KR101510644B1

KR101510644B1 - 전도성 패턴의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 전도성 패턴

Info

Publication number: KR101510644B1
Application number: KR20130128579A
Authority: KR
Inventors: 이진규; 김재일
Original assignee: 서울대학교산학협력단
Priority date: 2013-10-28
Filing date: 2013-10-28
Publication date: 2015-04-09

Abstract

본 발명은 (a) 베이스기판 상에 전도성 고분자 층을 형성하는 단계; (b) 상기 (a) 단계에서 형성된 기판에 강산화제를 반응시켜 상기 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝시키는 단계; 및 (c) 상기 (b) 단계에서 패터닝된 기판에 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 시키는 단계를 포함하는 전도성 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 전도성 패턴에 관한 것이다.

Description

전도성 패턴의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 전도성 패턴{method for Manufacturing of a Conductive Pattern and the Conductive Pattern using the Same}

본 발명은 전도성 패턴의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 전도성 패턴에 관한 것이다.

현재 디스플레이용 투명전극의 재질은 ITO가 널리 사용되고 있으나, 투명전극을 ITO로 형성하는 경우, 과도한 비용이 소모될 뿐만 아니라, 대면적을 구현하기 어려운 단점이 있어, ITO의 단점을 극복하기 위해서, 유연성이 뛰어나고 코팅 공정이 단순한 PEDOT/PSS를 이용하여 투명전극을 형성하는 연구가 진행되고 있다.

이러한 투명전극을 PEDOT/PSS로 패턴을 형성하는 종래의 기술과 관련하여, US 2013/0068506의 기술이 있는데, 이는 PEDOT/PSS을 선택적으로 비활성화시킨 후, PEDOT/PSS을 시드층으로 이용하여 전도성 고분자 중 비활성화된 부분을 제외한 부분에만 도금을 형성하는 기술이다. 상기한 종래 기술은 도 1과 같이, 강력 산화제인 NaOCl 을 사용하여 PEDOT 의 thiophene ring 을 파괴하여 전자 이동이 가능한 구조인 conjugation 을 깨어버려, 전자 이동이 불가능한 구조로 변화시켜 전기 절연체로 기능하게 하는 것인데, 상기 방법으로 형성된 투명 전극은 보이는 패턴을 완전하게 감추지 못하여 전도성 고분자 필름을 투명 전극에 응용하는 경우에 제한이 발생하고 있다는 문제점이 존재한다. 따라서, Flexible display 에 최적으로 사용 가능한 전도성 고분자 필름, 예를 들어 PEDOT/PSS 등의 적용 시에, 패턴이 눈에 인식되는 등의 문제가 있기 때문에, 이에 대한 개선이 시급한 현실이다.

US

2013-0068506

A

본 발명은 전도성 패턴의 기판을 NaOCl로 에칭하는 경우, 에칭되지 않은 기판에 비하여 블루(blue)-그린(green) 영역으로 흡광이 증가하여 전체적으로 붉은 (reddish) 색차가 발생하는 것을 방지하기 위한 전도성 패턴의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여,

본 발명은 (a) 베이스기판 상에 전도성 고분자 층을 형성하는 단계;

(b) 상기 (a) 단계에서 형성된 기판에 강산화제를 반응시켜 상기 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝시키는 단계; 및

(c) 상기 (b) 단계에서 패터닝된 기판에 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 시키는 단계를 포함하는 전도성 패턴의 제조방법을 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 제조방법에 의하여 제조된 전도성 패턴을 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 전도성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극을 제공한다.

또한, 본 발명은 전도성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 기판을 제공한다.

본 발명의 전도성 패턴의 제조방법에 따르면, 전도성 패턴의 기판을 NaOCl로 에칭하는 경우 발생하는 색상이나 흡광도 등의 색차를 해결할 수 있다는 장점이 있다.

도 1은 종래 기술에 따른 PEDOT/PSS와 NaOCl의 반응식을 나타낸 그림이다.
도 2는 종래 기술에 따른 색도 차이를 구하는 방법을 나타낸 모식도이다.
도 3은 본 발명의 PEDOT/PSS의 구조를 나타낸 그림이다.
도 4는 본 발명의 에칭 시간에 따른 필름의 면 저항의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 5는 본 발명의 에칭 시간에 따른 투과도의 차이를 나타내는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 투과도의 차이를 나타내는 그래프이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 투과도의 차이를 나타내는 그래프이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 필름의 사진이다.

이하 본 발명을 상세하게 설명한다.

본 발명의 전도성 패턴의 제조방법은 (a) 베이스기판 상에 전도성 고분자 층을 형성하는 단계; (b) 상기 (a) 단계에서 형성된 기판에 강산화제를 반응시켜 상기 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝시키는 단계; 및 (c) 상기 (b) 단계에서 패터닝된 기판에 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 시키는 단계를 포함한다.

본 발명의 전도성 패턴의 제조방법은 상기 (a) 단계에서 베이스기판 상에 전도성 고분자 층을 형성한다.

상기 베이스기판은 PEDOT/PSS과 같은 전도성 고분자를 형성하는 역할을 하며, 터치 패널, 디스플레이 등에 활용하는 경우에는 투명성을 갖추어야 하며, 전도성 고분자를 지지할 수 있는 지지력 역시 있어야 한다. 상기 베이스기판으로는 투명성 및 지지력이 있는 것이라면 특별한 제한은 없으나, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등을 이용할 수 있으며, 층간 절연소재로 통상적으로 사용되는 복합 고분자 수지인 프리프레그나 ABF(Ajinomoto Build up Film)를 사용하거나, FR-4, BT(Bismaleimide Triazine)등의 에폭시계 수지를 사용할 수도 있다.

상기 베이스기판 상에 형성되는 전도성 고분자는 패턴층을 형성하는 역할을 하며, 베이스기판에 전도성 고분자를 형성한 후, 전도성 고분자에 후술할 메탈 하이드록사이드 화합물을 부가함으로써, 전도성 고분자는 선택적으로 산화되도록 패터닝된다. 구체적으로, 전도성 고분자 중 전극을 형성할 부분 이외의 부분에만 산화제를 부가함으로써, 면 저항을 무한대로 높이는 것이다. 상기 전도성 고분자로는 투명전극에 사용 가능한 전도성을 갖는 고분자라면 특별한 제한은 없으나, 바람직하게는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS, 이하 PEDOT/PSS으로 칭한다.), 폴리-3-헥실티오펜(P3HT), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 및 폴리페닐렌비닐렌 중 어느 하나 이상을 사용할 수 있고, 특히 바람직하게는 PEDOT/PSS을 사용할 수 있다.

베이스기판에 전도성 고분자를 형성하는데 있어서, 건식 공정 또는 습식 공정으로 형성할 수 있다. 구체적으로, 건식공정으로는 스퍼터링(Sputtering), 증착(Evaporation) 등이 있고, 습식 공정으로는 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 롤 코팅(Roll coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 등이 있다.

이 때, 베이스기판과 전도성 고분자 사이의 접착력을 향상시키기 위해서, 전도성 고분자를 형성하기 전에 베이스기판 상에 고주파 처리 또는 프라이머(Primer) 처리를 수행할 수도 있다.

본 발명의 전도성 패턴의 제조방법은 상기 (b) 단계에서 상기 (a) 단계에서 형성된 기판에 강산화제를 반응시켜 상기 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝한다.

상기 (b) 단계에서는 전도성 고분자에 강산화제를 부가하여 전도성 고분자가 선택적으로 비활성화되도록 패터닝시키는데, 여기서 강산화제는 전도성 고분자 중 패턴층을 형성하지 않을 부분을 비활성화시켜 면 저항을 무한대로 높인다. 이때, 강산화제는 용액 또는 페이스트(Paste) 형태로 전도성 고분자에 인쇄하여 부가할 수 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 강산화제로는 NaOCl, H₂O₂, O₃, KMnO₄, K₂Cr₂O₇ 및 산화아민(Amine-Oxide) 중 어느 하나 이상을 이용할 수 있다.

구체적으로, 강산화제가 NaOCl이고, 전도성 고분자가 PEDOT/PSS일 때, 강산화제를 부가하여 전도성 고분자를 비활성시키는 구체적인 반응과정을 살펴보면 도 1과 같다. PEDOT/PSS과 같은 전도성 고분자를 패턴화하는 경우, 강력한 강산화제인 NaOCl 을 사용하여 PEDOT 의 thiophene ring 을 파괴하여 전자 이동이 가능한 구조인 conjugation 을 깨어버려, 전자 이동이 불가능한 구조로 변화시켜, 면 저항을 무한대로 만들어, 전기 절연체로 가능하게 한다. 상기 전도성 고분자에 강산화제를 부가하여 전도성 고분자가 선택적으로 비활성화되도록 하는 경우, 강산화제가 충분히 반응할 수 있을 정도로 반응시켜야 하는데, 바람직하게는 강산화제를 10초 이상, 더욱 바람직하게는 30초 이상, 가장 바람직하게는 60초 이상 반응시킬 수 있다. 상기 강산화제를 10초 미만으로 반응시키는 경우에는 전도성 고분자의 thiophene ring이 충분히 산화되지 않아, 전자 이동이 가능한 연결 회로 손상으로 인하여 저항이 충분히 증가하지 않는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 강산화제는 0.001 내지 50 중량%의 농도 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 강산화제의 농도가 0.001 중량% 미만이면 전기 전도성이 충분히 나오지 않는 문제가 있으며, 상기 농도가 50 중량%를 초과하면 용액의 조절이 곤란한 문제가 있다.

다만, 상기와 같이, 강산화제를 반응시켜 상기 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝하는 경우에는 강산화제를 반응시키기 전에 비하여, 블루(blue)-그린(green) 영역으로 흡광이 증가하여 전체적으로 붉은 (reddish) 색차가 발생하게 된다. 실제 종래 기술의 US 2013/0068506에 의하면, 국제조명위원회(CIE)에서 1976년 정한 표색방법인 L*a*b* 표색계를 기준으로 NaOCl 처리된 PEDOT/PSS와 NaOCl 비처리된 PEDOT/PSS를 측정한 결과를 하기 표 1과 같이 나타내고 있다.

	면저항	L*	a*	b*
NaOCl 처리된 PEDOT/PSS	∞ Ω/□	94.32	0.33	0.41
NaOCl 비처리된 PEDOT/PSS	295Ω/□	95.16	-0.36	1.1

US 2013/0068506에서는 NaOCl 반응 전후의 PEDOT/PSS의 투명도 및 색도의 변화가 거의 없다고 서술하고 있으나, 실제 살펴보면, NaOCl 반응 전에는 95.16% 투과도를 갖고, Green-pale yellow의 색도를 갖는데 비하여, NaOCl 반응 후에는 94.32% 투과도를 갖고 (즉, 더 많은 빛을 흡수함.), Red-yellow의 색도를 갖는 것을 알 수 있다. 이는 NaOCl의 반응에 의하여 Blue-Green의 영역의 투과가 불량해지기 때문이며, 이러한 색도의 차이는 도 2와 같이 색차 (Total color diff)로 계산할 때 1.13의 차이를 갖게 되며, 이는 눈에 쉽게 보이는 정도의 차이이다. 따라서, 상기 강산화제로 처리하여 형성된 투명 전극은 보이는 패턴을 완전하게 감추지 못하여 전도성 고분자 필름 PEDOT/PSS의 응용에 제한이 발생하고 있다는 문제점이 존재한다

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여,

본 발명의 전도성 패턴의 제조방법은 상기 (c) 단계에서, 상기 (b) 단계에서 패터닝된 기판에 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 시킨다.

상기 (c) 단계에서는 강산화제로 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝된 기판에 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 부분적인 디도핑(partial de-doping)을 함으로써, 강산화제의 처리에 의하여 발생한 색상의 변화를 조절할 수 있다. 구체적으로 도 3를 살펴보면, 전도성 고분자의 예로서 PEDOT/PSS의 구조 변화를 나타내고 있는데, PEDOT/PSS를 NaOCl과 같은 강산화제와 반응시키면, PEDOT 의 thiophene ring부분이 산화되어 conjugation이 손상되게 되어 PEDOT:PSS의 고유 흡광 파장대가 변화하게 된다. 이로 인해 전술한 바와 같이 PEDOT/PSS의 투명도 및 색도의 변화가 발생하게 된다. 본 발명에서는 이러한 변화의 차이를 보정하기 위하여, NaOCl에 의하여 PEDOT 부분이 산화되어 패터닝된 기판에 NaOH와 같은 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜, 음이온 값을 가지는 PSS와 결합되어 있는 양이온 (+ charge) 값을 갖는 PEDOT (이를 thiophene ring 이 doping 되었다고 함) 일부를 중성화 (neutral charge) 시키고, PSS 의 sulfonic acid 부분을 Na 염으로 만들어서 다시 푸르스름한(bluish) 색으로 변화를 주어 NaOCl 처리한 패턴이 붉게 보이는 문제를 해결하게 하는데, 이를 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 되었다고 한다.

결과적으로 상기 메탈 하이드록사이드 화합물은 PEDOT/PSS 등과 같은 전도성 고분자 중 상기 (b) 단계에서 강산화제와 반응하지 않은 부분과 반응하여, 짙은 파란색(dark blue)의 색 변화를 일으킨다. 이는 상기 (b) 단계에서 강산화제와의 반응에 의하여 Blue-Green의 영역의 투과가 불량해져 붉은 계통의 색(Red-yellow)을 가졌던 필름에, 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 Blue-Green 영역을 짙은 파란색(dark blue)이 부가되어, 결과적으로 색차의 발생을 줄여, 색차를 거의 없앨 수 있게 된다. 상기 (c) 단계에서 사용되는 메탈 하이드록사이드 화합물로는 용액 또는 페이스트(Paste) 형태로 부가할 수 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 메탈 하이드록사이드 화합물로는 LiOH, NaOH, KOH, Ca(OH)₂ 및 Ba(OH)₂중 어느 하나 이상을 이용할 수 있다. 또한, 상기 메탈 하이드록사이드 화합물은 0.001 내지 50 중량%의 농도 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 메탈 하이드록사이드 화합물의 농도가 0.001 중량% 미만이면 눈에 띄는 색상의 변화가 없다는 문제가 있으며, 상기 농도가 50 중량%를 초과하면 용액의 조절이 곤란한 문제가 있다.

또한, 본 발명의 전도성 패턴의 제조방법은, (d) 상기 (c) 단계에서 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 된 기판에 강산를 반응시키는 단계를 더 포함할 수 있다.

상기 (c) 단계에서 메탈 하이드록사이드 화합물을 이용하여 색상 차이를 줄일 수 있으나, 이에 의하여 필름이 어두워지는 현상이 발생할 수 있다. 이러한 점을 보상하기 위하여 강산을 이용하여 추가 도핑 (doping) 반응을 시켜, Green 영역의 색상을 추가 보상하여, 투과도를 향상시키고, 색상의 차이를 더 줄일 수 있다.

상기 (c) 단계에서 사용되는 강산으로는 용액 또는 페이스트(Paste) 형태로 부가할 수 있지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 강산으로는 HCl, HNO₃, HClO₄, H₂SO₄, HBr 및 HI 중 어느 하나 이상을 이용할 수 있다. 또한, 상기 강산은 0.001 내지 50 중량%의 농도 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다. 상기 강산의 농도가 0.001 중량% 미만이면 눈에 띄는 색상의 변화가 없다는 문제가 있으며, 상기 농도가 50 중량%를 초과하면 용액의 조절이 곤란한 문제가 있다.

또한, 본 발명은 상기 전도성 패턴의 제조방법에 의하여 제조된 전도성 패턴을 제공한다.

또한, 본 발명은 상기 전도성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 기판을 제공한다. 이 때, 상기 기판은 플렉서블(flexible) 기판을 사용할 수 있다.

이하, 본 발명을 실시예에 의해 상세히 설명한다.

단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.

실시예

CP 필름의 준비

PEDOT/PSS (아그파사 제품)을 이용하여, PET 필름 상에 Bar 코팅하여 전도성 고분자가 코팅된 필름을 준비하였다.

에칭된 CP 필름의 색상 및 전도도 차이 확인

상기에서 제조한 CP 필름을 10 중량% 농도의 NaOCl 용액에 10초, 20초, 30초, 40초, 50초 및 60초 동안 반응시킨 후, 반응된 필름의 색상 및 전도도의 변화를 도 4에 나타내었다. 색상의 변화는 육안 관찰하였고, 전도도는 면저항 측정기 (FPP-2000)를 사용하여 측정하였다. 도 4 (a)에서와 같이, 10초 이후에는 색상이 붉은 색으로 거의 비슷하였으며, 도 4 (b)에서와 같이, 10초 이후에 전도도 역시 거의 일정함을 알 수 있었다. 다만, PEDOT/PSS를 모두 산화시키더라도 10¹¹ Ω/□ 정도의 저항을 가져, 전기 절연이 확보되는 것은 아니라는 것을 알 수 있다.

또한, 20초 및 60초간 반응시킨 필름의 투과율을 도 5에 나타내었다. 이를 통하여 반응 시간이 길수록 더 깊이, 더 많이 산화되는 것을 알 수 있었다.

NaOH 및 HCl 처리한 CP 의 투과율 및 색상의 차이 확인

상기에서 제조한 CP 필름을 하기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 3과 같이 처리하였다.

[실시예 1]

상기에서 제조한 CP 필름을 10 중량% 농도의 NaOCl 용액에서 60초간 반응시킨 후, 이를 다시 10 중량% 농도의 NaOH 용액에서 15초간 반응시켰다.

[실시예 2]

상기 실시예 1에서 NaOH 용액으로 처리된 CP 필름을 10 중량% 농도의 HCl 용액에서 15초간 반응시켰다.

[비교예 1]

상기에서 제조한 CP 필름을 10 중량% 농도의 NaOCl 용액에서 60초간 반응시켰다.

[비교예 2]

상기에서 제조한 CP 필름을 10 중량% 농도의 NaOH 용액에서 15초간 반응시켰다.

[비교예 3]

상기에서 제조한 CP 필름을 그대로 사용하였다.

상기에서 반응 완료된 실시예 1 내지 2 및 비교예 1의 CP 필름에 대한 투과율을 UV vis spectroscopy (S-3100) 를 이용하여 측정하여, 투과율에 대한 UV-Vis data를 도 6 내지 도 7 에 나타내었다.

NaOCl 용액으로 CP를 60초간 반응시킨 비교예 1 및 이를 NaOH로 처리한 실시예 1에 대한 투과율 비교를 도 6에 나타내었다. 상기 도 6의 그래프를 통하여, NaOH의 추가 처리를 한 실시예 1은, 비교예 1에 비하여 Blue-Green 영역(400~500nm 영역)의 투과도가 높아졌으며, 이에 따라서 원본 필름 수준 (100%)에 가깝게 색차가 없어진 것을 알 수 있었다.

또, NaOCl 용액으로 CP를 60초간 반응시킨 비교예 1와, 이를 다시 NaOH로 처리한 실시예 1 및 이를 다시 HCl로 처리한 실시예 2에 대한 투과율 비교를 도 7에 나타내었으며, 이에 따라 제작된 필름을 도 8에 나타내었다. 상기 도 7의 그래프 및 도 8의 비교를 통하여, NaOCl 로 처리한 경우의 처리 직후에는 Blue-Green 영역(400~500nm 영역)의 투과도가 불량해 지는데, 이에 대하여 다시 NaOH를 처리하면 Blue-Green 영역(400~500nm 영역)이 보상되고, 여기에 다시 HCl을 추가 처리하면 Green 영역(500~600nm 영역)에 대한 추가 보상이 되어 필름 전체가 밝아지는 것을 알 수 있었다.

전기 전도도 확인

상기 표 2의 CP 중, 실시예 1, 비교예 1 내지 비교예 3의 CP 필름에 대하여 전기 전도성을 측정하여 이를 하기 표 2에 기재하였다.

	전도도
실시예 1	∞
비교예 1	∞
비교예 2	3000 Ω/□
비교예 3	250Ω/□

상기 표 3의 결과를 통하여, 강산화제인 NaOCl로 처리하는 경우에는 면 저항을 무한대로 높이며, 여기에 다시 NaOH를 처리한 실시예 1 역시 무한대의 면 저항을 가진다는 것을 알 수 있었다.

Claims

(a) 베이스기판 상에 전도성 고분자 층을 형성하는 단계;
(b) 상기 (a) 단계에서 형성된 기판에 강산화제를 반응시켜 상기 전도성 고분자 층을 선택적으로 비활성화시켜 패터닝시키는 단계;
(c) 상기 (b) 단계에서 패터닝된 기판에 메탈 하이드록사이드 화합물을 반응시켜 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 시키는 단계; 및
(d) 상기 (c) 단계에서 부분적으로 디도핑 (partial de-doping) 된 기판에 강산를 반응시키는 단계를 포함하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS), 폴리-3-헥실티오펜(P3HT), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 및 폴리페닐렌비닐렌 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 2에 있어서,
상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS)인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 강산화제는 NaOCl, H₂O₂, O₃, KMnO₄, K₂Cr₂O₇ 및 산화아민(Amine-Oxide) 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 메탈 하이드록사이드 화합물는 LiOH, NaOH, KOH, Ca(OH)₂ 및 Ba(OH)₂중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
삭제
청구항 1에 있어서,
상기 강산은 HCl, HNO₃, HClO₄, H₂SO₄, HBr 및 HI 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 (b) 단계에서 강산화제를 10초 이상 반응시켜 에칭하는 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 (b) 단계에서 강산화제를 60초 이상 반응시켜 에칭하는 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 강산화제의 농도는 0.001 내지 50 중량 %인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 메탈 하이드록사이드 화합물의 농도는 0.001 내지 50 중량 %인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1에 있어서,
상기 강산의 농도는 0.001 내지 50 중량 %인 것을 특징으로 하는 전도성 패턴의 제조방법.
청구항 1의 방법에 의하여 제조된 전도성 패턴.
청구항 13의 전도성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극.
청구항 13의 전도성 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이용 기판.
청구항 15에 있어서,
상기 기판은 플렉서블(flexible) 기판인 것을 특징으로 하는 디스플레이용 기판.