 합금박을 제공하는 것을 과제로 한다.With the miniaturization and sophistication of electronic and electric devices, there is a growing demand for the characteristics of copper foil. For example, the life span of the charge / discharge cycle in the negative electrode current collector of the secondary battery, the bending life in the FCCL, and the durability in the electromagnetic shielding body can be given. It is an object of the present invention to provide a copper alloy foil capable of coping with these demands.

본 발명자는 구리 합금박에 탄성 한계 이하의 응력을 부하하여 장시간 유지하면, 실온이어도 미소한 신율이 발생되는 것을 발견하였다. 그리고, 이 실온에서 발생되는 미소 (微小) 크리프 연신율 (이하, 크리프라고 한다) 이 작은 구리 합금박을 사용하면, 전자·전기 기기의 기능성이 향상되는 것을 알아내었다.The present inventors have found that when the copper alloy foil is loaded with stress less than the elastic limit and held for a long time, a minute elongation is generated even at room temperature. It has been found that the use of a copper alloy foil having a small creep elongation (hereinafter referred to as creep) at room temperature improves the functionality of the electronic / electric device.

예를 들어, 이 구리 합금박에 탄소질 재료 등을 활물질로서 코팅하고, 이것을 부극 집전체로 하여 LIB 를 제작하면, LIB 의 충방전 사이클 수명이 향상되었다. LIB 의 충전시에는 리튬 이온이 정극에서 부극으로 이동하고, 방전시에는 리튬 이온이 부극에서 정극으로 이동한다. 이 리튬 이온의 이동에 수반하여 부극 활물질이 팽창 수축되기 때문에, 구리박은 충방전에 의해서 기계적 반복 응력을 받는다. 그 결과, 구리박이 영구 변형되어 활물질이 박리되고, 전지 특성이 열화된다. 크리프가 작은 구리 합금박의 경우, 반복 응력 하에서의 구리 합금박의 영구 변형이 경감되어 전지 특성의 열화가 개선된다고 생각되었다.For example, when the copper alloy foil is coated with a carbonaceous material or the like as an active material, and the LIB is fabricated using the negative electrode collector as the negative electrode collector, the charge / discharge cycle life of the LIB is improved. When the LIB is charged, lithium ions migrate from the positive electrode to the negative electrode, and during discharging, lithium ions migrate from the negative electrode to the positive electrode. Since the negative electrode active material expands and shrinks with the movement of the lithium ion, the copper foil receives mechanical repeated stress by charging and discharging. As a result, the copper foil is permanently deformed, the active material is peeled off, and the battery characteristics are deteriorated. It was thought that the permanent deformation of the copper alloy foil under the repeated stress was reduced in the case of the copper alloy foil having a small creep and the deterioration of the battery characteristics was improved.

또, 크리프가 작은 구리 합금박을 사용하여 FCCL 을 제작하면, 이 FCCL 을 사용하여 제작한 플렉시블 프린트 기판 (FPC) 의 굴곡 수명이 향상되었다. 크리프가 작은 구리 합금박의 경우, FPC 가 굴곡되었을 때의 구리 합금박의 영구 변형이 경감되고, 이로써 구리 합금박의 크랙 생성과 성장이 억제된다고 생각되었다.Further, when the FCCL was produced using a copper alloy foil having a small creep, the bending life of the flexible printed circuit board (FPC) produced using the FCCL was improved. In the case of a copper alloy foil with a small creep, permanent deformation of the copper alloy foil when the FPC is bent is alleviated, thereby suppressing crack generation and growth of the copper alloy foil.

마찬가지로, 전자파 실드용의 전선 피복재에 있어서도, 크리프가 작은 구리박을 사용하면, 전선을 반복하여 절곡했을 때의 구리 합금박의 손상이 경감되는 경향을 볼 수 있었다.Similarly, in the case of an electric wire covering material for electromagnetic shielding, if a copper foil with a small creep is used, the damage of the copper alloy foil when the electric wire is repeatedly bent can be seen to be reduced.

구리 합금박의 크리프 연신율은 극미소이지만, 장기간에 걸쳐서 반복 응력을 받는 환경 하에서는 상기와 같은 영향이 현재화된다고 추찰되었다.Although the creep elongation of the copper alloy foil is extremely small, it is presumed that the above-described influence becomes effective under an environment where repeated stress is applied over a long period of time.

또한, 본 발명자는 예의 검토를 거듭한 결과, 구리 합금박의 압연면에 배향되는 결정립의 방위가 크리프에 영향을 미치는 것을 알아내었다. 구체적으로는, 크리프를 저감하기 위해서는, 압연면에 있어서 (111) 면 및 (220) 면을 증가시키는 것이 유효하고, 반대로 (200) 면의 증가는 유해하였다. 그리고, 실험적 검토를 거쳐, 크리프의 지표가 되는 결정 방위 지수를 발명하고, 이 지수를 제어함으로써 크리프의 저감을 이룰 수 있었다.Further, as a result of intensive studies, the present inventor has found that the orientation of crystal grains oriented on the rolled surface of a copper alloy foil affects creep. Specifically, in order to reduce creep, it is effective to increase the (111) plane and the (220) plane on the rolled surface, while the increase of the (200) plane is detrimental. Then, through an experimental examination, a crystal orientation index which is an index of creep was invented, and by controlling this index, it was possible to reduce the creep.

이상의 지견을 기초로 하여 완성된 본 발명은, 일 측면에 있어서, Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지고, 80 % IACS 이상의 도전율을 갖고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하고, 다음 식에서 주어지는 A 값이 0.5 이상인 것을 특징으로 하는 구리 합금박을 제공한다.In one aspect of the present invention, the present invention is completed on the basis of the above findings. In one aspect, the present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising at least one of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn, By mass and the balance of Cu and impurities and having an electrical conductivity of 80% IACS or more, holding a tensile strength of 300 MPa or more after heating at 300 占 폚 for 30 minutes, and an A value given by the following equation: 0.5 or more Copper alloy foil is provided.

A = 2X(111) + X(220) - X(200) A = 2X (111) + X (220) - X (200)

X(hkl) = I(hkl)/I0(hkl) X (hkl) = I (hkl) / I0 (hkl)

단, I(hkl) 및 I0(hkl) 은 각각 X 선 회절법을 이용하여 압연면 및 구리분에 대해서 구한 (hkl) 면의 회절 적분 강도이다.I (hkl) and Io (hkl) are the diffraction integral intensities of (hkl) planes obtained for the rolled surface and copper, respectively, by X-ray diffractometry.

또, 본 발명은 다른 일 측면에 있어서, Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지고, 80 % IACS 이상의 도전율을 갖고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하고, 30 ℃ 에서 100 ㎫ 의 인장 응력을 부가하여 100 시간 유지했을 때 연신율이 0.1 % 이하인 것을 특징으로 하는 구리 합금박을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising 0.01 to 0.50 mass% of at least one of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn, And having an electrical conductivity of 80% IACS or more, holding a tensile strength of 300 MPa or more after heating at 300 占 폚 for 30 minutes, holding a tensile stress of 100 MPa at 30 占 폚 for 100 hours, The copper alloy foil is 0.1% or less.

전술한 구리 합금박에 있어서, Zr 을 0.01 ∼ 0.20 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것이 바람직하다.In the aforementioned copper alloy foil, it is preferable that Zr is contained in an amount of 0.01 to 0.20 mass%, and the balance of Cu and impurities.

전술한 구리 합금박에 있어서, Sn 을 0.01 ∼ 0.20 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것이 바람직하다.In the above-described copper alloy foil, it is preferable that Sn is contained in an amount of 0.01 to 0.20 mass% and the remainder is made of Cu and impurities.

전술한 구리 합금박에 있어서, Ag 를 0.05 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것이 바람직하다.In the copper alloy foil described above, it is preferable that Ag is contained in an amount of 0.05 to 0.50 mass% and the remainder is made of Cu and an impurity.

전술한 구리 합금박에 있어서, Fe 를 0.05 ∼ 0.50 질량%, P 를 0.005 ∼ 0.10 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것이 바람직하다.In the copper alloy foil described above, it is preferable that the copper alloy foil contains 0.05 to 0.50% by mass of Fe and 0.005 to 0.10% by mass of P and the balance of Cu and impurities.

전술한 각 구리 합금박에 있어서, 두께가 0.003 ∼ 0.05 ㎜ 인 것이 바람직하다.In each of the copper alloy foils described above, the thickness is preferably 0.003 to 0.05 mm.

전술한 각 구리 합금박은 이차 전지의 부극 집전체에 사용할 수 있다.Each of the copper alloy foils described above can be used as a negative electrode collector of a secondary battery.

이 관점에서, 본 발명은 다른 일 측면에 있어서, 전술한 구리 합금박으로 구성되는 부극 집전체를 사용한 이차 전지를 제공한다.From this point of view, the present invention provides, in another aspect, a secondary battery using a negative electrode current collector composed of the above-described copper alloy foil.

전술한 각 구리 합금박은, 플렉시블 구리 피복 적층판에 사용할 수 있다.Each of the copper alloy foils described above can be used for a flexible copper clad laminate.

이 관점에서, 본 발명은 다른 일 측면에 있어서, 전술한 구리 합금박으로 구성되는 플렉시블 구리 피복 적층판을 제공한다. In view of this point, the present invention provides, in another aspect thereof, a flexible copper clad laminate composed of the above-described copper alloy foil.

전술한 각 구리 합금박은 전자파 실드체에 사용할 수 있다. Each of the copper alloy foils described above can be used in an electromagnetic wave shielding body.

이 관점에서, 본 발명은 다른 일 측면에 있어서, 전술한 구리 합금박으로 구성되는 전자파 실드체를 제공한다.From this point of view, the present invention provides, in another aspect, an electromagnetic shielding body composed of the above-described copper alloy foil.

도 1 은 크리프 특성의 측정 원리를 설명하는 도면이다.
도 2 는 일반적인 이차 전지의 구조를 나타내는 개략도이다.
1 is a view for explaining the principle of measurement of creep characteristics.
2 is a schematic view showing the structure of a general secondary battery.

(1) 구리박의 성분(1) Components of Copper foil

본 발명의 구리 합금박은 구리박의 강도 및 내열성을 개선하기 위해서, 구리에 Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 함유한다. 상기 원소의 합계량이 0.50 질량% 를 초과하면 도전율이 저하되어 도전재료로서 부적당하게 된다. 첨가 원소의 합계량이 0.01 질량% 미만에서는 함유 원소의 효과가 발현되지 않아 강도나 내열성이 부족하다.In order to improve the strength and heat resistance of the copper foil of the present invention, at least one of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn, To 0.50% by mass. When the total amount of the above elements exceeds 0.50 mass%, the conductivity is lowered, making it unsuitable as a conductive material. When the total amount of the added elements is less than 0.01% by mass, the effect of the contained element is not exhibited and the strength and heat resistance are insufficient.

베이스로 하는 Cu 재료로는 JIS-C1020 규정의 무산소동 또는 JIS-C1100 규정의 터프 피치동이 적합하다. 무산소동 용탕의 산소 농도는 통상적으로 0.001 질량% 이하이고, 터프 피치동 용탕의 산소 농도는 통상적으로 0.01 ∼ 0.05 질량% 이다.As the Cu material used as the base, an oxygen-free copper specified in JIS-C1020 or a tough pitch copper specified in JIS-C1100 is suitable. The oxygen concentration of the anaerobic copper melt bath is usually 0.001 mass% or less, and the oxygen concentration of the tough pitch copper molten metal is usually 0.01 to 0.05 mass%.

Cu 보다 산화되기 쉬운 Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 의 어느 1 종 이상의 원소를 채용하는 경우에는, 이들 원소가 산화물을 형성하여 내열성 개선 효과가 얻어지지 않는 것을 피하기 위해서 무산소동 용탕 중에 첨가하는 것이 일반적이다.When at least one element of Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn, and Zr which is more easily oxidized than Cu is employed, these elements form oxides, It is common to add it to anaerobic copper molten metal in order to avoid it.

Ag 는 Cu 보다 산화되기 어렵기 때문에, 터프 피치동 용탕 중, 무산소동 용탕 중 모두에 첨가할 수 있다.Since Ag is harder to oxidize than Cu, it can be added to all of the tough pitch copper molten metal and the oxygen free copper molten metal.

Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 의 첨가량은, 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 의 범위에서, 후술하는 목적의 인장 강도, 내열성, 도전율을 만족하도록 적절히 조정한다.The addition amount of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn and Zr satisfies the target tensile strength, heat resistance and conductivity described below in the range of 0.01 to 0.50 mass% .

Ag, Te 를 첨가함으로써, 도전율을 거의 저하시키지 않고 강도와 내열성을 개선할 수 있다.By adding Ag and Te, the strength and heat resistance can be improved without substantially decreasing the electric conductivity.

Sn, In 은 강도와 내열성의 개선에 비교적 높은 효과를 나타내고, 잉곳 용제시의 취급도 비교적 용이하다.Sn and In exhibit relatively high effects for improvement of strength and heat resistance, and handling of ingot display is comparatively easy.

Zr, Ti, Cr 은 Cu 중에서 석출되어 강도와 내열성을 현저하게 개선시키지만, 매우 활성이기 때문에 용동 (溶銅) 중에서 산화물이나 탄화물을 만들기 쉽다. 산화물이나 탄화물이 생성되면, 박에 압연하는 과정에서 재료가 파단되거나 핀홀이 발생되거나 하기 때문에 잉곳 용제시에 주의를 필요로 한다.Zr, Ti, and Cr are precipitated in Cu to remarkably improve strength and heat resistance. However, since they are very active, it is easy to form oxides and carbides in molten copper. When an oxide or a carbide is produced, the material may be broken or pinholes may be generated during rolling to the foil, so care must be taken for the ingot presentation.

Fe 및 Ni 는 P 나 Si 와 동시에 첨가함으로써, Fe-P, Ni-P, Fe-Si, Ni-Si 와 같은 화합물이 석출되고, 단독으로 첨가하는 경우보다도 보다 높은 강도와 내열성이 얻어진다.Compounds such as Fe-P, Ni-P, Fe-Si and Ni-Si are precipitated by adding Fe and Ni at the same time as P and Si, and higher strength and heat resistance can be obtained than when they are added singly.

Zn 은 강도나 내열성을 개선시키는 효과는 그다지 크지 않지만, 도금성이나 내마이그레이션성 등의 표면 특성을 개선시키는 효과도 갖는다.Zn has an effect of improving surface properties such as plating ability and migration resistance although the effect of improving the strength and heat resistance is not so large.

본 발명의 효과는, 다음 성분의 구리 합금박에 있어서 특히 바람직하게 발휘된다.The effects of the present invention are particularly preferably exhibited in the copper alloy foil of the following components.

(a) Zr 을 0.01 ∼ 0.20 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.(a) 0.01 to 0.20 mass% of Zr and the balance of Cu and impurities.

(b) Sn 을 0.01 ∼ 0.20 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.(b) 0.01 to 0.20% by mass of Sn and the balance of Cu and impurities.

(c) Ag 를 0.05 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.(c) 0.05 to 0.50 mass% of Ag, and the balance of Cu and impurities.

(d) Fe 를 0.05 ∼ 0.50 질량%, P 를 0.005 ∼ 0.10 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.(d) a copper alloy foil containing 0.05 to 0.50 mass% of Fe and 0.005 to 0.10 mass% of P, the balance being Cu and an impurity.

(2) 구리 합금박의 두께(2) Thickness of copper alloy foil

구리 합금박의 두께는 0.003 ∼ 0.05 ㎜ 인 것이 바람직하다. 두께가 0.003 ㎜ 미만이 되면, 구리 합금박의 취급이 어려워진다. 두께가 0.05 ㎜ 를 초과하면 전자 부품의 소형화가 어려워진다. 보다 바람직한 두께는 0.005 ∼ 0.02 ㎜ 이다.The thickness of the copper alloy foil is preferably 0.003 to 0.05 mm. If the thickness is less than 0.003 mm, handling of the copper alloy foil becomes difficult. If the thickness exceeds 0.05 mm, miniaturization of the electronic parts becomes difficult. A more preferable thickness is 0.005 to 0.02 mm.

(3) 크리프 특성(3) creep characteristics

크리프 특성으로서, 30 ℃ 에서 100 ㎫ 의 인장 응력을 부가하여 100 시간 유지했을 때의 연신율을 평가한다. 당해 연신율이 0.1 % 이하, 보다 바람직하게는 0.05 % 이하가 되면 전자·전기 기기의 기능이 향상된다.As the creep characteristics, a tensile stress of 100 MPa at 30 캜 was added, and the elongation at the time of holding for 100 hours was evaluated. When the elongation percentage is 0.1% or less, more preferably 0.05% or less, the function of the electronic / electric device is improved.

(4) 압연면의 결정 방위(4) The crystal orientation of the rolled surface

다음 식에서 주어지는 결정 방위 지수 A (이하, 간단히 A 값이라고 기재한다) 를 0.5 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상으로 조정한다. 여기에서 I( hkl ) 및 I0(hkl) 은 각각 X 선 회절법을 이용하여 압연면 및 구리분에 대해서 구한 (hkl) 면의 회절 적분 강도이다.The crystal orientation index A (hereinafter simply referred to as A value) given by the following equation is adjusted to 0.5 or more, more preferably 1.0 or more. Here, I ( hkl ) and Io (hkl) are the diffraction integral intensities of (hkl) planes obtained for the rolled surface and the copper portion, respectively, by using the X-ray diffraction method.

A = 2X(111) + X(220) - X(200) A = 2X (111) + X (220) - X (200)

X(hkl) = I(hkl)/I0(hkl) X (hkl) = I (hkl) / I0 (hkl)

A 값을 0.5 이상으로 조정하면, 상기 크리프 연신율이 0.1 % 이하로 되어 전자·전기 기기의 기능이 향상된다. A 값의 상한치에 대해서는 상기 크리프 연신율 관점에서는 제한되지는 않지만, A 값은 전형적으로는 10.0 이하의 값을 취한다.When the A value is adjusted to 0.5 or more, the creep elongation percentage becomes 0.1% or less, and the function of the electronic / electric apparatus is improved. The upper limit of the A value is not limited in view of the creep elongation, but the A value typically takes a value of 10.0 or less.

(5) 내열성, 인장 강도, 도전율(5) Heat resistance, tensile strength, conductivity

전자 부품으로 가공되는 과정에 있어서, 구리 합금박은 열처리된다. 예를 들어, 이차 전지의 부극 집전체에서는, 구리 합금박에 도포된 활물질을 건조시킨다. 또, FCCL 에 있어서는, 구리 합금박을 폴리이미드 등의 수지 필름에 첩합 (貼合) 할 때에 열이 가해진다. 이와 같은 열처리로 구리 합금박이 연화되면, 전자·전기 기기의 기능이 저하되어 버린다.In the course of processing into electronic components, the copper alloy foil is heat treated. For example, in the negative electrode collector of the secondary battery, the active material applied to the copper alloy foil is dried. In FCCL, heat is applied when a copper alloy foil is bonded to a resin film such as polyimide. If the copper alloy foil is softened by the heat treatment as described above, the function of the electronic / electric appliance is deteriorated.

그래서, 본 발명에서는, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후의 구리 합금박의 인장 강도를 300 ㎫ 이상, 바람직하게는 350 ㎫ 이상으로 규정한다. 300 ℃, 30 분은 구리 합금박을 가공할 때의 열처리에 있어서의 일반적 가열 조건에 비해서 가혹한 것으로서, 이 열처리 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하고 있으면 충분한 내열성을 갖고 있다고 할 수 있다. 상기 첨가 원소는 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후의 인장 강도가 300 ㎫ 이상이 되도록 선택된다.Thus, in the present invention, the tensile strength of the copper alloy foil after heating at 300 캜 for 30 minutes is specified to be 300 MPa or more, preferably 350 MPa or more. 300 占 폚 and 30 minutes are harsh compared with the general heating conditions in the heat treatment for processing the copper alloy foil and it can be said that sufficient heat resistance is maintained if the tensile strength of 300 MPa or more is maintained after the heat treatment. The added element is selected so that the tensile strength after heating at 300 DEG C for 30 minutes is 300 MPa or more.

300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하기 위해서는, 가열 전의 상태에서 350 ㎫ 이상의 인장 강도를 갖고 있는 것이 바람직하고, 400 ㎫ 이상의 인장 강도를 갖고 있는 것이 더욱 바람직하다.In order to maintain a tensile strength of 300 MPa or more after heating at 300 占 폚 for 30 minutes, it is preferable that the tensile strength is 350 MPa or more before heating, and more preferably 400 MPa or more.

터프 피치동을 소재로 하는 종래의 압연 구리박의 도전율은 약 100 % IACS 이지만, 소재를 구리 합금화함으로써 도전율이 저하되면 전자·전기 기기의 기능이 저하되는 경향이 있다. 그래서, 구리 합금박의 도전율을 80 % IACS 이상, 바람직하게는 83 % IACS 이상으로 규정한다. 이 레벨이면 전자·전기 기기의 기능은 저하되지 않는다.The conductivity of a conventional rolled copper foil made of tough pitch copper is about 100% IACS, but if the conductivity is lowered by copper alloying the material, the function of the electronic and electric devices tends to be deteriorated. Therefore, the conductivity of the copper alloy foil is defined as 80% IACS or higher, preferably 83% IACS or higher. At this level, the function of the electric / electronic device is not deteriorated.

(6) 제조 방법(6) Manufacturing method

산소 농도가 조정된 용탕에 합금 원소를 첨가하여, 두께 30 ∼ 300 ㎜ 정도의 잉곳으로 주조한다. 이 잉곳을 열간 압연에 의해서 두께 3 ∼ 30 ㎜ 정도의 판으로 한 후, 냉간 압연과 재결정 어닐링을 반복하고, 최종의 냉간 압연에 의헤서 소정 제품 두께로 마무리한다.The alloy element is added to the molten metal whose oxygen concentration is adjusted and cast into an ingot having a thickness of about 30 to 300 mm. This ingot is made into a plate having a thickness of about 3 to 30 mm by hot rolling, and then cold rolling and recrystallization annealing are repeated and finished to a predetermined product thickness for the final cold rolling.

A 값을 0.5 이상으로 조정하는 방법은 특정 방법에 한정되지 않는데, 예를 들어 열간 압연 조건의 제어에 의해서 가능해진다. 본 발명의 열간 압연에서는 800 ∼ 1000 ℃ 로 가열한 잉곳을 1 쌍의 압연 롤 사이에 반복하여 통과시켜, 목표로 하는 판두께로 마무리해 간다. A 값에는 1 패스당 가공도가 영향을 미친다. 여기서, 1 패스당 가공도 R (%) 이란 압연 롤을 1 회 통과했을 때의 판두께 감소율로서, R = (T0 - T)/T0 × 100 (T0 : 압연 롤 통과 전의 두께, T : 압연 롤 통과 후의 두께) 으로 주어진다.The method of adjusting the A value to 0.5 or more is not limited to a specific method, but is possible by, for example, controlling the hot rolling condition. In the hot rolling of the present invention, the ingot heated to 800 to 1000 占 폚 is repeatedly passed between the pair of rolling rolls to finish to the target plate thickness. The machining degree per one pass affects the A value. Here, the processing degree R (%) per one pass means a reduction rate of the plate thickness when the rolling roll is passed once, where R = (T 0 - T) / T 0 × 100 (T 0 : thickness before rolling roll, : Thickness after passing through the rolling roll).

이 R 에 대해서, 전체 패스 중의 최대치 (Rmax) 를 25 % 이하로 하고, 전체 패스의 평균치 (Rave) 를 20 % 이하로 하는 것이 바람직하다. 이들 양 조건을 만족함으로써 A 값이 0.5 이상이 된다. 보다 바람직하게는 Rave 를 19 % 이하로 한다.For this R, it is preferable to set the maximum value Rmax in the entire path to 25% or less and the average value Rave of the entire path to 20% or less. When both these conditions are satisfied, the A value becomes 0.5 or more. More preferably, Rave is set to 19% or less.

재결정 어닐링에서는 압연 조직의 일부 또는 모두를 재결정화시킨다. 최종 냉간 압연 전의 재결정 어닐링에서는 평균 결정립경을 50 ㎛ 이하로 조정한다. 평균 결정립경이 지나치게 크면, 제품의 인장 강도를 350 ㎫ 이상으로 조정하기가 어려워진다.In recrystallization annealing, some or all of the rolled structure is recrystallized. In the recrystallization annealing before the final cold rolling, the average grain diameter is adjusted to 50 μm or less. If the average grain diameter is excessively large, it is difficult to adjust the tensile strength of the product to 350 MPa or more.

최종 냉간 압연 전의 재결정 어닐링의 조건은 목표로 하는 어닐링 후의 결정립경에 기초하여 결정한다. 구체적으로는, 배치로 또는 연속 어닐링로를 사용하여, 로내 온도를 250 ∼ 800 ℃ 로 하여 어닐링하면 된다. 배치로에서는 250 ∼ 600 ℃ 의 로내 온도에 있어서 30 분 내지 30 시간의 범위에서 가열 시간을 적절히 조정하면 된다. 연속 어닐링로에서는 450 ∼ 800 ℃ 의 로내 온도에 있어서 5 초 내지 10 분의 범위에서 가열 시간을 적절히 조정하면 된다.The conditions of the recrystallization annealing before final cold rolling are determined based on the target crystal grain size after annealing. More specifically, annealing may be performed at a furnace temperature of 250 to 800 占 폚 by using a batch furnace or a continuous annealing furnace. In the batch furnace, the heating time may be appropriately adjusted within a range of 30 minutes to 30 hours at a furnace temperature of 250 to 600 ° C. In the continuous annealing furnace, the heating time may be appropriately adjusted within a range of 5 seconds to 10 minutes at a furnace temperature of 450 to 800 ° C.

최종 냉간 압연에서는 1 쌍의 압연 롤 사이에 재료를 반복 통과시켜, 목표로 하는 판두께로 마무리해 간다. 최종 냉간 압연의 가공도는 25 ∼ 99 % 로 하는 것이 바람직하다. 여기에서 가공도 r (%) 은 r = (t0 - t)/t0 × 100 (t0 : 압연 전의 판두께, t : 압연 후의 판두께) 으로 주어진다. r 이 지나치게 작으면, 인장 강도를 350 ㎫ 이상으로 조정하기가 어려워진다. r 이 지나치게 크면, 압연재의 에지가 균열되는 경우가 있다.In the final cold rolling, the material is repeatedly passed between the pair of rolling rolls to finish with the target plate thickness. The degree of processing of the final cold rolling is preferably 25 to 99%. Here, the processing degree r (%) is given by r = (t 0 - t) / t 0 × 100 (t 0 : plate thickness before rolling, t: plate thickness after rolling). When r is too small, it is difficult to adjust the tensile strength to 350 MPa or more. If r is excessively large, the edge of the rolled material may be cracked.

(7) 구리 합금박의 사용예(7) Examples of using copper alloy foil

(7-1) 리튬 이온 이차 전지(7-1) Lithium ion secondary battery

(전지의 구성) (Configuration of Battery)

본 발명에 관련되는 부극판 및 이차 전지는 상기 구리 합금박을 부극 집전체로서 사용하는 것을 특징으로 하는 것으로서, 이 이외의 구성에 대해서는 한정되지 않으며, 일반적으로 사용되고 있는 공지된 것을 사용할 수 있다.The negative electrode plate and the secondary battery according to the present invention are characterized in that the copper alloy foil is used as a negative electrode current collector. The constitution other than the above is not limited, and commonly known positive electrode plates and secondary batteries can be used.

(부극) (Negative electrode)

부극은 부극 집전체로서의 구리 합금박과, 부극 집전체의 편면 혹은 양면에 형성되는 부극 활물질로 구성된다.The negative electrode is composed of a copper alloy foil as a negative electrode collector and a negative electrode active material formed on one or both surfaces of the negative electrode collector.

부극 활물질과 결착제를 용제에 혼련 분산시킨 페이스트를 구리 합금박의 편면 혹은 양면에 도포하여 부극판재로 하고, 필요에 따라서 가압하면서, 150 ∼ 300 ℃ 의 온도에서 수 시간 내지 수 십 시간 가열하여 건조시킨 후, 소정 형상의 부극판으로 성형한다.A paste obtained by kneading and dispersing a negative electrode active material and a binder in a solvent is applied to one side or both sides of a copper alloy foil to form a negative electrode plate and is heated at a temperature of 150 to 300 캜 for several hours to several hours while being pressurized, , And then formed into a negative electrode plate having a predetermined shape.

부극 활물질로는 리튬의 흡장 방출이 가능한 탄소질물, 금속, 금속 화합물 (금속 산화물, 금속 황화물, 금속 질화물), 리튬 합금 등을 들 수 있다.Examples of the negative electrode active material include carbonaceous substances, metals, metal compounds (metal oxides, metal sulfides, metal nitrides), and lithium alloys capable of intercalating and deintercalating lithium.

상기 탄소질물로는 흑연, 코크스, 탄소 섬유, 구상 탄소, 열 분해 기상 탄소질물, 수지 소성체 등의 흑연질 재료 혹은 탄소질 재료 ; 열경화성 수지, 등방성 피치, 메소페이즈 피치계 탄소, 메소페이즈 피치계 탄소 섬유, 메소페이즈 소구체 등에 500 ∼ 3000 ℃ 에서 열처리를 행함으로써 얻어지는 흑연질 재료 또는 탄소질 재료 ; 등을 들 수 있다.Examples of the carbonaceous material include graphite or carbonaceous materials such as graphite, coke, carbon fiber, spherical carbon, pyrolytic carbonaceous material and resin calcined material; A graphitic material or a carbonaceous material obtained by subjecting a thermosetting resin, isotropic pitch, mesophase pitch carbon, mesophase pitch carbon fiber, mesophase bead or the like to heat treatment at 500 to 3000 占 폚; And the like.

상기 금속으로는 리튬, 알루미늄, 마그네슘, 주석, 규소 등을 들 수 있다.Examples of the metal include lithium, aluminum, magnesium, tin and silicon.

상기 금속 산화물로는 주석 산화물, 규소 산화물, 리튬티탄 산화물, 니오브 산화물, 텅스텐 산화물 등을 들 수 있다. 상기 금속 황화물로는 주석 황화물, 티탄 황화물 등을 들 수 있다. 상기 금속 질화물로는 리튬코발트 질화물, 리튬철 질화물, 리튬망간 질화물 등을 들 수 있다.Examples of the metal oxide include tin oxide, silicon oxide, lithium titanium oxide, niobium oxide, and tungsten oxide. Examples of the metal sulfide include tin sulfide and titanium sulfide. Examples of the metal nitride include lithium cobalt nitride, lithium iron nitride, lithium manganese nitride, and the like.

리튬 합금으로는 리튬알루미늄 합금, 리튬주석 합금, 리튬납 합금, 리튬규소 합금 등을 들 수 있다.Examples of lithium alloys include lithium aluminum alloys, lithium tin alloys, lithium lead alloys, and lithium silicon alloys.

부극 활물질 함유층에는 결착제를 함유시킬 수 있다. 결착제로는 예를 들어, 유기 용제계의 폴리불화비닐리덴 (PVDF), 수분산계의 스티렌부타디엔 고무 (SBR) 등을 사용할 수 있다. SBR 에는, 증점제로서 예를 들어 카르복시메틸셀룰로오스 (CMC) 를 병용할 수 있다. SBR 과 CMC 의 혼합물을 사용함으로써, 부극 활물질과 집전체의 밀착성을 보다 높일 수 있다.The negative electrode active material-containing layer may contain a binder. As the binder, for example, organic solvent-based polyvinylidene fluoride (PVDF), water dispersion system styrene butadiene rubber (SBR), or the like can be used. As SBR, for example, carboxymethyl cellulose (CMC) may be used as a thickening agent. By using a mixture of SBR and CMC, the adhesion between the negative electrode active material and the current collector can be further enhanced.

부극 활물질 함유층에는 도전제를 함유시킬 수 있다. 도전제로는 아세틸렌 블랙, 분말상 팽창 흑연 등의 그라파이트류, 탄소 섬유 분쇄물, 흑연화 탄소 섬유 분쇄물 등을 들 수 있다.The negative electrode active material-containing layer may contain a conductive agent. Examples of the conductive agent include graphite such as acetylene black and powdery expanded graphite, carbon fiber ground product, and graphitized carbon fiber ground product.

(정극) (Positive electrode)

정극은 정극 집전체와, 상기 정극 집전체의 편면 혹은 양면에 형성되는 정극 활물질 함유층으로 구성된다.The positive electrode is composed of a positive electrode current collector and a positive electrode active material-containing layer formed on one side or both sides of the positive electrode current collector.

정극 집전체로는 알루미늄판, 알루미늄 메시재 등을 들 수 있다.Examples of the positive electrode collector include an aluminum plate and an aluminum mesh material.

정극 활물질로는 이산화망간, 이황화몰리브덴, LiCoO2, LiNiO2, LiMn2O4 등의 칼코겐 화합물을 들 수 있다. 이들 칼코겐 화합물은 2 종 이상의 혼합물로 사용해도 된다.Examples of the positive electrode active material include chalcogen compounds such as manganese dioxide, molybdenum disulfide, LiCoO 2 , LiNiO 2 and LiMn 2 O 4 . These chalcogen compounds may be used in a mixture of two or more kinds.

정극 활물질 함유층에는 결착제를 함유시킬 수 있다. 결착제로는 불소계 수지, 폴리올레핀 수지, 스티렌계 수지, 아크릴계 수지와 같은 열가소성 엘라스토머계 수지, 또는 불소 고무와 같은 고무계 수지를 사용할 수 있다. 그 일례로서, 폴리테트라플루오로에틸렌 (PTFE) 을 들 수 있다. 결착제에는, 증점제로는 예를 들어 CMC 를 병용할 수 있다.The positive electrode active material-containing layer may contain a binder. As the binder, a fluororesin, a polyolefin resin, a styrene resin, a thermoplastic elastomer resin such as an acrylic resin, or a rubber resin such as a fluororubber can be used. As an example thereof, polytetrafluoroethylene (PTFE) can be mentioned. As the thickening agent, for example, CMC may be used in combination with the binder.

활물질 함유층에는, 도전 보조재로서 아세틸렌 블랙, 분말상 팽창 흑연 등의 그라파이트류, 탄소 섬유 분쇄물, 흑연화 탄소 섬유 분쇄물 등을 추가로 함유할 수 있다.The active material-containing layer may further contain graphite such as acetylene black, powdered expanded graphite, carbon fiber pulverized material, graphitized carbon fiber pulverized material, etc. as the conductive auxiliary material.

(세퍼레이터) (Separator)

정극과 부극 사이에는 세퍼레이터나, 고체 혹은 겔상의 전해질층을 배치할 수 있다. 세퍼레이터로는 예를 들어 20 ∼ 30 ㎛ 의 두께를 갖는 폴리에틸렌다공질 필름, 폴리프로필렌 다공질 필름 등을 사용할 수 있다.A separator or a solid or gel-like electrolyte layer can be disposed between the positive electrode and the negative electrode. As the separator, for example, a polyethylene porous film or a polypropylene porous film having a thickness of 20 to 30 mu m can be used.

(비수 전해질) (Non-aqueous electrolyte)

비수 전해질에는 액상, 겔상 혹은 고체상의 형태를 갖는 것을 사용할 수 있다. 또, 비수 전해질은 비수 용매와, 이 비수 용매에 용해되는 전해질을 함유하는 것이 바람직하다.The non-aqueous electrolyte may be in the form of a liquid, a gel or a solid. It is preferable that the nonaqueous electrolyte contains a nonaqueous solvent and an electrolyte dissolved in the nonaqueous solvent.

비수 용매로는 에틸렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 디에틸카보네이트, γ-부티로락톤, 프로피온산메틸 등을 들 수 있다. 사용하는 비수 용매의 종류는 1 종류 혹은 2 종류 이상으로 할 수 있다.Examples of the non-aqueous solvent include ethylene carbonate, dimethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, diethyl carbonate,? -Butyrolactone, methyl propionate and the like. The non-aqueous solvent used may be one kind or two or more kinds.

전해질로는 과염소산리튬 (LiClO4), 육불화인산리튬 (LiPF6), 사불화붕산리튬 (LiBF4), 육불화비소리튬 (LiAsF6) 등을 들 수 있다. 전해질은 단독으로도 혼합물의 형태로도 사용할 수 있다.Examples of the electrolyte include lithium perchlorate (LiClO 4 ), lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), lithium tetrafluoroborate (LiBF 4 ), and lithium hexafluoride (LiAsF 6 ). The electrolyte may be used alone or in the form of a mixture.

(7-2) FCCL (7-2) FCCL

(FCCL 의 구성) (Configuration of FCCL)

본 발명에 관련되는 FCCL 은 상기 구리 합금박을 도전체로서 사용하는 것을 특징으로 하는 것으로서, 이 이외의 구성에 대해서는 한정되지 않고, 일반적으로 사용되고 있는 공지된 것을 사용할 수 있다.The FCCL according to the present invention is characterized in that the copper alloy foil is used as a conductor, and the constitution other than the above is not limited, and a conventionally known copper alloy foil can be used.

(구리 합금박의 조화 처리) (Bonding treatment of copper alloy foil)

최종 냉간 압연 후의 구리 합금박에는, 투묘 효과에 의한 수지층과의 밀착성 개선 등을 목적으로 하여 표면이 조화 처리된다. 조화 처리의 방법으로는 블라스트 처리, 기계 연마, 전해 연마, 화학 연마 및 전착립의 도금 등의 방법이 알려져 있고, 이 중에서도 특히 전착립의 도금 (조화 도금) 이 다용되고 있다. 조화 도금은 구리박 표면에 수지상 또는 소구상 (小球狀) 의 구리 등의 금속을 다수 전착시켜 미세한 요철을 형성하는 것이다.The surface of the copper alloy foil after the final cold rolling is roughened for the purpose of improving adhesion with the resin layer due to the anchoring effect. As the method of harmonization, methods such as blasting, mechanical polishing, electrolytic polishing, chemical polishing and plating of electrodeposited lips are known, among which plating of electrodeposited lips (plating of plating) is widely used. The harmonious plating is to form fine irregularities by electrodepositing a large number of metal such as dendritic or small spherical copper on the copper foil surface.

(수지층의 형성) (Formation of resin layer)

폴리이미드계 수지층의 편면 또는 양면에 구리 합금박을 적층함으로써 FCCL 을 제조한다. 적층 방법에 따라서 3 층 FCCL, 2 층 FCCL 등의 종류가 있다.FCCL is produced by laminating a copper alloy foil on one side or both sides of a polyimide-based resin layer. There are three types of FCCL and two-layer FCCL depending on the stacking method.

3 층 FCCL 에서는 에폭시 등의 열경화성 수지로 이루어지는 접착제를 사용하여 구리박과 폴리이미드 수지 필름을 첩합한디. 이 접착제를 경화시키기 위해서, 예를 들어 130 ∼ 170 ℃ 의 온도에서 0.5 ∼ 50 시간 정도의 가열 처리를 행한다.In the three-layer FCCL, a copper foil and a polyimide resin film are laminated using an adhesive made of a thermosetting resin such as epoxy. In order to cure the adhesive, for example, heat treatment is performed at a temperature of 130 to 170 캜 for about 0.5 to 50 hours.

2 층 FCCL 의 제조 방법의 하나인 캐스팅법에서는, 폴리이미드 수지의 전구체인 폴리아믹산을 함유하는 바니시를 구리박 상에 도포하여 가열 경화시키고, 구리박 상에 폴리이미드 피막을 형성한다. 이 가열 경화 처리에서는 300 ∼ 450 ℃ 정도의 온도에서 5 ∼ 40 분 정도 가열한다.In the casting method which is one of the methods for producing the two-layer FCCL, a varnish containing polyamic acid, which is a precursor of polyimide resin, is coated on a copper foil and thermally cured to form a polyimide film on the copper foil. In this heat curing treatment, it is heated at a temperature of about 300 to 450 ° C. for about 5 to 40 minutes.

양면에 구리 합금박을 적층하는 경우에는, 편면 구리 피복 적층판을 형성 후, 구리박층을 열 프레스에 의해서 압착하는 방법, 2 장의 구리박층 사이에 폴리이미드 필름을 끼우고, 열 프레스에 의해서 압착하는 방법 등이 있다.In the case of laminating copper alloy foils on both sides, there is a method in which a single-sided copper clad laminate is formed and then a copper foil layer is pressed by a hot press, a method in which a polyimide film is sandwiched between two copper foil layers, .

폴리이미드계 수지층에는 임의의 공지 재료를 사용하면 되어 특별히 제한은 없지만, 2 층 FCCL 의 경우, 일반적으로는 공지된 디아민과 산무수물을 용매의 존재 하에서 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 전구체 수지 (폴리아믹산) 를 열처리함으로써 형성할 수 있다. 폴리이미드계 수지층은 단층만으로 이루어지는 것이어도 되고, 복수층으로 형성되는 것이어도 된다. 복수층의 폴리이미드 수지층을 형성하는 경우, 상이한 구성 성분으로 이루어지는 폴리이미드계 수지층 상에 다른 폴리이미드 수지를 순차적으로 도포하여 형성할 수 있다. 폴리이미드 수지층이 3 층 이상으로 이루어지는 경우, 동일한 구성의 폴리이미드 수지를 2 회 이상 사용해도 된다.The polyimide-based resin layer is not particularly limited as long as it can use any known material. In the case of the two-layer FCCL, generally, a polyimide precursor resin (polyamic acid) obtained by reacting a known diamine and an acid anhydride in the presence of a solvent, And then heat-treating it. The polyimide-based resin layer may be composed of only a single layer, or may be formed of a plurality of layers. In the case of forming a plurality of polyimide resin layers, other polyimide resin may be sequentially coated on the polyimide resin layer made of different constituent components. When the polyimide resin layer is composed of three or more layers, a polyimide resin having the same constitution may be used twice or more.

실시예 Example

이하에 본 발명의 실시예를 비교예와 함께 나타내지만, 이들 실시예는 본 발명 및 그 이점을 보다 잘 이해하기 위해서 제공하는 것으로서, 발명이 한정되는 것을 의도하는 것은 아니다.Examples of the present invention will be described below with reference to comparative examples. However, these examples are provided for better understanding of the present invention and its advantages, and are not intended to limit the invention.

용동에 합금 원소를 첨가한 후, 두께가 200 ㎜ 인 잉곳으로 주조하였다. 잉곳을 950 ℃ 에서 3 시간 가열하고, 열간 압연에 의해서 두께 15 ㎜ 의 판으로 하였다. 열간 압연 후의 판 표면의 산화 스케일을 연삭, 제거한 후, 어닐링과 냉간 압연을 반복하고, 최종의 냉간 압연에 의해서 소정 제품 두께로 마무리하였다.After alloying elements were added to the furnace, they were cast into an ingot having a thickness of 200 mm. The ingot was heated at 950 占 폚 for 3 hours and hot rolled to form a plate having a thickness of 15 mm. After the oxide scale on the surface of the plate after hot rolling was grinded and removed, annealing and cold rolling were repeated, and the final product was finished to a predetermined product thickness by cold rolling.

열간 압연에서는 1 패스당 가공도의 최대치 (Rmax) 및 평균치 (Rave) 를 다양하게 변화시켰다.In the hot rolling, the maximum value (Rmax) and the average value (Rave) of the processing degree per one pass were variously changed.

최종 재결정 어닐링 (최종 냉간 압연 직전의 어닐링) 은 연속 어닐링 라인을 사용하여 행하였다. 로온을 700 ℃ 로 하고, 어닐링 후의 결정립경이 10 ∼ 20 ㎛ 가 되도록 재료의 통판 속도 (로내의 유지 시간) 를 조정하였다.Final recrystallization annealing (annealing just before final cold rolling) was performed using a continuous annealing line. The furnace temperature (furnace retention time) of the material was adjusted so that the furnace temperature was 700 ° C and the grain size after annealing was 10 to 20 μm.

최종 냉간 압연에 있어서의 가공도 (r) 을 변화시키기 위해서, 최종 재결정 어닐링을 행하는 판두께를 미리 조정하였다.In order to change the degree of processing (r) in the final cold rolling, the thickness of the plate subjected to the final recrystallization annealing was adjusted in advance.

최종 냉간 압연 후의 구리 합금박에 대해서, 다음의 조사를 행하였다.The copper alloy foil after the final cold rolling was subjected to the following investigation.

(성분) (ingredient)

최종 냉간 압연 후의 박의 합금 원소 농도를 ICP-질량 분석법으로 분석하였다.The alloy element concentration of the foil after the final cold rolling was analyzed by ICP-mass spectrometry.

(인장 강도, 내열성) (Tensile strength, heat resistance)

최종 냉간 압연 마무리의 박에 대해서 IPC (Institute for Interconnecting and ㎩ckaging Electronics Circuits) 규격, IPC-TM-650 ; Method 2.4.19 에 준하여 인장 강도를 구하였다. 시험편은 폭 12.7 ㎜, 길이 150 ㎜ 로 하고, 시험편의 길이 방향이 압연 방향과 평행이 되도록 채취하였다. 인장 속도는 50 ㎜/min 으로 하였다. 또, 300 ℃ 에서 30 분간 가열한 후의 시료에 대해서도 동일하게 인장 강도를 구하였다.IPC-TM-650, IPC (Institute for Interconnecting and Printing) Circuits standards for final cold-rolled finish foil; Tensile strength was determined according to Method 2.4.19. The specimen was 12.7 mm in width and 150 mm in length, and the specimen was taken in such a manner that the longitudinal direction thereof was parallel to the rolling direction. The tensile speed was set at 50 mm / min. The tensile strength of the sample after heating at 300 ° C for 30 minutes was also determined in the same manner.

(도전율) (Conductivity)

최종 냉간 압연 마무리된 시료에 대해서, 인장 시험용의 시험편을 사용하여 사단자법에 의해서 20 ℃ 에서의 도전율을 구하였다.With respect to the sample subjected to the final cold-rolled finish, the conductivity at 20 캜 was determined by a dividing method using a test piece for tensile test.

(압연면의 결정 방위) (Crystal orientation of the rolled surface)

최종 냉간 압연 후의 박의 표면에 대해서, 두께 방향으로 (hkl) 면의 X 선 회절 적분 강도 (I(hkl)) 를 측정하였다. 또, 구리 분말 (칸토 화학 주식회사 제조, 구리 (분말), 2N5, >99.5 %, 325 mesh) 에 대해서도 (hkl) 면의 X 선 회절 적분 강도 (I0(hkl)) 를 측정하였다. X 선 회절 장치에는 (주) 리가쿠 제조 RINT2500 을 사용하여, Cu 관구 (管球) 로, 관 전압 25 ㎸, 관 전류 20 ㎃ 로 측정하였다. 측정면 ((hkl)) 은 (111), (220) 및 (100) 의 3 면으로 하고, 다음 식에 의해서 A 값을 산출하였다.The integrated X-ray diffraction intensity (I (hkl) ) of the (hkl) plane in the thickness direction was measured with respect to the surface of the foil after the final cold rolling. The X-ray diffraction integrated intensity (I 0 (hkl) ) of the (hkl) plane was also measured for copper powder (copper (powder), 2N5,> 99.5%, 325 mesh manufactured by Kanto Kagaku Co., Ltd.). The RINT2500 manufactured by Rigaku Corporation was used as the X-ray diffraction apparatus, and measurement was made with Cu tube (bulb) at a tube voltage of 25 kV and a tube current of 20 mA. The measurement plane ((hkl)) has three surfaces of (111), (220) and (100), and the A value was calculated by the following equation.

A = 2X(111) + X(220) - X(200) A = 2X (111) + X (220) - X (200)

X(hkl) = I(hkl)/I0(hkl) X (hkl) = I (hkl) / I0 (hkl)

또한, 구리 합금박이 얇아, X 선이 시료를 투과할 우려가 있을 때에는 복수 장의 시료를 겹쳐서 측정하였다.Further, when the copper alloy foil is thin and there is a fear that X-rays may penetrate through the sample, a plurality of samples are stacked and measured.

(크리프 특성) (Creep characteristics)

최종 냉간 압연 후의 박으로부터 폭 15.5 ㎜, 길이 200 ㎜ 의 단책상 (短冊狀) 의 시험편을, 시험편의 길이 방향이 압연 방향과 평행이 되도록 채취하였다. 다음으로, 길이 방향으로 L0 (= 100 ㎜) 의 간격을 두고, 시험편의 폭 방향 중앙에 2 점의 타흔을 각인하였다. 그 후, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 시험편의 일단을 지지하여 시험편을 아래로 늘어뜨리고, 타단에 추를 장착하였다. 추의 질량은 시험편에 부하되는 인장 응력이 100 ㎫ 이 되도록 조정하였다. 이 상태에서, 30 ℃ 에서 100 시간 방치하였다. 추를 떼어내어 타흔 간격 (L) 을 측정하고, (L - L0)/L0 × 100 의 식으로 크리프 연신율 (%) 을 산출하였다.A test piece having a width of 15.5 mm and a length of 200 mm was taken from the foil after the final cold rolling so that the longitudinal direction of the test piece was parallel to the rolling direction. Next, two marks were drawn in the widthwise center of the test piece at intervals of L 0 (= 100 mm) in the longitudinal direction. Thereafter, as shown in Fig. 1, one end of the test piece was supported, the test piece was hanged down, and the weight was attached to the other end. The mass of the weight was adjusted so that the tensile stress applied to the test specimen was 100 ㎫. In this state, it was allowed to stand at 30 DEG C for 100 hours. The weights were removed and the interval (L) was measured. The creep elongation (%) was calculated by the formula (L - L 0 ) / L 0 × 100.

(FPC 의 굴곡 수명) (Bending life of FPC)

다음 순서로 굴곡 시험용의 FPC 시료를 제작하였다.FPC samples for bending test were prepared in the following order.

(A) 최종 압연 후의 박의 편면에 조화 도금을 행하였다. 조화 도금은 구리-코발트-니켈 도금으로 하고, 구리를 17 ㎎/dm2, 코발트를 2000 ㎍/dm2, 니켈을 500 ㎍/dm2 부착시켰다.(A) Coarse plating was performed on one side of the foil after final rolling. The copper plating was made of copper-cobalt-nickel plating, and copper was attached to 17 mg / dm 2 , cobalt to 2000 μg / dm 2 , and nickel to 500 μg / dm 2 .

(B) FCCL 의 제조 라인에 있어서, 상기 구리 합금박을 조화 도금한 면 상에, 시판되는 폴리이미드 전구체 바니시 (우베 흥산 주식회사 제조, 상품명 U-바니시-A) 를 도포, 건조시키고, 구리박층 상에 폴리이미드 전구체 수지층이 형성된 적층체를 얻었다. 이 적층체를 오븐에 넣고, 300 ℃ 에서 30 분간 열처리하여 폴리이미드 수지 두께 25 ㎛ 의 편면 FCCL 을 얻었다.(B) A commercially available polyimide precursor varnish (trade name U-Varnish-A, manufactured by Ube Industries, Ltd.) was applied and dried on the copper plating surface of the copper alloy foil in the production line of the FCCL, To obtain a laminate having a polyimide precursor resin layer. This laminate was placed in an oven and subjected to heat treatment at 300 DEG C for 30 minutes to obtain a single-sided FCCL having a thickness of 25 mu m of polyimide resin.

(C) FCCL 로부터, 폭 8 ㎜, 길이 150 ㎜ 의 시험편을, 그 길이 방향이 압연 방향과 평행이 되도록 채취하였다.(C) A test piece having a width of 8 mm and a length of 150 mm was taken from the FCCL so that its longitudinal direction was parallel to the rolling direction.

(D) 시험편에 0.2 ㎜ 폭의 라인 앤드 스페이스 회로를 형성하고, 이 회로 상에 프레스에 의해서 커버재를 적층하여 굴곡 시험용의 FPC 를 얻었다. 커버재에는 닛칸 공업 (주) 제조의 CISV-1215 를 사용하였다.(D) A 0.2-mm wide line-and-space circuit was formed on the test piece, and the cover material was laminated on the circuit by pressing to obtain an FPC for bending test. CISV-1215 manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd. was used as a cover material.

굴곡 시험에서는, 신에츠 엔지니어링 (주) 제조 IPC 굴곡 시험기를 사용하고, 곡률 반경 1.25 ㎜, 진동 스트로크 20 ㎜, 진동 속도 1500 회/분의 조건에서, FPC 시료에 굴곡 변형을 반복 부여하여, 시료의 전기 저항치가 5 % 상승할 때까지의 횟수를 구하였다.In the bending test, an FPC sample was subjected to flexural deformation repeatedly under the conditions of a curvature radius of 1.25 mm, a vibration stroke of 20 mm, and a vibration speed of 1,500 rpm using an IPC bending tester manufactured by Shin-Etsu Engineering Co., The number of times until the resistance value rose by 5% was determined.

구리 합금박이 얇아지면, 굴곡시에 구리박 표면에 발생되는 변형이 작아지기 때문에 굴곡 수명이 증가한다. 그래서, 박 두께에 따라서 굴곡 수명을 표 1 과 같이 ◎○× 의 3 수준으로 평가하였다.When the copper alloy foil is thin, the flexure life is increased because the deformation generated on the copper foil surface at the time of bending is small. Therefore, the bending life span according to the thickness was evaluated at three levels as shown in Table 1 below.

Figure 112016036685694-pct00001
Figure 112016036685694-pct00001

(리튬 이온 이차 전지의 사이클 수명) (Cycle life of lithium ion secondary battery)

두께가 0.010 ㎜ 인 구리 합금박에 대해서, 도 2 에 나타내는 원통형의 리튬 이온 이차 전지를 아래의 순서로 제작하고, 사이클 수명을 측정하였다.For a copper alloy foil having a thickness of 0.010 mm, a cylindrical lithium ion secondary battery shown in Fig. 2 was manufactured in the following order and the cycle life was measured.

(a) 부극 활물질로서 인편상 (鱗片狀) 흑연 분말 50 중량부, 결착제로서 SBR 5 중량부, 그리고 증점제로서 CMC 1 중량부에 대해서 물 99 중량부로 용해된 증점제 수용액 23 중량부를 혼련 분산하여 부극용 페이스트를 얻었다. 이 부극용 페이스트를 압연 구리박 시료 표면에 닥터 블레이드 방식에 의해서 두께 200 ㎛ 로 양면 도포하고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열하여 건조시켰다. 가압하여 두께를 160 ㎛ 로 조정한 후, 전단 가공에 의해서 성형하여 부극판 (6) 을 얻었다.(a) 50 parts by weight of scaly graphite powder as a negative electrode active material, 5 parts by weight of SBR as a binder, and 23 parts by weight of an aqueous solution of a thickener dissolved in 99 parts by weight of water with respect to 1 part by weight of CMC as a thickener, To obtain a paste for use. This negative electrode paste was coated on the surface of the rolled copper foil sample on both sides with a thickness of 200 mu m by the doctor blade method and dried by heating at 300 DEG C for 30 minutes. After adjusting the thickness to 160 탆 by pressurization, the negative electrode plate 6 was obtained by molding by shearing.

(b) 정극 활물질로서 LiCoO2 분말 50 중량부, 도전제로서 아세틸렌 블랙 1.5 중량부, 결착제로서 PTFE 50 중량% 수성 디스퍼전 7 중량부, 증점제로서 CMC 1 중량% 수용액 41.5 중량부를 혼련 분산하여 정극용 페이스트를 얻었다. 이 정극용 페이스트를 두께 30 ㎛ 의 알루미늄박으로 이루어지는 집전체 상에 닥터 블레이드 방식에 의해서 두께 약 230 ㎛ 로 양면 도포하고, 200 ℃ 에서 1 시간 가열하여 건조시켰다. 가압하여 두께를 180 ㎛ 로 조정한 후, 전단 가공에 의해서 성형하여 정극판 (5) 을 얻었다.(b) 50 parts by weight of LiCoO 2 powder as a positive electrode active material, 1.5 parts by weight of acetylene black as a conductive agent, 7 parts by weight of a PTFE 50% by weight aqueous dispersion, and 41.5 parts by weight of a 1% by weight aqueous solution of CMC as a thickener, To obtain a paste for use. The paste for positive electrode was coated on a current collector made of aluminum foil having a thickness of 30 mu m on both sides at a thickness of about 230 mu m by a doctor blade method and dried at 200 DEG C for 1 hour. The thickness was adjusted to 180 탆 by pressurization, and then molded by shearing to obtain a positive electrode plate 5.

(c) 정극판 (5) 과 부극판 (6) 을, 두께 20 ㎛ 의 폴리프로필렌 수지제의 미다공막으로 이루어지는 세퍼레이터 (7) 를 개재하여 절연시킨 상태에서 소용돌이상으로 권회된 전극군을 전지 케이스 (8) 에 수용하였다.(c) The positive electrode plate 5 and the negative electrode plate 6 were insulated with a separator 7 made of a microporous membrane made of polypropylene resin having a thickness of 20 占 퐉 interposed therebetween, (8).

(d) 부극판 (6) 으로부터 연접하는 부극 리드 (9) 를, 상기 케이스 (8) 와 하부 절연판 (10) 을 개재하여 전기적으로 접속하였다. 마찬가지로, 정극판 (5) 으로부터 연접하는 정극 리드 (3) 를, 봉구판 (1) 의 내부 단자에 상부 절연판 (4) 을 개재하여 전기적으로 접속하였다. 이렇게 한 후, 비수 전해액을 주액하고, 봉구판 (1) 과 전지 케이스 (8) 를 절연 개스킷 (2) 을 개재하여 코킹 봉구하여, 직경 17 ㎜, 높이 50 ㎜ 사이즈이고, 전지 용량이 780 ㎃h 인 원통형 리튬 이온 이차 전지를 제작하였다.(d) A negative electrode lead 9 connected to the negative electrode plate 6 was electrically connected via the case 8 and the lower insulating plate 10. Likewise, the positive electrode lead 3 connected to the positive electrode plate 5 was electrically connected to the internal terminal of the sealing plate 1 via the upper insulating plate 4. Thereafter, the nonaqueous electrolyte solution was injected, and the sealing plate 1 and the battery case 8 were caulked and sealed with an insulating gasket 2 interposed therebetween. The battery had a diameter of 17 mm and a height of 50 mm, a battery capacity of 780 mAh A cylindrical lithium ion secondary battery was fabricated.

(e) 전해액은, 에틸렌카보네이트 30 체적%, 메틸에틸카보네이트 50 체적%, 프로피온산메틸 20 체적% 의 혼합 용매 중에, 전해질로서 LiPF6 을 1.0 몰 녹인 전해액을 소정량 주액하였다. 이 전해액을 정극 활물질층 및 부극 활물질층 내에 함침시켰다.(e) The electrolytic solution was prepared by injecting a predetermined amount of an electrolytic solution containing 1.0 mol of LiPF 6 as an electrolyte in a mixed solvent of 30% by volume of ethylene carbonate, 50% by volume of methyl ethyl carbonate and 20% by volume of methyl propionate. This electrolyte solution was impregnated into the positive electrode active material layer and the negative electrode active material layer.

제작된 전지를 사용하여 충방전 사이클 특성을 평가하였다. 20 ℃ 의 환경 하에서 충방전하고, 3 사이클째에 있어서의 방전 용량을 초기 용량으로 하고, 초기 용량에 대해서 방전 용량이 80 % 로 저하될 때까지 사이클수를 계수하고, 이것을 사이클 수명으로 하였다. 충전 조건 : 4.2 V 에서 2 시간의 정전류-정전압 충전을 행하고, 전지 전압이 4.2 V 에 도달할 때까지는 550 ㎃ (0.7 C㎃) 의 정전류 충전을 행한 후, 다시 전류치가 감쇠되어 40 ㎃ (0.05 C㎃) 가 될 때까지 충전하였다. 방전 조건 : 780 ㎃ (1 C㎃) 의 정전류로 3.0 V 의 방전 종지 전압까지 방전하였다. 사이클 수명이 600 회 이상일 때를 양호 (○), 600 회 미만일 때를 불량 (×) 으로 평가하였다.The charge and discharge cycle characteristics were evaluated using the produced battery. The discharge capacity at the third cycle was taken as the initial capacity, and the number of cycles was counted until the discharge capacity decreased to 80% with respect to the initial capacity, and this was taken as the cycle life. Charging condition: Constant current-constant voltage charging was performed at 4.2 V for 2 hours. After charging at a constant current of 550 mA (0.7 CmA) until the battery voltage reached 4.2 V, the current value was again reduced to 40 mA ㎃). Discharge condition: Discharge was performed to a discharge end voltage of 3.0 V at a constant current of 780 mA (1 CmA). Good (?) When the cycle life was 600 or more, and poor (x) when the cycle life was less than 600 was evaluated.

표 2 에 평가 결과를 나타낸다. 표 3 에는 열간 압연의 각 패스에 있어서의 재료의 마무리 두께 및 1 패스당 가공도로서 표 2 의 발명예 1, 발명예 4, 비교예 1 및 비교예 5 의 것을 예시하였다.Table 2 shows the evaluation results. Table 3 shows Examples of Production Example 1, Production Example 4, Comparative Example 1 and Comparative Example 5 in Table 2 as the finish thickness of the material in each pass of hot rolling and the degree of processing per pass.

Figure 112016036685694-pct00002
Figure 112016036685694-pct00002

Figure 112016036685694-pct00003
Figure 112016036685694-pct00003

발명예 1 ∼ 27 의 구리 합금박에서는, Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 첨가하고, 열간 압연에 있어서 Rmax 를 25 % 이하, Rave 를 20 % 이하로 하고, 최종 냉간 압연에 있어서 가공도를 25 ∼ 99 % 로 하였다. 그 결과, A 값이 0.5 이상이 되고, 크리프 연신율이 0.1 % 이하가 되었다. 또, 80 % IACS 이상의 도전율이 얻어지고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도가 얻어졌다.In the copper alloy foil of Inventive Examples 1 to 27, 0.01 to 0.50 mass% of a total of one or more of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn and Zr is added, In rolling, Rmax was set to 25% or less and Rave was set to 20% or less, and the processing degree in the final cold rolling was set to 25 to 99%. As a result, the A value was 0.5 or more, and the creep elongation was 0.1% or less. Further, a conductivity of 80% IACS or more was obtained, and a tensile strength of 300 MPa or more was obtained after heating at 300 DEG C for 30 minutes.

크리프 연신율이 0.05 % 이하인 발명예의 굴곡 특성은 ◎ 의 평가가 되고, 크리프 연신율이 0.06 ∼ 0.1 % 인 발명예의 굴곡 특성은 ○ 의 평가가 되었다.The flexural characteristics of the inventive example having a creep elongation of 0.05% or less were evaluated as?, And the flexural characteristics of the inventive example having a creep elongation of 0.06 to 0.1% were evaluated as?.

 또, 발명예의 전지 특성은 ○ 의 평가로 되었다.In addition, the battery characteristics of the inventive example were evaluated as?.

비교예 1 ∼ 6 에서는 Rmax 또는 Rave 혹은 그 양방이 본 발명의 규정에서 벗어났기 때문에 A 값이 0.5 미만이 되고, 크리프 연신율은 0.1 % 를 초과하였다. 그 결과, 굴곡 특성, 전지 특성 모두 × 의 평가가 되었다.In Comparative Examples 1 to 6, the value of A was less than 0.5, and the creep elongation percentage exceeded 0.1% because Rmax or Rave or both were out of the specification of the present invention. As a result, both of the flexural characteristics and the battery characteristics were evaluated.

비교예 7 에서는 Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상의 합계가 0.01 질량% 미만이었기 때문에, 300 ℃ 에서 30 분간 가열의 인장 강도가 300 ㎫ 미만으로 되었다. 이와 같이 비교예 7 은 내열성이 열등하기 때문에 굴곡 시험용의 FPC 의 제작 과정에서 연화되고, 크리프 연신율이 0.1 % 이하였음에도 불구하고 굴곡 특성은 × 의 평가가 되었다.In Comparative Example 7, the total of at least one of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn and Zr was less than 0.01% by mass. 300 MPa. Thus, in Comparative Example 7, since the heat resistance was inferior, the FPC was softened during the production of the bending test FPC, and the flexural characteristic was evaluated as x even though the creep elongation was 0.1% or less.

1 : 봉구판
2 : 절연 개스킷
3 : 정극 리드
4 : 상부 절연판
5 : 정극판
6 : 부극판
7 : 세퍼레이터
8 : 전지 케이스
9 : 부극 리드
10 : 하부 절연판
1: Blank plate
2: Insulation gasket
3: Positive lead
4: upper insulating plate
5: Positive electrode plate
6: negative plate
7: Separator
8: Battery case
9: Negative lead
10: Lower insulating plate

Claims (13)

Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지고, 80 % IACS 이상의 도전율을 갖고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하고, 다음 식에서 주어지는 A 값이 0.5 이상인 것을 특징으로 하는 구리 합금박:
A = 2X(111) + X(220) - X(200)
X( hkl ) = I( hkl )/I0 ( hkl )
단, I( hkl ) 및 I0 ( hkl ) 은 각각 X 선 회절법을 이용하여 압연면 및 구리분에 대해서 구한 (hkl) 면의 회절 적분 강도이다.
Wherein the total amount of the at least one element selected from the group consisting of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn and Zr in a total amount of 0.01 to 0.50 mass% Or more and a tensile strength of 300 MPa or more after heating at 300 占 폚 for 30 minutes and an A value given by the following equation is 0.5 or more:
A = 2X (111) + X (220) - X (200)
X (hkl) = I (hkl ) / I 0 (hkl)
However, I (hkl) and I 0 (hkl) is an integrated intensity of the diffraction obtained (hkl) plane with respect to the rolling surface and the copper powder by using the X-ray diffraction, respectively.
Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn 및 Zr 중의 1 종 이상을 합계로 0.01 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지고, 80 % IACS 이상의 도전율을 갖고, 300 ℃ 에서 30 분간 가열 후에 300 ㎫ 이상의 인장 강도를 유지하고, 30 ℃ 에서 100 ㎫ 의 인장 응력을 부가하여 100 시간 유지했을 때 연신율이 0.1 % 이하인 것을 특징으로 하는 구리 합금박.Wherein the total amount of the at least one element selected from the group consisting of Ag, Cr, Fe, In, Ni, P, Si, Sn, Te, Ti, Zn and Zr in a total amount of 0.01 to 0.50 mass% Or more and having a tensile strength of 300 MPa or more after heating at 300 占 폚 for 30 minutes and an elongation of 0.1% or less when maintained at 100 占 폚 under a tensile stress of 30 MPa at 30 占 폚. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
Zr 을 0.01 ∼ 0.20 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
Zr in an amount of 0.01 to 0.20 mass%, and the balance of Cu and impurities.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
Sn 을 0.01 ∼ 0.20 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
Sn in an amount of 0.01 to 0.20 mass%, and the balance of Cu and impurities.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
Ag 를 0.05 ∼ 0.50 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
And 0.05 to 0.50 mass% of Ag, and the balance of Cu and impurities.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
Fe 를 0.05 ∼ 0.50 질량%, P 를 0.005 ∼ 0.10 질량% 함유하고, 잔부가 Cu 및 불순물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
0.05 to 0.50% by mass of Fe and 0.005 to 0.10% by mass of P, and the balance of Cu and impurities.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
두께가 0.003 ∼ 0.05 ㎜ 인 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the copper alloy foil has a thickness of 0.003 to 0.05 mm.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
이차 전지의 부극 집전체에 사용되는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
A copper alloy foil used for an anode current collector of a secondary battery.
제 8 항에 기재된 구리 합금박으로 구성되는 부극 집전체를 사용한 이차 전지.A secondary battery using a negative electrode current collector comprising the copper alloy foil according to claim 8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
플렉시블 구리 피복 적층판에 사용되는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
A copper alloy foil used for a flexible copper clad laminate.
제 10 항에 기재된 구리 합금박으로 구성되는 플렉시블 구리 피복 적층판.A flexible copper clad laminate comprising the copper alloy foil according to claim 10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
전자파 실드체에 사용되는 것을 특징으로 하는 구리 합금박.
3. The method according to claim 1 or 2,
A copper alloy foil used for an electromagnetic shielding body.
제 12 항에 기재된 구리 합금박으로 구성되는 전자파 실드체.An electromagnetic wave shielding body comprising the copper alloy foil according to claim 12.
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