KR101257172B1 - 편광판용 보호 필름 및 그의 제조 방법 및 편광판 - Google Patents

Abstract

본 발명의 목적은 LCD의 내부에 배치되어도 문제가 없는 투명성 등의 광학 특성을 가지며, 정전 방지나 전자파 차단 기능을 갖는 도전성 필름이면서 저렴한 필름을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 목적은 도전성 고분자를 표면에 부착시킨 고분자 필름에 있어서, 도전성 고분자가 폴리티오펜 또는 그의 유도체이고, 고분자 필름이 아세틸셀룰로오스계 또는 노르보르넨계 재료를 포함하며, 도전성 고분자층의 두께가 3 ㎛ 이하, 가시광선의 투과율이 78 ％ 이상, 표면 고유 저항치가 10³ Ω/□ 내지 10¹² Ω/□인 것을 특징으로 하는, 도전 처리가 이루어진 고분자 필름을 제공하는 것이다.

Description

편광판용 보호 필름 및 그의 제조 방법 및 편광판{Protective Film for Polarizing Plate and Process for Producing the Same and Polarizing Plate}

본 발명은 도전성 고분자를 표면에 부착시킨 고분자 필름에 관한 것이며, 상세하게는 그 도전성 고분자가 폴리티오펜 또는 그의 유도체이고, 고분자 필름이 아세틸셀룰로오스계 또는 노르보르넨계 재료를 포함하며, 도전성 고분자층의 두께가 3 ㎛ 이하, 가시광선의 투과율이 78 ％ 이상, 표면 고유 저항치가 10³ 내지 10¹² Ω/□인 고분자 필름에 관한 것이고, 액정 디스플레이(LCD) 등의 디스플레이에 사용되는, 정전 방지나 전자파 차단 기능을 갖는 고투명성의 도전 처리된 고분자 필름에 관한 것이며, 특히 편광판의 보호 필름에 유익하게 사용된다.

편광판은 폴리비닐알코올(PVA) 필름을 연신하고, 여기에 요오드나 염료 등을 부착 고정시킨 편광 필름의 양면에 트리아세틸셀룰로오스(TAC)를 포함하는 필름을 PVA의 양면에 접착하여 PVA의 강도면의 보강 및 흡수에 의한 특성 변화를 방지하는 구조로 되어 있다. TAC는 투명성이 우수하고, 복굴절이 작으며, PVA로의 접착이 용이하기 때문에, 이러한 편광 필름의 보호 필름으로서 사용되어 왔다. 최근, 액정 디스플레이의 대형화에 따라 TAC 필름에 있어서도 흡수성에 의한 치수 변화의 크기가 문제가 되는 경우가 있으며, 따라서 투명성이 우수하고, 복굴절이 작은 데다가 흡수율도 작은 노르보르넨계 재료를 포함하는 필름이 TAC의 대체 재료로서 검토되고 있다.

한편, LCD를 비롯하여 CRT나 EL, PDP 등의 디스플레이에서는, 그 자체로부터 발생하는 전자파가 인체에 악영향을 미치기 때문에, 이 전자파를 차단할 필요가 있었다. 또한, 디스플레이의 내부 및 외부에 이러한 전자파 차단 기능을 갖는 필름을 설치하는 경우에는 투명성이 우수하고, 복굴절이 작으며, 고강도, 고내열성, 저흡수성일 필요가 있으며, 이러한 특성을 만족한 후에 전자파 차단 기능을 갖는 필름이 개발될 필요가 있었다.

전자파를 차단하기 위해서는, 도전성이 부여된 것을 디스플레이의 전면에 배치할 수 있는데, 일반적으로 고투명성의 도전성 재료로서는 ITO 등을 스퍼터링이나 증착 등의 방법으로 고분자 필름에 부착시킨 것이 사용되지만, 이들 방법에서는 그 자체의 생산성이 나쁘고, 재료 그 자체도 고가이기 때문에, 도전성이 부여된 필름이 매우 고가가 된다는 문제가 있었다. 또한, ITO는 황색으로 착색되는 경향이 있으며, LCD의 컬러화에 따라 이 착색도 문제가 되었다.

또한, LCD, EL, PDP 등의 디스플레이에 배치되는 경우에는, 정전기에 의한 먼지 부착도 큰 문제가 되어 정전 방지 기능을 갖는 것도 요구되었다.

도전성을 갖는 고분자 재료로서는 폴리아닐린계 유도체, 폴리피롤계 유도체 및 폴리티오펜계 유도체가 잘 알려져 있는데, 고저항치를 얻고자 하면 폴리아닐린은 녹색으로 착색되고, 폴리피롤은 회색으로 착색된다는 문제가 있었다.

본 발명의 목적은 이러한 종래 기술의 문제를 해소하고, LCD 등의 디스플레이에 배치되어도 문제가 없는 투명성을 가지며, 정전 방지나 전자파 차단 기능을 갖는 도전성 필름이면서 저렴한 필름을 제공하는 것이다.

즉, 본 발명은 도전성 고분자를 표면에 부착시킨 고분자 필름에 있어서, 도전성 고분자 필름의 가시광 투과율이 78 ％ 이상, 표면 고유 저항치가 10³ 내지 10¹² Ω/□인 고분자 필름이고, 도전성 고분자로서 폴리티오펜계 재료를 사용하고, 이 도전성 고분자층의 두께를 3 ㎛ 이하로 제어하고, 고분자 필름 재료로서 아세틸셀룰로오스계 재료 또는 노르보르넨계 재료를 사용함으로써 쉽게 달성된다.

본 발명에 의해 도전성 고분자로서 폴리티오펜 또는 그의 유도체가 표면에 부착되어 있고, 아세틸셀룰로오스계 또는 노르보르넨계 재료를 포함하며, 3 ㎛의 두께, 78 ％ 이상의 가시광선 투과율 및 10³ Ω/□ 내지 10¹² Ω/□의 표면 고유 저항치를 나타내는, 도전 처리된 고분자 필름을 제공할 수 있게 되어 개선된 광학 특성, 정전 방지 특성 및 전자파 차단 특성을 달성할 수 있게 되었다.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.

본 발명에서 사용되는 도전성 고분자는 티오펜 및(또는) 티오펜 유도체를 중합하여 얻어지는 단독 중합체 또는 공중합체이다. 이 도전성 고분자는 중합 단위로서 하기 화학식 1, 2, 3 및(또는) 4로 표시되는 단위를 주성분으로 하는 단독 중합체 또는 공중합체이고, 그 밖의 중합 단위를 공중합 성분으로서 소량 포함하는 공중합체일 수도 있다.

식 중, m은 1 내지 4이다.

상기 화학식 1 및 2에 있어서, R¹, R²는 각각 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 지방족 탄화수소기, 지환족 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기, 수산기, 말단에 수산기를 갖는 기, 알콕시기, 말단에 알콕시기를 갖는 기, 카르복시기, 카르복실염기, 말단에 카르복실기를 갖는 기, 말단에 카르복실염기를 갖는 기, 에스테르기, 말단에 에스테르기를 갖는 기, 술폰산기, 말단에 술폰산기를 갖는 기, 술포닐기, 말단에 술포닐기를 갖는 기, 술피닐기, 말단에 술피닐기를 갖는 기, 아실기, 말단에 아실기를 갖는 기, 아미노기, 말단에 아미노기를 갖는 기, 아미노기의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 치환된 기, 아미노기의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 치환된 기를 말단에 갖는 기, 말단에 카르바모일기를 갖는 기, 카르바모일기의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 치환된 기, 카르바모일기의 수소 원자 중 일부 또는 전부가 치환된 기를 말단에 갖는 기, 할로겐기, 인산염기, 말단에 인산염기를 갖는 기, 옥시란기 또는 말단에 옥시란기를 갖는 기이다.

또한, 상기 화학식 2 및 4에 있어서 Y^-는 음이온을 갖는 원소 또는 화합물이고, 할로겐 이온, 술폰산 이온, 카르복실산 이온 등이 예시되며, 이들 음이온을 갖는 중합체를 나타낸다.

이러한 티오펜류의 도전성 고분자에는, 도전성을 더욱 높이기 위해 도핑제를, 예를 들면 도전성 고분자 100 중량부에 대하여 0.1 내지 500 중량부 첨가할 수 있다. 상기 도핑제로서는 LiCl, R³COOLi(여기서, R³은 탄소수 1 내지 30의 포화 탄화수소기임), R³SO₃Li, R³COONa, R³SO₃Na, R³COOK, R³SO₃K, 테트라에틸암모늄, I₂, BF₃Na, BF₄Na, HClO₄, CF₃SO₃H, FeCl₃, 테트라시아노퀴놀린, Na₂B₁₀Cl₁₀, 프탈로시아닌, 포르피린, 글루탐산, 알킬술폰산염, 폴리스티렌술폰산 알칼리염 공중합체, 폴리스티렌술폰산 음이온, 스티렌술폰산과 스티렌술폰산 음이온 공중합체 등을 들 수 있으며, 이들을 2종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다.

본 발명에 있어서, 고분자 필름과 도전성 고분자의 접착성을 보다 양호하게 하기 위해, 도전성 고분자에 결합제 수지를 배합할 수 있다. 이 결합제 수지는 고분자 필름의 종류에 대하여 접착성이 우수한 것을 적절하게 선택할 수 있으며, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리에스테르 수지, 아크릴계 수지, 아크릴 변성 폴리에스테르 수지, 우레탄 수지, 아세트산 비닐계, 염화비닐계, 폴리비닐알코올이나 폴리에틸렌비닐아세테이트, 유기 실리케이트 등으로부터 선택할 수 있다. 물론, 2종류 이상의 결합제를 혼합하여 사용할 수도 있다.

본 발명에서의 도전 고분자층은 티오펜 및(또는) 티오펜 유도체를 중합하여 얻어지는 도전성 고분자를 포함하는 수성 도액을 고분자 필름 상에 도포하고, 건조, 경화하여 만들어지는, 표면 고유 저항률이 10³ 내지 10¹² Ω/□인 도막이다. 특히 바람직하게는 10⁴ 내지 10⁸ Ω/□이다. 이 표면 저항률이 10³ Ω/□ 미만이면 도막층을 두껍게 할 필요가 생기거나, 후술하는 결합제의 양이 부족하기 때문에 도막이 물러지고, 10¹² Ω/□를 초과하면 정전 방지 효과 및 전자파 차폐 효과가 부족하다.

도포법에 의해 형성되는 도전 고분자층은, 도전성 고분자가 1 내지 95 중량％, 바람직하게는 2 내지 70 중량％, 상기 결합제 수지가 5 내지 99 중량％, 바람직하게는 30 내지 98 중량％인 조성물을 포함하는 수성 도액을 고분자 필름에 도포하고, 건조, 경화하여 만들어진 것인 것이 바람직하다.

도전성 고분자와 결합제 수지의 비율이 상기의 범위이면, 고분자 필름과 도전성 고분자와의 접착성이 양호해지고, 정전 방지 효과가 우수하며, 접착성 및 내깎임성이 양호해지기 때문에 바람직하다.

도전성 고분자와 결합제 수지의 조성물은, 통상 사용되는 혼합 방법으로 얻을 수 있는데, 미립자상의 결합제 수지의 표면에 도전성 고분자를 피복하는 방법이나 도전성 고분자에 존재하는 관능기와 결합제 수지에 존재하는 관능기를 화학적으로 결합시키는 방법 등도 응용할 수 있다.

도전 고분자층의 성분으로서는 접착성, 내용제성, 내수성 등을 조정할 목적으로 에폭시 수지, 비닐 수지, 폴리에테르 수지, 수용성 수지 등을 임의로 배합할 수 있다. 또한, 그 밖에 도막의 슬립성이나 내블록킹성을 양호하게 하기 위해 평균 입경이 0.01 내지 20 ㎛ 정도인 무기 및 유기 미립자를 윤활제로서 0.001 내지 5 중량％의 비율로 함유시킬 수 있다.

이러한 미립자로서는 실리카, 알루미나, 산화티탄, 카본 블랙, 카올린, 탄산칼슘 등의 무기 미립자, 폴리스티렌 수지, 가교 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 가교 아크릴 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 불소 수지, 요소 수지, 벤조구아나민 수지 등의 유기 미립자 등을 예시할 수 있다. 이 유기 미립자는 도막 내에서 미립자의 상태를 어느 정도 유지할 수 있는 수지이면 열가소성 수지이거나, 열경화성 수지일 수 있다. 또한, 도전성을 높이기 위해 도전성 충전제, 예를 들면 산화주석계 미립자, 산화인듐계 미립자 등을 혼합할 수도 있다.

상기 미립자 외에도 계면활성제, 산화 방지제, 착색제, 안료, 형광 증백제, 가소제, 가교재, 유기 슬립제, 자외선 흡수제, 대전 방지제 등을 필요에 따라 첨가할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 도전성 고분자 및 필요에 따라 결합제, 도핑제 및 다른 첨가제를 포함하는 수성 도액을 사용하여 도전 고분자층을 형성하는데, 수성 도액의 고형분 농도는 0.1 내지 30 중량％가 통상 사용되며, 1 내지 20 중량％가 바람직하다. 고형분 농도가 이러한 범위에 있으면, 수성 도액의 점도가 도포에 적합해진다. 수성 도액은 수용액, 수분산액, 유화액 등 임의의 형태로 사용할 수 있으며, 수성 도액 중에 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜 등의 알코올류나 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류 등의 물에 가용인 용제를 첨가함으로써 용제의 증발 속도를 높일 수도 있다. 특히 알코올류는 물과의 혼화성이 높다는 점과 평활성을 양호하게 한다는 점에서 바람직하게 사용된다. 또한, 그 밖의 용제가 문제가 되지 않는 범위에서 소량 포함될 수도 있다. 또한, 본 발명에 있어서 도전성 고분자층이 형성되는 기재 표면에 산화제를 수 ㎛ 단위로 도포하고, 단량체 (모노머)를 기체 상태에서 산화제 도막과 접촉시킴으로써 중합을 진행시켜 도전성 중합체막을 기재 상에 형성할 수도 있다.

본 발명에 있어서, 도전 고분자층은 상기 도액을 투명한 고분자 필름에 도포함으로써 형성된다. 도전성 고분자층이 도포된 고분자 필름은, 광학 필름으로서 사용되기 때문에, 특히 편광판의 보호 필름으로서 사용되기 때문에, 사용되는 고분자 필름에 있어서는 가시광선의 투과율과 복굴절을 중요한 특성으로서 들 수 있다. 가시광선의 투과율은 높으면 높을 수록 좋으며, 78 ％ 이상, 바람직하게는 82 ％ 이상, 특히 바람직하게는 85 ％ 이상이다. 복굴절은 작으면 작을 수록 좋으며, 100 nm 이하, 바람직하게는 50 nm 이하가 바람직하고, 이들의 특성을 동시에 겸비한 고분자 필름이 바람직하게 사용된다.

이러한 고분자 필름으로서는, 가시광선의 투과율이나 복굴절 및 황색의 착색성 등의 특성면에서 아세틸셀룰로오스계 필름과 노르보르넨계 필름이 사용된다.

아세틸셀룰로오스계 필름으로서는, 셀룰로오스 섬유를 원료로 한 삼아세트산 셀룰로오스 필름(TAC 필름)이나 이아세트산 셀룰로오스 필름 및 이들의 변성 필름 등을 들 수 있다. 이 필름은 통상 셀룰로오스 섬유를 염화메틸렌 등의 적당한 용매에 용해한 용액을, 예를 들면 스테인레스 벨트나 적당한 고분자 필름 상에 도포한 후, 용매를 제거 건조하여 얻을 수 있다.

본 발명에서 바람직하게 사용되는 노르보르넨계 필름으로서는, 노르보르넨 구조를 갖는 중합성 단량체 1종 또는 복수의 단량체로부터 얻어진 중합체라면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 노르보르넨 구조를 함유하는 단량체류를 개환 중합하고, 그 후 수소화 촉매에 의해 잔존한 2중 결합의 일부 또는 전부를 수소 첨가하는 방법으로 중합체를 얻을 수 있다. 구체적으로 예시하면, 일본 특허 공개 (소)63-218726, 일본 특허 공개 (평)5-25220, 일본 특허 공개 (평)9-183832 등에 개시되어 있는 방법으로 제조되는, 상품명으로서 닛본 제온 가부시끼 가이샤의 제오넥스나 제오노아, 일본 특허 공개 (평)5-97978 및 일본 특허 공개 (평)1-240517 등에 예시되어 있는 방법으로 제조되는 JSR 가부시끼 가이샤의 아톤 등이 포함된다.

또한, 노르보르넨 구조를 갖는 단량체와 2중 결합을 갖는 다른 단량체 몇종을 조합시킨 단량체군을 공지된 방법으로 부가 중합시킨 중합체도 있으며, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)6-107735, 일본 특허 공개 (소)62-252406 및 일본 특허 공개 (평)8-259629 등에 개시되어 있는 방법으로 제조되는 미쓰이 가가꾸 가부시끼 가이샤의 상품명 아펠이나 헥스트사가 상품화한 토파스 등이 포함된다.

이와 같이 하여 얻어진 중합체로부터 필름을 제조하는 방법은, 공지된 방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, 중합체를 잘 용해할 수 있는 용매, 구체적으로는 염화메틸렌 등의 할로겐계 용매나 방향족이나 지환족의 유기 용매에 중합체를 용해하고, 스테인레스 등의 금속제 벨트나 폴리에스테르 등의 고분자 필름 상에 중합체 용액을 도포하고, 용제를 제거 건조하여 얻는 이른바 캐스팅법으로 제조할 수 있다. 또한, 중합체를 열로 용융하고, 금속제 벨트 상에 토출 후 냉각하여 얻는 이른바 압출법으로도 제조할 수 있다.

또한, 아세틸셀룰로오스계 필름이나 노르보르넨계 필름을 제조할 때, 필요에 따라 이들 중합체 중에 산화 방지제, 자외선 흡수제, 자외선 안정제, 착색제, 윤활제, 대전 방지제, 각종 안료나 염료, 섬유류, 분산제 등의 각종 첨가제를 첨가하여 필름을 제조할 수 있다. 편광판의 보호 필름으로서 사용하는 경우에는, 오히려 산화 방지제, 자외선 흡수제, 자외선 안정제를 함유시킨 필름이 바람직하게 사용된다.

이와 같이 하여 얻어진 필름은 표면에 여러가지 목적으로 코팅되는 경우가 있다. 예를 들면, 표면 흠집을 방지하기 위해 아크릴계, 우레탄계, 우레탄아크릴계의 UV 경화성이나 열경화성 하드 코팅제, 에폭시계의 하드 코팅제, 실리콘계의 하드 코팅제 등이 도포된 것을 사용할 수도 있다. 또한, 이 하드 코팅제 중에 Si0₂나 알루미나 등의 미립자를 함유시켜 도포하고, 광택을 감소시킨 이른바 안티-글레어드(anti-glared) 하드 코팅된 것도 사용할 수 있다. 편광판의 보호 필름으로서 사용하는 경우에는, 상기 하드 코팅이나 안티-글레어드 하드 코팅제를 도포한 것이 보다 바람직하게 사용된다.

상기 고분자 필름으로의 도액의 도포 방법으로서는, 공지된 임의의 도포 방법을 적용할 수 있다. 예를 들면, 롤 코팅법, 그라비어 코팅법, 스크린 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 마이크로 그라비어 코팅법, 리버스 코팅법, 롤 브러시법, 스프레이 코팅법, 에어 나이프 코팅법, 함침법 및 커튼 코팅법 등을 단독으로 또는 조합하여 적용할 수 있다.

본 발명에 있어서, 도전 고분자층의 두께는 0.005 내지 3 ㎛, 바람직하게는 0.01 내지 1 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 0.5 ㎛이다. 두께가 지나치게 얇으면 충분한 정전 방지 효과를 얻지 못하는 경우가 있고, 지나치게 두꺼우면 도막에 균열이 생기거나 내블록킹성이 저하되는 경우가 있다. 도전 고분자층은 고분자 필름의 양면에 도포하거나, 한쪽면에 도포할 수 있다.

이와 같이 하여 도전 고분자층이 형성된 고분자 필름 상에, 이미 기술한 하드 코팅제, 안티-글레어드 하드 코팅을 행할 수도 있다. 또한, 공지된 여러가지 코팅, 예를 들면, 반사 방지 코팅이나 오염 방지 코팅, 점착제층의 코팅 등 목적에 따른 코팅을 행할 수도 있다. 또한, 도전 고분자층을 한쪽면에 형성한 경우에는, 반대쪽면에 목적에 따라 하드 코팅, 안티-글레어드 하드 코팅, 반사 방지 코팅, 오염 방지 코팅, 점착제층의 코팅 등을 행할 수 있다. 또한, 이들 코팅을 목적에 따라 여러가지 조합시킬 수도 있다.

편광판은 통상 LCD의 액정 전후에 2장 배치되는데, 본 발명의 필름은 2장의 편광판 4장 모두의 보호 필름으로서 사용할 수도 있지만, 목적에 따라 3장으로 할 수도 있고, 2장이나 1장으로 사용할 수도 있다. 복수장 사용하는 경우에는, 각각의 저항치가 동일할 필요는 없으며, 고분자 필름의 종류도 적절하게 목적에 따라 선택할 수 있다. 전자파 차단 기능의 관점에서 보면, 최외층의 보호 필름에 사용하는 것이 효과 및 비용의 관점에서 바람직하다.

<실시예>

이하, 실시예에서 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.

<실시예 1>

디옥시에틸렌폴리티오펜(바이엘사의 Baytron PH) 16 중량부에 폴리스티렌술폰산 이온과 폴리스티렌술폰산을 1:1의 몰비로 공중합한 것을 30 중량부 도핑한 도전성 고분자 20 g과 결합제로서 아크릴 수지, 우레탄 수지 및 폴리비닐알코올을 1:1:1의 중량비로 혼합한 것 100 g 및 비이온성 계면활성제인 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 5 g을 이소프로필알코올을 20 중량％ 함유하는 물 1 kg에 용해시킨 수성 코팅액 1을 얻었다. 이것을 두께 80 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름(TAC 필름)에 그라비어 코팅기로 도포하고, 100 ℃에서 건조하였다. 도전 고분자층의 두께는 0.11 ㎛였다. 이 필름의 특성을 표 1에 나타내었다. 후술하는 도전성 고분자를 도포하지 않은 만큼의 차이를 나타낸 비교예 1과 비교하여, 표면 고유 저항치는 10¹⁴ Ω/□ 이상이었던 저항치가 도포에 의해 8×10⁵ Ω/□까지 저하되어 도전율이 높아짐에도 불구하고, 전체 광선 투과율과 복굴절은 거의 악화되지 않고, 황색도는 반대로 작아지는 것을 알 수 있었다. LCD의 내부에 배치되어도, 특히 편광판의 보호 필름으로서 사용되어도 광학 특성적으로 악영향을 미치지 않고 오히려 색도적으로는 황색도가 개선되어 전자파 차단 기능 및 정전 방지 기능을 부가할 수 있는 것을 나타내었다.

<비교예 1>

실시예 1에 있어서, 도전성 고분자의 도포를 행하지 않은 TAC 필름의 특성치를 측정하여 표 1에 나타내었다.

<실시예 2>

실시예 1에서 사용한 수성 코팅액 1을 사용하고, 이것을 80 ㎛ 두께의 TAC 필름에 미리 자외선 경화형의 아크릴계 하드 코팅제에 미소 실리카를 분산시킨 것을 도포 후 경화시킴으로써 헤이즈값이 27.1 ％, 60도 각도의 광택이 34.3 ％가 되도록 안티-글레어드 처리된 필름을 사용하고, 그 표면에 실시예 1과 동일하게 도전성 고분자를 도포하였다. 도전성 고분자층의 두께는 0.12 ㎛였다. 이 필름의 특성을 표 2에 나타내었다. 후술하는 비교예 2는 도전성 고분자의 도포를 행하지 않은 경우의 특성치를 나타내며, 이에 비하여 저항치는 10¹⁴ Ω/□ 이상에서부터 7×10⁵ Ω/□까지 저하되어 도전성이 높아짐에도 불구하고, 전체 광선 투과율 및 복굴절은 거의 변화되지 않는 한편, 황색도는 오히려 개선되는 것을 알 수 있었다. 또한, 안티-글레어드 처리층 상에 도포해도 헤이즈값 및 광택도는 거의 변화되지 않는 것도 알 수 있었다. 이 결과로부터 본 발명의 도전성 고분자가 도포된 안티-글레어드 처리된 TAC 필름이 LCD의 내부에 배치되어도 안티-글레어드 처리 효과는 유지할 수 있으며, 광학 특성적으로는 아무런 악영향을 미치지 않고 전자파 차단 및 정전 방지 기능을 부여할 수 있고, 황색도는 반대로 개선되는 것을 알 수 있었다.

<비교예 2>

실시예 2에 있어서, 도전성 고분자의 도포만을 행하지 않은 안티-글레어드 처리된 TAC 필름의 특성치를 표 2에 나타내었다.

<실시예 3>

실시예 1에 있어서, 도전성 고분자를 10 g으로 한 것 외에는 동일하게 하여 도포 필름을 얻었다. 도전성 고분자층의 두께는 0.12 ㎛였다. 이 필름의 특성을 표 1에 나타내었다.

<실시예 4>

도전성 고분자층의 두께를 1.2 ㎛로 한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 도포 필름을 얻었다. 이 필름의 특성을 표 1에 나타내었다.

<실시예 5>

JSR 가부시끼 가이샤의 노르보르넨 재료를 포함하는 두께 100 ㎛의 필름(상품명 아톤)에 실시예 1과 동일한 수성 코팅액 1을 도포하였다. 도전성 고분자층의 두께는 0.10 ㎛였다. 이 필름의 특성을 표 1에 나타내었다.

<비교예 3>

실시예 5에 있어서, 수성 코팅액을 도포하지 않은 필름의 특성치를 표 1에 나타내었다.

<실시예 6>

실시예 2와 동일하게 하여 필름이 안티-글레어드 처리되어 있는 100 ㎛ 두께의 아톤 필름을 사용한 것 외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 도포하였다. 도전성 고분자층의 두께는 0.11 ㎛였다. 이 필름의 특성을 표 2에 나타내었다.

<비교예 4>

실시예 6에 있어서, 도전성 고분자를 도포하지 않은 필름의 특성치를 표 2에 나타내었다.

<실시예 7>

필름이 닛본 제온 가부시끼 가이샤의 노르보르넨 재료를 포함하는 두께 100 ㎛의 필름(상품명 제오노아)이며, 실시예 6과 동일하게 안티-글레어드 처리된 것을 사용한 것 외에는 실시예 6과 동일하게 하여 도포 필름을 얻었다. 도전성 고분자층의 두께는 0.12 ㎛이며, 이 필름의 특성을 표 2에 나타내었다.

<비교예 5>

실시예 7에 있어서, 도전 고분자를 도포하지 않은 필름의 특성치를 표 2에 나타내었다.

<비교예 6>

실시예 1에 있어서, 도전성 고분자로서 폴리티오펜 대신에 폴리피롤을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 고분자 필름을 제조하였다. 얻어진 필름의 특성을 표 3에 나타내었다.

<비교예 7>

실시예 1에 있어서, 도전성 고분자로서 폴리티오펜 대신에 폴리아닐린을 사용한 것 외에는 실시예 1과 동일하게 하여 고분자 필름을 제조하였다. 얻어진 필름의 특성을 표 3에 나타내었다.

Claims (9)

1. 고분자 필름의 표면에 도전성 고분자를 부착시킨 도전성 고분자층을 갖는 도전 처리된 고분자 필름으로서,
   도전성 고분자가 폴리티오펜 또는 그의 유도체이고,
   고분자 필름이 아세틸셀룰로오스계 필름 또는 노르보르넨계 필름이고,
   도전성 고분자층은, 도전성 고분자인 폴리티오펜 또는 그의 유도체 100 중량부에 대하여, 도핑제로서 폴리스티렌술폰산 이온과 폴리스티렌술폰산을 1:1의 몰비로 공중합한 것을 0.1 내지 500 중량부 첨가한 것이고,
   도전성 고분자층의 두께가 3 ㎛ 이하, 가시광선의 투과율이 78 ％ 이상, 표면 고유 저항치가 10³ 내지 10¹² Ω/□인 도전 처리된 고분자 필름을 갖는 것을 특징으로 하는 편광판용 보호 필름이 편광 필름의 적어도 한쪽의 보호 필름으로서 사용된 편광판.
2. 제1항에 있어서, 도전성 고분자층은 도전성 고분자 1 내지 95 중량％와 결합제 수지 5 내지 99 중량％를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판.
3. 제1항에 있어서, 도전 처리된 고분자 필름은 하드 코팅 또는 안티-글레어드 하드 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 편광판.
4. 제1항에 기재된 편광판의 제조 방법이며,
   아세틸셀룰로오스계 필름 또는 노르보르넨계 필름의 표면에,
   도전성 고분자인 폴리티오펜 또는 그의 유도체 100 중량부에 대하여, 도핑제로서 폴리스티렌술폰산 이온과 폴리스티렌술폰산을 1:1의 몰비로 공중합한 것을 0.1 내지 500 중량부 포함하는 수성 도액에 의해 도전성 고분자층을 형성하는 공정을 갖는 편광판용 보호 필름의 제조 방법에 의해 편광판용 보호 필름을 제조하는 공정,
   상기 공정에서 얻어진 편광판용 보호 필름을 편광 필름의 적어도 한쪽의 보호 필름으로서 접착하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 편광판의 제조 방법.
5. 제4항에 있어서, 수성 도액은 도전성 고분자 1 내지 95 중량％와 결합제 수지 5 내지 99 중량％를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판의 제조 방법.
6. 제4항에 있어서, 수성 도액은 고형분 농도가 0.1 내지 30 중량％인 것을 특징으로 하는 편광판의 제조 방법.
7. 제4항에 있어서, 수성 도액은 물에 가용인 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광판의 제조 방법.
8. 제4항에 있어서, 도전성 고분자층을 형성함으로써, 아세틸셀룰로오스계 필름 또는 노르보르넨계 필름의 황색도보다 도전 처리된 고분자 필름의 황색도를 작게 한 편광판용 보호 필름을 사용하는 것을 특징으로 하는 편광판의 제조 방법.
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