KR101729865B1 - Detaching method and detaching apparatus - Google Patents

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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

유지 수단(30)이 제1 판상체 BL을 유지함으로써 밀착체 WK를 유지하고, 접촉 부재(340)를 제2 판상체 SB에 맞닿게 한다. 접촉 부재(340)가 박리 방향으로 이동하는데 연동하여, 밀착체 WK의 주면과 평행한 박리 방향을 따라 배열된 복수의 박리 수단(51~5N)이 순차적으로 제2 판상체 SB를 유지하여 제1 판상체 BL로부터 이격하는 방향으로 이동함으로써 양자를 박리시킨다. 각 박리 수단(51~5N)의 이동 개시 타이밍에 대해서는, 사전에 접촉 부재(340)의 이동을 실행하고, 그 이동 중에 있어서의 접촉 부재(340)의 위치를 나타내는 위치 정보와, 접촉 부재(340)가 박리 수단(51~5N)과의 대향 위치를 통과하는 타이밍을 실측하여 정해진다. The holding means 30 holds the first plate-shaped body BL to hold the adhered body WK, and the contact member 340 is brought into contact with the second plate-shaped body SB. A plurality of peeling means 51 to 5N arranged in the peeling direction parallel to the main surface of the adherend WK in cooperation with the movement of the contact member 340 in the peeling direction successively holds the second plate- And moves in the direction away from the plate body BL to peel off both of them. The movement start timing of each of the peeling means 51 to 5N is carried out by moving the contact member 340 in advance and comparing the positional information indicating the position of the contact member 340 during the movement, Is passed through a position opposite to the peeling means 51 to 5N.

Description

박리 방법 및 박리 장치{DETACHING METHOD AND DETACHING APPARATUS}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a detaching method and a detaching apparatus,

이 발명은, 직접 또는 박층을 통하여 서로 밀착된 2장의 판상체를 박리시키는 박리 방법 및 박리 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a peeling method and a peeling apparatus for peeling two plate-like bodies in close contact with each other directly or through a thin layer.

유리 기판이나 반도체 기판 등의 판상체에 소정의 패턴이나 박막을 형성하는 기술로서, 다른 판상체에 담지된 패턴이나 박막(이하, 「패턴 등」이라고 한다)을 기판에 전사하는 것이 있다. 이 기술에 있어서는, 2장의 판상체를 밀착시켜 패턴 등을 한쪽으로부터 다른쪽으로 전사한 후, 패턴 등을 손괴시키지 않고 2장의 판상체를 박리할 필요가 있다. As a technique for forming a predetermined pattern or a thin film on a plate substrate such as a glass substrate or a semiconductor substrate, there is a technique of transferring a pattern or a thin film (hereinafter referred to as "pattern or the like") carried on another plate substrate onto a substrate. In this technique, it is necessary to peel off the two sheets of platelets without damaging the pattern or the like after the two platelets are closely contacted to transfer the pattern or the like from one side to the other.

이 목적을 위해 이용 가능한 기술로서, 예를 들면 특허 문헌 1에 기재된 것이 있다. 이 기술에 있어서는, 서로 밀착된 제1 판상체 및 제2 판상체로 이루어지는 밀착체가, 제1 판상체가 스테이지에 흡착 유지됨으로써 수평 자세로 유지된다. 그리고, 제2 판상체측에 배열된 복수의 박리 수단이 순서대로 제2 판상체에 맞닿아, 제2 판상체를 유지하면서 제1 판상체로부터 이격하는 방향으로 이동함으로써, 제1 판상체와 제2 판상체 사이의 박리가 소정의 박리 방향으로 진행된다. 이 때, 접촉 부재가 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서 박리 방향으로 이동함으로써, 박리가 일정한 속도로 진행되도록 관리된다. As a technology that can be used for this purpose, for example, there is one described in Patent Document 1. In this technique, the adhered body composed of the first plate-shaped body and the second plate-shaped body which are in close contact with each other is held in a horizontal posture by the first plate-shaped body being adsorbed and held on the stage. Then, a plurality of peeling means arranged on the second plate-like body side sequentially come in contact with the second plate-like body and move in a direction away from the first plate-like body while holding the second plate- The separation between the two plate bodies proceeds in the predetermined separation direction. At this time, the contact member is moved in the peeling direction while coming into contact with the surface of the second plate material, so that the peeling is managed to proceed at a constant speed.

일본국 특허공개 2014-189350호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-189350

판상체의 사이즈의 대형화나, 2장의 판상체 사이에 박막이 담지되는 경우에는 그 밀착력의 차이 등에 대응하여, 설치되는 박리 수단의 수나 간격이 증감되는 경우가 있다. 또, 박리 수단과 접촉 부재의 협조 동작에 의해 박리의 진행을 양호하게 제어하기 위해, 접촉 부재가 통과한 후, 제2 판상체의 표면에 박리 수단이 맞닿아 유지할 때까지의 시간은 가능한 한 짧은 것이 바람직하다. 이들을 가능하게 하기 위해, 박리 수단과 접촉 부재의 간섭을 방지하면서, 접촉 부재 통과 후의 제2 판상체 표면에 대해 박리 수단을 신속하게 맞닿게 하는 것이 필요해지고 있다. 그 때문에, 접촉 부재와 협동하는 각 박리 수단의 동작 타이밍을, 박리 수단의 배치에 따라 적절히 또한 간단하게 설정하는 것이 요구된다. In the case where the size of the plate body is increased and the thin film is supported between the two plate bodies, the number and spacing of the peeling means provided may be increased or decreased in accordance with the difference in adhesion. In order to satisfactorily control the progress of peeling by the cooperating operation of the peeling means and the contact member, the time until the peeling means abuts against the surface of the second plate member after passing the contact member is kept as short as possible . In order to enable these, it is necessary to quickly abut the peeling means against the surface of the second plate material after the contact member has passed, while preventing interference between the peeling means and the contact member. Therefore, it is required to appropriately and simply set the operation timing of each peeling means cooperating with the contact member in accordance with the arrangement of the peeling means.

상기 종래 기술에서는 박리 수단의 설치수가 적고, 그들의 간격도 비교적 크다. 이 때문에, 동작 타이밍을 최적화하는 것은 비교적 용이하다. 예를 들면, 접촉 부재의 위치와 박리 수단의 이동 타이밍의 대응 관계를 미리 티칭 작업에 의해 장치에 학습시키는 방법을 이용할 수 있다. 그러나, 박리 수단의 설치수가 커지면 이와 같은 조정 작업은 매우 번잡한 것이 된다. In the above-mentioned prior art, the number of the peeling means is small and the interval therebetween is relatively large. For this reason, it is relatively easy to optimize the operation timing. For example, a method of learning the correspondence between the position of the contact member and the movement timing of the peeling means to the apparatus by teaching in advance can be used. However, if the number of the peeling means is increased, such an adjustment operation becomes very troublesome.

이 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이며, 서로 밀착된 2장의 판상체를 박리시키는 박리 방법 및 박리 장치에 있어서, 박리 수단의 배치에 따라, 개개의 박리 수단의 동작을 간단하게 최적화할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems and has as its object to provide a peeling method and a peeling apparatus for peeling two plate bodies in close contact with each other and capable of easily optimizing the operation of the peeling means in accordance with the arrangement of the peeling means And to provide the above objects.

이 발명에 관련된 박리 방법의 일 양태는, 제1 판상체와 제2 판상체가 직접 또는 박층을 통하여 밀착된 밀착체를 박리시키는 박리 방법으로서, 상기 목적을 달성하기 위해, 유지 수단이 상기 제1 판상체를 유지함으로써 상기 밀착체를 유지하고, 상기 제2 판상체에 부분적으로 맞닿아 상기 제2 판상체를 유지하는 기능을 각각이 가지는 복수의 박리 수단이, 상기 제2 판상체의 표면과 평행한 박리 방향을 따라, 또한 상기 제2 판상체의 표면과 상기 박리 수단 사이에 갭을 두고 배열되는 배치 공정과, 접촉 부재가, 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서 상기 박리 수단과의 갭 공간을 상기 박리 방향으로 이동시키고, 상기 박리 수단의 각각이 상기 박리 방향을 따라 순서대로, 상기 제2 판상체를 향해 이동하여 상기 접촉 부재 통과 후의 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿은 후, 상기 제2 판상체를 유지하면서 상기 제1 판상체에 대해 이격 방향으로 이동하여, 상기 제2 판상체를 상기 제1 판상체로부터 이격시키는 박리 공정을 구비하고, 상기 박리 수단 각각의 이동 타이밍이, 미리 상기 접촉 부재를 상기 박리 방향으로 이동시켜 취득된, 상기 접촉 부재가 상기 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍과, 상기 접촉 부재의 상기 박리 방향에 있어서의 위치를 나타내는 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 설정되어 있다. One aspect of the peeling method related to the present invention is a peeling method for peeling off an adherent body in which a first plate body and a second plate body are directly or in close contact with each other through a thin layer, A plurality of peeling means each having a function of holding the adherend by holding the platelet and holding the second platelet by partially abutting on the second platelet is parallel to the surface of the second platelet And a separating step of arranging a gap between the surface of the second plate member and the separating means so that the contact member is in contact with the surface of the second plate- Each of the peeling means moves in the order of peeling along the peeling direction toward the second plate-like member, and the peaks of the second plate-like member after passing through the contact member And then peeling off the second plate member from the first plate member while moving the second plate member in a direction away from the first plate member while keeping the second plate member, Wherein the movement timing is determined based on a timing at which the contact member passes the position opposite to the peeling means and which is obtained by moving the contact member in the peeling direction in advance and position information indicating the position in the peeling direction of the contact member As shown in FIG.

또, 이 발명에 관련된 박리 장치의 일 양태는, 상기 목적을 달성하기 위해, 제1 판상체와 제2 판상체가 직접 또는 박층을 통하여 서로 밀착된 밀착체를, 상기 제1 판상체를 유지함으로써 유지하는 유지 수단과, 상기 유지 수단에 의해 유지되는 상기 밀착체의 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서, 상기 제2 판상체의 표면과 평행한 박리 방향을 따라 이동하는 접촉 부재와, 상기 박리 방향을 따라 배열되며, 각각이 상기 제2 판상체에 부분적으로 맞닿아 상기 제2 판상체를 유지하는 기능을 가짐과 함께, 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿는 접촉 위치와, 상기 제2 판상체의 표면으로부터 이격하여 상기 접촉 부재가 통과하기 위한 갭을 설치한 대기 위치 사이에서 이동 가능한 복수의 박리 수단과, 상기 박리 수단 및 상기 접촉 부재의 이동을 제어하여 박리 동작을 실행시키는 제어 수단을 구비하고, 상기 박리 동작에 있어서, 상기 접촉 부재가, 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서 상기 박리 수단과의 갭 공간을 상기 박리 방향으로 이동시키고, 상기 박리 수단의 각각이, 상기 박리 방향을 따라 순서대로, 상기 제2 판상체를 향해 이동하여 상기 접촉 부재 통과 후의 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿은 후, 상기 제2 판상체를 유지하면서 상기 제1 판상체에 대해 이격 방향으로 이동하여 상기 제2 판상체를 상기 제1 판상체로부터 이격시키고, 상기 박리 수단 각각의 이동 타이밍이, 미리 상기 접촉 부재를 상기 박리 방향으로 이동시켜 취득된, 상기 접촉 부재가 상기 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍과, 상기 접촉 부재의 상기 박리 방향에 있어서의 위치를 나타내는 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 설정되어 있다. In order to achieve the above object, one aspect of the peeling apparatus related to the present invention is characterized in that an adherent body in which the first plate body and the second plate body are directly or thinly adhered to each other is held by holding the first plate body A contact member which moves along a peeling direction parallel to the surface of the second plate material while abutting against a surface of the second plate material of the adherend held by the holding means; Wherein the first plate member and the second plate member are arranged along the peeling direction and each have a function of partially abutting against the second plate member to hold the second plate member and a contact position in contact with the surface of the second plate member, A plurality of peeling means capable of moving between a standby position in which a gap for allowing the contact member to pass away from the surface of the upper body is provided and a control means for controlling the movement of the peeling means and the contact member, Wherein the contact member contacts the surface of the second plate member and moves the gap space with the peeling member in the peeling direction in the peeling operation, Each of the first plate member and the second plate member moves in the order along the peeling direction toward the second plate member and contacts the surface of the second plate member after passing through the contact member, And the second plate material is moved away from the first plate material so that the movement timing of each of the peeling means is moved in advance in the peeling direction beforehand, On the basis of the corresponding relationship between the timing at which the contact member passes the opposite position and the position information indicating the position in the peeling direction of the contact member And the like.

이와 같이 구성된 발명에서는, 접촉 부재가 실제로 이동했을 때에 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍과 접촉 부재의 위치의 대응 관계에 의거하여, 접촉 부재와 협동하여 박리를 진행시키는 박리 수단 각각의 이동 타이밍이 설정된다. 즉, 접촉 부재가 실제로 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍과 접촉 부재의 위치를 나타내는 위치 정보의 대응 관계가 파악된 다음, 박리 수단의 동작이 결정된다. 그 때문에, 박리 수단이 어떻게 배치되어 있었다고 해도, 그 배치에 따른 타이밍에 각 박리 수단을 동작시킬 수 있다. 따라서, 접촉 부재가 통과하기도 전에 박리 수단이 제2 판상체에 접근하여 접촉 부재와 박리 수단이 충돌하거나, 박리 수단에 의한 제2 판상체의 유지가 너무 늦어서 박리를 양호하게 행할 수 없게 되는 문제가 회피되어, 각 박리 수단의 동작을 최적화하는 것이 가능해진다. According to the invention thus constituted, on the basis of the corresponding relationship between the timing at which the contact member passes the position opposed to the peeling means and the position of the contact member when the contact member actually moves, the movement timing of each of the peeling means, Is set. That is, after the corresponding relationship between the timing at which the contact member actually passes the position opposite to the peeling means and the position information indicating the position of the contact member is grasped, the operation of the peeling means is determined. Therefore, regardless of how the peeling means is arranged, each peeling means can be operated at the timing according to the arrangement. Therefore, there is a problem that the peeling means approaches the second plateau before the contact member passes and the contact member and the peeling means collide with each other, or the second plateau by the peeling means is too late to peel off satisfactorily It is possible to optimize the operation of each peeling means.

상기와 같이, 본 발명에 의하면, 각 박리 수단의 이동 타이밍을 박리 수단의 실제의 배치에 따른 것으로 하는 것이 가능하고, 접촉 부재와 박리 수단의 간섭을 회피하면서, 개개의 박리 수단의 동작을 간단하게 최적화할 수 있다. As described above, according to the present invention, it is possible to make the movement timing of each peeling means according to the actual arrangement of the peeling means, and to simplify the operation of the respective peeling means while avoiding interference between the contact member and peeling means It can be optimized.

도 1은 이 발명에 관련된 박리 장치의 일실시 형태를 나타내는 사시도이다.
도 2는 이 박리 장치의 주요 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3은 초기 박리 유닛의 구조 및 각 부의 위치 관계를 나타내는 측면도이다.
도 4는 이 박리 장치의 전기적 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 5a 내지 도 5d는 박리 동작의 과정에 있어서의 각 부의 동작을 나타내는 도이다.
도 6a 내지 도 6c는 흡착 유닛의 설치 패턴이 상이한 예를 나타내는 도이다.
도 7a 및 도 7b는 롤러 유닛과 흡착 유닛의 위치 관계를 나타내는 도이다.
도 8a 내지 도 8c는 촬상부에 의한 흡착 유닛의 촬상의 양태를 나타내는 도이다.
도 9는 흡착 유닛의 이동 타이밍의 설정 방법을 나타내는 플로차트이다.
도 10a 및 도 10b는 흡착 유닛의 이동 타이밍의 원리를 설명하는 도이다. 1 is a perspective view showing an embodiment of a peeling apparatus according to the present invention.
Fig. 2 is a perspective view showing a main configuration of the peeling apparatus. Fig.
3 is a side view showing the structure of the initial peeling unit and the positional relationship of each part.
4 is a block diagram showing an electrical configuration of the peeling apparatus.
5A to 5D are diagrams showing the operation of each part in the course of the peeling operation.
6A to 6C are views showing examples in which the installation pattern of the adsorption unit is different.
7A and 7B are diagrams showing the positional relationship between the roller unit and the adsorption unit.
8A to 8C are diagrams showing an image pickup mode of the absorption unit by the image pickup unit.
9 is a flowchart showing a method of setting the movement timing of the suction unit.
10A and 10B are diagrams for explaining the principle of the movement timing of the adsorption unit.

도 1은 이 발명에 관련된 박리 장치의 일실시 형태를 나타내는 사시도이다. 각 도면에 있어서의 방향을 통일적으로 나타내기 위해, 도 1 의 오른쪽 아래에 나타내는 바와 같이 XYZ 직교 좌표축을 설정한다. 여기서 XY평면이 수평면을 나타낸다. 또 Z축이 연직축을 나타내고, 보다 상세하게는, (-Z) 방향이 연직 하향 방향을 나타내고 있다. 1 is a perspective view showing an embodiment of a peeling apparatus according to the present invention. In order to unify the directions in each drawing, the XYZ orthogonal coordinate axes are set as shown at the bottom right of Fig. Here, the XY plane represents a horizontal plane. The Z axis indicates the vertical axis, and more specifically, the (-Z) direction indicates the vertical downward direction.

이 박리 장치(1)는, 주면들이 서로 밀착된 상태로 반입되는 2장의 판상체를 박리시키기 위한 장치이다. 예를 들면 유리 기판이나 반도체 기판 등의 기판의 표면에 소정의 패턴을 형성하는 패턴 형성 프로세스의 일부에 있어서 이용된다. 보다 구체적으로는, 이 패턴 형성 프로세스에서는, 피전사체인 기판에 대해 전사해야 할 패턴을 일시적으로 담지하는 담지체로서의 블랭킷 표면에, 패턴 형성 재료가 균일하게 도포된다(도포 공정). 그리고, 패턴 형상에 따라 표면 가공된 판을 블랭킷 상의 도포층에 누름으로써 도포층이 패터닝된다(패터닝 공정). 이렇게 하여 패턴이 형성된 블랭킷을 기판에 밀착시킴으로써(전사 공정), 패턴이 최종적으로 블랭킷으로부터 기판에 전사된다. The peeling apparatus (1) is an apparatus for peeling two sheets of sheets to be carried in a state in which the main surfaces are in close contact with each other. For example, a part of a pattern forming process for forming a predetermined pattern on the surface of a substrate such as a glass substrate or a semiconductor substrate. More specifically, in this pattern forming process, the pattern forming material is uniformly applied to the surface of the blanket as a carrier that temporarily carries a pattern to be transferred onto the substrate to be transferred (a coating process). Then, the coated layer is patterned by pressing the surface-processed plate according to the pattern shape onto the coating layer on the blanket (patterning step). By thus adhering the patterned blanket to the substrate (transferring step), the pattern is finally transferred from the blanket to the substrate.

이 때, 패터닝 공정에 있어서 밀착된 판과 블랭킷 사이, 또는 전사 공정에 있어서 밀착된 기판과 블랭킷 사이를 이격시키는 목적을 위해, 본 장치를 적절히 적용하는 것이 가능하다. 물론 이들 양쪽에 이용되어도 되고, 이것 이외의 용도로 이용되어도 상관없다. 예를 들면 담지체에 담지된 박막을 기판에 전사할 때의 박리 프로세스에도 적용할 수 있다. 이 외에, 직접 또는 박막 등의 박층을 통하여 밀착되는 2개의 판상체를 박리하는 프로세스 전반에, 본 장치를 적용하는 것이 가능하다. At this time, it is possible to suitably apply the apparatus for the purpose of separating the adhered substrate from the blanket in the patterning process, or between the adhered substrate and the blanket in the transfer process. Of course, they may be used for both of them or may be used for other purposes. For example, the present invention can be applied to a peeling process for transferring a thin film supported on a support to a substrate. In addition to this, it is possible to apply the present device to the entire process of peeling two plate-like bodies which are adhered directly or through a thin layer such as a thin film.

이 박리 장치(1)는, 하우징에 부착된 메인 프레임(11) 상에 스테이지 블록(3) 및 상부 흡착 블록(5)이 각각 고정된 구조를 가지고 있다. 도 1에서는 장치의 내부 구조를 나타내기 위해 하우징의 도시를 생략하고 있다. 또, 이들 각 블록 외에, 이 박리 장치(1)는 후술하는 제어 유닛(70)(도 4)을 구비하고 있다. The peeling apparatus 1 has a structure in which a stage block 3 and an upper suction block 5 are fixed on a main frame 11 attached to a housing. In Fig. 1, the illustration of the housing is omitted to show the internal structure of the apparatus. In addition to each of these blocks, the peeling apparatus 1 is provided with a control unit 70 (Fig. 4) described later.

스테이지 블록(3)은, 판과 블랭킷이, 또는 기판과 블랭킷이 밀착되어 이루어지는 밀착체(이하, 「워크」라고 한다)를 올려놓기 위한 스테이지(30)를 가지고 있다. 스테이지(30)는, 상면이 대략 수평의 평면으로 된 수평 스테이지부(31)와, 상면이 수평면에 대해 몇도(예를 들면 2도 정도)의 기울기를 가지는 평면으로 된 테이퍼 스테이지부(32)를 구비하고 있다. 스테이지(30)의 테이퍼 스테이지부(32)측, 즉 (-Y)측의 단부 근방에는 초기 박리 유닛(33)이 설치되어 있다. 또, 수평 스테이지부(31)에 걸치도록 롤러 유닛(34)이 설치된다. The stage block 3 has a stage 30 for mounting a plate and a blanket, or an adherend (hereinafter referred to as a "work") in which a substrate and a blanket are in close contact with each other. The stage 30 includes a horizontal stage portion 31 whose upper surface is a substantially horizontal plane and a tapered stage portion 32 whose upper surface is a plane having a slope of several degrees (for example, about 2 degrees) . An initial peeling unit 33 is provided in the vicinity of the end of the stage 30 on the side of the taper stage portion 32, that is, on the -Y side. In addition, a roller unit 34 is provided so as to extend over the horizontal stage portion 31.

한편, 상부 흡착 블록(5)은, 메인 프레임(11)으로부터 세워 설치됨과 함께 스테이지 블록(3)의 상부를 덮도록 설치된 지지 프레임(50)을 구비한다. 지지 프레임(50)에는 N세트(N은 자연수)의 흡착 유닛(51, 52, 53, …, 5N)이 부착되어 있다. 이들 흡착 유닛(51~5N)은 (+Y) 방향으로 순서대로 늘어놓아져 있다. 이하, 각 흡착 유닛을 구별할 필요가 있는 경우에는, (+Y) 방향으로 세어 제i번째 (i은 자연수)의 흡착 유닛(5i)을 「제i 흡착 유닛」이라고 칭하는 것으로 한다. On the other hand, the upper suction block 5 is provided with a support frame 50 installed upright from the main frame 11 and provided so as to cover the upper portion of the stage block 3. N units (N is a natural number) of adsorption units 51, 52, 53, ..., 5N are attached to the support frame 50. These adsorption units 51 to 5N are arranged in order in the (+ Y) direction. Hereinafter, when it is necessary to distinguish each adsorption unit, the adsorption unit 5i in the i-th (i is a natural number) counted in the (+ Y) direction is referred to as an "i-th adsorption unit".

도 2는 이 박리 장치의 주요 구성을 나타내는 사시도이다. 보다 구체적으로는, 도 2는, 박리 장치(1)의 각 구성 중 스테이지(30), 롤러 유닛(34) 및 제i 흡착 유닛(5i)의 구조를 나타내고 있다. 스테이지(30)는, 상면(310)이 대략 수평면으로 된 수평 스테이지부(31)와, 상면(320)이 수평면에 대해 몇도 기운 테이퍼면으로 된 테이퍼 스테이지부(32)를 구비하고 있다. 수평 스테이지부(31)의 상면(310)은, 올려놓아지는 워크의 평면 사이즈보다 조금 큰 평면 사이즈를 가지고 있다. Fig. 2 is a perspective view showing a main configuration of the peeling apparatus. Fig. More specifically, Fig. 2 shows the structure of the stage 30, the roller unit 34 and the i-th adsorption unit 5i in each configuration of the peeling apparatus 1. As shown in Fig. The stage 30 includes a horizontal stage portion 31 whose upper surface 310 is a substantially horizontal surface and a tapered stage portion 32 whose upper surface 320 is tapered to some degree with respect to a horizontal plane. The upper surface 310 of the horizontal stage portion 31 has a plane size slightly larger than the plane size of the work to be placed.

테이퍼 스테이지부(32)는 수평 스테이지부(31)의 (-Y)측 단부에 밀착해서 설치되어 있다. 그 상면(320)은, 수평 스테이지부(31)와 접하는 부분에서는 수평 스테이지부(31)의 상면(310)과 동일한 높이(Z방향 위치)에 위치한다. 한편, 수평 스테이지부(31)로부터 (-Y) 방향으로 멀어짐에 따라, 상면(320)은 하방, 즉 (-Z) 방향으로 후퇴하고 있다. 따라서, 스테이지(30) 전체에서는, 수평 스테이지부(31)의 상면(310)의 수평면과 테이퍼 스테이지부(32)의 상면(320)의 테이퍼면이 연속하고 있으며, 그들이 접속하는 능선부 E는 X방향으로 연장되는 직선형상으로 되어 있다. The taper stage portion 32 is provided in close contact with the (-Y) side end portion of the horizontal stage portion 31. The upper surface 320 is located at the same height as the upper surface 310 of the horizontal stage portion 31 (Z direction position) at a portion contacting the horizontal stage portion 31. On the other hand, as the distance from the horizontal stage part 31 to the -Y direction increases, the upper surface 320 retreats downward, i.e., in the -Z direction. The horizontal surface of the upper surface 310 of the horizontal stage portion 31 and the tapered surfaces of the upper surface 320 of the tapered stage portion 32 are continuous in the entire stage 30 and the ridge portion E to which they are connected is X As shown in Fig.

또, 수평 스테이지부(31)의 상면(310)에는 격자형상의 홈이 새겨져 있다. 보다 구체적으로는, 수평 스테이지부(31)의 상면(310)의 중앙부에 격자형상의 홈(311)이 설치된다. 또, 홈(311)이 형성된 영역을 둘러싸도록, 또 직사각형 중 테이퍼 스테이지부(32)측의 1변을 제외한 형상이 되도록, 홈(312)이 수평 스테이지부(31)의 상면(310) 주연부에 설치되어 있다. 이들 홈(311, 312)은 제어 밸브를 통하여 후술하는 음압 공급부(704)(도 4)에 접속되며, 음압이 공급됨으로써, 스테이지(30)에 올려놓아지는 워크를 흡착 유지하는 흡착홈으로서의 기능을 가진다. 2종류의 홈(311, 312)은 스테이지 상에서는 연결되지 않고, 또 서로 독립된 제어 밸브를 통하여 음압 공급부(704)에 접속되어 있다. 이 때문에, 양쪽의 홈을 사용한 흡착 외에, 한쪽의 홈만 사용한 흡착도 가능하게 되어 있다. In addition, a grating-shaped groove is formed in the upper surface 310 of the horizontal stage portion 31. More specifically, a lattice-shaped groove 311 is provided at a central portion of the upper surface 310 of the horizontal stage portion 31. The groove 312 is formed on the peripheral edge of the upper surface 310 of the horizontal stage portion 31 so as to surround the region where the groove 311 is formed and to have a shape excluding one side of the rectangular tapered stage portion 32 side Is installed. These grooves 311 and 312 are connected to a negative pressure supply portion 704 (FIG. 4) described later via a control valve and function as an adsorption groove for adsorbing and holding a work placed on the stage 30 I have. The two kinds of grooves 311 and 312 are not connected on the stage, but are connected to the sound pressure supply unit 704 through independent control valves. Therefore, in addition to adsorption using both grooves, adsorption using only one of the grooves is possible.

이와 같이 구성된 스테이지(30)에 걸치도록, 롤러 유닛(34)이 설치된다. 구체적으로는, 수평 스테이지부(31)의 X방향 양단부를 따라, 한 쌍의 가이드 레일(351, 352)이 Y 방향으로 연장 설치되어 있으며, 이들 가이드 레일(351, 352)은 메인 프레임(11)에 고정되어 있다. 그리고, 가이드 레일(351, 352)에 대해 슬라이딩 가능하게 롤러 유닛(34)이 부착되어 있다. A roller unit 34 is provided so as to extend over the stage 30 constructed as described above. More specifically, a pair of guide rails 351 and 352 extend in the Y direction along the both ends of the horizontal stage unit 31 in the X direction. These guide rails 351 and 352 are connected to the main frame 11, As shown in FIG. A roller unit 34 is attached to the guide rails 351 and 352 so as to be slidable.

롤러 유닛(34)은, 가이드 레일(351, 352)과 각각 슬라이딩 가능하게 걸어 맞춰지는 슬라이더(341, 342)를 구비하고 있다. 이들 슬라이더(341, 342)를 연결하도록, 스테이지(30) 상부에 걸쳐 X방향으로 연장 설치된 하부 앵글(343)이 설치되어 있다. 하부 앵글(343)에는 승강 기구(344)를 통하여 상부 앵글(345)이 승강 가능하게 부착되어 있다. 그리고, 상부 앵글(345)에 대해, X방향을 축방향으로 하는 원기둥형상의 박리 롤러(340)가 회전 가능하게 부착된다. The roller unit 34 has sliders 341 and 342 which are slidably engaged with the guide rails 351 and 352, respectively. A lower angle 343 extending in the X direction is provided over the stage 30 so as to connect the sliders 341 and 342. An upper angle 345 is vertically attached to the lower angle 343 through a lifting mechanism 344. A cylindrical separating roller 340 having an X direction as an axial direction is attached to the upper angle 345 so as to be rotatable.

상부 앵글(345)이 승강 기구(344)에 의해 하방, 즉 (-Z) 방향으로 하강되면, 스테이지(30)에 올려놓아진 워크의 상면에 박리 롤러(340)의 하면이 맞닿는다. 한편, 상부 앵글(345)이 승강 기구(344)에 의해 상방, 즉 (+Z) 방향의 위치에 위치 결정된 상태에서는, 박리 롤러(340)는 워크의 상면으로부터 상방으로 이격한 상태가 된다. 상부 앵글(345)에는, 박리 롤러(340)의 휨을 억제하기 위한 백업 롤러(346)가 회전 가능하게 부착됨과 함께, 상부 앵글(345) 자체의 휨을 방지하기 위한 리브가 적절히 설치된다. 박리 롤러(340) 및 백업 롤러(346)는 구동원을 가지지 않으며, 이들은 자유 회전한다. When the upper angle 345 is lowered by the lifting mechanism 344 in the downward direction, that is, in the (-Z) direction, the lower surface of the peeling roller 340 abuts on the upper surface of the work placed on the stage 30. On the other hand, in a state in which the upper angle 345 is positioned above (i.e., in the + Z) direction by the lifting mechanism 344, the peeling roller 340 is spaced upward from the upper surface of the work. A backup roller 346 for restraining the warping of the peeling roller 340 is rotatably attached to the upper angle 345 and a rib for preventing the warping of the upper angle 345 itself is properly installed. The peeling roller 340 and the backup roller 346 do not have a driving source, and they rotate freely.

롤러 유닛(34)은, 메인 프레임(11)에 부착된 모터(353)에 의해 Y 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 보다 구체적으로는, 하부 앵글(343)이, 모터(353)의 회전 운동을 직선 운동으로 변환하는 변환 기구로서의 예를 들면 볼나사 기구(354)에 연결되어 있다. 모터(353)가 회전하면 하부 앵글(343)이 가이드 레일(351, 352)을 따라 Y 방향으로 이동하고, 이것에 의해 롤러 유닛(34)이 Y 방향으로 이동한다. 롤러 유닛(34)의 이동에 수반하는 박리 롤러(340)의 가동 범위는, (-Y) 방향으로는 수평 스테이지부(31)의 (-Y)측 단부의 근방 위치까지, (+Y) 방향으로는 수평 스테이지부(31)의 (+Y)측 단부의 근방 위치까지가 된다. The roller unit (34) is movable in the Y direction by a motor (353) attached to the main frame (11). More specifically, the lower angle 343 is connected to, for example, a ball screw mechanism 354 as a conversion mechanism for converting the rotational motion of the motor 353 into a linear motion. When the motor 353 rotates, the lower angle 343 moves in the Y direction along the guide rails 351 and 352, whereby the roller unit 34 moves in the Y direction. The movable range of the peeling roller 340 in association with the movement of the roller unit 34 is shifted in the (-Y) direction to the position near the (-Y) side end of the horizontal stage 31 in the (+ Y) direction (+ Y) side end portion of the horizontal stage portion 31 as shown in Fig.

또한, 롤러 유닛(34)에는 촬상부(347)가 부착되어 있다. 촬상부(347)는 촬상 기능을 가지는 예를 들면 CCD 카메라이며, 촬상 방향을 상향으로 하여 상부 앵글(345)에 부착되어 있다. 상세하게는 후술하지만, 촬상부(347)는 롤러 유닛(34)의 이동에 수반하여 박리 롤러(340)와 함께 Y 방향으로 이동하여, 롤러 유닛(34)의 상방에 배열된 흡착 유닛(51) 등을 촬상한다. An image pickup unit 347 is attached to the roller unit 34. The image pickup section 347 is, for example, a CCD camera having an image pickup function and is attached to the upper angle 345 with the image pickup direction being upward. The pickup unit 347 is moved in the Y direction together with the peeling roller 340 in accordance with the movement of the roller unit 34 to move the pickup unit 51 arranged above the roller unit 34, And the like.

다음에 제i 흡착 유닛(5i)(i=1, 2, …, N)의 구성에 대해서 설명한다. 또한, 제1 내지 제N 흡착 유닛(51~5N)은 모두 동일 구조를 가지고 있다. 제i 흡착 유닛(5i)은, X방향으로 연장 설치되어 지지 프레임(50)에 고정되는 심부재(5i1)를 가지고 있다. 심부재(5i1)에는 연직 하향, 즉 (-Z) 방향으로 연장되는 한 쌍의 기둥 부재(5i2, 5i3)가 X방향으로 서로 위치를 상이하게 하여 부착되어 있다. 기둥 부재(5i2, 5i3)에는 도면에서는 숨어 있는 가이드 레일을 통하여 플레이트 부재(5i4)가 승강 가능하게 부착되어 있다. 플레이트 부재(5i4)는 모터 및 변환 기구(예를 들면 볼나사 기구)로 이루어지는 승강 기구(5i5)에 의해 승강 구동된다. Next, the configuration of the i-th adsorption units 5i (i = 1, 2, ..., N) will be described. The first to Nth adsorption units 51 to 5N all have the same structure. The i-th absorption unit 5i has a shim member 5i1 extending in the X-direction and fixed to the support frame 50. [ A pair of column members 5i2 and 5i3 extending vertically downward, i.e., in the (-Z) direction, are attached to the core member 5i1 with their positions being different from each other in the X direction. A plate member 5i4 is attached to the pillar members 5i2 and 5i3 through a guide rail hidden in the figure so as to be able to move up and down. The plate member 5i4 is lifted and lowered by a lifting mechanism 5i5 composed of a motor and a converting mechanism (for example, a ball screw mechanism).

플레이트 부재(5i4)의 하부에는 X방향으로 연장되는 각봉형상의 패드 지지 부재(5i6)가 부착되어 있다. 패드 지지 부재(5i6)의 하면에는 복수의 흡착 패드(5i7)가 X방향으로 등간격으로 배열되어 있다. 도 2에서는 제i 흡착 유닛(5i)을 실제의 위치보다 상방으로 이동시킨 상태를 나타내고 있지만, 승강 기구(5i5)에 의해 플레이트 부재(5i4)가 하방으로 이동되었을 때, 흡착 패드(5i7)가 수평 스테이지부(31)의 상면(310)에 매우 근접한 위치까지 하강할 수 있다. 스테이지(30)에 워크가 올려놓아진 상태에서는, 흡착 패드(5i7)는 워크의 상면에 맞닿는다. 각 흡착 패드(5i7)에는 후술하는 음압 공급부(704)로부터의 음압이 부여되어, 워크의 상면이 흡착 유지된다. A pad supporting member 5i6 having a rectangular bar shape extending in the X direction is attached to a lower portion of the plate member 5i4. On the lower surface of the pad supporting member 5i6, a plurality of absorption pads 5i7 are arranged at regular intervals in the X direction. Fig. 2 shows a state in which the i-th adsorption unit 5i is moved above the actual position. However, when the plate member 5i4 is moved downward by the lifting mechanism 5i5, It can be lowered to a position very close to the upper surface 310 of the stage portion 31. In a state in which the workpiece is placed on the stage 30, the adsorption pad 5i7 abuts the upper surface of the work. The negative pressure from the negative pressure supply portion 704, which will be described later, is applied to each of the absorption pads 5i7, and the upper surface of the work is adsorbed and held.

도 3은 초기 박리 유닛의 구조 및 각 부의 위치 관계를 나타내는 측면도이다. 우선 도 1 및 도 3을 참조하면서 초기 박리 유닛(33)의 구조를 설명한다. 초기 박리 유닛(33)은, 테이퍼 스테이지부(32)의 상방에서 X방향으로 연장 설치된 봉형상의 가압 부재(331)를 가지고 있으며, 가압 부재(331)는 지지 아암(332)에 의해 지지되어 있다. 지지 아암(332)은 연직 방향으로 연장 설치되는 가이드 레일(333)을 통하여 기둥 부재(334)에 승강 가능하게 부착되어 있다. 승강 기구(335)의 작동에 의해, 지지 아암(332)이 기둥 부재(334)에 대해 상하 운동한다. 기둥 부재(334)는 메인 프레임(11)에 부착된 베이스부(336)에 의해 지지되고, 기둥 부재(334)의 Y 방향 위치는, 위치 조정 기구(337)에 의해 베이스부(336) 상에서 소정의 범위 내에서 조정 가능하게 되어 있다. 3 is a side view showing the structure of the initial peeling unit and the positional relationship of each part. First, the structure of the initial peeling unit 33 will be described with reference to Figs. 1 and 3. Fig. The initial peeling unit 33 has a bar shaped pressing member 331 extending in the X direction from above the tapered stage portion 32 and the pressing member 331 is supported by a supporting arm 332. [ The support arm 332 is attached to the column member 334 via a guide rail 333 extending vertically so as to be able to move up and down. The supporting arm 332 moves up and down with respect to the pillar member 334 by the operation of the lifting mechanism 335. [ The column member 334 is supported by a base portion 336 attached to the main frame 11 and the position of the column member 334 in the Y direction is fixed on the base portion 336 by a position adjusting mechanism 337 In the range of < / RTI >

수평 스테이지부(31) 및 테이퍼 스테이지부(32)에 의해 구성되는 스테이지(30)에 대해, 박리 대상물인 워크 WK가 올려놓아진다. 상술한 패터닝 공정에 있어서의 워크는 판과 블랭킷이 패턴 형성 재료의 박막을 통하여 밀착된 밀착체이다. 한편, 전사 공정에 있어서의 워크는 기판과 블랭킷이 패터닝된 패턴을 통하여 밀착된 밀착체이다. 이하에서는 전사 공정에 있어서의 기판 SB와 블랭킷 BL의 밀착체를 워크 WK로 한 경우의 박리 장치(1)의 박리 동작에 대해서 설명한다. 판과 블랭킷에 의한 밀착체를 워크로 하는 경우에도 동일한 방법에 의해 박리를 행하는 것이 가능하다. The work WK as an object to be peeled is placed on the stage 30 constituted by the horizontal stage portion 31 and the taper stage portion 32. [ The work in the above-described patterning process is an adherend in which the plate and the blanket are closely contacted through the thin film of the pattern forming material. On the other hand, the work in the transfer process is an adherent body in which the substrate and the blanket are closely contacted through the patterned pattern. Hereinafter, the peeling operation of the peeling apparatus 1 when the work WK is used as the adherend of the substrate SB and the blanket BL in the transfer step will be described. Even in the case of using a workpiece made of a plate and a blanket as a workpiece, peeling can be performed by the same method.

워크 WK에 있어서, 기판 SB보다 블랭킷 BL 쪽이 큰 평면 사이즈를 가지고 있는 것으로 한다. 기판 SB는 블랭킷 BL의 대략 중앙부에 밀착된다. 워크 WK는 블랭킷 BL을 아래, 기판 SB를 위로 하여 스테이지(30)에 올려놓아진다. 이 때, 도 3에 나타내는 바와 같이, 워크 WK 중 기판 SB의 (-Y)측 단부가 수평 스테이지부(31)와 테이퍼 스테이지부(32) 경계의 능선부 E의 대략 상방, 보다 상세하게는 능선부 E보다 미소하게 (-Y)측의 위치가 되도록, 워크 WK가 스테이지(30)에 올려놓아진다. 따라서, (-Y) 방향에 있어서 기판 SB보다 외측의 블랭킷 BL은 테이퍼 스테이지부(32) 상에 밀려나오듯이 배치되어, 블랭킷 BL의 하면과 테이퍼 스테이지부(32)의 상면(320) 사이에는 간극이 생긴다. 블랭킷 BL의 하면과 테이퍼 스테이지부(32)의 상면(320)이 이루는 각 θ는 테이퍼 스테이지부(32)의 테이퍼각과 동일한 몇도(이 실시 형태에서는 2도) 정도이다. In the work WK, it is assumed that the blanket BL has a larger plane size than the substrate SB. The substrate SB is in close contact with the substantially central portion of the blanket BL. The work WK is placed on the stage 30 with the blanket BL below and the substrate SB above. 3, the (-Y) side end portion of the substrate SB in the work WK is positioned substantially above the ridge portion E at the boundary between the horizontal stage portion 31 and the taper stage portion 32, more specifically, The work WK is placed on the stage 30 so as to be located on the (Y) side more finely than the portion E. Therefore, the blanket BL outside the substrate SB in the (-Y) direction is disposed so as to be pushed on the tapered stage portion 32, and a clearance is formed between the lower surface of the blanket BL and the upper surface 320 of the tapered stage portion 32 It happens. The angle? Formed by the lower surface of the blanket BL and the upper surface 320 of the tapered stage portion 32 is about the same as the taper angle of the tapered stage portion 32 (about 2 degrees in this embodiment).

수평 스테이지부(31)에는 흡착홈(311, 312)이 설치되어 있으며, 블랭킷 BL의 하면을 흡착 유지한다. 이 중 흡착홈(311)은 기판 SB의 하부에 닿는 블랭킷 BL의 하면을 흡착하는 한편, 흡착홈(312)은 기판 SB보다 외측의 블랭킷 BL의 하면을 흡착한다. 흡착홈(311, 312)은 서로 독립적으로 흡착을 온·오프할 수 있어, 2종류의 흡착홈(311, 312)을 모두 사용하여 강력하게 블랭킷 BL을 흡착할 수 있다. 한편, 외측의 흡착홈(312) 만을 사용하여 흡착을 행하고, 패턴이 유효하게 형성된 블랭킷 BL의 중앙부에 대해서는 흡착을 행하지 않도록 함으로써, 흡착에 의한 블랭킷 BL의 휨에 기인하는 패턴의 손상을 방지할 수 있다. 이와 같이, 중앙부의 흡착홈(311)과 주연부의 흡착홈(312)으로의 음압 공급을 독립적으로 제어함으로써, 블랭킷 BL의 흡착 유지의 양태를 목적에 따라 전환하는 것이 가능하게 되어 있다. The horizontal stage portion 31 is provided with suction grooves 311 and 312, and adsorbs and holds the lower surface of the blanket BL. The adsorption grooves 311 adsorb the lower surface of the blanket BL contacting the lower portion of the substrate SB, while the adsorption grooves 312 adsorb the lower surface of the blanket BL outside the substrate SB. The adsorption grooves 311 and 312 can independently turn on and off the adsorption, so that the blanket BL can be strongly adsorbed by using both of the two types of adsorption grooves 311 and 312. On the other hand, adsorption is performed using only the outer suction groove 312, and adsorption is not performed on the central portion of the blanket BL in which the pattern is effectively formed, so that damage to the pattern due to the bending of the blanket BL by adsorption can be prevented have. As described above, by independently controlling the supply of the negative pressure to the adsorption grooves 311 in the central portion and the adsorption grooves 312 in the peripheral portion, it is possible to change the mode of adsorption maintenance of the blanket BL according to the purpose.

이와 같이 하여 스테이지(30)에 흡착 유지되는 워크 WK의 상방에, 제1 내지 제N 흡착 유닛(51~5N)과, 롤러 유닛(34)의 박리 롤러(340)가 배치된다. 상술한 바와 같이 제i 흡착 유닛(5i)의 하부에는 복수의 흡착 패드(5i7)가 X방향으로 늘어놓아져 설치되어 있다. 보다 상세하게는, 흡착 패드(5i7)는, 예를 들면 고무나 실리콘 수지 등의 유연성 및 탄성을 가지는 재료에 의해 형성되어 있으며, 하면이 워크 WK의 상면(보다 구체적으로는 기판 SB의 상면)에 맞닿아 워크를 흡착하는 기능을 가지고 있다. 이하에서는 각 흡착 유닛(51, 52, …, 5N)에 설치된 흡착 패드에 각각 부호(517, 527, …, 5N7)를 붙임으로써 서로를 구별하는 것으로 한다. The first to Nth adsorption units 51 to 5N and the peeling roller 340 of the roller unit 34 are disposed above the work WK adsorbed and held on the stage 30 in this way. As described above, a plurality of adsorption pads 5i7 are provided in the lower portion of the i-th adsorption unit 5i by being arrayed in the X-direction. More specifically, the absorption pad 5i7 is formed of a material having flexibility and elasticity such as rubber or silicone resin, and the lower surface of the absorption pad 5i7 is formed on the upper surface of the work WK (more specifically, on the upper surface of the substrate SB) And has a function of sucking the workpiece in contact therewith. In the following description, the reference numerals 517, 527, ..., 5N7 are attached to the adsorption pads provided on the adsorption units 51, 52, ..., 5N to distinguish each other.

제1 흡착 유닛(51)은 수평 스테이지부(31)의 (-Y)측 단부의 상방에 설치되어 있으며, 하강했을 때에 기판 SB의 (-Y)측 단부의 상면을 흡착한다. 한편, 제N 흡착 유닛(5N)은, 스테이지(30)에 올려놓아지는 기판 SB의 (+Y)측 단부의 상방에 설치되며, 하강했을 때에 기판 SB의 (+Y)측 단부의 상면을 흡착한다. 이들 사이에, 제2 흡착 유닛(52) 내지 제(N-1) 흡착 유닛(5(N-1))이 적절히 분산 배치되어, 예를 들면 흡착 패드(517~5N7)가 Y 방향에 있어서 대략 등간격이 되도록 할 수 있다. 또한, 후술하는 바와 같이, 흡착 패드(517~5N7)의 간격은 필요에 따라 불균등하게 해도 된다. 이들 흡착 유닛(51~5N) 사이에서는, 상하 방향으로의 이동 및 흡착의 온·오프를 서로 독립적으로 실행 가능하게 되어 있다. The first adsorption unit 51 is provided above the (-Y) side end portion of the horizontal stage portion 31 and adsorbs the upper surface of the (-Y) side end portion of the substrate SB when it descends. On the other hand, the Nth adsorbing unit 5N is provided above the (+ Y) side end of the substrate SB to be placed on the stage 30 and adsorbs the upper surface of the (+ Y) do. The second adsorption unit 52 to the (N-1) th adsorption unit 5 (N-1) are appropriately dispersed and disposed so that the adsorption pads 517 to 5N7, for example, It can be equally spaced. Further, as will be described later, the intervals of the adsorption pads 517 to 5N7 may be uneven if necessary. In the adsorption units 51 to 5N, the movement in the up-and-down direction and the on-off of adsorption can be performed independently of each other.

박리 롤러(340)는 상하 방향으로 이동하여 기판 SB에 대해 접근·이격 이동함과 함께, Y 방향으로 이동함으로써 기판 SB을 따라 수평 이동한다. 박리 롤러(340)가 하강한 상태에서는, 기판 SB의 상면에 맞닿아 전동하면서 수평 이동한다. 가장 (-Y)측으로 이동했을 때의 박리 롤러(340)의 위치는, 제1 흡착 유닛(51)의 흡착 패드(517)의 (+Y)측의 가장 가까운 위치이다. 이러한 근접 위치로의 배치를 가능하게 하기 위해, 제1 흡착 유닛(51)에 대해서는, 도 2에 나타내는 제i 흡착 유닛(5i)과 동일 구조의 것이, 도 1에 나타내는 바와 같이 다른 제2 내지 제N 흡착 유닛(52~5N)과는 반대 방향으로 하여 지지 프레임(50)에 부착되어 있다. The peeling roller 340 moves up and down to move toward and away from the substrate SB, and horizontally moves along the substrate SB by moving in the Y direction. When the peeling roller 340 is in the lowered state, it contacts the upper surface of the substrate SB and moves horizontally while rolling. The position of the peeling roller 340 when moving toward the most (-Y) side is the closest position to the (+ Y) side of the adsorption pad 517 of the first adsorption unit 51. In order to enable this arrangement to the proximity position, the first adsorption unit 51 has the same structure as that of the i-th adsorption unit 5i shown in Fig. 2, And is attached to the support frame 50 in a direction opposite to that of the N adsorption units 52 to 5N.

초기 박리 유닛(33)은, 테이퍼 스테이지부(32)의 상방으로 돌출된 블랭킷 BL의 상방에 가압 부재(331)가 위치하도록, 그 Y 방향 위치가 조정되어 있다. 그리고, 지지 아암(332)이 하강함으로써, 가압 부재(331)의 하단이 하강하여 블랭킷 BL의 상면을 가압한다. 이 때 가압 부재(331)가 블랭킷 BL을 손상시키지 않도록, 가압 부재(331)의 선단은 탄성 부재에 의해 형성되어 있다. The initial peeling unit 33 is adjusted in its Y-direction position so that the pressing member 331 is positioned above the blanket BL protruding above the tapered stage portion 32. Then, as the support arm 332 descends, the lower end of the pressing member 331 descends to press the upper surface of the blanket BL. At this time, the tip of the pressing member 331 is formed by an elastic member so that the pressing member 331 does not damage the blanket BL.

도 4는 이 박리 장치의 전기적 구성을 나타내는 블럭도이다. 장치 각 부는 제어 유닛(70)에 의해 제어된다. 제어 유닛(70)은, CPU(701)와, 모터 제어부(702)와, 밸브 제어부(703)와, 음압 공급부(704)와, 사용자 인터페이스(UI)부(705)와, 화상 처리부(706)를 구비하고 있다. CPU(701)는 장치 전체의 동작을 담당한다. 모터 제어부(702)는 각 부에 설치된 모터류를 제어한다. 밸브 제어부(703)는 각 부에 설치된 밸브류를 제어한다. 음압 공급부(704)는 각 부에 공급하는 음압을 발생시킨다. UI부(705)는 사용자로부터의 조작 입력을 받아들이거나 장치 상태를 사용자에게 알리는 기능을 가진다. 화상 처리부(706)는 화상 신호에 의거하여 소정의 화상 처리를 실행한다. 또한, 공장용력 등 외부로부터 공급되는 음압을 이용 가능한 경우에는 제어 유닛(70)이 음압 공급부를 구비하지 않아도 된다. 4 is a block diagram showing an electrical configuration of the peeling apparatus. Each part of the apparatus is controlled by the control unit 70. The control unit 70 includes a CPU 701, a motor control unit 702, a valve control unit 703, a sound pressure supply unit 704, a user interface (UI) unit 705, an image processing unit 706, . The CPU 701 takes charge of the entire operation of the apparatus. The motor control unit 702 controls the motors installed in the respective units. The valve control unit 703 controls the valves installed in the respective units. The sound pressure supply unit 704 generates a sound pressure to be supplied to each unit. The UI unit 705 has a function of accepting an operation input from the user or informing the user of the device status. The image processing unit 706 executes predetermined image processing based on the image signal. In addition, when a negative pressure supplied from the outside such as a factory power can be used, the control unit 70 does not need to have a negative pressure supply portion.

모터 제어부(702)는, 스테이지 블록(3)에 설치된 모터(353) 및 승강 기구(335, 344), 상부 흡착 블록(5)의 각 흡착 유닛(51~5N)에 각각 설치된 승강 기구(515~5N5) 등의 모터군을 구동 제어한다. 밸브 제어부(703)는, 음압 공급부(704)로부터 수평 스테이지부(31)에 설치된 흡착홈(311, 312)에 연결되는 배관 경로 상에 설치되며 이들 흡착홈에 대해 소정의 음압을 개별적으로 공급하기 위한 밸브군 V3, 음압 공급부(704)로부터 각 흡착 패드(517~5N7)에 연결되는 배관 경로 상에 설치되며 각 흡착 패드(517~5N7)에 소정의 음압을 공급하기 위한 밸브군 V5 등을 제어한다. The motor control unit 702 controls the motor 353 and the lifting mechanisms 335 and 344 provided in the stage block 3 and the lifting mechanisms 515 to 514 provided in the respective suction units 51 to 5N of the upper suction block 5, 5N5) and the like. The valve control unit 703 is provided on the piping route connected to the suction grooves 311 and 312 provided in the horizontal stage unit 31 from the sound pressure supply unit 704 and supplies a predetermined sound pressure to these suction grooves individually A valve group V3 for supplying a predetermined negative pressure to each of the adsorption pads 517 to 5N7 and a valve group V5 for supplying a predetermined negative pressure to the adsorption pads 517 to 5N7 are provided on a pipe line connected to each of the adsorption pads 517 to 5N7 from a negative pressure supply unit 704 do.

화상 처리부(706)는, 촬상부(347)로부터 출력되는 화상 신호를 수신하고, 소정의 화상 처리를 실행한다. 상세하게는 후술하지만, 화상 처리부(706)는 촬상부(347)에 의해 촬상된 화상으로부터 제i 흡착 유닛의 이미지를 검출한다. The image processing unit 706 receives the image signal output from the image pickup unit 347, and executes predetermined image processing. The image processing unit 706 detects an image of the ith adsorption unit from the image captured by the image pickup unit 347, which will be described later in detail.

다음에, 상기와 같이 구성된 박리 장치(1)의 동작에 대해서 설명한다. 이 박리 장치(1)에 의해 실행되는 박리 동작은, 상술한 특허 문헌 1(일본국 특허공개 2014-189350호 공보)에 기재된 박리 장치에 있어서의 박리 동작과 기본적으로 동일하다. 그래서, 이 박리 장치(1)에 있어서의 박리 동작에 대한 상세한 설명을 생략하고, 여기에서는 박리 동작에 있어서의 각 부의 움직임을 간단하게 설명한다. Next, the operation of the peeling apparatus 1 constructed as described above will be described. The peeling operation performed by the peeling apparatus 1 is basically the same as the peeling operation in the peeling apparatus described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2014-189350). Therefore, the detailed description of the peeling operation in the peeling apparatus 1 will be omitted, and the movement of each section in the peeling operation will be briefly described.

이 박리 장치(1)에 외부로부터 박리 대상물인 워크 WK가 반입되어 스테이지(30)의 소정 위치에 올려놓아지면, 장치 각 부가 도 3에 나타내는 초기 상태에 위치 결정된다. 초기 상태에서는, 워크 WK가 흡착홈(311, 312)의 한쪽 또는 양쪽에 의해 흡착 유지된다. 또 초기 박리 유닛(33)의 가압 부재(331), 롤러 유닛(34)의 박리 롤러(340), 제1 내지 제N 흡착 유닛(51~5N)의 흡착 패드(517~5N7)는 모두 워크 WK로부터 이격하고 있다. 각 흡착 유닛(5i)은, Y 방향으로 주행하는 롤러 유닛(34)과 간섭하는 일이 없도록, 흡착 패드(5i7)와 기판 SB 사이에 충분한 갭을 두고 배치된다. 또 박리 롤러(340)는, 제1 흡착 유닛(51)의 흡착 패드(517)보다 미소하게 (+Y)측에 치우친 위치에서, 워크 WK로부터 이격한 상태에 있다. 이러한 초기 상태로부터 박리 동작이 실행된다. When the work WK as a peeling object is carried from the outside into the peeling apparatus 1 and placed on a predetermined position of the stage 30, the apparatus parts are positioned in the initial state shown in Fig. In the initial state, the work WK is sucked and held by one or both of the suction grooves 311, 312. The pressing member 331 of the initial peeling unit 33, the peeling roller 340 of the roller unit 34 and the adsorption pads 517 to 5N7 of the first to Nth adsorption units 51 to 5N all have the work WK Respectively. Each adsorption unit 5i is disposed with a sufficient gap between the adsorption pad 5i7 and the substrate SB so as not to interfere with the roller unit 34 running in the Y direction. The peeling roller 340 is separated from the work WK at a position slightly shifted from the adsorption pad 517 of the first adsorption unit 51 toward the (+ Y) side. From this initial state, the peeling operation is performed.

도 5a 내지 도 5d는 박리 동작의 과정에 있어서의 각 부의 동작을 나타내는 도이다. 처음에, 제1 흡착 유닛(51)이 하강하고, 흡착 패드(517)가 기판 SB의 (-Y)측 단부 상면에 맞닿아 음압에 의해 기판 SB를 흡착 유지한다. 또, 박리 롤러(340)가 하강하여 기판 SB의 상면에 맞닿는다. 이 상태로부터, 도 5a에 나타내는 바와 같이, 가압 부재(331)가 하강하여 블랭킷 BL의 단부를 눌러 내린다. 블랭킷 BL의 단부는 테이퍼 스테이지부(32)의 상방으로 돌출되어 있어, 그 하면과 테이퍼 스테이지부(32)의 상면(320) 사이에는 간극이 있다. 따라서, 가압 부재(331)가 블랭킷 BL의 단부를 하방으로 가압함으로써, 블랭킷 BL의 단부가 테이퍼 스테이지부(32)의 테이퍼면을 따라 하방으로 굴곡한다. 그 결과, 제1 흡착 유닛(51)에 의해 흡착 유지되는 기판 SB의 단부와 블랭킷 BL 사이가 이격하여 박리가 개시된다.5A to 5D are diagrams showing the operation of each part in the course of the peeling operation. Initially, the first adsorption unit 51 descends, and the adsorption pad 517 comes into contact with the upper surface of the (-Y) side end of the substrate SB to adsorb and hold the substrate SB by the negative pressure. Further, the peeling roller 340 descends and abuts the upper surface of the substrate SB. From this state, as shown in Fig. 5A, the pressing member 331 descends to press down the end of the blanket BL. The end of the blanket BL protrudes upward from the tapered stage portion 32, and there is a clearance between the lower surface of the blanket BL and the upper surface 320 of the tapered stage portion 32. Thus, the pressing member 331 presses the end portion of the blanket BL downward, so that the end portion of the blanket BL bends downward along the tapered surface of the tapered stage portion 32. As a result, the end portion of the substrate SB adsorbed and held by the first adsorption unit 51 is separated from the blanket BL, and separation starts.

계속해서, 도 5b에 나타내는 바와 같이, 제1 흡착 유닛(51)의 상승이 개시됨과 함께, 박리 롤러(340)가 기판 SB 표면에 맞닿아 전동되면서 (+Y) 방향으로 이동한다. 이것에 의해, 기판 SB와 블랭킷 BL의 박리가 (+Y) 방향을 향해 진행된다. 박리 롤러(340)를 맞닿게 하고 있기 때문에, 박리 롤러(340)가 기판 SB에 맞닿는 영역을 넘어, 박리가 진행되는 일은 없다. 박리 롤러(340)를 기판 SB에 맞닿게 하면서 일정 속도로 (+Y) 방향으로 이동시킴으로써, 박리의 진행 속도를 일정하게 유지할 수 있다. Subsequently, as shown in Fig. 5B, the lifting of the first adsorption unit 51 is started, and the peeling roller 340 comes into contact with the surface of the substrate SB and moves in the (+ Y) direction while rolling. As a result, the peeling of the substrate SB and the blanket BL proceeds in the (+ Y) direction. Since the peeling roller 340 is brought into contact with the peeling roller 340, the peeling roller 340 does not extend beyond the region where the peeling roller 340 comes into contact with the substrate SB. By moving the peeling roller 340 in the (+ Y) direction at a constant speed while abutting against the substrate SB, the advancing rate of peeling can be kept constant.

이하에서는, 기판 SB와 블랭킷 BL이 이미 박리된 박리 영역과, 아직 박리되어 있지 않는 미박리 영역의 경계선을 「박리 경계선」이라고 칭하는 것으로 한다. 박리 롤러(340)는 X방향으로 연장되는 롤러 부재이며, 이것이 기판 SB에 맞닿으면서 (+Y) 방향으로 이동한다. 이 때문에, 박리 경계선은 롤러 연장 설치 방향 즉 X방향을 따른 일직선형상으로 유지되며, 또한, 일정 속도로 (+Y) 방향으로 진행된다. 이것에 의해, 박리의 진행 속도의 변동에 의한 응력 집중에 기인하는 패턴의 손상을 확실히 방지할 수 있다. Hereinafter, the boundary between the peeled area where the substrate SB and the blanket BL have already been peeled off and the peeled area that has not yet been peeled off is referred to as " peeling boundary line ". The peeling roller 340 is a roller member extending in the X direction, and moves in the (+ Y) direction while abutting against the substrate SB. Therefore, the peeling boundary line is maintained in a straight line shape along the roller extension installation direction, that is, the X direction, and further proceeds in the (+ Y) direction at a constant speed. This makes it possible to reliably prevent the pattern from being damaged due to the stress concentration due to the fluctuation of the advancing speed of peeling.

박리 롤러(340)가 통과한 후의 기판 SB에 대해, 흡착 유닛(52, 53, …)이 순차적으로 하강하고, 블랭킷 BL로부터 박리한 직후의 기판 SB에 맞닿아 이것을 유지한다. 구체적으로는, 도 5b에 나타내는 바와 같이, 제2 흡착 유닛(52)은, 그 바로 아래 위치를 박리 롤러(340)가 통과하면 하강을 개시하고 기판 SB를 향해 진행된다. 흡착 패드(527)가 기판 SB 상면에 맞닿으면, 음압 공급부(704)로부터 공급되는 음압에 의해, 제2 흡착 유닛(52)에 의한 기판 SB의 흡착 유지가 개시된다. The adsorption units 52, 53, ... descend sequentially in relation to the substrate SB after the peeling roller 340 has passed, and abuts on and holds the substrate SB just after peeling off from the blanket BL. Specifically, as shown in FIG. 5B, when the peeling roller 340 passes the position immediately below the second adsorption unit 52, the second adsorption unit 52 starts to descend and proceeds toward the substrate SB. When the adsorption pad 527 comes into contact with the upper surface of the substrate SB, the adsorption maintenance of the substrate SB by the second adsorption unit 52 is started by the negative pressure supplied from the negative pressure supply unit 704.

도 5c에 나타내는 바와 같이, 제2 흡착 유닛(52)은, 기판 SB의 흡착 유지를 개시하면 상승으로 바뀐다. 그 이후, 기판 SB는, 제1 흡착 유닛(51)과 제2 흡착 유닛(52)에 의해 유지되게 된다. 이것에 의해, 블랭킷 BL로부터의 박리가 진행되는 기판 SB가 보다 확실히 유지되고, 기판 SB가 하향으로 휘어 블랭킷 BL과 재접촉하거나, 흡착 패드(517)로부터 탈락한다는 문제가 방지된다. 또, 박리 경계선 근방에 있어서의 기판 SB와 블랭킷 BL의 각도를 적정하게 유지함으로써, 박리를 양호하게 진행시키는 효과도 얻어진다. As shown in Fig. 5C, the second adsorption unit 52 is changed to an upward state when the adsorption and holding of the substrate SB is started. Thereafter, the substrate SB is held by the first adsorption unit 51 and the second adsorption unit 52. As a result, the substrate SB on which the peeling from the blanket BL proceeds can be more reliably held, and the problem that the substrate SB is curved downward to come into contact with the blanket BL or fall off from the adsorption pad 517 is prevented. In addition, by properly maintaining the angle between the substrate SB and the blanket BL in the vicinity of the peeling boundary line, an effect of satisfactorily advancing the peeling can be obtained.

다른 흡착 유닛(53, 54, …, 5N)도 마찬가지로, 상기 흡착 유닛의 하방을 박리 롤러(340)가 통과하면 하강을 시작하고, 흡착 패드가 기판 SB에 맞닿은 시점에서 흡착 유지를 개시하고 상승함으로써, 기판 SB를 상방으로 끌어올린다. 각 흡착 유닛은 스테이지(30)로부터 소정의 높이까지 상승한 시점에서 정지한다. Likewise, the other adsorption units 53, 54, ..., 5N start falling when the peeling roller 340 passes under the adsorption unit, and start adsorption and rise at the point when the adsorption pad comes into contact with the substrate SB , The substrate SB is lifted upward. Each adsorption unit stops at a point of time from the stage 30 to a predetermined height.

박리 진행 방향의 최하류측, 즉 가장 (+Y)측의 흡착 유닛(5N)이 기판 SB를 유지하며 소정 위치까지 상승함으로써, 도 5d에 나타내는 바와 같이, 기판 SB와 블랭킷 BL이 완전하게 분리되어, 박리가 완료된다. 박리 롤러(340) 및 가압 부재(331)가 기판 SB, 블랭킷 BL 중 어느 쪽으로부터도 이격한 위치에 퇴피함으로써, 서로 분리된 기판 SB와 블랭킷 BL이 반출 가능해진다. 이렇게 하여 박리 동작이 완료된다. The adsorption unit 5N at the most downstream side in the peeling advancing direction, that is, at the most (+ Y) side holds the substrate SB and rises to a predetermined position so that the substrate SB and the blanket BL are completely separated , The peeling is completed. The separation roller 340 and the pressing member 331 are retracted to a position spaced apart from either the substrate SB or the blanket BL so that the separated substrate SB and blanket BL can be taken out. The peeling operation is thus completed.

상기와 같은 박리 동작에 있어서, 흡착 유닛의 설치수나 그 배치에 대해서는, 기판 SB의 종류나 두께, 블랭킷 BL 사이에 형성된 패턴이나 박막의 종류에 따라 변경되는 것이 바람직한 경우가 있다. In the peeling operation as described above, it is preferable that the number of the adsorption units and their arrangement be changed depending on the type and thickness of the substrate SB, and the type of the pattern or thin film formed between the blanket BL.

도 6a 내지 도 6c는 흡착 유닛의 설치 패턴이 상이한 예를 나타내는 도이다. 예를 들면 기판 SB와 블랭킷 BL 사이에 담지되는 패턴의 재료나 형상에 기인하여, 양자 사이의 밀착력이 비교적 약한 경우에는, 도 6a에 나타내는 바와 같이, 박리 후의 기판 SB와 블랭킷 BL이 이루는 각 α를 비교적 작은 값으로 유지하여 박리를 진행시키는 것이 바람직하다. 이러한 목적에 있어서는, 박리에 필요로 하는 인상력도 작기 때문에, Y 방향에 있어서 흡착 유닛을 비교적 큰 간격으로 배치하면 된다. 6A to 6C are views showing examples in which the installation pattern of the adsorption unit is different. For example, when the adhesion between the substrate SB and the blanket BL is relatively weak due to the material or shape of the pattern to be supported therebetween, as shown in Fig. 6A, It is preferable to maintain the peeling at a relatively small value. For this purpose, the attracting force required for peeling is small, so that the adsorption units may be arranged at relatively large intervals in the Y direction.

한편, 예를 들면 기판 SB와 블랭킷 BL의 밀착력이 비교적 강한 경우에는, 도 6b에 나타내는 바와 같이, 박리 후의 기판 SB와 블랭킷 BL이 이루는 각 β를 보다 큰 값으로 유지하여 박리를 진행시키는 것이 바람직하다. 또, 기판 SB를 끌어올리는 힘을 보다 크게 할 필요가 있다. 그렇게 하기 위해서는, Y 방향에 있어서의 흡착 유닛 간의 간격을 보다 작게 할 필요가 있어, 경우에 따라서는 흡착 유닛의 설치수를 증가시킬 필요가 생긴다. On the other hand, for example, when the adhesion between the substrate SB and the blanket BL is relatively strong, it is preferable to keep the angle? Between the substrate SB after peeling and the blanket BL at a larger value to proceed the peeling . In addition, it is necessary to increase the force for pulling up the substrate SB. In order to do so, it is necessary to make the interval between the suction units smaller in the Y direction, and in some cases, it is necessary to increase the number of the suction units installed.

또, 예를 들면 기판 SB의 강성이 높아 휘기 어려운 경우에는, 기판 SB와 블랭킷 BL이 이루는 각을 작게 하면서, 비교적 강한 인상력으로 기판 SB를 끌어올릴 필요가 있다. 이 경우에도, 흡착 유닛의 수를 증가시킬 필요가 생긴다. 예를 들면 이러한 경우에 대응하기 위해, 도 6c에 나타내는 바와 같이 기판 SB의 단부 부근에서 흡착 유닛을 근접 배치하는 등, 흡착 유닛의 간격을 불균등하게 하는 것도 생각할 수 있다. Further, for example, when the rigidity of the substrate SB is high and it is difficult to bend, it is necessary to pull up the substrate SB with a relatively strong pulling force while reducing the angle formed between the substrate SB and the blanket BL. Even in this case, it is necessary to increase the number of adsorption units. For example, in order to cope with such a case, it is also conceivable to make the intervals of the adsorption units unequal, for example, by arranging the adsorption units near the end portions of the substrate SB as shown in Fig. 6C.

이와 같이, 흡착 유닛의 설치수 및 그들의 배치에 대해서는, 목적에 따라 변경할 수 있으면 장치의 이용 범위가 넓어져 편리하다. 그러나, 이것을 가능하게 하기 위해서는 다음과 같은 문제가 생길 수 있다. Thus, the number of the adsorption units to be installed and the arrangement thereof can be changed according to the purpose, so that the range of use of the adsorption unit can be widened, which is convenient. However, in order to make this possible, the following problems may arise.

도 7a 및 도 7b는 롤러 유닛과 흡착 유닛의 위치 관계를 나타내는 도이다. 도 7a에 나타내는 바와 같이, 박리 동작에 있어서 롤러 유닛(34)은 (+Y) 방향으로 일정 속도로 주행한다. 한편, 흡착 유닛(5i)은, 하부에 흡착 패드(5i7)가 설치된 플레이트 부재(5i4)를 Z방향으로 승강시킴으로써, 기판 SB의 유지 및 인상을 행한다. 그 때문에, 이러한 이동 타이밍이 적절히 설정되지 않으면, 양자가 간섭하여 접촉할 우려가 있다. 7A and 7B are diagrams showing the positional relationship between the roller unit and the adsorption unit. As shown in Fig. 7A, in the peeling operation, the roller unit 34 travels in the (+ Y) direction at a constant speed. On the other hand, the adsorption unit 5i holds and lifts the substrate SB by lifting the plate member 5i4 provided with the adsorption pad 5i7 thereon in the Z direction. Therefore, unless such a movement timing is appropriately set, there is a fear that both move into interference with each other.

도 7b에 나타내는 바와 같이, 원칙적으로는 롤러 유닛(34)이 바로 아래 위치를 통과한 후에 플레이트 부재(5i4)가 하강을 개시하면 간섭은 생기지 않는다. 그러나, 기판 SB와 블랭킷 BL이 이루는 각 α를 일정하게 유지하여 박리를 안정적으로 진행시키기 위해서는, 박리 롤러(340)가 통과한 후의 기판 SB를 가능한 한 빨리 흡착 패드(5i7)에 의해 유지하는 것이 바람직하다. 즉, 흡착 패드(5i7)가 하강 개시할 때의 패드 지지 부재(5i6)의 (+Y)측 단면(5i6y)과 박리 롤러(340)가 기판 SB에 맞닿는 위치의 Y 방향에 있어서의 간격 W가 가능한 한 작은 것이 바람직하고, 이 간격 W를 0으로 하는 것이 이상적이다. As shown in Fig. 7B, in principle, no interference occurs when the plate member 5i4 starts to descend after the roller unit 34 has passed the immediately lower position. However, in order to keep the angle alpha between the substrate SB and the blanket BL constant and allow the peeling to proceed stably, it is preferable that the substrate SB after passing the peeling roller 340 is held by the adsorption pad 5i7 as soon as possible Do. That is, the (+ Y) side end face 5i6y of the pad supporting member 5i6 and the interval W in the Y direction of the position where the peeling roller 340 abuts against the substrate SB when the adsorption pad 5i7 starts to fall It is preferable that it is as small as possible, and it is ideal to set this interval W to zero.

종래, 이러한 동작을 실현하기 위한 각 부의 이동 타이밍은, 예를 들면, 주기적으로 출력되는 타이밍 신호와 각 부의 이동 타이밍을 관련 지어 오퍼레이터가 장치에 기억시키는 티칭 작업을 행함으로써 설정된다. 그러나, 상기한 바와 같이 흡착 유닛의 설치 개수가 많은 경우나 배치가 불균등해지는 경우에는 티칭 작업도 번잡해져, 부착 위치의 편차에 대응하는 미세조정까지 포함하면 작업 공정수가 방대해진다. Conventionally, the movement timings of the respective sections for realizing such operations are set by, for example, performing a teaching operation in which the operator associates the timing signals periodically output with the movement timings of the respective sections and stores them in the apparatus. However, as described above, when the number of the suction units is large or the arrangement is uneven, the teaching operation becomes complicated, and if the fine adjustment corresponding to the deviation of the mounting position is also included, the number of working steps becomes enormous.

그래서, 이 실시 형태의 박리 장치(1)는, 롤러 유닛(34)이 주행할 때의 롤러 유닛(34)과 각 흡착 유닛(5i)의 위치 관계를 검출하고, 그 결과에 의거하여 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍을 결정하는 기능을 가지고 있다. 구체적으로는, 롤러 유닛(34)에 촬상부(347)(도 2)가 설치되며, 롤러 유닛(34)의 이동에 수반하여 촬상부(347)가 박리 롤러(340)와 일체적으로 이동하도록 구성된다. 그리고, 롤러 유닛(34)이 흡착 유닛(5i)의 하방을 통과하여, 촬상부(347)가 상방에 위치하는 흡착 유닛(5i)을 촬상함으로써, 롤러 유닛(34)에서 본 각 흡착 유닛(5i)의 위치가 화상 처리에 의해 파악된다. 그 결과에 의거하여, 롤러 유닛(34)의 주행 타이밍을 기준으로 하는 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍이 설정된다. The peeling apparatus 1 of this embodiment detects the positional relationship between the roller unit 34 and each adsorption unit 5i when the roller unit 34 travels, And has a function of determining the movement timing of the moving object 5i. More specifically, the image pickup unit 347 (FIG. 2) is provided in the roller unit 34, and the image pickup unit 347 is moved in unison with the peeling roller 340 in association with the movement of the roller unit 34 . The roller unit 34 passes under the adsorption unit 5i and picks up the adsorption unit 5i located above the image pickup unit 347 so that each adsorption unit 5i viewed from the roller unit 34 Is recognized by image processing. Based on the result, the movement timing of each adsorption unit 5i based on the running timing of the roller unit 34 is set.

도 8a 내지 도 8c는 촬상부에 의한 흡착 유닛의 촬상의 양태를 나타내는 도이다. 도 8a에 나타내는 바와 같이, 촬상부(347)는, 박리 롤러(340)의 대체로 바로 위 위치에서, 촬상 방향이 상향이 되도록 상부 앵글(345)에 고정되어 있다. 따라서, 롤러 유닛(34)이 흡착 유닛(5i)의 바로 아래 위치에 있을 때에 촬상부(347)에 의해 촬상되는 화상 IM에는, 도 8b에 나타내는 바와 같이, 상기 흡착 유닛(5i)의 일부, 예를 들면 패드 지지 부재(5i6)의 이미지가 포함되게 된다. 바꾸어 말하면, 촬상부(347)에 의해 촬상되는 화상 IM에 흡착 유닛(5i)의 이미지가 포함될 때, 롤러 유닛(34)이 상기 흡착 유닛(5i)의 바로 아래 위치에 있는 것을 알 수 있다. 이것으로부터, 롤러 유닛(34)이 그 주행에 있어서 각 흡착 유닛(5i)의 바로 아래 위치를 통과하는 타이밍을 파악할 수 있다. 8A to 8C are diagrams showing an image pickup mode of the absorption unit by the image pickup unit. As shown in Fig. 8A, the image pickup section 347 is fixed to the upper angle 345 so that the image pickup direction is upward at a position substantially right above the peeling roller 340. As shown in Fig. 8B, a part of the adsorption unit 5i, a part of the adsorption unit 5i, and the like are disposed in the image IM captured by the image pickup unit 347 when the roller unit 34 is located immediately below the adsorption unit 5i. The image of the pad supporting member 5i6 is included. In other words, it can be seen that when the image IM of the absorption unit 5i is included in the image IM captured by the image pickup section 347, the roller unit 34 is located directly below the absorption unit 5i. From this, it is possible to grasp the timing at which the roller unit 34 passes through a position immediately below each adsorption unit 5i in its traveling.

촬상부(347)로부터 출력되는 화상 신호는 화상 처리부(706)에 의해 해석된다. 화상 처리부(706)는, 흡착 유닛(5i) 중 롤러 유닛(34)과 간섭할 우려가 있는 부위이며, 롤러 유닛(34)의 주행 방향에 있어서의 최하류측에 위치하는 부위를 화상 IM으로부터 검출한다. 이러한 부위가 롤러 상부를 통과하는 타이밍을 파악해 둠으로써, 롤러 유닛(34)과 흡착 유닛(5i)의 간섭을 확실히 회피하는 것이 가능해지기 때문이다. 이 실시 형태에서는, 패드 지지 부재(5i6)의 (+Y)측 단면(5i6y)이, 상기 부위로서 검출된다. The image signal outputted from the image pickup section 347 is analyzed by the image processing section 706. [ The image processing unit 706 is a part where there is a possibility of interfering with the roller unit 34 among the absorption units 5i and a part located on the most downstream side in the running direction of the roller unit 34 is detected do. This is because it is possible to reliably avoid interference between the roller unit 34 and the adsorption unit 5i by grasping the timing at which such a portion passes over the roller. In this embodiment, the (+ Y) side end 5i6y of the pad supporting member 5i6 is detected as the portion.

도 8c에 나타내는 바와 같이, 화상 IM 내에 기준선 Ls가 설정된다. 기준선 Ls는, 도 7b에 나타내는 간격 W, 즉 패드 지지 부재(5i6)의 (+Y)측 단면(5i6y)과 박리 롤러(340)가 기판 SB에 맞닿는 위치의 간격이 0일 때의, 화상 IM에 있어서의 패드 지지 부재 단면(5i6y)의 위치에 상당한다. 따라서, 화상 IM에 있어서 패드 지지 부재 단면(5i6y)의 위치가 기준선 Ls와 일치할 때, 간격 W가 0이 되어 있다고 할 수 있다. 이것을 이용하여, 롤러 유닛(34)의 주행에 수반하여 간격 W가 0이 되는 타이밍에 흡착 패드(5i7)의 하강을 개시하는 이동 타이밍을, 각 흡착 유닛(5i)에 대해서 정할 수 있다. As shown in Fig. 8C, the reference line Ls is set in the image IM. The reference line Ls is an image IM when the interval W shown in Fig. 7B, that is, the interval between the (Y) side end face 5i6y of the pad supporting member 5i6 and the position where the separation roller 340 abuts against the substrate SB is zero Which corresponds to the position of the end surface 5i6y of the pad supporting member. Therefore, when the position of the pad supporting member end face 5i6y in the image IM coincides with the reference line Ls, it can be said that the interval W is zero. By using this, it is possible to determine the shift timing for starting the descent of the adsorption pad 5i7 with respect to each adsorption unit 5i at the timing when the interval W becomes zero with the running of the roller unit 34. [

보다 구체적으로는, 장치의 가동에 수반하여 주기적으로 발생하는 신호를 이용하여, 각 흡착 유닛(5i)이 촬상부(347)에 의해 촬상되는 타이밍을 주행하는 롤러 유닛(34)의 위치와 관련지을 수 있다. 롤러 유닛(34)을 주행시키는 모터(353)가 예를 들면 스텝 모터와 같은 펄스 모터일 때, 그 모터(353)를 구동하기 위해 모터 제어부(702)로부터 출력되는 구동 펄스의 수를 롤러 유닛(34)의 위치를 나타내는 정보로서 이용할 수 있다. 모터의 회전량이 구동 펄스의 수에 비례하기 때문에, 구동 개시부터의 구동 펄스의 카운트값이 롤러 유닛(34)의 현재 위치를 지표하는 위치 정보가 된다. 따라서, 롤러 유닛(34)의 위치를 지표하는 정보와 흡착 유닛(5i)이 검출된 화상 IM이 촬상된 타이밍을 관련 지어 두면, 롤러 유닛(34)이 각 흡착 유닛(5i)의 바로 아래 위치를 통과하는 타이밍을 개별적으로 파악할 수 있다. More specifically, a signal periodically generated with the operation of the apparatus is used to associate with the position of the roller unit 34 running at the timing at which each absorption unit 5i is picked up by the image pickup section 347 . The number of drive pulses output from the motor control unit 702 for driving the motor 353 is set to be the same as the number of drive pulses output from the roller unit 343 when the motor 353 for driving the roller unit 34 is a pulse motor, 34). Since the rotation amount of the motor is proportional to the number of the drive pulses, the count value of the drive pulse from the start of the drive becomes the position information indicating the current position of the roller unit 34. [ Therefore, if the information indicative of the position of the roller unit 34 and the timing at which the image IM detected by the absorption unit 5i are related to each other, the roller unit 34 can detect the position immediately below each absorption unit 5i It is possible to individually grasp the timing of passing.

이와 같이 롤러 유닛(34)의 위치 및 통과 타이밍을 알고 있으면, 롤러 유닛(34)과 간섭하지 않고, 또한 롤러 통과 후에 지체 없이 기판 SB를 유지하기 위해 필요한 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍을 설정할 수 있다. 위치 정보로서는, 롤러 유닛(34)의 위치를 지표하는 각종의 정보를 이용하는 것이 가능하다. 여기에 예시한 모터 구동 펄스수 이외에, 구동을 개시하고 나서의 시간 계측값이나, 제어 클록의 카운트값과 같이 롤러 유닛(34)의 이동에 수반하여 정기적으로 발생하는 신호의 계측값 등을 이용할 수 있다. 또, 롤러 유닛의 위치를 검출하는 기능을 가지는 검출 수단으로부터의 출력 신호, 예를 들면 포지션 센서나 리니어 엔코더의 출력 신호, 감시 카메라로부터의 화상 신호 등으로부터 위치 정보를 취득하는 것도 가능하다. When the position and the passing timing of the roller unit 34 are known in this way, the movement timing of each adsorption unit 5i necessary to maintain the substrate SB without interfering with the roller unit 34 and without delay after passing through the roller is set . As the position information, various kinds of information indicating the position of the roller unit 34 can be used. In addition to the motor drive pulse numbers exemplified here, measurement values of signals periodically generated by the movement of the roller unit 34, such as the time measurement value after the drive is started and the count value of the control clock, have. It is also possible to obtain positional information from an output signal from a detection means having a function of detecting the position of the roller unit, for example, an output signal of a position sensor or a linear encoder, an image signal from a surveillance camera, or the like.

또한, 각 흡착 유닛(5i)의 기본적인 동작 시퀀스는, The basic operation sequence of each adsorption unit 5i is,

(1) 플레이트 부재(5i4)가 기판 SB를 향해 하강하는, (1) the plate member 5i4 descends toward the substrate SB,

(2) 흡착 패드(5i7)가 기판 SB에 맞닿아 기판 SB를 흡착 유지하면 하강을 중지하는, (2) When the adsorption pad 5i7 comes into contact with the substrate SB to adsorb and hold the substrate SB,

(3) 플레이트 부재(5i4)가 소정 위치까지 상승하는, (3) When the plate member 5i4 rises to a predetermined position,

것과 같은 것이며, 이 시퀀스 자체는 흡착 유닛의 설치수나 설치 위치에 따라 바뀌는 것은 아니다. 상기 (1)의 개시 타이밍이, 흡착 유닛의 설치수나 설치 위치에 따라 변경된다. And the sequence itself does not change depending on the number of the adsorption units or the installation position. The start timing of the above (1) is changed depending on the number of the suction units and the installation position.

이 실시 형태에서는, 각 흡착 유닛(5i)의 플레이트 부재(5i4)가 하강을 개시하는 타이밍이, 모터(353)의 구동 펄스 카운트값에 의해 규정된다. 즉, 롤러 유닛(34)을 구동하는 모터(353)에 부여되는 구동 펄스수가 카운트되어, 구동 개시부터의 카운트값이 규정값에 이르렀을 때에 흡착 유닛(5i)의 플레이트 부재(5i4)가 하강을 개시한다. 이 규정값은, 각 흡착 유닛(5i)에 대해서 개별적으로 설정되며, 또한, 롤러 유닛(34)이 실제로 주행하면서 촬상부(347)가 취득한 화상에 의거하여 자동적으로 설정된다. 그 때문에, 오퍼레이터의 작업 부담이 큰 폭으로 경감되며, 또 흡착 유닛(5i)의 수나 배치에 상관 없이, 동일한 프로세스로 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍을 설정할 수 있다. In this embodiment, the timing at which the plate member 5i4 of each adsorption unit 5i starts to fall is defined by the drive pulse count value of the motor 353. That is, the number of driving pulses applied to the motor 353 for driving the roller unit 34 is counted, and when the count value from the start of driving reaches the specified value, the plate member 5i4 of the suction unit 5i falls . These specified values are set individually for each adsorption unit 5i and are automatically set based on the image acquired by the image pickup unit 347 while the roller unit 34 is actually traveling. Therefore, the operation load of the operator is drastically reduced, and the movement timing of each adsorption unit 5i can be set by the same process regardless of the number or arrangement of the adsorption units 5i.

도 9는 흡착 유닛의 이동 타이밍의 설정 방법을 나타내는 플로차트이다. 또, 도 10a 및 도 10b는 그 원리를 설명하는 도이다. 이 원리에 의거하는 이동 타이밍의 설정 처리는, CPU(701)가 미리 기억된 제어 프로그램을 실행하여 장치 각 부에 소정의 동작을 행하게 함으로써 실행된다. 9 is a flowchart showing a method of setting the movement timing of the suction unit. 10A and 10B are diagrams for explaining the principle thereof. The movement timing setting process based on this principle is executed by causing the CPU 701 to execute a control program stored in advance and to perform predetermined operations on each unit of the apparatus.

이 처리에서는, 처음에 장치 각 부가 초기 상태로 설정된다(단계 S101). 이 때의 초기 상태는, 상기한 박리 동작에 있어서의 초기 상태와는 상이한 상태이다. 이 처리에 있어서의 초기 상태에서는, 도 10a에 나타내는 바와 같이, 스테이지(30)에 워크는 올려놓아지지 않는다. 또, 각 흡착 유닛(5i)의 플레이트 부재(5i4)는 스테이지(30)로부터 상방으로 이격한 위치에 위치 결정되며, 롤러 유닛(34)이 주행해도 간섭하지 않는 상태가 되어 있다. In this process, first, each device is set to the initial state (step S101). The initial state at this time is a state different from the initial state in the above peeling operation. In the initial state in this process, as shown in Fig. 10A, the workpiece is not placed on the stage 30. The plate member 5i4 of each adsorption unit 5i is positioned at a position spaced upward from the stage 30 and does not interfere with the roller unit 34 even when traveling.

또, 롤러 유닛(34)은, 도면에 있어서 점선으로 나타내는 바와 같이, Z방향에 있어서는 박리 롤러(340)가 스테이지(30)에 접촉하지 않는 위치에 위치 결정되는 한편, Y 방향에 있어서는, 롤러 주행 방향인 (+Y) 방향에 있어서 최상류측에 위치하는 제1 흡착 유닛(51)의 흡착 패드(517)보다 상류측, 즉 (-Y)측에 위치 결정된다. The roller unit 34 is positioned at a position where the peeling roller 340 does not contact the stage 30 in the Z direction as shown by a dotted line in the figure, (-Y) side of the adsorption pad 517 of the first adsorption unit 51 located on the most upstream side in the (+ Y) direction, which is the upstream side in the (+ Y) direction.

상기와 같은 초기 상태로부터, 촬상부(347)에 의한 촬상 및 화상 처리부(706)에 의한 화상 처리가 개시된다(단계 S102). 화상 처리부(706)에 의해 실행되는 화상 처리는, 촬상된 화상 IM을 해석하여 패드 지지 부재 단면(5i6y)을 검출하는 처리이다. 예를 들면 공지의 엣지 검출 처리를 이용하여, 화상 IM으로부터 패드 지지 부재 단면(5i6y)에 상당하는 엣지를 검출할 수 있다. From the initial state as described above, the image pickup by the image pickup section 347 and the image processing by the image processing section 706 are started (step S102). The image processing executed by the image processing section 706 is processing for detecting the pad supporting member section 5i6y by analyzing the captured image IM. For example, a known edge detection process can be used to detect an edge corresponding to the pad supporting member end face 5i6y from the image IM.

계속해서, 모터(353)에 구동 펄스가 부여됨으로써 롤러 유닛(34)이 (+Y) 방향으로의 주행을 개시하고, 펄스수의 카운트가 개시된다(단계 S103, S104). 이것에 의해, 펄스 카운트, 촬상부(347)에 의한 촬상 및 화상 처리부(706)에 의한 해석이 계속되면서, 롤러 유닛(34)이 (+Y) 방향으로 주행한다. Subsequently, when the drive pulse is applied to the motor 353, the roller unit 34 starts traveling in the (+ Y) direction and starts counting the number of pulses (steps S103 and S104). This causes the roller unit 34 to travel in the (+ Y) direction while pulse counting, image pickup by the image pickup section 347, and analysis by the image processing section 706 are continued.

촬상부(347)에 의해 수시 촬상되는 화상 IM으로부터 패드 지지 부재 단면(5i6y)에 상당하는 엣지가 검출되면(단계 S105에 있어서 YES), 그 때의 펄스 카운트값이 기억된다(단계 S106). 엣지가 검출되지 않으면 단계 S106은 스킵된다. When an edge corresponding to the pad supporting member end face 5i6y is detected from the image IM picked up by the imaging section 347 at the time (YES in step S105), the pulse count value at that time is stored (step S106). If no edge is detected, step S106 is skipped.

또한, 구해야 할 펄스 카운트값은, 패드 지지 부재 단면(5i6y)이 기준선 Ls와 일치할 때의 값이다. 그러나, 흡착 유닛(5i)의 배치 및 촬상부(347)가 화상을 도입하는 타이밍에 따라서는, 도 10b에 나타내는 바와 같이, 화상 IM에 있어서 검출되는 패드 지지 부재 단면(5i6y)의 위치가 기준선 Ls와 일치하지 않는 경우가 있을 수 있다. 이러한 경우에는, 화상 IM으로부터 Y 방향에 있어서의 패드 지지 부재 단면(5i6y)과 기준선 Ls의 위치의 차분 Δy가 산출된다. 1펄스당 롤러 유닛(34)의 이동량은 이미 알고 있기 때문에, 그 값과 차분 Δy에 의거하여 패드 지지 부재 단면(5i6y)이 기준선 Ls에 도달할 때의 펄스 카운트값을 산출하는 것이 가능하다. 단계 S106에서는, 이와 같이 하여 산출된 펄스 카운트값이 기억된다. The pulse count value to be obtained is a value when the pad supporting member end face 5i6y coincides with the reference line Ls. However, depending on the arrangement of the suction unit 5i and the timing at which the image pickup section 347 introduces the image, the position of the pad support member end face 5i6y detected in the image IM is set to be the reference line Ls May be inconsistent with < / RTI > In this case, the difference? Y between the position of the pad supporting member end face 5i6y and the reference line Ls in the Y direction from the image IM is calculated. Since the amount of movement of the roller unit 34 per pulse is already known, it is possible to calculate the pulse count value when the pad supporting member end face 5i6y reaches the reference line Ls based on the value and the difference? Y. In step S106, the pulse count value thus calculated is stored.

롤러 유닛(34)이 그 가동 범위에 있어서 가장 (+Y)측의 종료 위치에 도달할 때까지(단계 S107에 있어서 YES), 롤러 유닛(34)의 주행 및 화상 IM에 있어서의 엣지 검출이 계속된다. 이것에 의해, 모든 흡착 유닛(51, 52, 53, 54, 55, …)의 각각에 대해서, 롤러 유닛(34)이 상기 흡착 유닛(5i)의 바로 아래 위치를 통과할 때의 펄스 카운트값(c1, c2, c3, c4, c5, …)이 구해진다. 도면에 나타내는 바와 같이, 흡착 유닛(5i)의 배치가 불균등할 때, 계측되는 펄스 카운트값도 불규칙해진다. The running of the roller unit 34 and the edge detection in the image IM continue until the roller unit 34 reaches the end position on the most (+ Y) side in the movable range (YES in step S107) do. The pulse count value when the roller unit 34 passes the position immediately below the adsorption unit 5i is obtained for each of the adsorption units 51, 52, 53, 54, 55, c1, c2, c3, c4, c5, ...) are obtained. As shown in the figure, when the arrangement of the adsorption units 5i is uneven, the pulse count value to be measured becomes irregular.

롤러 유닛(34)이 종료 위치에 도달하면, 롤러 유닛(34)의 이동 및 촬상부(347)에 의한 촬상이 정지된다(단계 S108). 그리고, 기억되어 있는 각 흡착 유닛(51, 52, …)에 대응하는 펄스 카운트값(c1, c2, …)에 의거하여, 각 흡착 유닛(51, 52, …)의 동작 타이밍이 결정된다(단계 S109). 구체적으로는, 흡착 유닛(5i) 마다, 상기 흡착 유닛(5i)의 플레이트 부재(5i4)가 하강을 개시해야 할 때에 대응하는 펄스 카운트값의 규정값이 결정된다. When the roller unit 34 reaches the end position, the movement of the roller unit 34 and the image pickup by the image pickup unit 347 are stopped (step S108). The operation timing of each adsorption unit 51, 52, ... is determined based on the pulse count values c1, c2, ... corresponding to the stored adsorption units 51, 52, S109). Specifically, the specified value of the pulse count value corresponding to the time when the plate member 5i4 of the adsorption unit 5i starts to descend is determined for each adsorption unit 5i.

일반적으로는, 롤러 유닛(34)의 주행 개시부터 기산한 펄스 카운트값이 먼저 기억된 카운트값(c1, c2, …)이 되었을 때에 각 흡착 유닛(51, 52, …)이 동작 개시하도록 하면 된다. 단, 플레이트 부재(5i4)가 하강하기 시작하고 나서 롤러 유닛(34)으로의 간섭이 발생하기까지 1 펄스분 이상의 시간차가 있는 경우에는, 그에 대응하는 카운트값을 오프셋값으로서 더해도 된다. 또, 펄스 발생의 타이밍과 플레이트 부재(5i4)의 하강을 개시하는 타이밍 사이에 적절한 시간차를 주어도 된다. 이와 같이 하여, 각 흡착 유닛(5i)의 동작 타이밍이 결정된다. In general, when the pulse count value calculated from the start of running of the roller unit 34 becomes the previously stored count value c1, c2, ..., the adsorption units 51, 52, . However, if there is a time difference of one pulse or more before interference of the roller unit 34 occurs after the plate member 5i4 begins to descend, the corresponding count value may be added as an offset value. It is also possible to give an appropriate time difference between the timing of the pulse generation and the timing of starting the fall of the plate member 5i4. Thus, the operation timing of each adsorption unit 5i is determined.

이후에 실행되는 박리 동작에 있어서는, 롤러 유닛(34)을 주행시키는 구동 펄스가 카운트되고, 카운트값이 상기에서 구해진 규정값이 될 때마다 각 흡착 유닛(51, 52, …)이 순차적으로 작동하여, 플레이트 부재(5i4)의 하강이 개시된다. 이것에 의해, 박리 롤러(340)가 통과하여 블랭킷 BL로부터 이격한 직후의 기판 SB에 대해 흡착 패드(5i7)가 맞닿아 기판 SB를 유지할 수 있다. In the peeling operation to be performed thereafter, the driving pulses for driving the roller unit 34 are counted, and each time the adsorption units 51, 52, ... are operated sequentially each time the count value becomes the specified value obtained above , The lowering of the plate member 5i4 is started. As a result, the adsorption pad 5i7 abuts on the substrate SB immediately after the peeling roller 340 has passed and is separated from the blanket BL, so that the substrate SB can be held.

이상과 같이, 이 실시 형태는, 서로 밀착하여 워크 WK를 이루는 블랭킷 BL과 기판 SB를 박리시키는 박리 장치(1)이다. 이 박리 장치(1)에 있어서, 스테이지(30)가 블랭킷 BL을 흡착 유지한다. 그리고, Y 방향으로 복수 배열된 흡착 유닛(5i)이 순차적으로 기판 SB에 맞닿아 이것을 유지하고, 블랭킷 BL로부터 이격하는 방향으로 이동한다. 이것에 의해, 기판 SB의 한쪽 끝으로부터 다른쪽 끝을 향해 블랭킷 BL과의 사이에서의 박리가 진행된다. 이 때, 박리 롤러(340)가, 기판 SB에 맞닿으면서 박리의 진행 방향을 따라 일정 속도로 주행한다. 이것에 의해, 박리를 한방향으로 또한 일정 속도로 진행시킬 수 있어, 패턴 등의 손괴를 방지하면서 양호하게 박리를 진행시킬 수 있다. As described above, this embodiment is a peeling apparatus 1 for peeling the substrate SB and the blanket BL which are in close contact with each other to form the work WK. In the peeling apparatus 1, the stage 30 adsorbs and holds the blanket BL. Then, a plurality of absorption units 5i arranged in the Y direction are sequentially abutted against the substrate SB, and the absorption units 5i move in the direction away from the blanket BL. As a result, the separation between the substrate SB and the blanket BL proceeds from one end to the other end. At this time, the peeling roller 340 runs at a constant speed along the advancing direction of peeling while abutting against the substrate SB. As a result, the peeling can proceed in one direction at a constant speed, and the peeling can be progressed satisfactorily while preventing damage to the pattern or the like.

흡착 유닛(5i)은, 박리 롤러(340)가 주행할 때에는 이것과 간섭하지 않고, 또한 박리 롤러(340)의 통과 후에는 신속하게 기판 SB를 유지하는 것이 요구된다. 이 실시 형태에서는, 박리 롤러(340)가 실제로 주행하여 그 과정에서 각 흡착 유닛(5i)을 촬상부(347)가 촬상하고, 그 화상으로부터, 박리 롤러(340)에서 본 각 흡착 유닛(5i)의 위치가 파악된다. 그리고, 그 결과에 의거하여, 각 흡착 유닛(5i)이 작동하는 타이밍이 박리 롤러(340)의 위치 정보와 관련 지어 결정된다. 이 때문에, 흡착 유닛(5i)의 수나 배치에 상관 없이 동일한 프로세스를 이용하여 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍을 최적화할 수 있다. 그 결과, 조정 작업을 행하는 오퍼레이터의 부담을 크게 경감할 수 있으며, 또 인적 실수에 기인하는 트러블을 미연에 방지할 수 있다. The suction unit 5i is required not to interfere with the peeling roller 340 when the peeling roller 340 runs and to quickly hold the substrate SB after the peeling roller 340 has passed. In this embodiment, the peeling roller 340 actually travels, and the pickup unit 347 picks up the respective absorption units 5i in the course of the pickup. From each of the pickup units 347, the respective absorption units 5i viewed from the separation roller 340, The position of the robot is grasped. Then, based on the result, the timing at which each adsorption unit 5i operates is determined in association with the positional information of the peeling roller 340. [ Therefore, the movement timing of each adsorption unit 5i can be optimized by using the same process irrespective of the number or arrangement of the adsorption units 5i. As a result, it is possible to greatly reduce the burden on the operator who performs the adjustment work, and to prevent troubles caused by human error.

또한, 본 발명은 상기한 실시 형태에 한정되는 것이 아니며, 그 취지를 일탈하지 않는 한에 있어서 상술한 것 이외에 다양한 변경을 행하는 것이 가능하다. 예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 롤러 유닛(34)의 주행과 각 흡착 유닛(5i)의 위치를 관련짓기 위해, 촬상 기능을 가지는 예를 들면 CCD 카메라로 이루어지는 촬상부(347)가 이용되어 있다. 그러나, 흡착 유닛(5i)의 위치를 검출하는 수단으로서는 이러한 촬상 기능을 가지는 것에 한정되지 않는다. Further, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes can be made in addition to the above-described one as long as the gist of the present invention is not deviated. For example, in the above embodiment, an image pickup section 347 made of, for example, a CCD camera having an image pickup function is used to associate the running of the roller unit 34 with the position of each absorption unit 5i . However, the means for detecting the position of the absorption unit 5i is not limited to those having this imaging function.

예를 들면, 롤러 유닛(34) 및 각 흡착 유닛(5i)의 한쪽에 투광기, 다른쪽에 수광기를 설치하고, 투광기로부터의 광이 수광기에 수광되는 타이밍으로부터 흡착 유닛(5i)의 위치를 검출하도록 해도 된다. 또, 포토 인터럽터를 이용하여, 롤러 유닛(34)이 흡착 유닛(5i)의 바로 아래 위치를 통과할 때에 광이 차폐되는(또는 차폐가 해제되는) 구성이어도 된다. 또, 이러한 광학적 수법에 의한 검출에 한정되지 않으며, 예를 들면 마이크로 스위치를 이용한 기계적인 검출 방법이나, 자기 센서를 이용한 전자기적인 검출 방법이어도 된다. For example, a light emitter is provided on one side of the roller unit 34 and each absorption unit 5i, and a light receiver on the other side, and the position of the absorption unit 5i is detected from the timing at which light from the light emitter is received by the light receiver . Also, the photo interrupter may be used to shield the light when the roller unit 34 passes the position immediately below the absorption unit 5i (or the shielding is released). Further, the present invention is not limited to detection by such an optical technique, and for example, it may be a mechanical detection method using a micro switch or an electromagnetic detection method using a magnetic sensor.

또 예를 들면, 상기 실시 형태의 이동 타이밍 설정 처리에서는, 제1 흡착 유닛(51)보다 (-Y)측의 위치로부터 롤러 유닛(34)의 주행이 개시된다. 이것은 다른 흡착 유닛과 마찬가지로, 제1 흡착 유닛(51)의 위치에 대해서도 롤러 유닛(34)의 구동 펄스수와 관련 지어 기억하기 위해서이다. 그러나, 제1 흡착 유닛(51)은 기판 SB의 (-Y)측 단부를 유지하는 것이며, 그 위치는 흡착 유닛의 설치수나 배치에 영향을 받지 않는다. 이것으로부터, 제1 흡착 유닛(51)의 위치에 대해서는 이미 알고 있는 것으로 하고, 제2 흡착 유닛(52) 이후의 각 흡착 유닛의 위치를 롤러 유닛(34)의 주행에 의해 파악하는 구성이어도 된다. 이 때, 롤러 유닛(34)의 주행 개시 위치는, Y 방향에 있어서 제1 흡착 유닛(51)과 제2 흡착 유닛(52) 사이의 위치, 예를 들면 도 3에 나타낸 박리 동작에 있어서의 초기 위치와 동일하게 하는 것이 가능하다. For example, in the movement timing setting processing of the above-described embodiment, the running of the roller unit 34 is started from the position on the (-Y) side of the first adsorption unit 51. This is because the position of the first adsorption unit 51 is stored in association with the number of drive pulses of the roller unit 34, as in the other adsorption units. However, the first adsorption unit 51 retains the (-Y) -side end of the substrate SB, and its position is not affected by the number or arrangement of the adsorption units. The position of the first adsorption unit 51 may be already known and the position of each adsorption unit after the second adsorption unit 52 may be grasped by running the roller unit 34. [ At this time, the running start position of the roller unit 34 is set to a position between the first suction unit 51 and the second suction unit 52 in the Y direction, for example, the initial position in the peeling operation shown in Fig. 3 It is possible to make it the same as the position.

또 예를 들면, 상기 실시 형태에서는 롤러 유닛(34)의 상부 앵글(345)에 촬상부(347)가 부착되어 있지만, 상기한 바와 같이, 촬상부(347)는, 박리 동작에 앞서 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍을 결정하기 위해 이용되는 것이며, 박리 동작에 있어서는 특별한 기능을 가지고 있지 않다. 이것으로부터, 촬상부를 롤러 유닛에 대해 착탈 가능한 구성으로 하고, 각 흡착 유닛(5i)의 이동 타이밍이 결정된 후에는 롤러 유닛으로부터 분리되어도 된다. 예를 들면 공장 출하 후에 흡착 유닛(5i)의 수나 배치가 변경되는 일이 없는 제품에 있어서는, 조정 후에 촬상부를 분리한 상태로 장치가 출하되는 양태여도 된다. 또한, 박리 동작에 있어서의 각 부의 동작을 감시하기 위해, 촬상부가 이용되어도 된다. For example, in the above-described embodiment, the image pickup section 347 is attached to the upper angle 345 of the roller unit 34. However, as described above, the image pickup section 347, (5i), and does not have a special function in the peeling operation. From this, the image pickup unit can be detachable from the roller unit and separated from the roller unit after the movement timing of each absorption unit 5i is determined. For example, in a product in which the number or arrangement of the adsorption units 5i is not changed after factory shipment, the apparatus may be shipped in a state in which the imaging unit is detached after adjustment. Further, an imaging section may be used to monitor the operation of each section in the peeling operation.

또 예를 들면, 상기 실시 형태에서는 스테이지(30)에 격자형상의 흡착홈(311, 312)을 설치하여 블랭킷 BL을 흡착 유지하고 있지만, 흡착홈의 형상은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면 환상의 흡착홈을 설치해도 되고, 또 음압이 공급되는 흡착구멍을 적절히 배치하여 블랭킷을 흡착해도 된다. Further, for example, in the above-described embodiment, lattice-shaped suction grooves 311 and 312 are provided on the stage 30 to hold and hold the blanket BL, but the shape of the suction grooves is not limited to this. For example, annular adsorption grooves may be provided, or adsorption holes to which negative pressure is supplied may be suitably arranged to adsorb the blanket.

또, 상기 실시 형태에서는, 박리 후의 기판 SB의 자세를 평면에 가까운 상태로 유지하도록 각 흡착 유닛(51~5N)의 상승이 제어되어 기판 SB에 가해지는 스트레스가 저감되어 있지만, 기판 SB의 인상의 양태는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 박리 후의 기판이 대략 수평이 되도록 각 흡착 유닛을 일정 높이로 정지시키거나, 혹은 기판이 소정의 곡율을 가지며 만곡하는 자세로 유지하도록 해도 된다. 이들은 각 흡착 유닛의 상승의 양태를 제어함으로써 자유롭게 설정 가능하다. In the above embodiment, the lift of each of the absorption units 51 to 5N is controlled so as to keep the attitude of the substrate SB after peeling close to the plane, and the stress applied to the substrate SB is reduced. However, The mode is not limited to this. For example, the adsorption units may be stopped at a constant height so that the substrate after peeling is substantially horizontal, or the substrate may be maintained in a posture with a predetermined curvature. These are freely settable by controlling the manner of rise of each adsorption unit.

또, 상기 실시 형태에서는 진공 흡착에 의해 기판 및 블랭킷을 유지하고 있지만, 유지의 양태는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면 정전적 또는 자기적인 흡착력에 의해 흡착 유지하는 것이어도 된다. 특히, 처음에 기판 SB를 유지하는 제1 흡착 유닛(51)에 대해서는, 흡착에 상관 없이, 기판 주연부를 기계적으로 파지함으로써 유지해도 된다. In the above embodiment, the substrate and the blanket are held by vacuum adsorption, but the aspect of the holding is not limited to this. For example, it may be adsorbed and held by an electrostatic or magnetic attraction force. In particular, the first suction unit 51 for holding the substrate SB at first may be held by mechanically grasping the periphery of the substrate irrespective of adsorption.

또, 상기 실시 형태에서는 테이퍼 스테이지부(32)에 블랭킷 BL을 돌출시켜 유지하고, 가압 부재(331)에 의해 블랭킷 BL을 굴곡시켜 박리의 시작부를 만들고 있다. 그러나, 이와 같이 하는 것은 필수의 요건이 아니며, 예를 들면 제1 흡착 유닛(51)의 인상 만으로 박리를 개시시키도록 해도 된다. 이 경우, 스테이지에 테이퍼를 설치할 필요는 없어진다. In the above embodiment, the blanket BL is held by protruding from the taper stage portion 32, and the blanket BL is bent by the pressing member 331 to form the beginning of peeling. However, this is not an essential requirement, and for example, peeling may be started only by pulling up the first adsorption unit 51. In this case, it is not necessary to provide a taper on the stage.

이상 설명한 바와 같이, 이 실시 형태에 있어서는, 블랭킷 BL 및 기판 SB가 각각 본 발명의 「제1 판상체」 및 「제2 판상체」에 상당하고 있으며, 이들이 패턴 등을 통하여 일체화된 워크 WK가, 본 발명의 「밀착체」에 상당하고 있다. 또, 이 실시 형태에서는, (+Y) 방향이 본 발명의 「박리 방향」에 상당하고 있다. As described above, in this embodiment, the blanket BL and the substrate SB correspond to the "first plate material" and the "second plate material" of the present invention, respectively, and the work WK, Quot; adherend " of the present invention. In this embodiment, the (+ Y) direction corresponds to the "peeling direction" of the present invention.

또, 상기 실시 형태에서는, 스테이지(30)가 본 발명의 「유지 수단」으로서 기능한다. 또, 복수의 흡착 유닛(5i)이 각각 본 발명의 「박리 수단」으로서 기능하고 있다. 보다 구체적으로는, 흡착 유닛(5i) 중, 플레이트 부재(5i4) 및 흡착 패드(5i7)를 포함하는 가동부가 「박리 수단」에 상당한다. 또, 박리 롤러(340)가, 본 발명의 「접촉 부재」로서 기능하고 있다. 그리고, 롤러 유닛(34)을 구동하는 모터(353)에 부여되는 구동 펄스수가, 본 발명의 「위치 정보」에 상당하고 있다. 또, 상기 실시 형태에서는, 촬상부(347)가 본 발명의 「검출 수단」 및 「촬상 수단」으로서 기능하고 있다. In the above embodiment, the stage 30 functions as the "holding means" of the present invention. The plurality of adsorption units 5i each function as the "peeling means" of the present invention. More specifically, among the adsorption units 5i, the movable part including the plate member 5i4 and the adsorption pad 5i7 corresponds to " peeling means ". Further, the peeling roller 340 functions as a " contact member " of the present invention. The number of drive pulses applied to the motor 353 for driving the roller unit 34 corresponds to " position information " of the present invention. In the above-described embodiment, the imaging section 347 functions as the "detection means" and the "imaging means" of the present invention.

이상, 구체적인 실시 형태를 예시하며 설명해 온 바와 같이, 본 발명은, 예를 들면, 접촉 부재와 일체적으로 박리 방향으로 이동하여 박리 수단을 검출하는 검출 수단이 설치되고, 검출 수단의 검출 결과와 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 박리 수단 각각의 이동 타이밍이 설정되는 구성이어도 된다. 이와 같이 접촉 부재와 일체적으로 이동하는 검출 수단에 의해 박리 수단을 검출함으로써, 접촉 부재의 이동과 박리 수단의 위치를 실기에 입각해서 적확하게 파악하는 것이 가능해진다. As has been described and illustrated in the foregoing specific embodiments, the present invention provides, for example, detection means for detecting the peeling means by moving in the peeling direction integrally with the contact member, And the movement timing of each of the peeling means is set based on the correspondence relationship of the information. Thus, by detecting the peeling means by the detecting means moving integrally with the contact member, it becomes possible to grasp accurately the movement of the contact member and the position of the peeling means based on the actual use.

이 경우, 예를 들면, 검출 수단은 박리 수단을 촬상하는 촬상 기능을 가지며, 촬상되는 화상에 의거하여 접촉 부재가 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍이 검출되는 구성이어도 된다. 이러한 구성에서는, 화상으로서 촬상된 박리 수단이 검출됨으로써, 다른 부재를 오검출하는 것이 방지된다. In this case, for example, the detecting means may have an image pickup function for picking up the peeling means, and the timing at which the contact member passes the position opposite to the peeling means may be detected based on the image to be picked up. In such a configuration, by detecting the peeling means taken as an image, it is prevented from erroneously detecting another member.

또 예를 들면, 이동 타이밍의 설정은, 밀착체를 유지하고 있지 않는 유지 수단에 대해 박리 수단이 배열된 상태로, 접촉 부재가 박리 방향으로 이동하고, 검출 수단이 박리 수단을 검출한 결과에 의거하여 행해져도 된다. 본 발명에 의한 박리 수단의 이동 타이밍의 설정에서는, 밀착체가 유지 수단에 유지되어 있는 것을 필요로 하지 않는다. For example, in the setting of the movement timing, the contact member is moved in the peeling direction with the peeling means arranged with respect to the holding means that does not hold the adherend, and the detection means detects the peeling means . In the setting of the movement timing of the peeling means according to the present invention, it is not necessary that the adherend is held by the holding means.

또 예를 들면, 위치 정보로서는, 접촉 부재의 이동에 수반하여 정기적으로 발생하는 신호를 계측함으로써 얻어지는 각종의 정보를 이용할 수 있다. 장치 내에서는 각종의 정기적 신호가 발생하고 있으며, 이것을 계측값에 의해, 접촉 부재의 위치를 적절히 지표하는 것이 가능하다. 예를 들면, 접촉 부재를 박리 방향으로 이동시키는 펄스 모터의 구동 펄스수를 위치 정보로서 이용하는 것이 가능하다. 접촉 부재의 이동량은 이것을 구동하는 펄스 모터에 부여되는 구동 펄스수에 비례하기 때문에, 구동 펄스수의 계측값에 의해, 접촉 부재의 위치를 높은 정밀도로 나타내는 것이 가능하다. For example, as the positional information, various kinds of information obtained by measuring a signal periodically generated by the movement of the contact member can be used. Various kinds of periodic signals are generated in the apparatus, and the position of the contact member can be appropriately indicated by the measured value. For example, the number of drive pulses of the pulse motor for moving the contact member in the peeling direction can be used as the position information. Since the amount of movement of the contact member is proportional to the number of drive pulses applied to the pulse motor for driving the contact member, the position of the contact member can be represented with high accuracy by the measured value of the number of drive pulses.

또 예를 들면, 유지 수단이 제2 판상체를 상측으로 한 수평 자세로 밀착체를 유지하고, 박리 수단이 밀착체의 상방에 배열되어도 된다. 이러한 양태에서는, 제1 판상체가 수평 자세로 유지된 상태로 제2 판상체가 상방으로 끌어 올려짐으로써 박리가 진행된다. 이것은 제1 판상체를 가장 안정인 자세로 유지할 수 있는 양태이며, 제2 판상체를 이격시킬 때에 제1 판상체가 이것에 추종하여 박리가 실패하는 것을 방지할 수 있다. Further, for example, the holding means may hold the adherend in a horizontal posture with the second plate-like object as the upper side, and the peeling means may be arranged above the adherend. In this embodiment, the second plate-like body is pulled upward in a state in which the first plate-like body is held in the horizontal posture, thereby the peeling progresses. This is an aspect in which the first plate material can be held in the most stable posture, and when the second plate material is separated from the first plate material, peeling failure can be prevented from occurring following the first plate material.

이 발명은, 2장의 판상체를 밀착시켜 패턴 등을 전사시키는 패턴 형성 처리에 있어서의 박리 프로세스에 적용할 수 있는 것 외에, 이러한 패턴 전사를 수반하는 것에 한정되지 않고, 직접 또는 박층을 통하여 서로 밀착된 2장의 판상체를 양호하게 박리하는 다양한 목적에 대해 적절히 적용 가능하다. The present invention can be applied to a peeling process in a pattern forming process in which two sheets of plates are brought into close contact with each other to transfer a pattern or the like and is not limited to the one involving such pattern transfer, It can be suitably applied to various purposes for satisfactorily separating the two platelets.

1 박리 장치 30 스테이지(유지 수단)
51~5N 흡착 유닛(박리 수단) 34 롤러 유닛
340 박리 롤러(접촉 부재) 347 촬상부(검출 수단, 촬상 수단)
353 모터 (펄스 모터) 5i4(i=1, 2, …, N) 플레이트 부재
5i6(i=1, 2, …, N) 패드 유지 부재 5i7(i=1, 2, …, N) 흡착 패드
BL 블랭킷(제1 판상체) SB 기판(제2 판상체)
WK 워크(밀착체) 1 peeling apparatus 30 stage (holding means)
51 to 5N adsorption unit (peeling means) 34 roller unit
340 peeling roller (contact member) 347 image pickup section (detection means, image pickup means)
353 motor (pulse motor) 5i4 (i = 1, 2, ..., N)
5i6 (i = 1, 2, ..., N) pad holding member 5i7 (i = 1, 2, ..., N)
BL blanket (first plate member) SB substrate (second plate member)
WK work (close contact)

Claims (12)

제1 판상체와 제2 판상체가 직접 또는 박층을 통하여 밀착된 밀착체를 박리시키는 박리 방법에 있어서,
유지 수단이 상기 제1 판상체를 유지함으로써 상기 밀착체를 유지하고, 상기 제2 판상체에 부분적으로 맞닿아 상기 제2 판상체를 유지하는 기능을 각각이 가지는 복수의 박리 수단이, 상기 제2 판상체의 표면과 평행한 박리 방향을 따라, 또한 상기 제2 판상체의 표면과 상기 박리 수단 사이에 갭을 두고 배열되는 배치 공정과,
접촉 부재가, 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서 상기 박리 수단과의 갭 공간을 상기 박리 방향으로 이동시키고, 상기 박리 수단의 각각이 상기 박리 방향을 따라 순서대로, 상기 제2 판상체를 향해 이동하여 상기 접촉 부재 통과 후의 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿은 후, 상기 제2 판상체를 유지하면서 상기 제1 판상체에 대해 이격 방향으로 이동하여, 상기 제2 판상체를 상기 제1 판상체로부터 이격시키는 박리 공정을 구비하고,
상기 박리 수단 각각의 이동 타이밍이, 미리 상기 접촉 부재를 상기 박리 방향으로 이동시켜 취득된, 상기 접촉 부재가 상기 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍과, 상기 접촉 부재의 상기 박리 방향에 있어서의 위치를 나타내는 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 설정되어 있으며,
상기 접촉 부재와 일체적으로 상기 박리 방향으로 이동하여 상기 박리 수단을 검출하는 검출 수단이 설치되며, 상기 검출 수단의 검출 결과와 상기 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 상기 박리 수단 각각의 이동 타이밍이 설정되는, 박리 방법. A peeling method for peeling off an adhering body in which a first plate body and a second plate body are brought into close contact with each other directly or through a thin layer,
A plurality of peeling means each having a function of holding the adherend by holding the first plate material and holding the second plate material by partially abutting on the second plate material, A disposing step of disposing the second plate-shaped member along a peeling direction parallel to the surface of the plate-shaped member and with a gap between the surface of the second plate-
The contact member is brought into contact with the surface of the second plate member to move the gap space with the peeling means in the peeling direction and each of the peeling means sequentially forms the second plate- And moves in a direction away from the first plate-like body while holding the second plate-like body, the second plate-like body is moved in a direction away from the first plate- And a peeling step of peeling off from the upper body,
Wherein the movement timing of each of the peeling means is determined such that the timing at which the contact member passes the position opposite to the peeling means and which is acquired by moving the contact member in the peeling direction in advance, Position information indicating the position of the vehicle,
Wherein the detecting means detects the peeling means by moving in the peeling direction integrally with the contact member and sets the moving timing of each of the peeling means on the basis of the correspondence between the detection result of the detecting means and the position information Lt; / RTI > 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 검출 수단은 상기 박리 수단을 촬상하는 촬상 기능을 가지며, 촬상되는 화상에 의거하여 상기 접촉 부재가 상기 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍이 검출되는, 박리 방법. The method according to claim 1,
Wherein the detection means has an image pickup function for picking up the peeling means and the timing at which the contact member passes the position opposite to the peeling means is detected based on the image to be picked up. 청구항 1에 있어서,
상기 밀착체를 유지하고 있지 않는 상기 유지 수단에 대해 상기 박리 수단이 배열된 상태로, 상기 접촉 부재가 상기 박리 방향으로 이동하여, 상기 검출 수단이 상기 박리 수단을 검출하는, 박리 방법. The method according to claim 1,
The contact member is moved in the peeling direction while the peeling means is arranged with respect to the holding means not holding the adherend, and the detecting means detects the peeling means. 청구항 1, 청구항 3 및 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 위치 정보는, 상기 접촉 부재의 이동에 수반하여 정기적으로 발생하는 신호를 계측함으로써 얻어지는 정보인, 박리 방법. The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the position information is information obtained by measuring a signal generated periodically with the movement of the contact member. 청구항 5에 있어서,
상기 위치 정보는, 상기 접촉 부재를 상기 박리 방향으로 이동시키는 펄스 모터의 구동 펄스수인, 박리 방법. The method of claim 5,
Wherein the position information is a drive pulse number of a pulse motor that moves the contact member in the peeling direction. 청구항 1, 청구항 3 및 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 배치 공정에서는, 상기 유지 수단이, 상기 제2 판상체를 상측으로 한 수평 자세로 상기 밀착체를 유지하고, 상기 박리 수단이 상기 밀착체의 상방에 배열되는, 박리 방법. The method of claim 1, 3, or 4,
Wherein the holding means holds the adherend in a horizontal posture with the second plate-like object as an upper side, and the releasing means is arranged above the adherend in the disposing step. 제1 판상체와 제2 판상체가 직접 또는 박층을 통하여 서로 밀착된 밀착체를, 상기 제1 판상체를 유지함으로써 유지하는 유지 수단과,
상기 유지 수단에 의해 유지되는 상기 밀착체의 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서, 상기 제2 판상체의 표면과 평행한 박리 방향을 따라 이동하는 접촉 부재와,
상기 박리 방향을 따라 배열되며, 각각이 상기 제2 판상체에 부분적으로 맞닿아 상기 제2 판상체를 유지하는 기능을 가짐과 함께, 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿는 접촉 위치와, 상기 제2 판상체의 표면으로부터 이격하여 상기 접촉 부재가 통과하기 위한 갭을 설치한 대기 위치 사이에서 이동 가능한 복수의 박리 수단과,
상기 박리 수단 및 상기 접촉 부재의 이동을 제어하여 박리 동작을 실행시키는 제어 수단을 구비하고,
상기 박리 동작에 있어서,
상기 접촉 부재가, 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿으면서 상기 박리 수단과의 갭 공간을 상기 박리 방향으로 이동시키고,
상기 박리 수단의 각각이, 상기 박리 방향을 따라 순서대로, 상기 제2 판상체를 향해 이동하여 상기 접촉 부재 통과 후의 상기 제2 판상체의 표면에 맞닿은 후, 상기 제2 판상체를 유지하면서 상기 제1 판상체에 대해 이격 방향으로 이동하여 상기 제2 판상체를 상기 제1 판상체로부터 이격시키고,
상기 박리 수단 각각의 이동 타이밍이, 미리 상기 접촉 부재를 상기 박리 방향으로 이동시켜 취득된, 상기 접촉 부재가 상기 박리 수단과의 대향 위치를 통과하는 타이밍과, 상기 접촉 부재의 상기 박리 방향에 있어서의 위치를 나타내는 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 설정되어 있으며,
상기 접촉 부재와 일체적으로 이동하면서 상기 박리 수단을 검출하는 검출 수단을 구비하고,
상기 제어 수단은, 상기 검출 수단의 검출 결과와 상기 위치 정보의 대응 관계에 의거하여 상기 박리 수단 각각의 이동 타이밍을 설정하는, 박리 장치. A holding means for holding the first and second plate bodies in contact with each other through a direct or thin layer by holding the first plate bodies,
A contact member which moves along a peeling direction in parallel with the surface of the second plate material while abutting the surface of the second plate material of the adherend held by the holding means,
And a second plate-like member which is arranged along the peeling direction and has a function of holding the second plate-like member by partially abutting on the second plate-like member, and a contact position in contact with the surface of the second plate- A plurality of peeling means movable between a standby position spaced from the surface of the plate and provided with a gap for allowing the contact member to pass therethrough,
And control means for controlling the movement of the peeling means and the contact member to perform the peeling operation,
In the peeling operation,
The contact member is brought into contact with the surface of the second plate member to move the gap space with the peeling member in the peeling direction,
Wherein each of the peeling means sequentially moves along the peeling direction toward the second plate member and contacts the surface of the second plate member after passing through the contact member, The first plate-like body is moved in the spacing direction with respect to the first plate-like body to separate the second plate-
Wherein the movement timing of each of the peeling means is determined such that a timing at which the contact member passes the position opposite to the peeling means and which is obtained by moving the contact member in the peeling direction in advance, Position information indicating the position of the vehicle,
And detection means for detecting the peeling means while moving integrally with the contact member,
And the control means sets the movement timing of each of the peeling means on the basis of the correspondence between the detection result of the detection means and the position information. 삭제delete 청구항 8에 있어서,
상기 검출 수단은 상기 박리 수단을 촬상하는 촬상 수단인, 박리 장치. The method of claim 8,
Wherein said detection means is an image pickup means for picking up said peeling means. 청구항 8 또는 청구항 10에 있어서,
상기 접촉 부재를 상기 박리 방향으로 이동시키는 펄스 모터를 구비하고,
상기 위치 정보는 상기 펄스 모터의 구동 펄스수인, 박리 장치. The method according to claim 8 or 10,
And a pulse motor for moving the contact member in the peeling direction,
Wherein the position information is the number of drive pulses of the pulse motor. 청구항 8 또는 청구항 10에 있어서,
상기 유지 수단이 상기 제2 판상체를 상측으로 한 수평 자세로 상기 밀착체를 유지하고, 상기 박리 수단이 상기 밀착체의 상방에 배열되는, 박리 장치. The method according to claim 8 or 10,
Wherein the holding means holds the adherend in a horizontal posture in which the second plate-shaped member is upward, and the peeling means is arranged above the adherend.
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