KR101580104B1 - 반도체용 플라즈마 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정중 플라즈마 방전을 통해 반도체부품을 세척하기 위한 플라즈마 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하는 로터리스테이지를 통해 메거진 내에 수납된 세정대상이 되는 반도체부품의 로딩과 세정이 완료된 반도체부품의 언로딩이 단일의 장소에서 동일한 메거진에 대하여 이루어지도록 한 반도체용 플라즈마 세정장치에 관한 것이다.
본 발명은 다수의 반도체부품(A)이 일정간격을 두고 탑재된 메거진(M)을 세정진행 상황에 따라 단계적으로 승강시키는 메거진 테이블(100); 상기 메거진 테이블로부터 후방에 설치되어 수평회전하는 로터리스테이지(200); 상기 로터리스테이지로 하강하여 로터리스테이지로 공급된 반도체부품들을 세정하는 플라즈마 세정챔버(300); 상기 메거진 테이블의 전방에 위치되어 메거진이 단계적으로 승강할 때마다 매거진 내부에 탑재된 세정대상이 되는 반도체부품을 후방으로 밀어서 이동시키는 제1이송부재(400); 상기 로터리스테이지의 상부에 승강 및 전후방향 이동이 가능하게 설치되어 상기 제1이송부재를 통해 후방으로 이동된 세정대상이 되는 반도체부품을 픽업하여 로터리스테이지로 공급하거나 상기 로터리스테이지의 상부에 놓여진 세정이 완료된 반도체부품을 메거진 테이블로 밀어서 메거진에 단계적으로 탑재시키는 제2이송부재(500); 및 상기 로터리스테이지와 메거진테이블 사이에 설치되어 로터리스테이지가 회전할 때 상승하여 로터리스테이지에 회전여유공간을 제공하는 브릿지레일(600)을 포함하여 구성된다.

Description

반도체용 플라즈마 세정장치{Semiconductor plasma cleaning apparatus}
본 발명은 반도체 제조 공정중 플라즈마 방전을 통해 반도체부품을 세척하기 위한 플라즈마 세정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하는 로터리스테이지를 통해 메거진 내에 수납된 세정대상이 되는 반도체부품의 로딩과 세정이 완료된 반도체부품의 언로딩이 단일의 장소에서 동일한 메거진에 대하여 이루어지도록 한 반도체용 플라즈마 세정장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조 공정에 사용되는 플라즈마 세정장치는 플라즈마 방전을 통해 예컨대 리드프레임이나 PCB 기판 등과 같은 반도체부품을 세척하는 장치로서, 반도체 제조공정마다 설치되어 반도체부품의 표면을 세정하도록 되어 있다.
즉, 반도체부품은 그 종류에 따라서 스트립핑-다이본딩-와이어본딩-패키지몰딩-마킹 등의 제조공정을 거치게 되는데, 각 공정마다 이루어지는 물리적 화학적 처리로 인하여 표면이 오염되기 때문에 각 공정전 단계에서 오염된 표면을 세정하기 위한 별도의 세정공정이 요구되는 것이다.
특히 플라즈마를 이용한 세정방법은 반도체부품의 세정뿐만 아니라 다이본딩과 와이어본딩시 구리로 이루어진 반도체부품의 표면의 세정도 함께 이루어지기 때문에 반도체부품의 표면을 은이나 금으로 도금하지 않아도 되므로 반도체의 생산비용과 공정의 단순화에 기여할 수 있다는 장점 때문에 최근에 널리 사용되고 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 세척장치는 다수의 반도체부품이 일정간격을 두고 탑재된 메거진을 세정진행 상황에 따라 단계적으로 상승시키는 로드부(10)와, 로드부(10) 전방에 배치되어 메거진이 단계적으로 상승할 때마다 매거진 내부에 탑재된 반도체부품을 후방으로 이동시키는 제1이송수단(20)과, 제1이송수단(20)을 통해 반도체부품을 공급받아 세정을 수행하는 플라즈마 세정부(30)와, 상기 플라즈마 세정부(30)를 통해 세정이 완료된 반도체부품을 후방으로 이동시키는 제2이송수단(40)과, 반도체부품이 탑재되지 않은 빈 메거진을 가지며 상기 제2이송수단(40)을 통해 이송되는 반도체부품이 상기 빈 메거진의 내측에 순차적으로 탑재될 수 있도록 상기 빈 메거진을 반도체부품의 이송 상황에 따라 단계적으로 하강시키는 언로드부(50)로 구성되어 있다.
따라서, 종래의 플라즈마 세척장치는 작업자가 메거진을 매번 교체하지 않고도 반도체부품의 세정작업이 메거진의 투입에서부터 메거진의 인출까지 자동으로 연속 처리되므로 세정 처리 능률 및 반도체부품의 생산성이 향상되는 효과를 기대할 수 있었다.
그러나, 상기와 같은 종래의 플라즈마 세척장치는 반도체부품을 플라즈마 세정 헤드부(30)로 이송시키는 로드부(10) 및 제1이송수단(20) 이외에 세정이 완료된 반도체부품을 후방으로 이송시키는 제2이송수단(40)과 언로드부(50)를 필수적으로 구비해야 하므로 장치가 대형화되고 구조가 복잡하다는 문제가 있다.
또한, 상기와 같은 종래의 플라즈마 세척장치는 세정 전의 반도체부품이 탑재되는 메거진과 세정 후의 반도체부품이 탑재되는 메거진이 서로 다르기 때문에 반도체부품의 흐름이 자동제어프로그램을 통해 철저하게 관리되고 통제되어야 하므로 제작 및 그 운용이 매우 어렵다는 문제가 있다.
KR 10-0666546 B1
본 발명은 상기한 문제점들을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 동일 메거진에서 반도체부품의 로딩과 언로딩이 이루어지도록 하여 장치의 구조가 단순하면서 콤팩트한 크기로 제작이 가능한 반도체용 플라즈마 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 반도체용 플라즈마 세정장치는 다수의 반도체부품이 일정간격을 두고 탑재된 메거진을 세정진행 상황에 따라 단계적으로 승강시키는 메거진 테이블과, 상기 메거진 테이블로부터 후방에 설치되어 수평회전하는 로터리스테이지와, 상기 로터리스테이지로 하강하여 로터리스테이지로 공급된 반도체부품들을 세정하는 플라즈마 세정챔버와, 상기 메거진 테이블의 전방에 위치되어 메거진이 단계적으로 승강할 때마다 매거진 내부에 탑재된 세정대상이 되는 반도체부품을 후방으로 밀어서 이동시키는 제1이송부재와, 상기 로터리스테이지의 상부에 승강 및 전후방향 이동이 가능하게 설치되어 상기 제1이송부재를 통해 후방으로 이동된 세정대상이 되는 반도체부품을 픽업하여 로터리스테이지로 공급하거나 상기 로터리스테이지의 상부에 놓여진 세정이 완료된 반도체부품을 메거진 테이블로 밀어서 메거진에 단계적으로 탑재시키는 제2이송부재를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
삭제
아울러, 상기 제2이송부재는 전후이송유닛과, 상기 전후이송유닛에 로터리스테이지 상부를 가로지르도록 설치된 전후이송바와, 상기 전후이송바에 일정간격을 두고 설치되며, 상하로 마주보게 설치되어 서로 밀착되게 접근하는 한 쌍의 그리퍼들을 구비할 수도 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명은 로터리스테이지가 회전하면서 세정대상이 되는 반도체부품을 메거진 테이블로부터 공급받아 세정챔버로 이송시키는 동시에 세정이 완료된 반도체부품을 세정챔버로부터 인출시켜 메거진 테이블로 이송시키도록 구성되므로 세정 대상이 되는 반도체부품을 메거진으로부터 인출하는 로딩 동작과 세정이 완료된 반도체부품의 메거진으로 탑재하는 언로딩 동작이 단일의 메거진 테이블에서 동일한 메거진을 대상으로 이루어지기 때문에 로딩부와 언로딩부를 각각 구비하여야 하는 종래에 비하여 장치의 구조가 단순하고 크기를 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 메거진 및 반도체부품의 물류관리도 매우 용이해지는 효과가 있다.
도 1은 종래의 반도체용 플라즈마 세정장치의 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 반도체용 플라즈마 세정장치의 전방사시도.
도 3은 본 발명에 따른 반도체용 플라즈마 세정장치의 후방사시도.
도 4는 본 발명에 따른 반도체용 플라즈마 세정장치의 평면도.
도 5 내지 도 12는 본 발명에 따른 반도체용 플라즈마 세정장치의 동작상태를 순서대로 나타낸 도면.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 바람직한 실시예에 대한 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
이하, 본 발명의 일 실시예를 도면을 참조하여 상세히 설명함에 있어, 동일한 구성에 대해서는 동일한 부호를 사용하며, 명료성을 위하여 가능한 중복되지 않게 상이한 부분만을 주로 설명한다.
도 2 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체용 플라즈마 세정장치는 메거진 테이블(100)과, 상기 메거진 테이블(100)로부터 후방에 설치된 로터리스테이지(200)와, 로터리스테이지(200)로 공급된 반도체부품(A)들을 세정하는 플라즈마 세정챔버(300)와, 매거진 내부에 탑재된 세정대상이 되는 반도체부품(A)을 후방으로 밀어서 이동시키는 제1이송부재(400)와, 상기 로터리스테이지(200)의 상부에 승강 및 전후방향 이동이 가능하게 설치된 제2이송부재(500)로 구성된다.
상기 메거진테이블(100)은 다수의 반도체부품(A)이 일정간격을 두고 탑재된 메거진(M)이 놓여지는 로딩부(110)와, 상기 로딩부(110)를 단계적으로 승강시키는 엘리베이터(120)로 구성된다. 상기 로딩부(110)는 도시된 바와 같이 순차적인 연속작업이 이루어질 수 있도록 좌우방향으로 일정간격을 두고 복수로 구비되는 것이 바람직하다.
상기 메거진 테이블(100)의 후방에는 로터리스테이지(200)가 설치된다. 상기 로터리스테이지(200)는 메거진 테이블(100)과 동일높이에서 수평으로 회전하는 평판부재로서 상면에는 반도체부품(A)의 양측부를 지지하도록 전후방향으로 서로 나란한 한 쌍으로 이루어진 안착부재(210)가 각각의 메거진(M)과 마주하도록 복수로 설치된다. 상기 안착부재(210)들은 로터리스테이지(200)가 180° 단위로 회전할 경우 항상 메거진(M)과 마주할 수 있도록 로터리스테이지(200)가 전후 방향으로 위치되었을 때 로터리스테이지(200)의 중앙을 좌우방향으로 지나는 선을 기준으로(전후방향으로) 서로 대칭되게 설치된다.
한편, 로터리스테이지(200)가 설치되는 바닥(201)에는 로터리스테이지(200)를 회전시키는 구동모터와 로터리스테이지(200)의 회전을 가이드 해주는 원형트랙(230)이 설치되어 있다.
또한, 각 안착부재(210)의 서로 마주보는 내측면에는 반도체부품(A)들의 양측단이 끼워지는 슬라이딩 홈부가 형성되어 로터리스테이지(200)로 공급되거나 로터리스테이지(200)로부터 배출되는 반도체부품(A)들의 이동이 안정적으로 이루어지도록 함과 함께 반도체부품(A)들이 안착부재(210)로부터 이탈되거나 유동되지 않고 안정적으로 지지될 수 있도록 되어 있다.
상기 로터리스테이지(200)의 상방에는 로터리스테이지(200)로 공급된 반도체부품(A)들을 세정하는 플라즈마 세정챔버(300)가 설치된다. 상기 플라즈마 세정챔버(300)는 플라즈마가 발생될 수 있도록 소정의 내부공간을 가지고 있다. 상기 내부공간은 로터리스테이지(200)의 중앙을 기준으로 후방에 설치된 안착부재(210)들을 모두 커버할 수 있을 정도로 형성된다. 따라서, 플라즈마 세정챔버(300)가 완전히 하강하여 로터리스테이지(200)의 상면에 밀착되면 로터리스테이지(200)의 중앙을 기준으로 후방에 설치된 모든 안착부재(210)들과 안착부재(210)에 지지되어 있는 반도체부품(A)들 모두가 로터리스테이지(200)의 내부공간 내에 위치되면서 외부와 격리된다.(도 9 참조)
한편, 상기 로터리스테이지(200)와 메거진테이블(100) 사이에는 브릿지레일(600)이 설치된다. 상기 브릿지레일(600)은 로터리스테이지(200)가 회전할 때 상승하여 로터리스테이지(200)에 회전여유공간을 제공한다.(도 8 참조). 즉, 브릿지레일(600)이 구비되지 않고 메거진테이블(100)과 로터리스테이지(200)가 밀착되게 배치된다면, 사각형상의 로터리스테이지(200)는 메거진테이블(100)과 간섭되어 회전이 이루어지지 않게 될 것이다. 따라서 상기 브릿지레일(600)은 로터리스테이지(200)가 메거진테이블(100)과 간섭되지 않고 원활하게 회전할 수 있도록 회전여유공간을 제공하는 것이다. 아울러 상기 브릿지레일(600)의 상부에는 메거진테이블(100)과 로터리스테이지(200)에서 오고 가는 반도체부품(A)의 양측부를 지지하도록 전후방향으로 서로 나란한 한 쌍의 가이드부재(610)가 각각의 메거진(M)과 마주하도록 복수로 설치된다. 그리고 각 가이드부재(610)의 서로 마주보는 내측면에는 반도체부품(A)들의 양측단이 끼워지는 슬라이딩 홈부가 형성되어 반도체부품(A)들이 브릿지레일(600)을 경유하는 과정에서 가이드부재(610)로부터 이탈되거나 유동되지 않고 안정적으로 이동할 수 있도록 되어 있다.
본 발명에 따르면, 상기 메거진 테이블(100)의 전방에는 메거진(M)이 단계적으로 승강할 때마다 매거진 내부에 탑재된 세정대상이 되는 반도체부품(A)을 후방으로 밀어서 이동시키는 제1이송부재(400)가 설치된다. 상기 제1이송부재(400)는 실린더 방식을 통해 일정구간을 전후진하는 통상적인 푸셔(pusher)가 적당하다.
그리고, 상기 로터리스테이지(200)의 상부에는 승강 및 전후방향으로 이동하면서 상기 제1이송부재(400)를 통해 후방으로 이동된 세정대상이 되는 반도체부품(A)을 픽업하여 로터리스테이지(200)로 공급하거나 상기 로터리스테이지(200)의 상부에 놓여진 세정이 완료된 반도체부품(A)을 메거진 테이블(100)로 밀어서 메거진(M)에 단계적으로 탑재시키는 제2이송부재(500)가 설치된다.
상기 제2이송부재(500)는 전후이송유닛(510)과, 상기 전후이송유닛(510)에 로터리스테이지(200) 상부를 가로지르도록 설치되어 플라즈마 세정챔버(300)의 전방에서부터 메거진테이블(100)의 후단까지 일정구간을 왕복이동하는 전후이송바(520)와, 상기 전후이송바(520)에 일정간격을 두고 설치되며 서로 밀착되게 접근하는 상하로 마주하는 그리퍼들(530,530) 한 쌍으로 구성된다.
따라서, 상기 전후이송바(520)가 메거진테이블(100)로부터 인출된 반도체부품(A)이 상기 그리퍼(530)들 사이에 위치하도록 하강한 상태에서 로터리스테이지(200)의 전단으로 이동한 다음 상기 그리퍼(530)들이 서로 접근하면 세정대상이 되는 반도체부품(A)을 픽업할 수 있게 되고, 반도체부품(A)이 상기 그리퍼(530)들 사이에 위치하도록 전후이송바(520)가 하강한 상태에서 안착부재(210)의 후단으로 이동한 다음 상기 그리퍼(530)들이 서로 밀착되면 반도체부품(A)을 전방으로 밀어서 이동시킬 수 있게 된다.
또한, 상기 전후이송바(520)의 일측에는 상기 그리퍼들(530,530) 사이로 반도체부품(A)이 위치하는지를 감지하는 제1센서(540)가 더 구비될 수 있다.
아울러, 상기 그리퍼(530)의 후방에는 그리퍼(530)가 세정이 완료된 반도체부품(A)을 메거진 테이블(100)로 밀어서 이동시킬 때 반도체부품(A)이 정상적으로 이동되는지를 감지하는 제2센서(550)가 더 구비될 수 있다. 상기 제2센서(550)는 그리퍼(530)가 반도체부품(A)을 메거진 테이블(100)측으로 미는 과정에서 그리퍼(530)에 가해지는 압력을 측정하고 상기 압력이 적정범위를 벗어나면 반도체부품(A)이 존재하지 않거나 반도체부품(A)의 이동이 원활하지 않은 것으로 판단하여 전후이송바(520)의 동작을 중지시키도록 전후이송유닛(510)으로 동작정지 신호를 보낸다.
한편, 메거진 테이블(100)의 일측에는 제1이송부재(400)를 통해 반도체부품(A)이 정상적으로 후방으로 이동했는지를 감지하는 제3센서(130)가 더 구비되는 것이 바람직하다. 상기 제3센서(130)가 메거진(M)으로부터 인출된 반도체부품(A)을 감지하면 제2이송부재(500)로 반도체부품 픽업신호를 보낸다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 반도체용 플라즈마 세정장치 다음과 같이 동작된다.
먼저, 도 5에 도시된 바와 같이 세정대상이 되는 다수의 반도체부품(A)이 일정간격을 두고 탑재된 메거진(M)이 메거진 테이블(100)에 올려지면, 도 6에 도시된 바와 같이 메거진 테이블(100)의 후방에 설치된 제1이송부재(400)가 메거진(M)의 최상단에 탑재된 반도체부품(A)의 전단을 밀어서 후방으로 이동시킨다.
반도체부품(A)이 제1이송부재(400)에 의해 후방으로 이동하면 제3센서(130)가 메거진(M)의 후방으로 돌출된 반도체부품(A)의 후단을 감지하고 제1센서(540)로 반도체부품 픽업신호를 보낸다.
제3센서(130)로부터 반도체부품 픽업신호를 수신한 제1센서(540)는 제2이송부재(500)의 전후이송유닛(510)에 동작정지 신호를 보낸다. 그리고 제1센서(540)로부터 제2이송부재(500)의 전후이송유닛(510)에 동작정지 신호를 수신한 전후이송바(520)는 반도체부품(A)의 높이로 하강한 다음 전방으로 이동하고, 도 7에 도시된 바와 같이 그리퍼(530)를 통해 반도체부품(A)을 로터리스테이지(200)로 픽업한다. 반도체부품(A)은 픽업되는 과정에서 브릿지레일(600)의 상면에 설치된 가이드부재(610)의 슬라이딩홈을 따라 이동하면서 브릿지레일(600)을 경유하며, 픽업이 완료되면 로터리스테이지(200)의 쌍의 안착을 기준으로 전방에 위치한 안착부재(210)의 슬라이딩 홈에 끼워진 상태로 안정적으로 지지된다.
도 8에 도시된 바와 같이, 반도체부품(A)의 픽업이 완료되면, 전후이송바(520)가 원래 위치로 상승하여 대기하게 됨과 동시에 브릿지레일(600)이 상승하고 로터리스테이지(200)가 180°회전한다. 이때, 로터리스테이지(200)는 브릿지레일(600)이 상승하면서 형성된 회전여유공간에 의하여 원활하게 회전할 수 있게 된다.
로터리스테이지(200)가 180°회전하면 로터리스테이지(200)의 전반부에 위치된 안착부재(210)에 지지되어 있던 반도체부품(A)은 로터리스테이지(200)의 후반부에 위치하게 된다.
도 9에 도시된 바와 같이, 로터리스테이지(200)의 180°회전이 완료되면 플라즈마 세정챔버(300)가 하강하여 로터리스테이지(200)의 후반부에 위치된 반도체부품(A)을 외부와 격리시킨 상태로 플라즈마 세정을 실시한다.
플라즈마 세정이 실시되는 동안 상승했던 브릿지레일(600)이 원위치로 하강함과 동시에 메거진 테이블(100)의 엘리베이터(120)가 로딩부(110)를 한 단계 상승시키면 로딩부(110)에 놓여진 메거진(M)이 한 단계 상승하면서 세정대상이 되는 새로운 반도체부품(A1)이 제1이송부재(400)의 전방으로 이동된다. 그리고, 도 10에 도시된 바와 같이 제1이송부재(400)와 제2이송부재(500)들이 차례로 전술한 동작을 반복하면서 새로운 반도체부품(A1)들을 로터리스테이지(200)의 전반부에 위치된 안착부재(210)에 지지시킨다.
도 11에 도시된 바와 같이, 플라즈마 세정이 완료되면, 플라즈마 세정챔버(300)가 원위치로 상승됨과 동시에 브릿지레일(600)이 다시 상승한다. 그리고 로터리스테이지(200)가 180°회전하여 세정이 완료된 반도체부품(A)들을 로터리스테이지(200)의 전반부로 이동시키고 새로운 반도체부품(A1)들을 로터리스테이지(200)의 후반부로 이동시킨다.
그리고 이 상태에서 도 12에 도시된 바와 같이, 플라즈마 세정챔버(300)가 하강하여 로터리스테이지(200)의 후반부에 위치된 새로운 반도체부품(A1)을 외부와 격리시킨 상태로 플라즈마 세정을 실시한다. 플라즈마 세정이 실시되는 동안 브릿지레일(600)이 원위치로 상승함과 동시에 메거진 테이블(100)이 한 단계 상승했던 메거진(M)을 한 단계 하강시켜 원래 위치로 복귀시키면 제2이송부재(500)가 로터리스테이지(200)의 전반부에 위치된 세정이 완료된 반도체부품(A)을 밀어서 원래 위치하였던 메거진(M) 내의 빈자리로 투입한다. 즉, 제2이송부재(500)의 각 그리퍼(530)들이 상호 밀착되게 접근한 상태에서 전후이송바(520)가 전방으로 이동하면 반도체부품(A)의 후단이 그리퍼(530)의 전단에 접촉되면서 전방으로 밀려 이동되는 것이다. 이때, 제2센서(550)는 그리퍼(530)에 가해지는 하중을 감지하여 반도체부품(A)이 정상적으로 전방으로 밀려 이동하는지를 감시하며, 하중이 적정범위를 벗어날 경우 전후이송유닛(510)에 동작정지 신호를 보낸다.
이와 같은 반도체부품(A)의 세정은 상기와 같은 일련의 과정을 반복하면서 연속적으로 수행된다.
따라서, 본 발명은 로터리스테이지(200)로 인하여 세정 대상이 되는 반도체부품(A)을 메거진(M)으로부터 인출하는 로딩 동작과 세정이 완료된 반도체부품(A1)의 메거진(M)으로 탑재하는 언로딩 동작이 모두 동일한 장소에서 동일한 메거진(M)을 대상으로 이루어지므로 장치의 구조가 단순하고 크기를 최소화할 수 있을 뿐만 아니라, 메거진(M) 및 반도체부품(A,A1)의 물류관리도 매우 용이해진다.
이와 같이, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 상술하였으나 본 발명은 전술한 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자가 본 발명의 사상을 벗어나지 않고 변형 가능하며, 이러한 변형은 본 발명의 권리범위에 속할 것이다.
100...메거진 테이블 200...로터리스테이지
300...플라즈마 세정챔버 400...제1이송부재
500...제2이송부재 510...전후이송유닛
520...전후이송바 530...그리퍼
600...브릿지레일 A,A1...반도체부품
M...메거진

Claims (3)

  1. 다수의 반도체부품이 일정간격을 두고 탑재된 메거진을 세정진행 상황에 따라 단계적으로 승강시키는 메거진 테이블;
    상기 메거진 테이블로부터 후방에 설치되어 수평회전하는 로터리스테이지;
    상기 로터리스테이지로 하강하여 로터리스테이지로 공급된 반도체부품들을 세정하는 플라즈마 세정챔버;
    상기 메거진 테이블의 전방에 위치되어 메거진이 단계적으로 승강할 때마다 매거진 내부에 탑재된 세정대상이 되는 반도체부품을 후방으로 밀어서 이동시키는 제1이송부재;
    상기 로터리스테이지의 상부에 승강 및 전후방향 이동이 가능하게 설치되어 상기 제1이송부재를 통해 후방으로 이동된 세정대상이 되는 반도체부품을 픽업하여 로터리스테이지로 공급하거나 상기 로터리스테이지의 상부에 놓여진 세정이 완료된 반도체부품을 메거진 테이블로 밀어서 메거진에 단계적으로 탑재시키는 제2이송부재; 및
    상기 로터리스테이지와 메거진테이블 사이에 설치되어 로터리스테이지가 회전할 때 상승하여 로터리스테이지에 회전여유공간을 제공하는 브릿지레일을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체용 플라즈마 세정장치.
  2. 삭제
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 제2이송부재는
    전후이송유닛과,
    상기 전후이송유닛에 로터리스테이지의 상부를 가로지르도록 고정된 전후이송바와,
    상기 전후이송바에 일정간격을 두고 설치되며, 서로 밀착되게 접근하는 상하로 마주하는 한 쌍으로 이루어진 그리퍼들을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체용 플라즈마 세정장치.
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