KR101563909B1 - 패키지 온 패키지 제조 방법 - Google Patents

패키지 온 패키지 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101563909B1
KR101563909B1 KR1020140107512A KR20140107512A KR101563909B1 KR 101563909 B1 KR101563909 B1 KR 101563909B1 KR 1020140107512 A KR1020140107512 A KR 1020140107512A KR 20140107512 A KR20140107512 A KR 20140107512A KR 101563909 B1 KR101563909 B1 KR 101563909B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
package
interposer
molding compound
lamination
substrates
Prior art date
Application number
KR1020140107512A
Other languages
English (en)
Inventor
김동진
김진한
차세웅
이지훈
김준동
고영범
Original Assignee
앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 filed Critical 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
Priority to KR1020140107512A priority Critical patent/KR101563909B1/ko
Priority to US14/828,984 priority patent/US9741701B2/en
Priority to TW110114652A priority patent/TWI780674B/zh
Priority to TW112142709A priority patent/TWI857839B/zh
Priority to TW111137004A priority patent/TWI822369B/zh
Priority to TW108104934A priority patent/TWI727261B/zh
Priority to TW105143884A priority patent/TWI671880B/zh
Priority to TW104126969A priority patent/TWI578490B/zh
Application granted granted Critical
Publication of KR101563909B1 publication Critical patent/KR101563909B1/ko
Priority to US15/683,065 priority patent/US10290621B2/en
Priority to US16/412,166 priority patent/US10867984B2/en
Priority to US17/120,991 priority patent/US11508712B2/en
Priority to US17/989,791 priority patent/US20230187432A1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/561Batch processing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • H01L23/3128Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/10Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers
    • H01L25/105Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/486Via connections through the substrate with or without pins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/568Temporary substrate used as encapsulation process aid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48465Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/97Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1017All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support
    • H01L2225/1023All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement the lowermost container comprising a device support the support being an insulating substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1041Special adaptations for top connections of the lowermost container, e.g. redistribution layer, integral interposer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2225/00Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2225/03All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
    • H01L2225/10All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers
    • H01L2225/1005All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/1058Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49827Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1532Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/1533Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/15331Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Auxiliary Devices For And Details Of Packaging Control (AREA)

Abstract

본 발명은 패키지 온 패키지 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 양호한 품질로 판정된 기판 및 반도체 칩만을 선택하여 하부 패키지를 제조한 후, 그 위에 인터포저 등을 도전 가능하게 형성시킨 새로운 방식의 패키지 온 패키지 제조 방법에 관한 것이다.
즉, 본 발명은 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시하여 불량품을 배제한 양품의 낱개 기판들을 선택하고, 양품의 낱개 기판들을 캐리어 위에 부착한 후, 양품의 낱개 기판에 대한 칩 부착 공정과, 몰딩 공정과, 백그라인딩 공정과, 인터포저 형성 공정 등을 포함하는 일련의 패키지 온 패키지 제조 공정을 진행함으로써, 패키지 온 패키지의 불량을 완전하게 방지할 수 있도록 한 새로운 방식의 패키지 온 패키지 제조 방법을 제공하고자 한 것이다.

Description

패키지 온 패키지 제조 방법{Method for manufacturing Package On Package}
본 발명은 패키지 온 패키지 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 양호한 품질로 판정된 기판 및 반도체 칩만을 선택하여 하부 패키지를 제조한 후, 그 위에 인터포저 등을 도전 가능하게 형성시킨 새로운 방식의 패키지 온 패키지 제조 방법에 관한 것이다.
각종 전자기기 제품의 경량화, 소형화, 고속화, 다기능화, 고성능화 등 복합화 추세에 따라, 전자기기내 탑재되는 반도체 소자들에 대한 높은 신뢰성을 요구하고 있으며, 그에 따라 웨이퍼 레벨의 칩 스케일 패키지, 인터포저에 여러개의 칩을 한꺼번에 부착하여 기판에 탑재시킨 칩 적층형 패키지, 인터포저를 사이에 두고 상하로 적층되는 패키지 온 패키지(POP, Package On Package) 등 다양한 구조의 반도체 패키지가 개발되고 있다.
여기서, 종래의 팬-인 타입 패키지 온 패키지(Fan-in-POP)의 구성 및 그 제조 과정을 살펴보면 다음과 같다.
첨부한 도 4는 종래의 팬-인 타입 패키지 온 패키지의 제조 공정을 나타낸 단면도이고, 도 5는 제조 완료된 종래의 팬-인 타입 패키지 온 패키지를 나타낸 단면도이다.
먼저, 상기 하부 반도체 패키지(100)를 제조하고자, 다수의 반도체 패키지 제조 영역이 가로 및 세로방향을 따라 등간격으로 형성된 스트립 형태의 인쇄회로기판(102)이 구비되고, 이 스트립 기판(102)의 각 반도체 패키지 제조영역의 중앙부에 반도체 칩(104)이 도전성 범프(106)를 매개로 전기적 신호 교환 가능하게 적층 부착된다.
연이어, 상기 반도체 칩(104)의 사방 주변 영역 즉, 기판(102)의 테두리 영역에 형성된 전도성패턴에 적층용 볼(108)이 융착되며, 이 적층용 볼(108)은 인터포저(200)와 전기적으로 연결하기 위한 수단이 된다.
이어서, 상기 기판(102)의 상면에 걸쳐 몰딩 컴파운드 수지(110)가 몰딩되는 단계가 진행되어, 반도체 칩(104)과 적층용 볼(108)이 외부로부터 보호 가능하게 봉지되는 상태가 되며, 바람직하게는 반도체 칩(104)에서 발생하는 열을 외부로 용이하게 방출시키기 위하여 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면과 반도체 칩(104)의 상면이 동일 평면을 이루도록 하여 반도체 칩(104)의 상면이 외부로 노출되도록 한다.
다음으로, 상기 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면에 레이저 가공에 의한 일정 깊이의 관통 몰드 비아(112: TMV, Through Mold Via)를 형성하는 단계가 진행되며, 이때 상기 적층용 볼(108)이 나타날 때까지의 깊이로 관통 몰드 비아(112)를 형성하게 된다.
이어서, 상기와 같이 제조된 하부 반도체 패키지(100)의 관통 몰드 비아(112)에 인터포저(200)를 도전 가능하게 적층하는 단계가 진행된다.
상기 인터포저(200)는 일반 인쇄회로기판(PCB)를 사용하거나, 반도체 칩과 동일한 실리콘 재질에 재배선 등의 회로배선이 형성된 구조로 구비되어, 하부 반도체 패키지(100)와 상부 반도체 패키지(300)를 도전 가능하게 연결하는 매개체 역할을 하고, 특히 원하는 방향으로 재배선 등을 형성하여 원하는 위치에 상부 반도체 패키지와의 접속을 위한 도전성 패드(202)가 형성된 구조로 구비된다.
즉, 상기 인터포저(200)는 그 상면에 상부 반도체 패키지(300)의 입출력단자(302)가 접속 연결되는 도전성 패드(202)가 노출되고, 저면에는 도전성 패드(202)와 비아홀(204) 또는 재배선(미도시됨)을 통하여 연결되는 볼랜드(206)가 형성된 구조로 구비된다.
이때, 상기 인터포저(200)의 볼랜드(206)에는 접속용 볼(208)이 융착되는 바, 이 접속용 볼(208)을 하부 반도체 패키지(100)의 관통 몰드 비아(112)내의 적층용 볼(108) 위에 적층하여 상호 융착시킴으로써, 하부 반도체 패키지(100)에 대한 인터포저(200)의 전기적 연결 및 적층이 이루어진다.
이어서, 상기 인터포저(200)의 도전성 패드(202) 위에 상부 반도체 패키지(300)의 입출력단자(302)를 융착시킴으로써, 상부 반도체 패키지(300)의 적층이 이루어진다.
참고로, 상기 인터포저(200)의 도전성 패드(202) 위에 상부 반도체 패키지(300)가 적층되지 않고, 복수의 반도체 칩이 적층 부착되기도 한다.
다음으로, 상기 하부 반도체 패키지(100)의 기판(102) 저면에 노출된 볼랜드에 전자기기의 마더보드 등에 연결되는 솔더볼(109)을 융착시킨 후, 기판(102) 및 인터포저(200) 등의 소잉라인(114)을 따라 소잉함으로써, 도 5서 보듯이 개개의 패키지 온 패키지가 완성된다.
그러나, 상기한 종래의 팬-인 타입 패키지 온 패키지는 다음과 같은 문제점이 있다.
상기와 같은 패키지 온 패키지를 제조하고자, 다수의 반도체 패키지 영역이 소잉라인을 경계로 가로 및 세로방향을 따라 배열된 스트립 기판을 사용하지만, 스트립 기판을 구성하는 각 낱개의 기판들 중 불량품이 존재하는 경우, 불량품 기판을 포함하는 최종 패키지 온 패키지 제품도 불량품이 되는 문제점이 있다.
다시 말해서, 생산수율 향상을 위하여 패키지 온 패키지의 하부 반도체 패키지를 낱개가 아닌 여러개를 한꺼번에 제조한 후, 소잉 공정을 통하여 낱개의 패키지로 제품화하고자, 다수의 반도체 패키지 영역을 갖는 스트립 기판을 사용하지만, 스트립 기판을 구성하는 각 낱개의 기판들 중 불량품이 존재하는 경우, 불량품 기판을 포함하는 최종 패키지 온 패키지 제품의 불량을 초래하는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시하여 불량품을 배제한 양품의 낱개 기판들을 선택하고, 양품의 낱개 기판들을 캐리어 위에 부착한 후, 양품의 낱개 기판에 대한 칩 부착 공정과, 몰딩 공정과, 백그라인딩 공정과, 인터포저 형성 공정 등을 포함하는 일련의 패키지 온 패키지 제조 공정을 진행함으로써, 패키지 온 패키지의 불량을 완전하게 방지할 수 있도록 한 새로운 방식의 패키지 온 패키지 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명은: 하나의 반도체 패키징을 위한 다수의 낱개 기판을 포함하는 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시하여, 양품의 낱개 기판만을 소잉하여 구비하는 단계와; 일정 면적의 캐리어 위에 양품의 낱개 기판들을 일정 간격으로 부착시키는 단계와; 상기 각 낱개 기판 위에 양품으로 판정된 반도체 칩을 도전성 범프를 매개로 전기적 신호 교환 가능하게 부착하는 단계와; 상기 반도체 칩의 사방 주변에 해당하는 각 낱개 기판의 테두리 영역에 적층용 단자를 부착하는 단계와; 상기 각 낱개 기판을 비롯하여 반도체 칩 및 적층용 단자들을 봉지시키기 위하여, 캐리어의 상면에 걸쳐 일정 두께의 몰딩 컴파운드 수지를 몰딩하는 단계와; 상기 적층용 단자의 상면이 노출될 때까지 몰딩 컴파운드 수지의 상면을 그라인딩하는 단계와; 상기 몰딩 컴파운드 수지의 상면 위에 적층용 단자와 도전 가능하게 연결되는 인터포저를 형성하는 단계와; 상기 캐리어를 제거한 후, 각 낱개기판의 볼랜드에 입출력단자를 부착하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법을 제공한다.
또한, 상기 인터포저 위에 상부 반도체 패키지를 적층한 후, 각 낱개 기판 사이의 소잉라인을 따라 소잉하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 인터포저를 형성하는 단계는: 인터포저용 인쇄회로기판(PCB)을 적층용 단자와 도전 가능하게 연결시키며 몰딩 컴파운드 수지의 상면 위에 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또는, 상기 인터포저를 형성하는 단계는: 범핑 공정을 이용하여 적층용 단자와 도전 가능하게 연결되는 재배선을 몰딩 컴파운드 수지의 상면 원하는 위치로 연장 배열하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 캐리어는 재사용 가능한 글래스 또는 실리콘 재질을 이용하여 일정한 두께로 만들어진 것임을 특징으로 한다.
또한, 상기 적층용 단자는 솔더볼 또는 구리 스터드 범프로 채택된 것임을 특징으로 한다.
상기한 과제 해결 수단을 통하여, 본 발명은 다음과 같은 효과를 제공한다.
첫째, 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시하여 불량품을 배제한 양품의 낱개 기판들을 선택하고, 양품의 낱개 기판만을 패키지 온 패키지 제조에 사용함으로써, 패키지 온 패키지의 불량을 완전하게 방지할 수 있다.
둘째, 낱개 기판을 지지하는 수단으로서, 일정 두께의 캐리어를 이용함에 따라, 마치 스트립 기판과 같이 다수의 패키지를 한꺼번에 제조할 수 있으므로, 생산수율을 유지시킬 수 있다.
셋째, 일정 두께의 캐리어가 각 낱개 기판을 지지하는 동시에 견고하게 잡아주고 있기 때문에, 칩 부착 및 몰딩 공정 등 일련의 패키지 온 패키지 제조 공정 중 발생할 수 있는 기판의 워피지 현상을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 패키지 온 패키지 제조 방법을 나타낸 단면도,
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 패키지 온 패키지 제조 방법에 의하여 제조된 패키지 온 패키지의 예를 나타낸 단면도,
도 4 및 도 5는 각각 종래의 팬-인 타입 패키지 온 패키지의 제조 공정을 나타낸 단면도 및 제조 완료된 패키지 온 패키지를 나타낸 단면도.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명의 설명에 사용되는 용어 중, 낱개 기판은 다수의 반도체 패키지 제조 영역이 가로 및 세로방향을 따라 등간격으로 형성된 스트립 형태의 인쇄회로기판, 즉 하나의 반도체 패키지 제조 영역을 이루는 낱개 기판이 가로 및 세로방향을 따라 등간격으로 형성된 스트립 형태의 인쇄회로기판으로부터 낱개 단위로 소잉된 상태의 기판을 의미함을 밝혀둔다.
첨부한 도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 패키지 온 패키지 제조 방법을 나타낸 단면도이다.
먼저, 상기 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시한다.
예를 들어, 통상의 비전 시스템과 같이 테스트 장비를 이용하여 스트립 기판의 회로 설계 영역 등을 테스트하여, 스트립 기판을 구성하는 각 낱개 기판에 대한 양품 또는 불량품을 판정할 수 있다.
이렇게 하나의 반도체 패키징을 위한 다수의 낱개 기판을 포함하는 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시한 후, 각 낱개 기판 단위로 소잉하여 양품의 낱개 기판(120)만을 패키지 온 패키지 제조 공정에 제공한다.
이어서, 본 발명의 패키지 온 패키지 제조 공정을 위한 지지부재로서, 일정 면적의 캐리어(130)를 구비한다.
상기 캐리어(130)는 글래스 또는 실리콘 재질을 이용하여 일정한 두께로 만들어진 구조로 구비하여, 후술하는 바와 같이 패키지 온 패키지 제조후 별도의 분리 공정을 통하여 재사용을 도모할 수 있도록 한다.
이렇게 구비된 캐리어(130) 위에 양면 접착테이프와 같은 접착수단을 부착한 다음, 그 위에 양품의 낱개 기판(120)들을 일정 간격으로 부착시킨다.
다음으로, 상기 각 낱개 기판(120) 위에 양품으로 판정된 반도체 칩(104)을 도전성 범프(106)를 매개로 전기적 신호 교환 가능하게 부착한다.
보다 상세하게는, 상기 반도체 칩(104)의 본딩패드에 도전성 범프(106)를 통상의 도금 공정 등을 이용하여 일체로 연결한 후, 이 도전성 범프(106)를 각 낱개 기판(120)의 중앙영역에 노출된 전도성 패턴에 융착시킴으로써, 각 낱개 기판(120) 위에 양품으로 판정된 반도체 칩(104)이 도전 가능하게 부착되는 상태가 된다.
이때, 상기 반도체 칩(104)은 통상의 비전 시스템 등과 같은 테스트 장비를 이용하여 웨이퍼 상태의 각 반도체 칩의 집적 회로 영역 등이 제대로 동작하는지를 테스트한 후, 양품으로 판정된 것만을 채택한 것이다.
다음으로, 상기 반도체 칩(104)의 사방 주변에 해당하는 각 낱개 기판(120)의 테두리 영역에 노출된 전도성 패턴에 상부 반도체 패키지 또는 인터포저를 도전 가능하게 적층할 수 있도록 한 적층용 단자(122)가 부착되며, 이 적층용 단자(122)는 솔더볼 또는 구리 스터드 범프 등이 사용될 수 있다.
바람직하게는, 각 낱개 기판(120)에 부착된 적층용 단자(122)는 반도체 칩(104)의 상면과 동일하거나 더 높은 높이의 것을 사용하며, 그 이유는 후술하는 바와 같이 그라인딩 공정시 상부 반도체 패키지 또는 인터포저 적층 연결을 위한 적층용 단자(122)의 상면만이 노출되도록 하거나, 또는 반도체 칩의 열방출을 위하여 반도체 칩(104)의 상면도 노출시킬 수 있도록 함에 있다.
이어서, 상기 캐리어(130)의 상면에 걸쳐 일정 두께의 몰딩 컴파운드 수지(110)를 오버 몰딩하는 단계를 진행하여, 상기 각 낱개 기판(120)을 비롯하여 그 위에 부착된 반도체 칩(104) 및 적층용 단자(122)들이 한꺼번에 몰딩 컴파운드 수지(110)에 의하여 봉지되는 상태가 되도록 한다.
연이어, 상기 적층용 단자(122)의 상면이 노출될 때까지 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면을 그라인딩하는 단계가 진행된다.
이에, 상부 반도체 패키지 또는 인터포저 적층 연결을 위한 적층용 단자(122)의 상면만이 몰딩 컴파운드 수지(110)를 통하여 외부로 노출되거나, 또는 적층용 단자(122)의 상면 뿐만 아니라 반도체 칩(104)의 상면도 열방출을 위하여 외부로 노출되는 상태가 된다.
이와 같이 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면을 그라인딩하는 단계를 진행함으로써, 캐리어(130) 위에 일단 하부 반도체 패키지(100)가 완성되는 상태가 된다.
다음으로, 상기 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 위에 적층용 단자(122)와 도전 가능하게 연결되는 인터포저(200)를 형성하는 단계가 진행된다.
상기 인터포저(200)를 형성하는 단계의 일 실시예는 인터포저용 인쇄회로기판(PCB)을 적층용 단자(122)와 도전 가능하게 연결시키며 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 위에 적층하여 이루어진다.
예를 들어, 인터포저용 인쇄회로기판의 저면에 노출된 볼랜드와 적층용 단자(122)를 도전 가능하게 융착시킴으로써, 인터포저용 인쇄회로기판(PCB)이 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 위에 적층되는 상태가 되고, 이렇게 적층된 인터포저용 인쇄회로기판의 상면에 상부 반도체 패키지가 전기적 신호 교환 가능하게 적층될 수 있다.
상기 인터포저(200)를 형성하는 단계의 다른 실시예는 적층용 단자(122)와 도전 가능하게 연결되는 재배선을 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 원하는 위치로 연장 배열하여 이루어진다.
예를 들어, 도 1에서 보듯이 제1패시베이션층(115)을 몰딩 컴파운드 수지(110)의 표면에 도포하는 과정과, 포토 레지스트 공정을 이용하여 제1패시베이션층(115)의 일부를 제거하는 동시에 적층용 단자(122)의 상면을 노출시키는 과정과, 적층용 단자(122)에서 안쪽방향으로 회로라인와 같은 재배선(116)을 도금하는 과정과, 볼패드 자리가 되는 재배선(116)의 끝단부를 제외하고 나머지 표면에 제2패시베이션층(117)을 형성하는 과정 등을 통하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 인터포저(200) 형성 단계가 이루어진다.
다음으로, 상기 캐리어(130)를 각 낱개 기판(120)의 저면 및 몰딩 컴파운드 수지(110)의 저면으로부터 떼어내는 분리 단계를 진행한 후, 각 낱개 기판(120)의 저면에 노출된 볼랜드에 솔더볼(109)과 같은 입출력단자를 부착하는 단계가 진행된다.
이어서, 상기 인터포저(200) 위에 상부 반도체 패키지(300)를 적층한 후, 각 낱개 기판(120) 사이의 소잉라인(124), 각 낱개 기판(120) 사이의 몰딩 컴파운드 수지 및 그 위의 인터포저에 형성된 소잉라인(124)을 따라 소잉하는 단계를 진행함으로써, 낱개 단위의 패키지 온 패키지가 완성된다.
첨부한 도 2 및 도 3은 상기한 본 발명의 패키지 온 패키지 제조 방법에 의하여 제조된 패키지 온 패키지의 다른 형태를 나타낸 단면도이다.
도 2에서 보듯이, 상기한 패키지 온 패키지를 제조하는 공정 중, 반도체 칩(104)의 사방 주변에 해당하는 각 낱개 기판(120)의 테두리 영역에 노출된 전도성 패턴에 적층용 단자(122)가 부착할 때, 이 적층용 단자(122)를 구리 스터드 범프로 부착할 수 있다.
도 3에서 보듯이, 상기한 패키지 온 패키지를 제조하는 공정 중, 인터포저 형성 공정을 진행하지 않고, 몰딩 컴파운드 수지(110)를 통하여 노출된 적층용 단자(122) 위에 상부 반도체 패키지(300)를 직접 도전 가능하게 적층 연결할 수 있다.
예를 들어, 일반적인 볼 그리드 어레이 반도체 패키지를 상부 반도체 패키지(300)로 채택한 경우, 상부 반도체 패키지(300)의 저면에 부착된 입출력단자(302)를 직접 적층용 단자(122) 위에 도전 가능하게 연결시킴으로써, 인터포저 없이 하부 반도체 패키지(100) 위에 상부 반도체 패키지(300)가 적층될 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시하여 불량품을 배제한 양품의 낱개 기판만을 스트립 기판으로부터 소잉하여 구비한 상태에서, 낱개 기판 및 칩 부착 공정 등을 위한 지지수단으로서 캐리어를 이용하여 일련의 패키지 온 패키지 제조 공정을 진행함으로써, 기존에 스트립 기판 단위로 패키지 온 패키지를 제조할 때 스트립 기판에 불량의 낱개 기판이 포함됨에 따라 패키지 온 패키지의 불량 현상이 발생되는 것을 완전하게 방지할 수 있다.
100 : 하부 반도체 패키지 102 : 기판
104 : 반도체 칩 106 : 도전성 범프
108 : 적층용 볼 109 : 솔더볼
110 : 몰딩 컴파운드 수지 112 : 관통 몰드 비아
114 : 소잉라인 115 : 제1패시베이션층
116 : 재배선 117 : 제2패시베이션층
120 : 양품의 낱개 기판 122 : 적층용 단자
124 : 소잉라인 130 : 캐리어
200 : 인터포저 202 : 도전성 패드
204 : 비아홀 206 : 볼랜드
208 : 접속용 볼 300 : 상부 반도체 패키지
302 : 입출력단자

Claims (6)

  1. 하나의 반도체 패키징을 위한 다수의 낱개 기판을 포함하는 스트립 기판에 대한 불량 검사를 실시하여, 양품의 낱개 기판(120)만을 소잉하여 제공하는 단계와;
    일정 면적의 캐리어(130) 위에 양품의 낱개 기판(120)들을 일정 간격으로 부착시키는 단계와;
    상기 각 낱개 기판(120) 위에 양품으로 판정된 반도체 칩(104)을 도전성 범프(106)를 매개로 전기적 신호 교환 가능하게 부착하는 단계와;
    상기 반도체 칩(104)의 사방 주변에 해당하는 각 낱개 기판(120)의 테두리 영역에 적층용 단자(122)를 부착하는 단계와;
    상기 각 낱개 기판(120)을 비롯하여 반도체 칩(104) 및 적층용 단자(122)들을 봉지시키기 위하여, 캐리어(130)의 상면에 걸쳐 일정 두께의 몰딩 컴파운드 수지(110)를 몰딩하는 단계와;
    상기 적층용 단자(122)의 상면이 노출될 때까지 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면을 그라인딩하는 단계와;
    상기 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 위에 적층용 단자(122)와 도전 가능하게 연결되는 인터포저(200)를 형성하는 단계와;
    상기 캐리어(130)를 제거한 후, 각 낱개 기판(120)의 볼랜드에 입출력단자를 부착하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 인터포저(200) 위에 상부 반도체 패키지(300)를 적층한 후, 각 낱개 기판(120) 사이의 소잉라인(124)을 따라 소잉하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 인터포저(200)를 형성하는 단계는:
    인터포저용 인쇄회로기판(PCB)을 적층용 단자(122)와 도전 가능하게 연결시키며 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 위에 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 인터포저(200)를 형성하는 단계는:
    범핑 공정을 이용하여 적층용 단자(122)와 도전 가능하게 연결되는 재배선을 몰딩 컴파운드 수지(110)의 상면 원하는 위치로 연장 배열하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 캐리어(130)는 재사용 가능한 글래스 또는 실리콘 재질을 이용하여 일정한 두께로 만들어진 것임을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 적층용 단자(122)는 솔더볼 또는 구리 스터드 범프로 채택된 것임을 특징으로 하는 패키지 온 패키지 제조 방법.
KR1020140107512A 2014-08-19 2014-08-19 패키지 온 패키지 제조 방법 KR101563909B1 (ko)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140107512A KR101563909B1 (ko) 2014-08-19 2014-08-19 패키지 온 패키지 제조 방법
US14/828,984 US9741701B2 (en) 2014-08-19 2015-08-18 Method of manufacturing a package-on-package type semiconductor package
TW112142709A TWI857839B (zh) 2014-08-19 2015-08-19 電子裝置及製造電子裝置的方法
TW111137004A TWI822369B (zh) 2014-08-19 2015-08-19 製造堆疊封裝式半導體封裝的方法
TW110114652A TWI780674B (zh) 2014-08-19 2015-08-19 半導體裝置及製造堆疊半導體封裝的方法
TW108104934A TWI727261B (zh) 2014-08-19 2015-08-19 製造堆疊封裝式半導體封裝的方法
TW105143884A TWI671880B (zh) 2014-08-19 2015-08-19 製造堆疊封裝式半導體封裝的方法
TW104126969A TWI578490B (zh) 2014-08-19 2015-08-19 製造堆疊封裝式半導體封裝的方法
US15/683,065 US10290621B2 (en) 2014-08-19 2017-08-22 Method of manufacturing a package-on-package type semiconductor package
US16/412,166 US10867984B2 (en) 2014-08-19 2019-05-14 Method of manufacturing a package-on-package type semiconductor package
US17/120,991 US11508712B2 (en) 2014-08-19 2020-12-14 Method of manufacturing a package-on-package type semiconductor package
US17/989,791 US20230187432A1 (en) 2014-08-19 2022-11-18 Method of Manufacturing a Package-on-Package Type Semiconductor Package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140107512A KR101563909B1 (ko) 2014-08-19 2014-08-19 패키지 온 패키지 제조 방법

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150132173A Division KR101573314B1 (ko) 2015-09-18 2015-09-18 패키지 온 패키지

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101563909B1 true KR101563909B1 (ko) 2015-10-28

Family

ID=54429078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140107512A KR101563909B1 (ko) 2014-08-19 2014-08-19 패키지 온 패키지 제조 방법

Country Status (3)

Country Link
US (5) US9741701B2 (ko)
KR (1) KR101563909B1 (ko)
TW (5) TWI727261B (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101411813B1 (ko) * 2012-11-09 2014-06-27 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 디바이스 및 그 제조 방법
US20150340308A1 (en) * 2014-05-21 2015-11-26 Broadcom Corporation Reconstituted interposer semiconductor package
KR101563909B1 (ko) 2014-08-19 2015-10-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 패키지 온 패키지 제조 방법
KR102243287B1 (ko) * 2014-10-15 2021-04-23 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
CN109983570A (zh) * 2016-12-29 2019-07-05 英特尔公司 具有晶片级有源管芯和外部管芯底座的半导体封装
US10818627B2 (en) * 2017-08-29 2020-10-27 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Electronic component including a conductive pillar and method of manufacturing the same
US10818602B2 (en) 2018-04-02 2020-10-27 Amkor Technology, Inc. Embedded ball land substrate, semiconductor package, and manufacturing methods
US10757813B2 (en) * 2018-10-12 2020-08-25 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Embedded component package structure and manufacturing method thereof

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101356408B1 (ko) 2012-01-31 2014-01-27 브로드콤 코포레이션 개선된 테스트 가능성을 가진 반도체 패키지

Family Cites Families (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5829128A (en) 1993-11-16 1998-11-03 Formfactor, Inc. Method of mounting resilient contact structures to semiconductor devices
US5201451A (en) * 1987-03-11 1993-04-13 International Business Machines Corp. Method and apparatus for mounting a flexible film semiconductor chip carrier on a circuitized substrate
US5983493A (en) 1993-11-16 1999-11-16 Formfactor, Inc. Method of temporarily, then permanently, connecting to a semiconductor device
US6741085B1 (en) 1993-11-16 2004-05-25 Formfactor, Inc. Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts
US5878486A (en) 1993-11-16 1999-03-09 Formfactor, Inc. Method of burning-in semiconductor devices
US5806181A (en) 1993-11-16 1998-09-15 Formfactor, Inc. Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts
US5897326A (en) 1993-11-16 1999-04-27 Eldridge; Benjamin N. Method of exercising semiconductor devices
US5884398A (en) 1993-11-16 1999-03-23 Form Factor, Inc. Mounting spring elements on semiconductor devices
US5859475A (en) 1996-04-24 1999-01-12 Amkor Technology, Inc. Carrier strip and molded flex circuit ball grid array
US5852870A (en) 1996-04-24 1998-12-29 Amkor Technology, Inc. Method of making grid array assembly
US6492203B1 (en) 1997-04-30 2002-12-10 Hitachi Chemical Company, Ltd. Semiconductor device and method of fabrication thereof
US6111324A (en) 1998-02-05 2000-08-29 Asat, Limited Integrated carrier ring/stiffener and method for manufacturing a flexible integrated circuit package
US6214640B1 (en) 1999-02-10 2001-04-10 Tessera, Inc. Method of manufacturing a plurality of semiconductor packages
TW560018B (en) 2001-10-30 2003-11-01 Asia Pacific Microsystems Inc A wafer level packaged structure and method for manufacturing the same
US7023347B2 (en) 2002-08-02 2006-04-04 Symbol Technologies, Inc. Method and system for forming a die frame and for transferring dies therewith
US6903456B2 (en) 2003-10-08 2005-06-07 Tong Hsing Electric Industries, Ltd. Package carrier having multiple individual ceramic substrates
US7358119B2 (en) 2005-01-12 2008-04-15 Asat Ltd. Thin array plastic package without die attach pad and process for fabricating the same
US7538438B2 (en) 2005-06-30 2009-05-26 Sandisk Corporation Substrate warpage control and continuous electrical enhancement
US7807505B2 (en) 2005-08-30 2010-10-05 Micron Technology, Inc. Methods for wafer-level packaging of microfeature devices and microfeature devices formed using such methods
US8072059B2 (en) * 2006-04-19 2011-12-06 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming UBM fixed relative to interconnect structure for alignment of semiconductor die
US7378733B1 (en) 2006-08-29 2008-05-27 Xilinx, Inc. Composite flip-chip package with encased components and method of fabricating same
US7985621B2 (en) 2006-08-31 2011-07-26 Ati Technologies Ulc Method and apparatus for making semiconductor packages
US8193034B2 (en) 2006-11-10 2012-06-05 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming vertical interconnect structure using stud bumps
US7683380B2 (en) 2007-06-25 2010-03-23 Dicon Fiberoptics, Inc. High light efficiency solid-state light emitting structure and methods to manufacturing the same
US7923298B2 (en) 2007-09-07 2011-04-12 Micron Technology, Inc. Imager die package and methods of packaging an imager die on a temporary carrier
US20090091025A1 (en) 2007-10-04 2009-04-09 Agency For Science, Technology And Research Method for forming and releasing interconnects
US7919871B2 (en) * 2008-03-21 2011-04-05 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system for stackable devices
KR101227078B1 (ko) * 2008-11-25 2013-01-29 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 그 형성방법
US8124447B2 (en) 2009-04-10 2012-02-28 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Manufacturing method of advanced quad flat non-leaded package
KR101056747B1 (ko) * 2009-04-14 2011-08-16 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US8143097B2 (en) 2009-09-23 2012-03-27 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming open cavity in TSV interposer to contain semiconductor die in WLCSMP
US8008121B2 (en) * 2009-11-04 2011-08-30 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor package and method of mounting semiconductor die to opposite sides of TSV substrate
US8569894B2 (en) 2010-01-13 2013-10-29 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor package with single sided substrate design and manufacturing methods thereof
US9735113B2 (en) * 2010-05-24 2017-08-15 STATS ChipPAC Pte. Ltd. Semiconductor device and method of forming ultra thin multi-die face-to-face WLCSP
US8895440B2 (en) * 2010-08-06 2014-11-25 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor die and method of forming Fo-WLCSP vertical interconnect using TSV and TMV
US8367475B2 (en) 2011-03-25 2013-02-05 Broadcom Corporation Chip scale package assembly in reconstitution panel process format
US9190297B2 (en) * 2011-08-11 2015-11-17 Stats Chippac, Ltd. Semiconductor device and method of forming a stackable semiconductor package with vertically-oriented discrete electrical devices as interconnect structures
CN102800730A (zh) 2012-07-09 2012-11-28 友达光电股份有限公司 光伏装置
US9818734B2 (en) * 2012-09-14 2017-11-14 STATS ChipPAC Pte. Ltd. Semiconductor device and method of forming build-up interconnect structures over a temporary substrate
US9559039B2 (en) * 2012-09-17 2017-01-31 STATS ChipPAC Pte. Ltd. Semiconductor device and method of using substrate having base and conductive posts to form vertical interconnect structure in embedded die package
US8994176B2 (en) * 2012-12-13 2015-03-31 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Methods and apparatus for package with interposers
KR101563909B1 (ko) 2014-08-19 2015-10-28 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 패키지 온 패키지 제조 방법
US9484227B1 (en) * 2015-06-22 2016-11-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Dicing in wafer level package

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101356408B1 (ko) 2012-01-31 2014-01-27 브로드콤 코포레이션 개선된 테스트 가능성을 가진 반도체 패키지

Also Published As

Publication number Publication date
TW201921630A (zh) 2019-06-01
TW202306101A (zh) 2023-02-01
TW201714273A (zh) 2017-04-16
US20170373051A1 (en) 2017-12-28
US10290621B2 (en) 2019-05-14
US20160056079A1 (en) 2016-02-25
US20230187432A1 (en) 2023-06-15
TWI578490B (zh) 2017-04-11
US10867984B2 (en) 2020-12-15
US9741701B2 (en) 2017-08-22
TWI671880B (zh) 2019-09-11
TWI727261B (zh) 2021-05-11
US20190312021A1 (en) 2019-10-10
TW201608695A (zh) 2016-03-01
TWI822369B (zh) 2023-11-11
TWI780674B (zh) 2022-10-11
TW202137479A (zh) 2021-10-01
US11508712B2 (en) 2022-11-22
US20210175222A1 (en) 2021-06-10
TW202407963A (zh) 2024-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101563909B1 (ko) 패키지 온 패키지 제조 방법
US9583461B2 (en) Probing chips during package formation
US8367475B2 (en) Chip scale package assembly in reconstitution panel process format
US20180040550A1 (en) Method of fabricating electronic package
WO2008157001A1 (en) Semiconductor assemblies, stacked semiconductor devices, and methods of manufacturing semiconductor assemblies and stacked semiconductor devices
TW201044478A (en) Integrated circuit packaging system with patterned substrate and method of manufacture thereof
US9640414B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device
KR101573314B1 (ko) 패키지 온 패키지
KR20110105159A (ko) 적층 반도체 패키지 및 그 형성방법
KR20110107989A (ko) 적층 반도체 패키지 형성방법
KR101622453B1 (ko) 반도체 디바이스 및 그 제조 방법
TWI845113B (zh) 多晶粒封裝及其製造方法
KR101538680B1 (ko) 적층형 반도체 패키지 및 이의 제조 방법
CN116864456A (zh) 多晶粒封装及其制造方法
TWI857839B (zh) 電子裝置及製造電子裝置的方法
TW202410310A (zh) 半導體封裝

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181015

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191008

Year of fee payment: 5