KR101309006B1 - 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치 - Google Patents

슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101309006B1
KR101309006B1 KR1020110099627A KR20110099627A KR101309006B1 KR 101309006 B1 KR101309006 B1 KR 101309006B1 KR 1020110099627 A KR1020110099627 A KR 1020110099627A KR 20110099627 A KR20110099627 A KR 20110099627A KR 101309006 B1 KR101309006 B1 KR 101309006B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
etchant
bath
substrate
pump
sludge
Prior art date
Application number
KR1020110099627A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130035378A (ko
Inventor
박우열
박병우
Original Assignee
에프엔에스테크 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에프엔에스테크 주식회사 filed Critical 에프엔에스테크 주식회사
Priority to KR1020110099627A priority Critical patent/KR101309006B1/ko
Publication of KR20130035378A publication Critical patent/KR20130035378A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101309006B1 publication Critical patent/KR101309006B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1313—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C03C15/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting

Abstract

본 발명은 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치에 관한 것으로서, 기판의 식각 공정이 수행되는 공간을 제공하는 배스, 상기 배스에서 사용이 완료된 식각액이 저장되는 탱크, 상기 탱크에 저장된 식각액을 상기 배스로 펌핑하는 펌프 및 상기 배스와 상기 펌프 사이에 마련되는 슬러지 제거부를 포함하고, 상기 슬러지 제거부는, 상기 배스와 상기 펌프를 연결하는 식각액 공급관 상에 설치되어 상기 펌프에서 상기 배스로 유동하는 식각액을 여과하는 필터 부재와, 상기 필터 부재의 일측에 배치되도록 상기 식각액 공급관과 연통되는 탈이온수 공급구와, 상기 필터 부재의 타측에 배치되도록 상기 식각액 공급관과 연통되는 드레인관을 포함하여 구성된다.

Description

슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치{SUBSTRATE ETCHING APPARATUS FOR AUTOMATICALLY REMOVING SLUDGE}
본 발명은 기판 식각 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판의 식각 공정에서 발생하는 슬러지를 보다 간단하고 효율적으로 자동으로 제거하는 기판 식각 장치에 관한 것이다.
일반적으로 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Device, LCD) 등에 사용되는 기판은 최근 디스플레이 장치의 슬림화 경향에 의하여 기판의 외면을 식각하는 기판 슬림화 공정을 거친다. 이러한 슬림화 공정은 디스플레이 장치의 두께 감소와 화질 개선을 도모하기 위하여 필수적으로 요구되는 공정 중의 하나이다. 또한, 터치 패널에 적용되는 강화 유리도 형상 및 홀 가공을 위하여 강화기판의 외곽을 식각하는 기판 형상화 공정을 필요로 한다.
이러한 기판의 식각 공정은 소정의 기판 식각 장치(glass etching device)에 의하여 수행된다. 통상적인 기판 식각 장치에 의한 기판 식각 공정은 물리적 또는 화학적 반응을 이용하여 기판 전면을 일정한 두께로 제거하여 기판을 일정한 두께로 얇게 만들거나 기판 내에 원하지 않는 일정 부분을 제거하는 공정이다. 특히, 화학적 반응을 이용한 종래의 기판 식각 공정의 경우에는 식각액을 기판에 도포하여 식각 공정을 진행한 후에 사용 완료된 식각액을 탱크에 저장하고 다시 사용하는 일련의 순환 과정이 함께 수반된다.
즉, 도 1에 도시된 바와 같이 배스(10) 내부에는 식각 대상이 되는 기판(P)이 배치되고, 상기 배스(10) 내부의 노즐(40)에서 분사되는 식각액에 의하여 기판(P)의 표면은 식각된다. 그리고, 상기 기판(P)의 식각에 사용된 식각액은 상기 배스(10)와 연결된 탱크(20)에 저장되며, 상기 탱크(20)에 저장된 식각액은 펌프(30)에 의하여 다시 노즐(40) 유동됨으로써 기판(P)의 식각 공정에 재사용된다.
그러나, 화학적 반응을 이용한 종래의 기판 식각 공정의 경우, 재사용되는 식각액에 전단계의 식각 공정시 발생되는 슬러지가 존재함에도 불구하고 이 슬러지가 적절하게 제거되지 못하여 식각액이 유동되는 배관이나 노즐 등을 막아 기판 식각 장치의 고장을 유발시키거나 후공정에서의 공정 에러를 유발시키는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판 식각에 사용된 식각액이 유동하는 배관에 슬러지 제거부를 마련하여 슬러지를 제거하고, 슬러지 제거부에 포집된 슬러지를 탈이온수를 이용하여 외부로 배출시키는 기판 식각 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 기판 식각 장치는, 기판의 식각 공정이 수행되는 공간을 제공하는 배스와, 상기 배스에서 사용이 완료된 식각액이 저장되는 탱크와, 상기 탱크에 저장된 식각액을 상기 배스로 펌핑하는 펌프; 및 상기 배스와 상기 펌프 사이에 마련되는 슬러지 제거부로 이루어진 기판식각장치에 관한 것으로,
상기 기판식각장치의 슬러지 제거부는,
상기 배스와 상기 펌프를 연결하는 식각액 공급관 상에 설치되어 상기 펌프에서 상기 배스로 유동하는 식각액을 여과되는 공간을 제공하는 챔버와, 상기 챔버의 내부에 서로 이격 배치되는 다수개의 여과판으로 이루어진 필터 부재와, 상기 식각액 공급관 상에서 상기 필터부재의 식각액의 여과 및 슬러지 배출시 개폐되도록 구비되는 제 1밸브와, 상기 필터 부재의 일측에 배치되도록 상기 식각액 공급관과 연통되는 탈이온수 공급구와, 상기 탈이온수 공급구 상에서 상기 제 1밸브와 반대로 개폐되도록 구비되는 제 2밸브와, 상기 필터 부재의 타측에 배치되도록 상기 식각액 공급관과 연통되는 드레인관과, 상기 드레인관 상에서 상기 제 2밸브와 동일하게 개페되는 제 3밸브를 포함하여 구성된다.
삭제
삭제
삭제
본 발명에 따르면, 기판 식각에 사용된 식각액에 포함된 슬러지를 제거하여 외부로 배출함으로써 설비의 고장 및 공정 에러 등을 방지하고, 기판 식각 장치의 클리닝 주기를 늘려줌으로써 설비의 유지에 소요되는 인력, 비용 등을 감소시키는 장점이 있다.
도 1은 일반적인 기판 식각 장치를 나타낸 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 식각 장치를 나타낸 개략도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 식각 장치의 슬러지 제거부를 나타낸 도면이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있다. 또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 한다. 그리고 본 발명의 사상은 제시되는 실시예에 제한되지 아니하고 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위내에서 다른 실시예를 용이하게 실시할 수 있을 것이나, 이 또한 본 발명의 범위 내에 속함은 물론이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 식각 장치를 나타낸 개략도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 식각 장치의 슬러지 제거부를 나타낸 도면이다. 도 2 및 도 3을 참조하여 상기 기판 식각 장치의 구체적인 구성 및 작동 과정에 대하여 상세히 설명한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 기판 식각 장치는 배스(100), 탱크(200), 펌프(300), 슬러지 제거부(400) 및 노즐(500) 등을 포함하여 구성된다. 상기 배스(100)는 기판(P)의 식각 공정이 수행되는 공간을 제공하므로 그 내부에는 식각 대상이 되는 기판(P)이 배치된다.
상기 노즐(500)은 상기 배스(100)의 내부에 마련되어 기판(P)의 표면을 향하여 식각액을 분사함으로써 상기 배스(100) 내부에 배치된 기판(P)은 식각된다. 여기서, 상기 배스(100)에서 상기 기판(P)의 식각에 사용이 완료된 식각액은 상기 탱크(200)에 저장되며, 상기 탱크(200)에 저장된 식각액은 펌프(300)에 의하여 상기 배스(100)로 펌핑되어 기판(P)의 식각 공정에 재사용된다. 상기 슬러지 제거부(400)는 상기 배스(100)와 상기 펌프(300) 사이에 마련되어 재사용되는 식각액에 포함된 슬러지를 제거한다.
도 3에 도시된 바와 같이 상기 슬러지 제거부(400)는 상기 펌프(300)와 상기 배스(100)를 연결하는 식각액 공급관(440) 상에 마련되며, 필터 부재(410), 탈이온수 공급구(430) 및 드레인관(420)을 포함하여 구성된다.
상기 필터 부재(410)는 상기 식각액 공급관(440) 상에 마련되어 식각액이 여과되는 공간을 제공하는 챔버(412) 및 상기 챔버(412)의 내부에 서로 이격 배치되는 다수개의 여과판(414)을 포함하여 구성된다. 즉, 상기 기판(P)의 식각 공정에 사용이 완료된 식각액은 펌프(300)에 의하여 상기 식각액 공급관(440)을 유동하여 상기 배스(100) 내부의 노즐(500)로 분사되는데, 상기 식각액 공급관(440)을 유동하는 식각액에 포함된 슬러지는 상기 챔버(412) 내부에 배치된 여과판(414)을 통과하면서 제거되며, 제거된 슬러지는 상기 챔부 내부에 포집된 상태로 남아있게 된다.
이때에는 상기 필터 부재(410)에서 식각액을 여과하여 슬러지를 제거하여야 하므로, 상기 식각액 공급관(440) 상에 마련되는 제1밸브(442)는 개방하고, 상기 탈이온수 공급구(430)에 마련되는 제2밸브(432) 및 상기 드레인관(420) 상에 마련되는 제3밸브(422)는 폐쇄하게 된다.
한편, 상기 여과판(414)은 식각액만 통과시키는 미세한 홀 등이 무수히 많이 형성된 천공판 등으로 형성될 수 있으며, 식각 공정에서 발생한 슬러지는 통과시키지 않되 식각액만 통과시킬 수 있는 재질로 형성된 것이면 어느 것이든 무방하며 상기 여과판(414)의 재질에 의하여 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.
상기 챔버(412) 내부에 포집된 슬러지를 외부로 배출하는 경우에는 미리 상기 챔버(412) 내부에 배치된 여과판(414)을 제거한 후, 상기 필터 부재(410)의 일측에 배치되도록 상기 식각액 공급관(440)과 연통되는 상기 탈이온수 공급구(430)를 통하여 고압의 탈이온수를 공급하며 이러한 고압의 탈이온수에 의하여 상기 챔버(412) 내부에 포집된 슬러지는 상기 필터 부재(410)의 타측에 배치되도록 상기 식각액 공급관(440)과 연통되는 드레인관(420)을 통하여 외부로 배출되는 것이다.
이때에는 상기 필터 부재(410)에 포집된 슬러지를 외부로 배출하여야 하므로, 상기 식각액 공급관(440) 상에 마련되는 제1밸브(442)는 폐쇄하고, 상기 탈이온수 공급구(430)에 마련되는 제2밸브(432) 및 상기 드레인관(420) 상에 마련되는 제3밸브(422)는 개방하게 된다.
이와 같이, 본 발명에 따르면 기판의 식각에 사용된 식각액에 포함된 슬러지를 제거함과 동시에 외부로 배출함으로써 설비의 고장 및 공정 에러 등을 방지하고, 기판 식각 장치의 클리닝 주기를 늘려줌으로써 설비의 유지에 소요되는 인력, 비용 등을 감소시킬 수 있다.
이상에서 본 발명에 따른 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 범위의 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 다음의 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.
100: 배스 200: 탱크
300: 펌프 400: 슬러지 제거부
410: 필터 부재 420: 드레인관
430: 탈이온수 공급구 440: 식각액 공급관

Claims (4)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 기판의 식각 공정이 수행되는 공간을 제공하는 배스와, 상기 배스에서 사용이 완료된 식각액이 저장되는 탱크와, 상기 탱크에 저장된 식각액을 상기 배스로 펌핑하는 펌프; 및 상기 배스와 상기 펌프 사이에 마련되는 슬러지 제거부로 이루어진 기판식각장치에 있어서,
    상기 기판식각장치의 슬러지 제거부는,
    상기 배스와 상기 펌프를 연결하는 식각액 공급관 상에 설치되어 상기 펌프에서 상기 배스로 유동하는 식각액을 여과되는 공간을 제공하는 챔버와, 상기 챔버의 내부에 서로 이격 배치되는 다수개의 여과판으로 이루어진 필터 부재와, 상기 식각액 공급관 상에서 상기 필터부재의 식각액의 여과 및 슬러지 배출시 개폐되도록 구비되는 제 1밸브와, 상기 필터 부재의 일측에 배치되도록 상기 식각액 공급관과 연통되는 탈이온수 공급구와, 상기 탈이온수 공급구 상에서 상기 제 1밸브와 반대로 개폐되도록 구비되는 제 2밸브와, 상기 필터 부재의 타측에 배치되도록 상기 식각액 공급관과 연통되는 드레인관과, 상기 드레인관 상에서 상기 제 2밸브와 동일하게 개페되는 제 3밸브를 포함하여 구성되는 기판 식각 장치.
KR1020110099627A 2011-09-30 2011-09-30 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치 KR101309006B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110099627A KR101309006B1 (ko) 2011-09-30 2011-09-30 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110099627A KR101309006B1 (ko) 2011-09-30 2011-09-30 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130035378A KR20130035378A (ko) 2013-04-09
KR101309006B1 true KR101309006B1 (ko) 2013-09-17

Family

ID=48437217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110099627A KR101309006B1 (ko) 2011-09-30 2011-09-30 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101309006B1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102583556B1 (ko) * 2021-01-07 2023-10-10 세메스 주식회사 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 장치의 고형 제거 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030025792A (ko) * 2001-09-21 2003-03-29 엘지.필립스 엘시디 주식회사 박형의 액정표시소자 제조방법
KR20110036296A (ko) * 2009-10-01 2011-04-07 (주)에스엠텍 기판 식각 장치의 슬러지 필터 시스템

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030025792A (ko) * 2001-09-21 2003-03-29 엘지.필립스 엘시디 주식회사 박형의 액정표시소자 제조방법
KR20110036296A (ko) * 2009-10-01 2011-04-07 (주)에스엠텍 기판 식각 장치의 슬러지 필터 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130035378A (ko) 2013-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10741427B2 (en) Coating apparatus for reducing waste of coating liquid, method for recycling coating liquid by utilization of the same, and method for cleaning the same
EP3279390A1 (en) Washing machine control method and washing machine
US7371023B2 (en) Apparatus for processing substrates and method therefor
KR101309006B1 (ko) 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치
TWI615186B (zh) 光阻剝離液過濾器之洗淨液、洗淨裝置及洗淨方法
KR101142034B1 (ko) 기판 식각 장치의 슬러지 필터 시스템
KR20130040378A (ko) 슬러지를 자동 제거하는 기판 식각 장치
KR100824544B1 (ko) 식각 장치 및 식각방법
CN215427726U (zh) 一种金属剥离后回收装置
JP4954795B2 (ja) 基板の保持装置及び基板の処理方法
CN104409398A (zh) 刻蚀装置
KR20140059480A (ko) 엘씨디 유리기판 세정장치
KR20090047115A (ko) 세정장비 및 기판세정방법
CN208740075U (zh) 一种生姜冲洗装置
KR100801656B1 (ko) 처리액 공급 방법
KR100636618B1 (ko) 대면적 기판 공정시스템의 필터 정화장치
KR102018673B1 (ko) 마스크 기판 고압세척기
KR100598914B1 (ko) 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비
KR101576145B1 (ko) 반도체 기판 세정용 약액 재사용장치
CN217103600U (zh) 一种基板蚀刻设备
KR102345031B1 (ko) 기판 처리장치
KR100967039B1 (ko) 폐용액 처리장치
KR101451857B1 (ko) 약액 공급 장치
TWI576634B (zh) 用於溼式製程的整合式藥液槽
KR102323081B1 (ko) 액 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170713

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180927

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190902

Year of fee payment: 7