KR101621484B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리공간을 제공하며, 측벽에 개구가 형성되는 하우징 및 상기 개구를 개폐하는 도어 어셈블리를 포함하되, 상기 도어 어셈블리는 셔터, 상기 셔터가 상기 개구와 대향되는 개방위치 및 상기 셔터가 상기 개방위치를 벗어난 차단위치로 상기 셔터를 이동시키는 구동 부재, 그리고 상기 셔터와 상기 측벽 간에 일정 간격을 유지시키는 간격 유지 유닛을 포함한다. 하우징 및 셔터 각각에 자력부재가 제공된다. 이로 인해 하우징과 셔터 간에 일정 간격의 틈을 유지할 수 있다.

Description

기판처리장치{Apparatus for treating substrate}
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다.
반도체 소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착 등의 다양한 공정들이 수행된다. 이 같은 공정이 진행되기 전 또는 후에는 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 기판을 세정하는 세정공정이 실시된다.
일반적으로 기판 처리 공정은 하우징의 내부 공간에서 진행된다. 기판을 처리하는 과정으로는 하우징에 형성된 개구를 통해 기판이 반입되면, 개구를 셔터로 차단한다. 공정 진행 중에는 하우징 내부에는 다운 플로우 기류를 형성하며, 이러한 기류는 그 내부 공간에 발생된 공정 부산물이 확산되는 것을 방지한다.
도 1은 일반적인 기판처리장치를 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 하우징의 내부 공간에 형성된 일부 기류는 개구를 개폐하는 셔터를 가압한다. 이로 인해 셔터는 하우징(2)의 내측면과 접촉된 상태에서 이동되고, 셔터(4)와 하우징(2) 간의 마찰로 인해 파티클이 발생된다.
또한 하우징(2)의 내부 공간에서 고온의 케미칼 공정이 수행되는 경우, 공정 진행 시 발생되는 고온 의해 셔터는 열변형된다. 이로 인해 셔터(4)는 하우징(2)과 마찰되고 파티클을 발생시킨다.
이 결과 하우징(2)의 내부에는 셔터(4)와 하우징(2) 간의 마찰로 인해 발생된 파티클이 기판 처리 공정에 악 영향을 끼친다.
본 발명은 기판 처리 공정의 효율을 향상시킬 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 셔터가 하우징에 접촉된 상태로 이동됨에 따라 파티클이 발생되는 것을 방지할 수 있는 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 실시예는 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 처리공간을 제공하며, 측벽에 개구가 형성되는 하우징 및 상기 개구를 개폐하는 도어 어셈블리를 포함하되, 상기 도어 어셈블리는 셔터, 상기 셔터가 상기 개구와 대향되는 개방위치 및 상기 셔터가 상기 개방위치를 벗어난 차단위치로 상기 셔터를 이동시키는 구동 부재, 그리고 상기 셔터와 상기 측벽 간에 일정 간격을 유지시키는 간격 유지 유닛을 포함한다.
상기 간격 유지 유닛은 상기 일정 간격을 자력에 의해 이루어지도록 제공될 수 있다. 상기 간격 유지 유닛은 상기 셔터에 제공되는 내부 자력 부재 및 상기 내부 자력 부재에 대향되도록 상기 셔터의 외부에 위치되는 외부 자력 부재를 포함할 수 있다. 상기 내부 자력 부재와 상기 외부 자력 부재는 서로 척력이 작용하도록 제공될 수 있다. 상기 셔터의 일단부는 상기 구동 부재에 연결되고, 상기 내부 자력 부재는 상기 셔터의 타단부에 제공될 수 있다. 상기 셔터의 이동을 안내하며 상기 셔터에 이격되게 위치되는 바디를 가지는 가이드 부재를 더 포함하되, 상기 바디는 서로 마주보도록 이격되는 제1플레이트 및 제2플레이트를 구비하고, 상기 셔터의 상기 타단부는 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에 삽입되며, 상기 외부 자력 부재는 상기 제 1 플레이트에 제공되는 제 1 외부마그네틱 및 상기 제 2 플레이트에 제공되는 제 2 외부마그네틱을 포함할 수 있다. 상기 제 1 외부마그네틱 및 상기 제 2 외부마그네틱은 상기 내부 자력 부재에 비해 큰 자력을 가지도록 제공될 수 있다. 상기 제 1 외부마그네틱 및 상기 제 2 외부마그네틱은 동일한 자력을 가지도록 제공될 수 있다. 상기 내부 자력 부재는 상기 셔터의 타단부에 제공되는 제 1 내부 마그네틱 및 상기 셔터의 일단부에 제공되는 제 2 내부 마그네틱을 포함하되, 상기 외부 자력 부재는 상기 제 2 내부 마그네틱에 대향되도록 상기 측벽에 제공되는 제 3 외부 마그네틱을 포함할 수 있다. 상기 외부 자력 부재는 상기 차단위치와 마주보는 위치에서 상기 개방위치와 마주보는 영역까지 연장되게 제공될 수 있다. 상기 처리공간에 기류를 형성하는 팬 필터 유닛, 상기 처리공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 약액을 공급하는 약액 공급 유닛 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 하우징 및 셔터 각각에 자력부재가 제공된다. 이로 인해 하우징과 셔터 간에 일정 간격의 틈을 유지할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 가이드부재는 셔터의 일부를 감싸도록 제공되며, 자력부재는 셔터 및 가이드부재가 서로 대향되는 영역 각각에 제공된다. 이에 따라 셔터와 가이드 부재 간에는 서로 척력이 작용되어 셔터가 하우징에 접촉되는 것을 방지할 수 있다.
또한 본 발명의 실시예에 의하면, 가이드부재에 제공되는 외부 자력 부재는 셔터에 제공되는 내부 자력 부재에 비해 강한 자력을 가지도록 제공된다. 이에 따라 셔터가 외부 자력 부재으로부터 발생된 자성 반발력에 의해 셔터가 설정된 위치를 이탈하는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 일반적인 기판처리장치를 보여주는 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 설비를 보여주는 평면도이다.
도 3은 도 2의 기판처리장치를 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 3의 기판처리장치를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 4의 도어 어셈블리를 보여주는 사시도이다.
도 6은 도 5의 도어 어셈블리를 보여주는 수평 단면도이다.
도 7은 도 6의 도어 어셈블리의 다른 실시예를 보여주는 수평 단면도이다.
본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.
본 실시예에는 기판 상을 고온의 케미칼로 세정 처리하는 장치에 대해 설명한다. 그러나 본 실시예는 이에 한정되지 않으며, 도포 공정, 현상 공정, 식각 공정, 그리고 애싱 공정 등 다양하게 적용 가능하다.
이하, 도 2 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판처리설비를 보여주는 평면도이다. 도 2를 참조하면, 기판처리설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정챔버들(260)이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정챔버들(260)은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정챔버들(260)이 제공된다. 공정챔버(260)들 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정챔버(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정챔버(260) 간에, 그리고 공정챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정챔버(260)는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판처리장치(300)가 제공된다. 기판처리장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정챔버(260) 내의 기판처리장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
도 3은 도 2의 기판처리장치를 보여주는 평면도이고, 도 4는 도 3의 기판처리장치의 단면도이다. 도 3 및 도 4를 참조하면, 기판처리장치(300)는 하우징, 용기(320), 기판지지유닛(340), 승강유닛(360), 약액공급유닛(380), 기류공급유닛, 그리고 도어 어셈블리(400)를 포함한다.
하우징(310)은 직육면체 형상을 가진다. 하우징(310)의 내부에는 처리공간(314)을 제공한다. 하우징(310)의 측벽에는 개구(312)가 형성된다. 개구(312)는 기판(W)이 출입 가능한 입구로 기능한다.
용기(320)는 처리공간에서 개구와 대향되게 위치된다. 용기(320)는 상부가 개방된 원통 형상을 가진다. 용기(320)는 내부회수통(322), 중간회수통, 그리고 외부회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,324,326)은 공정에 사용된 약액들 중 서로 상이한 약액을 회수한다. 내부회수통(322)은 기판지지유닛(340)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 중간회수통(324)은 내부회수통(322)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 외부회수통(326)은 중간회수통(324)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부회수통(322)의 내측공간(322a), 내부회수통(322)과 중간회수통(324)의 사이공간(342a), 그리고 중간회수통(324)과 외부회수통(326)의 사이공간(326a)은 각각 내부회수통(322), 중간회수통(324), 그리고 외부회수통(326)으로 약액이 유입되는 유입구로서 기능한다. 일 예에 의하면, 각각의 유입구는 서로 상이한 높이에 위치될 수 있다. 각각의 회수통(322,324,326)의 저면 아래에는 회수라인(322b,324b,326b)이 연결된다. 각각의 회수통(322,324,326)에 유입된 약액들은 회수라인(322b,324b,326b)을 통해 외부의 약액재생시스템(미도시)으로 제공되어 재사용될 수 있다.
기판지지유닛(340)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 기판지지유닛(340)은 스핀헤드(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 회전축(348)을 가진다. 스핀헤드(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 스핀헤드(342)의 외측면은 단차지도록 제공된다. 스핀헤드(342)는 그 저면이 상부면에 비해 작은 직경을 가지도록 제공된다. 스핀헤드(342)의 외측면은 중심축과 가까워질수록 하향 경사지게 제공된다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 스핀헤드(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 스핀헤드(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 스핀헤드(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 스핀헤드(342)의 중심축에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 스핀헤드(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 기판지지유닛(340)이 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 스핀헤드(342)의 반경 방향을 따라 대기위치와 지지위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지위치에 비해 스핀헤드(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 기판지지유닛(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지위치에 위치된다. 지지위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.
회전축(348)은 스핀헤드(342)를 회전시키도록 몸체(348)에 결합된다. 회전축(348)은 스핀헤드(342)의 아래에 위치된다. 회전축(348)은 그 길이방향이 제3방향을 향하도록 제공된다. 회전축(348)은 스핀헤드(342)의 저면에 고정결합된다. 회전축(348)은 구동부재(349)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 스핀헤드(342)는 회전축(348)과 함께 회전되도록 제공된다.
승강유닛(360)은 용기(320)를 상하 방향으로 직선이동시킨다. 용기(320)가 상하로 이동됨에 따라 기판지지유닛(340)에 대한 용기(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 용기(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 기판지지유닛(340)로부터 들어올려 질 때 기판지지유닛(340)이 용기(320)의 상부로 돌출되도록 용기(320)는 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 약액의 종류에 따라 약액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 용기(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강유닛(360)은 기판지지유닛(340)을 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
약액공급유닛(380)은 기판(W) 상으로 약액을 분사한다. 약액공급유닛(380)는 복수 개로 제공될 수 있다. 각각의 약액공급유닛(380)은 서로 상이한 종류의 약액을 공급할 수 있다. 약액공급유닛(380)은 지지축(386), 아암(382), 그리고 약액 노즐(390)을 포함한다. 지지축(386)은 용기(320)의 일측에 배치된다. 지지축(386)은 그 길이방향이 상하방향으로 제공되는 로드 형상을 가진다. 지지축(386)은 구동부재(388)에 의해 회전 및 승강운동이 가능하다. 이와 달리 지지축(386)은 구동부재(388)에 의해 수평방향으로 직선이동 및 승강운동할 수 있다. 아암(382)은 약액 노즐(390)을 지지한다. 아암(382)은 지지축(386)에 결합되고, 끝단 저면에는 약액 노즐(390)이 고정 결합된다. 약액 노즐(390)은 지지축(386)의 회전에 의해 스윙이동될 수 있다. 약액 노즐(390)은 지지축(386)의 회전에 의해 공정위치와 대기위치로 이동 가능하다. 여기서 공정위치는 약액 노즐(390)이 기판지지유닛(340)와 대향되는 위치이고, 대기위치는 약액 노즐(390)이 공정위치를 벗어난 위치이다. 일 예에 의하면, 약액은 케미칼, 린스액, 그리고 유기용제일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO3) 또는 인산(H3PO4)을 포함할 수 있다. 린스액은 순수일 수 있다. 유기용제는 이소프로필알코올(IPA)액일 수 있다.
기류 공급 유닛(390)은 처리공간에 다운 플로우 기류를 형성한다. 다운 플로우 기류는 기판 처리 시 발생된 파티클 및 퓸이 부유되는 것을 방지한다. 기류 공급 유닛(390)은 프레임(394), 기류공급라인(미도시), 팬(392), 그리고 필터(미도시)를 포함한다. 프레임(394)은 하우징(310)의 상단에 설치된다. 프레임(394)을 사각의 링 형상을 가지도록 제공된다. 기류공급라인은 외부의 에어가 프레임에 공급되도록 프레임에 연결된다. 팬(392)은 기류공급라인에 설치되어 외부의 에어가 프레임으로 유입되도록 회전 가능하다. 프레임(394)에는 필터가 설치되고, 에어는 필터를 통과하면서 이에 함량된 파티클이 필터링된다. 필터를 통과한 에어는 처리공간에 공급된다.
도어 어셈블리(400)는 하우징(310)의 측벽에 형성된 개구(312)를 개폐한다. 도 5는 도 4의 도어 어셈블리(400)를 보여주는 사시도이고, 도 6은 도 5의 도어 어셈블리(400)를 보여주는 수평 단면도이다. 도 5 및 도 6을 참조하면, 도어 어셈블리(400)는 셔터(410), 구동 부재(420), 가이드 부재(430), 그리고 간격 유지 유닛(500)를 포함한다.
셔터(410)는 개구(312)를 개폐한다. 셔터(410)는 직사각의 판 형상을 가지도록 제공된다. 셔터(410)는 정면에서 바라볼 때 너비 및 높이가 개구(312)보다 큰 직사각의 형상으로 제공된다.
구동 부재(420)는 셔터(410)를 차단위치 및 개방위치 간에 이동시키다. 구동 부재(420)는 셔터(410)를 상하방향으로 이동시킨다. 구동 부재(420)는 처리공간(314)에서 개구(312)와 인접하게 위치된다. 개구(312)를 정면에서 바라볼 때 구동 부재(420)는 개구(312)와 중첩되지 않도록 위치된다. 여기서 차단위치는 셔터(410)가 개구(312)와 대향되는 위치이고, 개방위치는 차단위치를 벗어난 위치이다. 예컨대, 개방위치는 개구(312)의 아래 위치일 수 있다. 구동 부재(420)에는 셔터(410)의 일단부가 연결된다. 구동 부재(420)는 가압 또는 감압에 의해 셔터(410)를 이동시키는 실런더(420)로 제공될 수 있다.
가이드 부재(430)는 셔터(410)가 정위치를 이탈하는 것을 방지한다. 가이드 부재(430)는 바디(432,434,436)를 포함한다. 바디(432,434,436)는 하우징(310)의 측벽으로부터 하우징(310)의 내측방향으로 연장된다. 바디(432,434,436)는 처리공간(314)에 위치되도록 하우징(310)의 측벽으로부터 연장된다. 바디(432,434,436)는 처리공간(314)에서 셔터(410)를 사이에 두고 구동 부재(420)와 대향되게 위치된다. 바디(432,434,436)는 그 길이방향이 상하방향을 향하도록 제공된다. 바디(432,434,436)는 셔터(410)의 타단부를 감싸도록 제공된다.
바디(432,434,436)는 제 1 플레이트(432), 제 2 플레이트(434), 그리고 연결부(436)를 포함한다. 제 1 플레이트(432)는 셔터(410)의 제 2 플레이트(434)에 대향되게 위치된다. 제 1 플레이트(432)는 셔터(410)와 하우징(310)의 측벽 사이에 위치된다. 제 1 플레이트(432)는 그 길이방향이 상하방향을 향하도록 제공된다. 제 1 플레이트(432)는 셔터(410)의 개방위치 및 차단위치를 잇는 직선과 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 제 2 플레이트(434)는 셔터(410)를 사이에 두고 제 1 플레이트(432)에 대향되게 위치된다. 제 2 플레이트(434)는 셔터(410)를 중심으로 제 1 플레이트(432)와 대칭된 형상을 가진다. 제 1 플레이트(432) 및 제 2 플레이트(434) 간의 거리는 셔터(410)의 폭보다 길게 제공된다. 이에 따라 셔터(410)는 제 1 플레이트(432) 및 제 2 플레이트(434) 각각에 대해 이격되게 위치된다. 연결부(436)는 제 1 플레이트(432) 및 제 2 플레이트(434)를 서로 연결한다. 연결부(436)는 제 1 플레이트(432) 및 제 2 플레이트(434) 각각으로부터 수직하게 연장된다. 따라서 바디(432,434,436)는 상부에서 바라볼 때 'ㄷ' 자 형상을 가지며, 셔터(410)의 타단부는 바디(432,434,436)의 제 1 플레이트(432), 제 2 플레이트(434), 그리고 연결부(436)에 의해 감싸도록 제공된다.
간격 유지 유닛(500)은 셔터(410)와 하우징(310)의 일측벽 간에 일정 간격을 유지시킨다. 간격 유지 유닛(500)은 자력을 이용하여 그 일정 간격을 조절한다. 간격 유지 유닛(500)은 내부 자력 부재(510) 및 외부 자력 부재(530)를 포함한다. 내부 자력 부재(510) 및 외부 자력 부재(530)는 서로 간에 척력이 작용하는 자성 부재로 제공된다.
내부 자력 부재(510)는 셔터(410)에 제공된다. 내부 자력 부재(510)는 제 1 내부 마그네틱(511) 및 제 2 내부 마그네틱(512)을 포함한다. 제 1 내부 마그네틱(511)은 셔터(410)의 타단부에 제공되고, 제 2 내부 마그네틱(512)은 셔터(410)의 일단부에 제공된다. 여기서 제 1 내부 마그네틱(511) 및 제 2 내부 마그네틱(512)이 제공되는 셔터(410)의 영역은 개구(312)와 대향되지 않는 영역으로 제공될 수 있다.
외부 자력 부재(530)는 제 1 외부마그네틱(531), 제 2 외부마그네틱(532), 그리고 제 3 외부 마그네틱(533)을 포함한다. 제 1 외부마그네틱(531)은 바디(432,434,436)의 제 1 플레이트(432)에 제공된다. 제 1 외부마그네틱(531)은 그 길이방향이 상하방향을 향하도록 제공되며, 제 1 내부 마그네틱(511)에 대향되게 위치된다. 제 1 외부마그네틱(531)은 셔터(410)의 차단위치 및 개방위치를 잇는 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 제 1 외부마그네틱(531)은 제 1 내부 마그네틱(511)과 척력이 작용하도록 제공된다. 제 2 외부마그네틱(532)은 바디(432,434,436)의 제 2 플레이트(434)에 제공된다. 제 2 외부마그네틱(532)은 제 1 외부마그네틱(531)에 대향되게 위치되며, 제 1 외부마그네틱(531)과 동일한 형상을 가지도록 제공된다. 제 2 외부마그네틱(532)은 제 1 내부 마그네틱(511)과 척력이 작용하도록 제공된다. 일 예에 의하면, 제 1 외부마그네틱(531) 및 제 2 외부마그네틱(532)은 서로 동일한 자력을 가지도록 제공될 수 있다. 제 1 외부마그네틱(531) 및 제 2 외부마그네틱(532) 각각은 제 1 내부 마그네틱(511)에 비해 큰 자력을 가지도록 제공될 수 있다.
제 3 외부 마그네틱(533)은 하우징(310)의 측벽에 제공된다. 제 3 외부 마그네틱(533)은 측벽의 외측 영역에 제공된다. 제 3 외부 마그네틱(533)은 셔터(410)의 일단부에 대향되게 위치된다. 제 3 외부 마그네틱(533)은 제 2 내부 마그네틱(512)에 대향되게 위치된다. 제 3 외부 마그네틱(533)은 그 길이방향이 상하방향을 향하도록 제공된다. 제 3 외부 마그네틱(533)은 셔터(410)의 차단위치 및 개방위치를 잇는 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공된다. 제 3 외부 마그네틱(533)은 제 2 내부 마그네틱(512)과 척력이 작용하도록 제공된다.
선택적으로 제 3 외부 마그네틱(533)은 하우징(310)의 측벽 중 처리공간(314)에 해당되는 내측 영역에 제공될 수 있다.
상술한 실시예에는 외부 자력 부재(530)가 3 개의 마그네틱을 포함하고 내부 자력 부재(510)가 2 개의 마그네틱을 포함하는 것으로 설명하였다. 그러나 도 7과 같이 외부 자력 부재(530)는 4 개의 마그네틱을 포함할 수 있다. 외부 자력 부재(530)는 제 4 외부 마그네틱(534)을 더 포함할 수 있다. 또한 셔터(410)의 일단부에 대향되게 위치되는 가이드 바(550)가 더 설치될 수 있다. 가이드 바(550)는 셔터(410)의 일단부를 사이에 두고 하우징(310)의 측벽과 대향되게 위치될 수 있다. 가이드 바(550)는 그 길이방향이 상하방향을 향하도록 제공되며, 차단위치 및 개방위치를 잇는 길이와 동일하거나 이보다 길게 제공될 수 있다. 가이드 바(550)에는 제 4 외부 마그네틱(534)이 제공될 수 있다. 제 4 외부 마그네틱(534)은 제 2 내부 마그네틱(512)과 척력이 작용하도록 제공될 수 있다.
또한 상술한 실시예에는 하우징(310)에 제공된 개구(312)가 1 개로 형성되는 것으로 설명하였다. 그러나 하우징(310)의 일측벽에는 복수의 개구(312)가 형성될 수 있다. 각각의 개구(312)는 상하방향을 따라 배열되며, 서로 이격되게 제공될 수 있다. 복수의 개구(312)들 중 일부는 기판을 반출입하기 위한 홀로 기능하며, 다른 일부는 기판(W)을 반전시키기 위한 홀로 기능할 수 있다.
또한 상술한 실시예에는 도어 어셈블리(400)가 내부에 세정 공정을 수행하는 하우징(310)에 적용되는 것으로 설명하였다. 그러나 기판 처리 장치는 식각 공정, 도포 공정, 현상공정, 그리고 애싱 공정 등 다양한 공정에 적용 가능하다.
312: 개구 410: 셔터
420: 구동 부재 430: 가이드 부재
510: 내부 자력 부재 530: 외부 자력 부재

Claims (11)

  1. 내부에 기판을 처리하는 처리공간을 제공하며, 측벽에 개구가 형성되는 하우징과;
    상기 개구를 개폐하는 도어 어셈블리를 포함하되,
    상기 도어 어셈블리는,
    셔터와;
    상기 셔터가 상기 개구와 대향되는 개방위치 및 상기 셔터가 상기 개방위치를 벗어난 차단위치로 상기 셔터를 이동시키는 구동 부재와;
    상기 셔터와 상기 측벽 간에 일정 간격을 유지시키는 간격 유지 유닛을 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 간격 유지 유닛은 상기 일정 간격을 자력에 의해 이루어지도록 제공되는 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 간격 유지 유닛은,
    상기 셔터에 제공되는 내부 자력 부재와;
    상기 내부 자력 부재에 대향되도록 상기 셔터의 외부에 위치되는 외부 자력 부재를 포함하는 기판 처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 내부 자력 부재와 상기 외부 자력 부재는 서로 척력이 작용하도록 제공되는 기판 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 셔터의 일단부는 상기 구동 부재에 연결되고,
    상기 내부 자력 부재는 상기 셔터의 타단부에 제공되는 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 셔터의 이동을 안내하며 상기 셔터에 이격되게 위치되는 바디를 가지는 가이드 부재를 더 포함하되,
    상기 바디는 서로 마주보도록 이격되는 제1플레이트 및 제2플레이트를 구비하고,
    상기 셔터의 상기 타단부는 상기 제1플레이트와 상기 제2플레이트 사이에 삽입되며,
    상기 외부 자력 부재는,
    상기 제 1 플레이트에 제공되는 제 1 외부마그네틱과;
    상기 제 2 플레이트에 제공되는 제 2 외부마그네틱을 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제 1 외부마그네틱 및 상기 제 2 외부마그네틱은 상기 내부 자력 부재에 비해 큰 자력을 가지도록 제공되는 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제 1 외부마그네틱 및 상기 제 2 외부마그네틱은 동일한 자력을 가지도록 제공되는 기판 처리 장치.
  9. 제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 내부 자력 부재는,
    상기 셔터의 타단부에 제공되는 제 1 내부 마그네틱과;
    상기 셔터의 일단부에 제공되는 제 2 내부 마그네틱을 포함하되,
    상기 외부 자력 부재는,
    상기 제 2 내부 마그네틱에 대향되도록 상기 측벽에 제공되는 제 3 외부 마그네틱을 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 외부 자력 부재는 상기 차단위치와 마주보는 위치에서 상기 개방위치와 마주보는 영역까지 연장되게 제공되는 기판 처리 장치.
  11. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 처리공간에 기류를 형성하는 팬 필터 유닛과;
    상기 처리공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛과;
    상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 약액을 공급하는 약액 공급 유닛 더 포함하는 기판 처리 장치.


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