KR100855733B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

기판 처리 장치가 제공된다. 기판 처리 장치는 기판이 반입 및/또는 반출되는 개구부를 포함하는 챔버와, 상하 운동을 하여 개구부를 개폐하는 셔터 몸체와, 셔터 몸체에 설치된 제1 마그네틱을 포함하는 셔터와, 제1 마그네틱과 마주보도록 설치된 제2 마그네틱과, 제2 마그네틱을 상하 운동시키는 구동부를 포함하여, 제2 마그네틱의 상하 운동시킴으로써 셔터를 상하 운동시키는 셔터 제어부를 포함한다.
셔터, 마그네틱, 슬라이드 방식

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing glass substrate}
도 1은 종래의 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개념적이 사시도이다
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 3, 도 4a, 도 4b는 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면들이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
110 : 챔버 112 : 개구부
101 : 셔터 120 : 셔터 몸체
130 : 제1 마그네틱 140 : 제2 마그네틱
141 : 셔터 제어부 150 : 구동축
160 : 구동부
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정 안정성이 높은 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.
이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 박막과 금속막을 증착하는 공정, 패턴 형상대로 식각하는 공정 및 수세하는 공정등 다양한 공정들이 수행 된다. 이러한 각 공정은 외부와는 격리된 환경을 제공하는 챔버(chamber)라는 공간 내에서 진행된다. 따라서, 챔버에는 기판이 반입 및/또는 반출되는 개구부를 개폐할 수 있는 셔터(shutter)가 구비된다. 이러한 셔터의 개폐 동작은 장비의 구현에 따라 슬라이드 방식 또는 회전 방식이 있다.
도 1은 종래의 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개념적인 사시도이다. 도 1에서는 슬라이드 방식을 예로 든다.
도 1을 참조하면, 종래의 기판 처리 장치는 챔버(10), 셔터 몸체(20), 랙(lack)(30), 샤프트(40), 기어(50) 등을 포함한다.
구체적으로, 챔버(10)에는 기판이 반입 및/또는 반출되는 개구부(12)가 형성되어 있고, 셔터 몸체(20)가 상하 운동을 함으로써, 개구부(12)를 개폐한다. 셔터 몸체(20)에는 랙(30)이 설치되어 있고, 샤프트(40)에는 기어(50)가 설치되어 있다. 챔버(10) 외부에 있는 모터가 샤프트(40)를 회전시킴에 따라 기어(50)가 회전하게 되고, 기어(50)와 맞물려있는 랙(30)이 움직임에 따라 셔터 몸체(20)가 상하 운동을 하게 된다.
그런데, 이러한 종래의 기판 처리 장치는 우선 챔버(10) 외부에 있는 모터가 샤프트(40)를 회전시켜야 하므로, 챔버(10)에는 샤프트(40)가 관통되는 홀(14)이 형성되어 있다. 따라서, 홀(14)에 의해서 챔버(10) 내부의 물질이 외부로 빠져 나오거나, 흄(fume)이 발생할 수도 있다. 이러한 흄은 공정 불량을 일으킬 수 있다.
또한, 랙(30) 및/또는 기어(50)는 금속 또는 수지 계열의 물질로 만들기 때문에, 마찰에 의해서 마모되거나 파손될 수 있으므로, 일정 기간마다 교환해 주어야 한다. 즉, 주기적인 유지/보수를 해주어야 한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 공정 안정성이 높은 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 기판 처리 장치는 기판이 반입 및/또는 반출되는 개구부를 포함하는 챔버와, 상하 운동을 하여 개구부를 개폐하는 셔터 몸체와, 셔터 몸체에 설치된 제1 마그네틱을 포함하는 셔 터와, 제1 마그네틱과 마주보도록 설치된 제2 마그네틱과, 제2 마그네틱을 상하 운동시키는 구동부를 포함하여, 제2 마그네틱의 상하 운동시킴으로써 셔터를 상하 운동시키는 셔터 제어부를 포함한다.
여기서, 제1 및 제2 마그네틱은 동일한 극성이 마주보도록 설치된다.
또한, 셔터는 챔버의 내부에 설치되고, 셔터 제어부는 챔버의 외부에 설치된다.
또한, 제1 마그네틱은 셔터 몸체의 하부에 설치된다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
하나의 소자(elements)가 다른 소자와 "접속된(connected to)" 또는 "커플링된(coupled to)" 이라고 지칭되는 것은, 다른 소자와 직접 연결 또는 커플링된 경우 또는 중간에 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 하나의 소자가 다른 소자와 "직접 접속된(directly connected to)" 또는 "직접 커플링된(directly coupled to)"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자를 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상내에 서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 2를 참조하면, 기판 처리 장치는 로드락 챔버(100), 제1 공정 챔버(110), 제2 공정 챔버(120) 등를 포함한다.
보다 구체적으로 설명하면, 로드락 챔버(100)는 평판 디스플레이 소자의 제조 공정이 수행되는 환경과 비슷한 환경의 밀폐된 공간이다. 도시하지 않았으나 카셋 장착부와 이송부를 포함할 수 있다. 로드락 챔버(100)는 제1 공정 챔버(110)로 이송되기 전 기판(P)을 일시적으로 대기시키는 공간이다. 로드락 챔버(100)는 기판(P)을 이송시킬 수 있는 수단이 있어 기판을 제1 공정 챔버(110)로 이송시킨다. 이와 같은 로드락 챔버(100)와 제1 공정 챔버(110)사이에는 상호간 이송될 수 있도록 기판(P)의 이동 통로, 즉 기판(P)의 개구부(112)가 형성된다.
또한, 제1 공정 챔버(110) 내에서 공정이 완료된 기판이 다음 공정을 진행하는 공간인 제2 공정 챔버(120)로 이송된다. 제1 공정 챔버(110)와 제2 공정 챔버(120) 상호 간에도 이송할 수 있는 기판(P)의 개구부(122)가 구비된다.
제1 공정 챔버(110) 및 제2 공정 챔버(120)는 기판의 원활한 공정이 진행될 수 있도록 소정 압력 즉, 고진공으로 유지된다. 따라서, 제1 및 제2 공정 챔버(110, 120)의 압력이 소정 압력을 유지할 수 있도록 밀폐되어야 한다. 그리하여, 각 공정 챔버(110,120)의 출입구를 개폐하는 셔터(101)가 각 챔버내에 구비되어 제1 및 제2 공정 챔버(110,120)의 압력을 유지하며, 또한 제1 및 제2 공정 챔버(110, 120)의 가스 및 약품등이 외부로 확산되지 않도록 한다.
설명의 편의상 도어부(110)를 로드락 챔버(100)에만 도시하고 설명하였으나 이에 제한되는 것은 물론 아니다. 제1 공정 챔버(110)와 제2 공정 챔버(120) 사이의 출입구에도 형성할 수 있음은 물론이다.
도 3, 도 4a, 도 4b는 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면들이다.
우선, 도 3, 도 4a, 도 4b를 참조하면, 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 챔버(110), 셔터(101), 셔터 제어부(141)를 포함한다.
챔버(110)에는 기판(P)이 반입 및/또는 반출되는 개구부(112)가 형성되어 있다.
셔터(101)는 상하 운동을 하여 개구부(112)를 개폐하는 셔터 몸체(120)와, 셔터 몸체(120)에 설치된 제1 마그네틱(130)을 포함한다. 여기서, 셔터(101)는 슬라이드 방식으로 동작한다.
셔터 제어부(141)는 제1 마그네틱(130)과 마주보도록 설치된 제2 마그네틱(140)과, 제2 마그네틱(140)을 상하 운동시키는 구동부(160)와, 제2 마그네틱(140)과 구동부(160) 사이를 커플링하는 구동축(150)을 포함한다.
특히, 제1 마그네틱(130)과 제2 마그네틱(140)은 동일한 극성이 마주보도록 설치되어 있다. 즉, 제1 마그네틱(130)과 제2 마그네틱(140)은 척력이 작용하도록 배치되어 있다.
도 4a 및 도 4b를 참조하여, 본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치의 구동 방법을 설명한다.
기판(P)이 챔버(110) 내로 반입될 때, 구동부(160)가 제2 마그네틱(140)을 하측으로 내리면, 제2 마그네틱(140)과 제1 마그네틱(130) 사이의 거리가 멀어지기 때문에 제2 마그네틱(140)과 제1 마그네틱(130) 사이의 척력이 약해진다. 따라서, 중력에 의해 셔터(101)가 하측으로 내려오면서 개구부(112)를 열게 된다.
기판(P)이 이송 기구(114)를 통해서 챔버 내로 들어오게 된다. 구동부(160)가 제2 마그네틱(140)을 상측으로 올리면, 제2 마그네틱(140)과 제1 마그네틱(130) 사이의 거리가 가까워짐에 따라 제2 마그네틱(140)과 제1 마그네틱(130) 사이의 척력이 강해지고, 이러한 척력에 의해 셔터(101)는 상측으로 올라가면서 개구부(112)를 닫게 된다.
한편, 도면에서는 제1 마그네틱(130)은 셔터 몸체(120)의 하부에 설치된 것으로 도시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 제2 마그네틱(140)과의 척력이 잘 형성될 수 있는 위치라면, 셔터 몸체(120)의 어떤 부분이라도 좋다.
본 발명의 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 셔터(101)는 챔버(110)의 내부에 설치되고, 셔터 제어부(141)는 챔버(110)의 외부에 설치된다. 그럼에도 불구하고, 챔버(110)에 홀(도 1의 14 참조)을 형성하지 않아도 되기 때문에, 챔버(110) 내부의 물질이 외부로 빠져 나가거나, 흄(hume)이 발생하지 않는다. 따라서, 공정 안정성이 높아진다.
또한, 제1 및 제2 마그네틱(130, 140) 사이의 척력을 이용하여 동작하기 때문에, 제1 및 제2 마그네틱(130, 140)은 마모 또는 파손되지 않는다. 따라서, 주기적인 유지/보수 없이 반영구적으로 사용할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상기한 바와 같은 기판 처리 장치는 셔터는 챔버의 내부에 설치되고, 셔터 제어부는 챔버의 외부에 설치된다. 그럼에도 불구하고, 챔버에 홀을 형성하지 않아도 되기 때문에, 챔버 내부의 물질이 외부로 빠져 나가거나, 흄(hume)이 발생하지 않는다. 따라서, 공정 안정성이 높아진다. 또한, 제1 및 제2 마그네틱 사이의 척력을 이용하여 동작하기 때문에, 제1 및 제2 마그네틱은 마모 또는 파손되지 않는다. 따라서, 주기적인 유지/보수 없이 반영구적으로 사용할 수 있다.

Claims (4)

  1. 기판이 반입 또는 반출되는 개구부를 포함하는 챔버;
    상하 운동을 하여 상기 개구부를 개폐하는 셔터 몸체와, 상기 셔터 몸체에 설치된 제1 마그네틱을 포함하는 셔터; 및
    상기 제1 마그네틱과 마주보도록 설치된 제2 마그네틱과, 상기 제2 마그네틱을 상하 운동시키는 구동부를 포함하며, 상기 제2 마그네틱을 상하 운동시킴으로써 상기 제 1 마그네틱과 상기 제 2 마그네틱 사이의 자기력을 이용하여 상기 셔터를 상하 운동시키는 셔터 제어부를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 마그네틱은 동일한 극성이 마주보도록 설치된 기판 처리 장치.
  3. 제 1항에 있어서.
    상기 셔터는 상기 챔버의 내부에 설치되고, 상기 셔터 제어부는 상기 챔버의 외부에 설치되는 기판 처리 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 제1 마그네틱은 상기 셔터 몸체의 하부에 설치된 기판 처리 장치.
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