KR101371159B1 - Anti-shock etching apparatus for glass wafer - Google Patents

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KR101371159B1 KR1020120008828A KR20120008828A KR101371159B1 KR 101371159 B1 KR101371159 B1 KR 101371159B1 KR 1020120008828 A KR1020120008828 A KR 1020120008828A KR 20120008828 A KR20120008828 A KR 20120008828A KR 101371159 B1 KR101371159 B1 KR 101371159B1
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Abstract

본 발명은 에칭 공정 시 유리기판의 파손을 방지할 수 있고, 장치의 제작, 및 유지 보수 비용을 절감할 수 있는 유리기판 충격 방지 에칭 장치를 제공한다.
본 발명에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치는, 유리기판을 에칭할 수 있는 에칭 위치, 및 상기 유리기판을 적재할 수 있는 적재 위치를 가지는 유리기판 충격 방지 에칭 장치에 있어서, 상기 유리기판을 기립하기 위한 틀을 가지는 카세트; 상기 에칭 위치에서, 상기 유리기판의 상부에 위치하고, 상기 유리기판에 공급하기 위한 에칭액을 분사하는 노즐이 배열되는 복수의 공급관; 및 상기 카세트를, 상기 에칭 위치에서 상기 적재 위치로 이송할 수 있는 이송부를 포함할 수 있다.The present invention provides a glass substrate impact preventing etching apparatus that can prevent breakage of the glass substrate during the etching process, and can reduce the manufacturing and maintenance costs of the apparatus.
The glass substrate impact preventing etching apparatus according to the present invention is a glass substrate impact preventing etching apparatus having an etching position capable of etching a glass substrate and a loading position capable of loading the glass substrate, wherein the glass substrate is standing up. A cassette having a frame for; A plurality of supply pipes positioned at an upper portion of the glass substrate at the etching position and having nozzles for injecting etching liquid for supplying the glass substrate; And a transfer part capable of transferring the cassette from the etching position to the loading position.

Description

유리기판 충격 방지 에칭 장치{ANTI-SHOCK ETCHING APPARATUS FOR GLASS WAFER}Glass substrate impact prevention etching apparatus {ANTI-SHOCK ETCHING APPARATUS FOR GLASS WAFER}

본 발명은 유리기판 충격 방지 에칭 장치에 관한 것으로, 구체적으로는 에칭액을 이용하여 유리기판을 에칭하는 유리기판 충격 방지 에칭 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a glass substrate impact preventing etching apparatus, and more particularly, to a glass substrate impact preventing etching apparatus for etching a glass substrate using an etching solution.

현대 사회가 고도로 정보화되면서 정보를 표출하기 위한 디스플레이 장치가 매우 빠른 속도로 발전하고 있으며, 이의 보급 또한 급속히 진행되고 있다. As the modern society is highly informatized, display devices for expressing information are developing at a very high speed, and its dissemination is also rapidly progressing.

과거에는 디스플레이 장치로서 주로 브라운관 방식이 사용되었으나, 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electroluminescent Display), OLED(Organic Light Emitting Diodes), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등과 같은 다양한 디스플레이 장치가 사용되고 있다.In the past, CRT was mainly used as a display device, but recently, a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescent display (ELD), organic light emitting diodes (OLED), a vacuum fluorescent display (VFD), etc. Various such display devices are used.

이러한 디스플레이 장치가 사용되는 여러 기기 중에서도, 휴대용 텔레비젼, 노트북 컴퓨터, PDA, 및 스마트폰 등과 같이 휴대용 장치들은 휴대성을 개선하기 위하여 중량 및 두께를 줄이는 것이 매우 중요하다. 이를 위하여 여러 가지 방법이 연구되고 있으며, 이 중 디스플레이 장치에 사용되는 유리기판의 중량 및 두께를 줄이는 방법 또한 연구되고 있다.Among the various devices in which such display devices are used, it is very important for portable devices such as portable televisions, notebook computers, PDAs, and smart phones to reduce weight and thickness in order to improve portability. To this end, various methods have been studied, and among them, a method of reducing the weight and thickness of the glass substrate used in the display device has also been studied.

디스플레이 패널을 경량 박형화하는 기술에는 크게 기계 연마법과 화학적 습식 에칭법(wet-etching)이 있다. 종래에는 아주 얇은 슬림 패널이 요구되지 않아 기계 연마법을 많이 사용하였으나, 최근 초슬림 제품의 수요가 증가하면서 생산성이 우수한 화학적 습식 에칭법(wet-etching)이 주로 사용된다. Light weight thinning techniques for display panels include mechanical polishing and chemical wet-etching. Conventionally, a very thin slim panel is not required, so a lot of mechanical polishing methods are used. However, recently, as the demand for ultra-slim products increases, chemical wet-etching with excellent productivity is mainly used.

습식 에칭법은 디핑법(Deeping method), 스프레이법(Spray method), 및 제트플로우법 등이 있는데, 이 중에서 디핑법은 에칭액이 담긴 에칭조에 유리를 침잠시켜 유리의 표면을 식각하는 것이다. 디핑법은 여러장의 유리기판이 꽂힌 카세트를 에칭액으로 가득찬 에칭조에 담그므로, 여러 장의 유리기판을 한 번에 처리할 수 있어 생산성이 높은 장점이 있다. 하지만, 에칭 처리 중에 발생하는 반응 생성물, 및 이물질 등이 에칭조 내에 잔류하여 기판 표면에 붙는 등, 유리기판의 에칭 특성이 불균일하고 표면 품질에 악영향을 미친다.The wet etching method includes a dipping method, a spray method, and a jet flow method. Among them, the dipping method is to immerse the glass in an etching bath containing an etching solution to etch the surface of the glass. The dipping method immerses a cassette in which several glass substrates are immersed in an etching bath filled with etching liquid, so that several glass substrates can be processed at one time, thereby providing high productivity. However, the etching properties of the glass substrate are nonuniform and adversely affect the surface quality, such as reaction products generated during the etching process, foreign matters, etc. remaining in the etching bath and adhering to the substrate surface.

스프레이법은 유리기판의 에칭 품질 면에서 디핑법보다 개선된 방법으로서, 기립하는 유리기판을 향하도록 노즐을 배치하고, 노즐을 통하여 에칭액을 분사하여 유리기판에 뿌리는 방법이다. 스프레이법에 따르면, 높은 운동에너지를 갖는 에칭액이 유리기판의 표면에 고르게 뿌려지는 동시에 표면을 따라 흐르므로, 반응 생성물의 제거와 새로운 에칭액의 공급이 보다 신속하게 이루어지고, 유리기판 전체에 걸쳐 에칭 특성이 균일하므로 우수한 표면 품질을 얻을 수 있는 장점이 있다. 그러나, 스프레이법은 에칭 공간에 비하여 생산성이 저하되는 단점이 있다.The spray method is an improved method than the dipping method in terms of etching quality of the glass substrate. The spray method is a method in which a nozzle is disposed to face a standing glass substrate, and an etching solution is sprayed through the nozzle to spray the glass substrate. According to the spray method, the etching liquid having a high kinetic energy is evenly sprayed on the surface of the glass substrate and flows along the surface, so that the reaction product is removed and the new etching liquid is supplied more quickly. This uniformity has an advantage of obtaining excellent surface quality. However, the spray method has a disadvantage in that the productivity is lowered compared to the etching space.

이를 보완하기 위하여, 상부 스프레이법이 제안되었는데, 복수의 유리기판을 기립하도록 하고, 유리기판의 상부에 노즐을 배치하여 분사함으로써 에칭액이 유리기판 표면을 따라 흐르면서 에칭하도록 한다. In order to compensate for this, an upper spray method has been proposed, in which a plurality of glass substrates are standing, and nozzles are placed on the glass substrates and sprayed so that the etching liquid flows along the surface of the glass substrate.

도 1은 종래의 유리기판 에칭 장치를 나타내는 도면으로서, 유리기판(10)이 카세트(20) 내에서 일렬로 기립하여 정렬되고, 가공 위치에서 에칭액이 유리기판(10)을 향하여 분사됨으로써 유리기판(10)이 에칭 가공된다.1 is a view showing a conventional glass substrate etching apparatus, wherein the glass substrates 10 are aligned in a row in the cassette 20, and the etching liquid is sprayed toward the glass substrates 10 at the machining position so that the glass substrates ( 10) is etched.

도 2는 종래의 유리기판 에칭 장치의 이송부를 나타내는 도면으로서, 몸체(40)의 내측에 복수의 롤러(50)가 축결합되고, 모터, 및 기어 등을 포함하는 구동부(미도시)가 축에 연결되어 롤러(50)를 회전시킬 수 있다. 롤러(50)의 회전에 따라 카세트(20)가 이동할 수 있으며, 롤러(50)의 회전 방향에 따라 카세트(20)를 가공 위치로 이동시키거나 적재 위치로 이동시키는 것이 가능하다.2 is a view illustrating a transfer part of a conventional glass substrate etching apparatus, in which a plurality of rollers 50 are axially coupled to the inside of the body 40, and a driving part (not shown) including a motor, a gear, and the like is mounted on the shaft. It can be connected to rotate the roller 50. The cassette 20 can move according to the rotation of the roller 50, and it is possible to move the cassette 20 to the machining position or to the stacking position according to the rotation direction of the roller 50.

도 3a 내지 도 3b는 종래의 유리기판 에칭 장치의 카세트 이동을 나타내는 도면으로서, 도 3a와 같이 가공 위치의 카세트(20)가 도 3b와 같이 적재 위치로 이송될 수 있으며, 적재 가공 위치에서 작업자가 카세트(20)를 교체하거나 유리기판(10)을 교체할 수 있다. 또한, 이와 반대로 카세트(20)가 적재 위치로부터 가공 위치로 이송될 수 있다.3A to 3B are diagrams illustrating a cassette movement of a conventional glass substrate etching apparatus. As shown in FIG. 3A, a cassette 20 at a machining position may be transferred to a loading position as shown in FIG. The cassette 20 may be replaced or the glass substrate 10 may be replaced. In addition, the cassette 20 can be conveyed from the loading position to the processing position on the contrary.

하지만, 종래의 유리기판 에칭 장치에 따르면, 카세트(20)의 이송 과정에서 카세트(20)와 롤러(50) 사이에 발생하는 충격, 및 마찰로 인하여 유리기판(10)에 충격, 및 진동이 가해지고, 유리기판(10)이 파손될 수 있다. 도 4를 참조하면, 특히 일방향으로 진행하는 카세트(20)와 롤러(50)가 접촉할 때, 접촉 지점(A)에서 충격이 발생할 수 있다. 또한, 도시되지는 않았으나, 롤러(50)에 접촉하여 이동하는 카세트(20)가 롤러(50)로부터 이탈할 때 진동이 발생할 수 있다. 유리기판(10)이 두꺼운 경우에는 상기와 같은 충격에도 파손이 발생하지 않을 수 있으나, 모바일 기기의 디스플레이 등에 사용되는 유리기판(10)은 두께가 약 1T(㎜)로부터 얇게는 0.5T 이하이므로, 상기와 같은 충격, 및 진동에도 파손이 발생하며, 특히 모서리 부분의 손상이 심한 문제점이 있다.However, according to the conventional glass substrate etching apparatus, impact and vibration are applied to the glass substrate 10 due to the impact and friction generated between the cassette 20 and the roller 50 during the transfer of the cassette 20. The glass substrate 10 may be damaged. Referring to FIG. 4, an impact may occur at the contact point A, particularly when the cassette 20 and the roller 50 traveling in one direction are in contact. In addition, although not shown, vibration may occur when the cassette 20 moving in contact with the roller 50 is separated from the roller 50. When the glass substrate 10 is thick, damage may not occur even when the impact is as described above. However, since the glass substrate 10 used for the display of the mobile device has a thickness of about 1T (mm) to 0.5T or less, Breakage occurs even in the shock and vibration as described above, in particular, there is a serious problem of damage to the edge portion.

또한, 에칭 가공 시에 유리기판(10) 측으로 에칭액이 공급되는데, 이 과정에서 롤러(50)는 물론, 롤러(50)를 구동하기 위한 기어, 및 체인 등의 구동부 또한 에칭액에 오염된다. 따라서, 구동부의 부식이 빠르게 진행되어 장치의 수명이 단축되고, 이로 인한 유지 보수 비용이 상승하며, 오염으로 인하여 청결하지 못한 단점이 있다.In addition, the etching solution is supplied to the glass substrate 10 side during the etching process. In this process, not only the roller 50 but also a driving unit such as a gear for driving the roller 50 and a chain are also contaminated with the etching solution. Therefore, the corrosion of the drive proceeds quickly to shorten the life of the device, thereby increasing the maintenance cost, there is a disadvantage that is not clean due to contamination.

또한, 기어, 체인, 및 모터 등을 포함하는 구동부를 구비하여야 하므로 장치의 제작 비용, 및 유지 보수 비용이 상승하는 문제점이 있다. 이를 방지하기 위하여 구동부를 구비하지 않고 수동으로 카세트(20)를 이송할 수도 있다. 이와 같이 자동으로 회전하지 않는 롤러(50) 상에서 카세트(20)를 수동으로 이송하는 경우에 카세트(20)가 안정적으로 이송되지 못하고, 롤러(50)와 카세트(20) 사이의 충격, 및 마찰이 심해져, 유리기판(10)에 가해지는 충격, 및 진동이 현저히 증가하는 문제점이 있다.In addition, since the drive unit including the gear, the chain, and the motor must be provided, there is a problem in that the manufacturing cost and maintenance cost of the device increase. In order to prevent this, the cassette 20 may be manually transferred without a driving unit. In this case, when the cassette 20 is manually transferred on the roller 50 which does not rotate automatically, the cassette 20 cannot be stably transferred, and the impact and friction between the roller 50 and the cassette 20 are reduced. There is a problem in that the impact and vibration applied to the glass substrate 10 increase remarkably.

또한, 에칭 가공 시에 유리기판의 균일한 에칭을 위하여 카세트를 소정 거리 왕복 이동시키는데, 유리기판(10)에 충격, 및 진동이 가해지는 문제점이 있다.In addition, in order to uniformly etch the glass substrate during the etching process, the cassette is reciprocated for a predetermined distance, and there is a problem that shock and vibration are applied to the glass substrate 10.

본 발명은 에칭 공정 시 유리기판의 파손을 방지할 수 있는 유리기판 충격 방지 에칭 장치를 제공함에 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a glass substrate impact preventing etching apparatus capable of preventing breakage of the glass substrate during the etching process.

또한, 본 발명은 장치의 유지 보수 비용을 절감할 수 있는 유리기판 충격 방지 에칭 장치를 제공함에 다른 목적이 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a glass substrate impact resistant etching apparatus that can reduce the maintenance cost of the apparatus.

또한, 본 발명은 장치의 수명을 증가시킬 수 있는 유리기판 충격 방지 에칭 장치를 제공함에 또 다른 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a glass substrate impact resistant etching apparatus that can increase the life of the apparatus.

또한, 본 발명은 장치의 수동 구동을 적용할 수 있는 유리기판 충격 방지 에칭 장치를 제공함에 또 다른 목적이 있다.It is another object of the present invention to provide a glass substrate impact resistant etching apparatus to which the manual driving of the apparatus can be applied.

본 발명에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치는, 유리기판을 에칭할 수 있는 에칭 위치, 및 상기 유리기판을 적재할 수 있는 적재 위치를 가지는 유리기판 충격 방지 에칭 장치에 있어서, 상기 유리기판을 기립하기 위한 틀을 가지는 카세트; 상기 에칭 위치에서, 상기 유리기판의 상부에 위치하고, 상기 유리기판에 공급하기 위한 에칭액을 분사하는 노즐이 배열되는 복수의 공급관; 및 상기 카세트를, 상기 에칭 위치에서 상기 적재 위치로 이송할 수 있는 이송부를 포함할 수 있다.The glass substrate impact preventing etching apparatus according to the present invention is a glass substrate impact preventing etching apparatus having an etching position capable of etching a glass substrate and a loading position capable of loading the glass substrate, wherein the glass substrate is standing up. A cassette having a frame for; A plurality of supply pipes positioned at an upper portion of the glass substrate at the etching position and having nozzles for injecting etching liquid for supplying the glass substrate; And a transfer part capable of transferring the cassette from the etching position to the loading position.

바람직하게는, 상기 이송부는, 상기 카세트를 이송할 수 있는 이송체; 및 상기 에칭 위치와 상기 적재 위치를 연결하는 레일을 포함하고, 상기 이송체는 상기 레일을 따라 이동할 수 있다.Preferably, the transfer unit, a transfer body capable of transferring the cassette; And a rail connecting the etching position and the loading position, and the transfer member may move along the rail.

바람직하게는, 상기 이송체는, 상기 카세트를 적재할 수 있는 이송 몸체; 상기 이송 몸체에 회전 가능하도록 결합되고, 상기 레일을 따라 이동하는 이송휠; 및 상기 이동 몸체의 일측에 연결되어 상기 이송 몸체를 이송하기 위한 동력을 전달할 수 있는 이송 로드를 포함할 수 있다.Preferably, the conveying body, a conveying body capable of loading the cassette; A transport wheel rotatably coupled to the transport body and moving along the rail; And may be connected to one side of the moving body may include a transfer rod for transmitting power for transferring the transfer body.

바람직하게는, 상기 이송휠의 외주연을 따라 이송휠 함몰부가 형성되고, 상기 이송휠 함몰부와 마주하는 상기 레일은 상기 이송휠 함몰부에 대응하는 형상을 가지며, 상기 이송휠 함몰부는 상기 레일에 맞물려 회전 이동할 수 있다.Preferably, a transport wheel depression is formed along the outer circumference of the transport wheel, the rail facing the transport wheel depression has a shape corresponding to the transport wheel depression, and the transport wheel depression is in the rail. Can interlock and move.

바람직하게는, 상기 이송휠 함몰부는, 라운딩 형상을 가질 수 있다.Preferably, the transfer wheel depression, may have a rounded shape.

바람직하게는, 상기 이송 로드에 연결되어, 상기 에칭 위치에서 상기 레일을 따라 상기 이송 몸체를 소정 간격 왕복 이동시킬 수 있는 왕복 구동부를 더 포함할 수 있다.Preferably, the apparatus may further include a reciprocating drive unit connected to the transfer rod and configured to reciprocate the transfer body along the rail at the etching position by a predetermined distance.

바람직하게는, 상기 이송 로드에 연결되어, 상기 에칭 위치, 및 상기 적재 위치 사이에서 상기 레일을 따라 상기 이송 몸체를 이동시킬 수 있는 자동 구동 장치를 더 포함할 수 있다.Preferably, the apparatus may further include an automatic driving device connected to the transfer rod and capable of moving the transfer body along the rail between the etching position and the loading position.

바람직하게는, 상기 이송 몸체에는, 상기 카세트의 슬라이딩 이동을 방지하기 위한 돌출부가 형성될 수 있다.Preferably, the transfer body, a projection for preventing the sliding movement of the cassette may be formed.

본 발명에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치는, 유리기판 이송 시에 충격, 및 진동을 방지할 수 있으므로 유리기판의 파손을 방지할 수 있고, 자동 구동 장치를 구성하는 경우에도 장치의 부식, 및 오염을 고려할 필요가 없어 유지 보수 비용을 절감하고, 내구성을 높일 수 있는 효과가 있다. 또한, 수동으로 구동하는 경우에도 유리기판 이송 시에 충격, 및 진동을 방지할 수 있으므로, 자동 구동 장치를 생략하여 제조 비용, 및 유지 보수 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
The glass substrate impact preventing etching apparatus according to the present invention can prevent shock and vibration during glass substrate transfer, thereby preventing breakage of the glass substrate, and corrosion and contamination of the apparatus even when the automatic driving apparatus is configured. Since there is no need to consider the maintenance cost and the durability can be increased. In addition, even when driving manually, since the impact and vibration can be prevented during the transfer of the glass substrate, there is an effect that can reduce the manufacturing cost and maintenance cost by omitting the automatic drive device.

도 1은 종래의 유리기판 에칭 장치를 나타내는 도면,
도 2는 종래의 유리기판 에칭 장치의 이송부를 나타내는 도면,
도 3a 내지 도 3b는 종래의 유리기판 에칭 장치의 카세트 이동을 나타내는 도면,
도 4는 종래의 유리기판 에칭 장치의 카세트 이동 충격을 나타내는 도면,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 사시도,
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 이송부의 사시도,
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 이송부의 정면 투영도, 및
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 이송부의 정면 투영도이다.1 is a view showing a conventional glass substrate etching apparatus,
2 is a view showing a transfer part of a conventional glass substrate etching apparatus;
3A to 3B are diagrams illustrating a cassette movement of a conventional glass substrate etching apparatus.
4 is a view showing a cassette movement impact of the conventional glass substrate etching apparatus,
5 is a perspective view of the glass substrate impact preventing etching apparatus according to an embodiment of the present invention,
6 is a perspective view of a transfer unit of the glass substrate impact preventing etching apparatus according to an embodiment of the present invention;
7 is a front projection view of a transfer part of the glass substrate impact preventing etching apparatus according to the embodiment of the present invention, and
8 is a front projection of a transfer part of the glass substrate impact preventing etching apparatus according to another embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms and words used in the present specification and claims should not be construed as limited to ordinary or dictionary terms, and the inventor should appropriately interpret the concepts of the terms appropriately It should be interpreted in accordance with the meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined. Therefore, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are merely the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all the technical ideas of the present invention. Therefore, It is to be understood that equivalents and modifications are possible.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 사시도, 및 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 이송부의 사시도이다.5 is a perspective view of a glass substrate anti-impact etching apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a perspective view of a transfer part of the glass substrate anti-impact etching apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치는, 카세트(200), 노즐(300), 이송부를 포함한다. Glass substrate impact-resistant etching apparatus according to an embodiment of the present invention, the cassette 200, the nozzle 300, the transfer unit.

카세트(200)는 복수의 유리기판(10)을 기립하여 세울 수 있는 틀로서, 이웃하는 유리기판(10)이 서로 소정의 간격을 가지고 카세트(200)에 끼워져 정렬될 수 있다. 카세트(200)의 구성은 이미 널리 주지된 관용 기술에 불과하므로 더 이상의 설명은 생략하기로 한다. The cassette 200 is a frame in which the plurality of glass substrates 10 can stand and stand, and the adjacent glass substrates 10 may be aligned with the cassettes 200 at predetermined intervals from each other. Since the configuration of the cassette 200 is merely a well-known conventional technique, further description thereof will be omitted.

카세트(200)의 상부에는 복수의 공급관이 서로 소정의 간격을 가지고 평행하도록 배치된다. 각각의 공급관의 하부에는 복수의 노즐(300)이 일렬로 형성되는데, 노즐(300)의 분사구가 유리기판(10)을 향하도록 형성된다. 공급관의 내부는 노즐(300)과 서로 통하고, 외부로부터 공급관으로 공급되는 에칭액이 노즐(300)을 통하여 유리기판(10)으로 분사될 수 있다. 에칭액은 스프레이 형태로 분사되는데, 유리기판(10)에 접촉하여 흐르면서 표면을 균일하게 에칭한다.In the upper portion of the cassette 200, a plurality of supply pipes are arranged to be parallel to each other at a predetermined interval. A plurality of nozzles 300 are formed in a row below each supply pipe, and the injection holes of the nozzles 300 face the glass substrate 10. The inside of the supply pipe may communicate with the nozzle 300, and the etchant supplied from the outside to the supply pipe may be injected onto the glass substrate 10 through the nozzle 300. The etching solution is sprayed, and the surface is uniformly etched while flowing in contact with the glass substrate 10.

이송부는 이송체, 및 레일(500)을 포함하고, 이송체는 이송 몸체(400), 및 이송 로드(420)를 포함한다.The conveying unit includes a conveying body and a rail 500, and the conveying body includes a conveying body 400 and a conveying rod 420.

이송 몸체(400)는 프레임 구조를 가지고, 양측에 복수의 이송휠(410)이 회전 가능하도록 결합된다. 이송휠(410)의 개수는 최소한 4개 이상인 것이 바람직하지만, 이송 몸체(400)의 크기, 및 모양 등에 따라 다양한 개수로 구성될 수 있다. The conveying body 400 has a frame structure, and the plurality of conveying wheels 410 are rotatably coupled to both sides. The number of the transfer wheels 410 is preferably at least four or more, but may be configured in various numbers depending on the size, shape, and the like of the transfer body 400.

이송 몸체(400)의 상부 각 모서리에는 고정부(430)가 돌출 형성되는데, 이는 이송 몸체(400) 상에 로딩되는 카세트(200)의 슬라이딩 이동을 방지하여 고정시키기 위한 것이며, 카세트(200)의 형상에 따라 고정부(430)의 형상, 개수, 및 위치는 다양하게 구성될 수 있다.Fixing portions 430 are protruded from each upper corner of the transfer body 400, which is to prevent the sliding movement of the cassette 200 loaded on the transfer body 400 and to fix them. The shape, number, and position of the fixing unit 430 may be variously configured according to the shape.

한 쌍의 레일(500)은 노즐(300)이 배치되는 에칭 가공 위치의 지면으로부터 일방향으로 연장되어 배치된다. 이송 몸체(400)는 레일(500) 상에 배치되는데, 이송휠(410)이 레일(500)에 접하여 회전 이동할 수 있으며, 이에 따라 이송 몸체(400)가 레일(500)을 따라 이동할 수 있다.The pair of rails 500 extend in one direction from the surface of the etching processing position where the nozzle 300 is disposed. The transfer body 400 is disposed on the rail 500, and the transfer wheel 410 may rotate in contact with the rail 500, and thus the transfer body 400 may move along the rail 500.

이송 몸체(400)의 일측에는 이송 로드(420)가 결합되는데, 이송 로드(420)를 밀거나 당겨서 이송 몸체(400)를 레일(500) 상에서 이동시킬 수 있다. 이때, 본 발명의 일실시예에 따르면, 원할한 동력 전달을 위하여 이송 몸체(400)와 이송 로드(420)는 상대 각도가 변할 수 있도록, 서로 조인트 연결되는 것이 바람직하다. 한편, 본 발명의 일실시예에 따르면, 이송 로드(420)에 전달되는 동력은 수동력일 수 있고, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 구동 모터 등에 의한 자동력일 수 있다.The transfer rod 420 is coupled to one side of the transfer body 400, and the transfer body 400 may be moved on the rail 500 by pushing or pulling the transfer rod 420. At this time, according to an embodiment of the present invention, the transfer body 400 and the transfer rod 420 is preferably jointed with each other, so that the relative angle can be changed for smooth power transmission. On the other hand, according to an embodiment of the present invention, the power transmitted to the transfer rod 420 may be a manual force, according to another embodiment of the present invention, may be an automatic force by a drive motor or the like.

도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 이송부의 정면 투영도로서, 이송휠(410)에는 외주연을 따라 함몰되는 이송휠 함몰부(411)가 형성되는데, 단면이 대략 반원 형상을 가지도록 라운딩 함몰되어 형성된다. 레일(500)은 봉형상을 가지고 이송휠(410)의 이송휠 함몰부(411)에 맞물리는데, 이때, 이송휠 함몰부(411)와 레일(500)이 서로 견고하게 맞물릴 수 있도록, 서로 대응되는 형상을 가진다. 따라서, 이송 몸체(400)는 레일(500)을 따라 안정적으로 이동할 수 있다.7 is a front projection view of a transfer unit of the glass substrate impact preventing etching apparatus according to an embodiment of the present invention, the transfer wheel 410 is formed in the transfer wheel recessed portion 411 which is recessed along the outer circumference, the cross section is approximately The rounded recess is formed to have a semicircular shape. The rail 500 has a rod shape and is engaged with the transport wheel recess 411 of the transport wheel 410, whereby the transport wheel recess 411 and the rail 500 can be firmly engaged with each other. It has a shape corresponding to each other. Therefore, the transfer body 400 can move stably along the rail 500.

한편, 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 이송부의 정면 투영도로서, 레일(500)에 레일 함몰부(510)가 형성되고 이송휠(410)은 레일 함몰부(510)에 맞물려 레일(500)을 따라 회전 이동함으로써, 이송 몸체(400)가 레일(500)을 따라 이동할 수 있다.On the other hand, Figure 8 is a front projection of the transfer portion of the glass substrate impact-resistant etching apparatus according to another embodiment of the present invention, the rail recessed portion 510 is formed on the rail 500 and the transfer wheel 410 is a rail recessed portion ( By moving in rotation with the rail 500 in engagement with 510, the transfer body 400 can move along the rail 500.

또한, 본 발명의 일실시예에 따르면, 이송휠(410), 및 레일(500)의 재질은 금속 또는 플라스틱(합성수지)일 수 있으나, 이에 한정된 것은 아니며, 고무와 같은 탄성 계수가 높은 재질로 구성되어 진동을 더욱 감소시킬 수 있다.
In addition, according to an embodiment of the present invention, the material of the transport wheel 410 and the rail 500 may be metal or plastic (synthetic resin), but is not limited thereto, and is made of a material having a high elastic modulus such as rubber. Can further reduce vibration.

본 발명의 일실시예에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치의 동작은 다음과 같다. Operation of the glass substrate impact preventing etching apparatus according to an embodiment of the present invention is as follows.

적재 위치에서, 유리기판이 적재된 카세트(200)를 이송 몸체(400)에 로딩하거나, 이송 몸체(400)에 로딩된 카세트(200)에 유리 기판을 적재한다. 이송 로드(420)에 동력을 가하여 이송 몸체(400)를 에칭 가공 위치로 이동시키는데, 이송 몸체(400)는 레일(500)을 따라 부드럽게 이동된다. 이송 몸체(400)가 에칭 가공 위치에 배치되면, 카세트(200)의 상부에 배치되는 노즐(300)로부터 유리기판으로 에칭액이 분사되어 유리기판이 에칭 가공된다. 이때, 에칭 공정 시 이송 로드(420)를 이용하여 레일을 따라 이송 몸체(400)를 소정 거리 왕복 이동시킴으로써, 유리기판(10)의 더욱 균일한 가공을 유도할 수 있다. 이송 몸체(400)의 왕복 이동은 수동에 의할 수 있고, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 왕복 모터 등을 포함하는 왕복 구동부(미도시)에 의할 수 있다. 에칭 가공이 종료되면, 이송 로드(420)에 동력을 가하여 이송 몸체(400)를 적재 위치로 이동시키고, 에칭 가공된 유리기판은 다음 공정으로 이송된다. In the loading position, the glass substrate loaded with the cassette 200 is loaded on the transfer body 400, or the glass substrate is loaded on the cassette 200 loaded on the transfer body 400. Power is applied to the transfer rod 420 to move the transfer body 400 to the etching processing position, which transfers smoothly along the rail 500. When the transfer body 400 is disposed at the etching processing position, the etching liquid is injected from the nozzle 300 disposed on the cassette 200 to the glass substrate to etch the glass substrate. In this case, by using the transfer rod 420 during the etching process, the transfer body 400 is reciprocated by a predetermined distance, thereby inducing more uniform processing of the glass substrate 10. Reciprocating movement of the transfer body 400 may be by manual, according to another embodiment of the present invention, may be by a reciprocating drive (not shown) including a reciprocating motor and the like. When the etching process is completed, the transfer rod 420 is powered to move the transfer body 400 to the loading position, and the etched glass substrate is transferred to the next process.

본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 적재 위치와 에칭 가공 위치 사이의 카세트(200) 이동은 자동으로 이루어질 수 있는데, 이송 로드(420)에 연결되는 자동 구동 장치(미도시)의 구동에 의해 카세트(200)가 이동할 수 있다. 이때, 카세트(200)와 자동 구동 장치는 이송 로드(420)에 의해 소정 간격 이격되므로, 에칭 가공 시에 자동 구동 장치는 에칭액에 노출되지 않는다. 따라서, 자동 구동 장치가 에칭액에 의하여 오염되거나 부식되지 않으므로, 장치의 내구성이 높고, 수명이 길며, 유지 보수 비용을 절감할 수 있다.According to another embodiment of the invention, the cassette 200 movement between the loading position and the etching processing position can be made automatically, by the drive of an automatic drive (not shown) connected to the transfer rod 420 200 may move. At this time, since the cassette 200 and the automatic driving device are spaced apart by a predetermined distance by the transfer rod 420, the automatic driving device is not exposed to the etching liquid during the etching process. Therefore, since the automatic drive device is not contaminated or corroded by the etching solution, the durability of the device is high, the service life is long, and maintenance costs can be reduced.

한편, 왕복 구동부, 및 자동 구동 장치의 구성은 이미 널리 주지된 관용기술에 불과하므로 더 이상의 설명은 생략하기로 한다.
On the other hand, since the configuration of the reciprocating drive unit and the automatic drive device is only a well-known conventional technique, further description will be omitted.

종래의 유리기판 에칭 장치에 따르면, 카세트(20)의 이송 과정에서 카세트(20)와 롤러(50) 사이에 발생하는 충격, 및 마찰로 인하여 유리기판(10)에 충격, 및 진동이 가해지고, 유리기판(10)이 파손될 수 있다. 도 4를 참조하면, 특히 일방향으로 진행하는 카세트(20)와 롤러(50)가 접촉할 때, 접촉 지점(A)에서 충격이 발생할 수 있다. 또한, 도시되지는 않았으나, 롤러(50)에 접촉하여 이동하는 카세트(20)가 롤러(50)로부터 이탈할 때 진동이 발생할 수 있다. 유리기판(10)이 두꺼운 경우에는 상기와 같은 충격에도 파손이 발생하지 않을 수 있으나, 모바일 기기의 디스플레이 등에 사용되는 유리기판(10)은 두께가 약 1T(㎜)로부터 얇게는 0.5T 이하이므로, 상기와 같은 충격, 및 진동에도 파손이 발생하며, 특히 모서리 부분의 손상이 심한 문제점이 있다.According to the conventional glass substrate etching apparatus, the shock and vibration is applied to the glass substrate 10 due to the impact and friction generated between the cassette 20 and the roller 50 during the transfer of the cassette 20, The glass substrate 10 may be damaged. Referring to FIG. 4, an impact may occur at the contact point A, particularly when the cassette 20 and the roller 50 traveling in one direction are in contact. In addition, although not shown, vibration may occur when the cassette 20 moving in contact with the roller 50 is separated from the roller 50. When the glass substrate 10 is thick, damage may not occur even when the impact is as described above. However, since the glass substrate 10 used for the display of the mobile device has a thickness of about 1T (mm) to 0.5T or less, Breakage occurs even in the shock and vibration as described above, in particular, there is a serious problem of damage to the edge portion.

또한, 에칭 가공 시에 유리기판(10) 측으로 에칭액이 공급되는데, 이 과정에서 롤러(50)는 물론, 롤러(50)를 구동하기 위한 기어, 및 체인 등의 구동부 또한 에칭액에 오염된다. 따라서, 구동부의 부식이 빠르게 진행되어 장치의 수명이 단축되고, 이로 인한 유지 보수 비용이 상승하며, 오염으로 인하여 청결하지 못한 단점이 있다.In addition, the etching solution is supplied to the glass substrate 10 side during the etching process. In this process, not only the roller 50 but also a driving unit such as a gear for driving the roller 50 and a chain are also contaminated with the etching solution. Therefore, the corrosion of the drive proceeds quickly to shorten the life of the device, thereby increasing the maintenance cost, there is a disadvantage that is not clean due to contamination.

또한, 기어, 체인, 및 모터 등을 포함하는 구동부를 구비하여야 하므로 장치의 제작 비용, 및 유지 보수 비용이 상승하는 문제점이 있다. 이를 방지하기 위하여 구동부를 구비하지 않고 수동으로 카세트(20)를 이송할 수도 있다. 이와 같이 자동으로 회전하지 않는 롤러(50) 상에서 카세트(20)를 수동으로 이송하는 경우에 카세트(20)가 안정적으로 이송되지 못하고, 롤러(50)와 카세트(20) 사이의 충격, 및 마찰이 심해져, 유리기판(10)에 가해지는 충격, 및 진동이 현저히 증가하는 문제점이 있다.
In addition, since the drive unit including the gear, the chain, and the motor must be provided, there is a problem in that the manufacturing cost and maintenance cost of the device increase. In order to prevent this, the cassette 20 may be manually transferred without a driving unit. In this case, when the cassette 20 is manually transferred on the roller 50 which does not rotate automatically, the cassette 20 cannot be stably transferred, and the impact and friction between the roller 50 and the cassette 20 are reduced. There is a problem in that the impact and vibration applied to the glass substrate 10 increase remarkably.

하지만, 본 발명에 따른 유리기판 충격 방지 에칭 장치는, 유리기판 이송 시에 유리기판에 가해지는 충격, 및 진동을 현저히 감소시킬 수 있으므로 유리기판의 파손 등을 방지할 수 있다.However, the glass substrate impact preventing etching apparatus according to the present invention can significantly reduce the impact and vibration applied to the glass substrate during the glass substrate transfer, thereby preventing breakage of the glass substrate.

또한, 수동으로 운전하여도 유리기판에 가해지는 충격, 및 진동을 현저히 감소시킬 수 있으므로, 모터 등의 자동 구동 장치를 구성하지 않고 장치의 제작 비용 등을 줄일 수 있으며, 장치의 관리를 위한 유지 보수 비용 등을 절감할 수 있다.In addition, since the impact and vibration applied to the glass substrate can be significantly reduced even by manual operation, the manufacturing cost of the device can be reduced without configuring an automatic driving device such as a motor, and maintenance for device management is possible. The cost can be reduced.

또한, 모터 등의 자동 구동 장치가 구성되는 경우에도, 에칭액에 의한 자동 구동 장치의 오염, 및 부식으로 인한 장치의 수명 단축이 발생하지 않으므로, 장치의 내구성이 높아 수명이 길고, 유지 보수 비용을 절감할 수 있다.
In addition, even when an automatic drive device such as a motor is configured, the device does not shorten the life of the device due to the contamination and corrosion of the automatic drive device by the etching liquid, so that the durability of the device is long, the service life is long, and the maintenance cost is reduced. can do.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments. Various modifications and variations are possible within the scope of the appended claims.

200: 카세트 300: 노즐
400: 이송 몸체 410: 이송휠
411: 이송휠 함몰부 420: 이송 로드
430: 고정부 500: 레일
510: 레일 함몰부200: cassette 300: nozzle
400: transfer body 410: transfer wheel
411: depression of the transfer wheel 420: transfer rod
430: fixing part 500: rail
510: rail depression

Claims (8)

유리기판을 에칭할 수 있는 에칭 위치, 및 상기 유리기판을 적재할 수 있는 적재 위치를 가지는 유리기판 충격 방지 에칭 장치에 있어서,
상기 유리기판을 기립하기 위한 틀을 가지는 카세트;
상기 에칭 위치에서, 상기 유리기판의 상부에 위치하고, 상기 유리기판에 공급하기 위한 에칭액을 분사하는 노즐이 배열되는 복수의 공급관; 및
상기 카세트를, 상기 에칭 위치에서 상기 적재 위치로 이송할 수 있는 이송부
를 포함하고, 상기 이송부는,
상기 카세트를 이송할 수 있는 이송체; 및
상기 에칭 위치와 상기 적재 위치를 연결하는 레일
을 포함하며, 상기 이송체는,
상기 카세트를 적재할 수 있는 이송 몸체;
상기 이송 몸체에 회전 가능하도록 결합되고, 상기 레일을 따라 이동하는 이송휠; 및
상기 이동 몸체의 일측에 연결되어 상기 이송 몸체를 이송하기 위한 동력을 전달할 수 있는 이송 로드
를 포함하고,
상기 이송체는 상기 레일을 따라 이동할 수 있으며,
상기 이송휠의 외주연을 따라 이송휠 함몰부가 형성되고, 상기 이송휠 함몰부와 마주하는 상기 레일은 상기 이송휠 함몰부에 대응하는 형상을 가지며,
상기 이송휠 함몰부는 상기 레일에 맞물려 회전 이동하고, 라운딩 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 유리기판 충격 방지 에칭 장치.A glass substrate impact preventing etching apparatus having an etching position capable of etching a glass substrate and a loading position capable of loading the glass substrate,
A cassette having a frame for standing the glass substrate;
A plurality of supply pipes positioned at an upper portion of the glass substrate at the etching position and having nozzles for injecting etching liquid for supplying the glass substrate; And
Transfer section capable of transferring the cassette from the etching position to the loading position
To include, the transfer unit,
A transfer member capable of transferring the cassette; And
Rail connecting the etching position and the loading position
It includes, the conveying body,
A transfer body capable of loading the cassette;
A transport wheel rotatably coupled to the transport body and moving along the rail; And
A transfer rod connected to one side of the movable body to transfer power for transferring the transfer body;
Lt; / RTI >
The conveying body can move along the rail,
A transport wheel recess is formed along the outer circumference of the transport wheel, and the rail facing the transport wheel recess has a shape corresponding to the transport wheel recess,
The transfer wheel recessed portion is rotated in engagement with the rail, the glass substrate impact preventing etching apparatus characterized in that it has a rounded shape. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 이송 로드에 연결되어, 상기 에칭 위치에서 상기 레일을 따라 상기 이송 몸체를 소정 간격 왕복 이동시킬 수 있는 왕복 구동부
를 더 포함하는 유리기판 충격 방지 에칭 장치.The method of claim 1,
A reciprocating drive unit connected to the transfer rod and capable of reciprocating the transfer body at a predetermined interval along the rail at the etching position
Glass substrate impact prevention etching apparatus further comprising. 제1항에 있어서,
상기 이송 로드에 연결되어, 상기 에칭 위치, 및 상기 적재 위치 사이에서 상기 레일을 따라 상기 이송 몸체를 이동시킬 수 있는 자동 구동 장치
를 더 포함하는 유리기판 충격 방지 에칭 장치.The method of claim 1,
An automatic drive device coupled to the transfer rod and capable of moving the transfer body along the rail between the etching position and the loading position
Glass substrate impact prevention etching apparatus further comprising. 제1항에 있어서,
상기 이송 몸체에는, 상기 카세트의 슬라이딩 이동을 방지하기 위한 돌출부가 형성되는 것을 특징으로 하는 유리기판 충격 방지 에칭 장치.The method of claim 1,
The transfer body, the glass substrate impact preventing etching apparatus, characterized in that the projection is formed for preventing the sliding movement of the cassette.
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