KR20130019543A

KR20130019543A - 기판처리장치

Info

Publication number: KR20130019543A
Application number: KR1020110081553A
Authority: KR
Inventors: 김재용; 박선용
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2011-08-17
Filing date: 2011-08-17
Publication date: 2013-02-27

Abstract

본 발명의 실시예는 기판을 세정 처리하는 기판처리장치에 관한 것이다. 회전되는 기판 상으로 약액을 공급 시 기판의 원심력에 의해 약액은 하우징의 내측벽으로 공급된다. 약액은 하우징의 내측벽에 부딪힌 후, 되튀어 기판을 역오염시킨다. 이를 해결하고자 상기 하우징의 내벽은 굴곡진 부분을 포함하는 기판처리장치를 제공한다.

Description

기판처리장치{Apparatus for treating substrate}

본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 세정 처리하는 기판처리장치에 관한 것이다.

반도체소자 또는 액정 디스플레이를 제조하기 위해서, 기판에 포토리소그라피, 식각, 애싱, 이온주입, 그리고 박막 증착등의 다양한 공정들이 수행된다. 각각의 공정에서 생성된 오염물 및 파티클을 제거하기 위해 각각의 공정이 진행되기 전 또는 후 단계에서는 기판을 세정하는 세정공정이 실시된다.

세정공정으로는 회전되는 기판으로 약액을 공급하여 기판을 처리하는 공정이 수행된다. 공급된 약액은 기판의 회전에 의해 하우징의 내측벽을 향해 비산된다. 이때 약액은 종종 하우징의 내측벽에 부딪힌 후, 되튀어 기판을 역오염시킨다.

이를 해결하고자 종래에는 하우징을 스핀헤드와 동시에 동일한 방향으로 회전시켜 약액이 하우징의 내측벽으로부터 되튀는 현상을 최소화하는 기술이 제안되고 있다. 그러나 하우징의 회전만으로는 여전히 처리액의 되튐으로 인해 기판이 역오염되는 현상이 발생하며, 하우징을 회전시키기 위해서는 그 구조가 복잡해지는 단점이 있다.

본 발명의 실시예는, 회전되는 기판으로 공급된 약액이 하우징의 내측벽으로부터 되튀어 기판이 역오염되는 것을 최소화하고자 한다.

본 발명의 실시예는 기판을 세정 처리하는 기판처리장치를 제공한다. 기판처리장치는 기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드, 상기 스핀헤드를 감싸도록 배치되는 하우징, 그리고 상기 기판 상으로 약액을 공급하는 분사유닛을 포함하되, 상기 하우징의 내벽은 굴곡진 부분을 포함한다.

상부에서 바라볼 때 상기 하우징의 내벽은 오목부와 돌출부가 반복되게 제공될 수 있다. 상기 오목부 및 상기 돌출부 각각은 상하방향으로 연장되게 제공될 수 있다. 상기 하우징의 내벽은 라운드지도록 제공될 수 있다. 상기 하우징은, 상기 스핀헤드를 감싸는 내통 및 상기 내통을 감싸는 외통을 포함하되, 상기 내통의 내벽 및 상기 외통의 내벽 각각은 상기 오목부 및 상기 돌출부가 제공될 수 있다.

본 발명의 실시예에 의하면, 회전되는 기판으로 공급된 약액이 하우징의 내측벽으로부터 되튀어 기판을 재오염시키는 것을 최소화할 수 있다.

도1은 본 발명의 기판처리설비를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도2는 도1의 기판처리장치를 나타내는 단면도이다.
도3은 도2의 하우징의 수직벽을 나타내는 내부 사시도이다.
도4는 도2의 하우징의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.
도5는 도3의 하우징의 수직벽의 또 다른 실시예를 보여주는 내부 사시도

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 서술하는 실시예로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어서는 안된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장된 것이다.

이하, 도1 내지 도5를 참조하여 본 발명의 일 예를 상세히 설명한다.

도1은 본 발명의 기판처리설비를 개략적으로 나타낸 평면도이다. 도1을 참조하면, 기판처리설비(1)는 인덱스모듈(10)과 공정처리모듈(20)을 가진다. 인덱스모듈(10)은 로드포트(120) 및 이송프레임(140)을 가진다. 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드포트(120), 이송프레임(140), 그리고 공정처리모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.

로드포트(140)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드포트(120)의 개수는 공정처리모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판(W)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.

공정처리모듈(20)은 버퍼유닛(220), 이송챔버(240), 그리고 공정챔버(260)를 가진다. 이송챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송챔버(240)의 양측에는 각각 공정챔버(260)들이 배치된다. 이송챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정챔버(260)들은 이송챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 이송챔버(240)의 일측에는 복수 개의 공정챔버(260)들이 제공된다. 공정챔버(260)들 중 일부는 이송챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정챔버(260)들 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송챔버(240)의 일측에는 공정챔버(260)들이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정챔버(260)의 수이다. 이송챔버(240)의 일측에 공정챔버(260)가 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정챔버(260)들은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정챔버(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정챔버(260)는 이송챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.

버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 이송챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송챔버(240)와 이송프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼유닛(220)은 이송프레임(140)과 마주보는 면 및 이송챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.

이송프레임(140)은 로드포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송프레임(140)에는 인덱스레일(142)과 인덱스로봇(144)이 제공된다. 인덱스레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스로봇(144)은 인덱스레일(142) 상에 설치되며, 인덱스레일(142)을 따라 제2방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정처리모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정처리모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.

이송챔버(240)는 버퍼유닛(220)과 공정챔버(260) 간에, 그리고 공정챔버(260)들 간에 기판(W)을 반송한다. 이송챔버(240)에는 가이드레일(242)과 메인로봇(244)이 제공된다. 가이드레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인로봇(244)은 가이드레일(242) 상에 설치되고, 가이드레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.

공정챔버(260) 내에는 기판(W)에 대해 세정 공정을 수행하는 기판처리장치(300)가 제공된다. 기판처리장치(300)는 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정챔버(260) 내의 기판 처리 장치(300)는 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정챔버(260)들은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정챔버(260) 내에 기판처리장치(300)의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.

도2는 기판처리장치를 보여주는 단면도이다. 도2를 참조하면, 기판처리장치(300)는 기판(W)의 세정 공정을 수행한다. 기판처리장치(300)는 하우징(320), 기체공급부(400), 스핀헤드(340), 승강유닛(360), 그리고 분사유닛(380)을 가진다. 하우징(320)은 공정이 수행되는 공간을 제공하고, 그 상부는 개방된다. 하우징(320)은 복수의 회수통을 가진다. 일 예에 의하면, 하우징(320)은 내통(322) 및 외통(328)을 가진다. 내통(322) 및 외통(328)은 공정에 사용된 약액 중 서로 상이한 처리액을 분리 회수한다. 내통(322)은 스핀헤드(340)를 감싸는 중공의 원통 형상으로 제공되고, 외통(328)은 내통(322)을 감싸는 중공의 원통 형상으로 제공된다. 내통(322)의 내측공간(322a), 내통(322)과 외통(328)의 사이 공간(328a)은 각각 내통(322) 및 외통(328)으로 처리액이 유입되는 유입구로서 기능한다. 내통(322) 및 외통(328) 각각에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수라인(322b,328b)이 연결된다. 각각의 회수라인(322b,328b)은 내통(322) 및 외통(328) 각각을 통해 유입된 약액을 배출한다. 배출된 약액은 외부의 약액 재생시스템(미도시)을 통해 재사용될 수 있다.

도3은 도2의 하우징의 수직벽을 보여주는 내부 사시도이다. 도3을 참조하면, 내통(322)과 외통(328)은 서로 유사한 형상을 가지며, 그 크기가 상이하게 제공된다. 내통(322)은 제1수직벽(324), 제1상부벽(323), 제1바닥벽(325), 그리고 제1내벽(326)을 가진다. 제1수직벽(324)은 스핀헤드(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 제1수직벽(324)의 길이방향을 상하방향으로 제공된다. 상부에서 바라볼 때 제1수직벽(324)의 내측면은 굴곡진 형상을 가진다. 제1수직벽(324)의 내측면은 오목부(324a) 및 돌출부(324b)가 서로 반복되도록 제공된다. 오목부(324a) 및 돌출부(324b) 각각은 상하방향로 연장되게 제공된다. 오목부(324a) 및 돌출부(324b) 각각은 라운드지도록 제공된다. 제1상부벽(323)은 제1수직벽(324)의 상단으로부터 연장된다. 제1상부벽(323)은 스핀헤드(340)의 중심축을 향하는 방향으로 상향 경사지도록 연장된다. 제1바닥벽(325)은 제1수직벽(324)의 하단으로부터 수직한 방향으로 연장된다. 제1바닥벽(325)은 스핀헤드(340)의 중심축을 향하는 방향으로 수평하게 연장된다. 제1내벽(326)은 제1바닥벽(325)의 안쪽 끝단으로부터 위 방향으로 수직하게 연장된다. 제1내벽(326)과 제1상부벽(323)의 상단은 상하방향으로 일치되도록 제공된다. 제1내벽(326)의 상단은 제1상부벽(323)의 상단과 이격되게 제공된다. 제1내벽(326)과 제1상부벽(323) 간의 사이 공간(322a)은 내통(322)으로 약액이 유입되는 유입구로서 기능한다.

외통(328)은 제2수직벽(330), 제2상부벽(329), 제2바닥벽(331), 그리고 제2내벽(332)을 가진다. 제2수직벽(330)은 제1수직벽(324)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 제2수직벽(330)의 내측면은 굴곡진 형상을 가진다. 제2수직벽(330)의 내측면은 오목부(330a) 및 돌출부(330b)가 서로 반복되도록 제공된다. 오목부(330a) 및 돌출부(330b) 각각은 상하방향로 연장되게 제공된다. 오목부(330a) 및 돌출부(330b) 각각은 라운드지도록 제공된다. 제2상부벽(329)은 제2수직벽(330)의 상단으로부터 연장된다. 제2상부벽(329)은 스핀헤드(340)의 중심축을 향하는 방향으로 상향 경사지도록 제공된다. 제2상부벽(329)은 제1상부벽(323)의 상부에 배치된다. 제2바닥벽(331)은 제2수직벽(330)의 하단으로부터 수직한 방향으로 연장된다. 제2바닥벽(331)은 스핀헤드(340)의 중심축을 향하는 방향으로 수평하게 연장된다. 제2내벽(332)은 제2바닥벽(331)의 끝단으로부터 위 방향으로 수직하게 연장된다. 제2상부벽(329)과 제2내벽(332) 간에는 제1상부벽(323) 및 제1내벽(326)이 배치된다. 제2상부벽(329)과 제1상부벽(323) 간의 사이 공간(328a)은 외통(328)으로 처리액이 유입되는 유입구로서 기능한다.

스핀헤드(340)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판(W)을 회전시킨다. 스핀헤드(340)는 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 지지축(348)을 가진다. 몸체(342)는 상부에서 바라볼 때 대체로 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. 몸체(342)의 저면에는 모터(349)에 의해 회전가능한 지지축(348)이 고정결합된다.

지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.

척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 스핀헤드(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 몸체(342)의 반경 방향을 따라 대기위치와 지지위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 대기위치는 지지위치에 비해 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 스핀헤드(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척핀(346)은 대기위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 지지위치에 위치된다. 지지위치에서 척핀(346)은 기판(W)의 측부와 접촉된다.

승강유닛(360)은 하우징(320)을 상하 방향으로 직선이동시킨다. 하우징(320)이 상하로 이동됨에 따라 스핀헤드(340)에 대한 하우징(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 하우징(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동 축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 스핀 헤드(340)에 놓이거나, 스핀헤드(340)로부터 들어올려 질 때 스핀헤드(340)가 하우징(320)의 상부로 돌출되도록 하우징(320)은 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 하우징(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강유닛(360)은 스핀헤드(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.

분사유닛(380)은 기판처리공정 시 기판(W)으로 처리액을 공급한다. 분사유닛(380)은 지지축(386), 구동기(388), 노즐지지대(382), 그리고 노즐(384)을 가진다. 지지축(386)은 그 길이 방향이 제 3 방향(16)을 따라 제공되고, 지지축(386)의 하단에는 구동기(388)가 결합된다. 구동기(388)는 지지축(386)을 회전 및 승강 운동한다. 노즐지지대(382)는 구동기(388)와 결합된 지지축(386)의 끝단 반대편과 수직하게 결합된다. 노즐(384)은 노즐지지대(382)의 끝단 저면에 설치된다. 노즐(384)은 구동기(388)에 의해 공정 위치와 대기 위치로 이동된다. 공정위치는 노즐(384)이 하우징(320)의 수직 상부에 배치된 위치이고, 대기위치는 노즐(384)이 하우징(320)의 수직 상부로부터 벗어난 위치이다.

도4는 도2의 하우징의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다. 도4를 참조하면, 하우징(320)은 하나의 회수통(322)으로 제공되며, 도2 및 도3을 참조하여 상술한 바와 같이, 회수통(322)에 대해 중복되는 구성에 관한 설명은 생략하기로 한다. 회수통(322)은 스핀헤드(340)를 감싸는 중공의 원통 형상으로 제공된다. 상부벽(323)은 수직벽(324)의 상단으로부터 수직하게 연장된다. 상부벽(323)은 스핀헤드(340)의 중심축을 향하는 방향으로 수평하게 제공된다.

또한 도5는 도3의 하우징의 수직벽의 또 다른 실시예를 보여주는 내부 사시도로서, 도5를 참조하면, 제1수직벽(324)의 내측면에 굴곡진 부분(324a, 324b)은 내통(322)으로 약액이 유입되는 제1상부벽(323)과 제1내벽(326) 간의 사이 공간(322a)과 대향되는 영역에만 제공될 수 있다. 또한 제2수직벽(330)의 내측면에 굴곡진 부분(330a, 330b)은 외통(328)으로 약액이 유입되는 제2상부벽(329)과 제1상부벽(323) 간의 사이 공간(328a)과 대향되는 영역에만 제공될 수 있다.

상술한 예에서 수직벽(324, 330)의 내측면은 굴곡지도록 형성되는 것을 설명하였으나, 굴곡은 수직벽(324, 330)의 내측면으로부터 상부벽(323, 329)의 내측벽까지 연장되게 형성될 수 있다.

또한 상술한 예에서 하우징(320)은 1 개 또는 2 개의 회수통을 가지는 것을 설명하였다. 그러나 이와 달리 하우징(320)의 회수통은 3 이상의 회수통으로 제공될 수 있다.

다음은 상술한 기판처리장치(300)를 이용하여 기판(W)을 세정하는 과정에 대해 설명한다. 다수의 기판(W)들이 수납된 풉(FOUP)은 로드포트(120)에 안착된다. 인덱스로봇(144)은 풉(FOUP)에 수납된 기판(W)을 반출하여 버퍼부(220)로 이송한다. 메인이송로봇(244)은 버퍼부(220)에 적재된 기판(W)을 공정챔버(260)로 이송한다. 기판(W)이 공정챔버(260) 내에 배치된 스핀헤드(340)에 로딩되면, 하우징(320)은 내통(322)의 유입구(322a)가 기판(W)에 대응되도록 높이를 조절한다. 세정공정이 진행되면, 기판(W)을 지지하는 스핀헤드(340)는 회전하고, 노즐(386)은 공정위치로 이동된다. 노즐(386)이 기판(W)의 중앙영역 상부에 위치되면, 노즐(386)은 기판(W) 상으로 약액을 토출한다. 약액은 기판(W)의 원심력에 의해 제1상부벽(323)과 제1내벽(326) 사이 공간(322a)으로 유입된다. 유입된 약액은 제1상부벽(323)의 굴곡진 내측면에 부딪친다. 약액은 굴곡진 내측면에 의해 비산되지 않고, 내측면을 따라 아래 방향으로 흘러 내린다. 세정공정이 완료되면, 하우징(320)은 외통(328)의 유입구가 기판(W)에 대응되도록 높이를 조절한다. 노즐(386)은 기판(W) 상으로 건조가스를 토출한다. 이후, 건조공정이 완료되면, 기판(W)은 언로딩되어 메인이송로봇(244)에 의해 버퍼부(220)로 이송된다. 인덱스로봇(144)은 버퍼부(220)에 적재된 기판(W)을 풉(FOUP)으로 이송한다.

320; 하우징 323, 329상부벽
324,330 내측벽 324a, 330a: 돌출부
324b, 330b: 오목부 340: 스핀헤드
380: 분사유닛

Claims

기판을 지지 및 회전시키는 스핀헤드와;
상기 스핀헤드를 감싸도록 배치되는 하우징과;
상기 기판 상으로 약액을 공급하는 분사유닛을 포함하되;
상기 하우징의 내벽은 굴곡진 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
제1항에 있어서,
상부에서 바라볼 때 상기 하우징의 내벽은 오목부와 돌출부가 반복되게 제공되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.