KR101564287B1 - 웨이퍼 검사장치 및 웨이퍼 검사방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 광원을 웨이퍼에 조사하여 웨이퍼의 표면 결함을 검출할 수 있도록 하는 웨이퍼 검사 장치 및 웨이퍼 검사 방법에 관한 것으로,
상기 웨이퍼 검사장치는, 빛을 생성하여 조사하는 광원부; 상기 광원부에 의해 조사되는 빛을 검사대상 웨이퍼로 조사하도록 반사시키는 반사부; 및 상기 웨이퍼의 면 중 상기 빛이 조사된 면의 반대면을 촬영하는 촬상부;를 포함하여 구성되어,
웨이퍼 상의 결함유무, 결함위치, 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 정확하게 검출할 수 있도록 하는 효과를 제공한다.
상기 웨이퍼 검사장치는, 빛을 생성하여 조사하는 광원부; 상기 광원부에 의해 조사되는 빛을 검사대상 웨이퍼로 조사하도록 반사시키는 반사부; 및 상기 웨이퍼의 면 중 상기 빛이 조사된 면의 반대면을 촬영하는 촬상부;를 포함하여 구성되어,
웨이퍼 상의 결함유무, 결함위치, 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 정확하게 검출할 수 있도록 하는 효과를 제공한다.
Description
본 발명은 빛을 웨이퍼에 조사하여 웨이퍼를 투과하는 빛을 검출하는 것에 의해 웨이퍼의 표면 또는 내부 결함을 검출할 수 있도록 하는 웨이퍼 검사 장치 및 웨이퍼 검사 방법에 관한 것이다.
반도체 산업은 현재의 전자 및 정보화 사회를 주도하고 있는 산업으로서 1960년대 집적회로(Integrated Circuit)가 개발된 이래 지속적으로 비약적인 성장을 거듭하고 있으며, 소자의 성능은 획기적으로 향상되어 더욱 작으면서도 값이 저렴하고, 전력소모도 낮은 새로운 소자가 계속 등장하여 반도체 공업은 지속적으로 발전하고 있는 상태이다.
이러한 반도체의 발전 상황에서 핵심적인 요소는 동일한 면적에 얼마나 많은 소자와 회로선을 배치하는가 하는 집적도와 집적도의 증가에도 불구하고 소비전력을 감소시키는 것이다.
상술한 바와 같이 반도체의 집적도를 증가시키기 위해서는 임계차원을 가늘게 해야 한다. 즉, 임계차원이 가늘어 질수록 동일한 면적 속에 그릴 수 있는 선의 개수가 많아지므로 집적도가 상승한다.
그러나 선이 가늘어지게 되면 인접한 선과 선 사이의 공간이 줄어들기 때문에 웨이퍼에 결함이 생기는 경우, 반도체의 불량의 원인이 되고, 결함을 극복한다?????? 해도 반도체 소자의 성능이 현저히 저하되는 원인이 된다.
이에 따라, 집적회로의 구축 이전에 각각의 반도체칩으로 분할되는 웨이퍼에 대한 결함의 검출은 대단히 중요한 문제가 되었다.
또한, 대체에너지의 필요성에 따라 태양광 발전 기술이 급격히 발전하고 있다. 이에 따라 탱양전지셀읠 제작을 위한 태양전지 웨이퍼의 결함 검사 또한 중요하게 되었다.
따라서 반도체 웨이퍼의 결함을 검출하기 위하여, 대한민국 공개특허 10-2013-0099539호에서는 가시광선카메라와 빛 카메라를 구비하고, 가시광선광원과 극적외선 광원을 동심원 상으로 배치하여, 검사 대상 태양전지 웨이퍼에 조사한 후 반사되는 빛을 검출하여 웨이퍼의 편평도검사 및 표면 검사를 모두 수행할 수 있도록 하는 태양전지 웨이퍼 비젼 검사기의 조명장치를 개시하고 있다.
그러나 상술한 종래기술은 동심원상으로 다수의 가시광선 및 빛 광원을 배치하여야 하고, 가시광카메라 및 빛 카메라를 구비하게 되므로, 구성이 복잡해지는 문제점을 가진다.
또한, 종래기술의 경우 , 웨이퍼 검출을 위한 빛의 조사 방향이 고정되어 있어, 특정 각도의 결함 이외의 각도로 형성되는 결함은 검출하지 못하는 문제점을 가진다.
따라서 본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 다양한 각도에서 빛을 검사 대상 웨이퍼에 조사하면서, 조사면의 반대면을 촬영하여 웨이퍼 영상 이미지를 생성한 후, 빛 투과 영역 및 빛 투과 각도를 분석하는 것에 의해, 웨이퍼의 표면 및 내부의 결함유무, 결함위치, 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 용이하게 검출할 수 있도록 하는 웨이퍼 검사장치 및 그 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 웨이퍼 검사장치는, 빛을 생성하여 조사하는 광원부; 상기 광원부에 의해 조사되는 빛을 검사대상 웨이퍼로 조사하도록 반사시키는 반사부; 및 상기 웨이퍼의 면 중 상기 빛이 조사된 면의 반대면을 촬영하는 촬상부;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기 반사부는 상기 웨이퍼로 조사되는 빛의 조사각을 가변시킬 수 있도록 반사경이 회전 가능하게 구성되는 것을 특징으로 한다.
상기 촬상부는, 상기 반사부에 의해 복수의 각도로 상기 웨이퍼에 입사되어 투과된 빛을 개별적 또는 중첩 찰영하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 또한, 상기 각각의 조사방향에 따라 촬영된 상기 웨이퍼의 개별적 이미지들이 합성된 전체조사각합성이미지를 이용하여 결함의 위치를 검출하고, 상기 빛의 조사방향에 따라 촬영된 상기 웨이퍼의 개별적인 이미지를 이용하여 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 검출하는 결함검출부;를 더 포함하여 구성될 수도 있다.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 빛을 이용한 웨이퍼 검사방법은, 광원부에서 조사되는 빛을 일정 각도별로 반사부를 회전시켜 웨이퍼에 조사한 후, 빛이 조사되는 웨이퍼 면의 반대면을 촬영하는 조사각변경 촬영과정; 상기 조사각별로 촬영된 이미지를 합성하여 전체조사각합성이미지를 생성한 후 결함의 위치를 검출하는 전체조사각합성이미지분석과정; 및 상기 전체조사각합성이미지분석과정에서 결함이 검출된 경우 조사각별로 이미지를 분석하여 결함의 방향을 검출하는 개별조사각이미지분석과정;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특허청구범위에서 본 발명에 의해 검출되는 결함은 결함유무, 결함위치, 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상의 정보를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
상술한 구성의 본 발명의 빛을 이용한 웨이퍼 검사 장치는, 빛의 조사각도를 다양하게 조절하여 웨이퍼에 조사하는 것에 의해, 다양한 각도로 형성되는 웨이퍼 상의 결함유무, 결함위치, 결함의 규격 및 결함의 형태를 용이하게 감출할 수 있도록 하는 효과를 제공한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따르는 웨이퍼 검사장치(100)의 개략적인 구성도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따르는 빛을 이용한 웨이퍼 검사방법의 처리과정을 나타내는 순서도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따르는 빛을 이용한 웨이퍼 검사방법의 처리과정을 나타내는 순서도.
이하, 본 발명의 실시예를 나타내는 첨부 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
하기에서 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다.
본 발명의 개념에 따른 실시 예는 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 본 명세서 또는 출원에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명의 개념에 따른 실시 예를 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따르는 웨이퍼 검사장치(100)의 개략적인 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 검사장치(100)는, 광원부(110), 반사부(120), 촬상부(130) 및 결함검출부(140)를 포함하여 구성될 수 있다.
상기 광원부(110)는 웨이퍼의 결함 검출을 위한 빛을 생성하여 방출하도록 구성된다.
상기 반사부(120)는 상기 광원부(110)에 의해 조사되는 빛의 광경로 상에 배치되어, 조사되는 빛을 검사대상 웨이퍼(w)에 조사되도록 반사하는 하프미러 또는 전반사경 등의 반사경을 포함하여 구성된다. 또한, 상기 반사부(120)는 사용자의 제어에 의해 사용자가 설정한 각도로 반사경이 회전됨으로써 웨이퍼(w)로 조사되는 빛의 조사각을 도 1의 a ~ e와 같이 가변시킬 수 있도록 구성되어 상기 광경로 상에 설치된다. 이에 따라 도 1에는 도시되어 있지 않으나, 상기 반사부(120)에는 상기 반사경을 회전시킬 수 있도록 하는 회전 구동 수단과, 지정된 각도로 반사경이 회전되도록 상기 회전구동수단을 제어하는 제어수단이 더 포함하여 구성된다.
상기 촬상부(130)는 빛 감광소자를 구비한 빛 카메라로 구성되어, 빛의 광경로 상에서 웨이퍼의 빛이 조사되는 반대면에 대향하도록 설치된다. 상술한 구성의 촬상부(130)는 웨이퍼(w)를 투과한 빛을 감지하여 빛에 의해 영상이미지를 생성하여 출력하도록 구성된다. 이때 상기 촬상부(130)는 상기 빛의 조사각도에 따른 영상 이미지를 다수 촬영한다.
상기 결함검출부(140)는 상기 촬상부(130)에 의해 촬영된 영상이미지를 분석하여 감광된 영역이 발생한 경우 해당 영역에 대응하는 웨이퍼(w) 상의 위치를 결함영역으로 검출한다. 이때, 상기 영상이미지의 분석은 상기 빛의 조사각들 모두에 의해 생성된 영상이미지를 합성한 이미지를 분석하는 것에 의해 웨이퍼 상의 결함 위치를 검출한다. 그리고 결함위치가 검출된 경우에는 각각의 조사각에 대응하는 영상이미지를 개별적으로 분석하여 특정 결함들의 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 검출하는 영상이미지분석을 수행함으로써 웨이퍼 상의 결함을 검출하도록 구성된다.
상기 빛은 가시광선, 적외선, 근적외선 등일 수 있으나, 웨이퍼상의 투과율과 빛의 산란성 등을 고려할 때 근적외선이 바람직하다. 따라서 상술한 구성에서 상기 광원부는 근적외선을 발광하도록 구성되고, 상기 촬상부는 근적외선 감지 센서에 의해 영상을 촬영하도록 구성될 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따르는 빛을 이용한 웨이퍼 검사방법의 처리과정을 나타내는 순서도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 웨이퍼 검사방법은, 조사각변경조사촬영과정(S10), 전체조사각합성이미지분석과정(S20), 개별조사각이미지분석과정(S30) 및 결함검출과정(S40)을 포함하여 이루어진다.
먼저, 조사각변경조사촬영과정(S10)에서는 광원부(110)에 의해 빛이 발생되어 조사되면, 반사부(120)는 기 설정 각도로 회전하면서 빛의 조사각을 가변시켜 웨이퍼(w)로 조사되도록 하고, 촬영부(130)는 각각의 조사각에서 웨이퍼(w)의 빛이 입사되는 면의 반대측 면을 촬영하며, 상술한 바와 같이 찰영된 영상이미지들은 결함검출부(140)로 전송된다.
다음으로, 상기 전체조사각합성이미지분석과정(S20)에서는 상기 결함검출부(140)가 각각의 조사각에서 빛이 조사된 웨이퍼의 배면을 촬영한 영상이미지들을 모두 합성한 전체조사각합성이미지와 각각의 조사각들에 대한 이미지들로 분류된다. 이후, 전체조사각합성이미지에서 감광 영역을 검출한 후 각각의 감광 영역에 대응하는 웨이퍼 상의 위치에서 빛이 투과된 것이므로, 웨이퍼 상의 해당 영역을 결함 영역으로 검출한다.
상기 개별조사각이미지분석과정(S30)에서는 상술한 전체조사각합성이미지분석과정(S20)에서 감광영역이 검출되어 웨이퍼 상의 결함 위치가 발견된 경우, 각각의 빛의 조사각에 대응하는 웨이퍼 촬영 영상을 분석하여 웨이퍼 상의 결함의 규격 또는 결함의 형태 등을 검출한다.
상술한 구성 및 처리과정에 의해 본 발명은 웨이퍼 빛을 조사하여 촬영하는 것만으로 웨이퍼 상의 크랙 결함 등의 결함유무, 결함위치, 결함의 규격 또는 결함의 형태 등을 용이하게 검출할 수 있도록 한다.
100: 웨이퍼검사장치 110: 광원부
120: 반사부 130: 촬상부
140: 결함검출부 w: 웨이퍼
120: 반사부 130: 촬상부
140: 결함검출부 w: 웨이퍼
Claims (5)
- 빛을 생성하여 조사하는 광원부;
상기 광원부에 의해 조사되는 빛을 검사대상 웨이퍼로 조사하도록 반사시키는 반사부; 및
상기 웨이퍼의 면 중 상기 빛이 조사된 면의 반대면을 촬영하는 촬상부;를 포함하고,
각각의 조사방향에 따라 촬영된 상기 웨이퍼의 개별적 이미지들이 합성된 전체조사각합성이미지를 이용하여 결함의 위치를 검출하고,
상기 빛의 조사방향에 따라 촬영된 상기 웨이퍼의 개별적인 이미지를 이용하여 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 검출하는 결함검출부;를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사장치.
- 청구항 1에 있어서, 상기 반사부는,
상기 웨이퍼로 조사되는 빛의 조사각을 가변시킬 수 있도록 반사경이 회전 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사장치.
- 청구항 1에 있어서, 상기 촬상부는,
상기 반사부에 의해 복수의 각도로 상기 웨이퍼에 입사되어 투과된 빛을 개별적 또는 중첩 찰영하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사장치.
- 삭제
- 광원부에서 조사되는 빛을 일정 각도별로 반사부를 회전시켜 웨이퍼에 조사한 후, 빛이 조사되는 웨이퍼 면의 반대면을 촬영하는 조사각변경 촬영과정;
상기 조사각별로 촬영된 이미지를 합성하여 전체조사각합성이미지를 생성한 후 결함의 위치를 검출하는 전체조사각합성이미지분석과정; 및
상기 전체조사각합성이미지분석과정에서 결함이 검출된 경우 조사각별로 이미지를 분석하여 결함의 규격 또는 결함의 형태 중 하나 이상을 검출하는 개별조사각이미지분석과정;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사방법.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101794961B1 (ko) | 2016-02-23 | 2017-12-04 | 재단법인대구경북과학기술원 | 인라인 홀로그래피 이미지 분석을 이용한 혈액 샘플 분석 장치 |
| CN113791033A (zh) * | 2021-08-26 | 2021-12-14 | 山东天岳先进科技股份有限公司 | 一种晶片缺陷检测方法及装置 |
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| JP2002168774A (ja) | 2000-11-28 | 2002-06-14 | Advantest Corp | 表面状態測定方法及び装置 |
| JP2010286457A (ja) | 2009-06-15 | 2010-12-24 | Nikon Corp | 表面検査装置 |
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