KR101535765B1 - 미스매치 셀 및 비트라인 피치를 가진 nand 메모리 어레이 - Google Patents
미스매치 셀 및 비트라인 피치를 가진 nand 메모리 어레이 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101535765B1 KR101535765B1 KR1020147007359A KR20147007359A KR101535765B1 KR 101535765 B1 KR101535765 B1 KR 101535765B1 KR 1020147007359 A KR1020147007359 A KR 1020147007359A KR 20147007359 A KR20147007359 A KR 20147007359A KR 101535765 B1 KR101535765 B1 KR 101535765B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sub
- pitch
- subset
- memory cells
- block
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 16
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 10
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 claims 3
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 14
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 55
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/10—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the top-view layout
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B53/00—Ferroelectric RAM [FeRAM] devices comprising ferroelectric memory capacitors
- H10B53/20—Ferroelectric RAM [FeRAM] devices comprising ferroelectric memory capacitors characterised by the three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/20—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels
- H10B43/23—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels
- H10B43/27—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels with source and drain on different levels, e.g. with sloping channels the channels comprising vertical portions, e.g. U-shaped channels
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/30—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region
- H10B43/35—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the memory core region with cell select transistors, e.g. NAND
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B43/00—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators
- H10B43/40—EEPROM devices comprising charge-trapping gate insulators characterised by the peripheral circuit region
Landscapes
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
Abstract
Description
도 1은 일부 실시예들에 따른 2-D 메모리 어레이를 도시한다.
도 2 및 3은 일부 실시예들에 따른 3-D 메모리 어레이를 도시한다.
도 4는 일부 실시예들에 따른 액세스 동작을 실행하는 방법의 흐름도를 도시한다.
도 5는 일부 실시예들에 따른 일례의 시스템을 도시한다.
Claims (28)
- NAND 메모리 어레이로서,
복수의 워드라인들;
개별 액티브 영역 섹션들 및 개별 워드라인들의 오버랩에 배치된 메모리 셀들을 가진 상기 복수의 워드라인들에 직각으로 배열된 복수의 액티브 영역 섹션들 - 상기 메모리 셀들은 상기 복수의 워드라인들의 방향으로 제1 피치를 가짐 - ; 및
상기 제1 피치보다 더 작은 제2 피치를 가지고, 상기 복수의 워드라인들에 직각으로 배열된 복수의 비트라인들
을 포함하는 NAND 메모리 어레이. - 제1항에 있어서,
상기 제2 피치는 상기 제1 피치의 1/n이며, n은 1보다 큰 정수인 NAND 메모리 어레이. - 제1항에 있어서,
제1 서브-블록의 메모리 셀들; 및
상기 제1 서브-블록의 메모리 셀들에 인접한 제2 서브-블록의 메모리 셀들을 더 포함하고,
상기 제1 서브-블록의 메모리 셀들 및 상기 제2 서브-블록의 메모리 셀들은 서로 동시에 구동되도록 구성된 NAND 메모리 어레이. - 제3항에 있어서,
상기 제1 서브-블록의 제1 복수의 NAND 스트링들; 및
상기 제2 서브-블록의 제2 복수의 NAND 스트링들을 더 포함하고,
상기 제2 복수의 NAND 스트링들은 상기 제1 복수의 NAND 스트링들에 대하여 오프셋되는 NAND 메모리 어레이. - 제4항에 있어서,
상기 제1 복수의 NAND 스트링들은 상기 복수의 비트라인들의 제1 서브세트에 대응하고, 상기 제2 복수의 NAND 스트링들은 상기 복수의 비트라인들의 제2 서브세트에 대응하며, 상기 제1 서브세트 및 상기 제2 서브세트는 비-오버랩(non-overlapping) 서브세트들인 NAND 메모리 어레이. - 제5항에 있어서,
상기 제1 서브세트는 상기 제2 서브세트와 인터리빙되는(interleaved) NAND 메모리 어레이. - 제3항에 있어서,
제1 선택 게이트 소스 및 제1 선택 게이트 드레인 - 상기 제1 서브-블록은 상기 제1 선택 게이트 소스 및 상기 제1 선택 게이트 드레인 간의 메모리 셀들을 포함함 - ; 및
제2 선택 게이트 소스 및 제2 선택 게이트 드레인을 더 포함하고, 상기 제2 서브-블록은 상기 제2 선택 게이트 소스 및 상기 제2 선택 게이트 드레인 간의 메모리 셀들을 포함하는 NAND 메모리 어레이. - 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 NAND 메모리 어레이는 2차원 NAND 메모리 어레이를 포함하는 NAND 메모리 어레이. - 제1항에 있어서,
상기 제1 피치 대 상기 제2 피치의 비율은 n:1이고, n은 1보다 큰 정수이며, 상기 NAND 메모리 어레이는 복수의 메모리 블록들을 더 포함하고, 개별 메모리 블록들은 n개의 서브-블록들을 가진 NAND 메모리 어레이. - 3차원(3-D) 메모리 어레이로서,
복수의 워드라인들;
복수의 액티브 영역 필러들;
상기 복수의 액티브 영역 필러들 및 상기 복수의 워드라인들의 교차 지점에 배치된 메모리 셀들 - 상기 메모리 셀들은 상기 복수의 워드라인들의 방향으로 제1 피치를 가짐 - ; 및
상기 제1 피치보다 더 작은 제2 피치를 가지고, 상기 복수의 워드라인들에 직각으로 배열된 복수의 비트라인들
을 포함하는 3-D 메모리 어레이. - 제10항에 있어서,
상기 제2 피치는 상기 제1 피치의 1/n이며, n은 1보다 큰 정수인 3-D 메모리 어레이. - 제10항에 있어서,
제1 선택 게이트 소스 및 선택 게이트 드레인 간의 전기 경로들에 배치된 제1 서브-블록의 메모리 셀들; 및
제2 선택 게이트 소스 및 선택 게이트 드레인 간의 전기 경로들에 배치된 제2 서브-블록의 메모리 셀들
을 더 포함하는 3-D 메모리 어레이. - 제12항에 있어서,
상기 제1 및 제2 서브-블록들은 동시에 구동되도록 구성된 3-D 메모리 어레이. - 제12항에 있어서,
상기 제1 서브-블록의 메모리 셀들의 제1 복수의 NAND 스트링들; 및
상기 제2 서브-블록의 메모리 셀들의 제2 복수의 NAND 스트링들을 더 포함하고,
상기 제1 복수의 NAND 스트링들은 상기 제2 복수의 NAND 스트링들에 대하여 오프셋되는 3-D 메모리 어레이. - 제14항에 있어서,
상기 제1 복수의 NAND 스트링들은 상기 복수의 액티브 영역 필러들의 제1 쌍들의 액티브 영역 필러들에 배치되고;
상기 제2 복수의 NAND 스트링들은 상기 복수의 액티브 영역 필러들의 제2 쌍들의 액티브 영역 필러들에 배치되는 3-D 메모리 어레이. - 제14항에 있어서,
상기 제1 복수의 NAND 스트링들은 상기 복수의 비트라인들의 제1 서브세트에 대응하고, 상기 제2 복수의 NAND 스트링들은 상기 복수의 비트라인들의 제2 서브세트에 대응하며, 상기 제1 서브세트 및 상기 제2 서브세트는 비-오버랩 서브세트들인 3-D 메모리 어레이. - 제16항에 있어서,
상기 제1 서브세트는 상기 제2 서브세트와 인터리빙되는 3-D 메모리 어레이. - 제10항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 3-D 메모리 어레이는 파이프형 비트 코스트 스케일러블 메모리 어레이(a pipe-shaped bit cost scalable memory array)를 포함하는 3-D 메모리 어레이. - 제10항에 있어서,
상기 제1 피치 대 상기 제2 피치의 비율은 n:1이고, n은 1보다 큰 정수이며, NAND 메모리 어레이는 복수의 메모리 블록들을 더 포함하고, 개별 메모리 블록들은 n개의 서브-블록들을 가진 3-D 메모리 어레이. - 비휘발성 스토리지 칩으로서,
패키지;
입력/출력 커넥션들; 및
상기 패키지 내에 배치되고 상기 입력/출력 커넥션들에 전기적으로 연결된 제10항의 3-D 메모리 어레이
를 포함하는 비휘발성 스토리지 칩. - 이동 통신 장치로서,
시스템을 무선 네트워크에 통신상 연결하도록 구성된 하나의 또는 그 이상의 안테나들을 가진 통신 인터페이스;
상기 이동 통신 장치에 대해 제거할 수 있게 또는 영구적으로 연결된 제20항의 비휘발성 스토리지 칩; 및
상기 비휘발성 스토리지 칩의 액세스 동작들을 제어하도록 구성된 메모리 제어기
를 포함하는 이동 통신 장치. - 메모리 어레이의 동작 방법으로서,
메모리 어레이의 메모리 셀들의 블록의 제1 및 제2 서브-블록들을 동시에 구동하는 단계;
상기 제1 서브-블록의 비트라인들의 제1 서브세트에 대응하는 제1 복수의 NAND 스트링들 상의 메모리 셀들에 액세스하는 단계; 및
상기 제2 서브-블록의 비트라인들의 제2 서브세트에 대응하는 제2 복수의 NAND 스트링들 상의 메모리 셀들에 액세스하는 단계를 포함하고, 상기 제1 및 제2 서브-블록들은 인접하고, 상기 제1 복수의 NAND 스트링들은 상기 제2 복수의 NAND 스트링들에 대하여 오프셋되고, 상기 메모리 셀들은 비트라인들의 상기 제1 서브세트 및 비트라인들의 상기 제2 서브세트에 직각으로 배열된 복수의 워드라인들의 방향으로 제1 피치를 갖고, 비트라인들의 상기 제1 서브세트 및 비트라인들의 상기 제2 서브세트는 상기 제1 피치보다 작은 피치를 갖는 메모리 어레이 동작 방법. - 삭제
- 삭제
- 제22항에 있어서,
상기 제1 복수의 NAND 스트링들 상의 메모리 셀들에 액세스하는 단계 및 상기 제2 복수의 NAND 스트링들 상의 메모리 셀들에 액세스하는 단계는
상기 제1 및 제2 서브세트의 비트라인들을 동시에 활성화하는 단계를 포함하는 메모리 어레이 동작 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US2011/052846 WO2013043182A1 (en) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | Nand memory array with mismatched cell and bitline pitch |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140053352A KR20140053352A (ko) | 2014-05-07 |
KR101535765B1 true KR101535765B1 (ko) | 2015-07-09 |
Family
ID=47914714
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020147007359A KR101535765B1 (ko) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | 미스매치 셀 및 비트라인 피치를 가진 nand 메모리 어레이 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9208881B2 (ko) |
JP (1) | JP5886434B2 (ko) |
KR (1) | KR101535765B1 (ko) |
WO (1) | WO2013043182A1 (ko) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9208881B2 (en) * | 2011-09-22 | 2015-12-08 | Intel Corporation | NAND memory array with mismatched cell and bitline pitch |
KR20140025632A (ko) * | 2012-08-21 | 2014-03-05 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 제조 방법 |
US9070442B2 (en) * | 2013-08-29 | 2015-06-30 | Micron Technology, Inc. | Memory devices with local and global devices at substantially the same level above stacked tiers of memory cells and methods |
US9418752B2 (en) | 2014-03-27 | 2016-08-16 | Intel Corporation | Ramping inhibit voltage during memory programming |
US9595339B2 (en) | 2014-10-20 | 2017-03-14 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for reducing read disturb |
US9460792B2 (en) | 2014-10-20 | 2016-10-04 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for segmented SGS lines |
US10310734B2 (en) | 2014-12-27 | 2019-06-04 | Intel Corporation | Tier mode for access operations to 3D memory |
US9508731B2 (en) | 2015-03-24 | 2016-11-29 | Intel Corporation | Pillar arrangement in NAND memory |
KR102475454B1 (ko) * | 2016-01-08 | 2022-12-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조방법 |
US10153196B1 (en) * | 2017-08-24 | 2018-12-11 | Micron Technology, Inc. | Arrays of cross-point memory structures |
US11195847B2 (en) * | 2019-05-15 | 2021-12-07 | Macronix International Co., Ltd. | Memory device and method for forming the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003007868A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-01-10 | Fujio Masuoka | 半導体記憶装置 |
JP2010102755A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Toshiba Corp | 3次元積層型不揮発性半導体メモリ |
JP2011028833A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリー装置のチャンネルをプリチャージする方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002158312A (ja) | 2000-11-17 | 2002-05-31 | Oki Electric Ind Co Ltd | 3次元実装用半導体パッケージ、その製造方法、および半導体装置 |
US6941131B2 (en) * | 2001-03-23 | 2005-09-06 | Ericsson Inc. | Incoming call handling method for mobile communications device incorporating mobile assisted messaging on demand |
JP2004134702A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-04-30 | Renesas Technology Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
US7709334B2 (en) * | 2005-12-09 | 2010-05-04 | Macronix International Co., Ltd. | Stacked non-volatile memory device and methods for fabricating the same |
JP4822841B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-11-24 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
US7633828B2 (en) * | 2006-07-31 | 2009-12-15 | Sandisk 3D Llc | Hierarchical bit line bias bus for block selectable memory array |
JP4950702B2 (ja) * | 2007-03-01 | 2012-06-13 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置の製造方法 |
US8644046B2 (en) | 2009-02-10 | 2014-02-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Non-volatile memory devices including vertical NAND channels and methods of forming the same |
JP5259481B2 (ja) | 2009-04-14 | 2013-08-07 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2011003642A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-01-06 | Toshiba Corp | 欠陥検査方法 |
JP2011171698A (ja) | 2010-01-25 | 2011-09-01 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2013004778A (ja) | 2011-06-17 | 2013-01-07 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US9208881B2 (en) * | 2011-09-22 | 2015-12-08 | Intel Corporation | NAND memory array with mismatched cell and bitline pitch |
-
2011
- 2011-09-22 US US13/993,312 patent/US9208881B2/en active Active
- 2011-09-22 KR KR1020147007359A patent/KR101535765B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-22 JP JP2014531772A patent/JP5886434B2/ja active Active
- 2011-09-22 WO PCT/US2011/052846 patent/WO2013043182A1/en active Application Filing
-
2015
- 2015-11-03 US US14/931,784 patent/US9659952B2/en active Active
-
2017
- 2017-04-28 US US15/582,220 patent/US10090313B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003007868A (ja) * | 2001-06-22 | 2003-01-10 | Fujio Masuoka | 半導体記憶装置 |
JP2010102755A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | Toshiba Corp | 3次元積層型不揮発性半導体メモリ |
JP2011028833A (ja) * | 2009-07-22 | 2011-02-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体メモリー装置のチャンネルをプリチャージする方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10090313B2 (en) | 2018-10-02 |
US20160118393A1 (en) | 2016-04-28 |
US9208881B2 (en) | 2015-12-08 |
US20170236832A1 (en) | 2017-08-17 |
WO2013043182A1 (en) | 2013-03-28 |
US20130258779A1 (en) | 2013-10-03 |
JP2014528175A (ja) | 2014-10-23 |
JP5886434B2 (ja) | 2016-03-16 |
US9659952B2 (en) | 2017-05-23 |
KR20140053352A (ko) | 2014-05-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101535765B1 (ko) | 미스매치 셀 및 비트라인 피치를 가진 nand 메모리 어레이 | |
US12073907B2 (en) | Interconnections for 3D memory | |
US9620229B2 (en) | Three dimensional memory control circuitry | |
US8027197B2 (en) | Nonvolatile memory device | |
JP6760628B2 (ja) | Nandメモリにおけるピラー配置 | |
US8508999B2 (en) | Vertical NAND memory | |
KR101582059B1 (ko) | 수직형 nand 메모리 | |
CN105938836A (zh) | 半导体器件 | |
US20160379714A1 (en) | Memory system, method of programming the memory system, and method of testing the memory system | |
JP2016139808A (ja) | セルピッチおよびビットラインピッチが整合しないnandメモリアレイ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0105 | International application |
Patent event date: 20140320 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20140320 Comment text: Request for Examination of Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20150130 Patent event code: PE09021S01D |
|
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20150414 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20150703 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20150703 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180628 Year of fee payment: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180628 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200630 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210629 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220630 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20230628 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20231205 Start annual number: 10 End annual number: 10 |