JPH11191576A - 電子部品の実装方法および装置 - Google Patents
電子部品の実装方法および装置Info
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- JPH11191576A JPH11191576A JP9358620A JP35862097A JPH11191576A JP H11191576 A JPH11191576 A JP H11191576A JP 9358620 A JP9358620 A JP 9358620A JP 35862097 A JP35862097 A JP 35862097A JP H11191576 A JPH11191576 A JP H11191576A
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Abstract
る。 【解決手段】 ウエット洗浄後の液晶パネルは、給材ロ
ボット20により給材ユニット12から1枚ずつ回転テ
ーブル22に配置され、回転テーブル22によってプラ
ズマ洗浄ユニット14に搬送される。プラズマ処理ユニ
ット26は、大気圧の窒素ガスによるプラズマを発生
し、液晶パネルを洗浄する。プラズマ洗浄された液晶パ
ネルは、メイン旋回テーブル68に移され、メイン旋回
テーブル68の旋回によって導電膜貼り付けユニット6
6、チップ仮付けユニット76、チップ本付けユニット
94に順次搬送され、導電膜貼り付けユニット66によ
って異方性導電膜が熱圧着され、チップ仮付けユニット
76のチップ仮付けロボット88によって半導体チップ
が異方性導電膜に仮付けされ、チップ本付けユニット9
4の本圧着ヘッド98によって本付けされる。
Description
法に係り、特に異方性導電膜を介してガラス基板などに
電子部品を搭載する電子部品の実装方法および装置に関
する。
を挟み込んだガラス基板(液晶パネル)に液晶駆動回路
を有する半導体集積回路を直接搭載する、いわゆるCO
G(Chip On Glass)と称する手法により
製造され、図6に示したような工程によって行なわれ
る。
に、基材となる液晶パネルの受け入れ検査を行ない、液
晶パネルを受け入れる。その後、液晶パネルを洗剤や純
水によるウエット洗浄を行なって無機物の汚れを除去す
る(ステップ111)。次に、液晶パネルを真空チャン
バ内に配置し、真空チャンバを減圧して酸素ガスによる
プラズマを発生させ、ステップ112に示したように、
プラズマによる洗浄によって汚染有機物を除去する。
ネルは、所定の箇所に異方性導電膜(Anisotro
pic Conductiv Film:ACF)が貼
り付けられる(ステップ113)。この異方性導電膜の
貼り付けは、異方性導電膜の温度が60〜90℃となる
ように加熱するとともに、10kgf程度の力を1秒ほ
ど加えて行なわれる。その後、液晶駆動回路を備えた電
子部品である半導体集積回路(IC)を異方性導電膜の
上に載せ、異方性導電膜を液晶パネルに貼り付けしたと
同様の条件によりICの仮圧着を行なう(ステップ11
4)。仮圧着されたICは、異方性導電膜を200℃前
後の温度に加熱し、面圧が30〜40kgf/cm2 程
度の圧力を5秒間位加えられ、ステップ115に示した
ように異方性導電膜に本圧着される。
液晶パネルに偏光板を貼り付けたのち、フレキシブル回
路基板(Flexible Plate Circui
t:FPC)の圧着を行ない(ステップ117)、保護
用の樹脂を配線部などにモールドし(ステップ11
8)、検査をして次工程に送る(ステップ119)。
のCOGにおいては、ウエット洗浄した液晶パネルを真
空中におけるプラズマ洗浄して有機物の除去を行なって
おり、容器内を真空にするために時間がかかるととも
に、複数のパネルを一度に洗浄するバッチ処理をせざる
を得ず、後工程との時間的整合性を取ることができず、
プラズマ洗浄のインライン化ができないためにコスト削
減の障害となっている。また、液晶パネルを真空容器に
搬入したり、真空容器から取り出すのが面倒であるばか
りでなく、プラズマ洗浄の装置が高価で大型となる。し
かも、プラズマ洗浄した液晶パネルを真空容器から取り
出して次のACF貼り付け工程に搬送ときに、異方性導
電膜の接着性を確保するために清浄度を保つ必要があ
り、品質管理が容易でない。そして、プラズマ洗浄後の
パネルを次の工程に搬送する間による汚染等により、異
方性導電膜の接着強度が低下して剥離などが生じて不良
率を低減させることが困難である。
ためになされたもので、プラズマ洗浄をインライン化で
きるようにすることを目的としている。
を向上させて不良率を低減することを目的としている。
にすることを目的としている。
その近傍の圧力下において発生させたプラズマにより液
晶パネル等を洗浄した場合、短時間の洗浄で従来の真空
中おけるプラズマ洗浄と同等な洗浄効果が得られること
を見い出したことに基づいてなされたもので、上記の目
的を達成するために、本発明に係る電子部品の実装方法
は、電子部品を基材に異方性導電膜を介して電子部品を
接合する電子部品の実装方法において、大気圧またはそ
の近傍の圧力下において処理ガスによるプラズマを生成
し、このプラズマにより前記基材を順次洗浄するプラズ
マ洗浄工程と、プラズマ洗浄工程から順次送られてきた
前記基材に前記異方性導電膜を介して前記基材に熱圧着
する工程と、前記基材に接合した前記異方性導電膜に電
子部品を熱圧着する工程とを有することを特徴としてい
る。
たはその近傍の圧力下においてプラズマを発生させるよ
うにしているため、プラズマ洗浄する基材を真空容器内
に搬入する必要がなく、基材を連続的に搬送した状態で
プラズマ洗浄を短時間で行なうことができ、プラズマ洗
浄のインライン化を容易に行なうことができる。しか
も、大気圧プラズマによる洗浄をした基材を順次異方性
導電膜の熱圧着工程に送り込むことができるため、基材
の極めて清浄なうちに異方性導電膜の貼り付け、半導体
チップ(IC)などの電子部品の貼り付けが可能で、基
材と異方性導電膜、異方性導電膜と電子部品との接着強
度が向上して剥離などを防ぐことができ、不良率を低減
することができる。
などの高周波電圧を用いて生成すると、高温のプラズマ
が得られ、この高温プラズマを用いて基材を洗浄するこ
とにより、異方性導電膜を圧着する工程の余熱に利用す
ることが可能で、異方性導電膜の圧着をより短時間で行
なうことができる。また、窒素によるプラズマを用いて
洗浄を行なうと、非常に短時間で洗浄が行なえ、濡れ性
を向上することができる。そして、基材が液晶パネルで
ある場合、液晶表示装置のコストの削減が可能となる。
係る電子部品実装装置は、大気圧またはその近傍の圧力
下において処理ガスによるプラズマを生成し、順次搬送
されてくる基材を前記プラズマに接触させて洗浄する大
気圧プラズマ洗浄部と、プラズマ洗浄された前記基材に
異方性導電膜を配置して基材に熱圧着する導電膜接合部
と、順次送給される前記基材に接合された前記異方性導
電膜上に電子部品を配置し、電子部品を異方性導電膜を
介して前記基材に熱圧着する部品実装部とを有している
ことを特徴としている。
部とを設けるようにすると、電子部品をより確実に固着
することができる。そして、本付け部において2つの基
材に同時に電子部品を本圧着すると、時間のかかる本圧
着工程の時間を他の工程の時間と整合させることがで
き、製造工程の流れを円滑にすることができる。
び装置の好ましい実施の形態を、添付図面に従って詳細
に説明する。
子部品実装装置の平面図である。図1において、実装装
置10は、基材である液晶パネル(図示せず)を供給す
る給材ユニット12を有し、この給材ユニット12に隣
接して大気圧プラズマ洗浄部であるプラズマ洗浄ユニッ
ト14が設けてある。
した液晶パネルがトレイ16によって搬入されるように
なっていて、各トレイ16に複数の液晶パネルが配置し
てある。また、給材ユニット12には、パネルローダ1
8が設けてあって、段重ねしたパネルトレイ16を昇降
できるようになっている。そして、パネルトレイ16に
配置された液晶パネルは、給材ロボット20によってピ
ックアップされ、プラズマ洗浄ユニット14に設けた回
転テーブル22の所定位置に配置される。
ル22とプラズマ処理ヘッド26とを有しており、回転
テーブル22が矢印28のように回転して液晶パネルを
プラズマ処理ヘッド26へと搬入する。そして、プラズ
マ処理ヘッド26は、例えば図2に示したようになって
いて、下部が開口しているチャンバー30の内部にプラ
ズマ発生部32が設けてある。プラズマ発生部32は、
放電用ガスの流路34を形成するため、1mmから3m
m程度のギャツプを形成した一対の板状の誘電体36
と、一対の誘電体36を挟んで設けた一対の電極38、
40から構成される。これらの電極38、40は、ガス
流路34内でグロー放電を発生させてプラズマを生成す
るためのもので、両電極間がプラズマ生成領域42とな
っている。
の洗浄処理を行う洗浄部となっており、液晶パネル44
を配置した回転テーブル22の周縁部がプラズマ発生部
32の下方を通過するようになっていて、開口したガス
流路34の下端から液晶パネル44の表面にプラズマを
照射できるようにしてある。
電極40にフィルタ回路46とインピーダンス整合器4
8とを介して高周波電源50が接続してあるとともに、
フィルタ回路52と昇圧トランス54とを介して低周波
電源56が接続してある。従って、一対の電極38、4
0間には、高周波電源50によって例えば13.56M
Hzの高周波電圧と、低周波電源56による20kHz
の電圧とを重畳して印加できるようになっていて、処理
ガスを介した高周波放電を容易に発生させることができ
るようにしてある。
ー58が設けてある。この中間チャンバー58には、管
路60を介して処理ガスである窒素ガスを生成する窒素
生成器62が接続してある。そして、中間チャンバー5
8とガス流路34とは、チャンバー30に形成したガス
供給口64によって連通していて、中間チャンバー58
に流入した窒素ガスをガス流路34に供給できるように
してある。
ル44は、パネルプリアライメント搬送ロボット65に
よって回転テーブル22からメイン旋回テーブル68に
移される。このパネルプリアライメント搬送ロボット6
5は、図示しないCCDカメラなどによって液晶パネル
44を撮像し、液晶パネル44が所定の向きとなるよう
にメイン旋回テーブル68に配置する。そして、メイン
旋回テーブル68は、プラズマ洗浄ユニット14に隣接
して設けた導電膜接合部となる導電膜貼り付けユニット
66に液晶パネル44を搬送する。
回テーブル68上の液晶パネル44の所定位置に異方性
導電膜を配置して熱圧着するようになっている。そし
て、メイン旋回テーブル68は、導電膜貼り付けユニッ
ト66の隣に設けた実装部74の一部をなすチップ仮付
けユニット(仮付け部)76に液晶パネルを搬入する。
あるICである半導体チップ(図示せず)を配置したチ
ップトレイを昇降させるチップトレイローダエレベータ
78と、チップトレイローダエレベータ78からチップ
トレイを取り出し、水平面内で回転するチップトレイ給
材インデックス80に移すトレイ移載ロボット82と、
空になったチップトレイが搬入されるチップトレイアン
ローダエレベータ83とを備えている。また、チップ仮
付けユニット76には、チップ給材ロボット84が設け
てあって、チップトレイ給材インデックス80上の半導
体チップをチッププリアライメント旋回テーブル86に
移すことができるようになっている。
チップ仮付けロボット88が配設してあり、チッププリ
アライメント旋回テーブル86から半導体チップを取り
出し、メイン旋回テーブル68上の液晶パネル44に貼
り付けした異方性導電膜の上に半導体チップを載せ、加
熱、加圧して仮付けするようになっている。
ップ認識移動テーブル90とパネル認識移動テーブル9
2とが設けてあり、チップ仮付けロボット88により半
導体チップを液晶パネル44の所定の位置に所定の向き
で搭載できるようになっている。そして、チップ仮付け
ロボット88は、一対のヘッドを備えていて、一方のヘ
ッドが半導体チップを仮付けしている間に、他方のヘッ
ドが半導体チップをチッププリアライメント旋回テーブ
ル86からメイン旋回テーブル68に搬送するようにし
てある。
チップ本付けユニット94には、搬送ロボット96と一
対の本圧着ヘッド98が設けてあって、搬送ロボット9
6がメイン旋回テーブル68から半導体チップを仮付け
した液晶パネル44を取り出し、本圧着ヘッド98の下
方に配置する。そして、一対の本圧着ヘッド98は、同
時して作動するように制御されており、それぞれの下部
に配置された液晶パネル44の異方性導電膜に半導体チ
ップを本圧着する。また、半導体チップが本付けされた
液晶パネル44は、搬出ユニット100の搬出ロボット
102によってトレイアンローダ103に配置された搬
出トレイ104に並べられ、次の工程に送られるように
してある。
用は、次のとおりである。従来と同様にしてウエット洗
浄を終了した液晶パネル44は、チップトレイ16に配
置されて給材ユニット12に搬入され、給材ロボット2
0によって1枚ずつ順次回転テーブル22の所定位置に
配置される。そして、液晶パネル44は、回転テーブル
22によってプラズマ洗浄ユニット14のプラズマ処理
ヘッド26に搬送され、図2に示したように、プラズマ
発生部32の下方を通過する。
2からガス流路34に大気圧の窒素ガスが供給されると
ともに、一対の電極38、40間に13.56MHzの
高周波電圧と20kHzの低周波電圧とが印加され、窒
素ガスを電離してプラズマを生成し、液晶パネル44の
表面所定位置に吹き付ける。これにより、液晶パネル4
4は、付付けている有機物がプラズマによって短時間で
除去され、洗浄されて濡れ性が向上する。すなわち、窒
素のプラズマをガラスに照射した場合、図3に示したよ
うに、水のガラスに対する接触角が70度以上であった
ものを、1〜2秒のプラズマ照射によって10度以下に
することができる。従って、プラズマ洗浄のインライン
化が可能となる。
は、パネルプリアライメント搬送ロボット65によって
メイン旋回テーブル68に所定の向きに配置され、導電
膜貼り付けユニット66に搬送される。導電膜貼り付け
ユニット66は、液晶パネルの洗浄された所定位置に異
方性導電膜を熱圧着する。異方性導電膜を貼り付けした
液晶パネルは、メイン旋回テーブル68の旋回に伴なっ
て、実装部74のチップ仮付けユニット76に搬入され
る。チップ仮付けユニット76は、チップ仮付けロボッ
ト88がチッププリアライメント旋回テーブル86から
半導体チップを取り出し、液晶パネル44に貼り付けし
た異方性導電膜の上に配置し、半導体チップを加熱、加
圧して仮付けを行なう。
4は、チップ本付けユニット94の搬送ロボット96に
よって一対の本圧着ヘッド98のそれぞれの下方に搬送
される。そして、一対の本圧着ヘッド98は、それぞれ
の下方に配置された液晶パネルの異方性導電膜に半導体
チップを加熱、加圧して本付けする。半導体チップが本
付けされた液晶パネル44は、搬出ロボット102によ
って搬出トレイ104に並べられ、次の工程に搬送され
る。
プラズマ洗浄を大気圧下における窒素ガスによるプラズ
マを生成して行なうため、液晶パネル44の迅速なプラ
ズマ洗浄が可能となり、COGにおけるプラズマ洗浄の
インライン化ができ、コストの低減を図ることができ
る。しかも、プラズマ洗浄ユニット14に隣接して異方
性導電膜を貼り付けする導電膜貼り付け部66を設け、
プラズマ洗浄を終了直後の液晶パネル44に異方性導電
膜を貼り付けるようにしているため、異方性導電膜の接
着強度が向上して剥離などの不良品の発生率を大幅に低
減することができ、歩留りが向上する。また、従来の真
空中におけるプラズマ洗浄と異なり、大気圧下において
プラズマを発生させるようにしているため、真空容器や
真空ポンプを必要とせず、装置の小型化と設備費の低減
が図れるとともに、プラズマ洗浄の工数を削減すること
ができる。さらに、前記実施の形態においては、13.
56MHzの高周波電圧を印加してプラズマを生成して
いるため、高温のプラズマを生成することができ、この
高温プラズマによる洗浄により液晶パネルが余熱され、
異方性導電膜の貼り付け時間の短縮を図ることができ
る。
しての液晶パネル44に半導体チップを搭載するCOG
について説明したが、基材としてキャリアフィルムを用
いたTAB(Tape Automatic Bond
ing)にも適用することができる。また、前記実施の
形態においては、液晶パネル44に半導体チップを搭載
するのに仮付けと本付けとの工程を行なうようにした場
合について説明したが、プラズマ洗浄した直後の液晶パ
ネルに異方性導電膜を貼り付けし、その直後に半導体チ
ップを異方性導電膜に貼り付けるようにしているため、
異方性導電膜の接着強度が向上することにより半導体チ
ップの本圧着時間が短縮可能となり、半導体チップの本
付けを仮付けなしに行なってもよく、製造工程を削減す
ることができる。
装置の説明図である。図4において、実装装置120
は、給材部122にパネルローダ124と給材ロボット
126とが設けてあって、パネルローダ124に配置し
てあるパネルトレイ内の液晶パネルを、給材ロボット1
26によって2枚ずつプラズマ洗浄ユニット128のイ
ンデックスコンベヤ130に供給できるようにしてあ
る。そして、インデックスコンベヤ130は、プラズマ
に侵されにくいセラミックからなるチェーンコンベヤで
あって、供給された液晶パネルをプラズマ処理ヘッド2
6に搬送する。また、プラズマ処理された液晶パネル
は、インデックスコンベヤ130の下流側に設けた移載
ロボット132によって、装置本体部134に設けた旋
回テーブル136に2枚ずつ配置される。
の周縁に沿って、液晶パネルを所定の向きにするパネル
プリアライメントユニット138と、液晶パネルに異方
性導電膜を熱圧着する導電膜貼り付けユニット140
と、異方性導電膜の上に半導体チップを配置して仮付け
するチップ仮付けユニット142と、仮付けした半導体
チップを本付けするチップ本付けユニット144と、半
導体チップが貼り付けされていることを確認するための
圧着確認ユニット146が配設してある。
ップを配置したチップトレイが矢印150のように、チ
ップトレイローダエレベータ148からトレイインデッ
クス152に移される。トレイインデックス152上の
半導体チップは、チップ給材ロボット154によってチ
ッププリアライメントインデックス156に搬入された
のち、仮圧着ロボット158によって液晶パネルの異方
性導電膜に仮付けされる。そして、トレイインデックス
152上の空のチップトレイは、矢印160のようにチ
ップトレイアンローダエレベータ162に移され、搬出
される。
た半導体チップは、チップ本付けユニット144により
本圧着され、圧着確認ユニット146により圧着が確認
される。そして、液晶パネルは、搬出部164に設けた
搬出ロボット166によって2枚ずつ旋回テーブル13
6から取り出され、トレイアンローダ168に配置した
搬出トレイに並べられて次の工程に搬送される。
の効果を得ることができる。
装装置の説明図である。実装装置170は、給材部12
2に給材ロボット172が配設してあって、この給材ロ
ボット172により、パネルローダ124に配置された
パネルトレイから液晶パネルを1枚ずつプラズマ洗浄ユ
ニット128のインデックスコンベヤ130に移載する
ようになっている。そして、プラズマ処理ヘッド26に
よりプラズマ洗浄された液晶パネルは、装置本体部17
4に設けたパネルプリアライメント移載ロボット176
によって、1枚ずつ旋回テーブル178の所定の位置に
所定の向きで配置される。
ルは、導電膜貼り付けユニット140によって異方性導
電膜が熱圧着されたのち、チップ仮付けユニット180
に搬入される。チップ仮付けユニット180は、仮圧着
ロボット158がチッププリアライメントインデックス
156に配置された半導体チップを液晶パネルの異方性
導電膜に熱圧着して仮付けする。半導体チップを仮付け
された液晶パネルは、旋回テーブル178によってチッ
プ本付けユニット182に搬送される。
載ロボット184と圧着回転テーブル186と本圧着ロ
ボット188とを有しており、パネル移載ロボット18
4が旋回テーブル178上の液晶パネルを圧着回転テー
ブルに2枚ずつ並べて配置する。そして、本圧着ロボッ
ト188は、圧着回転テーブル186に配置された液晶
パネルを2枚ずつ加熱、加圧して半導体チップを本付け
する。半導体チップが本付けされた液晶パネルは、搬出
部164のパネル搬出ロボット190によってパネルア
ンローダ168に配置したパネル搬出トレイに並べられ
る。
ば、大気圧またはその近傍の圧力下においてプラズマを
発生させるようにしているため、プラズマ洗浄する基材
を真空容器内に搬入する必要がなく、基材を連続的に搬
送した状態でプラズマ洗浄を短時間で行なうことがで
き、プラズマ洗浄のインライン化を容易に行なうことが
できる。しかも、大気圧プラズマによる洗浄をした基材
を順次異方性導電膜の熱圧着工程に送り込むことができ
るため、基材の極めて清浄なうちに異方性導電膜の貼り
付け、半導体チップ(IC)などの電子部品の貼り付け
が可能で、基材と異方性導電膜、異方性導電膜と電子部
品との接着強度が向上して剥離などを防ぐことができ、
不良率を低減することができる。
図である。
明図である。
の説明図である。
る。
る。
ニット) 20 給材ロボット 22 回転テーブル 26 プラズマ処理ヘッド 65 パネルプリアライメント搬送ロボット 66 導電膜接合部(導電膜貼り付けユニッ
ト) 68 メイン旋回テーブル 74 実装部 76 仮付け部(チップ仮付けユニット) 88 チップ仮付けロボット 94 本付け部(チップ本付けユニット) 96 搬送ロボット 98 本圧着ヘッド 100 搬出ユニット 102 搬出ロボット 120 実装装置 122 給材部 126 給材ロボット 128 プラズマ洗浄ユニット 132 移載ロボット 134 装置本体 136 旋回テーブル 140 導電膜貼り付けユニット 142 チップ仮付けユニット 144 チップ本付けユニット 158 仮圧着ロボット 170 実装装置 172 給材ロボット 174 装置本体 176 パネルプリアライメント移載ロボット 178 旋回テーブル 180 チップ仮付けユニット 182 チップ本付けユニット 184 パネル移載ロボット 186 圧着回転テーブル 188 本圧着ロボット
Claims (7)
- 【請求項1】 電子部品を搭載する基材に異方性導電膜
を介して電子部品を接合する電子部品の実装方法におい
て、大気圧またはその近傍の圧力下において処理ガスに
よるプラズマを生成し、このプラズマにより前記基材を
順次洗浄するプラズマ洗浄工程と、プラズマ洗浄工程か
ら順次送られてきた前記基材に前記異方性導電膜を熱圧
着する工程と、前記基材に接合した前記異方性導電膜を
介して前記基材に電子部品を熱圧着する工程とを有する
ことを特徴とする電子部品の実装方法。 - 【請求項2】 前記プラズマは、大気圧またはその近傍
の圧力下にある前記処理ガスに高周波電圧を印加して生
成することを特徴とする請求項1に記載の電子部品の実
装方法。 - 【請求項3】 前記処理ガスは、窒素ガスであることを
特徴とする請求項1または2に記載の電子部品の実装方
法。 - 【請求項4】 前記基材は液晶パネルであり、前記電子
部品は前記液晶パネルを駆動する回路を備えた半導体集
積回路であることを特徴とする請求項1ないし3のいず
れかに記載の電子部品の実装方法。 - 【請求項5】 大気圧またはその近傍の圧力下において
処理ガスによるプラズマを生成し、順次搬送されてくる
基材を前記プラズマに接触させて洗浄する大気圧プラズ
マ洗浄部と、プラズマ洗浄された前記基材に異方性導電
膜を配置して基材に熱圧着する導電膜接合部と、順次送
給される前記基材に接合された前記異方性導電膜上に電
子部品を配置し、電子部品を異方性導電膜を介して前記
基材に熱圧着する部品実装部とを有していることを特徴
とする電子部品実装装置。 - 【請求項6】 前記部品実装部は、前記異方性導電膜上
に前記電子部品を配置して仮付けする仮付け部と、仮付
けされた前記電子部品を高温に加熱して圧着する本付け
部とを有することを特徴とする請求項5に記載の電子部
品実装装置。 - 【請求項7】 前記本付け部は、前記基材を2つ並べて
対にする整列機と、一対の前記基材を同時に加熱して圧
着する圧着機とを有することを特徴とする請求項6に記
載の電子部品実装装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35862097A JP3521721B2 (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 電子部品の実装方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35862097A JP3521721B2 (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 電子部品の実装方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11191576A true JPH11191576A (ja) | 1999-07-13 |
JP3521721B2 JP3521721B2 (ja) | 2004-04-19 |
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ID=18460263
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35862097A Expired - Fee Related JP3521721B2 (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 電子部品の実装方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3521721B2 (ja) |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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