JP2014528175A - セルピッチおよびビットラインピッチが整合しないnandメモリアレイ - Google Patents

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Abstract

本開示の実施形態は、セルおよびビットラインピッチが整合しないNANDメモリアレイに関する方法、装置、およびシステム構成に関する。他の実施形態も記載され、請求されてよい。【選択図】図1

Description

本開示の実施形態は概して集積回路分野に関し、より詳しくは、セルおよびビットラインピッチが整合しないNANDメモリアレイに関する。
NANDメモリアレイでは、1ページの全てのメモリセルが同時にプログラミングされ、読み出される。従って原理としては、ページサイズが大きくなると、プログラミング/読み出しの並列処理の程度が大きくなる。これにより、プログラミング/読み出し処理自身が、より大きなページサイズの結果大きく劣化しなければ、より高いデータスループットが生じる。歴史的にみると、益々高いデータスループットをサポートするために、NANDページサイズは、世代を経るごとに徐々に増加してきている(一般的にプログラミング/読み出しタイミングは劣化してきているが)。セルピッチが、世代間でスケールダウンしたことにより、ページサイズの増加が可能になっている。
ページは、アレイプレーンのうちの1つのワードライン沿いの、メモリセルの全てを含む(オール・ビットライン(ABL)アーキテクチャでは)、または、メモリセルの半分を含む(シールドされたビットライン(SBL)アーキテクチャでは)。ダイのサイズ制限によって、ワードラインの絶対的な長さ(つまり、アレイプレーンの幅)が制限される。これにより、1つのワードライン沿いに配置することができるメモリセルの数に上限が設定される。したがって、ビットラインおよびセルピッチが整合する場合には、サポートすることができるページサイズは、所与のセルピッチについて制限される。
NANDにおいては、ダイのサイズ制限の範囲内でページサイズを増加させることができるセルのスケーリングの結果セルピッチが世代を経るごとに徐々に低減してきたので、ページサイズ制限は、これまで重要な問題ではなかった。しかし、従来のNANDスケーリングが終焉を迎え、将来のNANDスケーリングは、三次元(3−D)NANDメモリアレイによって達成されることが予想される。
3D NANDメモリアレイでは、ワードラインの方向のセルサイズは、セルチャネルの厚み(ピラーまたはラインの形態)、ゲート積層体の厚み(トンネル酸化物、電荷トラップ層、およびブロッキング酸化物(blocking oxide))、および、ゲート電極の厚みによって制限される。この結果、ワードラインの方向のセルピッチは、従来の(つまり2D NANDメモリアレイ)よりも顕著に大きくなる。密度面では、より大きいセルピッチは、複数のセルの層同士が積層されていることにより補償することができるが、ページサイズは、より大きいセルピッチによって、全ての他の条件(ダイアーキテクチャ、パッケージサイズ等)が等しい場合、小さくならざるを得ない。したがって、3D NANDメモリアレイのデータスループットが、2D NANDメモリアレイのスループットよりもかなり下がり、競争力に制限を課す。
実施形態は、以下の添付図面を参照して、以下の詳細な説明によってよりよく理解される。本記載の説明をしやすくするために、同様の参照番号を同様の構造的要素に付す。実施形態は、添付図面に、例として示され、おける限定としては示されていない。
幾つかの実施形態における2Dメモリアレイを示す。
幾つかの実施形態における3Dメモリアレイを示す。 幾つかの実施形態における3Dメモリアレイを示す。
幾つかの実施形態におけるアクセス処理を実施する方法のフローチャートを示す。
幾つかの実施形態におけるシステムの例を示す。
以下の詳細な記載では、全体にわたり同様の参照番号が同様の部材を示す、その一部をなす添付図面が参照され、図面は、実施可能な実施形態の例を示す。本開示の範囲を逸脱せずに、他の実施形態を利用して、構造上または論理的な変更を行うことができる。従って、以下の詳細な記載は、限定的に受け取られるべきではなく、実施形態の範囲は、添付請求項およびその均等物によって定義される。
様々な処理が、請求されている主題の理解を最大限助けるために、複数の別個のアクションまたは処理として記載される場合がある。しかし、記載の順序は、これら処理が必ずしも順序に依存していることを示唆していると解釈されるべきではない。特に、これら処理は、提示順序で実行されない場合もある。記載される処理は、記載される実施形態とは異なる順序で実行されてよい。様々なさらなる処理を実行することができ、および/または、記載される処理を、さらなる実施形態では省くこともできる。
本開示においては、「A及び/またはB」という言い回しは、(A)、(B)、または(A及びB)を意味している。本開示においては、「A、B、及び/またはC」という言い回しは、(A)、(B)、(C)、(A及びB)、(A及びC)、(B及びC)、または(A、B、及びC)を意味している。
記載は、「1つの実施形態において」または「実施形態において」という言い回しを利用する場合があるが、これらは、それぞれ、同じまたは異なる実施形態の1以上のことを指している。さらに、本開示の実施形態に関して利用される「備える」「含む」「有する」といった用語は、同義語を意図している。
図1は、幾つかの実施形態におけるメモリアレイ100の概略を示す。メモリアレイ100は、互いに直交するよう配置されているワードライン104およびアクティブエリアセクション(たとえばアクティブエリアストリップ108)を有する2D NANDメモリアレイであってよく、ワードライン104が、メモリアレイ100の水平方向に延び、アクティブエリアストリップ108が、メモリアレイ100の垂直方向に延びる。斜視図に基づく用語(例えば垂直および水平)は、説明をし易くする目的で利用されてよい。これら用語は、本開示の実施形態の実装例を制限するものではない。
メモリセル112は、アクティブエリアストリップ108とワードライン104との重なり部分に配置されている。メモリセル112は、本明細書では、ワードライン104の方向の隣接するメモリセルの間の距離であってよい、特徴的なセルピッチ(CP)によって互いに分離されてよい。メモリアレイ100はさらに、ワードライン104に対して直交に配置されているビットライン116を含んでよい。ビットライン116は、本明細書では、ワードライン104の方向の隣接するビットラインの間の距離であってよい、特徴的なビットラインピッチ(BP)によって互いに分離されてよい。後述するように、開示の様々な実施形態は、各アクセス(たとえばプログラムまたは読み出し)処理において、メモリセル112からより多く選択させるために、セルピッチからビットラインピッチを切り離す(たとえば、ビットラインピッチをセルピッチより小さくする)。
メモリアレイ100はさらに、メモリセル112の様々なセットにアクセスするよう選択的に制御されうるワードライン104に平行に配置された複数の送電線を含んでよい。送電線は、選択ゲートドレイン(SGD)(例えばSGD_n+1 120、SGD_n 124aおよび124b、並びにSGD_n-1 128)、選択ゲートソース(SGS)132aおよび132b、並びに、共通のソースライン(CSL)136を含んでよい。電気コンタクト140は、ビットライン116を、アクティブエリアストリップ108に電気的に連結させる役割を果たしてよい。
メモリアレイ100は、ビットラインの第1のサブセットに対応している、NANDストリング148aをもつ第1のサブブロック144aを含んでよい。メモリアレイ100は、さらに、ビットラインの第2のサブセットに対応しているNANDストリング148bを有する第2のサブブロック144bを含んでよい。
様々な実施形態では、メモリアレイ100の各ブロックは、セルピッチ対ビットラインピッチの比率に基づいている複数のサブブロックを含んでよい。例えば、ブロック144は、セルピッチ対ビットラインピッチの比率が2:1であることによって、2つのサブブロックを含んでいる。一般的なセルピッチ対ビットラインピッチの比率n:1においては、各ブロックにn個のサブブロックが存在していてよい。
ビットラインの第1および第2のサブセットは、重ならないサブセットであってよい。幾つかの実施形態では、ビットラインの第1のサブセットが、第2のサブセットとインタリーブされてよい。例えば、第1のサブセットは、偶数のビットライン(例えば第2のビットライン、第4のビットライン、第6のビットライン等)を含んでよく、第2のサブセットは、奇数のビットライン(例えば第1のビットライン、第3のビットライン、第5のビットライン等)を含んでよい。ビットラインのナンバリングは、図1のページの左側から始められてよい。
NANDストリングは、所与のアクティブエリアストリップ沿いのSGDとSGSとの間にメモリセルを含んでよい。このことからわかるように、NANDストリング148aとNANDストリング148bとは、互いに対してオフセットされていてよい。この実施形態では、各ビットラインが、1つおきにサブブロックに電気的に連結されていてよい。従って例えば、第1のビットラインが、サブブロック144aに電気的に連結されていなくてよく、サブブロック144bに電気的に連結されてよく、SGD_n-1 128の下のサブブロックに電気的に連結されていなくてよい、等々である。これにより、サブブロック144aとサブブロック144bとを同時に駆動することができるようになり、様々なアクセス処理を実行することができる。
ここで利用される同時処理は、完全に互いに同時である(concurrent)処理であってよい(例えば、同時に開始および終了する、または互いに部分的に同時の部分があってよい(例えば異なる開始および/または終了時点を持っていてもよい))。
図示されているように、ビットラインピッチを、セルピッチの半分に減らして、隣接するNANDストリング同士をオフセットすることにより、ビットラインピッチおよびセルピッチが同じである従来のメモリアレイに対するページサイズを効果的に二倍にすることができる。この文脈における1ページとは、一対のワードライン沿いの全てのメモリセル(ABLアーキテクチャの)のことであってよく、第1のサブブロック(例えばサブブロック144a)から第1のワードラインを、および、第2のサブブロック(例えばサブブロック144b)から第2のワードラインを持っていてよい。ワードラインの対は、アレイのエッジで互いに電気的に連結されていてよく、1つのドライバによって駆動されてもよい。n個のサブブロックを有する実施形態では、1ページが、n個のワードライン沿いのメモリセル全て(ABLアーキテクチャ内の)を、サブブロック1つから1つずつ、含んでよく、n個のワードラインが、アレイのエッジで互いに電気的に連結されていてよく、1つのドライバによって駆動されてよい。
サブブロック144aを、サブブロック144bと同時に動作させることにより、ブロック144に、従来のメモリブロックのものの二倍のサイズを効果的に提供することができる。ブロック144内のページ数は、従来のメモリブロックと同じであってよい(2つのサブブロックのワードラインを共に駆動することができるので)が、2倍の密度のビットライン116の結果、ページサイズが二倍になる。ビットライン116の数が二倍になり、ページサイズが二倍になると、メモリアレイ100に連結されたセンス回路も二倍にすることが望ましい。
セルおよびビットラインピッチを整合させないことの利点は、セルピッチが、ある世代についての処理能力でありうる、またはある世代についての処理能力に近くてよい、2DのNANDメモリアレイでは、セルピッチがセル特徴部(cell characteristics)によって制限されており、処理能力よりもずっと大きい可能性がある3D NANDメモリアレイよりも小さいことが想定される。
P−BiCS(pipe-shaped bit cost scalable)メモリアレイ等の3D NANDメモリアレイにおける、ワードラインの方向のセルピッチは、セルピッチ = ピラーの直径 + 2 × ゲート誘電体積層体の厚み+ セル間の制御ゲート (例えばワードライン)の厚みとして表すことができる。
ピラーの直径が20ナノメートル(nm)であり、ゲート誘電積層体の厚みが25ナノメートル(nm)であり、セル間の制御ゲートの厚みが20nmである、と楽観的に仮定した場合においては、セルピッチが約90nmであり、これは、約20nmから29nmのハーフピッチの現在の処理能力より格段に大きい。セルの均一性、限界寸法、およびレジストレーション(たとえばアライメントの許容値)マージンに対するエッジ・プロファイルの影響を考えると、3D NANDメモリアレイのセルピッチは、上述した推定値よりもずっと大きい場合になることもあるだろう。従って、セルピッチより小さいピッチでビットラインをパターニングすることは、3D NANDメモリアレイにおいて非常に現実的と思われる。
図2および図3は、幾つかの実施形態におけるメモリアレイ200の斜視図および上面図をそれぞれ示している。メモリアレイ200はP−BiCSアレイであってよいが、他の実施形態は、他のタイプの3D NANDメモリアレイを含んでよい。
メモリアレイ200は、ワードライン204およびアクティブエリアセクション(例えば、互いに直交するよう配置されたアクティブエリアピラー208)を含み、ワードライン204がメモリアレイ100のy方向に延び、アクティブエリアピラー208が、メモリアレイ200のz方向に延びる。メモリアレイ200は、アクティブエリアピラー208とワードライン204との交差点に配置されたメモリセル212を含んでよい。
メモリアレイ200は、さらに、メモリアレイ200の上に配置され、メモリアレイ200のx方向に延びるビットライン216を含んでよい。したがって、ビットライン216は、ワードライン204およびアクティブエリアピラー208の両方に対して直交するよう配置されてよい。
本実施形態でも、図1に関して上述した実施形態と同様に、ビットラインピッチが、例えばセルピッチから切り離されていてよい、例えば、セルピッチより小さくてよい。
メモリアレイ200も、メモリセルの様々なセット212にアクセスするよう選択的に制御可能なワードライン204に平行に配置された送電線を含んでよい。送電線は、SGD(例えばSGD_n-2 220, SGD_n-1 224,SGD_n 228,およびSGD_n+1 232; SGS 234a, 234b, 234c, 234d, および 234e)、およびCSL 236を含んでよい。電気コンタクト240は、ビットライン216を、アクティブエリアピラー208に電気的に連結させる役割を果たしてよい。
メモリアレイ200は、ビットラインの第1のサブセット216に対応しているNANDストリング248aを有する第1のサブブロック244a、例えば、偶数のビットライン(例えば第2のビットライン、第4のビットライン、第6のビットライン等)を含んでよい。ビットラインの数は、図3に関するものであってよく、ナンバリングは、ページに左側から始められてよい。メモリアレイ200はさらに、ビットラインの第2のサブセットに対応しているNANDストリング248bを有する第2のサブブロック244b、例えば、奇数のビットライン(例えば第1のビットライン、第3のビットライン、第5のビットライン等)を含んでよい。第1および第2のサブセットは、重ならないサブセットであってよく、互いにインタリーブされてよい。
本実施形態では、NANDストリングが、アクティブエリアピラーの任意の対の上のSGDとSGSとの間にメモリセルを含んでよい。たとえばNANDストリング248aは、SGS234cと、基礎となる基板252との間に配置されたアクティブエリアピラーのメモリセルと、基板252とSGD_n228との間のアクティブエリアピラーとを含んでよい。これらのアクティブエリアピラーは、基板252内の電気コネクタ256によって、互いに電気的に連結されてよい。電気コネクタ256は、パイプ接続(PC)すと称される場合がある。したがって、1つのNANDストリングが、図2に示すような8個のメモリセルを含むこともある。
NANDストリング248aと248bとは、互いに対してオフセットされていてよい。従って、メモリアレイ100同様に、メモリアレイ200は、様々なアクセス処理を実行するために、サブブロック244aおよび244bを同時に駆動させることができる。
上述した実施形態は、セルピッチの半分のビットラインピッチを記載しているが、他の実施形態では、他の整合しないビットラインおよびセルピッチを有していてもよい。様々な実施形態は、セルピッチ対ビットラインピッチの比率がいずれであってもよい。例えば、ビットラインピッチは、セルピッチの1/nであってよい(ここでnは、1より大きい整数である)。
上述した実施形態は、バイナリ(つまり2:1)のセルピッチ対ビットラインピッチを記載しているが、他の実施形態は、バイナリではないセルピッチ対ビットラインピッチを有していてもよい。バイナリのデジタルシステムでは、バイナリページサイズ(たとえば、ABLアーキテクチャのビットラインの総数)を有することで、アドレス指定、I/Oタイミング等を促すと好適であると思われる。セルピッチ対ビットラインピッチの比率もバイナリである場合には、こうすることで、バイナリ数のセルがすべてビットラインに結合されるだろう。しかし、バイナリページサイズを確保するためには、バイナリ数のビットラインを維持することで十分と思われるので、メモリセルの数が僅かに供給過多である、バイナリではないセルピッチ対ビットラインピッチを有する実施形態を利用することもできる。
例えば、16ビットの所望のページサイズを考える。バイナリ2:1のセルピッチ対ビットラインピッチの比率の代わりに、1つ置きのサブブロックにビットラインを連結させた、8セル幅のアレイを利用することもできる。3:1のセルピッチ対ビットラインピッチの比率を実装するために、2つ置きのサブブロック(3つのサブブロックごとのに1つ)に対してビットラインを連結させた、5セル幅のアレイ(5>16/3)を利用してもよい。この場合には、アレイのエッジにどのビットラインにも連結されないNANDストリングが幾つか存在する場合がある。しかし、現実的なページサイズが8キロバイト(kB)または16kBであることを考えると、無駄なセルは小さなオーバヘッドである。
ビットラインおよびセルピッチが整合しない場合には、技術がサポートすることができるページサイズは、ビットラインピッチによってのみ制限され、セルピッチによっては制限されない。3D NANDメモリアレイのビットライン構成には高いアスペクト比のエッチングは不要なので、これらアレイ内のビットラインピッチを、2D NANDメモリアレイのビットラインピッチに整合させることができるだろう。したがって、3D NANDメモリアレイのページサイズは、2D NANDメモリアレイに類似したものであってよく、この際に、3Dのメモリアレイに関連したより大きいセルピッチに対応できるように、サイズを小さくする必要がない。3Dメモリアレイのセルピッチがこれ以上小さくならない場合であっても、より高度なリソグラフィーによってビットラインピッチをスケーリングすることができる場合には、ページサイズをさらにスケーリングすることができる。
図4は、幾つかの実施形態における、メモリアレイによりアクセス処理を実施する方法400を示す。方法400は、メモリアレイ100またはメモリアレイ200とともに利用されてよい。方法400は、ブロック404で、第1のサブブロックおよび第2のサブブロックを同時に駆動する段階を含んでよい。第1のサブブロックおよび第2のサブブロックは物理的、および/または、電気的に互いに隣り合っていてよく、メモリセルの1つのブロックを表していてよい。2つのサブブロックは、適切な選択ゲートにエネルギー供給することで同時に駆動されてよい。例えば、メモリアレイ100に関しては、サブブロック144aおよびサブブロック144bが、SGD_n 124aおよびSGD_n 124b、並びに、SGS 132aおよび132bにエネルギー供給することで、同時に駆動されてよい。メモリアレイ200に関しては、サブブロック244aおよびサブブロック244bが、SGD_n 228並びにSGS 234cおよび234dにエネルギー供給することで、同時に駆動されてよい。
方法400は、ブロック408で、第1のサブブロックのビットラインの第1のサブセット(例えば偶数のビットライン)のメモリセルへのアクセスを続けてよい。メモリアレイ100に関しては、ビットラインの第1のサブセット、および、サブブロック144aの1以上のワードラインにエネルギー供給することによって、サブブロック144aのメモリセルにアクセスしてよい。メモリアレイ200に関しては、ビットラインの第1のサブセット、および、サブブロック244bの選択されたワードラインにエネルギー供給することで、サブブロック244bの上のメモリセルにアクセスしてよい。
方法400はさらに、ブロック412で、第2のサブブロックのビットラインの第2のサブセット(例えば奇数のビットライン)の上のメモリセルへのアクセスを含んでよい。メモリアレイ100に関しては、ビットラインの第2のサブセット、および、サブブロック144bの1以上のワードラインにエネルギー供給することによって、サブブロック144bのメモリセルにアクセスしてよい。メモリアレイ200に関しては、ビットラインの第2のサブセット、および、サブブロック244aの選択されたワードラインにエネルギー供給することによって、サブブロック244bのメモリセルにアクセスしてよい。様々な実施形態では、ブロック408と412とが、互いと同時に、およびブロック404と同時に実行されてよい。
上述した実施形態は、ビットラインの2つのサブセットに関する方法を記載しているが、他の実施形態は、これよりも多い数のサブセットを含んでもよい(例えば、セルピッチ対ビットラインピッチの比率が2:1より大きいとき)。さらに、上述した実施形態は、2つのサブブロックを互いに同時に駆動する方法を記載しているが、他の実施形態は、2を超える数のサブブロックを互いに同時に駆動することに関していてもよい。例えば、n個のサブブロックを有する1つのブロックを含む実施形態では、最大n個のサブブロックを、互いに同時に駆動することができる。
本明細書に記載するメモリアレイおよび方法は、所望のように構成するために、任意の適切なハードウェアおよび/またはソフトウェアを利用してシステムに実装することができる。図5は、一実施形態において、1以上のプロセッサ504、メモリデバイス512、1以上の通信インタフェース516、および入出力(I/O)デバイス520に連結されたシステム制御論理508を含む例示的システム500を示す。
メモリデバイス512は、メモリアレイ100またはメモリアレイ200を含む不揮発性コンピュータ記憶チップであってよい。メモリアレイに加えて、メモリデバイス512は、パッケージを含んでよく、この内部にメモリアレイが設けられ、さらに、ドライバ回路(例えばドライバ)、メモリデバイス512をシステム500の他のコンポーネントに電気的に連結する入出力接続等が含まれてよい。メモリデバイス512は、システム500に取り外し可能に、または、永久に連結されるよう構成されてよい。
通信インタフェース516は、1以上のネットワークで、および/または、任意の他の適切なデバイスと通信するためのインタフェースをシステム500に提供してよい。通信インタフェース516は、任意の適切なハードウェアおよび/またはファームウェアを含んでよい。一実施形態の通信インタフェース516は、例えば、ネットワークアダプタ、無線ネットワークアダプタ、電話モデム、および/または、無線モデムを含んでよい。無線通信においては、一実施形態の通信インタフェース516が、1以上のアンテナを利用して、システム500を無線ネットワークに通信可能に連結する。
一実施形態では、プロセッサ504の少なくとも1つが、システム制御論理508の1以上のコントローラの論理とともにパッケージ化されてよい。一実施形態では、プロセッサ504の少なくとも1つが、システム制御論理508の1以上のコントローラの論理とともにパッケージ化され、システムインパッケージ(SiP)を形成してよい。一実施形態では、プロセッサ504の少なくとも1つが、システム制御論理508の1以上のコントローラの論理と同じダイに集積されてよい。一実施形態では、プロセッサ504の少なくとも1つが、システム制御論理508の1以上のコントローラの論理と同じダイに集積され、システムオンチップ(SoC)を形成してよい。
一実施形態のシステム制御論理508は、任意の適切なインタフェースを、プロセッサ504の少なくとも1つ、および/または、システム制御論理508と通信する任意の適切なデバイスまたはコンポーネントに提供する任意の適切なインタフェースコントローラを含んでよい。システム制御論理508は、システム500の様々なコンポーネントにデータを移動させたり、様々なコンポーネントからデータを移動させたりしてよい。
一実施形態のシステム制御論理508は、図4の方法400について上述したもの等の様々なアクセス処理を制御するために、メモリデバイス512にインタフェースを提供するメモリコントローラ524を含んでよい。メモリコントローラ524は、ここで記載するメモリデバイス512を制御するよう特別に構成されている制御論理528を含んでよい。様々な実施形態では、制御論理528は、プロセッサ504の少なくとも1つによって実行されると、メモリコントローラ524に上述した処理を実行させる命令を、持続性コンピュータ可読媒体(例えばメモリデバイス512またはその他のメモリ/ストレージ)に格納した形で含んでよい。
様々な実施形態では、I/Oデバイス520が、システム500に対するユーザのインタラクションを可能とするよう設計されたユーザインタフェースを含んでよく、システム500に対する周辺コンポーネントのインタラクションを可能するよう設計された周辺コンポーネントインタフェースを含んでよく、および/または、システム500に関する環境条件および/または位置情報を決定するよう設計されたセンサを含んでよい。様々な実施形態では、ユーザインタフェースが、これらに限定はされないが、ディスプレイ(例えば液晶ディスプレイ、タッチスクリーンディスプレイ等)、スピーカ、マイクロフォン、画像および/またはビデオをキャプチャするための1以上のデジタルカメラ、フラッシュライト(たとえば発光ダイオードフラッシュ)およびキーボードを含んでよい。様々な実施形態では、周辺コンポーネントインタフェースが、これらに限定はされないが、不揮発性メモリポート、オーディオジャック、および、電力供給インタフェースを含んでよい。様々な実施形態では、センサが、これらに限定はされないが、ジャイロセンサ、加速度計、近接センサ、周辺光センサ、および、ポジショニング・ユニットを含んでよい。ポジショニング・ユニットは、これに加えて/これに代えて、通信インタフェース516の一部であったり、または通信インタフェース516とインタラクトしたりすることで、グローバル・ポジショニング・システム(GPS)サテライト等のポジショニング・ネットワークのコンポーネントと通信してよい。
様々な実施形態では、これらに限定はされないが、システム500が、ラップトップコンピューティングデバイス、タブレットコンピューティングデバイス、ネットブック、スマートフォン等のモバイルコンピューティングデバイス、デスクトップコンピューティングデバイス、ワークステーション、サーバであってよい。システム500は、これより多いまたは少ないコンポーネント、および/または、異なるアーキテクチャを有してもよい。
ここに具体的な実施形態を説明のために例示、記載してきたが、同じ目的を達成するよう計算された様々な種類の代替的なおよび/または均等である実施形態または実装例で、本開示の範囲を逸脱せずに図示および記載された実施形態を置き換えることができる。本願は、ここで記載する実施形態の適合例または変形例を含むことを意図している。従って、ここに記載する実施形態は、請求項およびその均等物によってのみ限定されることを意図している。
ここに具体的な実施形態を説明のために例示、記載してきたが、同じ目的を達成するよう計算された様々な種類の代替的なおよび/または均等である実施形態または実装例で、本開示の範囲を逸脱せずに図示および記載された実施形態を置き換えることができる。本願は、ここで記載する実施形態の適合例または変形例を含むことを意図している。従って、ここに記載する実施形態は、請求項およびその均等物によってのみ限定されることを意図している。本発明の例を下記の各項目として示す。
[項目1]
NANDメモリアレイであって、
複数のワードラインと、
前記複数のワードラインに直交するよう配置された複数のアクティブエリアセクションと、
前記複数のワードラインに直交するよう配置された複数のビットラインと
を備え、
複数のメモリセルが、個々のアクティブエリアセクションと個々のワードラインとの重なり部分に配置され、
前記複数のメモリセルは、前記複数のワードラインの方向の第1のピッチをもち、
前記複数のビットラインは、前記第1のピッチ未満の第2のピッチをもつ、NANDメモリアレイ。
[項目2]
前記第2のピッチは、前記第1のピッチの1/nであり、nは、1より大きい整数である、項目1に記載のNANDメモリアレイ。
[項目3]
第1メモリセルサブブロックと、
前記第1メモリセルサブブロックに隣接する第2メモリセルサブブロックと
をさらに備え、
前記第1メモリセルサブブロックおよび前記第2メモリセルサブブロックは、互いと同時に駆動される、項目1に記載のNANDメモリアレイ。
[項目4]
前記第1メモリセルサブブロックの第1の複数のNANDストリングと、
前記第2メモリセルサブブロックの第2の複数のNANDストリングと
をさらに備え、
前記第2の複数のNANDストリングは、前記第1の複数のNANDストリングに対してオフセットされている、項目3に記載のNANDメモリアレイ。
[項目5]
前記第1の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第1のサブセットに対応しており、
前記第2の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第2のサブセットに対応しており、
前記第1のサブセットと前記第2のサブセットとは、重ならないサブセットである、項目4に記載のNANDメモリアレイ。
[項目6]
前記第1のサブセットは、前記第2のサブセットとインタリーブされる、項目5に記載のNANDメモリアレイ。
[項目7]
第1の選択ゲートソースおよび第1の選択ゲートドレインと、
第2の選択ゲートソースおよび第2の選択ゲートドレインと
を備え、
前記第1メモリセルサブブロックは、前記第1の選択ゲートソースおよび前記第1の選択ゲートドレインの間の複数のメモリセルを含み、
前記第2メモリセルサブブロックは、前記第2の選択ゲートソースおよび前記第2の選択ゲートドレインの間の複数のメモリセルを含む、項目3に記載のNANDメモリアレイ。
[項目8]
前記NANDメモリアレイは、二次元NANDメモリアレイを含む、項目1に記載のNANDメモリアレイ。
[項目9]
前記第1のピッチの前記第2のピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
前記NANDメモリアレイはさらに、複数のメモリブロックを備え、個々のメモリブロックは、n個のサブブロックを備える、項目1に記載のNANDメモリアレイ。
[項目10]
複数のワードラインと、
複数のアクティブエリアピラーと、
前記複数のアクティブエリアピラーと前記複数のワードラインとの交差点に配置された複数のメモリセルと、
前記複数のワードラインに直交するよう配置された複数のビットラインと
を備え、
前記複数のメモリセルは、前記複数のワードラインの方向の第1のピッチをもち、
前記複数のビットラインは、前記第1のピッチ未満の第2のピッチをもつ、三次元メモリアレイ(3Dメモリアレイ)。
[項目11]
前記第2のピッチは、前記第1のピッチの1/nであり、nは、1より大きい整数である、項目10に記載の3Dメモリアレイ。
[項目12]
第1の選択ゲートソースおよび選択ゲートドレインの間の電気経路に配置された第1メモリセルサブブロックと、
第2の選択ゲートソースおよび前記選択ゲートドレインの間の電気経路に配置された第2メモリセルサブブロックと
をさらに備える、項目10に記載の3Dメモリアレイ。
[項目13]
前記第1メモリセルサブブロックおよび前記第2メモリセルサブブロックは、同時に駆動される、項目12に記載の3Dメモリアレイ。
[項目14]
前記第1メモリセルサブブロックの第1の複数のNANDストリングと、
前記第2メモリセルサブブロックの第2の複数のNANDストリングと
をさらに備え、
前記第1の複数のNANDストリングは、前記第2の複数のNANDストリングに対してオフセットされている、項目12に記載の3Dメモリアレイ。
[項目15]
前記第1の複数のNANDストリングは、前記複数のアクティブエリアピラーのうちの第1の対のアクティブエリアピラーの上に設けられており、
前記第2の複数のNANDストリングは、前記複数のアクティブエリアピラーのうちの第2の対のアクティブエリアピラーの上に設けられている、項目14に記載の3Dメモリアレイ。
[項目16]
前記第1の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第1のサブセットに対応しており、
前記第2の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第2のサブセットに対応しており、
前記第1のサブセットと前記第2のサブセットとは、重ならないサブセットである、
項目14に記載の3Dメモリアレイ。
[項目17]
前記第1のサブセットは、前記第2のサブセットとインタリーブされる、項目16に記載の3Dメモリアレイ。
[項目18]
前記3Dメモリアレイは、P−BiCS(pipe-shaped bit cost scalable)メモリアレイを含む、項目10に記載の3Dメモリアレイ。
[項目19]
前記第1のピッチの前記第2のピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
前記3Dメモリアレイはさらに、複数のメモリブロックを備え、個々のメモリブロックは、n個のサブブロックを有する、項目10に記載の3Dメモリアレイ。
[項目20]
パッケージと、
複数の入出力接続と、
前記パッケージ内に配置され、前記複数の入出力接続に電気的に連結された3Dメモリアレイと
を備える、不揮発性記憶チップ。
[項目21]
無線ネットワークにシステムを通信可能に連結する1以上のアンテナを有する通信インタフェースと、
移動通信デバイスに取り外し可能に、または永久に連結された、項目20に記載の不揮発性記憶チップと、
前記不揮発性記憶チップのアクセス処理を制御するメモリコントローラと
を備える、前記移動通信デバイス。
[項目22]
メモリアレイのメモリセルの1つのブロックのうちの、第1メモリセルサブブロックと第2メモリセルサブブロックとを同時に駆動する段階と、
前記第1メモリセルサブブロックの複数のビットラインの第1のサブセットに対応している第1の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階と、
前記第2メモリセルサブブロックの複数のビットラインの第2のサブセットに対応している第2の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階と
を備え、
前記第1メモリセルサブブロックおよび前記第2メモリセルサブブロックは隣接しており、前記第1の複数のNANDストリングは、前記第2の複数のNANDストリングに対してオフセットされている、メモリアレイを動作させる方法。
[項目23]
前記複数のビットラインの第1のピッチは、前記複数のメモリセルの、ワードラインの方向の第2のピッチ未満である、項目22に記載のメモリアレイを動作させる方法。
[項目24]
前記第1のピッチの前記第2のピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
前記方法はさらに、
前記ブロックのn個のサブブロックを同時に駆動する段階を備える、項目22に記載のメモリアレイを動作させる方法。
[項目25]
前記第1の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階、および、前記第2の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階は、
前記複数のビットラインの前記第1のサブセットと前記第2のサブセットとに同時にエネルギー供給する段階を有する、項目22に記載のメモリアレイを動作させる方法。
[項目26]
通信インタフェースと、NANDメモリアレイと、システム制御論理とを備えるシステムであって、
前記通信インタフェースは、前記システムを無線ネットワークに通信可能に連結する1以上のアンテナを有し、
前記NANDメモリアレイは、前記NANDメモリアレイのワードラインの方向のセルピッチと、前記ワードラインの方向のビットラインピッチとを有し、前記セルピッチは前記ビットラインピッチと異なっており、
前記システム制御論理は、前記通信インタフェースと前記NANDメモリアレイと連結されており、前記システム制御論理は、前記通信インタフェースおよび前記NANDメモリアレイに対してデータを出し入れするための1以上のインタフェースを提供する、システム。
[項目27]
ピクチャまたはビデオを取得するためのデジタルカメラを更に備え、
前記システム制御論理は、更に前記デジタルカメラに連結されており、前記デジタルカメラからデータを受信する、項目26に記載のシステム。
[項目28]
前記セルピッチの前記ビットラインピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
前記NANDメモリアレイは、セルの複数のメモリブロックを含み、個々のメモリブロックが、同時に駆動されるn個のサブブロックを有する、項目26に記載のシステム。

Claims (28)

  1. NANDメモリアレイであって、
    複数のワードラインと、
    前記複数のワードラインに直交するよう配置された複数のアクティブエリアセクションと、
    前記複数のワードラインに直交するよう配置された複数のビットラインと
    を備え、
    複数のメモリセルが、個々のアクティブエリアセクションと個々のワードラインとの重なり部分に配置され、
    前記複数のメモリセルは、前記複数のワードラインの方向の第1のピッチをもち、
    前記複数のビットラインは、前記第1のピッチ未満の第2のピッチをもつ、NANDメモリアレイ。
  2. 前記第2のピッチは、前記第1のピッチの1/nであり、nは、1より大きい整数である、請求項1に記載のNANDメモリアレイ。
  3. 第1メモリセルサブブロックと、
    前記第1メモリセルサブブロックに隣接する第2メモリセルサブブロックと
    をさらに備え、
    前記第1メモリセルサブブロックおよび前記第2メモリセルサブブロックは、互いと同時に駆動される、請求項1に記載のNANDメモリアレイ。
  4. 前記第1メモリセルサブブロックの第1の複数のNANDストリングと、
    前記第2メモリセルサブブロックの第2の複数のNANDストリングと
    をさらに備え、
    前記第2の複数のNANDストリングは、前記第1の複数のNANDストリングに対してオフセットされている、請求項3に記載のNANDメモリアレイ。
  5. 前記第1の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第1のサブセットに対応しており、
    前記第2の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第2のサブセットに対応しており、
    前記第1のサブセットと前記第2のサブセットとは、重ならないサブセットである、請求項4に記載のNANDメモリアレイ。
  6. 前記第1のサブセットは、前記第2のサブセットとインタリーブされる、請求項5に記載のNANDメモリアレイ。
  7. 第1の選択ゲートソースおよび第1の選択ゲートドレインと、
    第2の選択ゲートソースおよび第2の選択ゲートドレインと
    を備え、
    前記第1メモリセルサブブロックは、前記第1の選択ゲートソースおよび前記第1の選択ゲートドレインの間の複数のメモリセルを含み、
    前記第2メモリセルサブブロックは、前記第2の選択ゲートソースおよび前記第2の選択ゲートドレインの間の複数のメモリセルを含む、請求項3に記載のNANDメモリアレイ。
  8. 前記NANDメモリアレイは、二次元NANDメモリアレイを含む、請求項1に記載のNANDメモリアレイ。
  9. 前記第1のピッチの前記第2のピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
    前記NANDメモリアレイはさらに、複数のメモリブロックを備え、個々のメモリブロックは、n個のサブブロックを備える、請求項1に記載のNANDメモリアレイ。
  10. 複数のワードラインと、
    複数のアクティブエリアピラーと、
    前記複数のアクティブエリアピラーと前記複数のワードラインとの交差点に配置された複数のメモリセルと、
    前記複数のワードラインに直交するよう配置された複数のビットラインと
    を備え、
    前記複数のメモリセルは、前記複数のワードラインの方向の第1のピッチをもち、
    前記複数のビットラインは、前記第1のピッチ未満の第2のピッチをもつ、三次元メモリアレイ(3Dメモリアレイ)。
  11. 前記第2のピッチは、前記第1のピッチの1/nであり、nは、1より大きい整数である、請求項10に記載の3Dメモリアレイ。
  12. 第1の選択ゲートソースおよび選択ゲートドレインの間の電気経路に配置された第1メモリセルサブブロックと、
    第2の選択ゲートソースおよび前記選択ゲートドレインの間の電気経路に配置された第2メモリセルサブブロックと
    をさらに備える、請求項10に記載の3Dメモリアレイ。
  13. 前記第1メモリセルサブブロックおよび前記第2メモリセルサブブロックは、同時に駆動される、請求項12に記載の3Dメモリアレイ。
  14. 前記第1メモリセルサブブロックの第1の複数のNANDストリングと、
    前記第2メモリセルサブブロックの第2の複数のNANDストリングと
    をさらに備え、
    前記第1の複数のNANDストリングは、前記第2の複数のNANDストリングに対してオフセットされている、請求項12に記載の3Dメモリアレイ。
  15. 前記第1の複数のNANDストリングは、前記複数のアクティブエリアピラーのうちの第1の対のアクティブエリアピラーの上に設けられており、
    前記第2の複数のNANDストリングは、前記複数のアクティブエリアピラーのうちの第2の対のアクティブエリアピラーの上に設けられている、請求項14に記載の3Dメモリアレイ。
  16. 前記第1の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第1のサブセットに対応しており、
    前記第2の複数のNANDストリングは、前記複数のビットラインの第2のサブセットに対応しており、
    前記第1のサブセットと前記第2のサブセットとは、重ならないサブセットである、
    請求項14に記載の3Dメモリアレイ。
  17. 前記第1のサブセットは、前記第2のサブセットとインタリーブされる、請求項16に記載の3Dメモリアレイ。
  18. 前記3Dメモリアレイは、P−BiCS(pipe-shaped bit cost scalable)メモリアレイを含む、請求項10に記載の3Dメモリアレイ。
  19. 前記第1のピッチの前記第2のピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
    前記3Dメモリアレイはさらに、複数のメモリブロックを備え、個々のメモリブロックは、n個のサブブロックを有する、請求項10に記載の3Dメモリアレイ。
  20. パッケージと、
    複数の入出力接続と、
    前記パッケージ内に配置され、前記複数の入出力接続に電気的に連結された3Dメモリアレイと
    を備える、不揮発性記憶チップ。
  21. 無線ネットワークにシステムを通信可能に連結する1以上のアンテナを有する通信インタフェースと、
    移動通信デバイスに取り外し可能に、または永久に連結された、請求項20に記載の不揮発性記憶チップと、
    前記不揮発性記憶チップのアクセス処理を制御するメモリコントローラと
    を備える、前記移動通信デバイス。
  22. メモリアレイのメモリセルの1つのブロックのうちの、第1メモリセルサブブロックと第2メモリセルサブブロックとを同時に駆動する段階と、
    前記第1メモリセルサブブロックの複数のビットラインの第1のサブセットに対応している第1の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階と、
    前記第2メモリセルサブブロックの複数のビットラインの第2のサブセットに対応している第2の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階と
    を備え、
    前記第1メモリセルサブブロックおよび前記第2メモリセルサブブロックは隣接しており、前記第1の複数のNANDストリングは、前記第2の複数のNANDストリングに対してオフセットされている、メモリアレイを動作させる方法。
  23. 前記複数のビットラインの第1のピッチは、前記複数のメモリセルの、ワードラインの方向の第2のピッチ未満である、請求項22に記載のメモリアレイを動作させる方法。
  24. 前記第1のピッチの前記第2のピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
    前記方法はさらに、
    前記ブロックのn個のサブブロックを同時に駆動する段階を備える、請求項22に記載のメモリアレイを動作させる方法。
  25. 前記第1の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階、および、前記第2の複数のNANDストリングの上の複数のメモリセルにアクセスする段階は、
    前記複数のビットラインの前記第1のサブセットと前記第2のサブセットとに同時にエネルギー供給する段階を有する、請求項22に記載のメモリアレイを動作させる方法。
  26. 通信インタフェースと、NANDメモリアレイと、システム制御論理とを備えるシステムであって、
    前記通信インタフェースは、前記システムを無線ネットワークに通信可能に連結する1以上のアンテナを有し、
    前記NANDメモリアレイは、前記NANDメモリアレイのワードラインの方向のセルピッチと、前記ワードラインの方向のビットラインピッチとを有し、前記セルピッチは前記ビットラインピッチと異なっており、
    前記システム制御論理は、前記通信インタフェースと前記NANDメモリアレイと連結されており、前記システム制御論理は、前記通信インタフェースおよび前記NANDメモリアレイに対してデータを出し入れするための1以上のインタフェースを提供する、システム。
  27. ピクチャまたはビデオを取得するためのデジタルカメラを更に備え、
    前記システム制御論理は、更に前記デジタルカメラに連結されており、前記デジタルカメラからデータを受信する、請求項26に記載のシステム。
  28. 前記セルピッチの前記ビットラインピッチに対する比率は、n:1であり、nは1より大きい整数であり、
    前記NANDメモリアレイは、セルの複数のメモリブロックを含み、個々のメモリブロックが、同時に駆動されるn個のサブブロックを有する、請求項26に記載のシステム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101845378B1 (ko) 2015-03-24 2018-04-05 인텔 코포레이션 Nand 메모리에서의 필러 배열체

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5886434B2 (ja) * 2011-09-22 2016-03-16 インテル・コーポレーション セルピッチおよびビットラインピッチが整合しないnandメモリアレイ
KR20140025632A (ko) * 2012-08-21 2014-03-05 에스케이하이닉스 주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 그 제조 방법
US9070442B2 (en) 2013-08-29 2015-06-30 Micron Technology, Inc. Memory devices with local and global devices at substantially the same level above stacked tiers of memory cells and methods
US9418752B2 (en) 2014-03-27 2016-08-16 Intel Corporation Ramping inhibit voltage during memory programming
US9460792B2 (en) 2014-10-20 2016-10-04 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for segmented SGS lines
US9595339B2 (en) 2014-10-20 2017-03-14 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for reducing read disturb
US10310734B2 (en) 2014-12-27 2019-06-04 Intel Corporation Tier mode for access operations to 3D memory
KR102475454B1 (ko) * 2016-01-08 2022-12-08 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 그 제조방법
US10153196B1 (en) * 2017-08-24 2018-12-11 Micron Technology, Inc. Arrays of cross-point memory structures

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003007868A (ja) * 2001-06-22 2003-01-10 Fujio Masuoka 半導体記憶装置
JP2004134702A (ja) * 2002-10-15 2004-04-30 Renesas Technology Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2008218569A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2011003642A (ja) * 2009-06-17 2011-01-06 Toshiba Corp 欠陥検査方法
JP2013004778A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002158312A (ja) 2000-11-17 2002-05-31 Oki Electric Ind Co Ltd 3次元実装用半導体パッケージ、その製造方法、および半導体装置
US6941131B2 (en) * 2001-03-23 2005-09-06 Ericsson Inc. Incoming call handling method for mobile communications device incorporating mobile assisted messaging on demand
US7709334B2 (en) * 2005-12-09 2010-05-04 Macronix International Co., Ltd. Stacked non-volatile memory device and methods for fabricating the same
JP4822841B2 (ja) * 2005-12-28 2011-11-24 株式会社東芝 半導体記憶装置及びその製造方法
US7633828B2 (en) 2006-07-31 2009-12-15 Sandisk 3D Llc Hierarchical bit line bias bus for block selectable memory array
JP5193796B2 (ja) 2008-10-21 2013-05-08 株式会社東芝 3次元積層型不揮発性半導体メモリ
US8644046B2 (en) 2009-02-10 2014-02-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Non-volatile memory devices including vertical NAND channels and methods of forming the same
JP5259481B2 (ja) 2009-04-14 2013-08-07 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
KR101635502B1 (ko) * 2009-07-22 2016-07-01 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
JP2011171698A (ja) 2010-01-25 2011-09-01 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
JP5886434B2 (ja) * 2011-09-22 2016-03-16 インテル・コーポレーション セルピッチおよびビットラインピッチが整合しないnandメモリアレイ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003007868A (ja) * 2001-06-22 2003-01-10 Fujio Masuoka 半導体記憶装置
JP2004134702A (ja) * 2002-10-15 2004-04-30 Renesas Technology Corp 不揮発性半導体記憶装置
JP2008218569A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP2011003642A (ja) * 2009-06-17 2011-01-06 Toshiba Corp 欠陥検査方法
JP2013004778A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Toshiba Corp 半導体記憶装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101845378B1 (ko) 2015-03-24 2018-04-05 인텔 코포레이션 Nand 메모리에서의 필러 배열체

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