KR101503556B1 - Method for picking up semiconductor chips from a wafer table and method for mounting semiconductor chips on a substrate - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 반도체 칩을 웨이퍼 테이블로부터 픽업하는 방법, 및 선택적으로, 픽-앤-플레이스 시스템에 의해 그들을 기판에 장착시키는 방법에 관한 것이다. 다음에 장착될 반도체 칩의 위치 및 배향이 제1 카메라에 의해서 결정되고, 제1 좌표계에 관한 위치 데이터의 형태로 이용가능하다. 반도체 칩이 장착될 기판 장소의 위치 및 배향은 제2 카메라에 의해서 결정되고, 제2 좌표계에 관한 위치 데이터의 형태로 이용가능하다. 제1 또는 제2 좌표계의 좌표의 픽-앤-플레이스 시스템의 운동의 좌표로의 변환은 2개의 고정 맵핑 함수 및 2개의 변화가능한 교정 벡터에 의해서 실행된다. 교정 벡터는 소정의 사건(이벤트) 발생시 재조정된다.The present invention relates to a method of picking up a semiconductor chip from a wafer table and, optionally, a method of mounting them on a substrate by a pick-and-place system. The position and orientation of the semiconductor chip to be mounted next is determined by the first camera and is available in the form of position data relating to the first coordinate system. The position and orientation of the substrate location on which the semiconductor chip is to be mounted is determined by the second camera and is available in the form of position data relating to the second coordinate system. The transformation of the coordinates of the first or second coordinate system to the coordinates of the motion of the pick-and-place system is performed by two fixed mapping functions and two variable calibration vectors. The calibration vector is readjusted when a given event (event) occurs.

Description

웨이퍼 테이블로부터 반도체 칩을 픽업하는 방법 및 반도체 칩을 기판에 장착하는 방법{METHOD FOR PICKING UP SEMICONDUCTOR CHIPS FROM A WAFER TABLE AND METHOD FOR MOUNTING SEMICONDUCTOR CHIPS ON A SUBSTRATE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of picking up a semiconductor chip from a wafer table and a method of mounting the semiconductor chip on a substrate.

본 발명은, 웨이퍼 테이블 상에 제공된 반도체 칩을 픽업하기 위한 청구항 제1항의 전제부에 언급된 유형의 방법에 관한 것이다. 본 발명은, 또한 이동된 반도체 칩을 기판에 장착하기 위한 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of the type mentioned in the preamble of claim 1 for picking up a semiconductor chip provided on a wafer table. The present invention also relates to a method for mounting a shifted semiconductor chip on a substrate.

반도체 칩의 장착을 위한 장착 머신은 이 분야에서는 다이 본더(die bonder)로서 알려져 있다. 장착 머신은 칩 캐리어(chip carrier) 상에 서로 인접하여 위치한 웨이퍼(wafer)의 수많은 균일한 칩들을 기판에, 예를 들면 금속성 리드 프레임에 잇따라 장착시키기 위해서 사용된다. 다이 본더는 칩 캐리어가 위치되는 웨이퍼 테이블, 기판을 공급하기 위한 이송 시스템, 및 반도체 칩을 칩 캐리어로부터 이동시키고 그들을 기판에 놓기 위한 픽-앤-플레이스 시스템(pick-and-place system)을 포함한다. 픽-앤-플레이스 시스템은 구동 시스템에 의해서 앞뒤로 움직이는 칩 그리퍼(chip gripper)를 구비한 본딩 헤드(bonding head)를 포함한다. 칩 그리퍼는 수직 축을 중심으로 회전할 수 있어서, 필요하다면 반도체 칩의 회전 지점이 변경될 수 있다. 칩 그리퍼는 교체가능한 그리핑 부재(gripping member)를 포함하며, 그것은 그에 진공이 적용될 수 있는 흡입 부재이고, 그것은 이 분야에서는 "픽-업 툴(pick-up tool)" 또는 "다이 콜릿(die collet)"로 알려져 있다.A mounting machine for mounting a semiconductor chip is known in the art as a die bonder. The mounting machine is used to mount a number of uniform chips of a wafer located next to each other on a chip carrier onto a substrate, for example, a metal lead frame. The die bonder includes a wafer table on which the chip carrier is located, a transfer system for supplying the substrate, and a pick-and-place system for transferring the semiconductor chips from the chip carrier and placing them on the substrate . The pick-and-place system includes a bonding head with a chip gripper moving back and forth by the drive system. The chip gripper can rotate about a vertical axis, so that the turning point of the semiconductor chip can be changed if necessary. The chip gripper includes a replaceable gripping member, which is a suction member to which a vacuum can be applied, which in the art is referred to as a "pick-up tool" or a "die collet ).

이러한 유형의 장착 머신에 극도로 높은 요구사항들이 존재한다. 그들은 장착된 칩의 추가적인 처리를 위해서 기판 상에 정확한 위치로 놓일 필요가 있다. 반도체 칩이 마이크로미터 범위 내에 놓이는 정확도로 기판에 놓일 수 있는 것을 보장하기 위해서 2개의 카메라가 다이 본더에 제공된다. 제1 카메라는 칩 그리퍼로 픽업될 반도체 칩의 위치를 측정하고, 제1 좌표계에 관한 위치 데이터를 제공한다. 제2 카메라는 반도체 칩이 놓일 필요가 있는 기판 장소의 위치를 측정하고, 제2 좌표계에 관한 위치 데이터를 제공한다. 픽-앤-플레이스 시스템은 카메라에 의해서 제공된 정보에 기초하여, 칩 그리퍼가 웨이퍼 테이블로부터 반도체 칩을 이동시킬 수 있고 그것을 기판 장소의 적절한 장소에 정확한 위치적 방식으로 놓을 수 있도록 본딩 헤드를 제어한다. 픽-앤-플레이스 시스템의 위치는 카메라의 좌표계와 무관한 제3 좌표계와 관련된다.Extremely high requirements exist for this type of mounting machine. They need to be placed in the correct position on the substrate for further processing of the mounted chip. Two cameras are provided in the die bonder to ensure that the semiconductor chip can be placed on the substrate with an accuracy that lies within the micrometer range. The first camera measures the position of the semiconductor chip to be picked up by the chip gripper, and provides position data on the first coordinate system. The second camera measures the position of the substrate place where the semiconductor chip needs to be placed and provides position data about the second coordinate system. The pick-and-place system controls the bonding head based on the information provided by the camera so that the chip gripper can move the semiconductor chip from the wafer table and place it precisely in a proper location on the substrate site. The location of the pick-and-place system is related to a third coordinate system that is independent of the camera's coordinate system.

다이 본더의 작동 중, 상이한 조건에 기인하여 3개의 좌표계의 상대 위치가 변할 수 있다는 문제점이 발생한다. 의도적으로 또는 비의도적으로 다이 본더의 상이한 위치들에서의 온도가 종종 변화한다. 이것은 대부분 제1 카메라의 좌표계 또는 제2 카메라의 좌표계에서 결정된 표적 좌표(target coordinate)를 픽-앤-플레이스 시스템을 위한 운동 좌표로 변환시키는 것이 더 이상 요구되는 만큼 정확하지 못한 결과로 이어진다.There arises a problem that, during operation of the die bonder, the relative positions of the three coordinate systems may vary due to different conditions. Intentionally or unintentionally, the temperatures at the different locations of the die bonder often change. This results in the most inaccurate result as it is no longer necessary to convert the target coordinates determined in the first camera's coordinate system or the second camera's coordinate system to the motion coordinates for the pick-and-place system.

본 발명은, 외부의 환경 및 변화에 무관하게 높은 정확도의 배치를 보장하는 반도체 칩을 픽업하고 장착시키는 방법을 제공하는 목적에 기초한다. 이러한 목적은 청구항 제1항의 특징에 의해서 본 발명에 따라서 달성된다.The present invention is based on the object of providing a method of picking up and mounting a semiconductor chip that ensures a high accuracy placement regardless of the external environment and variations. This object is achieved according to the invention by the features of claim 1.

본 발명은, 반도체 칩을 픽업하고, 선택적으로는 기판에 장착시키기 위한 방법으로서,The present invention provides a method for picking up a semiconductor chip and optionally mounting it on a substrate,

- 반도체 칩이 웨이퍼 테이블에 제공되고;A semiconductor chip is provided on the wafer table;

- 기판이 차례로 기판 테이블에 제공되고;The substrate being provided in turn on the substrate table;

- 제1 카메라는, 웨이퍼 테이블 상에 제공되고 그 다음으로 장착될 반도체 칩의 위치 및 배향을 검출하고;The first camera is provided on the wafer table and then detects the position and orientation of the semiconductor chip to be mounted;

- 제2 카메라는, 반도체 칩이 장착될 기판 장소의 위치 및 배향을 검출하며; 그리고- the second camera detects the position and orientation of the substrate location on which the semiconductor chip is to be mounted; And

- 칩 그리퍼는 웨이퍼 테이블 상에 제공된 반도체 칩을 픽업하고 그것을 기판에 장착시키며, 칩 그리퍼는 본딩 헤드에 유지되고, 바람직하게는 2개의 선형 구동 장치를 구비한 픽-앤-플레이스 시스템은 칩 그리퍼를 구비한 본딩 헤드를 웨이퍼 테이블과 기판 사이에서 전후로 이송한다.The chip gripper picks up the semiconductor chip provided on the wafer table and mounts it on the substrate, the chip gripper is held in the bonding head, and the pick-and-place system, preferably with two linear drivers, The bonding head is transferred between the wafer table and the substrate back and forth.

본 발명에 따르면, 제1 카메라에 의해서 검출되는 다음에 장착될 반도체 칩의 위치는 제1 좌표계 KS1에 관한 위치 데이터의 형태로 제공되며, 반도체 칩이 장착될 기판 장소의 위치는 제2 좌표계 KS2에 관한 위치 데이터의 형태로 제공되고, 본딩 헤드의 위치는 제3 좌표계 KS3과 관련된다.According to the present invention, the position of the next semiconductor chip to be mounted, which is detected by the first camera, is provided in the form of position data relating to the first coordinate system KS 1 , 2 , and the position of the bonding head is related to the third coordinate system KS 3 .

본 발명은, 그것의 위치가 카메라에 의해서 측정될 수 있는 마킹(marking)을 본딩 헤드에 제공하는 것을 제안한다. 구조적인 이유로 상기 마킹이 카메라의 초점 평면(focal plane)에 배치될 수 없기 때문에, 본 발명은 추가적으로 바람직한 실시 형태에서 상기 마킹 위에 렌즈를 부착하는 것을 제안하며, 상기 렌즈는 상기 마킹이 또한 매우 뚜렷한 방식으로 이미징되는 것을 보장한다.The present invention proposes to provide a marking to the bonding head whose position can be measured by a camera. Since the marking can not be placed in the focal plane of the camera for structural reasons, the present invention further proposes attaching a lens over the marking in a preferred embodiment, said lens being characterized in that the marking is also in a very distinct manner Lt; / RTI >

본 발명은, 추가적으로 제1 좌표계 KS1의 좌표를 픽-앤-플레이스 시스템의 제3 좌표계 KS3으로 변환시키기 위해서 제1 고정 맵핑 함수(fixed mapping function) F와 제1 변경가능한 교정 벡터(changeable correction vector) K1을 사용하고, 제2 좌표계 KS2의 좌표를 픽-앤-플레이스 시스템의 제3 좌표계 KS3으로 변환시키기 위해서 제2 고정 맵핑 함수 G와 제2 변경가능한 교정 벡터 K2를 사용하는 것을 제안한다. 다이 본더가 최초로 설정될 때 또는 다이 본더의 일반적인 새로운 설정의 경우에, 한편으로는 맵핑 함수 F 및 G 및 그들의 역함수가 결정되고, 2개의 교정 벡터 K1 및 K2가 영으로 설정된다. 다이 본더의 그 다음의 일반적인 새로운 설정까지 맵핑 함수 F 및 G가 변경되지 않는 반면에, 교정 벡터 K1 및 K2는 소정의 사건(이벤트)(event) 발생시 재조정된다. 소정의 사건(event)은, 위치 정확도가 감소될 정도로 3개의 좌표계 KS1, KS2, KS3의 상대 위치가 서로에 대해서 변경될 가능성이 높은 것으로 예상될 수 있는 사건(이벤트)으로서 이해될 수 있다.The present invention further includes a first fixed mapping function F and a first changeable correction function F to transform the coordinates of the first coordinate system KS 1 into a third coordinate system KS 3 of the pick- using the vector) K 1, and the coordinates pick of the second coordinate system KS 2-and-place system, a third coordinate system, using a second fixed mapping function G with a second changeable correction vector K 2 in order to convert the KS 3 in Lt; / RTI > When the die bonder is initially set, or in the case of a general new setting of the die bonder, on the one hand the mapping functions F and G and their inverse functions are determined and the two calibration vectors K 1 and K 2 are set to zero. The calibration functions K 1 and K 2 are readjusted when a given event (event) occurs, while the mapping functions F and G are not changed until the next general new setting of the die bonder. The predetermined event can be understood as an event (event) which can be expected to have a high possibility that the relative positions of the three coordinate systems KS 1 , KS 2 , KS 3 are changed relative to each other such that the position accuracy is reduced have.

본 발명은 외부의 환경 및 변화에 무관하게 높은 정확도의 배치를 보장하는 반도체 칩을 픽업하고 장착시키는 방법을 제공하는 효과가 있다. The present invention has an effect of providing a method of picking up and mounting a semiconductor chip that ensures a high accuracy placement regardless of external environment and change.

본 명세서에 편입되어 본 명세서의 일부를 구성하는 첨부된 도면은, 본 발명의 하나 이상의 실시예를 도시하며, 상세한 설명과 함께 본 발명의 원리와 구현을 설명하는 역할을 한다. 도면은 실척이 아니다.
도 1은 반도체 칩의 장착을 위한 장착 머신의 평면도를 도시하며;
도 2는 카메라, 본딩 헤드 및 웨이퍼 테이블의 측면도를 도시하며, 그리고
도 3은 본딩 헤드 및 3개의 상이한 좌표계의 평면도를 도시한다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of this specification, illustrate one or more embodiments of the invention and, together with the description, serve to explain the principles and implementations of the invention. The drawings are not exhaustive.
1 shows a top view of a mounting machine for mounting a semiconductor chip;
Figure 2 shows a side view of the camera, bonding head and wafer table, and
Figure 3 shows a top view of the bonding head and three different coordinate systems.

도 1은 본 발명의 이해를 위해서 필요한 한도에서, 반도체 칩의 장착을 위한 장착 머신인, 소위 다이 본더(die bonder)의 평면도를 개략적으로 도시한다. 도 2는 장착 머신의 부품들을 측면도로 도시한다. 다이 본더는 장착될 반도체 칩(2)이 제공되는 웨이퍼 테이블(wafer table)(1), 장착될 기판(4)이 이송 장치(미도시)에 의해서 제공되는 기판 테이블(3), 및 웨이퍼 테이블(1)로부터 반도체 칩(2)을 픽업하여 그것을 기판(4)에 놓는 픽-앤-플레이스 시스템(pick-and-place system)(5), 및 2개의 카메라(6, 7)를 포함한다. 픽-앤-플레이스 시스템(5)은 교체가능한 칩 그리퍼(9)(도 2)를 구비하는 본딩 헤드(8), 및 x-방향과 y-방향으로 지정되는 2개의 직교 방향으로 본딩 헤드(8)를 이동시키기 위한 2개의 선형, 위치-제어 구동 장치(linear, position-controlled drive)를 포함한다. 제3 구동 장치(미도시)는 본딩 헤드(8) 또는 칩 그리퍼(9)를 도시면에 대해서 수직으로 연장되는 z-방향으로 상승 및 하강시키기 위해서 사용된다. 제1 카메라(6)는 이동될 다음 반도체 칩(2)의 위치를 결정하기 위해서 사용된다. 제2 카메라(7)는 반도체 칩(2)이 놓일 기판(4) 상의 기판 장소의 위치를 결정하기 위해서 사용된다. 제1 카메라(6)는 일반적으로 고정된 방식으로 배치된다. 제2 카메라(7)는 또한 고정된 방식으로 배치되거나 또는 기판(4)의 표면에 평행하게 연장되는 최소한 하나 또는 2개의 방향으로 별도의 구동 장치로 움직일 수 있다. 이러한 픽-앤-플레이스 시스템(5)은 예를 들면 EP 923,111, EP 1,480,507, DE 102004026534 및 EP 1,612,843 호로부터 알려져 있다.Fig. 1 schematically shows a plan view of a so-called die bonder, which is a mounting machine for mounting a semiconductor chip, to the extent necessary for the understanding of the present invention. Figure 2 shows parts of a mounting machine in side view. The die bonder comprises a wafer table 1 provided with a semiconductor chip 2 to be mounted thereon, a substrate table 3 provided with a transfer device (not shown), and a wafer table 3 A pick-and-place system 5 for picking up the semiconductor chip 2 from the substrate 1 and placing it on the substrate 4, and two cameras 6 and 7. The pick-and-place system 5 includes a bonding head 8 having a replaceable chip gripper 9 (Fig. 2), and bonding heads 8 in two orthogonal directions designated in the x- and y- And two linear, position-controlled drives for moving the wheels. A third drive (not shown) is used to raise and lower the bonding head 8 or the chip gripper 9 in the z-direction extending perpendicularly to the view plane. The first camera 6 is used to determine the position of the next semiconductor chip 2 to be moved. The second camera 7 is used to determine the position of the substrate place on the substrate 4 on which the semiconductor chip 2 is to be placed. The first camera 6 is generally arranged in a fixed manner. The second camera 7 can also be moved in a fixed manner or in a separate driving device in at least one or two directions extending parallel to the surface of the substrate 4. [ Such a pick-and-place system 5 is known, for example, from EP 923,111, EP 1,480,507, DE 102004026534 and EP 1,612,843.

마킹(marking)(10)(도 2)은 본딩 헤드(8)가 제1 카메라(6)의 시야에 위치할 때 그것이 제1 카메라(6)에 의해서 제공되는 이미지 안에서 보일 수 있도록, 그리고 본딩 헤드(8)가 제2 카메라(7)의 시야에 위치할 때 그것이 제2 카메라(7)에 의해서 제공되는 이미지 안에서 보일 수 있도록 본딩 헤드(8)에 측면으로 부착된다.The marking 10 (Fig. 2) is used to allow the bonding head 8 to be visible in the image provided by the first camera 6 when the bonding head 8 is positioned in the field of view of the first camera 6, When the second camera 7 is positioned in the field of view of the second camera 7, it is laterally attached to the bonding head 8 so that it can be seen in the image provided by the second camera 7.

도 2는 제1 카메라(6), 본딩 헤드(8) 및 웨이퍼 테이블(1)의 측면도를 도시한다. 도면에서 라인들(6a)에 의해서 한정된 그것의 시야는 웨이퍼 테이블(1)을 향하여서, 그에 의해서 제공된 이미지 내에는 이동될 다음 반도체 칩(2)은 매우 뚜렷하게 이미징된다. 제1 카메라(6)의 초점 평면은 이동될 반도체 칩(2)에 의해서 한정되는 평면에 놓인다. 제2 카메라(7)(도 1)의 초점 평면은 장착될 기판(4)의 평면에 의해서 한정되는 평면에 놓인다. 초점 평면의 조정 없이는 양 카메라(6, 7)에 의해서 매우 뚜렷하게 이미징되도록 본딩 헤드(8)에 마킹(10)을 부착시키는 것이 불가능하다. 마킹(10)이 매우 뚜렷한 방식으로 이미징되는 것을 보장하기 위해서, 유리하게는 렌즈(11)가 본딩 헤드(8)에 마킹(10)보다 위에 부착된다. 렌즈(11)는 마킹(10)과 각각의 카메라(6, 7) 사이에 위치하며, 마킹(10)이 각각의 카메라(6, 7)의 이미지에 충분히 선명하게 뚜렷한 방식으로 이미징되는 것을 보장한다. 마킹(10)이 선명하게 뚜렷한 방식으로 이미징되는 것을 보장하기 위해서, 렌즈(11)를 제공하는 것 대신에 카메라의 초점 평면을 조정하는 것을 또한 예상할 수 있다. 렌즈(11)의 결과 카메라(6, 7)의 렌즈 시스템의 더욱 작은 조정 범위가 필요하기 때문에, 렌즈(11)에 의한 해결책은 더욱 간단하고, 더욱 빠르며, 더욱 비용-효율적이다.Fig. 2 shows a side view of the first camera 6, the bonding head 8 and the wafer table 1. Fig. Its field of view defined by the lines 6a in the figure is directed towards the wafer table 1 and the next semiconductor chip 2 to be moved in the image provided thereby is very clearly imaged. The focal plane of the first camera 6 lies in a plane defined by the semiconductor chip 2 to be moved. The focal plane of the second camera 7 (Fig. 1) lies in a plane defined by the plane of the substrate 4 to be mounted. Without the adjustment of the focal plane, it is impossible to attach the marking 10 to the bonding head 8 so as to be imaged very clearly by both cameras 6, To ensure that the marking 10 is imaged in a very distinct manner, advantageously the lens 11 is attached to the bonding head 8 above the marking 10. The lens 11 is located between the marking 10 and each of the cameras 6 and 7 and ensures that the marking 10 is imaged in a clear and clearly defined manner to the image of each camera 6,7 . It may also be expected to adjust the focus plane of the camera instead of providing the lens 11 to ensure that the marking 10 is imaged in a clearly defined manner. Since a smaller adjustment range of the lens system of the resultant camera 6, 7 of the lens 11 is required, the solution by the lens 11 is simpler, faster, and more cost-effective.

제1 카메라(6)는 이미지 데이터로부터 다음에 장착될 반도체 칩(2)의 위치 및 배향을 결정하는 제1 이미지 처리 유닛에 그것의 이미지 데이터를 공급하고, 그들을 제1 좌표계 KS1 에 관한 위치 데이터의 형태로 제공한다. 이들 위치 데이터는 3개의 수(p, q, φ)로 구성되며, 2개의 수 p 및 q는 반도체 칩(2)의 기준점의 위치를 지정하고, 수 φ는 반도체 칩(2)이 그것의 설정점(setpoint) 위치에 대해서 회전하는 각도를 결정한다. The first camera 6 supplies its image data to the first image processing unit which determines the position and orientation of the semiconductor chip 2 to be mounted next from the image data and sets them as position data on the first coordinate system KS 1 . The two numbers p and q designate the position of the reference point of the semiconductor chip 2 and the number? Designates the position of the semiconductor chip 2 in its setting (p, q, Determines the angle of rotation with respect to the setpoint position.

제2 카메라(7)는 이미지 데이터로부터 반도체 칩(2)이 장착될 기판 장소의 위치 및 배향을 결정하는 제2 이미지 처리 유닛에 그것의 이미지 데이터를 공급하고, 그들을 제2 좌표계 KS2에 관한 위치 데이터의 형식으로 제공한다. 이들 위치 데이터는 3개의 수 (u, v, ψ)로 구성되며, 수 u 및 v는 기판 장소의 위치의 기준점의 위치를 표시하고, 수 ψ는 기판 장소가 그것의 설정점 위치에 대하여 회전하는 각도를 표시한다.The second camera 7 is located on the supply of its image data to the second image processing unit for determining the position and orientation of the substrate location where the semiconductor chip 2 is attached from the image data, and those in the second coordinate system KS 2 Provided in the form of data. These position data are composed of three numbers (u, v, ψ), numbers u and v indicate the position of the reference point at the position of the substrate place, and number ψ is the position Displays the angle.

픽-앤-플레이스 시스템의 제1 선형 구동 장치는 수 xM을 공급하고, 픽-앤-플레이스 시스템의 제2 선형 구동 장치는 수 yM을 공급하며, 그것은 함께 제3 좌표계 KS3 에 관한 마킹(10)의 위치(xM, yM)를 표시하는 위치 데이터를 형성한다. The first linear driver of the pick-and-place system supplies a number x M and the second linear driver of the pick-and-place system supplies the number y M , which together with the markings on the third coordinate system KS 3 (X M , y M ) of the display unit 10 is formed.

칩 그리퍼(9)는 회전 축(12)(도 2)을 중심으로 회전할 수 있다. 칩 그리퍼(9)의 흡입 개구는 칩 그리퍼(9)의 그리퍼 축(13)(도 2)의 위치를 한정한다. 제3 좌표계 KS3의 그리퍼 축(13)의 위치(xG, yG)는,The chip gripper 9 can rotate around a rotational axis 12 (Fig. 2). The suction opening of the chip gripper 9 defines the position of the gripper shaft 13 (Fig. 2) of the chip gripper 9. The position (x G , y G ) of the gripper shaft 13 of the third coordinate system KS 3 ,

(xG, yG) = (xM, yM) + D + E (x G, y G) = (x M, y M) + D + E

로 주어지며, Lt; / RTI >

여기서 벡터 D는 마킹(10)의 위치(xM, yM)에 관한 회전 축(12)의 위치를 나타내며, 벡터 E는 회전 축(12)의 위치에 관한 그리퍼 축(13)의 위치를 나타낸다. 벡터 D는 한번 결정될 고정된 벡터이다. 벡터 E는 칩 그리퍼(9)와 함께 회전하는 벡터이다: 그것의 길이는 고정된 양을 가지나, 그것의 방향은 칩 그리퍼(9)가 회전 축(12)을 중심으로 회전할 때 변한다. 이상적인 경우에는, 회전 축(12) 및 그리퍼 축(13)은 칩 그리퍼(9)의 회전 위치와 무관하게 항상 일치한다, 즉, E = 0이다.Where vector D represents the position of the rotary axis 12 with respect to the position (x M , y M ) of the marking 10 and vector E represents the position of the gripper axis 13 with respect to the position of the rotary axis 12 . The vector D is a fixed vector to be determined once. Vector E is a vector that rotates with the chip gripper 9: its length has a fixed amount, but its direction changes as the chip gripper 9 rotates about the rotational axis 12. In the ideal case, the rotary shaft 12 and the gripper shaft 13 always coincide irrespective of the rotational position of the chip gripper 9, that is, E = 0.

도 3은 3개의 좌표계 KS1, KS2 및 KS3 사이의 상관관계를 도시한다. 반도체 칩(2)이 정확하게 위치되는 방식으로 기판(4) 상에 위치될 수 있는 것을 보장하기 위해서, 그것은 제1 좌표계 KS1 및 제2 좌표계 KS2 양자에서의 칩 그리퍼(9)의 그리퍼 축(13)의 현재 위치를 계산할 수 있어야 한다. 따라서 제1 맵핑 함수 F는 장착 머신의 최초의 셋업 또는 일반적인 새로운 셋팅에서 결정되며, 함수 F는 제1 좌표계 KS1을 제3 좌표계 KS3으로 맵핑한다. 이것은 마킹(10)의 도움으로 실행된다 : 픽-앤-플레이스 시스템(5)의 2개의 선형 구동장치는 마킹(10)을 구비한 본딩 헤드(8)를 제1 카메라(6)의 시야 범위 내에서 n = 1 내지 k 인 k개의 상이한 위치(xn, yn)로 이동시키고, 제1 이미지 처리 유닛은 제1 카메라(6)에 의해서 공급된 이미지로부터 마킹(10)의 관련 위치(pn, qn)를 결정한다. 제1 맵핑 함수 F는 획득된 데이터 기록으로부터 계산된다. 이어서 다음이 적용된다:Figure 3 shows the correlation between the three coordinate systems KS 1 , KS 2 and KS 3 . In order to ensure that the semiconductor chip 2 can be placed on the substrate 4 in a precisely positioned manner, it is necessary to have a first coordinate system KS 1 and a second coordinate system KS 2 Be able to calculate the current position of the gripper shaft 13 of the chip gripper 9 in both. Thus, the first mapping function F is determined in the initial setup of the mounting machine or in the general new setting, and the function F maps the first coordinate system KS 1 to the third coordinate system KS 3 . This is accomplished with the aid of the marking 10: the two linear drivers of the pick-and-place system 5 allow the bonding head 8 with the markings 10 to move within the field of view of the first camera 6 from n = 1 to k in k different locations and go to (x n, y n), the first image processing unit is related to the position of the marking 10 from the image supplied by the first camera (6) (p n , q n ). The first mapping function F is calculated from the obtained data record. Then the following applies:

(x, y) = F(p, q)(x, y) = F (p, q)

이어서, 맵핑 함수 F의 역함수 F-1가 계산된다, 따라서 The inverse F -1 of the mapping function F is then calculated,

(p, q) = F-1(x, y)(p, q) = F -1 (x, y)

또한, 제1 교정 벡터 K1 은 수치 K1 = 0으로 설정된다.Also, the first calibration vector K 1 is set to the value K 1 = 0.

이와 유사하게, 제2 좌표계 KS2를 제3 좌표계 KS3으로 맵핑하는 제2 맵핑 함수 G 및 그것의 역함수 G-1가 결정된다. 이어서 다음이 적용된다:Similarly, a second mapping function G for mapping the second coordinate system KS 2 to the third coordinate system KS 3 and its inverse function G -1 is determined. Then the following applies:

(x, y) = G(u, v)(x, y) = G (u, v)

및 반대로And vice versa

(u, v) = G-1(x, y)(u, v) = G -1 (x, y)

또한, 제2 교정 벡터 K2는 수치 K2 = 0으로 설정된다.Also, the second calibration vector K 2 is set to the value K 2 = 0.

제1 카메라(6) 및 제1 좌표계 KS1은 픽-앤-플레이스 시스템(5)이 본딩 헤드(8)를 그곳으로 이동시켜야 하는 제1 좌표계 KS1에 관한 표적 좌표를 결정하기 위해서 사용되어서, 칩 그리퍼(9)가 웨이퍼 테이블(1) 상에 제공되는 반도체 칩(2)을 집어올릴 수 있다. 제2 카메라(7) 및 제2 좌표계 KS2는 픽-앤-플레이스 시스템(5)이 본딩 헤드(8)를 그곳으로 이동시켜야 하는 제2 좌표계 KS2에 관한 표적 좌표를 결정하기 위해서 사용되어서, 칩 그리퍼(9)가 반도체 칩(2)을 정확하게 위치되는 방식으로 놓을 수 있다. 모든 계산은 이들 2개의 좌표계 KS1 및 KS2에서 수행된다. 모든 계산이 완료된 후에야, 결정된 표적 좌표가 각각의 맵핑 함수 F 및 G에 의해서 제3 좌표계 KS3의 운동의 좌표로 변환될 것이다. 따라서, 제1 좌표계 KS1에 관한 벡터 D1 및 E1, 및 제2 좌표계 KS2에 관한 벡터 D2 및 E2 양자에 따라서 벡터 D 및 E가 결정된다. 따라서 제3 좌표계 KS3는 이러한 좌표계 KS3에서 어떠한 계산을 수행함 없이 본딩 헤드(8)를 움직이기 위해서 단지 사용된다. 제3 좌표계 KS3는 픽-앤-플레이스 시스템(5)의 메커니즘에 의해서 주어지며, 즉 좌표 x 및 y는 2개의 선형 구동장치의 엔코더(encoder)에 의해서 공급된 위치 값들이고, 따라서 정확한 직교 좌표계가 아니다.The first camera 6 and the first coordinate system KS 1 are used to determine the target coordinates for the first coordinate system KS 1 , where the pick-and-place system 5 should move the bonding head 8 there, The chip gripper 9 can pick up the semiconductor chip 2 provided on the wafer table 1. [ The second camera 7 and the second coordinate system KS 2 is a pick-be used to determine the target coordinates in the second coordinate system to place the system 5 need to move the bonding head 8 there KS 2, - and The chip gripper 9 can place the semiconductor chip 2 in a precisely positioned manner. All calculations are performed in these two coordinate systems KS 1 and KS 2 . After all calculations are complete, the determined target coordinates will be transformed by the respective mapping functions F and G into the coordinates of the motion of the third coordinate system KS 3 . Therefore, vectors D and E are determined in accordance with both vectors D 1 and E 1 relating to the first coordinate system KS 1 and vectors D 2 and E 2 relating to the second coordinate system KS 2 . Therefore, the third coordinate system KS 3 is used only to move the bonding head 8 without performing any calculation in this coordinate system KS 3 . The third coordinate system KS 3 is given by the mechanism of the pick-and-place system 5, i.e. the coordinates x and y are position values supplied by the encoders of the two linear actuators, .

일단 맵핑 함수 F 및 G, 그들의 역함수 F-1 및 G-1, 그리고 벡터 D1, E1, D2 및 E2가 결정되면, 반도체 칩(2)이 차례로 제조 단계에 장착될 수 있으며, 여기서 Once the mapping functions F and G, their inverse functions F -1 and G -1 , and the vectors D 1 , E 1 , D 2 and E 2 are determined, the semiconductor chip 2 can be successively mounted on the manufacturing stage

- 제1 카메라(6)에 의해서 다음 반도체 칩(2)의 이미지가 촬영되고, 반도체 칩(2)의 제1 좌표계 KS1에 관한 위치 데이터(pw, qw, φw)가 이미지로부터 계산되며, 여기서 반도체 칩(2)이 그것의 설정점 위치에 대하여 회전하지 않을 때 φW = 0이다;The image of the next semiconductor chip 2 is photographed by the first camera 6 and the position data (p w , q w , φ w ) concerning the first coordinate system KS 1 of the semiconductor chip 2 is calculated from the image Where φ W = 0 when the semiconductor chip 2 does not rotate with respect to its set point position;

- 칩 그리퍼(9)의 그리퍼 축(13)이 반도체 칩(2)의 기준점을 지나서 통과하도록, 마킹(10)에 의해서 수득될 필요가 있는 제3 좌표계 KS3에 관한 위치(xW, yW)가 다음과 같이 계산된다;(X W , y W) related to the third coordinate system KS 3 that need to be obtained by the marking 10 so that the gripper shaft 13 of the chip gripper 9 passes past the reference point of the semiconductor chip 2. [ ) Is calculated as follows;

(xW, yW) = F[(pW, qW) - D1 - E1 + K1](x W , y W ) = F [(p W , q W ) - D 1 - E 1 + K 1 ]

- 계산된 위치(xW, yW)가 다가오며, 반도체 칩(2)은 칩 그리퍼(9)에 의해서 집어올려진다;- the calculated position (x W , y W ) approaches and the semiconductor chip 2 is picked up by the chip gripper 9;

- 제2 카메라(7)에 의해서 반도체 칩(2)이 장착될 기판 장소의 이미지가 촬영되고, 제2 좌표계 KS2에 관한 기판 장소의 위치 데이터(uS, vS, ψS)가 이미지로부터 계산되며, 여기서 기판 장소가 그것의 설정점 위치에 대하여 회전하지 않을 때 ψS = 0이다;The image of the substrate place on which the semiconductor chip 2 is to be mounted is photographed by the second camera 7 and the position data u S , v S , ψ S of the substrate position with respect to the second coordinate system KS 2 is obtained from the image Where ψ S = 0 when the substrate position is not rotated with respect to its set point position;

- 칩 그리퍼(9)의 그리핑 축(13)이 기판 위치의 기준점을 지나서 통과하도록, 마킹(10)에 의해서 얻을 필요가 있는 제3 좌표계 KS3에 관한 위치(xS, yS)가 다음과 같이 계산된다;The position (x S , y S ) related to the third coordinate system KS 3 , which is required to be obtained by the marking 10, is set so that the gripping axis 13 of the chip gripper 9 passes past the reference point of the substrate position, Lt; / RTI >

(xS, yS) = G[(uS, vS) - D2 - E2 + K2](x S , y S ) = G [(u S , v S ) - D 2 - E 2 + K 2 ]

- 계산된 위치(xS, yS)가 다가오며, 칩 그리퍼(9)는 선택적으로 약 각도 ψS - φS 만큼 회전하며, 반도체 칩(2)은 기판 장소에 놓인다.The calculated position (x S , y S ) is approaching and the chip gripper 9 is optionally rotated by a weak angle ψ S - φ S , and the semiconductor chip 2 is placed in the substrate place.

전체 제조 동안 다이 본더의 배치 정확도를 동일한 높은 수준으로 유지하기 위해서, 제1 교정 벡터 K1 및 제2 교정 벡터 K2의 재조정이 소정의 사건(이벤트) 발생 동안 수행된다. 본딩 헤드(8)에 제공된 마킹(10)이 사용되며, 상기 마킹은 제1 교정 벡터 K1의 재조정을 위해서 제1 카메라(6)의 시야 내로 놓이며, 및 제2 교정 벡터 K2의 재조정을 위해서 제2 카메라(7)의 시야 내로 놓인다. 제1 교정 벡터 K1의 재조정은 다음의 단계에 의해서 발생한다:In order to maintain the placement accuracy of the die bonder at the same high level during the whole fabrication, readjustment of the first calibration vector K 1 and the second calibration vector K 2 is performed during the occurrence of the predetermined event (event). The marking 10 provided on the bonding head 8 is used and the marking is placed into the field of view of the first camera 6 for readjustment of the first calibration vector K 1 and the readjustment of the second calibration vector K 2 In the field of view of the second camera 7. Recalibration of the first calibration vector K 1 occurs by the following steps:

- 마킹(10)이 제1 카메라(6)의 시야 내에 위치되는 설정점 위치 R = (xR, yR)로 본딩 헤드(8)를 이동시키는 단계로, 여기서 좌표(xR, yR)는 제3 좌표계 KS3과 관련된다.Moving the bonding head 8 to a set point position R = (x R , y R ) where the marking 10 is located within the field of view of the first camera 6, wherein the coordinates (x R , y R ) Is associated with the third coordinate system KS 3 .

- (pR, qR) = F-1(xR, yR)에 따라서 제1 좌표계 KS1에 관한 마킹(10)의 설정점 위치(pR, qR)를 계산하는 단계;calculating a set point position (p R , q R ) of the marking (10) with respect to the first coordinate system KS 1 according to (p R , q R ) = F -1 (x R , y R );

- 제1 카메라(6)로 마킹(10)의 이미지를 촬영하는 단계, 제1 좌표계 KS1에 관한 마킹(10)의 실제 위치(pM, qM)를 결정하기 위해서 제1 카메라(6)의 이미지를 사용하는 단계;- photographing the image of the marking (10) with the first camera (6), - determining the actual position (p M , q M ) of the marking (10) with respect to the first coordinate system KS 1 , ≪ / RTI >

- 근접한 설정점 위치와 측정된 실제 위치 사이의 차이에 따라서 제1 교정 벡터 K1을 계산하는 단계:Calculating a first calibration vector K 1 in accordance with a difference between a setpoint position close to the measured position and the measured actual position;

K1 = (pR, qR) - (pM, qM).K 1 = (p R , q R ) - (p M , q M ).

제1 교정 벡터 K1이 제1 좌표계 KS1과 관련된다는 것은 자명하다.It is obvious that the first calibration vector K 1 is associated with the first coordinate system KS 1 .

제2 교정 벡터 K2의 재조정이 유사하게 다음의 단계에 의하여 발생한다:The readjustment of the second calibration vector K 2 similarly occurs by the following steps:

- 마킹(10)이 제2 카메라(7)의 시야에 위치되는 설정점 위치 T= (xT, yT)로 본딩 헤드(8)를 이동시키는 단계로, 여기서 좌표(xT, yT)는 제3 좌표계 KS3과 관련된다;Moving the bonding head 8 to a set point position T = (x T , y T ) where the marking 10 is located in the field of view of the second camera 7, wherein the coordinates (x T , y T ) Is associated with the third coordinate system KS 3 ;

- (uT, vT) = G-1(xT, yT)에 따라서 제2 좌표계 KS2에 관한 마킹(10)의 설정점 위치(uT, vT)를 계산하는 단계;calculating a set point position (u T , v T ) of the marking (10) with respect to the second coordinate system KS 2 according to - (u T , v T ) = G -1 (x T , y T );

- 제2 카메라(7)로 마킹(10)의 이미지를 촬영하는 단계, 제2 좌표계 KS2에 관한 마킹(10)의 실제 위치(uM, vM)를 결정하기 위해서 카메라(7)의 이미지를 사용하는 단계;- photographing the image of the marking (10) with the second camera (7), determining the actual position (u M , v M ) of the marking (10) with respect to the second coordinate system KS 2 ;

- 근접한 설정점 위치와 측정된 실제 위치 사이의 차이에 따라서 제2 교정 벡터 K2를 계산하는 단계:Calculating a second calibration vector K 2 according to the difference between the set point position proximate and the measured actual position:

K2 = (uT, vT) - (uM, vM).K 2 = (u T , v T ) - (u M , v M ).

제2 교정 벡터 K2가 제2 좌표계 KS2와 관련된다는 것은 명백하다.It is clear that the second calibration vector K 2 is associated with the second coordinate system KS 2 .

교정 벡터 K1 및 K2의 재조정을 시작케할 수 있는 상이한 사건(이벤트)들, 특히 다음의 4가지 사건(이벤트)들이 있다:There are different events (events) that can trigger the readjustment of the calibration vectors K 1 and K 2 , in particular the following four events:

- 최종 보정 이후, 소정의 수의 반도체 칩(2)이 장착된다;After the final correction, a predetermined number of semiconductor chips 2 are mounted;

- 최종 보정 이후, 픽-앤-플레이스 시스템(5)의 소정의 위치에서 측정된 온도가 소정의 수치 이상 만큼 변화된다;After the final correction, the measured temperature at a predetermined position of the pick-and-place system 5 is changed by a predetermined value or more;

- 제조가 정지된다;- production ceases;

- 장착 후에 제2 카메라(7)에 의해서 검출되고 계산된 장착된 반도체 칩의 실제 위치는 설정점 위치로부터 소정의 양 이상 만큼 이탈된다.The actual position of the mounted semiconductor chip detected and calculated by the second camera 7 after mounting is shifted by a predetermined amount or more from the set point position.

교정 벡터 K1 및 K2의 재조정 완료 후, 반도체 칩(2)의 장착은 상기 기재된 단계에 따라서 계속될 수 있으나, 업데이트된 교정 벡터 K1 및 K2는 현재 0과 다를 수 있다.After the completion of the rebalancing of the calibration vectors K 1 and K 2 , the mounting of the semiconductor chip 2 may continue according to the steps described above, but the updated calibration vectors K 1 and K 2 may be different from zero at present.

본 발명은, 기판(4)을 위한 플랫폼(platform)(3) 및 웨이퍼 테이블(1)이 평행한 평면에 배치되는 공지된 픽-앤-플레이스 시스템 뿐만 아니라, 기판을 위한 플랫폼(3) 및 웨이퍼 테이블(1)이 서로에 대해서 경사진 방식으로 배치되며 본딩 헤드(8)가 x-방향 및 y-방향으로의 이동에 더하여 수평축을 중심으로 선회하는 운동을 수행하는 유럽 특허 EP 1,480,507에 기재된 픽-앤-플레이스 시스템에도 적용될 수 있다.The present invention relates to a platform 3 for a substrate 4 and a known pick-and-place system in which the wafer table 1 is arranged in a parallel plane, as well as a platform 3 for a substrate, In the case of the pick-and-place method described in European Patent EP 1,480,507 in which the table 1 is disposed in an inclined manner with respect to each other and the bonding head 8 performs a movement about the horizontal axis in addition to the movement in the x- and y- It can also be applied to an ' -place system.

상술한 실시 형태는, 조정 및 재조정을 위해서 본딩 헤드가 제1 설정점 위치 R 및 제2 설정점 위치 T로 각각 이동하며, 제3 좌표계 KS3에 관한 제1 설정점 위치 R 및 제2 설정점 위치 T의 좌표가 저장되고 2개의 교정 벡터 K1 및 K2를 재조정하기 위해서 사용되는 바람직한 실시 형태이다. 이 실시예에서, 마킹(10)의 각각의 설정점 위치는 각각 역함수 F-1 및 G-1에 의해서 계산된다. 본딩 헤드(8)가 제1 또는 제2 설정점 위치에 위치될 때, 제1 좌표계 KS1에 관한 마킹(10)의 좌표[또는 본딩 헤드(8)의 어떤 다른 임의의 기준점] 또는 제2 좌표계 KS2에 관한 마킹(10)의 좌표[또는 본딩 헤드(8)의 어떤 다른 임의의 기준점]가 추가적으로 저장되고, 이어서 2개의 교정 벡터 K1 및 K2의 재조정을 위해서 사용되는 추가적인 실시 형태가 아래에서 설명된다.In the above-described embodiment, the bonding head moves to the first set point position R and the second set point position T, respectively, for adjustment and re-adjustment, and the first set point position R and the second set point R about the third coordinate system KS 3 Is the preferred embodiment in which the coordinates of the position T are stored and used to readjust the two calibration vectors K 1 and K 2 . In this embodiment, each set point position of the marking 10 is calculated by the inverse functions F -1 and G -1 , respectively. When the bonding head 8 is located at the first or second set point position, the coordinates of the marking 10 with respect to the first coordinate system KS 1 (or any other arbitrary reference point of the bonding head 8) Additional embodiments in which the coordinates of the marking 10 with respect to KS 2 (or any other reference point of the bonding head 8) are additionally stored and which are then used for readjustment of the two calibration vectors K 1 and K 2 , .

픽-앤-플레이스 시스템은 웨이퍼 테이블로부터 반도체 칩을 픽업하기 위한 픽 시스템(pick system)을 부품으로서 포함한다. 제3 좌표계 KS3는 픽 시스템 또는 픽-앤-플레이스 시스템에 내재하는 좌표계이며, 따라서 이하에서는 좌표계 KS로 언급될 것이다. 재조정이 수행될 수 있는 것을 보장하기 위해서, 제1 카메라(6)의 시야에 위치하는 제1 설정점 위치로 본딩 헤드(8)가 이동하는 설정 단계(setup phase)에서 조정이 최초로 수행되며, 좌표계 KS에 관한 제1 설정점 위치의 좌표(xSP1, ySP1) 및 제1 카메라(6)의 좌표계 KS1에 관한 제1 설정점 위치의 좌표(pSP1, qSP1)가 결정되고 저장된다. 재조정은 제조 단계에서 발생하여, 본딩 헤드(8)가 제1 설정점 위치의 좌표(xSP1, ySP1)로 이동되고 제1 카메라(6)의 좌표계 KS1에 관한 설정점 위치의 좌표(pSP1', qSP1')가 다시 결정된다. 차이 벡터(pSP1', qSP1') - (pSP1, qSP1)는 설정 이후 발생한 좌표계 KS에 관한 제1 좌표계 KS1의 변위에 관한 정보를 포함한다. 본딩 헤드(8)의 어떠한 임의의 기준점이 제1 좌표계 KS1에 관한 본딩 헤드(8)의 제1 설정점 위치의 한정을 위해서 사용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 언급된 마킹(10)이 기준점의 한정을 위해서 사용된다.The pick-and-place system includes as a part a pick system for picking up a semiconductor chip from the wafer table. The third coordinate system KS 3 is a coordinate system inherent in the pick system or the pick-and-place system, and will be referred to hereinafter as the coordinate system KS. Adjustment is first performed in a setup phase in which the bonding head 8 moves to a first set point position located in the field of view of the first camera 6, (P SP1 , q SP1 ) of the first set point position with respect to the coordinate system KS 1 of the first camera 6 and the coordinates (x SP1 , y SP1 ) of the first set point position with respect to the first camera 6 are determined and stored. The re-adjustment takes place at the manufacturing stage so that the bonding head 8 is moved to the coordinates (x SP1 , y SP1 ) of the first set point position and the coordinates p (x SP1 , y SP1 ) of the set point position with respect to the coordinate system KS 1 of the first camera 6 SP1 ', q SP1 ') is determined again. The difference vector (p SP1 ', q SP1 ') - (p SP1 , q SP1 ) contains information about the displacement of the first coordinate system KS 1 with respect to the coordinate system KS generated after the setting. Any arbitrary reference point of the bonding head 8 can be used for defining the first set point position of the bonding head 8 with respect to the first coordinate system KS 1 . Preferably, the above-mentioned marking 10 is used for limiting the reference point.

유사한 방식으로, 제2 카메라(7)의 제2 좌표계 KS2의 변위가 검출되고 본딩 헤드(8)의 좌표계 KS에 관해서 교정되어서, 제2 카메라(7)의 시야에 위치하는 제2 설정점 위치로 본딩 헤드(8)가 이동하는 추가적인 조정이 설정 단계에서 수행되며, 좌표계 KS에 관한 제2 설정점 위치의 좌표(xSP2, ySP2) 및 제2 카메라(7)의 좌표계 KS2에 관한 제2 설정점 위치의 좌표(uSP2, vSP2)가 결정되고 저장된다. 제조 단계에서 재조정이 발생하여, 제2 설정점 위치의 좌표(xSP2, ySP2)로 본딩 헤드(8)가 이동되고 제2 카메라(7)의 좌표계 KS2 에 관한 제2 설정점 위치의 좌표(uSP2', vSP2')가 다시 결정된다. 차이 벡터(uSP2', vSP2') - (uSP2, vSP2)는 설정 단계의 설정 이후 발생한 좌표계 KS에 관한 제2 좌표계 KS2 의 변위에 관한 정보를 포함한다. 이러한 경우에도, 본딩 헤드(8) 상의 어떤 임의의 기준점이 제2 좌표계 KS2에 관한 본딩 헤드(8)의 제2 설정점 위치의 한정을 위해서 사용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 언급된 바와 같은 마킹(10)이 기준점의 한정을 위해서 사용된다.In a similar manner, the displacement of the second coordinate system KS 2 of the second camera 7 is detected and corrected with respect to the coordinate system KS of the bonding head 8, so that the second set point position (X SP2 , y SP2 ) of the second set point position with respect to the coordinate system KS and the coordinate system KS 2 of the second camera 7 with respect to the coordinate system KS, 2 The coordinates (u SP2 , v SP2 ) of the set point position are determined and stored. The bonding head 8 is moved to the coordinates (x SP2 , y SP2 ) of the second set point position and the coordinates of the second set point position related to the coordinate system KS 2 of the second camera 7 (u SP2 ', v SP2 ') is again determined. The difference vector u SP2 ', v SP2 ' - (u SP2 , v SP2 ) contains information about the displacement of the second coordinate system KS 2 with respect to the coordinate system KS generated after the setting of the setting step. Even in this case, any arbitrary reference point on the bonding head 8 can be used for defining the second set point position of the bonding head 8 with respect to the second coordinate system KS 2 . Preferably, the marking 10 as mentioned above is used for the limitation of the reference point.

제1 좌표계 KS1 및 제2 좌표계 KS2에 관한 기준점의 좌표의 결정은 각각의 카메라(6, 7)로 이미지를 촬영하는 것, 및 종래의 이미지 평가에 의해서 기준점의 좌표를 결정하는 것을 포함한다.The determination of the coordinates of the reference point with respect to the first coordinate system KS 1 and the second coordinate system KS 2 involves taking an image with each camera 6, 7 and determining the coordinates of the reference point by conventional image evaluation .

그 다음에는 반도체 칩의 장착이 바람직하게는 다음과 같이 발생한다:Then the mounting of the semiconductor chip preferably takes place as follows:

- 제1 카메라(6)에 의해서 검출되는, 다음에 장착될 반도체 칩(2)의 위치가 제1 좌표계 KS1에 관한 위치 데이터의 형식으로 제공된다;The position of the semiconductor chip 2 to be mounted next, which is detected by the first camera 6, is provided in the form of position data relating to the first coordinate system KS 1 ;

- 제2 카메라(7)에 의해서 검출되는, 반도체 칩(2)이 장착될 기판 장소의 위치가 제2 좌표계 KS2에 관한 위치 데이터의 형식으로 제공된다;The position of the substrate place on which the semiconductor chip 2 is to be mounted, which is detected by the second camera 7, is provided in the form of position data relating to the second coordinate system KS 2 ;

- 셋업 단계에서, 제1 좌표계 KS1을 좌표계 KS로 맵핑(mapping)하는 제1 맵핑 함수 및 그것의 역함수가 결정되고, 제1 교정 벡터가 값 영으로 설정되며, 제2 좌표계 KS2를 좌표계 KS로 맵핑하는 제2 맵핑 함수 및 그것의 역함수가 결정되고, 제2 교정 벡터가 값 영으로 설정된다.In the set-up step, the first mapping function for mapping the first coordinate system KS 1 to the coordinate system KS and its inverse function are determined, the first calibration vector is set to the value zero, the second coordinate system KS 2 is set to the coordinate system KS The inverse function thereof is determined, and the second calibration vector is set to the value zero.

- 반도체 칩(2)이 차례로 제조 단계에 장착되며, 여기서;- the semiconductor chip (2) is in turn mounted in the manufacturing step;

- 다음에 장착될 반도체 칩(2)의 이미지가 카메라(6)에 의해서 촬영되고, 제1 좌표계 KS1에 관한 반도체 칩(2)의 위치가 결정되며, 반도체 칩(2)을 픽업하기 위해서 픽-앤-플레이스 시스템(5)이 본딩 헤드(8)를 이동시킬 필요가 있는 좌표계 KS에 관한 위치가 제1 맵핑 함수에 의해서 및 제1 교정 벡터를 고려함에 의해 그로부터 계산된다;The image of the semiconductor chip 2 to be mounted next is photographed by the camera 6 and the position of the semiconductor chip 2 with respect to the first coordinate system KS 1 is determined, - the position with respect to the coordinate system KS in which the ' -position system 5 needs to move the bonding head 8 is calculated therefrom by means of a first mapping function and by taking into account the first calibration vector;

- 반도체 칩(2)이 장착될 기판 장소의 이미지가 제2 카메라(7)에 의해서 촬영되며, 제2 좌표계 KS2에 관한 기판 장소의 위치가 결정되며, 반도체 칩(2)을 기판 장소에 장착시키기 위해서 픽-앤-플레이스 시스템(5)이 본딩 헤드(8)를 이동시킬 필요가 있는 좌표계 KS에 관한 위치가 제2 맵핑 함수에 의해서 및 제2 교정 벡터를 고려함에 의해 그로부터 계산되며;The image of the substrate location on which the semiconductor chip 2 is to be mounted is photographed by the second camera 7 and the position of the substrate location relative to the second coordinate system KS 2 is determined and the semiconductor chip 2 is mounted The position with respect to the coordinate system KS in which the pick-and-place system 5 needs to move the bonding head 8 is calculated therefrom by considering the second calibration vector and by the second mapping function;

그리고 제조 단계의 재조정은 제1 교정 벡터 및 제2 교정 벡터의 재조정을 포함하며 다음의 단계들을 갖는다:And the readjustment of the fabrication step includes readjustment of the first and second calibration vectors and has the following steps:

- 본딩 헤드(8)를 제1 설정점 위치로 이동시키는 단계;- moving the bonding head (8) to a first set point position;

- 제1 카메라(6)로 마킹(10)의 이미지를 촬영하는 단계 및 제1 카메라(6)의 이미지로부터 제1 좌표계 KS1에 관한 마킹(10)의 실제 위치를 결정하는 단계;- photographing the image of the marking (10) with the first camera (6) and determining the actual position of the marking (10) with respect to the first coordinate system KS 1 from the image of the first camera (6);

- 저장된 설정점 위치와 결정된 실제 위치 사이의 차이로서 제1 교정 벡터 K1을 계산하는 단계;Calculating a first calibration vector K 1 as a difference between the stored set point position and the determined actual position;

- 본딩 헤드(8)를 제2 설정점 위치로 이동시키는 단계;- moving the bonding head (8) to a second set point position;

- 제2 카메라(7)로 마킹(10)의 이미지를 촬영하는 단계 및 제2 카메라(7)의 이미지로부터 제2 좌표계 KS2에 관한 마킹(10)의 실제 위치를 결정하는 단계; 그리고- photographing the image of the marking (10) with the second camera (7) and determining the actual position of the marking (10) with respect to the second coordinate system KS 2 from the image of the second camera (7); And

- 저장된 설정점 위치와 결정된 실제 위치 사이의 차이로서 제2 교정 벡터 K2를 계산하는 단계. Calculating a second calibration vector K 2 as a difference between the stored set point position and the determined actual position;

본 발명의 실시 형태 및 응용예가 도시되고 기술되었지만, 본 개시내용의 이점을 취한 본 기술분야의 당업자라면, 본 명세서의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않고서 상술한 것보다 많은 변형예가 가능함을 명백하게 파악할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부된 청구의 범위 및 그들의 등가물을 제외하고는 한정되지 않는다.Although the embodiments and applications of the present invention have been shown and described, those skilled in the art, having the benefit of this disclosure, will appreciate that many more modifications than mentioned above are possible without departing from the spirit of the present disclosure. Accordingly, the invention is not limited except as by the appended claims and their equivalents.

1 : 웨이퍼 테이블
2 : 반도체 칩
3 : 기판 테이블
4 : 기판
5 : 픽-앤-플레이스 시스템
6 : 제1 카메라
6a : 라인
7 : 제2 카메라
8 : 본딩 헤드
9 : 칩 그리퍼
10 : 마킹
11 : 렌즈
12 : 회전 축
13 : 그리퍼 축
1: Wafer table
2: Semiconductor chip
3: substrate table
4: substrate
5: Pick-and-Place System
6: First camera
6a: line
7: Second camera
8: Bonding head
9: chip gripper
10: Marking
11: Lens
12: Rotation axis
13: Gripper shaft

Claims (8)

본딩 헤드(8)를 구비한 픽-앤-플레이스 시스템(5)에 의해 웨이퍼 테이블(1)에 제공된 반도체 칩(2)을 기판(4)에 장착하는 방법으로서, 마킹(10)이 본딩 헤드(8)에 부착되며, 상기 방법으로
웨이퍼 테이블(1)에 제공된 반도체 칩(2)의 이미지가 제1 카메라(6)로 촬영되며 이미지로부터 결정된 반도체 칩(2)의 위치가 제1 좌표계 (KS1)에 관한 위치 데이터의 형태로 제공되며,
기판 장소의 이미지가 제2 카메라(7)로 촬영되며 이미지로부터 결정된 기판 장소의 위치가 제2 좌표계 (KS2)에 관한 위치 데이터의 형태로 제공되며, 그리고
본딩 헤드(8)의 위치는 픽-앤-플레이스 시스템(5)에 내재하는 제3 좌표계 (KS3)에 관련되며, 상기 방법은 설정 단계 및 제조 단계를 포함하며,
상기 설정 단계는 다음 단계들:
제1 좌표계 (KS1)을 제3 좌표계 (KS3)로 맵핑하는 제1 맵핑 함수 및 그것의 역함수를 결정하는 단계,
제1 교정 벡터를 값 0으로 설정하는 단계,
제2 좌표계 (KS2)를 제3 좌표계 (KS3)로 맵핑하는 제2 맵핑 함수 및 그것의 역함수를 결정하는 단계, 및
제2 교정 벡터를 값 0으로 설정하는 단계를 포함하며; 그리고
상기 제조 단계는 다음 단계들:
반도체 칩(2)이 차례로 장착되는 단계로서,
다음에 장착될 반도체 칩(2)의 이미지를 제1 카메라(6)로 촬영하는 단계,
제1 좌표계 (KS1)에 관한 반도체 칩(2)의 위치를 제1 카메라(6)의 이미지로부터 결정하는 단계,
반도체 칩(2)을 픽업하기 위해서 픽-앤-플레이스 시스템(5)이 본딩 헤드(8)를 이동시킬 필요가 있는 제3 좌표계 (KS3)에 관한 위치를 제1 맵핑 함수에 의해서 및 제1 교정 벡터를 고려함에 의해 계산하는 단계;
반도체 칩(2)이 장착될 기판 장소의 이미지를 제2 카메라(7)로 촬영하는 단계,
제2 좌표계 (KS2)에 관한 기판 장소의 위치를 제2 카메라(7)의 이미지로부터 결정하는 단계, 및
반도체 칩(2)을 기판 장소에 장착시키기 위해서 픽-앤-플레이스 시스템(5)이 본딩 헤드(8)를 이동시킬 필요가 있는 제3 좌표계 (KS3)에 관한 위치를 제2 맵핑 함수에 의해서 및 제2 교정 벡터를 고려함에 의해 계산하는 단계를 포함하며; 그리고
소정의 사건 발생 시 제1 및 제2 교정 벡터를 재조정하는 단계를 포함하며, 상기 제1 및 제2 교정 벡터의 재조정 단계는 다음 단계들:
마킹(10)이 제1 카메라(6)의 시야 범위 내로 위치되는 제1 설정점 위치로 본딩 헤드(8)를 이동시키는 단계,
제1 좌표계 (KS1)에 관한 마킹(10)의 제1 설정점 위치를 계산하는 단계,
마킹(10)의 이미지를 제1 카메라(6)로 촬영하는 단계,
제1 카메라(6)의 이미지로부터 제1 좌표계 (KS1)에 관한 마킹(10)의 실제 위치를 결정하는 단계,
마킹(10)의 계산된 설정점 위치와 결정된 실제 위치 사이의 차이로서 제1 교정 벡터 K1을 계산하는 단계;
마킹(10)이 제2 카메라(7)의 시야 범위 내로 위치되는 제2 설정점 위치로 본딩 헤드(8)를 이동시키는 단계,
제2 좌표계 (KS2)에 관한 마킹(10)의 제2 설정점 위치를 계산하는 단계;
마킹(10)의 이미지를 제2 카메라(7)로 촬영하는 단계,
제2 카메라(7)의 이미지로부터 제2 좌표계 (KS2)에 관한 마킹(10)의 실제 위치를 결정하는 단계, 및
마킹(10)의 계산된 설정점 위치와 결정된 실제 위치 사이의 차이로서 제2 교정 벡터를 계산하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 칩 장착 방법.
A method of mounting a semiconductor chip (2) provided on a wafer table (1) by a pick-and-place system (5) with a bonding head (8) to a substrate (4) 8, and in this way
The image of the semiconductor chip 2 provided in the wafer table 1 is photographed by the first camera 6 and the position of the semiconductor chip 2 determined from the image is provided in the form of position data relating to the first coordinate system KS 1 And,
The image of the substrate location is photographed by the second camera 7 and the position of the substrate location determined from the image is provided in the form of positional data relating to the second coordinate system KS 2 ,
The position of the bonding head 8 is related to a third coordinate system KS 3 inherent in the pick-and-place system 5, the method comprising a setting step and a manufacturing step,
Wherein the setting step comprises the following steps:
Determining a first mapping function and an inverse function thereof to map the first coordinate system (KS 1 ) to the third coordinate system (KS 3 )
Setting a first calibration vector to a value of zero,
Determining a second mapping function for mapping the second coordinate system (KS 2 ) to a third coordinate system (KS 3 ) and its inverse function, and
Setting a second calibration vector to a value of zero; And
The manufacturing step comprises the following steps:
In the step of sequentially mounting the semiconductor chips 2,
Taking an image of the semiconductor chip 2 to be mounted next with the first camera 6,
Determining the position of the semiconductor chip 2 with respect to the first coordinate system KS 1 from the image of the first camera 6,
In order to pick up the semiconductor chip 2 and the pick-and-place system (5) by the position on the third coordinate system (KS 3) in which there is a necessity to move the bonding head 8 to the first mapping function and the first Calculating by considering a calibration vector;
Photographing the image of the substrate place where the semiconductor chip 2 is to be mounted with the second camera 7,
Determining the position of the substrate location relative to the second coordinate system (KS 2 ) from the image of the second camera (7), and
In order to mount the semiconductor chip 2 to a substrate place the pick-and-place system (5) by a second mapping function, the position on the third coordinate system (KS 3) which is required to move the bonding head 8 And by considering a second calibration vector; And
And re-calibrating the first and second calibration vectors at the occurrence of a predetermined event, wherein the re-calibration of the first and second calibration vectors comprises the following steps:
Moving the bonding head (8) to a first set point position where the marking (10) is located within the field of view of the first camera (6)
Calculating a first set point position of the marking (10) with respect to the first coordinate system (KS 1 )
Photographing the image of the marking 10 with the first camera 6,
Determining the actual position of the marking (10) with respect to the first coordinate system (KS 1 ) from the image of the first camera (6)
Calculating a first calibration vector K 1 as a difference between the calculated set point position of the marking 10 and the determined actual position;
Moving the bonding head (8) to a second set point position where the marking (10) is located within the field of view of the second camera (7)
Calculating a second set point position of the marking (10) with respect to the second coordinate system (KS 2 );
Photographing the image of the marking 10 with the second camera 7,
Determining an actual position of the marking (10) with respect to the second coordinate system (KS 2 ) from the image of the second camera (7), and
Calculating a second calibration vector as a difference between the calculated set point position of the marking (10) and the determined actual position
And mounting the semiconductor chip on the semiconductor chip.
제1항에 있어서,
상기 소정의 사건은 다음의 사건들 중 최소한 하나인 것을 특징으로 하는 반도체 칩 장착 방법:
- 최종 보정 이후 소정의 수의 반도체 칩(2)이 장착되는 사건;
- 최종 보정 이후 픽-앤-플레이스 시스템(5)의 소정의 위치에서 측정된 온도가 소정의 값 이상 만큼 변화되는 사건;
- 제조가 정지되는 사건;
- 장착 후 제2 카메라(7)에 의해서 검출되고 계산된 장착된 반도체 칩의 실제 위치가 설정점 위치로부터 소정의 양 이상 만큼 이탈되는 사건.
The method according to claim 1,
Wherein the predetermined event is at least one of the following events:
An event in which a predetermined number of semiconductor chips 2 are mounted after the final correction;
An event in which the measured temperature at a predetermined position of the pick-and-place system 5 after the final correction is changed by a predetermined value or more;
- an event where manufacturing ceases;
- an event in which the actual position of the mounted semiconductor chip detected and calculated by the second camera (7) after mounting deviates by more than a predetermined amount from the set point position.
제1항에 있어서,
본딩 헤드(8)에 적용된 마킹(10)은 본딩 헤드(8)에 부착된 렌즈(11)에 의해서 각각의 카메라(6 및 7) 상에 이미징되는 것을 특징으로 하는 반도체 칩 장착 방법.
The method according to claim 1,
Characterized in that the marking (10) applied to the bonding head (8) is imaged onto each camera (6 and 7) by a lens (11) attached to the bonding head (8).
제2항에 있어서,
본딩 헤드(8)에 적용된 마킹(10)은 본딩 헤드(8)에 부착된 렌즈(11)에 의해서 각각의 카메라(6 및 7) 상에 이미징되는 것을 특징으로 하는 반도체 칩 장착 방법.
3. The method of claim 2,
Characterized in that the marking (10) applied to the bonding head (8) is imaged onto each camera (6 and 7) by a lens (11) attached to the bonding head (8).
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 맵핑 함수를 결정하는 단계는 마킹(10)이 제1 카메라(6)의 시야 범위 내에 위치하도록 수 개의 상이한 위치들로 본딩 헤드(8)를 이동시키는 단계, 제1 카메라(6)로 이미지를 촬영하는 단계 및 제1 카메라(6)에 의해 제공된 이미지로부터 마킹(10)의 관련 위치를 결정하는 단계를 포함하며, 상기 제2 맵핑 함수를 결정하는 단계는 마킹(10)이 제2 카메라(7)의 시야 범위 내에 위치하도록 수 개의 상이한 위치들로 본딩 헤드(8)를 이동시키는 단계, 제2 카메라(7)로 이미지를 촬영하는 단계 및 제2 카메라(7)에 의해 제공된 이미지로부터 마킹(10)의 관련 위치를 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 칩 장착 방법.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
The step of determining the first mapping function comprises moving the bonding head 8 to several different positions so that the marking 10 is located within the field of view of the first camera 6, Wherein the step of determining the second mapping function comprises the step of photographing the image and determining the relative position of the marking (10) from the image provided by the first camera (6) Moving the bonding head 8 to several different positions so as to be positioned within the field of view of the first camera 7, taking an image with the second camera 7, (10) of the semiconductor chip (10).
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