KR101681025B1 - Photosensitive conductive paste composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 감광성 도전 페이스트 조성물에 관한 것으로서, 상기 감광성 도전 페이스트 조성물은 (a) 도전성 금속 분말, (b) 불포화 이중결합을 가지는 아크릴레이트계 감광성 바인더, (c) 다관능기를 가지는 실록산계 감광성 가교제, (d) 분산제, (e) 광개시제 및 (f) 용제를 포함한다. 따라서, 본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은, 아크릴레이트 감광성 바인더 수지 단독으로 사용하지 않고, 실록산계 감광성 가교제를 함께 사용해, 열에 의한 활성시 -Si-O- 형태로 유리기판과 화학적 결합을 함으로써 형성된 패턴 전극의 부착력을 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은 고해상도, 낮은 접촉저항, 우수한 보관 안정성 및 전기 비저항 등을 나타낼 수 있다.The present invention relates to a photosensitive conductive paste composition, which comprises (a) a conductive metal powder, (b) an acrylate photosensitive binder having an unsaturated double bond, (c) a siloxane photosensitive crosslinking agent having a polyfunctional group, (d) a dispersant, (e) a photoinitiator, and (f) a solvent. Thus, the photosensitive conductive paste composition according to the present invention can be formed by chemically bonding a glass substrate with a siloxane photosensitive crosslinking agent in combination with a glass substrate in the form of a -Si-O-form upon thermal activation, without using the acrylate photosensitive binder resin alone The adhesion of the pattern electrode can be improved. The photosensitive conductive paste composition according to the present invention can exhibit high resolution, low contact resistance, excellent storage stability and electrical resistivity.

Description

감광성 도전 페이스트 조성물{PHOTOSENSITIVE CONDUCTIVE PASTE COMPOSITION}[0001] PHOTOSENSITIVE CONDUCTIVE PASTE COMPOSITION [0002]

본 발명은 감광성 도전 페이스트 조성물에 관한 것으로서, 좀 더 상세하게는 터치 패널에 미세 선폭의 전극 패턴을 구현할 수 있는 알카리 용해성을 가지며, 기판과의 접착력을 향상시킬 수 있는 감광성 도전 페이스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive conductive paste composition, and more particularly, to a photosensitive conductive paste composition having alkali solubility capable of realizing an electrode pattern of fine line width on a touch panel and capable of improving adhesion to a substrate.

최근 IT산업, Display산업 및 반도체산업이 융합 기술로 발전되면서 터치스크린 패널(Touch Screen Panel, TSP)의 기술도 빠르게 발전하여 패널의 슬림화, 경량화 및 고집적화가 이루어지고 있다. 이러한 터치스크린 패널 기술은 스마트폰을 중심으로 한 터치폰과 태블릿 PC의 성장으로 눈부신 발전을 하고 있으며, 심플한 디자인, 쉽고 실감나는 조작 등으로 새로운 성장 동력으로 각광받고 있다As the IT industry, the display industry and the semiconductor industry have developed into convergence technologies, the technology of touch screen panel (TSP) has rapidly developed, making the panel slimmer, lighter and more highly integrated. These touch screen panel technologies are making remarkable progress with the growth of touch phones and tablet PCs centered on smart phones, and are attracting attention as new growth engines due to simple design, easy and realistic manipulation

터치 패널이라고도 약칭되는 터치 스크린 패널은 마우스나 키보드와 같은 별도의 입력장치 없이, 화면에 나타난 문자나 특정 위치에 사람의 손이나 펜을 접촉시키고, 접촉한 위치에 따라 특정한 기능을 처리하도록 한 디바이스이다. A touch screen panel, also abbreviated to a touch panel, is a device that touches a person's hand or pen to a character or specific position displayed on the screen and processes a specific function according to the contacted position, without a separate input device such as a mouse or a keyboard .

터치 패널은 크게 ⅰ) 산화인듐(ITO)과 같은 투명 전도성 박막이 증착된 상판 필름과 하판 필름(또는 글라스)로 구성되어 화면에 접촉된 입력의 유무에 따른 입력 좌표를 검출하여 컨트롤러로 전송하는 터치 패널, ⅱ) 상기 터치 패널에서 전송된 신호를 디지털 신호로 변환하여 디스플레이상의 좌표로 출력하는 컨트롤러 IC, ⅲ) 컨트롤러 IC로부터 수신된 신호를 받아 터치스크린 패널을 적절하게 구현하는 드라이브 소프트웨어로 구성된다.The touch panel consists largely of i) a top plate film on which a transparent conductive thin film such as indium oxide (ITO) is deposited and a lower plate film (or glass), which detects input coordinates according to presence or absence of input touching the screen, A controller IC for converting a signal transmitted from the touch panel to a digital signal and outputting the signal to a display on the display, and iii) a drive software for receiving the signal received from the controller IC and appropriately implementing the touch screen panel.

상기 터치 패널을 작동시키기 위해서는, 기판 상에 패터닝된 센서 전극 및 상기 센서 전극으로부터의 전기적 신호를 컨트롤러 IC로 전달하는 배선 전극이 요구된다.In order to operate the touch panel, a patterned sensor electrode on a substrate and a wiring electrode for transmitting an electrical signal from the sensor electrode to the controller IC are required.

센서 전극에는 투명성이 우수한 인듐주석산화물(Indium Tin Oxide, ITO) 전극이 주로 사용되고, 배선 전극에는 은(Ag) 페이스트와 같은 전도성 페이스트를 이용하여 다양한 방법으로 패턴을 형성시키고 있다.An indium tin oxide (ITO) electrode having excellent transparency is mainly used for the sensor electrode, and a conductive paste such as silver (Ag) paste is used for the wiring electrode.

배선 전극에 패턴을 형성하는 방법으로서 종래에는, 도전성 분말, 아크릴레이트 등의 광경화 수지, 단량체, 광 개시제 및 용제 등을 혼합하여 감광성 도전 페이스트를 제조하였다. 그러나 상기 감광성 도전 페이스트를 UV를 이용해 경화하여 생성된 전극은 유리기판, 실리콘기판에서 밀착성이 우수하지 못하는 단점이 있다.Conventionally, as a method of forming a pattern on the wiring electrode, a photosensitive conductive paste is prepared by mixing a conductive powder, a photo-curable resin such as an acrylate, a monomer, a photoinitiator and a solvent. However, the electrode formed by curing the photosensitive conductive paste by using UV has a disadvantage in that it is not excellent in adhesion to a glass substrate or a silicon substrate.

또한, 아크릴레이트 수지 단독으로 사용할 경우, 기판과의 접착력이 충분치 못하다는 단점이 있다. 아크릴레이트 수지나 단량체를 사용하는 경우, 광 경화반응시 페이스트의 급격한 수축에 의해 패턴 전극의 갈라짐 현상이 발생하거나 기재(또는 기판)로부터 벗겨지는 단점이 있다.Further, when used alone as an acrylate resin, there is a disadvantage in that the adhesive force with the substrate is not sufficient. In the case of using an acrylate resin or a monomer, there is the disadvantage that the pattern electrode is cracked due to abrupt shrinkage of the paste during the photo-curing reaction or peeled off from the substrate (or substrate).

본 발명은 기판에 대하여 향상된 부착력을 가지는 감광성 도전 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.The present invention provides a photosensitive conductive paste composition having improved adhesion to a substrate.

본 발명은 고 해상도, 저 접촉저항, 보관 안정성 및 저 비저항을 가지는 전극 패턴을 형성할 수 있는 감광성 도전 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.The present invention provides a photosensitive conductive paste composition capable of forming an electrode pattern having high resolution, low contact resistance, storage stability and low specific resistance.

본 발명은 스크린 인쇄 후 직접 노광하는 간단한 공정으로도 미세 선폭을 갖는 전극 패턴을 형성할 수 있는 감광성 도전 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.The present invention is to provide a photosensitive conductive paste composition capable of forming an electrode pattern having a fine line width even by a simple process of directly exposing after screen printing.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은, (a) 도전성 금속 분말, (b) 아크릴레이트계 감광성 바인더, (c) 다관능기를 가지는 실록산계 감광성 가교제, (d) 분산제, (e) 광개시제 및 (f) 용제를 포함한다.(C) a siloxane-based photosensitive crosslinking agent having a polyfunctional group; (d) a dispersing agent; and (d) a dispersing agent. The photosensitive conductive paste composition according to the present invention comprises (e) a photoinitiator and (f) a solvent.

상기 아크릴레이트계 감광성 바인더는 불포화 이중결합을 가진다. 상기 실록산계 감광성 가교제는 하기 화학식 1로 표시되는 제1 반복 단위, 하기 화학식 2로 표시되는 제2 반복 단위 및 하기 화학식 3으로 표시되는 제3 반복 단위를 포함한다.The acrylate-based photosensitive binder has an unsaturated double bond. The siloxane photosensitive crosslinking agent includes a first repeating unit represented by the following formula (1), a second repeating unit represented by the following formula (2), and a third repeating unit represented by the following formula (3).

Figure 112014126542638-pat00001
Figure 112014126542638-pat00001

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014126542638-pat00002
Figure 112014126542638-pat00002

[화학식 2](2)

Figure 112014126542638-pat00003
Figure 112014126542638-pat00003

[화학식 3](3)

여기서, R1은 -CH=CH2 또는 -CH2CH2CH2OOCC(CH3)=CH2이고, R2는 -CH3 또는 -OCH3이고, R3는 -OCH3 또는 -OCH2CH3이다.Wherein R1 is -CH = CH2 or -CH2CH2CH2OOCC (CH3) = CH2, R2 is -CH3 or -OCH3, and R3 is -OCH3 or -OCH2CH3.

일 실시예에 따르면, 상기 도전성 금속 분말 70 내지 90중량%, 상기 아크릴레이트계 감광성 바인더 1 내지 20중량%, 상기 실록산계 감광성 가교제 4 내지 10중량%, 상기 분산제 0.1 내지 3중량%, 상기 광개시제 0.1 내지 3중량% 및 여분의 용제를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the conductive metal powder comprises 70 to 90% by weight of the conductive metal powder, 1 to 20% by weight of the acrylate photosensitive binder, 4 to 10% by weight of the siloxane photosensitive crosslinking agent, 0.1 to 3% To 3% by weight and an excess of solvent.

일 실시예에 따르면, 상기 실록산계 감광성 가교제는, 상기 제1 반복 단위 내지 제3 반복 단위의 총 몰수에 대하여, 상기 제1 반복 단위를 10 내지 30몰%, 상기 제2 반복 단위를 30 내지 50몰% 및 상기 제3 반복 단위를 20 내지 60몰% 로 포함할 수 있다.According to one embodiment, the siloxane photosensitive cross-linking agent is used in an amount of 10 to 30 mol% for the first recurring unit and 30 to 50 mol% for the second recurring unit based on the total number of moles of the first to third repeating units. Mol% and the third repeating unit in an amount of 20 to 60 mol%.

일 실시예에 따르면, 상기 아크릴레이트계 감광성 바인더는 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.According to one embodiment, the acrylate-based photosensitive binder may be represented by the following general formula (4).

Figure 112014126542638-pat00004
Figure 112014126542638-pat00004

[화학식 4][Chemical Formula 4]

여기서, R1은 -CH=CH2 또는 -CH2CH2CH2OOCC(CH3)=CH2이고, R2는 -CH3 또는 -OCH3이고, R3는 -OCH3 또는 -OCH2CH3이며, a는 10 내지 30, b는 30 내지 50, c는 20 내지 60이고, a+b+c = 100이다.Wherein R is -CH = CH2 or -CH2CH2CH2OOCC (CH3) = CH2, R2 is -CH3 or -OCH3, R3 is -OCH3 or -OCH2CH3, a is from 10 to 30, b is from 30 to 50, c is 20 to 60, and a + b + c = 100.

일 실시예에 따르면, 상기 도전성 금속 분말은 은(Ag), 금(Au), 코발트(Co), 니켈(Ni) 및 구리(Cu)로 이루어진 그룹에서 선택된 하나이상을 포함할 수 있다.According to one embodiment, the conductive metal powder may include at least one selected from the group consisting of silver (Ag), gold (Au), cobalt (Co), nickel (Ni), and copper (Cu).

일 실시예에 따르면, 상기 도전성 금속 분말은 구형, 각형 및 판형으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나이상의 입형을 가질 수 있다.According to one embodiment, the conductive metal powder may have at least one shape selected from the group consisting of spherical, angular, and plate shapes.

일 실시예에 따르면, 상기 도전성 금속 분말은 평균입경(D50)이 서로 다른 2종 이상의 금속 분말을 혼합한 것일 수 있다.According to one embodiment, the conductive metal powder may be a mixture of two or more metal powders having different average particle diameters (D50).

본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은, 아크릴레이트 감광성 바인더 수지 단독으로 사용하지 않고, 실록산계 감광성 가교제를 함께 사용해, 열에 의한 활성시 -Si-O- 형태로 유리기판과 화학적 결합을 함으로써 형성된 패턴 전극의 부착력을 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은 고해상도, 낮은 접촉저항, 우수한 보관 안정성 및 전기 비저항 등을 나타낼 수 있다.The photosensitive conductive paste composition according to the present invention may be used in combination with a siloxane photosensitive crosslinking agent in combination with a patterned electrode formed by chemical bonding with a glass substrate in the form of -Si-O- Can be improved. The photosensitive conductive paste composition according to the present invention can exhibit high resolution, low contact resistance, excellent storage stability and electrical resistivity.

또한, 본 발명에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은 스크린 인쇄를 활용하여 패턴화할 수 있으므로, 기존의 박막 포토리소그래피 방식에 비해 제조공정 측면에서 시간 및 비용을 절감할 수 있다.In addition, since the photosensitive conductive paste composition according to the present invention can be patterned by utilizing screen printing, time and cost can be saved in terms of the manufacturing process as compared with the conventional thin film photolithography method.

도 1은 실시예 1에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물을 이용한 터치 패널의 배선 전극의 선폭(20㎛/20㎛)을 나타내는 사진이다.
도 2는 실시예 1 내지 4 및 비교예 1의 부착력 테스트 전후의 사진이다.
Fig. 1 is a photograph showing the line width (20 占 퐉 / 20 占 퐉) of wiring electrodes of a touch panel using the photosensitive conductive paste composition according to Example 1. Fig.
2 is a photograph before and after the adhesion tests of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1. Fig.

본 발명의 일 실시예에 따른 감광성 도전 페이스트 조성물은 (a) 도전성 금속 분말, (b) 불포화 이중결합을 가지는 아크릴레이트계 감광성 바인더, (c) 다관능기를 가지는 실록산계 감광성 가교제, (d) 분산제, (e) 광개시제 및 (f) 용제를 포함한다.The photosensitive conductive paste composition according to one embodiment of the present invention is a photosensitive conductive paste composition comprising (a) a conductive metal powder, (b) an acrylate-based photosensitive binder having an unsaturated double bond, (c) a siloxane photosensitive crosslinking agent having a polyfunctional group, (d) , (e) a photoinitiator, and (f) a solvent.

이하, 본 발명에 따른 상기 감광성 도전 페이스트 조성물에 포함되는 각 성분에 대하여 구체적으로 살펴본다.
Hereinafter, each component contained in the photosensitive conductive paste composition according to the present invention will be described in detail.

(a) 도전성 금속 분말(a) a conductive metal powder

본 발명에 사용되는 상기 도전성 금속 분말은 표시 소자에 사용될 수 있는 무기 도전성 금속 분말을 사용할 수 있다. 이러한 무기 도전성 금속 분말은 터치 패널과 같은 표시 소자의 전극용 페이스트에 도전성을 부여하기 위한 것이다. 상기 도전성 분말은, 예를 들어, 1종 이상의 금속 분말을 사용할 수 있다.The conductive metal powder used in the present invention may be an inorganic conductive metal powder that can be used in a display device. Such an inorganic conductive metal powder is for imparting conductivity to an electrode paste of a display element such as a touch panel. As the conductive powder, for example, one or more metal powders may be used.

예를 들어, 상기 도전성 금속 분말은 은(Ag), 금(Au), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu) 및 이들의 조합일 수 있다.For example, the conductive metal powder may be silver (Ag), gold (Au), cobalt (Co), nickel (Ni), copper (Cu), or a combination thereof.

상기 도전성 금속 분말의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 70중량% 내지 90중량%인 것이 바람직하며, 상기 함량이 70중량% 미만일 경우에는 터치패널에서 요구되는 전도성을 달성하기에 어려움이 있고, 반면 90중량%를 초과할 경우에는 분산성이 저하되거나 자외선 경화가 충분히 이루어지지 않아 패턴 형성 과정에서 현상성이 떨어질 우려가 있다.The content of the conductive metal powder is preferably 70 wt% to 90 wt% with respect to the total weight of the photosensitive conductive paste composition, and when the content is less than 70 wt%, it is difficult to achieve the conductivity required for the touch panel On the other hand, if it exceeds 90% by weight, the dispersibility may be lowered or the ultraviolet curing may not be sufficiently performed.

상기 도전성 금속 분말의 평균입경(D50)은 0.5 내지 3㎛ 일 수 있으며, 상기 평균입경(D50)이 0.5㎛ 미만일 경우에는 금속 분말끼리의 접촉 확율이 낮아지고, 제작되는 도전 패턴의 비저항값 및 단선확율이 높아질 수 있다. 반면, 3㎛를 초과할 경우에는 인쇄 후의 패턴의 표면 평활도, 패턴 정밀도, 치수정밀도가 저하될 수 있다.The average particle diameter (D50) of the conductive metal powder may be 0.5 to 3 占 퐉. When the average particle diameter (D50) is less than 0.5 占 퐉, the contact probability between the metal powders is lowered, Probability can be increased. On the other hand, if it exceeds 3 탆, the surface smoothness, pattern accuracy, and dimensional accuracy of the pattern after printing may be lowered.

또한, 상기 도전성 금속 분말은 평균입경(D50)이 서로 다른 2종 이상의 금속 분말이 혼합되어 사용될 수 있다. 예컨대, 하기의 구형분말 (A), 구형분말 (B), 각형분말 (C), 각형분말 (D), 판형분말 (E) 및 판형분말 (F)는 각각 단독으로 사용가능하고, 이들 중 평균입경(D50)이 서로 다른 2종 이상의 혼합분말도 사용 가능하다.The conductive metal powder may be a mixture of two or more metal powders having different average particle sizes (D50). For example, the following spherical powder (A), spherical powder (B), angular powder (C), square powder (D), plate powder (E) and plate powder (F) Two or more mixed powders having different particle diameters (D50) may be used.

본 발명에 사용되는 상기 도전성 금속 분말은 구형, 각형, 판형 등의 다양한 형상을 가질 수 있다. 이때 혼합되는 각각의 상기 도전성 금속 분말에 대해서는 평균입경 범위를 한정하지 않는다. 즉, 평균입경이 작은 나노(nano) 크기의 도전성 금속 분말과 수 마이크론(micron) 크기의 도전성 금속 분말을 혼합하는 것도 가능하다.The conductive metal powder used in the present invention may have various shapes such as spherical, angular, and plate shapes. At this time, the average particle diameter range of each of the conductive metal powders to be mixed is not limited. That is, it is also possible to mix a nano-sized conductive metal powder having a small average particle size and a conductive metal powder having a size of a few microns.

구형분말 (A):Spherical powder (A):

평균입경(D10) 1.0 내지 1.5㎛, 평균입경(D50) 1.5 내지 2.5㎛, 평균입경(D90) 4.0 내지 5.0㎛.Average particle diameter (D10) of 1.0 to 1.5 占 퐉, average particle diameter (D50) of 1.5 to 2.5 占 퐉, average particle diameter (D90) of 4.0 to 5.0 占 퐉.

구형분말 (B):Spherical powder (B):

평균입경(D10) 1.5 내지 2.0㎛, 평균입경(D50) 2.0 내지 3.0㎛, 평균입경(D90) 4.5 내지 6.5㎛.Average particle diameter (D10) of 1.5 to 2.0 占 퐉, average particle diameter (D50) of 2.0 to 3.0 占 퐉, average particle diameter (D90) of 4.5 to 6.5 占 퐉.

각형분말 (C):Square powder (C):

평균입경(D10) 0.5 내지 1.5㎛, 평균입경(D50) 1.5 내지 2.5㎛, 평균입경(D90) 4.0 내지 6.0㎛.Average particle diameter (D10) of 0.5 to 1.5 占 퐉, average particle diameter (D50) of 1.5 to 2.5 占 퐉, average particle diameter (D90) of 4.0 to 6.0 占 퐉.

각형분말 (D):Square powder (D):

평균입경(D10) 1.5 내지 2.5㎛, 평균입경(D50) 2.5 내지 3.5㎛, 평균입경(D90) 6.0 내지 8.0㎛.Average particle diameter (D10) of 1.5 to 2.5 占 퐉, average particle diameter (D50) of 2.5 to 3.5 占 퐉, average particle diameter (D90) of 6.0 to 8.0 占 퐉.

판형분말 (E):Plate Type Powder (E):

평균입경(D10) 0.2 내지 1.0㎛, 평균입경(D50) 1.0 내지 1.5㎛, 평균입경(D90) 1.5 내지 2.5㎛.Average particle diameter (D10) of 0.2 to 1.0 占 퐉, average particle diameter (D50) of 1.0 to 1.5 占 퐉, average particle diameter (D90) of 1.5 to 2.5 占 퐉.

판형분말 (F):Plate Type Powder (F):

평균입경(D10) 1.0 내지 1.5㎛, 평균입경(D50) 2.0 내지 3.0㎛, 평균입경(D90) 4.5 내지 5.5㎛.An average particle diameter (D10) of 1.0 to 1.5 占 퐉, an average particle diameter (D50) of 2.0 to 3.0 占 퐉, and an average particle diameter (D90) of 4.5 to 5.5 占 퐉.

여기서, D10, D50, D90은 각각 적산 분포 곡선(cumulative distribution curve)에서 누적체적이 10부피%, 50부피% 및 90부피%에 해당하는 입자의 평균지름을 의미한다.
Here, D10, D50, and D90 mean the average diameter of the particles corresponding to cumulative volumes of 10 vol%, 50 vol%, and 90 vol% in the cumulative distribution curve, respectively.

(b) 아크릴레이트계 감광성 바인더(b) an acrylate-based photosensitive binder

상기 아크릴레이트계 감광성 바인더는 자외선, 전자선 등과 같은 활성에너지의 작용을 받아 분자간 가교에 의해 경화됨으로써 경화도막을 형성한다.The acrylate-based photosensitive binder is cured by intermolecular crosslinking under the action of active energy such as ultraviolet rays, electron beams and the like to form a cured film.

상기 아크릴레이트계 감광성 바인더의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 20중량%인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 7 내지 11중량%일 수 있다. 상기 함량이 1량% 미만일 경우에는 현상성이 악화되어 현상에 의한 패터닝이 어려울 수 있고, 반면 20중량%를 초과할 경우에는 도전성 금속 분말의 비율이 상대적으로 부족하게 되어 비저항이 높아질 우려가 있다. 상기 아크릴레이트계 감광성 바인더의 함량은 불휘발성 성분(고형분)을 기준으로 한다.The content of the acrylate-based photosensitive binder is preferably 1 to 20 wt%, more preferably 7 to 11 wt%, based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition. When the content is less than 1% by weight, the developability deteriorates and patterning due to development may be difficult. On the other hand, when the content exceeds 20% by weight, the proportion of the conductive metal powder is relatively insufficient and the specific resistance may be increased. The content of the acrylate-based photosensitive binder is based on the nonvolatile component (solid content).

또한, 상기 아크릴레이트계 감광성 바인더의 중량 평균 분자량으로는 1,000 내지 100,000인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 1,000 미만인 경우, 현상시 도막의 접착성이 나빠지고, 한편 100,000을 초과한 경우, 현상 불량을 일으키기 쉬워진다. 보다 바람직하게는 5,000 내지 70,000 일 수 있다. 또한, 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(GPC)로 측정한 폴리스티렌 환산의 값이다.The weight average molecular weight of the acrylate-based photosensitive binder is preferably 1,000 to 100,000. When the weight average molecular weight is less than 1,000, the adhesion of the coating film at the time of development deteriorates. On the other hand, when the weight average molecular weight exceeds 100,000, defective development tends to occur. And more preferably from 5,000 to 70,000. In addition, the weight average molecular weight is a value in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC).

한편, 본 발명에 따른 상기 아크릴레이트계 감광성 바인더의 산가는 40 내지 150mgKOH/g인이 바람직하며, 상기 산가가 40 mgKOH/g 미만인 경우 알칼리 수용액에 대한 용해성이 불충분하여 현상 불량을 일으킬 우려가 있고, 반면 150 mgKOH/g을 초과하는 경우 현상시에 도막의 접착성이 나빠지거나 광 경화부(노광부)의 용해가 발생할 우려가 있다. On the other hand, the acid value of the acrylate-based photosensitive binder according to the present invention is preferably 40 to 150 mgKOH / g, and when the acid value is less than 40 mgKOH / g, the solubility in an aqueous alkaline solution is insufficient, On the other hand, if it exceeds 150 mgKOH / g, the adhesion of the coating film may deteriorate during development or dissolution of the photocured portion (exposed portion) may occur.

또한, 상기 아크릴레이트계 감광성 바인더의 유리전이온도는 20 내지 120℃인 것이 바람직하며, 상기 유리전이온도가 20℃ 미만일 경우 온도변화에 대한 형상안정성이 떨어질 수 있고, 반면 120℃를 초과할 경우 현상성이 떨어질 수 있다.The glass transition temperature of the acrylate-based photosensitive binder is preferably 20 to 120 ° C. When the glass transition temperature is less than 20 ° C, the shape stability of the binder may be deteriorated. If the glass transition temperature is more than 120 ° C You may lose your sex.

상기 아크릴레이트계 감광성 바인더로는, 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합이나 프로파르길기 등의 감광성기를 갖는 수지, 예를 들면 측쇄에 에틸렌성 불포화기를 갖는 아크릴계공중합체, 불포화 카르복실산 변성 에폭시 수지 또는 그것에 추가로 다염기산 무수물을 부가한 수지 등, 종래 공지된 각종 감광성 수지(감광성 예비 중합체)를 사용할 수 있다.As the acrylate-based photosensitive binder, a resin having a photosensitive group such as an ethylenically unsaturated bond such as a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group or a methacryloyl group, or a propargyl group, for example, a resin having an ethylenic unsaturated group in its side chain Various known photosensitive resins (photosensitive prepolymers) such as acrylic copolymers, unsaturated carboxylic acid-modified epoxy resins or resins obtained by addition of polybasic acid anhydrides thereto may be used.

이들 광 경화성 유기 바인더는, 분자 중에 1개 이상의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물, 즉 후술하는 다관능기 광중합성 가교제와 병용하여 사용할 수 있다. 또한, 광 경화성 유기 바인더는, 광 중합을 보다 효율적으로 진행시키기 위해, 후술하는 광중합 개시제를 병용하는 것이 바람직하다.These photocurable organic binders can be used in combination with a compound having at least one ethylenic unsaturated bond in the molecule, that is, a multifunctional photopolymerizable crosslinking agent to be described later. The photocurable organic binder is preferably used in combination with a photopolymerization initiator, which will be described later, in order to promote the photopolymerization more efficiently.

포토리소그래피법에 이용하는 경우에는, 현상성 측면에서 상기 수지 등 중에서도, 특히 카르복실기를 갖는 수지가 바람직하다. 이러한 카르복실기를 갖는 수지(올리고머 및 중합체 중 어느 것일 수도 있음)로는, 구체적으로는 예를 들면 이하와 같은 것을 들 수 있다.When the resin is used in the photolithography method, a resin having a carboxyl group is particularly preferable from the viewpoint of developability. Specific examples of such a resin having a carboxyl group (which may be an oligomer or a polymer) include the following.

(1) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 공중합시킴으로써 얻어지는 카르복실기 함유 수지(1) a carboxyl group-containing resin obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid with a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth)

(2) (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산과, 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트나(메트)아크릴산클로라이드 등에 의해 에틸렌성 불포화기를 팬던트로서 부가시킴으로써 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지(Meth) acrylate, (meth) acrylic acid chloride or the like to a copolymer of an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid and a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an unsaturated group as a pendant

(3) 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 에폭시기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과, 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산을 반응시키고, 생성된 2급의 수산기에 테트라히드로프탈산 무수물 등의 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지(3) To a copolymer of a compound having an unsaturated double bond with an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate and a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate, an unsaturated carboxyl group such as (meth) Containing acid labile group is reacted with an acid, and a produced secondary hydroxyl group is reacted with a polybasic acid anhydride such as tetrahydrophthalic anhydride.

(4) 무수 말레산 등의 불포화 이중 결합을 갖는 산 무수물과, 스티렌 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물의 공중합체에 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 수산기와 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지(4) a compound having a hydroxyl group and an unsaturated double bond such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate in a copolymer of an acid anhydride having an unsaturated double bond such as maleic anhydride and a compound having an unsaturated double bond such as styrene Containing photosensitive resin < RTI ID = 0.0 >

(5) 다관능 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산 등의 불포화 카르복실산을 반응시키고, 생성된 2급의 수산기에 테트라히드로프탈산 무수물 등의 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지(5) a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a polyfunctional epoxy compound with an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid and reacting the produced secondary hydroxyl group with a polybasic acid anhydride such as tetrahydrophthalic anhydride

(6) 메틸(메트)아크릴레이트 등의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물과 글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체의 에폭시기에 1 분자 중에 1개의 카르복실기를 갖고 에틸렌성 불포화 결합을 갖지 않는 유기산을 반응시키고, 생성된 2급의 수산기에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 감광성 수지(6) An organic acid having one carboxyl group per molecule and no ethylenic unsaturated bond in the epoxy group of a copolymer of a compound having an unsaturated double bond such as methyl (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate is reacted Containing hydroxyl group and reacting the produced secondary hydroxyl group with a polybasic acid anhydride to obtain a carboxyl group-containing photosensitive resin

(7) 폴리비닐알코올 등의 수산기 함유 중합체에 다염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 카르복실기 함유 수지(7) a carboxyl group-containing resin obtained by reacting a hydroxyl group-containing polymer such as polyvinyl alcohol with a polybasic acid anhydride

이들 중에서, 특히 (1), (2), (3), (6)의 수지가 바람직하게 이용될 수 있다. 또한, 이들 수지는 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 본 명세서 중 (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트, 메타크릴레이트 및 이들의 혼합물을 총칭하는 용어이고, 다른 유사한 표현에 대해서도 마찬가지이다.Among them, resins of (1), (2), (3) and (6) can be preferably used. These resins may be used alone or in combination. In the present specification, (meth) acrylate is generically referred to as acrylate, methacrylate and a mixture thereof, and the same applies to other similar expressions.

알칼리 용해성의 감광성 바인더로서는 아크릴계 공중합체를 중합하여 사용할 수 있다. 아크릴계 공중합체란 공중합 성분에 적어도 1종 이상의 아크릴계 모노머를 포함하는 공중합체이다. 아크릴계 모노머의 구체예로서는 탄소-탄소 이중결합을 갖는 모든 화합물이 사용 가능하지만, 바람직하게는, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴산 2-에틸헥실, 메타크릴산 에틸, n-부틸아크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-프로판아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 사이클로헥실메타크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, N-메톡시메틸아크릴아미드, N-에톡시메틸아크릴아미드, N-n-부톡시메틸아크릴아미드, N-이소부톡시메틸아크릴아미드, 부톡시트리에틸렌글리콜 아크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 이소덱실아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 옥타플로로펜틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 트리플루오로에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 아미노에틸아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 1-나프틸아크릴레이트, 2-나프틸아크릴레이트, 티오페놀아크릴레이트, 벤질메르캅탄아크릴레이트 등의 아크릴계 모노머 및 이들 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 바꾼 것이나 스티렌, p-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌, α-메틸스티렌, 클로로메틸스티렌, 히드록시메틸스티렌 등의 스티렌류, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 1-비닐-2-피롤리돈 등을 예시할 수 있다.As the alkali-soluble photosensitive binder, an acrylic copolymer can be polymerized and used. The acrylic copolymer is a copolymer containing at least one kind of acrylic monomer in the copolymerization component. As specific examples of the acrylic monomer, all compounds having a carbon-carbon double bond can be used, and preferred examples thereof include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, 2-ethylhexyl acrylate, methacryl But are not limited to, methyl ethyl, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, i-propane acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, Acrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, N-butoxymethylacrylamide, N-isobutoxymethyl acrylamide, butoxy triethylene glycol acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2- Hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate Acrylates such as methacrylic acid, methacrylic acid, methacrylic acid, methacrylic acid, methacrylic acid, methacrylic acid, methacrylic acid, methacrylic acid, Acrylic monomers such as ethyl acrylate, acrylamide, aminoethyl acrylate, phenyl acrylate, phenoxy ethyl acrylate, 1-naphthyl acrylate, 2-naphthyl acrylate, thiophenol acrylate and benzyl mercaptan acrylate And those obtained by replacing these acrylates with methacrylates, styrenes such as styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene,? -Methylstyrene, chloromethylstyrene and hydroxymethylstyrene,? -Methacryl Propyl trimethoxysilane, 1-vinyl-2-pyrrolidone, and the like.

본 발명에서는 아크릴산, 메타크릴산, 메틸메타크릴레이트, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 사이클로헥실메타크릴레이트, 스티렌, 글리시딜메타크릴레이트 등의 모노머를 사용하여 아크릴레이트계 공중합체를 중합하였고, 이를 페이스트에 적용하여 페이스트 및 배선 전극의 특성을 확보하였다.
In the present invention, it is preferable to use acrylic acid, methacrylic acid, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, i-butyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, styrene, glycidyl Acrylate copolymer was polymerized by using a monomer such as methacrylate, and the paste was applied to the paste to secure the characteristics of the paste and the wiring electrode.

(c) 다관능기 실록산계 감광성 가교제(c) a multifunctional siloxane-based photosensitive crosslinking agent

상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제는 열에 의한 활성시, -Si-O-의 형태로 유리 기판과 화학적 결합을 하여 전극의 부착력을 향상시킬 수 있다.When the polyfunctional siloxane photosensitive crosslinking agent is activated by heat, it can chemically bond with the glass substrate in the form of -Si-O-, thereby improving the adhesion of the electrode.

상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 4 내지 10중량%인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 4 내지 8중량% 일 수 있다. 상기 감광성 가교제의 함량이 4중량% 미만일 경우 노광 패턴의 경화 밀도가 취약하게 될 수 있고, 반면 10중량%를 초과할 경우 패턴 특성이 저하될 수 있으며, 경화 후 유기물 잔류로 인한 저항 상승이 초래될 수 있다.The content of the polyfunctional siloxane photosensitive crosslinking agent is preferably 4 to 10% by weight, more preferably 4 to 8% by weight based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition. When the content of the photosensitive crosslinking agent is less than 4% by weight, the density of the curing of the exposure pattern may be weakened. On the other hand, if the content of the photosensitive crosslinking agent is more than 10% by weight, pattern characteristics may be deteriorated. .

상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제는 하기 화학식 1로 표시되는 제1 반복 위, 하기 화학식 2로 표시되는 제2 반복 단위 및 하기 화학식 3으로 표시되는 제3 반복 단위를 포함할 수 있다.The multifunctional siloxane photosensitive crosslinking agent may include a first repeating unit represented by the following formula (1), a second repeating unit represented by the following formula (2), and a third repeating unit represented by the following formula (3).

Figure 112014126542638-pat00005
Figure 112014126542638-pat00005

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112014126542638-pat00006
Figure 112014126542638-pat00006

[화학식 2](2)

Figure 112014126542638-pat00007
Figure 112014126542638-pat00007

[화학식 3](3)

여기서, R1은 -CH=CH2 또는 -CH2CH2CH2OOCC(CH3)=CH2이고, R2는 -CH3 또는 -OCH3이고, R3는 -OCH3 또는 -OCH2CH3이다.Wherein R1 is -CH = CH2 or -CH2CH2CH2OOCC (CH3) = CH2, R2 is -CH3 or -OCH3, and R3 is -OCH3 or -OCH2CH3.

예를 들어, 상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제는 상기 제1 반복 단위 내지 제3 반복 단위의 총 몰수에 대하여, 상기 제1 반복 단위를 10 내지 30몰%, 상기 제2 반복 단위를 30 내지 50몰% 및 상기 제3 반복 단위를 20 내지 60몰%로 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 일 수 있다.For example, the multifunctional siloxane photosensitive crosslinking agent may contain 10 to 30 mol% of the first repeating unit and 30 to 50 mol% of the second repeating unit, based on the total moles of the first to third repeating units % And the third repeating unit in an amount of 20 to 60 mol%. For example, the multifunctional siloxane photosensitive crosslinking agent may be a compound represented by the following general formula (4).

Figure 112014126542638-pat00008
Figure 112014126542638-pat00008

[화학식 4][Chemical Formula 4]

상기 화학식 4에서, R1 내지 R3은 상기 화학식 1 내지 3에서의 정의와 동일하고, a+b+c = 100일 때, a는 10 내지 30, b는 30 내지 50, c는 20 내지 60이며, 상기 화학식 4에 포함된 제1 반복 단위 내지 제3 반복 단위의 배열 순서는 한정되지 않고, 서로 랜덤하게 배열되거나 블록으로 배열되어도 된다. 본 명세서에서 "*" 는 반복단위 간의 연결 부분을 의미한다.Wherein a is 10 to 30, b is 30 to 50, c is 20 to 60, and a and b are the same as defined in the above Chemical Formulas 1 to 3, The order of arrangement of the first to third repeating units included in Formula 4 is not limited and may be randomly arranged or arranged in blocks. In the present specification, "*" means a connecting portion between repeating units.

예를 들어, 상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제의 중량평균분자량은 1,000 내지 5,000 일 수 있다.For example, the weight average molecular weight of the polyfunctional siloxane photosensitive crosslinking agent may be 1,000 to 5,000.

예를 들어, 본 발명의 도전성 페이스트 조성물에 포함되는 상기 다관능기 실록산계 감광성 가교제는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐부틸렌트리에톡시실란, 비닐트리(베타-메톡시)실란, 비닐트리(베타-에톡시)실란, 아크릴록시프로필트리메톡시실란, 아크릴록시프로필트리에톡시실란, 아크릴록시프로필메틸디메톡시실란, 감마-메타아크릴록시프로필트리메톡시실란, 감마-메타아크릴록시프로필트리에톡시실란, 감마-메타아크릴록시프로필메틸디메톡시실란, 감마-메타아크릴록시프로필메틸디이소프로폭시실란, 감마-메타아크릴록시카비톨트리메톡시실란테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란, 테트라이소프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리부톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리이소프록폭시실란, 에틸트리부톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 3-메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 디부틸디메톡시실란, 트리메딜메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리부틸메톡시실란, 트리부틸에톡시실란, 트리플루오로메틸트리메톡시실란, 트리플루오로메틸트리에톡시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란, 트리플루오로프로필트리에톡시실란, 노나플루오로부틸에틸트리메톡시실란, 노나플루오로부틸에틸트리에톡시실란, 노나플루오로헥실트리메톡시실란, 노나플루오로헥실트리에톡시실란, 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란, 트리데카플루오로옥틸트리에톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리에톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리이소프로필실란, 3-트리메톡시실릴프로필펜타데카플루오로옥테이트, 3-트리에톡시실릴프로필펜타데카플루오로옥테이트, 3-트리메톡시실릴프로필펜타데카플루오로옥틱아미드, 3-트리에톡시실릴프로필펜타데카플루오로옥틱아미드, 2-트리메톡시실릴에틸펜타데카플루오로데실술피드, 2-트리에톡시실릴에틸펜타데카플루오로데실술피드, 펜타플루오로페닐트리메톡시실란, 펜타플루오로페닐트리에톡시실란, 4-(퍼플루오로토릴)트리메톡시실란, 4-(퍼플루오로토릴)트리에톡시실란, 디메톡시비스(펜타플루오로페닐)실란, 디에톡시비스(4-펜타플루오로토릴)실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상의 단량체를 중합하여 사용 할 수 있다.
For example, the multifunctional siloxane photosensitive crosslinking agent included in the conductive paste composition of the present invention may be at least one selected from the group consisting of vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinylbutyltriethoxysilane, vinyltri (beta-methoxy) silane, But are not limited to, vinyltri (beta-ethoxy) silane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxypropyltriethoxysilane, acryloxypropylmethyldimethoxysilane, gamma-methacryloxypropyltrimethoxysilane, gamma-methacryloxy Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, gamma-methacryloxypropylmethyldiisopropoxysilane, gamma-methacryloxybutyltrimethoxysilane tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraethoxysilane, , Tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, Methyltriethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltributoxysilane, butyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, 3-methyltrimethoxysilane , Dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dibutyldimethoxysilane, trimethyldimethoxysilane, trimethylethoxysilane, tributylmethoxysilane, tributylethoxysilane, trifluoromethyltrimethoxysilane, But are not limited to, trifluoromethyltriethoxysilane, trifluoromethyltriethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, nonafluorobutylethyltrimethoxysilane, nonafluorobutylethyltriethoxysilane, nonafluoro Hexyltrimethoxysilane, nonafluorohexyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, Heptadecafluorodecyltriisopropylsilane, 3-trimethoxysilylpropylpentadecafluorooctate, 3-triethoxysilylpropylpentadecafluorooctate, 3-trimethoxysilylpropylpentadecafluorooctate, 3- Trimethoxysilylpropylpentadecafluoroctiamide, 3-triethoxysilylpropylpentadecafluoroctiamide, 2-trimethoxysilylethylpentadecafluorodecylsulfide, 2-triethoxysilylethylpentadeca Pentafluorophenyltrimethoxysilane, pentafluorophenyltriethoxysilane, 4- (perfluorotolyl) trimethoxysilane, 4- (perfluorotolyl) triethoxysilane, pentafluorophenyltrimethoxysilane, (1) selected from the group consisting of dimethoxybis (pentafluorophenyl) silane, diethoxybis (4-pentafluorotolyl) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, More than two species of monomers are polymerized Can be used.

(d) 분산제(d) Dispersant

상기 분산제는 감광성 도전 페이스트 조성물 내에서의 상기 도전성 금속 분말의 분산안정성을 부여하기 위해 포함되는 것으로, 예를 들어, 올레산, 폴리에틸렌글리콜지방산에스테르, 글리세린에스테르, 솔비탄에스테르, 프로필렌글리콜에스테르, 슈가에스테르, 지방산알카놀아미드, 폴리옥시에틸렌지방산아미드, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 아민옥사이드 및 폴리 12-히드록시스테아린산으로 이루어진 군에서 1종 이상이 사용될 수 있다.The dispersant is contained in order to impart dispersion stability of the conductive metal powder in the photosensitive conductive paste composition. Examples thereof include oleic acid, polyethylene glycol fatty acid esters, glycerin esters, sorbitan esters, propylene glycol esters, At least one of fatty acid alkanolamide, polyoxyethylene fatty acid amide, polyoxyethylene alkylamine, amine oxide and poly 12-hydroxystearic acid can be used.

상기 분산제의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 3.0 중량% 인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1.5 중량% 일 수 있다. 상기 분산제의 함량이 0.1 중량% 미만일 경우 분산 안정성이 저하될 수 있으며, 반면 3.0 중량%를 초과할 경우 과분산으로 인한 금속 분말의 응집으로 분산안정성이 저하될 수 있다.
The content of the dispersant is preferably 0.1 to 3.0% by weight, more preferably 0.2 to 1.5% by weight based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition. If the content of the dispersant is less than 0.1% by weight, the dispersion stability may be deteriorated. If the content of the dispersant is more than 3.0% by weight, dispersion stability may be deteriorated due to agglomeration of the metal powder.

(e) 광중합 광개시제(e) Photopolymerization Photoinitiator

상기 광중합 광개시제는 자외선 등의 광을 조사함으로써 라디칼을 발생시켜 화학 반응을 일으키는 화합물로서, 벤조페논, o-벤조일벤조산 메틸, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐케톤, 디벤질케톤, 플루오레논, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2 -메틸프로피오페논, p-t-부틸디클로로아세토페논, 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2- 클로로티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 디에틸티옥산톤, 4-아지도벤잘아세토 페논, 2,6-비스(p-아지도벤질리덴)시클로헥사논, 6-비스(p-아지도벤질리덴)-4-메틸시클로헥사논, 1-페닐-1,2-부탄디온-2-(o-메톡시카르보닐)옥심, 1-페닐-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 1-페닐-프로판디온-2-(o-벤조일)옥심, 1,3-디페닐-프로판트리온-2-(o-에톡시카르보닐)옥심, 1-페닐-3-에톡시-프로판트리온-2-(o-벤조일)옥심, 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드, 미힐러케톤, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로판온, 나프탈렌술포닐클로라이드, 퀴놀린술포닐클로라이드, N-페닐티오아크리돈, 4,4'-아조비스이소부티로니트릴, 디페닐디술피드, 벤조티아졸디술피드, 트리페닐포스핀, 과산화벤조인 및 에오신, 메틸렌블루 등의 광 환원성 색소와 아스코르브산, 및 트리에탄올아민으로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상이 사용될 수 있다.The photopolymerization photoinitiator is a compound which generates a radical by generating radicals by irradiating light such as ultraviolet rays, and is a compound which generates benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, (Diethylamino) benzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2- Dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2- chlorothioxanthone, Bis (p-azidobenzylidene) cyclohexanone, 6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methyl Phenyl-1,2-butanedione-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione 2- (o- ethoxycarbonyl) oxime, Propanedione-2- (o-benzoyl) oxime, 1,3-diphenyl-p- 2- (o-benzoyl) oxime, 1,2-octanedione, 1- [4- (2-oxo- (Phenylthio) -2- (O-benzoyloxime), 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, Ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, Azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphosphine, benzoin peroxide, and a light reducing pigment such as eosin and methylene blue, ascorbic acid, and triethanolamine Or more can be used.

상기 광중합 광개시제의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 3중량%인 것이 바람직하다. 상기 광중합 광개시제의 함량이 0.1 중량% 미만일 경우에는 노광부의 경화 밀도가 감소할 우려가 있고, 현상 공정에서 경화막이 영향을 받을 수 있다. 반면, 상기 광개시제의 함량이 3중량%을 초과할 경우에는 도포막 상부에서 광 흡수가 과잉 되어 패턴 형성에 문제가 될 수 있다.
The content of the photopolymerization photoinitiator is preferably 0.1 to 3% by weight based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition. If the content of the photo-polymerizable photoinitiator is less than 0.1% by weight, the curing density of the exposed portion may decrease, and the cured film may be affected in the developing process. On the other hand, when the content of the photoinitiator exceeds 3% by weight, the light absorption at the upper portion of the coating film becomes excessive, which may cause problems in pattern formation.

(f) 용제(f) Solvent

상기 용제는 감광성 도전 페이스트 조성물의 점도를 조정하고, 균일한 도막을 형성하기 위해 포함되는 것으로, 상기의 감광성 바인더와 광개시제를 용해시키거나 분산시키는 기능을 한다. 상기 용제는 경화반응에 참여하지 않으며 건조온도에서 서서히 기화되도록 적당한 비점(boiling point)을 가지는 것이 바람직하다. 건조온도보다 비점이 낮은 용제를 사용하는 경우에는 경화 시 용제에 의한 휘발성 보이드 (void)가 형성되어 작업성이 떨어질 우려가 있고, 반면 비점이 높은 용제를 사용하는 경우에는 건조 후 잔존하는 용제로 인하여 부피팽창을 야기하여 경화물에 크랙이 발생하는 등 신뢰도를 저하시킬 우려가 있다.The solvent is contained to adjust the viscosity of the photosensitive conductive paste composition and form a uniform coating film, and functions to dissolve or disperse the photosensitive binder and the photoinitiator. It is preferred that the solvent does not participate in the curing reaction and has a suitable boiling point to vaporize slowly at the drying temperature. In the case of using a solvent having a boiling point lower than the drying temperature, volatile voids are formed by the solvent during curing, which may result in poor workability. On the other hand, in the case of using a solvent having a high boiling point, Causing volume expansion, thereby causing cracks in the cured product, thereby lowering the reliability.

예를 들어 상기 용제는 N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸이미다졸리디논, 디메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디아세톤알코올, 테트라히드로푸르푸릴알코올 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 사용될 수 있다.For example, the solvent may be at least one selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, dimethylimidazolidinone, dimethylsulfoxide, At least one selected from the group consisting of methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, ethylene glycol mono-n-propyl ether, diacetone alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol and propylene glycol monomethyl ether acetate Can be used.

상기 용제의 함량은, 1) 아크릴레이트계 감광성 바인더 제조단계에서 얻어진 상기 바인더 내에 잔존하는 용제와, 2) 상기 바인더를 포함하는 감광성 도전 페이스트 조성물의 점도조절을 위해 필요에 따라 더 첨가되는 용제의 투입량을 합한 것이다. 이러한 용제의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 15중량%인 것이 바람직하며, 상기 용제의 함량이 5중량% 미만일 경우에는 밀링 작업성이 저하될 우려가 있고, 반면 15중량%를 초과하는 경우에는 바인더 함량이 감소하여 접착력이 급격히 저하될 우려가 있다.
The content of the solvent is preferably 1: 1) a solvent remaining in the binder obtained in the step of producing an acrylate-based photosensitive binder, and 2) a dosage of a solvent to be added as needed for controlling the viscosity of the photosensitive conductive paste composition comprising the binder . The content of such a solvent is preferably 5 to 15% by weight based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition, and if the content of the solvent is less than 5% by weight, the milling workability may be deteriorated. On the other hand, The binder content is decreased and the adhesive strength may be rapidly lowered.

(g) 기타 첨가제(g) Other additives

본 발명의 감광성 도전 페이스트 조성물은 전도성, 저장 안정성, 인쇄성 등의 특성 향상을 위해 기타 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 이러한 첨가제로는 가소제, 커플링제, 산화 방지제, 경화 촉진제, 산란방지제, 열중합 방지제, 레벨링제, 산 첨가제, 소포제 등이 사용될 수 있다. The photosensitive conductive paste composition of the present invention may further include other additives for improving properties such as conductivity, storage stability, and printability. Examples of such additives include plasticizers, coupling agents, antioxidants, curing accelerators, scattering inhibitors, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, acid additives, defoamers and the like.

상기 기타 첨가제의 함량은 상기 감광성 도전 페이스트 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 3.0 중량%인 것이 바람직하며, 상기 첨가제의 함량이 0.1중량% 미만일 경우 원하는 기능을 발현하기 어려울 수 있고, 반면 3중량%를 초과하는 경우에는 전도성이나 인쇄성 및 현상성 등의 저하 현상이 유발될 수 있다.
The content of the other additives is preferably 0.1 to 3.0% by weight based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition, and when the content of the additive is less than 0.1% by weight, it may be difficult to exhibit a desired function, , A phenomenon of deterioration such as conductivity, printability and developability may be caused.

이하, 실시예를 통하여 본 발명을 설명하지만 본 발명이 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

실시예 1Example 1

<실록산계 감광성 가교제의 제조>&Lt; Preparation of siloxane photosensitive crosslinking agent &

실록산계 감광성 가교제를 제조를 위한 단량체로서 비닐트리메톡시실란, 다이페닐실란디올, 다이메틸다이메톡시실란을 준비하였다.Vinyltrimethoxysilane, diphenylsilanediol, and dimethyldimethoxysilane were prepared as monomers for the production of the siloxane-based photosensitive crosslinking agent.

먼저, 반응 용기 내에 용제인 아세톤 50g을 투입하고 상기 비닐트리메톡시실란 30g, 상기 다이페닐실란디올 100g, 다이메틸다이메톡시실란 35g, 및 촉매인 바륨하이드록사이드 모노하이드레이트 1g을 투입하고 30분간 교반을 시켰다. 이어서, 60℃까지 승온 후 24시간 축합반응을 실시했다. 그 후, 흡착제(KYOWAAD 700SL®) 4g 투입하여 촉매를 제거한 후 가압필터로 흡착제를 제거한 후 용제를 제거하여 실록산계 감광성 가교제를 제조하였다.First, 50 g of acetone as a solvent was charged into a reaction vessel, 30 g of the vinyltrimethoxysilane, 100 g of diphenylsilanediol, 35 g of dimethyldimethoxysilane and 1 g of barium hydroxide monohydrate as a catalyst were added thereto, Followed by stirring. Subsequently, the temperature was raised to 60 占 폚, and a condensation reaction was carried out for 24 hours. Thereafter, 4 g of an adsorbent (KYOWAAD 700SL®) was added to remove the catalyst, the adsorbent was removed with a pressurizing filter, and the solvent was removed to prepare a siloxane photosensitive crosslinking agent.

<아크릴계 바인더의 제조> &Lt; Preparation of acrylic binder &

반응 용기 내에 Texanol 130g을 투입하고 60℃까지 승온시켰다. 이것에 메타크릴 산 30g, 메틸 메타크릴레이트 17g, 벤질메타크릴레이트 45g, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 3.7g 이루어진 혼합물을 투입한 후 6시간 동안 중합 반응을 행했다. 이어서, 70℃로 반응 온도를 승온한 후, 글리시딜메타크릴레이트 20g, 테트라부틸암모늄클로라이드 1g으로 이루어진 혼합물을 투입했다. 투입 후, 4시간 동안 부가 반응을 행했다.130 g of Texanol was charged into the reaction vessel and the temperature was raised to 60 캜. A mixture of 30 g of methacrylic acid, 17 g of methyl methacrylate, 45 g of benzyl methacrylate and 3.7 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile was added thereto, and polymerization was carried out for 6 hours. Subsequently, after the reaction temperature was raised to 70 占 폚, a mixture of 20 g of glycidyl methacrylate and 1 g of tetrabutylammonium chloride was added. After the addition, the addition reaction was carried out for 4 hours.

<감광성 유기 조성물의 제조> &Lt; Preparation of photosensitive organic composition >

감광성 유기 조성물은 상기의 아크릴레이트 바인더 성분 13g에, 상기 제조된 실록산계 감광성 가교제 비닐페닐메틸 실록산 4g을 첨가한 후 지방산계 분산제인 올레산(Oleic acid) 0.54g, 첨가제 0.54g을 첨가한 후 오버헤드 교반기로 혼합하면서 프리 믹싱을 시킨다. 이어서 광개시제인 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드(2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide) 0.54g을 첨가시켜서 공전 자전이 가능한 Thinky Mixer 교반기를 이용하여 감광성 유기성분에 개시제를 용해시키며 균일하게 혼합하여 감광성 유기 조성물을 제조하였다.The photosensitive organic composition was prepared by adding 4 g of the prepared siloxane photosensitive crosslinking agent vinylphenylmethylsiloxane to 13 g of the acrylate binder component, adding 0.54 g of oleic acid as a fatty acid-based dispersing agent and 0.54 g of an additive, Mix with a stirrer while pre-mixing. Then, 0.54 g of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide as a photoinitiator was added thereto, and the mixture was stirred with a Thinky Mixer stirrer capable of revolution. The initiator was dissolved and homogeneously mixed to prepare a photosensitive organic composition.

<감광성 도전 페이스트의 제조>&Lt; Preparation of Photosensitive Conductive Paste >

상기 제조된 감광성 유기 조성물에 평균입경이 2.6um인 원형 실버 파우더 80g을 첨가한 후 Thinky Mixer 교반기를 이용하여 프리 믹싱을 하여 혼합한 후 3-Roll Mill에 수회 통과시켜 균일하게 분산시켰다. 이후 탈포기로 진공에서 탈포하여 감광성 도전 페이스트를 제조하였다. 필요시 용제를 첨가하여 점도를 조절하였다.80 g of circular silver powder having an average particle diameter of 2.6 .mu.m was added to the photosensitive organic composition, and the mixture was pre-mixed using a Thinky Mixer stirrer, mixed and passed through a 3-roll mill several times to disperse uniformly. Thereafter, it was defoamed in a vacuum with a deaerator to prepare a photosensitive conductive paste. The viscosity was adjusted by adding a solvent if necessary.

<감광성 도전 페이스트의 패턴 형성>&Lt; Pattern Formation of Photosensitive Conductive Paste &

상기 제조된 감광성 도전 페이스트를 스크린 인쇄 방법으로 POLY 420 메쉬의 제판을 사용하여 기판에 인쇄 코팅하였다. 90℃에서 10분간 전열 처리 공정(Pre-bake)을 거친 후 150mJ/㎠의 자외선(UV)으로 경화하고, 탄산나트륨(Na2CO3) 0.5% 알칼리 수용액으로 비노광 부위를 용해하여 현상시킨 후 DI Water로 세정하여 패턴을 형성하였다. 현상 시간은 전열 처리 공정 후의 전면 인쇄부의 용해 시간을 측정하여 기준으로 삼는다. 현상 및 세정 공정 완료 후 160℃에서 30분의 후열 처리 공정을 거쳐 전도성 도막을 형성하였다.
The photosensitive conductive paste prepared above was printed and coated on a substrate using a plate of POLY 420 mesh by a screen printing method. Baked at 90 ° C for 10 minutes, cured by ultraviolet rays (UV) at 150 mJ / cm 2, developed by dissolving non-exposed areas with an aqueous solution of sodium carbonate (Na 2 CO 3) 0.5% To form a pattern. The development time is measured by measuring the dissolution time of the front printing portion after the electrothermal treatment process. After completion of the development and cleaning process, the conductive coating film was formed through a post-heat treatment process at 160 ° C for 30 minutes.

실시예 2, 3, 비교예 1 및 2Examples 2 and 3, Comparative Examples 1 and 2

은 분말(Ag Powder), 아크릴레이트계 바인더, 실록산계 가교제, 삼관능기 가교제, 분산제, 첨가제, 광개시제, 용제의 함량을 하기 표 1과 같이 조절한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 도막을 형성하였다. 하기 표 1에 기재된 성분들의 함량 단위는 중량%이다.The procedure of Example 1 was repeated except that the contents of silver powder, an acrylate binder, a siloxane crosslinker, a trifunctional crosslinker, a dispersant, an additive, a photoinitiator and a solvent were controlled as shown in Table 1 below, . The content units of the ingredients listed in the following Table 1 are% by weight.

성분ingredient 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 은 분말1) Silver powder 1) 8080 8080 8080 8080 8080 바인더2) Binder 2) 1111 99 77 1111 1313 실록산계 가교제3) Siloxane crosslinking agent 3) 44 66 88 -- 22 삼관능기 가교제4) Trifunctional cross-linking agent 4) -- -- -- 44 -- 분산제5) Dispersant 5) 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 첨가제6) Additive 6) 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 광개시제7) Photoinitiator 7) 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 용제8) Solvent 8) 3.53.5 3.53.5 3.53.5 3.53.5 3.53.5 합계Sum 100100 100100 100100 100100 100100

1) 은 분말(Ag Powder): 평균입경 2.6㎛ 구형 분말1) silver powder (Ag Powder): 2.6 탆 average particle size spherical powder

2) 아크릴레이트계 바인더 (고형분 50%)2) Acrylate type binder (solid content 50%)

3) 실록산계 가교제 (고형분80%)3) Siloxane crosslinking agent (solid content 80%)

4) 삼관능기 가교제: Trimethylolpropane triacrylate (Sigma aldrich)4) Trifunctional crosslinking agent: Trimethylolpropane triacrylate (Sigma aldrich)

5) 분산제: Oleic acid (Sigma aldrich)5) Dispersant: Oleic acid (Sigma aldrich)

6) 첨가제: 레벨링제(BYK-354, BYK)6) Additives: leveling agent (BYK-354, BYK)

7) 광개시제: Phosphineoxide계 광개시제 (BASF Japan.Ltd.)7) Photoinitiator: Phosphine oxide photoinitiator (BASF Japan.Ltd.)

8) 용제: 텍사놀(Sigma aldrich)
8) Solvent: Tecanol (Sigma aldrich)

상기 실시예 1 내지 3, 비교예 1 및 2에 따라 제조된 전도성 도막의 비저항, 해상도 및 부착력을 하기의 평가방법에 의해 평가하고, 그 결과를 하기의 표 2 및 도 2에 나타내었다.Resistivity, resolution and adhesion of the conductive coating films prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated by the following evaluation methods, and the results are shown in the following Table 2 and FIG.

비저항(Ω·㎝):Resistivity (Ω · cm):

상기 실시예 1 내지 3, 비교예 1 및 2에 따라 제조된 전도성 도막의 표면저항을 4-point probe 표면저항 측정기(FPD-RS 8, DASOL ENG)를 이용하여 측정하였다. 패턴 막의 두께는 조도계(SURFCOM 130A, 동경정밀)로 측정하였고, 표면 저항값과 막 두께로부터 비저항값을 산출하였다.The surface resistances of the conductive coatings prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were measured using a 4-point probe surface resistance meter (FPD-RS 8, DASOL ENG). The thickness of the patterned film was measured with an illuminometer (SURFCOM 130A, Tokyo Precision), and the resistivity value was calculated from the surface resistance and the film thickness.

해상도(L/S, ㎛):Resolution (L / S, 탆):

상기 전도성 도막 패턴의 라인 앤드 스페이스(L/S) 선폭을 광학현미경 (LS540IM, TESCO)으로 측정하였다.The line-and-space (L / S) line width of the conductive coating film pattern was measured with an optical microscope (LS540IM, TESCO).

부착력:Adhesion:

상기 실시예 1 내지 3, 비교예 1 및 2에 따라 제조된 감광성 도전 페이스트로 형성한 전극의 부착력 시험은 ASTM D 3359 의 방법에 의하여 진행하였으며, 패턴 전극의 형상은 광학현미경(LS540IM, TESCO)으로 이미지화 하여 나타내었다. 이는 도 2에 나타내었다.The adhesion test of the electrode formed of the photosensitive conductive paste prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 was carried out according to the method of ASTM D 3359 and the shape of the pattern electrode was measured with an optical microscope (LS540IM, TESCO) Respectively. This is shown in Fig.

비저항(Ω·㎝)Resistivity (Ω · cm) 해상도(L/S, ㎛)Resolution (L / S, 탆) 실시예 1Example 1 6.1 X 10-5 6.1 X 10 -5 20/2020/20 실시예 2Example 2 1.1 X 10-4 1.1 X 10 -4 20/2020/20 실시예 3Example 3 2.5 X 10-4 2.5 X 10 -4 20/2020/20 비교예 1Comparative Example 1 8.9 X 10-5 8.9 X 10 -5 20/2020/20 비교예 2Comparative Example 2 4.3 X 10-5 4.3 X 10 -5 20/2020/20

상기 표 2를 살펴보면, 본 발명에 따라 제조된 실시예 1 내지 3의 감광성 도전 페이스트 조성물은 20㎛/20㎛(L/S)까지의 미세 선폭을 갖는 저저항의 전도성 도막을 형성한 것을 확인할 수 있다. 다만, 실록산계 가교제를 포함하지 않는 비교예 1의 감광성 도전 페이스트 조성물은 비교적 낮은 수준의 비저항을 나타내었으나 실록산계 가교제를 포함한 경우에 비해 상대적으로 부착력이 낮은 수준이다. 도 2를 참조하면, 실록산계 가교제를 2중량%로 포함하는 비교예 2의 감광성 도전 페이스트 조성물의 경우 부착력이 저하됨을 알 수 있다.
As shown in Table 2, it was confirmed that the photosensitive conductive paste compositions of Examples 1 to 3 prepared according to the present invention had a low-resistance conductive coating film having a fine line width of 20 μm / 20 μm (L / S) have. However, the photosensitive conductive paste composition of Comparative Example 1 which did not include the siloxane crosslinking agent exhibited a relatively low specific resistance, but the adhesive strength was relatively low as compared with the case of containing the siloxane crosslinking agent. 2, the adhesion of the photosensitive conductive paste composition of Comparative Example 2 containing 2% by weight of the siloxane crosslinking agent is lowered.

Claims (7)

(a) 도전성 금속 분말 70 내지 90중량%;
(b) 불포화 이중결합을 가지는 아크릴레이트계 감광성 바인더 1 내지 20중량%;
(c) 하기 화학식 1로 표시되는 제1 반복 단위, 하기 화학식 2로 표시되는 제2 반복 단위 및 하기 화학식 3으로 표시되는 제3 반복 단위를 포함하는 다관능기를 가지는 실록산계 감광성 가교제 4 내지 10중량%;
(d) 분산제 0.1 내지 3중량%;
(e) 광개시제 0.1 내지 3중량%; 및
(f) 여분의 용제를 포함하는 감광성 도전 페이스트 조성물.
Figure 112016070288073-pat00009

[화학식 1]
Figure 112016070288073-pat00010

[화학식 2]
Figure 112016070288073-pat00011

[화학식 3]
(여기서, R1은 -CH=CH2 또는 -CH2CH2CH2OOCC(CH3)=CH2이고, R2는 -CH3 또는 -OCH3이고, R3는 -OCH3 또는 -OCH2CH3이다.)
(a) 70 to 90% by weight of a conductive metal powder;
(b) 1 to 20% by weight of an acrylate-based photosensitive binder having an unsaturated double bond;
(c) 4 to 10 weight parts of a siloxane photosensitive crosslinking agent having a polyfunctional group containing a first repeating unit represented by the following formula (1), a second repeating unit represented by the following formula (2) and a third repeating unit represented by the following formula %;
(d) 0.1 to 3% by weight of a dispersant;
(e) 0.1 to 3% by weight of a photoinitiator; And
(f) an extra solvent.
Figure 112016070288073-pat00009

[Chemical Formula 1]
Figure 112016070288073-pat00010

(2)
Figure 112016070288073-pat00011

(3)
(Wherein R1 is -CH = CH2 or -CH2CH2CH2OOCC (CH3) = CH2, R2 is -CH3 or -OCH3, and R3 is -OCH3 or -OCH2CH3.
삭제delete 제1항에 있어서, 상기 실록산계 감광성 가교제는,
상기 제1 반복 단위 내지 제3 반복 단위의 총 몰수에 대하여, 상기 제1 반복 단위를 10 내지 30몰%, 상기 제2 반복 단위를 30 내지 50몰% 및 상기 제3 반복 단위를 20 내지 60몰% 로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 도전 페이스트 조성물.
The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the siloxane photosensitive cross-
Wherein the first repeating unit is contained in an amount of 10 to 30 mol%, the second repeating unit is contained in an amount of 30 to 50 mol%, and the third repeating unit is contained in an amount of 20 to 60 mol% based on the total number of moles of the first to third repeating units %, Based on the total weight of the photosensitive conductive paste composition.
제3항에 있어서, 상기 실록산계 감광성 가교제는 하기 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 감광성 도전 페이스트 조성물:
Figure 112016070288073-pat00012

[화학식 4]
(여기서, R1은 -CH=CH2 또는 -CH2CH2CH2OOCC(CH3)=CH2이고, R2는 -CH3 또는 -OCH3이고, R3는 -OCH3 또는 -OCH2CH3이며,
a는 10 내지 30, b는 30 내지 50, c는 20 내지 60이고, a+b+c = 100이다.)
4. The photosensitive conductive paste composition according to claim 3, wherein the siloxane photosensitive crosslinking agent is represented by the following formula (4)
Figure 112016070288073-pat00012

[Chemical Formula 4]
Wherein R 1 is -CH = CH 2 or -CH 2 CH 2 CH 2 OCC CH 3 = CH 2, R 2 is -CH 3 or -OCH 3, R 3 is -OCH 3 or -OCH 2 CH 3,
a is from 10 to 30, b is from 30 to 50, c is from 20 to 60, and a + b + c = 100.
제1항에 있어서, 상기 도전성 금속 분말은 은(Ag), 금(Au), 코발트(Co), 니켈(Ni) 및 구리(Cu)로 이루어진 그룹에서 선택된 하나이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 도전 페이스트 조성물.The method according to claim 1, wherein the conductive metal powder comprises at least one selected from the group consisting of silver (Ag), gold (Au), cobalt (Co), nickel (Ni), and copper (Cu) Conductive paste composition. 제1항에 있어서, 상기 도전성 금속 분말은 구형, 각형 및 판형으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 입형을 가지는 것을 특징으로 하는 감광성 도전 페이스트 조성물.The photosensitive conductive paste composition according to claim 1, wherein the conductive metal powder has at least one shape selected from the group consisting of spherical, angular, and plate shapes. 제1항에 있어서, 상기 도전성 금속 분말은 평균입경(D50)이 서로 다른 2종 이상의 금속 분말을 혼합한 것을 특징으로 하는 감광성 도전 페이스트 조성물.The photosensitive conductive paste composition according to claim 1, wherein the conductive metal powder is a mixture of two or more metal powders having different average particle sizes (D50).
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