KR101256910B1 - 표시기판 제조 방법 및 이를 이용한 표시패널 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

표시기판을 형성하는 방법은, 먼저, 베이스 기판에 블랙 매트릭스 및 컬러필터 층을 형성하고, 투명 전극 및 감광층 패턴을 순차적으로 형성한다. 감광층 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정을 통해 투명 전극을 패터닝하여 공통 전극을 형성하고, 감광층 패턴을 식각하여 스페이서를 형성한다. 이와 같이, 공통 전극과 스페이서가 하나의 감광층 패턴을 이용하여 형성되므로, 마스크 개수 및 공정 단계를 감소시키고, 제조 원가를 절감할 수 있다.
Figure R1020060090257
컬러필터 기판, 공통 전극, PVA, S-PVA, 마스크

Description

표시기판 제조 방법 및 이를 이용한 표시패널 제조 방법{METHOD OF FABRICATING DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD OF FABRICATING DISPLAY PANEL USING THE SAME}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬러필터 기판을 나타낸 단면도이다.
도 2a 내지 도 2f는 도 1에 도시된 컬러필터 기판의 제조 과정을 나타낸 공정 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시패널을 나타낸 단면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 액정표시패널의 제조 과정을 나타낸 흐름도이다.
도 5a 및 도 5b는 도 3에 도시된 어레이 기판의 제조 과정을 나타낸 공정 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100 -- 컬러필터 기판 110, 310 -- 베이스 기판
120 -- 블랙 매트릭스 130 -- 컬러필터 층
140 -- 오버 코트층 150 -- 공통 전극
160 -- 스페이서 210 -- 투명 전극
220a -- 감광층 220b -- 감광층 패턴
230 -- 슬릿 마스크 300 -- 어레이 기판
본 발명은 표시기판 제조 방법 및 이를 이용한 표시패널 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 제조 공정을 단순화할 수 있는 표시기판 제조 방법 및 이를 이용한 표시패널 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시패널은 어레이 기판, 어레이 기판과 마주보는 컬러필터기판 및 어레이 기판과 컬러필터 기판과의 사이에 개재된 액정층으로 이루어진다.
어레이 기판은 화상을 나타내는 최소 단위인 다수의 화소로 이루어진다. 화소 각각은 박막 트랜지스터 및 화소 전극을 구비한다. 박막 트랜지스터는 액정층에 제공되는 화소 전압을 스위칭한다. 화소 전극은 박막 트랜지스터의 드레인 전극에 전기적으로 연결되고, 액정층을 사이에 두고 컬러필터기판에 형성된 공통전극과 마주한다.
이러한 액정표시장치는 음극선관 표시장치보다 박형으로 만들 수 있는 장점을 갖는 반면에 시야각(viewing angle)이 좁은 단점을 갖는다.
이를 개선하기 위하여, 최근에는 광시야각 특성을 갖는 피브이에이(Patterned Vertical Alignment: PVA) 모드 액정표시패널 및 에스-피브이에이(Super-Patterned Vertical Alignment: S-PVA) 모드 액정표시패널 등이 개발되고 있다. PVA 및 S-PVA 모드 액정표시패널은 화소 전극과 공통 전극을 패터닝하여 한 화소 내에 다수의 도메인을 형성하고, 각 도메인 별로 액정층의 액정 분자들이 서 로 다르게 배향된다. 따라서, 공통 전극을 패터닝하는 단계가 추가된다. 이로 인해, 컬러필터 기판을 형성하는 데 필요한 마스크 개수 및 공정 단계가 증가하고, 제조 원가가 상승하며, 생산성이 저하된다.
본 발명의 목적은 제조 원가를 감소시킬 수 있는 표시기판 제조 방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은 상기 표시기판 제조 방법을 이용하여 표시패널을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 표시기판 제조 방법은 다음과 같다.
먼저, 베이스 기판에 컬러필터 층이 형성되고, 상기 컬러필터 층의 상부에 투명 전극이 형성된다. 상기 투명 전극의 상부에 감광층 패턴이 형성되고, 상기 감광층 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정을 통해 상기 투명 전극이 패터닝되어 공통 전극이 형성된다. 상기 감광층 패턴이 식각되어 스페이서가 형성된다.
상기 감광층 패턴은 다음과 같은 과정을 통해 형성된다. 먼저, 상기 투명 전극의 상부에 감광층이 형성된다. 상기 감광층의 상부에 광을 차단하는 차단부, 상기 광을 투과시키는 투과부 및 상기 광을 슬릿 형태로 투과시키는 슬릿부를 포함하는 슬릿 마스크가 배치된다. 상기 슬릿 마스크를 이용한 식각 공정을 통해 상기 감광층이 식각되어 상기 감광층 패턴이 형성된다.
구체적으로, 상기 감광층은, 상기 슬릿 마스크를 이용한 노광 공정을 통해 상기 슬릿부와 대응하는 영역이 제1 두께로 식각되고 상기 투과부와 대응하는 영역이 제거된다.
또한, 상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 하나의 특징에 따른 표시패널 제조 방법은 다음과 같다.
먼저, 제1 베이스 기판에 컬러필터 층이 형성되고, 상기 컬러필터 층의 상부에 투명 전극이 형성된다. 상기 투명 전극의 상부에 감광층 패턴이 형성되고, 상기 감광층 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정을 통해 상기 투명 전극을 패터닝하여 공통 전극이 형성된다. 이어, 상기 감광층 패턴이 식각되어 스페이서가 형성된다. 제2 베이스 기판에 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소 전극이 형성되고, 상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판이 서로 마주하여 결합된다.
이러한, 표시기판 제조 방법 및 이를 이용한 표시패널 제조 방법에 따르면, 공통 전극과 스페이서가 하나의 감광층 패턴을 이용하여 형성된다. 따라서, 마스크 개수 및 공정 단계를 감소시키고, 제조 원가를 절감할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 컬러필터 기판을 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 컬러필터 기판(100)은 제1 베이스 기판(110), 블랙 매트릭스(120), 컬러필터 층(130), 오버 코트층(140), 공통 전극(150) 및 스 페이서들을 포함한다.
상기 제1 베이스 기판(110)은 광을 투과시키는 투명한 재질로 이루어지고, 상기 블랙 매트릭스(120)는 상기 제1 베이스 기판(110)의 상부에 형성된다. 상기 블랙 매트릭스(120)는 크롬(Cr) 또는 산화 크롬(Cr2O3)과 같은 금속 물질로 이루어지거나, 검은색의 유기 물질로 이루어져 광을 차단한다.
상기 컬러필터 층(130)은 상기 제1 베이스 기판(110)에 형성되고, 레드, 그린 및 블루 색화소들로 이루어진다. 상기 레드, 그린 및 블루 색화소들은 광을 이용하여 소정의 색을 발현하고, 상기 블랙 매트릭스(120)는 상기 레드, 그린 및 블루 색화소들 각각을 둘러싼다.
상기 오버 코트층(140)은 상기 블랙 매트릭스(120) 및 상기 컬러필터 층(130)의 상부에 형성되어 상기 컬러필터 기판(100)을 평탄화한다. 여기서, 상기 블랙 매트릭스(120)가 상기 유기 물질로 이루어질 경우, 상기 오버 코트층(140)을 구비하지 않을 수도 있다.
상기 공통 전극(130)은 인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide: ITO) 또는 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide: IZO)와 같은 투명성 도전 물질로 이루어져 상기 오버 코트층(140) 상에 균일한 두께로 형성된다. 상기 공통 전극(130)은 일부분이 제거되어 개구부들(151, 152, 153)이 형성된다.
상기 스페이서들은 상기 공통 전극(130) 상에 소정의 거리로 이격되어 형성된다. 각 스페이서(160)는 적정의 높이로 형성되고, 감광성 물질로 이루어진다.
도 2a 내지 도 2f는 도 1에 도시된 컬러필터 기판의 제조 과정을 나타낸 공정 단면도이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 제1 베이스 기판(110)의 상부에 상기 블랙 매트릭스(120) 및 상기 컬러필터 층(130)을 형성하고, 그 위에 상기 오버 코트층(140) 및 투명 전극(210)을 순차적으로 형성한다. 상기 투명 전극(210)은 ITO 또는 IZO와 같은 투명성 도전 물질로 이루어진다.
도 2c 및 도 2d를 참조하면, 상기 투명 전극(210)의 상부에 감광층(220a)을 형성하고, 상기 감광층(220a)의 상부에 슬릿 마스크(230)를 배치한다. 본 발명의 일례로, 상기 감광층(220a)은 자외선(UV)에 노출되는 부분이 제거되는 포지티브 감광 포토레지스트로 이루어진다.
상기 슬릿 마스크(230)는 상기 자외선(UV)을 차단하는 차단부(231), 상기 자외선(UV)을 투과시키는 투과부(232) 및 상기 자외선(UV)을 슬릿 형태로 투과시키는 슬릿부(233)를 적어도 하나씩 구비하고, 상기 감광층(220a)으로부터 이격되어 배치된다.
이어, 상기 슬릿 마스크(230)의 상부에 상기 자외선(UV)을 조사하여 상기 감광층(220a)을 노광한다. 도 2d에 도시된 바와 같이, 상기 감광층(220a)은 상기 슬릿 마스크(230)를 이용한 노광 공정을 통해 식각되어 감광층 패턴(220b)을 형성한다. 상기 감광층(220a)은 상기 노광 공정을 통해 상기 차단부(231)와 대응하는 영역은 제거되지 않고, 상기 투과부(232)와 대응하는 영역은 모두 제거되며, 상기 슬릿부(233)와 대응하는 영역은 부분적으로 제거되어 두께가 감소된다.
이에 따라, 상기 감광층 패턴(220b)은 상기 투과부(232)와 대응하는 영역에 개구부(OA)가 형성되고, 상기 슬릿부(233)와 대응하는 영역은 제1 두께(D1)로 형성되며, 상기 차단부(231)와 대응하는 영역은 상기 제1 두께(D1)보다 두꺼운 제2 두께(D2)로 형성된다. 상기 투명 전극(210)은 상기 감광층 패턴(220a)의 각 개구부(OA)를 통해 일부분이 노출된다.
도 2d 및 도 2e를 참조하면, 상기 감광층 패턴(220b)을 마스크로 이용한 제1 습식 식각 공정을 통해 상기 투명 전극(210)을 패터닝하여 상기 공통 전극(150)을 형성한다. 상기 투명 전극(210)은 상기 감광층 패턴(220b)의 개구부(OA)를 통해 노출된 부분이 식각 용액에 의해 식각되고, 상기 감광층 패턴(220b)에 의해 커버된 부분은 식각되지 않는다.
도 1 및 도 2f를 참조하면, 상기 감광층 패턴(220b)은 제2 습식 식각 공정을 통해 부분적으로 제거되어 상기 스페이서(160)를 형성한다. 상기 감광층 패턴(220b)은 상기 제2 습식 식각 공정을 통해 전 영역이 상기 제1 두께(D1)만큼 식각된다. 따라서, 상기 슬릿 마스크(230)(도 2c 참조)에 의해 상기 제1 두께(D1)로 형성된 영역은 완전히 제거되고, 상기 제2 두께(D2)로 형성된 영역은 상기 제1 두께(D1)만큼 식각되어 상기 스페이서(160)를 형성한다. 여기서, 상기 스페이서(160)는 상기 슬릿 마스크(230)의 상기 차단부(231)와 대응하는 영역에 형성된다.
이와 같이, 상기 공통 전극(150)과 상기 스페이서(160)는 서로 동일한 상기 감광층(220a)을 이용하여 형성되고 각각 별개의 감광층을 이용하여 형성되지 않는다. 이에 따라, 상기 컬러필터 기판(100)을 형성하는 데 필요한 마스크의 개수 및 공정 단계를 감소시키고, 제조 원가를 절감하며, 생산성이 향상된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시패널을 나타낸 단면도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 액정표시패널(500)은 어레이 기판(300), 상기 어레이 기판(300)과 마주하는 컬러필터 기판(100), 및 상기 어레이 기판(300)과 상기 컬러필터 기판(100)과의 사이에 개재된 액정층(400)을 포함한다.
상기 어레이 기판(300)은 제2 베이스 기판(310), 박막 트랜지스터(320) 및 화소 전극(330)을 포함한다.
상기 제2 베이스 기판(310)은 영상을 표시하는 다수의 화소 영역을 포함한다. 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 다수의 화소 영역은 다수의 게이트 라인 및 상기 게이트 라인들과 절연되어 교차하는 다수의 데이터 라인에 의해 정의되고, 상기 게이트 라인들과 상기 데이터 라인들은 상기 제2 베이스 기판(310)에 형성된다.
각 화소 영역(PA)에는 상기 박막 트랜지스터(320)와 상기 화소 전극(330)이 형성된다. 상기 박막 트랜지스터(320)는 게이트 라인으로부터 분기되어 형성된 게이트 전극(321), 상기 게이트 전극(321)의 상부에 순차적으로 형성된 액티브 층(322)과 오믹 콘택층(323), 데이터 라인으로부터 분기되어 상기 오믹 콘택층(323)의 상면에 형성된 소오스 전극(324), 및 상기 오믹 콘택층(323)의 상면에 형성되어 상기 화소 전극(330)과 전기적으로 연결된 드레인 전극(325)을 포함한다.
상기 어레이 기판(300)은 상기 제2 베이스 기판(310)의 상부에 형성되어 상기 게이트 전극(321) 및 상기 게이트 라인들을 커버하는 게이트 절연막(340), 상기 게이트 절연막(340)의 상부에 형성되어 상기 박막 트랜지스터(320) 및 상기 데이터 라인들을 커버하는 보호막(340), 및 상기 보호막(340)의 상면에 형성된 유기 절연막(360)을 더 포함한다. 상기 보호막(340) 및 상기 유기 절연막(360)은 부분적으로 제거되어 상기 드레인 전극(325)을 노출하는 콘택홀(CH)이 형성된다.
상기 화소 전극(330)은 ITO 또는 IZO와 같은 투명성 도전 물질로 이루어지고, 상기 유기 절연막(360)의 상면에 형성되어 상기 콘택홀(CH)을 통해 상기 드레인 전극(325)과 전기적으로 연결된다. 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 화소 전극(330)은 상기 액정층(400)의 액정 분자들을 서로 다른 방향으로 배향하는 도메인들을 형성하기 위해 부분적으로 제거되어 패터닝된다.
한편, 상기 컬러필터 기판(100)은 상기 어레이 기판(300)의 상부에 구비되어 상기 어레이 기판(300)과 결합한다. 이 실시예에 있어서, 상기 컬러필터 기판(100)은 도 1에 도시된 컬러필터 기판(100)과 동일한 구성을 가지며, 그 형성 과정 또한 동일하므로, 참조 번호를 병기하고, 구체적인 설명은 생략한다.
상기 컬러필터 기판(100)은 제1 베이스 기판(110), 상기 제1 베이스 기판(110)에 형성된 블랙 매트릭스(120)와 컬러필터 층(130), 상기 블랙 매트릭스(120)와 상기 컬러필터 층(130)의 상부에 형성된 오버 코트층(140), 상기 오버 코트층(140)의 상면에 형성된 공통 전극(150), 및 상기 공통 전극(150)의 상부에 형성된 스페이서들을 포함한다.
상기 블랙 매트릭스(120)는 상기 게이트 라인들 및 상기 데이터 라인들에 대응하게 형성되어 상기 화소 영역(PA)을 둘러싼다. 상기 컬러필터 층(130)의 레드, 그린 및 블루 색화소들은 상기 화소 영역들에 각각 형성된다. 상기 공통 전극(150) 은 상기 액정층(400)을 사이에 두고 상기 화소 전극(330)과 마주하고, 일부분이 제거되어 패터닝된다. 상기 액정표시패널(500)은 상기 공통 전극(150)의 패턴과 상기 화소 전극(330)의 패턴에 의해 상기 각 화소 영역(PA) 별로 도메인들이 형성되고, 상기 액정층(400)의 액정 분자들은 각 도메인별로 서로 다르게 배향된다.
각 스페이서(160)는 상기 공통 전극(150)과 상기 어레이 기판(300)과의 사이에 개재되어 상기 컬러필터 기판(100)과 상기 어레이 기판(300) 간의 간격을 균일하게 유지한다. 상기 공통 전극(150)과 상기 스페이서(160)는 서로 동일한 감광층을 이용하여 형성된다. 이에 따라, 상기 액정표시패널(500)은 마스크의 개수 및 공정 단계를 감소시키고, 제조 원가를 절감하며, 생산성을 향상시킬 수 있다.
도 4는 도 3에 도시된 액정표시패널의 제조 과정을 나타낸 흐름도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 제1 베이스 기판(110)에 상기 블랙 매트릭스(120), 상기 컬러필터 층(130), 상기 오버 코트층(140), 상기 공통 전극(150) 및 상기 스페이서(160)를 형성하여 상기 컬러필터 기판(100)을 형성한다(단계 S110).
상기 제2 베이스 기판(310)에 상기 박막 트랜지스터(320), 상기 화소 전극(330), 상기 게이트 절연막(340), 상기 보호막(350) 및 상기 유기 절연막(360)을 형성하여 상기 어레이 기판(300)을 형성한다(단계 S120). 상기 어레이 기판(300)을 형성하는 과정은 후술하는 도 5a 및 도 5b에서 구체적으로 설명한다.
상기 컬러필터 기판(100)과 상기 어레이 기판(300)을 서로 마주하여 결합하고(단계 S130), 상기 컬러필터 기판(100)과 상기 어레이 기판(300)과의 사이에 상기 액정층(400)을 형성한다(단계 S140). 여기서, 상기 액정층(400)은 그 형성 방법 에 따라 상기 컬러필터 기판(100)과 상기 어레이 기판(300)을 서로 결합하는 단계 이전에 두 기판(100, 300) 어느 한 기판에 형성될 수도 있다.
도 5a 및 도 5b는 도 3에 도시된 어레이 기판의 제조 과정을 나타낸 공정 단면도이다.
도 5a를 참조하면, 먼저, 상기 제2 베이스 기판(310)에 상기 게이트 전극(321)을 상기 화소 영역들 각각에 형성하고, 상기 게이트 절연막(340)을 형성한다. 이어, 상기 게이트 전극(320)의 상부에 상기 액티브 층(322), 상기 오믹 콘택층(323), 상기 소오스 전극(324) 및 상기 드레인 전극(325)을 형성한다. 이로써, 상기 화소 영역들 각각에 상기 박막 트랜지스터(320)가 형성된다. 이어, 상기 게이트 절연막(340)의 상부에 상기 박막 트랜지스터(320)를 커버하는 상기 보호막(350)을 형성한다.
도 3 및 도 5b를 참조하면, 상기 보호막(350)의 상부에 상기 유기 절연막(360)을 형성하고, 상기 보호막(350) 및 상기 유기 절연막(360)을 부분적으로 제거하여 상기 콘택홀(CH)을 형성한다. 이어, 상기 유기 절연막(360)의 상면에 상기 화소 전극(330)을 형성하여 상기 어레이 기판(300)을 완성한다.
상술한 본 발명에 따르면, 공통 전극과 스페이서를 동일한 감광층을 이용하여 형성하므로, 하나의 마스크를 이용하여 공통 전극과 스페이서를 형성할 수 있다. 이에 따라, 컬러필터 기판을 형성하는데 필요한 마스크의 개수 및 공정 단계를 감소시키고, 제조 원가를 절감하며, 생산성을 향상시킬 수 있다.
이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (16)

  1. 베이스 기판에 컬러필터 층을 형성하는 단계;
    상기 컬러필터 층의 상부에 투명 전극을 형성하는 단계;
    상기 투명 전극의 상부에 감광층 패턴을 형성하는 단계;
    상기 감광층 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정을 통해 상기 투명 전극을 패터닝하여 공통 전극을 형성하는 단계; 및
    상기 감광층 패턴을 식각하여 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 감광층 패턴을 형성하는 단계는,
    상기 투명 전극의 상부에 감광층을 형성하는 단계;
    광을 차단하는 차단부, 상기 광을 투과시키는 투과부 및 상기 광을 슬릿 형태로 투과시키는 슬릿부를 포함하는 슬릿 마스크를 상기 감광층의 상부에 배치하는 단계; 및
    상기 슬릿 마스크를 이용한 식각 공정을 통해 상기 감광층을 식각하여 상기감광층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 감광층은, 상기 슬릿 마스크를 이용한 노광 공정을 통해 상기 슬릿부와 대응하는 영역이 제1 두께로 식각되고 상기 투과부와 대응하는 영역이 제거되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 공통 전극은 상기 감광층 패턴을 마스크로 이용한 제1 습식 식각 공정을 통해 상기 투명 전극을 패터닝하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 투명 전극은 상기 감광층이 제거되어 외부로 노출된 부분이 상기 제1 습식 식각 공정을 통해 제거되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 스페이서는 제2 습식 식각 공정을 통해 상기 감광층 패턴을 부분적으로 제거하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 감광층 패턴은 상기 제2 습식 식각 공정을 통해 상기 제1 두께만큼 식각되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  8. 제2항에 있어서, 상기 스페이서는 상기 차단부와 대응하는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  9. 제2항에 있어서, 상기 감광층은 광에 노출되는 부분이 제거되는 포지티프 포 토레지스트로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  10. 제1 베이스 기판에 컬러필터 층을 형성하는 단계;
    상기 컬러필터 층의 상부에 투명 전극을 형성하는 단계;
    상기 투명 전극의 상부에 감광층 패턴을 형성하는 단계;
    상기 감광층 패턴을 마스크로 이용한 식각 공정을 통해 상기 투명 전극을 패터닝하여 공통 전극을 형성하는 단계; 및
    상기 감광층 패턴을 식각하여 스페이서를 형성하는 단계;
    제2 베이스 기판에 박막 트랜지스터 및 상기 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계; 및
    상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판을 서로 마주하여 결합하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널 제조 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 감광층 패턴을 형성하는 단계는,
    상기 투명 전극의 상부에 감광층을 형성하는 단계;
    광을 차단하는 차단부, 상기 광을 투과시키는 투과부 및 상기 광을 슬릿 형태로 투과시키는 슬릿부를 포함하는 슬릿 마스크를 상기 감광층의 상부에 배치하는 단계; 및
    상기 슬릿 마스크를 이용한 식각 공정을 통해 상기 감광층을 식각하여 상기감광층 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 감광층은, 상기 슬릿 마스크를 이용한 노광 공정을 통해 상기 슬릿부와 대응하는 영역이 제1 두께로 식각되고 상기 투과부와 대응하는 영역이 제거되는 것을 특징으로 하는 표시패널 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 공통 전극은 상기 감광층 패턴을 마스크로 이용한 제1 습식 식각 공정을 통해 상기 투명 전극을 패터닝하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널 제조 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 스페이서는 제2 습식 식각 공정을 통해 상기 감광층 패턴을 부분적으로 제거하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표시기판 제조 방법.
  15. 제10항에 있어서, 상기 스페이서는 상기 박막 트랜지스터와 대응하는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 표시패널 제조 방법.
  16. 제10항에 있어서, 상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판과의 사이에 액정층 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표시패널 제조 방법.
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