KR101641453B1 - 박막 증착 장치 - Google Patents

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KR101641453B1 KR1020150006865A KR20150006865A KR101641453B1 KR 101641453 B1 KR101641453 B1 KR 101641453B1 KR 1020150006865 A KR1020150006865 A KR 1020150006865A KR 20150006865 A KR20150006865 A KR 20150006865A KR 101641453 B1 KR101641453 B1 KR 101641453B1
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Abstract

본 발명은 박막 증착 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 박막 증착 장치는 내부공간이 형성되고, 상기 내부공간과 접하는 차단막의 일 영역에 증착 대상 기판이 배치되는 개구부가 형성된 챔버;와, 상기 챔버의 내부공간 내에서 이동하면서 차단막을 향해 증착 소스를 제공하는 소스 공급부; 및, 상기 개구부의 적어도 일측에서 상기 소스 공급부와 차단막 사이에 배치되어 차단막을 향해 분사되는 증착 소스를 수집하는 소스 수집부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 증착 물질이 챔버 내부공간에 불필요하게 공급되는 것을 방지할 수 있는 것과 동시에, 소스 수집부를 통해 수집된 증착 물질을 재활용할 수 있는 박막 증착 장치가 제공된다.

Description

박막 증착 장치{THIN FILM DEPOSITION APPARATUS}
본 발명은 박막 증착 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착 물질이 챔버 내부공간에 불필요하게 공급되는 것을 방지할 수 있는 것과 동시에, 소스 수집부를 통해 수집된 증착 물질을 재활용할 수 있는 박막 증착 장치에 관한 것이다.
일반적으로 유기전계 발광소자(OLED: Organic Light Emitting Diodes)는 종래의 액정표시장치(LCD: liquid crystal display)보다 낮은 전압에서 구동이 가능하고 박형화, 광시야각, 빠른 응답속도 등 LCD에서 문제로 지적되고 있는 결점을 해소할 수 있다.
유기전계 발광소자는 화소마다 스위칭 소자가 없는 패시브 매트릭스형 유기전계 발광소자(Passive Matrix OLED)와, 각 화소마다 박막트렌지스터를 이용하여 스위칭 소자를 형성하여 이용하는 액티브 매트릭스형 유기전계 발광소자(Active Matrix OLED)로 분류될 수 있다. 이 중에서도 액티브 매트릭스형 유기전계 발광소자의 구조는 기판상에 유기발광부를 형성하고, 유기발광부를 인캡슐레이션(Encapsulation)하여 유기물로 이루어진 유기발광부가 산소 및 수분과 접촉되어 산화 또는 열화되는 것을 방지한다.
종래의 인캡슐레이션 방법은 금속 또는 유리 재질로 이루어진 캡으로 유기발광부를 밀폐하였다. 그러나, 이러한 방법은 박형화가 어려울 뿐만 아니라, 금속이나 유리를 사용함으로써, 휘어지는 디스플레이를 구현하기 어려운 문제점이 있다. 최근에는 폴리머층(Polymer layer)와 무기물층(Inorganic layer)이 반복적으로 적층된 보호막을 유기발광부의 표면에 형성하는 방법이 제시된다. 이러한 방법은 무기물과 모노머(Monomer)를 다층으로 증착하면서 자외선(UV)으로 경화시켜서 모노머가 폴리머로 변환되게 하여 제조한다.
이러한 보호막을 형성하기 위한 종래의 모노머 증착장치는, 액상의 모노머가 담긴 용기로부터 모노머를 기화시켜서 내부공간이 형성된 증착유닛에 일정시간 저장하였다가 기판에 기체 상태의 모노머를 분사한다. 기판에 일정한 두께로 모노머가 증착되면, 기판을 경화하여 모노머가 폴리머로 변하게 된다.
상기와 같은 모노머 증착 과정에서 일부의 모노머 증기는 기판에 증착되고, 나머지 모노머 증기는 기판 주변으로 이동하여 기판 주변의 부재들에 증착되게 된다. 한편, 기판은 이송유닛에 의해 일방향으로 이송되고, 기판이 일방향으로 이송되면서 기판의 일면에 모노머 증기가 증착될 수 있다. 여기서, 기판에 증착되지 않은 모노머 증기들이 이송유닛에 증착되게 된다. 이러한 모노머에 의해 이송유닛의 동작이 불안정해지거나 파손될 가능성이 있다. 이러한 경우에는 모노머 증착장치의 동작을 정지시키고 이송유닛에 증착된 모노머를 제거한다. 또한, 모노머의 제거가 어려운 경우에는 이송유닛을 교체한다. 이러한 메인터넌스 작업을 하는 동안에는 공정이 정지됨으로써, 생산성이 감소되는 문제점이 있다. 또한, 이송유닛 뿐만 아니라 기판 주변의 부재들의 교체 주기가 짧아질수록 메인터넌스 비용이 증가되어 제조비용이 상승하는 문제점이 있다.
또한, 상기와 같은 증착 방법은 증착 효율이 낮다는 문제점이 있다. 이때, 증착 효율이라는 것은 증착원에서 기화된 증착재중 실제로 기판에 증착된 증착재의 비율을 의미하는 것으로서, 증착 효율은 대략 32% 이다. 더욱이, 종래의 FMM을 이용한 증착 방법에는 증착에 사용되지 않은 대략 68% 정도의 증착재가 박막 증착 장치 내부의 소망하지 않은 영역에 증착되기 때문에 재활용이 용이하지 않은 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 증착 물질이 챔버 내부공간에 불필요하게 공급되는 것을 방지할 수 있는 것과 동시에, 소스 수집부를 통해 수집된 증착 물질을 재활용할 수 있는 박막 증착 장치를 제공함에 있다.
또한,트랩이 소스 공급부와 함께 이동하면서 소스 공급부로부터 배출되는 증착 물질을 회수하도록 구성함으로써, 소스 공급부로부터 배출되는 증착 물질이 챔버의 불필요한 공간으로 확산되는 것을 방지할 수 있는 박막 증착 장치를 제공함에 있다.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 내부공간이 형성되고, 상기 내부공간과 접하는 차단막의 일 영역에 증착 대상 기판이 배치되는 개구부가 형성된 챔버;와, 상기 챔버의 내부공간 내에서 이동하면서 차단막을 향해 증착 소스를 제공하는 소스 공급부; 및, 상기 개구부의 적어도 일측에서 상기 소스 공급부와 차단막 사이에 배치되어 차단막을 향해 분사되는 증착 소스를 수집하는 소스 수집부;를 포함하는 박막 증착 장치에 의해 달성된다.
여기서, 상기 소스 수집부는, 소스 공급부와 마주하는 면에 유입구가 형성되어 상기 소스 공급부의 상측에 배치되는 트랩;과, 상기 트랩을 소스 공급부와 나란한 방향으로 왕복 이동시키는 구동부;와, 일단부는 상기 트랩의 유입구와 연결되고 타단부는 챔버의 외부로 연결되어 트랩에 수집되는 증착 소스를 배출하는 배출부;를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 구동부는, 일단부가 챔버에 회동가능하게 연결되고 타단부는 트랩에 연결되어 트랩을 소스 공급부와 나란한 방향으로 왕복 이동시키는 구동링크와, 상기 구동링크에 구동력을 제공하는 구동모터를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 트랩은 챔버의 내벽면에 소스 공급부와 나란한 방향으로 설치되는 선형가이드에 의해 왕복 이동이 안내되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 배출부는, 일단부가 챔버에 회동가능하게 연결되고 타단부는 트랩에 연결되는 연결링크와, 상기 연결링크의 내부에 길이방향으로 형성되어 트랩과 챔버의 외부공간을 연결하는 배출통로를 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 증착 물질이 챔버 내부공간에 불필요하게 공급되는 것을 방지할 수 있는 것과 동시에, 소스 수집부를 통해 수집된 증착 물질을 재활용할 수 있는 박막 증착 장치가 제공된다.
또한, 트랩이 소스 공급부와 함께 이동하면서 소스 공급부로부터 배출되는 증착 물질을 회수하도록 구성함으로써, 소스 공급부로부터 배출되는 증착 물질이 챔버의 불필요한 공간으로 확산되는 것을 방지할 수 있는 박막 증착 장치가 제공된다.
도 1은 본 발명 박막 증착 장치의 사시도,
도 2 및 도 3은 본 발명 박막 증착 장치의 작용을 나타내는 사시도,
도 4 내지 도 6은 본 발명 박막 증착 장치의 작용을 나타내는 정단면도이고,
도 7은 본 발명 박막 증착 장치의 소스 수집부의 구성을 나타내는 측단면도이다.
설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서 설명하기로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 제1실시예에 따른 박막 증착 장치에 대하여 상세하게 설명한다.
첨부도면 중 도 1은 본 발명 박막 증착 장치의 사시도이고, 도 2 및 도 3은 본 발명 박막 증착 장치의 작용을 나타내는 사시도이다.
상기와 같은 본 발명 박막 증착 장치는, 챔버(110)와, 챔버(110) 내부에서 이동하는 소스 공급부(120)와, 챔버(110) 내부의 일부 영역에서 소스 공급부(120)와 함께 이동하는 소스 수집부(130)를 포함하여 구성된다.
상기 챔버(110)는 내부공간(111)이 형성되고, 상기 내부공간(111)과 접하는 차단막(112)의 일 영역에 증착 대상 기판이 배치되는 개구부(113)가 형성된다.
상기 소스 공급부(120)는 상기 챔버(110)의 내부공간(111) 내에서 이동하면서 차단막(112)을 향해 증착 소스를 제공한다.
한편, 상기 소스 공급부(120)는 챔버(110)의 내부공간(111) 일측에 배치된 상태에서 타측까지 왕복 이동하는 것으로, 소스 공급부(120)의 이동구간 중 개구부(113)에 대응하는 영역에서 소스 공급부(120)로부터 제공된 소스가 기판에 증착되고, 개구부(113)가 형성되지 않은 영역에서는 박막의 균일한 증착을 위해 소스를 일정하게 제공하도록 설정된다. 이러한 소스 공급부(120)는 증착 물질을 수용하는 용기와, 상기 증착 물질을 가열하는 가열 부재 및 상기 가열 부재에 의해 가열된 상기 증착 물질을 증착 대상 측으로 제공하는 노즐을 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 소스 공급부(120)의 이동구간 중 개구부(113)가 형성된 영역은 증착 구간(A1)이라고 하고, 소스 공급부(120)의 초기 위치로부터 개구부(113)에 이르는 영역은 차단 구간(A2)이라고 한다.
또한, 챔버(110)의 내부공간(111)과 접하는 바닥면에는 소스 공급부(120)의 이동을 안내하는 레일(121)이 마련되고, 상기 소스 공급부(120)는 도시하지 않은 구동수단에 의해 레일(121) 상에서 왕복이동하도록 구성될 수 있다.
상기 소스 수집부(130)는 상기 개구부(113)의 적어도 일측에서 상기 소스 공급부(120)와 차단막(112) 사이에 배치되어 내부공간(111)과 접하는 차단막(112)의 내측면 중 개구부(113)가 형성되지 않은 부분을 향해 분사되는 증착 소스를 수집하는 것이다. 이러한 소스 수집부(130)는, 상기 소스 공급부(120)와 마주하는 면에 유입구(131a)가 형성되어 상기 소스 공급부(120)의 상측에 배치되는 트랩(131)과, 챔버(110)의 내벽면에 소스 공급부(120)와 나란한 방향으로 설치되어 상기 트랩(131)의 이동을 안내하는 선형가이드(133)와, 상기 트랩(131)을 소스 공급부(120)와 나란한 방향으로 왕복 이동시키는 구동부(132)와, 일단부는 상기 트랩(131)의 유입구(131a)와 연결되고 타단부는 챔버(110)의 외부로 연결되어 트랩(131)에 수집되는 증착 소스를 배출하는 배출부(134)를 포함하여 구성된다.
여기서, 상기 구동부(132)는, 일단부는 챔버(110)에 회동가능하게 연결되고 타단부는 트랩(131)의 일단부에 회동가능하게 연결되어 트랩(131)을 소스 공급부(120)와 나란한 방향으로 왕복 이동시키는 적어도 하나의 관절이 마련된 구동링크(132a)와, 상기 구동링크(132a)의 일단부에 회전구동력을 제공하여 구동링크(132a)가 절첩되도록 하는 구동모터(132b)를 포함하여 구성된다.
상기 배출부(134)는, 일단부는 챔버(110)에 회동가능하게 연결되고 타단부는 트랩(131)의 타단부에 회동가능하게 연결되는 적어도 하나의 관절이 마련된 연결링크(134a)와, 상기 연결링크(134a)의 내부에 길이방향으로 형성되어 트랩(131)과 챔버(110)의 외부공간을 연결하는 배출통로(134b)를 포함하여 구성된다. 한편, 도면에는 도시하지 않았으나 챔버(110) 외부에 위치하는 상기 배출통로(134b)의 타단부에는 증착 물질을 수집하기 위한 별도의 수집장치가 마련될 수 있다.
지금부터는 상술한 박막 증착 장치의 제1실시예의 작동에 대하여 설명한다.
첨부도면 중, 도 4 내지 도 6은 본 발명 박막 증착 장치의 박막 증착 작용을 나타내는 정단면도이고, 도 7은 본 발명 박막 증착 장치의 소스 수집부(130)의 구성을 나타내는 측단면도이다.
도 4 및 도 2에 도시된 바와 같이, 소스 공급부(120)는 챔버(110)의 내부공간(111) 중 개구부(113)가 형성되지 않은 측에서 레일(121)을 따라 수평방향으로 이동 가능하게 배치되고, 소스 수집부(130)의 트랩(131)은 소스 공급부(120)의 상측에서 선형가이드(133)를 따라 소스 공급부(120)와 나란한 방향으로 이동 가능하게 배치된다.
여기서, 소스 공급부(120)는 챔버(110)의 내부공간(111) 중 차단 구간(A2)과 증착 구간(A1)을 포함하는 구간을 왕복 이동하고, 소스 수집부(130)는 챔버(110)의 내부공간(111) 중 개구부(113)가 형성되지 않은 차단 구간(A2) 내에서 소스 공급부(120)와 함께 이동한다.
소스 공급부(120)는 증착 구간(A1)의 개구부(113)상에 배치되는 기판에 균일한 두께의 박막을 형성하기 위해 차단 구간(A2)에서부터 증착 물질을 증착 대상 측으로 제공한다. 이때, 상기 소스 수집부(130)는 차단 구간(A2) 내에서 소스 공급부(120)로부터 차단막(112)의 내측면을 향해 제공되는 증착 물질을 수집하여 회수함으로써 증착 물질이 불필요하게 챔버(110) 내부에 증착되거나 확산되는 것을 방지할 수 있다.
즉, 도 5 및 도 3에 도시된 바와 같이, 소스 공급부(120)가 증착 물질의 제공을 개시한 상태에서, 도 4에 도시된 위치로부터 도 5에 도시된 위치, 즉 차단 구간(A2) 내에서 증착 구간(A1)을 향해 이동하는 동안, 소스 공급부(120)의 상측에 배치된 소스 수집부(130)의 트랩(131)이 소스 공급부(120)와 함께 이동하면서 소스 공급부(120)로부터 제공되는 증착 물질을 흡입하여 챔버(110) 외부로 배출한다.
즉, 도시되지 않은 소스 공급부(120)의 구동수단에 의해 소스 공급부(120)가 레일(121)상에서 수평방향으로 위치 이동하는 것과 동시에, 소스 수집부(130)의 구동링크(132a)가 구동모터(132b)에 의해 회동하면서 트랩(131)을 화살표 "A"방향으로 밀어내면, 선형가이드(133)에 의해 이동이 안내되는 트랩(131)이 소스 공급부(120)와 나란한 방향으로 이동하면서 소스 공급부(120)로부터 배출되는 증착 물질을 흡입한다.
구체적으로, 도 7에 도시된 바와 같이, 소스 수집부(130)의 트랩(131)은 챔버(110)의 내부공간(111)과 접하는 차단막(112)에 설치된 선형가이드(133)에 의해 소스 공급부(120)와 나란한 방향으로 이동하도록 설치되고, 트랩(131)의 일측과 구동모터(132b)를 연결하는 절첩식 구동링크(132a)는 구동모터(132b)의 구동방향에 따라 회동하면서 절첩된다. 따라서 트랩(131)은 구동모터(132b)의 구동방향에 따라 소스 공급부(120)의 상측에서 선형가이드(133)를 따라 왕복이동하므로 구동모터(132b)를 제어하여 트랩(131)이 소스 공급부(120)의 상측에서 소스 공급부(120)와 함께 이동하게 할 수 있다.
또한, 상기 트랩(131)의 타측에는 내부에 배출통로(134b)가 형성된 절첩식 연결링크(134a)로 구성된 배출부(134)가 마련되어 트랩(131)의 유입구(131a)로 흡입되는 증착 물질을 챔버(110)의 외부로 배출한다.
상기와 같이, 기판에 증착이 이루어지지 않는 차단 구간(A2) 내에서는 소스 공급부(120)와 함께 소스 수집부(130)의 트랩(131)이 이동하면서 소스 공급부(120)로부터 배출되는 증착 물질을 회수하므로 챔버(110) 내부에 불필요하게 증착 물질이 배출되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 챔버(110)를 상압으로 전환한 후 챔버(110) 내부에 누적된 증착 물질을 제거하고 다시 진공으로 전환하는 유지보수 과정을 최소화할 수 있으므로 장비의 생산성을 향상시킬 수 있다.
아울러, 트랩(131)이 소스 공급부(120)와 함께 이동하면서 소스 공급부(120)로부터 배출되는 증착 물질을 회수하도록 구성함으로써, 소스 공급부(120)로부터 배출되는 증착 물질이 챔버(110)의 불필요한 공간으로 확산되는 것을 방지할 수 있다.
한편, 도 6에 도시된 바와 같이, 소스 공급부(120)는 차단 구간(A2)을 통과한 이후 증착 구간(A1)을 지나면서 개구부(113)를 향해 증착 물질을 공급하여 개구부(113)의 상측에 배치된 기판에 증착 물질이 증착되도록 하고, 소스 수집부(130)는 개구부(113)에 도달하기 전 차단 구간(A2)의 말단부에서 정지한다.
한편, 도면에서 도시하지는 않았으나, 소스 공급부(120)가 반대방향으로 이동하는 과정에서 차단 구간(A2)으로 진입하면, 소스 수집부(130)의 트랩(131)이 소스 공급부(120)와 함께 이동하면서 소스 공급부(120)로부터 배출되는 증착 물질을 회수하여 소스 공급부(120)가 초기 위치로 이동하는 과정에서 증착 물질이 챔버(110) 내부에 불필요하게 배출되는 것을 방지한다.
본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되는 것이 아니라 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 형태의 실시예로 구현될 수 있다. 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 변형 가능한 다양한 범위까지 본 발명의 청구범위 기재의 범위 내에 있는 것으로 본다.
110:챔버, 111:내부공간, 112:제1면,
113:개구부, 120:소스 공급부, 121:레일,
130:소스 수집부, 131:트랩, 131a:흡입구,
132:구동부, 132a:구동링크, 132b:구동모터,
133:선형가이드, 134:배출부, 134a:연결링크,
134b:배출통로, A1:증착 구간, A2:차단 구간

Claims (5)

  1. 삭제
  2. 내부공간이 형성되고, 상기 내부공간과 접하는 차단막의 일 영역에 증착 대상 기판이 배치되는 개구부가 형성된 챔버;
    상기 챔버의 내부공간 내에서 이동하면서 차단막을 향해 증착 소스를 제공하는 소스 공급부; 및,
    상기 개구부의 적어도 일측에서 상기 소스 공급부와 차단막 사이에 배치되어 차단막을 향해 분사되는 증착 소스를 수집하는 소스 수집부;를 포함하며,
    상기 소스 수집부는, 소스 공급부와 마주하는 면에 유입구가 형성되어 상기 소스 공급부의 상측에 배치되는 트랩과, 상기 트랩을 소스 공급부와 나란한 방향으로 왕복 이동시키는 구동부와, 일단부는 상기 트랩의 유입구와 연결되고 타단부는 챔버의 외부로 연결되어 트랩에 수집되는 증착 소스를 배출하는 배출부를 포함하는 박막 증착 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 구동부는, 일단부가 챔버에 회동가능하게 연결되고 타단부는 트랩에 연결되어 트랩을 소스 공급부와 나란한 방향으로 왕복 이동시키는 구동링크와, 상기 구동링크에 구동력을 제공하는 구동모터를 포함하는 박막 증착 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 트랩은 챔버의 내벽면에 소스 공급부와 나란한 방향으로 설치되는 선형가이드에 의해 왕복 이동이 안내되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 배출부는, 일단부가 챔버에 회동가능하게 연결되고 타단부는 트랩에 연결되는 연결링크와, 상기 연결링크의 내부에 길이방향으로 형성되어 트랩과 챔버의 외부공간을 연결하는 배출통로를 포함하는 박막 증착 장치.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008223102A (ja) * 2007-03-14 2008-09-25 Seiko Epson Corp 蒸着装置、および蒸着方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11229123A (ja) * 1998-02-12 1999-08-24 Casio Comput Co Ltd 蒸着装置
KR20040013244A (ko) * 2002-08-05 2004-02-14 신민석 휴대단말기를 이용한 주차관리시스템
JP2005353466A (ja) * 2004-06-11 2005-12-22 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 表示装置の製造装置
KR20060080103A (ko) * 2005-01-04 2006-07-07 샬롬엔지니어링 주식회사 모바일을 이용한 노면 주차관리시스템
JP2006274398A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Sanyo Electric Co Ltd 有機膜形成装置
US7638168B2 (en) * 2005-11-10 2009-12-29 Eastman Kodak Company Deposition system using sealed replenishment container
US20070283884A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-13 Applied Materials, Inc. Ring assembly for substrate processing chamber
US20090258143A1 (en) * 2008-04-11 2009-10-15 Peck John D Reagent dispensing apparatus and delivery method
JP2014055342A (ja) * 2012-09-14 2014-03-27 Hitachi High-Technologies Corp 成膜装置
KR20140077625A (ko) * 2012-12-14 2014-06-24 삼성디스플레이 주식회사 유기물 증착 장치
KR20140125191A (ko) * 2013-04-18 2014-10-28 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR101400765B1 (ko) * 2013-08-08 2014-05-29 에이제이파크 주식회사 음성인식 주차관리시스템

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008223102A (ja) * 2007-03-14 2008-09-25 Seiko Epson Corp 蒸着装置、および蒸着方法

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