KR101618897B1 - 경화막의 제조 방법, 감광성 수지 조성물, 경화 막, 유기 el 표시 장치, 및 액정 표시 장치 - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103080839B (zh) * 2010-08-30 2016-05-04 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、肟磺酸酯化合物、固化膜的形成方法、固化膜、有机el显示装置及液晶显示装置
KR101954114B1 (ko) * 2011-09-26 2019-03-05 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 경화막의 형성 방법, 경화막, 유기 el 표시 장치, 및 액정 표시 장치
KR20130099338A (ko) * 2012-02-29 2013-09-06 이윤형 내열성이 우수한 화학증폭형 포지티브 감광형 고감도 유기절연막 조성물 및 이를 이용한 유기절연막의 형성방법
JP2013243121A (ja) * 2012-04-27 2013-12-05 Fujifilm Corp 光学材料用永久膜の製造方法、これにより作製した硬化膜、これを用いた有機el表示装置および液晶表示装置
TWI585521B (zh) * 2012-06-28 2017-06-01 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、硬化物及其製造方法、樹脂圖案製造方法、硬化膜、液晶顯示裝置、有機el顯示裝置以及觸控面板顯示裝置
KR101976210B1 (ko) * 2012-09-10 2019-05-07 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 포지티브형 고감도 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막
WO2014088018A1 (ja) * 2012-12-07 2014-06-12 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置
KR20150103210A (ko) * 2013-02-13 2015-09-09 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 이것을 사용한 경화막의 제조 방법, 경화막, 액정 표시 장치 및 유기 el 표시 장치
WO2014199967A1 (ja) * 2013-06-14 2014-12-18 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、樹脂パターン製造方法、硬化膜、液晶表示装置、有機el表示装置、並びに、タッチパネル表示装置
KR102402598B1 (ko) * 2015-04-30 2022-05-26 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치용 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치
WO2019022089A1 (ja) * 2017-07-28 2019-01-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法
KR20190087173A (ko) * 2018-01-16 2019-07-24 동우 화인켐 주식회사 네가티브형 감광성 수지 조성물

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001215707A (ja) 2000-02-04 2001-08-10 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フォトレジスト組成物
JP2009098616A (ja) * 2007-06-05 2009-05-07 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2009098673A (ja) 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4207604B2 (ja) * 2003-03-03 2009-01-14 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法
JP2006023489A (ja) * 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
JP2008096937A (ja) * 2006-09-11 2008-04-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 熱リソグラフィー用下層膜形成用材料、レジスト積層体およびレジストパターン形成方法
JP5207837B2 (ja) * 2007-08-02 2013-06-12 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、フォトスペーサーの製造方法、液晶表示装置用基板及び液晶表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001215707A (ja) 2000-02-04 2001-08-10 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フォトレジスト組成物
JP2009098616A (ja) * 2007-06-05 2009-05-07 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
JP2009098673A (ja) 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法

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