KR101584691B1 - 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법 및 시스템 Download PDF

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Abstract

보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법이 기술되며, 레이저 제판 가능한 인쇄판 매체(1)의 표면 내로, 특히 레이저 제판 가능한 금속성 인쇄판 매체(1)의 표면 내로 직접 음각 인쇄 패턴(3, 3.1, 3.2, 3.3)을 제판하기 위해 레이저 빔(2)이 사용되고, 정합 상태에서 순차적으로 수행된 수 개의 개별 제판 단계에 의해 인쇄판 매체(1)의 레이저 제판이 적층식으로 실행되어, 요구되는 제판 깊이까지 음각 인쇄 패턴(3, 3.1, 3.2, 3.3)이 인쇄판 매체(1)의 표면 내로 점진적으로 제판되고, 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 레이저 제판 공정의 잔류물로부터 세정된다.

Description

보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법 및 시스템{METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING INTAGLIO PRINTING PLATES FOR THE PRODUCTION OF SECURITY PAPERS}
본 발명은 일반적으로 지폐, 인지 스탬프(duty stamp), 글의 새긴 두루마리(banderol) 또는 라벨(label), 신분증 또는 여행 문서(travel document) 등을 포함하는 보안 용지의 생성을 위해 적용되는 바와 같은 음각 인쇄의 분야에 관한 것이다.
본 발명은 보다 상세하게는 보안 용지의 시트 또는 섬유의 음각 인쇄를 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이며, 그 방법 및 시스템은 인쇄판 매체의, 특히 금속성 인쇄판 매체의 직접 레이저 제판에 기초한다.
직접 레이저 제판에 의한 보안물의 생성을 위한 음각 인쇄판의 제조는 당업계에 이미 공지되어 있다.
국제 출원 공개 WO 97/48555 A1은 예를 들어 금속성 인쇄판 매체의 직접 제판을 위한 방법을 개시하며, 요구된 침투 깊이에서 요구된 윤곽선 내의 인쇄판 매체로부터의 재료를 제거하기 위해 요구된 침투 깊이로 요구된 윤곽선 내에 위치된 결정된 기구 트랙을 따르는 방식으로 레이저 제판 기구와 같은 정밀 제판 기구가 안내된다. 레이저 제판 기구가 형성되는 음각 인쇄 패턴에 상응하는 결정된 기구 궤적을 따른다는 점에서 이러한 제판 공정은 본질적으로 벡터형(vectorial)이다.
유럽 특허 출원 공개 EP 1 334 822 A2는 음각 인쇄판 또는 음각 인쇄 실린더의 직접 레이저 제판을 위한 방법 및 설치물을 개시하며, 펄스형 Nd-YAG 레이저 장치에 의해 발생된 레이저 빔에 의해 제판이 수행된다. 레이저 제판 가능한 인쇄판 매체는 두 개의 직교 축(Cartesian axis)을 따라 이동할 수 있으며 컴퓨터에 의해 제어되는 모터 구동형 플랫폼상에 장착되며, 이 컴퓨터는 펄스형 레이저 장치의 작동 및 활동도 또한 제어한다. 펄스형 레이저 장치는 수직으로 이동 가능하도록 장착되며, 제판되는 플레이트 상으로의 레이저 빔의 포커싱(focusing)을 수정하고 조정하기 위해 플랫폼에 대한 펄스형 레이저 장치의 높이는 컴퓨터에 의해 조정된 모터에 의해 조정 가능하다. 전체 인쇄판 표면의 오직 제한된 부분만을 포함하는 결정된 제판 영역 내의 요구된 지점에 레이저 빔을 집중시키는 초점 렌즈 상에 레이저 빔을 안내하기 위해 검류 모터(galvanometric motor)를 갖는 광학 시스템이 사용된다. 펄스식 레이저 장치는 통상적인 연속 작동식 레이저 장치의 출력보다 상당히 높은 출력을 갖는 펄스를 생성하도록 특별히 디자인된다. 이러한 해결책의 하나의 단점은 제판 공정이 인쇄판의 전체 영역을 제판하기 위해 반복적인 국부 프로세싱을 포함하며, 한 번에 대략 100 mm × 100 mm의 제판 영역이 처리된다는 사실에 있다. 제판 영역 내의 각각의 요구된 위치를 처리하기 위해 적당한 초점 길이를 갖는 광학 시스템이 제공된다. 따라서, 제판의 표면에 대한 레이저 빔의 입사각이 제판되는 제판 영역의 위치에 대한 레이저 빔의 위치에 따라 변화함으로써, 잠재적으로 제판 균일성에 영향을 미친다. 또한 이러한 프로세싱은 인접한 제판 영역들 사이에 중첩이나 간극이 발생하지 않게 하기 위해 매우 높은 정밀도를 요구한다.
국제 출원 공개 WO 2006/045128 A1은 전술된 유럽 특허 출원 공개 EP 1 334 822 A2에 기술된 레이저 제판 시스템에 대한 유사한 접근법을 따르는 음각 인쇄판의 생성을 위한 직접 레이저 제판 시스템을 개시하는 반면, 다시 말해서 레이저 제판 가능한 인쇄 매체가 이동 가능한 x-y 플랫폼상에 유사하게 장착되는 반면, 레이저 장치는 인쇄판 표면의 제한된 영역을 제판하기 위해 제어된다. 이러한 직접 레이저 제판 시스템에 대한 추가적인 상세한 설명은 헤럴드 다인하머(Herald Deinhammer), 다이엘 슈바르쯔바하(Daniel Schwarzbach), 루돌프 케페데르(Rudolf Kefeder) 및 피터 파즈맨(Peter Fajmann)의 논문 "지폐 보안에 대한 직접 레이저 제판식 음각 인쇄판의 영향(The implication of direct laser engraved intaglio printing plates on banknote security)" 프로시딩즈 어브 SPIE(Proceedings of SPIE), 6075권, 2006, 607503-1 내지 607503-11(이하, 다인하머2006으로 지칭됨)에서 발견될 수 있다. 이러한 다른 시스템의 제판 영역은 대략 70 mm X 70 mm이며, 이는 음각 인쇄 패턴의 오직 제한된 부분만이 한 번에 제판될 수 있으며, 인접한 제판 영역들 사이에 가시적은 중첩 또는 간극이 형성되지 않기 위해 제판 공정은 높은 정밀도로 반복되어야 한다는 것을 의미한다. 국제 출원 공개 WO 2006/045128 A1에 개시된 바와 같이, 이는 지루하고 시간 소모적인 교종 작업을 규칙적인 간격으로 수행하는 것을 의미한다.
또한, 국제 출원 공개 WO 2006/045128 A1의 직접 레이저 제판 시스템의 또 다른 단점은 인쇄판 표면에 대한 레이저 빔의 입사각이 처리되는 제판 영역의 위치에 대한 레이저 빔의 위치에 따라 변화한다는 사실에 있으며, 이는 회피되어야 할 제판 비균일성을 잠재적으로 야기한다.
이러한 직접 레이저 제판 시스템(이는 또한 국제 출원 공개 WO 97/48555 A1에 개시된 접근법을 특징으로 함)의 또 다른 단점은 레이저 제판 장치를 제어하기 위해 사용된 데이터가 본질적으로 벡터화된 그래픽 데이터에 기초한다는 사실에 있다. 이는 다인하머2006에서 논의된 바와 같이 디자인 복잡도와 함께 제판 횟수가 증가할 것이라는 것을 의미한다.
음각 인쇄판의 직접 레이저 제판에 관한 추가적인 논의는 국제 출원 공개 WO 2005/002869 A1 및 헤럴드 다인하머, 프란쯔 루스(Franz Loos), 다이엘 슈바르쯔바하 및 피터 파즈맨의 관련 논문 "음각 인쇄판의 직접 레이저 제판(Direct Laser Engraving of Intaglio Printing Plates)" 프로시딩즈 오브 SPIE, 5310권, 2004, 184쪽 내지 193쪽(이하 다인하머2004로 지칭됨)에서 추가로 발견될 수 있다. 국제 출원 공개 WO 2005/002869 A1에 따라, 황동 또는 그 합금으로 이루어진 인쇄판이나 황동 또는 그 합금으로 구성된 외부층을 갖는 인쇄판은 레이저에 의해 직접 제판되고, 일단 완전히 제판된 경우에는 레이저 제판 공정의 용융된 잔류물을 제거하기 위해 세정 공정을 거치며, 이러한 세정 공정은 최종적으로 연마되거나 크롬 처리되기 전에 산성 용액으로 된 화학조(chemical bath) 내에서의 화학적 처리를 포함한다. 제판된 판의 화학적 처리 전에 고형 이산화탄소 펠렛의 분무에 의한 제판된 인쇄판의 표면의 드라이아이스 사전 세정이 수행될 수 있다(다인하머2006을 다시 참조). 드라이아이스 사전 세정뿐만 아니라 제판된 인쇄판의 제안된 화학적 사후 제판 처리는 다소 공격적이며 제어되지 않고 적절하게 실행되지 않는 경우에 요구된 음각 제판의 열화를 야기할 수 있다. 또한 드라이아이스 사전 세정을 갖는 사후 제판 프로세싱 및 산성 용액에 의한 처리는 제판 비균일성 및 재현성 결여를, 즉 동일한 디자인으로부터 생성된 두 개의 음각 인쇄판의 차이를 야기할 수 있으므로 더욱 해롭다.
본 출원인의 명의로 출원되고 그 내용이 본 명세서에 전체로서 참조되는 국제 출원 공개 WO 03/103962 A1은 음각 인쇄판의 생성을 위한 제판된 판의 제조에 대한 상이한 접근법을 개시한다. 형성되는 음각 디자인이 벡터화된 그래픽 및/또는 비트맵 그래픽을 사용하는 컴퓨터 보조식 디자인 시스템(computer assisted design system)에서 생각되는 동안에, 최종 음각 디자인은 형성되는 음각 인쇄 패턴을 표시하는 3차원 화소 데이터로 기본적으로 구성되는 소위 깊이 맵(depth-map)으로 변환되며, 각각의 화소의 "강도"는 인쇄판의 상응하는 위치에서 제판되는 깊이를 표시한다. 그런 다음 레이저 제판 장치는 깊이 맵의 각각의 화소에 상응하는 일련의 연속된 기본 제판 단계를 수행하기 위해 이러한 깊이 맵에 기초하여 제어된다. 전형적인 제판 해상도는 8000 dpi까지 높아질 수 있으며, 이는 대략 3 마이크로미터인 두 개의 연속한 기본 제판 단계 사이의 거리에 상당한다. 따라서, 인쇄판은 인쇄판 표면 내로의 제판을 생성하기 위해 생성된 깊이 맵을 기초로 하는 레이저 빔에 의해 제판될 수 있다.
이러한 접근법의 실질적인 장점은 인쇄판 내에 형성되는 전체적인 음각 디자인을 형성하는 다양한 디자인 요소가 개별적으로 형성되지 않고 그 대신에 화소 단위(pixel-by-pixel)로 한꺼번에 형성된다는 사실에 있다. 또한, 전술된 접근법과 달리, 제판 횟수는 음각 디자인의 복잡도에는 무관하며 형성되는 디자인의 최대 깊이에만 의존한다. 이러한 화소 단위 접근법은 또한 제판 프로파일 및 그 형상에 대한 보다 큰 융통성 및 제어로 해석된다.
특히, 본 출원인의 명의로 또한 출원된 국제 출원 공개 WO 2005/090090 A1 및 WO 2007/119203 A1에 개시된 바와 같은 고도로 복잡한 음각 인쇄 패턴을 형성하기 위해, 국제 출원 공개 WO 03/103962 A1에 개시된 제판 방법이 실행될 수 있다. WO 03/103962 A1에 개시된 화소 단위 제판 원리는 요소들의 높은 복잡도 및 밀도를 나타내는 국제 출원 공개 WO 2007/119203 A1에서 논의된 패턴을 형성하기에 특히 적절하며, 이는 당연히 낮은 제판 횟수와 관련된다. 예시가 되는 음각 인쇄 패턴은 도 1 및 도 2에 도시되어 있으며, 이러한 음각 인쇄 패턴은 대부분의 음각 인쇄된 지폐 상에 발견되는 음각 인쇄 패턴과 유사하다. 도 1은 국제 출원 공개 WO 03/103962 A1에서 발견될 수 있는 초상화의 눈 부분에 대한 확대도인 반면, 도 2는 국제 출원 공개 WO 2007/119203 A1의 교시에 따른 또 다른 초상화의 눈 부분에 대한 확대도이며, 전형적인 곡선 음각 인쇄 패턴들이 톤(tone)에서의 변화를 생성하기 위해 치수적으로 변조되는 미세 문자(micro-letter)와 짜맞추어 진다. 이들 음각 인쇄 패턴은 전형적으로 보안 용지상에 안출되기를 원하는 그림 표시의 요구된 망판(halftone)을 생성하는 치수적으로 변조된 곡선형 요소의 복잡한 배열체를 형성한다. 곡선형 요소는 전형적으로 대략 10 마이크로미터 또는 그 이상의 라인 폭을 갖는다.
국제 출원 공개 WO 03/103962 A1에서 논의된 바와 같이, 폴리머 판과 같은 음각 인쇄판의 전구체(이후에 갈바니 복제 공정(galvanic replication process)에 의해 임의의 개수의 동일한 인쇄판을 생성하기 위해 그 전구체가 사용됨)를 제판하기 위해 또는 전형적으로 그 표면을 크롬 처리한 이후에 음각 인쇄판으로 최종적으로 사용되는 금속성 판을 직접 제판하기 위해 화소 단위 제판 방법이 실행될 수 있다. 유리하게는, 회전 실린더의 원주 상에 레이저 제판 가능한 인쇄 매체를 장착하고 실린더 축에 평행한 방향으로 레이저 제판 장치를 이동시킴으로써 제판 공정이 실행된다.
국제 출원 공개 WO 03/103962 A1에 교시된 바와 같은 음각 인쇄판의 폴리머 전구체의 레이저 제판은 현재 수많은 "컴퓨터 투 인타글리오 플레이트(등록상표)(Computer to Intaglio Plate®, CTiP®)" 시스템을 전세계적으로 지폐 인쇄 산업에 판매하고 있는 출원인에 의해 성공적으로 실행되고 있다. 이러한 CTiP® 시스템은 지폐 및 다른 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판의 제조를 위해 현재 전 세계적으로 상당한 수의 지폐 프리프레스 센터(banknote prepress center)에서 사용되고 있다.
음각 인쇄판의 폴리머 전구체의 레이저 제판은 폴리머 전구체의 제판이 단일 통과에 의해 높은 제판 품질로 수행될 수 있다는 점에서 인쇄판의 직접 레이저 제판에 비해 유리하다. 따라서, 폴리머 전구체의 제판은 지폐의 생성을 위한 높은 품질의 높은 해상도의 음각 인쇄판의 제조에 특히 적절하다.
음각 인쇄판의 폴리머 전구체의 레이저 제판의 또 다른 장점은 갈바니 공정에 의한 소위 "알토(Alto)"를 생성하기 위해 이러한 전구체가 일단 제판되는 경우에 사용될 수 있다는 사실에 있으며, 이러한 복수의 절대적으로 동일한 음각 인쇄판을 직접 생성하기 위한 "마스터 알토(master Alto)"로서 또는 복수의 절대적으로 동일한 음각 인쇄판을 복제하기 위해 사용되는 마스터(또는 원본) 인쇄판을 생성하기 위해 이 알토가 사용될 수 있다. 갈바니 공정은 매우 안정되고 균일한 공정이므로, 동일한 마스터로부터 복제되는 복수의 인쇄판 사이에 차이가 발생할 가능성은 거의 존재하지 않는다. 또한, 인쇄기를 작동시키는 프린터의 실제 작업에 대한 어떠한 영향을 미치지 않으면서 산업에서 편리하게 사용되는 것과 동일한 인쇄판 재료가 사용될 수 있다.
그러나, 음각 인쇄판의 직접 레이저 제판은 친환경이 아닌 화학 물질을 사용하는 갈바니 공정을 회피할 수 있게 한다는 점에서 환경 요건 측면에서 장점을 갖는다.
출원인에 의해 실행된 테스트는 특히 금속성 매체인 인쇄판 매체의 직접 레이저 제판이 적절한 제판 및 인쇄 품질을 보장하기 위해 제거될 필요가 있는 잔류물의 형성을 야기한다는 것을 증명하고 있다. 잔류물의 양은 제판의 깊이에 따라 직접적으로 달라지며, 따라서 제판 깊이와 함께 증가한다. 인쇄판 매체 내에 비교적 깊은 제판을, 특히 50 마이크로미터를 넘는(그리고 훨씬 더 가혹하게 100 마이크로미터를 넘는) 깊이를 갖는 제판을 형성하는 것이 요청될 때, 이러한 양의 잔류물을 제거하는 것이 특히 중요하게 된다.
인쇄판 재료의 특정된 선택이 용융된 잔류물의 형성에 영향을 미치는 반면, 이러한 형성은 음각 인쇄판의 직접 레이저 제판의 정황에서 회피될 수 없으며, 요구된 제판의 품질을 열화시키는 것을 회피하면서 이들 잔류물을 제거하도록 주의해야 한다. 또한, 제거하기 어려운 상당량의 잔류물이 생성되므로 깊은 음각 인쇄 패턴을 형성하게 될 때 이러한 것은 매우 중요하다.
이는 제판 인쇄판의 표면상에 (대략 -80℃의) 낮은 온도로 이산화탄소로 된 드라이아이스 펠렛을 분무함으로써 제판 인쇄판의 표면의 사전 세정 작동을 수행하고 그런 다음에 사전 세정된 제판 인쇄판을 산성 용액 내에서 화학적 처리시키는 것이 다인하머2006에서 제안된 이유 중 하나의 이유를 구성한다. 이미 언급된 바와 같이, 이러한 동작은 제판 비균일성을 야기할 수 있으므로 잠재적으로 해롭다. 또한, 이들 세정 작동은 일단 인쇄판이 완전히 제판된 경우에만 실행될 수 있다.
레이저 빔의 에너지는 제판된 인쇄판 매체의 재료의 최초 수 마이크로미터에서 열 에너지로 잘 흡수되어 변환됨으로써 재료의 국부 가열 및 증발을 야기하는 반면, 그 열 에너지는 더 이상 지향되지 않으며 인쇄판 매체 내의 하부의 재료로의 모든 방향으로 균일하게 퍼지게 된다는 것이 또한 발견되었다. 결과적으로, 보다 높은 에너지는 보다 깊은 제판을 생성할 뿐만 아니라 증가된 라인을 생성한다(다인하머2004를 다시 참조).
그러므로, 레이저 제판 가능한, 특히 금속성인, 인쇄판 매체의 표면 내로 직접 음각 인쇄 패턴을 형성하기 위해 레이저 빔이 사용되는, 음각 인쇄판의 제조를 위한 개선된 방법 및 시스템에 대한 필요성이 있다.
그러므로, 본 발명의 목적은 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하는 개선된 방법 및 시스템을 제공하기 위한 것이며, 그 방법 및 시스템에서 레이저 제판 가능한 인쇄판 매체의 표면 내로 직접 음각 인쇄 패턴을 형성하기 위해 레이저 빔이 사용된다.
본 발명의 또 다른 목적은 인쇄판 표면 내로 직접 형성되는 것이 요청되는 음각 인쇄 패턴의 제판 프로파일을 구현하기 위한 능력을 개선시킨 음각 인쇄판 제조 방법 및 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 용융된 잔류물의 형성을 제한할 수 있으면서 잔류물의 제거 및 세정을 용이하게 하고 아울러 높은 제판 품질을 보장하는 음각 인쇄판 제조 방법 및 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 레이저 제판 공정의 용융된 잔류물을 인쇄판의 표면으로부터 제거하기 위해 공격적인 세정 공정의 사용에 의존하는 것을 가능한 한 충분히 회피하게 할 수 있는 해결책을 제공하는 것으로서, 이러한 공격적인 세정 공정은 제판 균일성 및 품질에 부정적인 영향을 미칠 수 있었다.
이러한 목적은 특허청구범위에 의해 한정된 해결책에 의해 달성된다.
본 발명에 따라, 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법이 제공되며, 이 방법에 있어서, 레이저 빔이 레이저 제판 가능한 특히 금속의 인쇄판 매체의 표면 내로 직접 음각 인쇄 패턴을 형성하도록 하기 위해 사용되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법에 있어서, 음각 인쇄 패턴들이 인쇄판 매체의 표면 내로 요구된 제판 깊이까지 점진적으로 수행되도록 인쇄판 매체의 레이저 제판이 정합 상태에서 순차적으로 수행되는 수 개의 개별 제판 단계에 의해 적층식으로 실행되며, 제판된 인쇄판 매체의 표면은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 레이저 제판 공정의 잔류물로부터 세정된다.
전술된 방법을 실행하기 위한 직접 레이저 제판 시스템도 또한 제공되며, 이 레이저 제판 시스템은 레이저 제판 가능한 인쇄판 매체를 설치하기 위한 지지 요소, 수 개의 개별 제판 단계에서 적층식으로 인쇄판 매체의 표면을 제판하기 위해 인쇄판 매체의 표면을 향해 지향되는 레이저 빔을 생성하는 레이저 제판 유닛, 및 제판된 인쇄판 매체의 표면을 세정하고 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 그 표면으로부터의 잔류물을 제거하기 위한 세정 유닛을 포함한다.
이러한 해결책 덕분에, 제판 공정은 복수의 개별 제판 단계로 분할되며, 각각의 개별 제판 단계는 인쇄판 매체로부터의 제한된 양의 재료의 제거를 포함하며, 따라서 잔류물의 형성을 제한한다. 또한, 제판된 인쇄판의 표면은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 세정되어, 다음 제판 단계가 수행되기 전에 잔류물이 제거되며, 이는 궁극적으로 제판 품질을 개선시킨다.
하나의 실시예에서, 각각의 개별 제판 단계는 인쇄판 매체로부터의 하나의 재료층의 선택적 제거를 야기하며, 하나의 재료층의 두께는 미리 선택된 최대값을 초과하지 않는다. 이러한 미리 선택된 최대값은 바람직하게는 10 마이크로미터 내지 15 마이크로미터 사이이다.
또 다른 실시예에서, 각각의 개별 제판 단계 이후의 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이의 제판된 인쇄판 매체의 표면의 세정은 기계적으로 수행되며, 바람직하게는 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 제판된 인쇄판 매체의 표면 위로 이동되는 회전 브러쉬에 의해 수행된다.
또 다른 실시예에서, 상기 인쇄판 매체는 인쇄판 매체의 표면을 향해 지향된 레이저 빔을 생성하는 이동 가능한 레이저 제판 유닛의 정면에서 회전되는 지지 실린더의 원주 상에 장착되며, 레이저 제판 유닛은 지지 실린더의 회전축에 평행하게 이동 가능하다.
또 다른 실시예에서, 제판될 인쇄판 매체의 표면에 대한 레이저 빔의 입사각이 일정하게 유지됨으로써, 제판 공정을 통해 완벽한 제판 균일성을 보장한다.
또 다른 실시예에서, 인쇄판 매체의 표면을 향해 지향된 레이저 빔을 생성하는 레이저 제판 유닛이 각각의 개별 제판 단계 중에 인쇄판 매체의 표면 위에서 시작 위치로부터 끝 위치로 이동되며, 제판된 인쇄판 매체의 표면의 세정은 비작동 상태인 레이저 제판 유닛이 끝 위치로부터 시작 위치로 반대로 이동되는 동안에 수행된다.
유리하게는, 인쇄판 매체가 전술된 바와 같이 지지 실린더의 원주 상에 장착되는 실시예의 정황에서, 레이저 제판 유닛은 인쇄판 매체의 표면의 연속하는 환상부들을 처리하기 위해 각각의 개별 제판 단계 중에 지지 실린더의 회전축을 따라 시작 위치로부터 끝 위치로 단계적으로(step by step) 이동되며, 제판된 인쇄판 매체의 표면의 세정은 비작동 상태인 레이저 제판 유닛이 끝 위치로부터 시작 위치로 반대로 이동되는 동안에 수행된다.
또 다른 실시예에서, 인쇄판 매체의 표면의 제판은 먼저 가장 깊은 음각 인쇄 패턴으로부터 시작하고 후속하는 제판 단계 중에 보다 얕은 음각 인쇄 패턴을 점차적으로 추가함으로써 수행된다. 이는 유리하게는 최종 제판 단계까지 보다 얕고 보다 미세한 음각 인쇄 패턴을 유지하는 것을 가능하게 하며, 이러한 보다 얕고 보다 미세한 음각 인쇄 패턴은 세정 작동에 보다 민감하다. 이는 개별 제판 단계 중에 레이저 빔의 포커싱을 조정하는 자동 포커싱 시스템을 사용하여 수행될 수 있거나 또는 제판 순서를 복수의 제판 시기로 분해하고 각각의 제판 시기가 하나 이상의 제판 단계를 포함함으로써 요구된 음각 인쇄 패턴 중 오직 일부분만이 각각의 제판 시기 중에 제판되게 하여 수행될 수 있다.
본 발명의 또 다른 유리한 실시예는 종속항의 사상을 형성하며 이하에서 논의된다.
본 발명의 기타 특징과 장점은 오직 비제한적인 예에 의해 제시되고 첨부된 도면에 의해 도시된 본 발명의 실시예에 대한 이하의 상세한 설명으로부터 보다 명백하게 이해될 것이다.
도 1은 국제 출원 번호 WO 03/103962 A1에서 발견될 수 있는 음각 인쇄에 의해 묘사된 초상화의 눈 부분의 상세도이다.
도 2는 국제 출원 번호 WO 2007/119203 A1의 교시에 따른 음각 인쇄에 의해 묘사된 또 다른 초상화의 눈 부분의 상세도이다.
도 3은 인지세 또는 반데롤을 위한 예시적인 음각 디자인을 설명도로서, 음각 디자인은 본 발명에 따른 직접 레이저 제판에 의해 생성될 수 있는 복수의 디자인 요소로 구성된다.
도 4는 본 발명에 따라 제판된 음각 인쇄판의 일부분의 그레이스케일(grayscale) 사진이며, 도 3에 도시된 바와 같은 복수의 음각 인쇄 패턴이 음각 인쇄판 상에 제판된다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 개별 제판 단계 및 그 단계 이후의 후속하는 세정 단계에 대한 두 개의 개략적인 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 음각 인쇄판의 개별 제판 단계들의 하나의 가능한 순서를 보여주는 개략적인 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 음각 인쇄판의 개별 제판 단계들의 또 다른 가능한 순서를 보여주는 개략적인 도면이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명에 따른 음각 인쇄판의 개별 제판 단계들의 또 다른 가능한 순서를 보여주는 개략적인 도면이다.
도 9는 본 발명의 방법을 실행하기 위한 레이저 제판 시스템의 개략적인 측면도이다.
도 10은 도 9의 레이저 제판 시스템의 개략적인 사시도이며, 그 구성 요소의 일부분만이 도시되어 있다.
본 발명의 정황에서, "음각 인쇄 디자인" 또는 "음각 인쇄 패턴"은 제판에 의해 생성되며 다양한 라인 폭 및 제판 깊이를 갖는 복수의 곡선 요소들의 배열체로 구성된 디자인 및 패턴을 지칭하는 것으로 이해될 것이다. 이러한 음각 인쇄 디자인 및 패턴은 대부분의 보안 용지상에서 발견되며 쉽게 인지될 수 있는 인쇄 제품상에서의 독특한 인쇄 디자인 및 패턴을 생성한다. 이러한 음각 인쇄 디자인 및 패턴의 예는 본 발명에 따라 직접 레이저 제판에 의해 음각 인쇄판 내로 상응하는 음각 인쇄 패턴의 형태로 제판될 수 있는 예시적인 음각 디자인을 예시하는 도 3에서는 물론 이미 논의된 도 1 및 도 2에 도시되어 있다. 이들 예시는 명백하게 오로지 예시적인 것이며 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 간주되지 않을 것이다.
본 발명에 따라 생성된 음각 인쇄 디자인 및 패턴은 그라비어 인쇄(gravure printing)(또는 로토그라비어(rotogravure))의 정황에서 사용된 디자인 및 패턴으로부터 구별될 것이며, 이들 그라비어 인쇄(또는 로토그라비어)는 오직 실린더의 표면 내로 제판되는 다양한 폭 및/또는 깊이를 갖는 복수의 셀들의 어레이로 구성되고, 그 셀들은 셀 벽에 의해 분리된다. 그라비어 인쇄는 셀 벽 위로 넘치도록 허용된 낮은 점도의 잉크를 사용하므로, 개별 셀들이 인쇄물에서 더 이상 명백하지 않다. 그라비어 인쇄에서 셀의 깊이는 전형적으로 최대 50 마이크로미터이며(셀 깊이는 대체로 10 마이크로미터 내지 30 마이크로미터임), 그라비어 인쇄는 인쇄된 최종 제품 상에 임의의 인지 가능한 부조(relief)를 생성하지 않는다. 그라비어 인쇄에 대한 상세한 설명은 헬멋 키판(Helmut Kipphan)의 "인쇄 매체의 핸드북(Handbook of Print Media)", 스프링어-버랙(Springer-Verlag), 2001, ISBN 3-540-67326-1(예를 들어 48쪽 내지 53쪽의 1.3.2.2장 및 360쪽 내지 394쪽의 2.2장을 참조)에서 발견될 수 있다.
이와 달리, 보안 용지의 생성을 위해 적용되는 바와 같은 음각 인쇄는 곡선 패턴의 형태를 갖는 음각 인쇄 패턴을 갖는 제판된 인쇄판의 사용을 기초로 하며, 곡선 패턴의 적어도 일부분의 깊이는 전형적으로 50 마이크로미터를 초과한다. 또한, 이들 음각 인쇄 패턴은 높은 점도의 잉크로 잉크 처리되고 높은 인쇄 압력으로 인쇄가 실행되어, 인쇄된 최종 제품상에 독특한 엠보싱을 야기한다.
도 3은 본 발명에 따른 직접 레이저 제판에 의해 생성될 수 있는 인지세 또는 반데롤의, 참조 부호 12에 의해 광범위하게 지정된 예시적인 음각 디자인을 도시한다. 이러한 음각 디자인(12)은 예를 들어 소위 잠재 영상(12a), 다양한 크기의 텍스트 또는 유사한 문자 숫자식 표시(12b, 12c 및 12d), 잉크 보유 구조(도시되지 않음)를 갖는 대형 표면 패턴(12e), 로고(12f) 및 길로쉬(guilloche) 패턴(12g)를 포함한 복수의 디자인 요소(12a 내지 12g)로 구성된다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같은 전형적인 음각 초상화에서 발견된 패턴과 유사한 패턴을 포함하는 임의의 다른 패턴 또는 이들의 조합이 상상될 수 있다.
도 3의 음각 인쇄 패턴의 다양한 디자인 요소(12a 내지 12g)는 본 출원인이 판매하고 있는 소프트웨어 원(등록상표)(ONE®)과 같은 적절한 디자인 소프트웨어에 의해 생성될 수 있다. 각각의 디자인 요소(12a 내지 12g)의 제판 프로파일은 국제 출원 번호 WO 03/103962 A1에서 논의된 바와 같은 소위 원본 깊이 맵(original depth-map)을 안출하기 위해 디자이너에 의해 선택된 매개 변수에 따라 개별적으로 한정될 수 있다. 그런 다음, 이러한 원본 깊이 맵은 제판할 음각 인쇄판의 마스터 깊이 맵을 형성하기 위해 요구된 횟수만큼 디지털 방식으로 복제된다. 도 3의 음각 디자인을 기초로 하여 제판되었던 인쇄판 매체(1)의 표면의 부분도는 도 4의 그레이스케일 사진에 도시되어 있다. 도 4의 그레이스케일 사진은 제판된 음각 인쇄판(1)의 거울 반사된 영상을 실제로 도시하며, 인쇄판 매체(1) 내로 제판된 음각 인쇄 패턴이 도 3에 도시된 음각 디자인을 거울 반사한다는 것이 이해된다.
이제, 도 5a 및 도 5b를 참조하여 본 발명에 따른 방법의 기본 원리를 설명한다. 도 5a는 레이저 빔(2)에 의해 제판되어 인쇄판 매체(1)의 표면 내에 제판(3)을 형성하는 공정 중에 있는 인쇄판 매체(1)를 개략적으로 도시한다. 도 5a 내의 빗금 영역은 레이저 빔(2)에 의해 제거된 재료를 표시한다. 제판(3)의 치수는 설명을 위해 과장되어 있다. 예를 들어, 음각 인쇄 패턴(3)의 적어도 일부분은 대략 80 마이크로미터의 깊이로 형성될 수 있다. 제판의 깊이는 최대 150 마이크로미터(또는 경우에 따라서는 그 이상)일 수 있는 반면, 전형적인 라인 폭은 대략 10 마이크로미터 내지 500 마이크로미터의 범위인 것이 이해될 것이다. 제판 내에 적절한 잉크 보유 구조가 형성되어 있는 규정에 따라 넓은 라인 폭 또는 넓은 표면이 가능하며, 이러한 잉크 보유 구조는 음각 인쇄 프레스의 와이핑(wiping) 시스템에 의해 잉크가 제판으로부터 닦아 없어지는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.
국제 출원 번호 WO 03/103962 A1에 논의된 바와 같이, 제판은 바람직하게는 요구된 음각 인쇄 패턴의 제판 깊이 맵(engraving depth-map)의 3차원 화소 데이터를 기초로 화소 단위(pixel-to-pixel)로 수행된다. 인쇄판 매체(1)는 바람직하게는 니켈, 강철, 황동, 아연, 크롬 또는 그들의 합금과 같은 금속으로 이루어지거나 또는 그러한 금속으로 이루어진 최외각층을 포함하며, 이들 재료는 모두 당업계에서 통상적으로 사용되고 있다.
본 발명에 따라, 인쇄판 매체(1)는 정합 상태에서 순차적으로 수행된 수 개의 개별 제판 단계(도 5a는 일련의 개별 제판 단계 중에서 제 1 제판 단계를 도시함)에서 제판되어, 요구된 제판 깊이까지 음각 인쇄 패턴이 인쇄판 매체(1)의 표면 내로 점진적으로 적층식으로 제판된다. 바람직하게는, 각각의 개별 제판 단계는 인쇄판 매체(1)로부터 하나의 재료층의 선택적인 제거를 야기하며, 하나의 층의 두께는 미리 선택된 최대값 ΔMAX을 초과하지 않는다. 이러한 최대값 ΔMAX은 바람직하게는 10 마이크로미터 내지 15 마이크로미터이다.
도 5b에 의해 개략적으로 도시된 바와 같이, 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에, 즉 각각의 층의 제거 이후에 세정된다. 인쇄판 매체(1)의 표면의 세정은 기계적으로(즉, 공격적인 세정 공정(aggressive cleaning process)의 사용에 의존하지 않으면서) 편리하게 수행될 수 있다. 이러한 세정은 유리하게는 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면 위로 이동되는 회전 브러쉬(9)에 의해 수행될 수 있다.
이하에서 이해되는 바와 같이, 인쇄판 매체(1)는 유리하게는 인쇄판 매체(1)의 표면을 향해 지향되는 레이저 빔을 생성하는 이동 가능한 레이저 제판 유닛의 정면에서 회전되는 지지 실린더의 원주 상에 장착될 수 있으며, 이러한 레이저 제판 유닛은 지지 실린더의 회전축에 평행하게 이동 가능하다. 이러한 정황에서, 각각의 개별 제판 단계는 레이저 제판 유닛이 인쇄판 매체의 표면의 연속하는 환상부들을 처리하기 위해 지지 실린더의 축을 따라 시작 위치로부터 끝 위치로 단계적으로(step-by-step) 이동되는 동안 편리하게 수행될 수 있으며, 인쇄판 매체(1) 표면의 세정은 비작동 상태인 레이저 제판 유닛이 끝 위치로부터 시작 위치로 반대로 이동하는 동안 수행될 수 있다.
바람직하게는, 제판되는 인쇄판 매체(1)의 표면에 대한 레이저 빔(2)의 입사각이 일정하게 유지됨으로써, 제판 공정을 통해 완벽한 제판 균일성을 보장한다.
본 발명의 정황에서 개별 제판 단계들의 상이한 순서들이 상상될 수 있다. 도 6은 하나의 가능한 순서를 도시하는 데, 참조 부호 3.1 및 3.2로 각각 지정된 제 1 및 제 2 음각 인쇄 패턴이 적층식으로 점진적으로 형성된다. 예를 들어 제 1 음각 인쇄 패턴(3.1)은 제 1 제판 단계 중에 제 1 부분 제판을 형성하고, 제 2 제판 단계 중에 제판을 제 2 부분 제판까지 깊어지며, 최종적으로 제 3 제판 단계 중에 최종 음각 인쇄 패턴(3.1)으로 깊어지는 3개의 단계로 제판된다. 보다 얕은 음각 인쇄 패턴(3.2)는 제 1 음각 인쇄 패턴(3.1)의 제 1 및 제 2 부분 제판과 동일하게 수행되는 두 개의 단계로 유사하게 제판되는 데, 제 1 단계 중에 부분 제판이 제판되고 이어서 제 2 제판 단계 중에 최종 음각 인쇄 패턴(3.2)으로 깊어진다. E또한, 도 6 내의 빗금 영역은 각각의 제판 단계 중에 레이저 빔(2)에 의해 제거되는 재료를 도시한다(동일한 사항이 이하에 논의되는 도 7, 도 8a 및 도 8b에 적용됨). 또한, 인쇄판 매체(1)의 표면이 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 잔류물로부터 세정된다는 것이 이해될 것이다.
도 7은 또 다른 가능한 순서를 도시하며, 가장 깊은 음각 인쇄 패턴, 예를 들어 음각 인쇄 패턴(3.1)으로 먼저 시작하고 후속하는 제판 단계 중에는 보다 얕은 음각 인쇄 패턴, 예를 들어 음각 인쇄 패턴(3.2) 및 그 이후의 음각 인쇄 패턴(3.3)을 점진적으로 추가함으로써 인쇄판 매체(1)의 표면의 적층식 제판이 수행된다. 예를 들어, 제 1 제판 단계 중에는 오직 음각 인쇄 패턴(3.1)이 부분적으로 제판된다. 제 2 단계 중에는 이러한 음각 인쇄 패턴(3.1)이 깊어지면서 동시에 음각 인쇄 패턴(3.2)의 부분적인 제판이 형성된다. 제 3 단계 중에는 음각 인쇄 패턴(3.1 및 3.2)이 추가로 깊어지면서 제 3의 보다 얕은 음각 인쇄 패턴(3.3)이 인쇄판 매체(1)의 표면 내에 형성된다.
도 7에서 명백한 바와 같이, 이 경우에는 인쇄판 매체(1)의 상이한 레벨에서 재료가 제거되므로 레이저 빔(2)의 포커싱이 제 2 및 제 3 제판 단계 중에 조정될 필요가 있다. 이러한 것은 제판 단계 중에 레이저 빔(2)의 포커싱을 조정하기 위한 적당한 시스템을 사용하여 수행될 수 있다(레이저 빔(2)의 초점의 이러한 조정은 제 1 제판 단계 중에 필연적인 것은 아니다).
대신에, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같이, 적층식 제판 순서는 복수의 제판 시기로 분해될 수 있고, 각각의 제판 시기는 하나 이상의 개별 제판 단계를 포함할 수 있어서, 요구된 음각 인쇄 패턴의 오직 일부분만이 각각의 제판 시기 중에 제판된다.
예를 들어 도 8a 및 도 8b는 음각 인쇄 패턴(3.1)이 제 1 제판 시기 중에 형성되고, 음각 인쇄 패턴(3.2 및 3.3)이 후속하는 제 2 제판 시기 중에 형성되는 경우를 도시한다. 보다 정확하게는, 도 8a 및 도 8b는 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 제판 단계(제 1 내지 제 4 제판 단계는 제 1 제판 시기에 상응함)가 음각 인쇄 패턴(3.1)을 형성하기 위해 실행되는 반면, 보다 얕은 음각 인쇄 패턴(3.2 및 3.3)이 제 5 및 제 6 제판 단계(제 5 및 제 6 제판 단계는 제 2 제판 시기에 상응함)중에 동시에 형성되는 것을 도시한다. 당연히 두 개 이상의 제판 시기가 상상될 수 있다.
도 7을 참조하여 논의된 이전의 제판 단계의 순서와 달리, 레이저 빔(2)의 초점이 각각의 제판 단계 중에는 조정될 필요가 없지만, 도 6의 제판 단계의 순서의 경우에서와 같이 오직 하나의 단계로부터 다음 단계로 조정될 필요가 있다.
도 7, 도 8a 및 도 8b를 참조하여 전술된 제판 단계의 순서는 보다 얕고 보다 미세한 음각 인쇄 패턴이 제판 공정의 최종 스테이지 중에 형성되며 반복된 세정 작용으로부터 보호된다는 점에서 유리할 수 있다.
도 6, 도 7, 도 8a 및 도 8b를 참조하여 전술된 제판 단계의 순서는 가능한 제판 순서를 오직 예시한다. 다른 제판 단계의 순서들이 상상될 수 있다.
도 9는 본 발명의 방법을 실행하기 위한 레이저 제판 시스템의 개략적인 부분 측면도이다. 이미 언급된 바와 같이, 인쇄판 매체(1)는 바람직하게는 인쇄판 매체(1)의 표면을 향해 지향된 레이저 빔(2)을 생성하는 이동 가능한 제판 유닛(4)의 정면에서 회전되는 지지 실린더(5)(도 10도 또한 참조)의 원주 상에 장착되며, 이 레이저 제판 유닛(4)은 지지 실린더(5)의 회전축(O)에 평행하게 이동 가능하다.
레이저 제판 유닛(4)은 예를 들어 이테르븀 섬유 레이저 유닛인 임의의 유형의 적절한 레이저 제판 유닛일 수 있다. 레이저는 광섬유 케이블(40)을 통해 레이저 공급원(도시되지 않음)으로부터 레이저 제판 유닛(4)의 레이저 헤드로 편리하게 공급될 수 있다. 레이저 제판 유닛(4)은 시작 위치(도 10에서 좌측에 도시됨)와 참조 부호 4*로 지정된 끝 위치(도 10의 우측에 도시됨) 사이에 지지 실린더(5)의 회전축(O)에 평행하게 이동 가능한 프레임(도 10에 도시되지 않음) 상에 장착된다.
레이저 제판 유닛(4)은 인쇄판 매체(1)의 표면의 연속적인 환상부들을 처리하기 위해 각각의 개별 제판 단계 중에 지지 실린더(5)의 회전축(O)을 따라 시작 위치로부터 끝 위치로(예를 들어, 도 10에서 왼쪽으로부터 오른쪽으로) 단계적으로 이동 가능하다.
참조 부호 6에 의해 광범위하게 지정된 세정 유닛은 바람직하게는 레이저 제판 유닛(4)과 함께 이동되기 위해 레이저 제판 유닛(4)과 동일한 프레임 상에 지지 아암(도시되지 않음)에 의해 장착된다. 지지 아암은 세정 유닛(6)이 지지 실린더(5) 상에 유지된 인쇄판 매체(1)의 표면과 접촉하게 되는 작업 위치(도 9에 도시됨)와 세정 유닛(6)이 인쇄판 매체(1)의 표면으로부터 이격되게 이동되는 후퇴된 비작동 위치(도시되지 않음) 사이에서 세정 유닛(6)의 이동을 가능하게 디자인된다. 세정 유닛(6)은 바람직하게는 비작동 상태인 레이저 제판 유닛(4)이 끝 위치로부터 시작 위치로, 예를 들어 도 10에서 오른쪽으로부터 왼쪽으로 반대로 이동되는 동안 작동한다. 그러나, 세정 유닛(6)의 장착을 위한 다른 배열체가 상상될 수 있으며, 다른 배열체는 세정 유닛(6) 및 레이저 제판 유닛(4)이 분리 프레임 상에 장착되는 배열체 및/또는 세정 유닛(6)이 지지 실린더(5)에 의해 유지된 인쇄판 매체(1)의 표면을 향해 그리고 그 표면으로부터 이격되게 예를 들어 세정 유닛(6)의 회전을 통해 후퇴 가능한 배열체를 포함한다.
세정 유닛(6)은 바람직하게는 인쇄판 매체(1)의 표면을 브러쉬 처리하기 위한 회전 브러쉬(9)를 포함한다. 세정 유닛(6)은 유리하게는 인쇄판 매체(1)의 표면으로부터 제거된 잔류물을 흡인하기 위한 흡인 헤드(10)를 추가로 구비할 수 있다. 이러한 예에서, 회전 브러쉬(9)를 둘러싸는 모든 영역으로부터 잔류물이 편리하게 흡인될 수 있도록 회전 브러쉬(9)는 흡인 헤드(10) 내에 위치된다.
브러쉬(9)의 회전 속도, 브러쉬(9)와 인쇄판 매체(1)의 표면 사이의 압력 및/또는 지지 실린더(5)의 회전축(O)에 평행한 세정 유닛(6)의 변위 속도는 유리하게는 최적 세정 효율을 보장하기 위해 조정 가능하다.
도 9 및 도 10의 시스템에서, 인쇄판 매체(1)는 유리하게는 인쇄판 매체(1)가 음각 인쇄 프레스의 판 실린더의 원주 상에 유지되는 것과 동일한 방식으로 지지 실린더(5) 상에 유지되는 동안에 제판된다. 이는 제판된 인쇄판 매체(1)가 최종적으로 음각 인쇄 프레스 내에 설치될 때 제판의 제판 프로파일이 실질적으로 변화되지 않고 유지되는 것을 보장하며, 이는 인쇄판 매체(1)가 평탄하게 유지되는 동안에 제판되는 국제 출원 공개 WO 97/48555 A1, 유럽 특허 출원 공개 EP 1 334 822 A2, 국제 출원 공개 WO 2006/045128 A1 또는 다인하머2006에 개시된 바와 같은 해결책보다 유리한 해결책이다. 완전하게 하기 위해, 음각 인쇄 프레스는 유럽 특허 출원 공개 EP 0 091 709 A1, EP 0 351 366 A2, EP 0 406 157 A1, EP 0 415 881 A1, EP 0 563 007 A1, EP 0 683 123 A1, EP 0 873 866 A1, EP 1 400 353 A1, EP 1 442 878 A1, EP 1 445 098 A1, EP 1 448 393 A1 (WO 03/047862 A1), EP 1 580 015 A1, EP 1 602 482 A1, EP 1 602 483 A1, EP 1 622 769 A1 (WO 2004/101282 A1) 및 EP 1 704 052 A1 (WO 2005/077656 A1)에 개시되어 있으며, 이들 출원은 모두 본 출원인의 명의로 출원되어 있다.
첨부된 특허청구범위에 의해 한정되는 바와 같은 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않으면서 전술된 실시예에 대한 다양한 변형 및/또는 개선이 이루어질 수 있다. 예를 들어, 레이저 제판 시스템의 전술된 실시예는 회전 가능한 지지 실린더를 포함하고 그 지지 실린더의 원주 상에 레이저 제판 가능한 인쇄판 매체가 장착되지만, 본 발명은 평탄한 x-y 테이블을 사용하는 제판 시스템에도 동일하게 적용 가능하다.

Claims (24)

  1. 레이저 제판 유닛(4)에 의해 생성된 레이저 빔(2)이 레이저 제판 가능한 인쇄판 매체(1)의 표면으로 직접 음각 인쇄 패턴(3, 3.1, 3.2, 3.3)을 새기도록 하기 위해 사용되는, 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 방법에 있어서,
    음각 인쇄 패턴들이 인쇄판 매체(1)의 표면으로 요구되는 제판 깊이까지 점진적으로 새겨지도록, 인쇄판 매체(1)의 레이저 제판이 정합 상태에서 순차적으로 수행되는 수 개의 개별 제판 단계에 의해 순차적으로 실행되며, 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 상기 레이저 제판 유닛이 비동작중인 동안 레이저 제판 공정의 잔류물로부터 세정되고,
    레이저 제판 유닛(4)에 의해 생성된 레이저 빔(2)은 인쇄판 매체(1)의 표면을 향해 지향되고, 상기 레이저 제판 유닛(4)은 각각의 개별 제판 단계 중에 인쇄판 매체(1)의 표면 위에서 시작 위치로부터 끝 위치로 이동되며, 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면의 세정은 비작동 상태인 레이저 제판 유닛(4)이 끝 위치로부터 시작 위치로 반대로 이동되는 동안에 수행되는,
    보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 각각의 개별 제판 단계는 인쇄판 매체(1)로부터의 하나의 재료층의 선택적 제거를 야기하며, 하나의 재료층의 두께는 미리 선택된 최대값을 초과하지 않는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 미리 선택된 최대값은 10 마이크로미터 내지 15 마이크로미터 사이인 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 음각 인쇄 패턴의 적어도 일부분은 적어도 80 마이크로미터의 깊이로 형성되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 개별 제판 단계 이후의 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이의 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면의 세정은 기계적으로 수행되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서, 각각의 개별 제판 단계 이후의 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이의 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면의 세정은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면 위로 이동되는 회전 브러쉬(9)에 의해 수행되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 각각의 제판 단계는 상기 음각 인쇄 패턴의 제판 깊이 맵의 3차원 화소 데이터를 기초로 한 인쇄판 매체(1)의 화소 단위 제판을 포함하는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 인쇄판 매체(1)는 상기 레이저 제판 유닛(4)의 정면에서 회전되는 지지 실린더(5)의 원주 상에 장착되고, 상기 레이저 제판 유닛(4)은 지지 실린더(5)의 회전축(O)에 평행하게 이동 가능하고, 레이저 제판 유닛(4)은 인쇄판 매체(1)의 표면의 연속하는 환상부들을 처리하기 위해 각각의 개별 제판 단계 중에 지지 실린더(5)의 회전축(O)을 따라 상기 시작 위치로부터 상기 끝 위치로 단계적으로 이동되는, 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  9. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 인쇄판 매체(1)의 표면의 제판은 먼저 가장 깊은 음각 인쇄 패턴으로부터 시작하고 후속하는 제판 단계 중에 보다 얕은 음각 인쇄 패턴을 점차적으로 추가함으로써 수행되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 레이저 빔(2)의 초점은 상기 개별 제판 단계들 중 적어도 하나의 제판 단계 중에 조정되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 레이저 빔(2)의 초점은 상기 개별 제판 단계 중에는 조정되지 않고, 인쇄판 매체(1)의 표면의 제판은 복수의 제판 시기로 분해되며, 각각의 제판 시기는 하나 이상의 개별 제판 단계를 포함하며, 요구되는 음각 인쇄 패턴(3.1, 3.2, 3.3)의 오직 일부만이 각각의 제판 시기 중에 제판되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  12. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 인쇄판 매체(1)의 표면에 대한 레이저 빔(2)의 입사각이 제판 공정을 통해 일정하게 유지되는 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  13. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 인쇄판 매체(1)는 금속성 인쇄판 매체인 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판 제조 방법.
  14. 보안 용지의 생성을 위한 음각 인쇄판을 제조하기 위한 레이저 제판 시스템에 있어서,
    레이저 제판 가능한 인쇄판 매체(1)를 설치하기 위한 지지 실린더(5),
    수 개의 개별 제판 단계에서 적층식으로 인쇄판 매체(1)의 표면으로 직접 음각 인쇄 패턴(3, 3.1, 3.2, 3.3)을 제판하기 위해 인쇄판 매체(1)의 표면을 향해 지향되는 레이저 빔(2)을 생성하는 레이저 제판 유닛(4), 및
    제판된 인쇄판 매체(1)의 표면을 세정하고, 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 상기 레이저 제판 유닛(4)이 비동작중인 동안 그 표면으로부터의 잔류물을 제거하기 위한 세정 유닛(6)을 포함하고,
    상기 레이저 제판 유닛(4)은 각각의 개별 제판 단계 중에 상기 인쇄판 매체(1)의 표면 위에서 시작 위치로부터 끝 위치로 이동 가능하며, 상기 세정 유닛(6)은 비작동 상태인 레이저 제판 유닛(4)이 끝 위치로부터 시작 위치로 반대로 이동되는 동안에 작동되는, 레이저 제판 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 인쇄판 매체(1)는 상기 지지 요소로서 작용하는 지지 실린더(5)의 원주 상에 장착되고, 지지 실린더(5)는 상기 레이저 제판 유닛(4)의 정면에서 회전되며, 레이저 제판 유닛(4)은 지지 실린더(5)의 회전축(O)에 평행하게 이동 가능한 레이저 제판 시스템.
  16. 제 15 항에 있어서, 레이저 제판 유닛(4)은 인쇄판 매체(1)의 표면의 연속적인 환상부들을 처리하기 위해 각각의 개별 제판 단계 중에 지지 실린더(5)의 회전축(O)을 따라 상기 시작 위치로부터 상기 끝 위치로 단계적으로 이동 가능한, 레이저 제판 시스템.
  17. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 레이저 제판 유닛(4)과 상기 세정 유닛(6)은 인쇄판 매체(1)의 표면에 대해 이동 가능한 공통 프레임 상에 장착되는 레이저 제판 시스템.
  18. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 세정 유닛(6)은 각각의 개별 제판 단계 이후에 그리고 각각의 개별 제판 단계 사이에 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면의 기계적 세정을 수행하도록 디자인된 레이저 제판 시스템.
  19. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 세정 유닛(6)은 제판된 인쇄판 매체(1)로부터 잔류물을 기계적으로 제거하기 위해 제판된 인쇄판 매체(1)의 표면과 접촉할 수 있는 회전 가능한 브러쉬(9)를 포함하는 레이저 제판 시스템.
  20. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 레이저 제판 유닛(4)은 각각의 개별 제판 단계 중에 인쇄판 매체(1)로부터 하나의 재료층을 선택적으로 제거하도록 제어 가능하며, 하나의 재료층의 두께는 미리 선택된 최대값을 초과하지 않는 레이저 제판 시스템.
  21. 제 20 항에 있어서, 미리 선택된 최대값은 10 마이크로미터 내지 15 마이크로미터 사이인 레이저 제판 시스템.
  22. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, 레이저 제판 유닛(4)은 상기 음각 인쇄 패턴의 제판 깊이 맵의 3차원 화소 데이터를 기초로 인쇄판 매체(1)의 화소 단위 제판을 수행하도록 제어 가능한 레이저 제판 시스템.
  23. 삭제
  24. 삭제
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