KR101563711B1

KR101563711B1 - 신나밀기와 플루오렌기를 포함하는 아크릴레이트 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물

Info

Publication number: KR101563711B1
Application number: KR1020130126340A
Authority: KR
Inventors: 이길성
Original assignee: 에스엠에스주식회사
Priority date: 2013-10-23
Filing date: 2013-10-23
Publication date: 2015-10-27
Also published as: KR20130123352A

Abstract

본 발명은 신나밀기와 플루오렌기를 함께 함유한 신규한 아크릴레이트 화합물의 제조방법 및 이를 포함하는 광경화 수지에 관한 것으로 보다 구체적으로는 고굴절 특성이 있으며 경화시 필름이나 시트의 내열성 및 내화학성이 우수한 특징이 있다.

Description

신나밀기와 플루오렌기를 포함하는 아크릴레이트 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 {New acrylic resin with cinnamyl and fluorene group and its photosensitive resin composition}

아크릴레이트 수지중 굴절율이 높은 것은 광학렌즈, 광학필름 및 광 미디어 등에 널리 사용되고 있다. 특히 광학필름은 액정디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 디스플레이 제품에 사용이 가능하고 그 중에서도 특히 굴절율이 높은 수지는 액정 디스플레이 후면에 배치되는 백라이트 유니트의 휘도를 향상시킬 목적으로 널리 사용되고 있다.

최근에는 플렉서블 디스플레이 기판 형성용 재료로서 굴절율이 높은 모노머에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이들 연구는 유리섬유층에 광경화성 모노머를 함침하여 광 또는 열에 의해 경화시키는 방법에 관한 것으로, 이 용도로 사용될 수 있는 모노머는 유리섬유층과의 굴절율이 비슷하게 높아야 하며 또한 높은 열적 안정성과 우수한 내화학성 등을 요구하고 있다.

일본특허공개 평-127159에는 굴절율이 높은 수지를 사용하여 프리즘 성능을 개선한 방법이 개시되어 있다. 대한민국 공개특허 특2001-0012340과 대한민국 공개특허 10-2005-0010760에도 고굴절율을 갖는 브롬화 단량체를 포함하는 중합성 조성물로 제조된 광학제품이 개시되어 있다.

그러나 브롬이나 염소와 같은 할로겐 화합물은 굴절율은 높일 수 있으나 환경문제를 일으키고 경화 후에 필름의 황변이 심하여 필름의 성능을 저하시키고 심한 경우에는 디스플레이 색상에도 영향을 주게 된다. 일반적으로 프리즘 필름의 프리즘층은 자유라디칼에 의해 중합이 가능한 고분자 수지가 사용되며, 특히 자외선경화형 수지가 사용된다. 굴절율이 높은 자외선 경화형 고분자 물질의 대표적인 예로는 불소 이외의 할로겐을 함유시킨 (메타)아크릴레이트 또는 황을 함유한 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

종래의 기술에서 사용되는 고굴절율을 지닌 UV 경화성 수지는 점도가 높거나 반응성이 미흡하여 공정상의 많은 문제점을 지니고 있다. 예를 들어 공지의 기술로 많이 사용되고 있는 비스페놀계 에폭시 (메타)아크릴레이트의 경우 굴절율이 1.60 정도로 높은 편이나 점도가 10,000cps 이상으로 매우 높아 다량의 저굴절율을 갖는 희석제를 같이 사용해야 되기 때문에 형성된 시트나 필름의 굴절율은 1.50~1.60 정도로 저하되는 단점이 있다.

다른 타입인 바이페놀계, 페놀계 단량체는 희석력이 나쁘고, 반응성이 취약하여 공정상 적용이 어렵다는 문제점이 있다. 또한 형성된 시트나 필름의 내열성이 약하거나 내화학성이 약해서 용매등에 노출되었을 경우 성능의 저하기 일어난다. 대한민국 공개특허 10-2008-0107548에는 알릴 이서계 화합물을 사용하여 고굴절 모노머를 제조하는 방법이 알려져 있다. 이 방법으로 만들어지는 화합물의 굴절율은 1.64 이상으로 높은 특성을 나타내나 제조온도가 O℃에서 이루어져야 하는 점과 용매를 다량 사용해야 하므로 공업적으로 유용한 방법이라 할 수 없다.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 높은 굴절율을 갖고 경화시 내열성과 내화학성이 우수하고 장시간 열이나 빛에 노출시 열화가 적은 신규한 아크릴레이트 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한 본 발명은 상기 아크릴레이트 화합물을 제조하는 방법을 제공하며, 이를 이용한 광경화수지 및 광학필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 신나밀기와 플루오렌기를 함께 함유한 신규한 아크릴레이트 화합물의 제조방법 및 이를 포함하는 광경화수지에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고굴절 특성이 있으며 경화시 내열성과 내화학성이 우수한 아크릴레이트 화합물에 관한 것이다.
아크릴레이트 수지중 굴절율이 높은 것은 광학렌즈, 광학필름 및 광 미디어 등에 널리 사용되고 있다. 특히 광학필름은 액정디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 디스플레이 제품에 사용이 가능하고 그 중에서도 특히 굴절율이 높은 수지는 액정 디스플레이 후면에 배치되는 백라이트 유니트의 휘도를 향상시킬 목적으로 널리 사용되고 있다.
최근에는 플렉서블 디스플레이 기판 형성용 재료로서 굴절율이 높은 모노머에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 이들 연구는 유리섬유층에 광경화성 모노머를 함침하여 광 또는 열에 의해 경화시키는 방법에 관한 것으로, 이 용도로 사용될 수 있는 모노머는 유리섬유층과의 굴절율이 비슷하게 높아야 하며 또한 높은 열적 안정성과 우수한 내화학성 등을 요구하고 있다.

이하 본 발명을 상세히 설명한다.

본 발명의 아크릴레이트 화합물은 고굴절율을 갖는 신나밀기와 플루오렌기를 포함하고 있으며, 하기 화학식 1로 표시된다:

상기 화학식 1에서 R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C7)알킬 또는 (C5-C10)방향족 탄화수소이고; R3는 수소 또는 메틸이다.

본 발명에 기재된 ‘알킬’ 부분을 포함하는 치환체는 직쇄 또는 분쇄 형태를 모두 포함하고, ‘아릴’은 방향족 탄화수소로부터 유도된 것으로 각 고리에 적절하게는 5개 내지 10개, 바람직하게는 5 또는 6개의 고리원자를 포함하는 단일 또는 융합고리계를 포함하며, 다수개의 아릴이 단일결합으로 연결되어 있는 형태까지 포함한다. 상기 ‘알킬’의 구체적인 예로는 메틸, 에틸, i-프로필, n-프로필, i-부틸, n-부틸, t-부틸, n-펜틸, i-펜틸 및 n-헥실 등을 포함하지만, 이에 한정되지 않는다. 상기 ‘아릴’의 구체적인 예로는 시클로펜타-1,3-디엔, 페닐, 비페닐 및 나프틸 등이 포함되나, 이에 한정되지는 않는다.

본 발명에 따른 아크릴레이트 화합물은 보다 구체적으로 하기의 화합물 또는 이들의 혼합물로서 예시될 수 있으나, 본 발명을 한정하는 것은 아니다.

이하에서는, 신나밀기와 플루오렌기를 함께 함유한 신규한 아크릴레이트 화합물의 제조방법을 상세히 설명한다.

본 발명에 따른 고굴절율을 갖는 화학식 1로 표시되는 신규한 아크릴레이트 화합물은 2단계 합성법으로 얻을 수 있다. 우선 1단계 반응으로 하기 반응식 1에 기재된 바와 같이, 플루오렌에폭시 화합물에 2당량의 신나밀 알코올을 부가 반응시켜 해당 알코올 화합물을 얻을 수 있다.
[반응식 1]

삭제

상기 화학식 1에서 R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C7)알킬 또는 (C5-C10)방향족 탄화수소이다.

삭제

상기 1단계 반응으로 얻어진 물질에 2당량의 메타알릴클로라이드를 트리에틸아민 존재하에서 반응시켜 목적물을 얻을 수 있다. 이때 생성되는 아크릴 화합물이 중합되는 것을 방지하기 위해 부틸레이티드하이드록시톨루엔(BHT)등과 같은 중합금지제를 첨가해 주어야 한다.
[반응식 2]

삭제

상기 반응식 2에서 사용하는 상기 촉매는 염기 촉매이면 크게 제한은 없지만, 바람직하게는 트리에틸아민, 트리프로필 아민, 소디움아세테이트등을 사용하며, 더욱 바람직하게는 트리에틸아민을 사용한다. 또한, 상기 반응은 전술한 바와 같이 중합금지제를 추가로 첨가하는 것을 특징으로 하며, 상기 중합금지제는 부틸레이티드하이드록시톨루엔 (butylated hydroxy toluene), 하이드로퀴논(hydroquinone), 하이드로퀴논모노메틸에테르 (hydroquinone monomethyl ether), 터셔리부틸카테콜(tertbutylcatechol),파라-벤조퀴논(p-benzoquinone), 페노시아진(phenothiazine), 파이로갈롤(pyrogallol), 모노터셔리-부틸하이드로퀴논 (mono tertbutylhydroquinone) 및 디터셔리부틸하이드로퀴논 (di tert-butylhydroquinone)으로부터 1종 이상 선택되어 사용하는 것이 바람직하다. 또한 상기 중합금지제는 목적물 100 중량부에 대하여 0.01 내지 10 중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하기로는 0.01 내지 1.0 중량부를 사용한다.

상기 반응의 용제는 할로겐 탄화수소 화합물, 탄화수소 화합물, 방향족 탄화수소 화합물, 에테르계 화합물 등을 사용할 수 있으며, 예를 들어 헥산(Hexane), 톨루엔(Toluene), 사이클로헥산(Cyclohexane), 크실렌(Xylene) 및 다이에틸에테르 (diethyl ether)에서 1종 이상 선택되는 것을 사용한다.

삭제

본 발명에 따른 신나밀기와 플루오렌기를 함께 함유한 아크릴레이트 화합물은 화합물은 30 ℃에서 점도가 200 내지 600 cps이며, 굴절율이 1.64 내지 1.65의 범위를 나타낸다. 굴절율이 높은 반면 점도가 낮아 희석력이 우수하고 특히 무용제 타입의 UV 수지등이 요구되는 분야에 사용하기 적합하다. 본 물질이 굴절율이 높은 이유는 굴절율이 높은 신나밀기와 플로오렌기를 함께 함유하기 때문이며 더욱 특이한 것은 각각의 물질이 독립적으로 존재할 경우에는 고체로 존재하여 UV 경화수지로의 적용이 제한적이었지만 상기의 반응에 의해 새로운 물질이 되면서 점도가 낮아지는 효과가 있다는 것을 확인할 수 있었다.

본 물질의 또 다른 특징은 내화학성 및 내열성이 우수하다는 점이다. UV 경화수지에서 내화학성과 내열성은 매우 중요한 요소로 내화학성과 내열성이 적으면 유기용매나 열 등에 장기간 노출되었을 때 본래의 성능이 열화되기 때문에 사용이 제한된다. 본 발명의 물질이 포함된 UV 경화 수지에서 내화학성 및 내열성이 크게 개선되는 이유는 하기와 같이 아크릴 작용기에 의한 분자내 또는 분자간 Crosslinking 뿐만 아니라 신나밀기가 갖고 있는 2중 결합이 UV 경화에 참여하여 수지간 Crosslinking 밀도를 증진시킴에 따라 형성되는 수지의 내화학성과 내열성이 증가되는 것으로 추정된다. 특히 신나밀기의 이중결합은 페닐기의 이중결합과 Conjugation 되어 있어서 반응이 보다 용이하고 더구나 신나밀기는 잘 알려진 [2 + 2] Cycloaddition 반응등이 진행되어 라디칼에 의한 Crosslinking 이 다른 경우보다 더 촉진되는 것으로 여겨진다.

< Crosslinking 작용기 >

<신나밀기에 의한 [2 + 2] Cycloaddition 반응>

삭제

또한, 본 발명의 고굴절율을 갖는 신나밀기와 플루오렌기를 가지는 아크릴레이트를 포함하는 광경화형 수지 조성물은, 상술한 고굴절율을 갖는 아크릴레이트 수지와 분자 중에 1개 이상의 비닐 또는 아크릴레이트기 또는 메타아크릴레이트기를 갖는 반응성 단량체와 광중합 개시제를 포함하여 형성된다.

삭제

본 발명의 수지층을 형성하기 위한 감광성 수지 조성물은 메인 조성으로서의 상술한 단량체들 이외에, 이들을 광경화시키기 위한 광중합 개시제를 더 포함한다. 광중합 개시제로는 Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure OX01, Irgacure 242, 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 티옥산톤-4-술폰산, 벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, α,α'-디메톡시아세톡시 벤조페논, 2,2'-디메톡시-2-페틸아세토페논, p-메톡시아세토페논, 2-메틸[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-1-프로파논, 2-벤질-2-디에틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐케톤 등의 케톤류; 안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등의 퀴논류; 1,3,5-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로페닐)-s-트리아진, 페나실클로라이드, 트리브로모메틸페닐술폰, 트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 할로겐 화합물; 디-t-부틸 퍼옥사이드 등의 과산화물; 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드 등의 아실 포스핀 옥사이드류;가 사용될 수 있다.

본 발명에서 상기 광중합 개시제는 단독 또는 조합하여 사용될 수 있다.

상기 광중합 개시제의 함량은 조성물 100중량%를 기준으로 하여 0.05 내지 10중량%의 범위를 가질 수 있다. 상기 광중합 개시제의 함량이 0.5중량% 미만이면 감도가 충분하지 않아 아크릴계 중합 전환율이 60%이하로, 끈적한 단량체의 택성이 남을 수 있고, 형성하고자 하는 필름의 기본 광학물성을 가지기 어렵다. 또한, 상기 광중합 개시제의 함량이 10중량%를 초과하면 형성된 필름의 광투과성, 헤이즈, 옐로우 인덱스 등이 저하되기 쉽다.

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그리고, 본 발명의 감광성 수지 조성물의 점도를 조절하기 위하여 희석제를 추가로 포함할 수 있으며, 희석제의 함량은 중량 20~80%인 것이 바람직하다.

상기 희석제로는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트(PGMEA)등과 같은 비점이 높은 유기용매를 사용할 수도 있고 1 내지 6관능의 반응성 단량체를 사용할 수도 있다.

희석제의 선택은 목적하는 수지가 무용제 상태에서 제조되는 것이면 반응성 단량체를 선택해서 사용해야 하는데 이 경우 사용량은 경화 수지의 성능을 고려하여 결정해야 한다.

상기 반응성 단량체는, 1 관능기를 가진 단량체로써, 아크릴로일 몰포린, 벤질 아크릴레이트, 디사이클로펜타디엔 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고, 2 관능기를 가진 단량체로는, 네오펜틸 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되고, 3 관능기 이상을 가진 단량체로는, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 것이 바람직하다.

상기 광중합 개시제는, 벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 포스핀 옥사이드 계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군에서 선택되는것이 바람직하다.

이상과 같이 본 발명에 따른 신나밀기와 플루오렌기를 포함하는 아크릴레이트 화합물은 높은 굴절율을 가지면서 점도가 낮은 특성을 갖고 있어 희석력이 우수하여 그 응용분야가 넓으며 또한, 본 발명의 아크릴레이트 화합물은 경화 시 내화학성과 내열성이 우수하여 광경화수지 및 필름, 코팅 분야에 다양하게 사용할 수 있다.

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이하 실시예를 통하여 본 발명을 상세하게 설명한다. 그러나 이들 실시예는 예시적인 목적일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.

실시예

합성예 1. 신나밀 알코올의부가반응
4구 플라스크에 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스 페놀 디글리시딜 에테르 115g을 아세톤 500g에 완전히 녹였다. 신나밀 알코올 67g과 NaOH 5g을 메탄올 120g에 녹인 용액을 1시간에 걸쳐서 상온에서 천천히 투입하였다. 투입후 50℃에서 10시간 교반하여 반응하였다. 박막크로마토그래피로 반응 진행여부를 모니터링하였으며 반응 종결시간을 결정하였다. 반응 종료후 반응물을 얼음물에 넣고 교반하였으며 톨루엔으로 생성물을 추출하였다, 톨루엔층을 물로 여러 번 세척한 후 회전증발기로 톨루엔을 제거하였다. 잔존물을 컬럼크로마토그래피로 정제하여 약 87%의 수율로 생성물을 얻을 수 있었다.

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합성예 2. 메타크릴레이션 반응

4구 플라스크에 상기의 신나밀 알코올 부가 반응물 187g을 메틸렌클로라이드 용매 300g에 녹인 후 중합금지제로 BHT를 0.2g 첨가하였다. Methacryloyl chloride 90g을 1시간에 걸쳐 10℃에서 천천히 투입하였다. 투입후 상온에서 5시간 교반 반응하였다. 박막크로마토그래피로 반응 진행 여부를 모니터링하였으며 반응 완료 후 메틸렌클로라이드를 추가로 첨가 후 물로 3회 세척한 후 회전증발기로 용매를 제거하였다. 잔존물을 컬럼크로마토그래프로 정제하여 76%의 수율로 생성물을 얻을 수 있었다. 수득물은 담황색 액체로 점도는 30℃에서 720cps로 측정되었다.

합성예 3. 아크릴에이션반응

상기 실시예1에서 Methacryloyl chloride 대신 Acryloyl chloride를 사용한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 방법으로 제조하였다. 수율은 66%이고 수득물은 담황색 액체로 점도는 30℃에서 830cps로 측정되었다.

상기 합성예 2로부터 얻어진 화합물을 광개시제인 IC-184와 용매인 PGMEA 및 반응성 단량체를 사용하여 중합성 조성물을 준비하였다. 상기 중합성 조성물을 닥터블레이드를 이용하여 수지층의 두께가 30미크론이 되도록 두께를 조정한 후 5J/㎠의 광을 조사하여 필름을 얻었다.

이렇게 형성된 필름의 굴절율, 내열성 및 내화학성을 각각 측정하였다. 표 1에 그 측정결과를 나타내었다.

상기 실시예 1에서 합성예 3으로부터 얻어진 화합물을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.

상기 실시예 1에서 용매 대신 반응성 단량체 PETA를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

상기 실시예 1에서 용매 대신 반응성 단량체 TMPTA를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

상기 실시예 1에서 용매 대신 반응성 단량체 PETTA를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 수행하였다.

비교예 1
신나밀기를 포함하지 않은 시중의 플루오렌아크릴레이트(9,9-Bis(4-(2-hydroxy-3-acryloyloxypropoxy)phenyl)fluorene, Cas # 143182-97-2)를 사용한 것을 제외하고는 실시예 4의 방법으로 필름을 제조하여 실시예의 샘플과 비교 평가하였다. 그 결과를 표 1에 나타내었다.

필름의 성능 평가

	중합성 조성물					필름 성능
	아크릴 레이트 ①	개시제 ②	용매 ③	반응성 단량체 ④	비율	굴절율	내열성	내화학성
	아크릴 레이트 ①	개시제 ②	용매 ③	반응성 단량체 ④	①/ ② / ③ / ④	굴절율	내열성	내화학성
실시예1	A	IC-184	PGMEA	-	100/1/100/0	1.65	양호	O
실시예2	B	IC-184	PGMEA	-	100/1/100/0	1.63	양호	O
실시예3	A	IC-184	-	PETA	100/1/0/20	1.62	양호	O
실시예4	A	IC-184	-	TMPTA	100/1/0/20	1.63	양호	O
실시예5	A	IC-184	-	PETTA	100/1/0/20	1.61	양호	O
비교예1	C	IC-184	PGMEA	-	100/1/100/0	1.60	미흡	X

< 아크릴레이트 ① >

A :

B :

C :

< 반응성 단량체 ④ >

PETA : Pentaerythritol triacrylate

TMPTA : Trimethylolpropana triacrylate

PETTA : Pentaerythritol tetraacrylate

시험예 1 . 굴절율 평가
상기 실시예 1 내지 5 및 비교에 1에서 제조한 감광성 수지 조성물의 굴절율을 측정하였다.
이형제가 있는 PET Film에 닥터블레이드를 이용하여 두께 1mm가 되게 도포후 UV경화하여 필름을 형성 후 PET 필름을 제거하여 시편을 제조하였다. 이 시편을 ATAGO社 NAR-3T 측정기로 굴절율을 측정하였다.

측정 결과를 표1에 나타내었다.

시험예 2. 내열성 평가

스핀-코터(KDNS社의 K-Spin8)를 이용하여, 아무 것도 도포되지 않은 투명한 원형 유리기판(bare glass) 위에, 실시예 1 내지 3 및 비교예 1의 2 감광성 수지 조성물을 3μm의 두께로 도포하였다. 열판(hot-plate)을 이용하여 80℃에서 150초 동안 소프트-베이킹(soft-baking)을 하고, 노광기(Nikon社의 I10C)를 이용하여 60 mJ의 출력(power)으로 노광을 한 후, 현상기를 이용하여 현상온도 25℃, 현상시간 60초, 수세시간 60초 및 스핀건조(spin-dry)를 25초간 실시하여 현상하였다. 이 때, 현상액으로는 1 중량% 농도의 수산화칼륨 수용액을 사용하였다. 그 후, 230℃의 오븐(oven)에서 30분간 하드-베이킹(hard-baking)을 한 후, 색을 측정하고 다시 230℃의 오븐에서 2시간 동안 베이킹 후 색변화를 색도계(분광강도계, Otsuka Electronics사의 MCPD3000)를 이용하여 측정함으로써 내열성을 평가하고 그 결과를 표 1에 나타내었다.
<평가기준>
우수 : 230℃의 오븐에서 2시간 처리후 색변화가 △0.01 이하면 : 우수

미흡 : 230℃의 오븐에서 2시간 처리후 색변화가 △0.01 ~ △0.1 : 미흡

불량 : 230℃의 오븐에서 2시간 처리후 색변화가 △0.1 이상이면 : 불량

시험예 3. 내화학성 평가
내화학성 용매가 담긴 바이알(vial)을 60 ℃로 가열한 후, 상기 내열성 평가 시험에서와 동일한 방법으로 실시하여 제조한 시편을 넣었다. 　이때 내화학성 용매로는, N-메틸-2-피롤리돈(N-methly-2-pyrrolidone : NMP)과 EP6(회명산업사 제품, 테트라메틸암모늄 히드록사이드 포함)을 사용하였다. 시편을 상기 용매가 담긴 바이알에 10분간 연속적으로 담근 후 꺼내어 탈이온수(DIW)로 세척하였다. 　세척한 시편을 열풍순환식 건조로 안에서 230 ℃에 약 20분간 건조시켰다. 이런 과정을 총 3회 반복한 후, 내화학성 평가 전,후 시편의 색변화를 측정하였다.

<평가기준>

○ : 내화학성 평가 전,후의 색변화가 0.1% 미만일 때

△ : 내화학성 평가 전,후의 색변화가 0.1% 이상 1% 이하일 때

× : 내화학성 평가 전,후의 색변화가 1% 초과일 때

Claims

하기 화학식 1로 표시되는 화합물(A), 반응성 단량체(B), 및 광개시제를 함유하는 UV 경화성 조성물:
[화학식 1]

상기 화학식 1에서 R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C7)알킬, 또는 각 고리가 (C5-C10)인 불포화 단일고리, 불포화 융합고리 또는 이들이 단일결합으로 연결된 작용기이고; R3는 수소 또는 메틸임.
제 1항의 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하여 광중합으로 제조된 것으로 굴절율이 1.6 이상인 시트나 필름.
제 1항의 화학식 1로 표시되는 화합물이 유리섬유층에 함침되어 제조된 플렉서블 디스플레이 기판.