KR101717440B1 - 파이프 용접 그을음 제거 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 제조 공정에서 가스 공급을 위해 사용되는 파이프를 용접할 때 파이프 접합부 외주면에 생기는 용접 그을음을 제거하기 위한 파이프 용접 그을음 제거 장치에 관한 것으로서, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 파이프 세척 공간이 형성된 파이프 수용부; 파이프 수용부의 제 1 면에 회전 가능하게 부착되며, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 제 1 관통 공간이 형성된 제 1 회전부; 및 파이프 수용부의 제 2 면에 회전 가능하게 연결되며, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 제 2 관통 공간이 형성된 제 2 회전부를 포함하되, 파이프 세척 공간의 내주면에는 적어도 하나의 산 분사부 및 적어도 하나의 공기 흡입부가 형성되며, 제 1 관통 공간의 내주면에는 제 1 세척솔이 형성되고, 제 2 관통 공간의 내주면에는 제 2 세척솔이 형성되어, 산 분사부로 분사된 산이 용접된 파이프의 외주면에 형성된 용접 그을음에 분사되고, 제 1 회전부와 제 2 회전부가 파이프 수용부를 중심으로 회전함에 따라 제 1 세척솔과 제 2 세척솔이 용접 그을음을 제거하며, 용접된 파이프의 외주면에서 발생되는 가스와 파티클은 공기 흡입부를 통해 빨아들여져 배출될 수 있다.
Description
본 발명은 파이프 용접 그을음 제거 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 반도체 제조 공정에서 가스 공급을 위해 사용되는 파이프를 용접할 때 파이프 접합부 외주면에 생기는 용접 그을음을 제거하기 위한 파이프 용접 그을음 제거 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 공정에서 가스 공급을 위해 사용되는 파이프는 제조 설비에 맞추어 길이를 연장하고, 방향을 변경할 필요가 있으며, 이를 위해 파이프들을 용접하여 반도체 제조 설비에서 사용해왔다.
그러나, 반도체 제조 설비는 미세한 파티클도 허용되지 않는 고순도 공정이므로, 용접시 파이프의 외주면에 형성된 용접 그을음이 완벽하게 제거될 필요가 있다.
종래에는 작업자가 솔에 산 용액을 적셔서 파이프 외주면을 문지르며 닦아내는 작업을 하였으나, 이러한 작업은 시간이 많이 소요되고, 완벽한 제거가 이루어지지 않는다는 단점이 있었다.
본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하고자 도출된 발명으로서, 용접된 파이프의 외주면에 형성된 용접 그을음을 빠르고 완벽하게 제거하기 위한 파이프 용접 그을음 제거 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 이상에서 언급한 것에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 목적들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치는, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 파이프 세척 공간이 형성된 파이프 수용부; 파이프 수용부의 제 1 면에 회전 가능하게 부착되며, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 제 1 관통 공간이 형성된 환형 부재인 제 1 회전부; 파이프 수용부의 제 2 면에 회전 가능하게 연결되며, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 제 2 관통 공간이 형성된 환형 부재인 제 2 회전부; 제 1 회전부에 고정되는 환형 부재로서, 내주면에는 제 1 탄성 부재가 형성되어 파이프의 외주면에 접하는 제 1 결합부; 및 제 2 회전부에 고정되는 환형 부재로서, 내주면에는 제 2 탄성 부재가 형성되어 파이프의 외주면에 접하는 제 2 결합부를 포함하되, 파이프 수용부의 제 1 면의 외곽부로부터 돌출된 제 1 환형 가이드부에 의해 형성된 공간에 제 1 회전부가 수용되어 회전하고, 제 1 환형 가이드부의 종단은 회전축 방향으로 꺽여 제 1 회전부의 이탈을 방지하며, 파이프 수용부의 제 2 면의 외곽부로부터 돌출된 제 2 환형 가이드부에 의해 형성된 공간에 제 2 회전부가 수용되어 회전하고, 제 2 환형 가이드부의 종단은 회전축 방향으로 꺽여 제 2 회전부의 이탈을 방지하며, 파이프 세척 공간의 내주면에는 복수 개의 산 분사부들 및 복수 개의 공기 흡입부들이 형성되며, 제 1 관통 공간의 내주면에는 제 1 세척솔이 수직 돌출되되, 내주면을 따라 소정 간격을 두고 배열되도록 형성되고, 제 2 관통 공간의 내주면에는 제 2 세척솔이 수직 돌출되되, 내주면을 따라 소정 간격을 두고 배열되도록 형성되며, 산 분사부로 분사된 산이 용접된 파이프의 외주면에 형성된 용접 그을음에 분사되어 용접 그을음을 부식시키고, 제 1 회전부와 제 2 회전부가 파이프 수용부를 중심으로 서로 반대 방향으로 회전함에 따라 제 1 세척솔과 제 2 세척솔이 용접 그을음을 제거하며, 용접된 파이프의 외주면에서 발생되는 가스와 파티클은 공기 흡입부를 통해 빨아들여져 배출되며, 파이프 세척 공간의 내주면에는 산 분사부로 분사된 산을 배출시키는 산 배출구가 형성되며, 제 1 관통 공간의 내주면과 제 2 관통 공간의 내주면의 내경은 파이프 수용부 쪽으로 갈수록 커지고, 파이프 세척 공간의 내주면에는 산 분사부들과 공기 흡입부들이 내주면을 따라 번갈아 위치될 수 있다.
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본 발명은 용접된 파이프의 외주면에 형성된 용접 그을음을 빠르고 완벽하게 제거하기 위한 파이프 용접 그을음 제거 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급한 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 제 1 회전부의 정면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 파이프 수용부의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 제 1 회전부의 정면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 파이프 수용부의 단면도이다.
이하에서는 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 통상의 기술자에게 공지된 기능 또는 구성에 대하여는 상세한 설명을 생략한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 분해 사시도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 단면도이다. 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 단면도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 제 1 회전부의 정면도이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치의 파이프 수용부의 단면도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 파이프 용접 그을음 제거 장치는 파이프 수용부(110), 제 1 회전부(120), 제 2 회전부(130), 제 1 구동부(140) 및 제 2 구동부(150)를 포함할 수 있다.
파이프 수용부(110)는 용접된 파이프(100)가 관통할 수 있는 파이프 세척 공간(115)이 형성된 부재로서 환형 부재가 파이프(100)를 감싸는 구조이다.
파이프 세척 공간(115)은 원기둥형 공간이며, 용접된 파이프(100)와 소정 거리만큼 이격되도록 파이프 세척 공간(115)의 내경이 설정되는 것이 바람직하다.
파이프 세척 공간(115)의 내주면(118)에는 산 분사부(111)들 및 공기 흡입부(112)들이 형성된다. 산 분사부(111)들과 공기 흡입부(112)들이 파이프 세척 공간(115)의 내주면(118)을 따라 번갈아 위치되는 것이 바람직하다.
산 분사부(111)는 산 용액 저장 탱크(미도시)에 저장된 산 용액이 이동되어 파이프 세척 공간(115)으로 분사되도록 하는 부재이며, 종단에 노즐이 형성되는 것도 가능하다. 산 분사부(111)를 통해 분사된 산은 용접된 파이프(100)의 외주면에 형성된 용접 그을음(101)에 분사되고, 용접 그을음(101)을 부식시킨다.
공기 흡입부(112)는 공기 흡입 장치(미도시)에 연결되어 파이프 세척 공간(115)에서 산 용액에 의해 용접 그을음(101)이 부식되며 발생하는 유독 가스를 빨아들이고, 후술할 제 1 세척솔(122) 및 제 2 세척솔(132)에 의해 파이프(100)의 외주면으로부터 분리된 파티클을 빨아들인다.
파이프 세척 공간(115)의 내주면(118)에는 산 분사부(111)로 분사된 산 용액을 배출시키는 산 배출구(113)가 형성되며, 산 배출구(113)를 통해 배출된 용액은 배출 용액 저장 탱크(미도시)에 저장된다. 산 배출구(113)는 파이프(100)에 분사된 산 용액이 모여서 쉽게 배출될 수 있도록 도면을 기준으로 파이프 세척 공간(115)의 아래쪽에 위치하는 것이 바람직하다.
제 1 회전부(120)는 파이프 수용부(110)의 제 1 면(116)에 회전 가능하게 부착되며, 용접된 파이프(100)가 관통할 수 있는 제 1 관통 공간(125)이 형성된 부재이다. 제 1 관통 공간(125)의 내주면(121)에는 제 1 세척솔(122)이 형성된다. 제 1 세척솔(122)은 내주면(121)을 따라 소정 간격을 두고 배열되는 것이 바람직하다.
제 1 회전부(120)는 환형 부재로서, 제 1 관통 공간(125)은 원기둥형 공간이며, 용접된 파이프(100)와 소정 거리만큼 이격되도록 제 1 관통 공간(125)의 내경이 설정되는 것이 바람직하다. 제 1 회전부(120)와 파이프 수용부(110) 사이에는 베어링(124)이 설치되는 것이 바람직하다.
파이프 수용부(110)의 제 1 면(116)의 외곽부로부터 돌출된 제 1 환형 가이드부(123)에 의해 형성된 공간에 제 1 회전부(120)가 수용되어 회전하는 것이 바람직하다. 제 1 환형 가이드부(123)의 종단은 회전축 방향으로 꺽여 제 1 회전부(120)의 이탈을 방지하는 것이 바람직하다.
제 2 회전부(130)는 파이프 수용부(110)의 제 2 면(117)에 회전 가능하게 부착되며, 용접된 파이프(100)가 관통할 수 있는 제 2 관통 공간(135)이 형성된 부재이다. 제 2 관통 공간(135)의 내주면(131)에는 제 2 세척솔(132)이 형성된다. 제 2 세척솔(132)은 내주면(131)을 따라 소정 간격을 두고 배열되는 것이 바람직하다.
제 2 회전부(130)는 환형 부재로서, 제 2 관통 공간(135)은 원기둥형 공간이며, 용접된 파이프(100)와 소정 거리만큼 이격되도록 제 2 관통 공간(135)의 내경이 설정되는 것이 바람직하다. 제 2 회전부(130)와 파이프 수용부(110) 사이에는 베어링(134)이 설치되는 것이 바람직하다.
파이프 수용부(110)의 제 2 면(117)으로부터 돌출된 제 2 환형 가이드부(133)에 의해 형성된 공간에 제 2 회전부(130)가 수용되어 회전하는 것이 바람직하다. 제 2 환형 가이드부(133)의 종단은 회전축 방향으로 꺽여 제 2 회전부(130)의 이탈을 방지하는 것이 바람직하다.
제 1 관통 공간(125)의 내주면(121)과 제 2 관통 공간(135)의 내주면(131)의 내경은 파이프 수용부(110) 쪽으로 갈수록 커지는 것이 바람직하다. 이러한 경사로 인해, 분사된 산 용액이 산 배출구(113)로 쉽게 모일 수 있게 되며, 내주면(121)으로부터 수직 돌출된 제 1 세척솔(122)과 내주면(131)로부터 수직 돌출된 제 2 세척솔(132)이, 일정한 내경의 내주면을 가진 구성의 경우보다, 용접 그을음(101)에 접촉되어 구부러지는 정도가 작아지게 되어 세척솔의 사용 수명이 증가하게 된다.
제 1 회전부(120)와 제 2 회전부(130)가 파이프 수용부(110)를 중심으로 회전함에 따라 제 1 세척솔(122)과 제 2 세척솔(132)이 부식된 용접 그을음(101)을 제거한다. 이때, 용접된 파이프(100)의 외주면에서 발생되는 가스와 파티클은 공기 흡입부(112)들을 통해 빨아들여져 배출될 수 있다.
제 1 구동부(140)는 제 1 회전부(120)를 회전시키기 위한 구동 장치이다.
도 2에 도시된 제 1 구동부(140)는 제 1 회전부(120)에 고정되는 환형의 제 1 결합부(141) 및 제 1 회전 기어(145)를 포함할 수 있다.
제 1 결합부(141)의 내주면에는 내마모력이 뛰어난 제 1 탄성 부재(142)가 형성되어 파이프(100)의 외주면에 접하며, 파이프 세척 공간(115), 제 1 관통 공간(125) 및 제 2 관통 공간(135) 내부에 분사되는 산 용액이나 가스, 파티클 등이 유출되지 않도록 밀봉할 수 있다.
제 1 결합부(141)는 외주면에 치차가 형성되고, 제 1 회전 기어(145)의 외주면에 형성된 치차와 맞물리며, 제 1 모터(미도시)에 의해 회전되는 제 1 회전 기어(145)가 회전함에 따라 제 1 결합부(141)가 회전하게 되고, 제 1 결합부(141)에 연결된 제 1 회전부(120)가 회전하게 된다.
제 1 구동부(140)는 도 3에 도시된 바와 같이 제 1 회전 기어(145)와 제 1 모터 없이, 제 1 핸들(146)을 연결하여 제 1 회전부(120)를 수동으로 회전시키는 것도 가능할 수 있다.
제 2 구동부(150)는 제 2 회전부(130)를 회전시키기 위한 구동 장치이다.
도 2에 도시된 제 2 구동부(150)는 제 2 회전부(130)에 고정되는 환형의 제 2 결합부(151) 및 제 2 회전 기어(155)를 포함할 수 있다.
제 2 결합부(151)의 내주면에는 내마모력이 뛰어난 제 2 탄성 부재(152)가 형성되어 파이프(100)의 외주면에 접하며, 파이프 세척 공간(115), 제 1 관통 공간(125) 및 제 2 관통 공간(135) 내부에 분사되는 산 용액이나 가스, 파티클 등이 유출되지 않도록 밀봉할 수 있다.
제 2 결합부(151)는 외주면에 치차가 형성되고, 제 2 회전 기어(155)의 외주면에 형성된 치차와 맞물리며, 제 2 모터(미도시)에 의해 회전되는 제 2 회전 기어(155)가 회전함에 따라 제 2 결합부(151)가 회전하게 되고, 제 2 결합부(151)에 연결된 제 2 회전부(130)가 회전하게 된다.
제 2 구동부(150)는 도 3에 도시된 바와 같이 제 2 회전 기어(155)와 제 2 모터 없이, 제 2 핸들(156)을 연결하여 제 2 회전부(130)를 수동으로 회전시키는 것도 가능할 수 있다.
제 1 회전부(120)와 제 2 회전부(130)는 서로 다른 방향으로 회전할 수도 있으며, 동일한 방향으로 회전할 수도 있다.
이상, 구체적인 실시예에 관해서 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 통상의 기술자에게 자명하다 할 것이다.
100: 용접된 파이프 110: 파이프 수용부
111: 산 분사부 112: 공기 흡입부
113: 산 배출구 115: 파이프 세척 공간
120: 제 1 회전부 122: 제 1 세척솔
125: 제 1 관통 공간
130: 제 2 회전부 132: 제 2 세척솔
135: 제 2 관통 공간
140: 제 1 구동부 141: 제 1 결합부
142: 제 1 탄성 부재 145: 제 1 회전 기어
146: 제 1 핸들
150: 제 2 구동부 151: 제 2 결합부
152: 제 2 탄성 부재 155: 제 2 회전 기어
156: 제 2 핸들
111: 산 분사부 112: 공기 흡입부
113: 산 배출구 115: 파이프 세척 공간
120: 제 1 회전부 122: 제 1 세척솔
125: 제 1 관통 공간
130: 제 2 회전부 132: 제 2 세척솔
135: 제 2 관통 공간
140: 제 1 구동부 141: 제 1 결합부
142: 제 1 탄성 부재 145: 제 1 회전 기어
146: 제 1 핸들
150: 제 2 구동부 151: 제 2 결합부
152: 제 2 탄성 부재 155: 제 2 회전 기어
156: 제 2 핸들
Claims (4)
- 용접된 파이프가 관통할 수 있는 파이프 세척 공간이 형성된 파이프 수용부;
파이프 수용부의 제 1 면에 회전 가능하게 부착되며, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 제 1 관통 공간이 형성된 환형 부재인 제 1 회전부;
파이프 수용부의 제 2 면에 회전 가능하게 연결되며, 용접된 파이프가 관통할 수 있는 제 2 관통 공간이 형성된 환형 부재인 제 2 회전부;
제 1 회전부에 고정되는 환형 부재로서, 내주면에는 제 1 탄성 부재가 형성되어 파이프의 외주면에 접하는 제 1 결합부; 및
제 2 회전부에 고정되는 환형 부재로서, 내주면에는 제 2 탄성 부재가 형성되어 파이프의 외주면에 접하는 제 2 결합부를 포함하되,
파이프 수용부의 제 1 면의 외곽부로부터 돌출된 제 1 환형 가이드부에 의해 형성된 공간에 제 1 회전부가 수용되어 회전하고, 제 1 환형 가이드부의 종단은 회전축 방향으로 꺽여 제 1 회전부의 이탈을 방지하며,
파이프 수용부의 제 2 면의 외곽부로부터 돌출된 제 2 환형 가이드부에 의해 형성된 공간에 제 2 회전부가 수용되어 회전하고, 제 2 환형 가이드부의 종단은 회전축 방향으로 꺽여 제 2 회전부의 이탈을 방지하며,
파이프 세척 공간의 내주면에는 복수 개의 산 분사부들 및 복수 개의 공기 흡입부들이 형성되며,
제 1 관통 공간의 내주면에는 제 1 세척솔이 수직 돌출되되, 내주면을 따라 소정 간격을 두고 배열되도록 형성되고,
제 2 관통 공간의 내주면에는 제 2 세척솔이 수직 돌출되되, 내주면을 따라 소정 간격을 두고 배열되도록 형성되며,
산 분사부로 분사된 산이 용접된 파이프의 외주면에 형성된 용접 그을음에 분사되어 용접 그을음을 부식시키고,
제 1 회전부와 제 2 회전부가 파이프 수용부를 중심으로 서로 반대 방향으로 회전함에 따라 제 1 세척솔과 제 2 세척솔이 용접 그을음을 제거하며,
용접된 파이프의 외주면에서 발생되는 가스와 파티클은 공기 흡입부를 통해 빨아들여져 배출되며,
파이프 세척 공간의 내주면에는 산 분사부로 분사된 산을 배출시키는 산 배출구가 형성되며,
제 1 관통 공간의 내주면과 제 2 관통 공간의 내주면의 내경은 파이프 수용부 쪽으로 갈수록 커지고,
파이프 세척 공간의 내주면에는 산 분사부들과 공기 흡입부들이 내주면을 따라 번갈아 위치된 것을 특징으로 하는 파이프 용접 그을음 제거 장치. - 삭제
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102483981B1 (ko) * | 2022-05-03 | 2023-01-04 | 아이엠에스 주식회사 | 파이프 세척 시스템 |
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| JP2001198533A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-07-24 | Fuji Kikai Kohan Kk | 除塵装置 |
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-
2016
- 2016-12-09 KR KR1020160167482A patent/KR101717440B1/ko active IP Right Grant
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