KR101251417B1 - 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법 - Google Patents

자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101251417B1
KR101251417B1 KR1020100068797A KR20100068797A KR101251417B1 KR 101251417 B1 KR101251417 B1 KR 101251417B1 KR 1020100068797 A KR1020100068797 A KR 1020100068797A KR 20100068797 A KR20100068797 A KR 20100068797A KR 101251417 B1 KR101251417 B1 KR 101251417B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
memory cell
voltage pulse
electrode
random access
electric field
Prior art date
Application number
KR1020100068797A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20120008131A (ko
Inventor
조재경
Original Assignee
경상대학교산학협력단
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 경상대학교산학협력단 filed Critical 경상대학교산학협력단
Priority to KR1020100068797A priority Critical patent/KR101251417B1/ko
Publication of KR20120008131A publication Critical patent/KR20120008131A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101251417B1 publication Critical patent/KR101251417B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/16Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
    • G11C11/165Auxiliary circuits
    • G11C11/1675Writing or programming circuits or methods
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/16Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
    • G11C11/161Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect details concerning the memory cell structure, e.g. the layers of the ferromagnetic memory cell
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
    • G11C11/15Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B61/00Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices
    • H10B61/20Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices comprising components having three or more electrodes, e.g. transistors
    • H10B61/22Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices comprising components having three or more electrodes, e.g. transistors of the field-effect transistor [FET] type
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N50/00Galvanomagnetic devices
    • H10N50/10Magnetoresistive devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 메모리 셀, 및 메모리 셀에 데이터 쓰기를 위한 변위 전류를 발생시키는 시변 전기장을 인가하는 쓰기 회로를 포함한다. 여기서, 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장에 의해 메모리 셀의 자화 방향이 설정된다.

Description

자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법{MAGENETIC RANDOM ACCESS MEMORY DEVICE AND METHOD FOR WRITE OPERATION THEROF}
본 발명은 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에 관한 것으로, 특히 저전류로 동작하는 액세스 소자를 사용할 수 있는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다
자기 랜덤 액세스 메모리(MRAM: Magnetic Random Access Memory) 장치는 불휘발성 메모리 소자의 하나로 자성체 특유의 스핀 의존 전도 현상에 기초한 자기 저항 효과를 이용하는 새로운 고체 자기 메모리이다. 이러한 자기 랜덤 액세스 메모리는 다른 반도체 메모리 장치들에 비해 데이터의 저장 기간이 길고, 데이터 액세스에 소요되는 시간이 짧은 특성을 갖는다.
일반적인 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 메모리 셀 어레이를 포함한다. 워드 라인은 메모리 셀의 행을 따라 연장하며, 비트 라인은 메모리 셀의 열을 따라 연장한다. 각 메모리 셀은 워드 라인과 비트 라인의 교차점에 위치된다.
각 메모리 셀은 자화 방향에 따라 정보 비트를 저장한다. 각 메모리 셀의 자화 방향은 미리 결정된 시간에 두 개의 안정한 방향 중 하나를 가질 수 있다. 이러한 두 개의 안정한 자화 방향, 즉, 평행 및 역평행은 '1'과 '0'의 로직 값을 나타낸다.
선택된 메모리 셀에 대한 쓰기 동작은 선택된 메모리 셀을 교차하는 워드 라인과 비트 라인에 쓰기 전류를 공급함으로써 수행된다. 쓰기 전류는 선택된 메모리 셀에 자화 방향을 세트하는 외부 자기장을 발생한다. 자화 방향은 외부 자기장의 방향에 의해 결정된다. 또한 외부 자기장의 방향은 워드 라인과 비트 라인을 통해 흐르는 쓰기 전류의 방향에 의해 결정된다. 이와 같이 쓰기 전류를 공급하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서 메모리 셀에 인가해야 할 전류의 크기는 메모리 셀의 자화 방향 설정을 위해 큰 크기를 가져야 한다. 따라서, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서는 메모리 셀에 인가되는 전류의 크기로 인해 저전류로 동작하는 액세스 소자들을 사용할 수 없다는 문제점이 있었다.
본 발명의 목적은 저전류로 동작하는 액세스 소자들을 사용하여 쓰기가 가능한 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 메모리 셀, 및 상기 메모리 셀에 데이터 쓰기를 위한 변위 전류를 발생시키는 시변 전기장을 인가하는 쓰기 회로를 포함하고, 상기 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장에 의해 상기 메모리 셀의 자화 방향이 설정된다.
이 실시예에 있어서, 상기 시변 전기장은 전압 펄스임을 특징으로 한다.
이 실시예에 있어서, 상기 전압 펄스의 전압 하강 시에 발생되는 변위 전류는 반시계 방향의 회전 자기장을 유도한다.
이 실시예에 있어서, 상기 변위 전류는 상기 전압 펄스의 전압 상승 시에 발생되는 변위 전류는 시계 방향의 회전 자기장을 유도한다.
이 실시예에 있어서, 상기 메모리 셀을 액세스 하는 액세스 소자를 더 포함한다.
이 실시예에 있어서, 상기 액세스 소자는 박막트랜지스터임을 특징으로 한다.
본 발명의 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법은 메모리 셀에 데이터 쓰기를 위한 변위 전류를 발생시키는 시변 전기장을 인가하는 단계를 포함한다.
이 실시예에 있어서, 상기 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장이 상기 메모리 셀의 자화 방향을 설정한다.
이 실시예에 있어서, 상기 시변 전기장을 인가하는 단계는 전압 펄스를 인가하는 단계를 포함한다.
이 실시예에 있어서, 상기 전압 펄스가 양의 전압 펄스인 경우, 시계 방향으로 상기 메모리 셀의 자화 방향이 설정된다.
이 실시예에 있어서, 상기 전압 펄스가 음의 전압 펄스인 경우, 반시계 방향으로 상기 메모리 셀의 자화 방향이 설정된다.
본 발명의 실시예에 의하면, 시변 자기장에 의한 변위 전류로부터 유도된 회전 자기장을 통해 메모리 셀의 자화 방향을 설정함으로써 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서 쓰기 전류의 인가 없이 데이터 쓰기를 할 수 있다. 그러므로, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 쓰기 전류를 메모리 셀에 인가할 필요가 없음으로 저전류에서 동작하는 액세스 소자(일예로, 박막 트랜지스터 등)를 메모리 셀의 액세스 소자로 사용할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 구조를 예시적으로 도시한 도면,
도 2는 도 1에 도시된 메모리 셀 어레이의 구조를 예시적으로 도시한 도면,
도 3은 도 2에 도시된 메모리 셀의 구조를 예시적으로 도시한 도면,
도 4는 도 2에 도시된 메모리 셀의 상세 구조를 예시적으로 도시한 도면,
도 5는 도 1에 도시된 읽기/쓰기 회로에 포함된 쓰기 회로의 구조를 예시적으로 도시한 도면,
도 6은 도 1에 도시된 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서 메모리 셀에 제 1 데이터의 쓰기 동작을 예시적으로 도시한 도면,
도 7은 도 1에 도시된 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서 메모리 셀에 제 1 데이터의 쓰기 동작을 예시적으로 도시한 도면, 및
도 8은 도 1에 도시된 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 동작을 예시적으로 도시한 순서도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 통해 설명될 것이다. 그러나 본 발명은 여기에서 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 단지, 본 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여 제공되는 것이다.
도면들에 있어서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니며 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소를 나타낸다.
본 명세서에서 '및/또는'이란 표현은 전후에 나열된 구성요소들 중 적어도 하나를 포함하는 의미로 사용된다. 또한, '연결되는/결합되는'이란 표현은 다른 구성요소와 직접적으로 연결되거나 다른 구성요소를 통해 간접적으로 연결되는 것을 포함하는 의미로 사용된다. 본 명세서에서 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 또한, 명세서에서 사용되는 '포함한다' 또는 '포함하는'으로 언급된 구성요소, 단계, 동작 및 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작, 소자 및 장치의 존재 또는 추가를 의미한다.
도 1은 본 발명에 따른 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 구조를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치(1000)는 메모리 셀 어레이(100), 열디코더(200), 행 디코더(300), 코어(400), 및 읽기/쓰기 회로(500)를 포함한다.
메모리 셀 어레이(100)는 복수의 행들(또는 워드라인들)과 복수의 열들(또는 비트라인)들로 배열된 메모리 셀들을 포함한다. 메모리 셀들 각각은 일예로, 자화 방향에 따라 '0' 또는 '1'의 데이터가 기록될 수 있다. 메모리 셀들 각각은 자기 랜덤 액세스 메모리(MRAM: Magnetic Random Access Memory) 셀일 수 있다.
열 디코더(200)는 열 선택 신호를 사용하여 다수의 비트라인들 중에서 일부의 비트라인을 선택하여 읽기/쓰기 회로(500)와 커플링 시킨다.
행 디코더(300)는 각 워드라인의 레벨을 조정하여 복수의 워드라인들 중 적어도 하나의 워드 라인을 선택한다.
코어(400)는 포함한 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 다른 모듈들(일예로, 제어 회로 등)을 포함한다.
읽기/쓰기 회로(500)는 비트라인과 커플링되어 메모리 셀 어레이(100) 내에 데이터를 읽기 및/또는 쓰기(입력 및/또는 출력)한다. 읽기/쓰기 회로(500)는 읽기 기능을 수행하는 읽기 회로와 쓰기 기능을 수행하는 쓰기 회로를 포함한다. 즉, 읽기/쓰기 회로(500)는 비트 라인에 커플링 되어, 메모리 셀 어레이(100)에서 데이터를 읽거나 메모리 셀 어레이 내에 데이터를 쓰기한다.
본 발명에서 제안된 읽기/쓰기 회로(500)는 메모리 셀 어레이(100)에 포함된 메모리 셀의 자화 방향의 설정을 통해 데이터 쓰기를 수행한다. 이때. 읽기/쓰기 회로(500)는 메모리 셀의 자화 방향을 설정하기 위한 시변 전기장을 메모리 셀에 인가한다.
시변 전기장은 데이터의 논리값에 대응되도록 생성될 수 있고, 변위 전류를 발생시킨다. 메모리 셀은 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장에 의해 자화 방향이 설정된다. 변위 전류로부터 유도된 회전 자기장은 메모리 셀의 자화 방향(일예로, 시계 방향 또는 반시계 방향)을 설정할 수 있다.
본 발명에서 메모리 셀에 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장에 의해 자화 방향이 설정되므로 실제 쓰기 전류의 인가없이 메모리 셀에 쓰기 동작을 수행할 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 메모리 셀의 데이터 쓰기에 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장을 사용한다. 그러므로, 본 발명의 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 메모리 셀에 쓰기 전류의 인가 없이도 시변 전기장의 인가를 통해 데이터 쓰기가 가능하다.
도 2는 도 1에 도시된 메모리 셀 어레이의 구조를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 2를 참조하면, 메모리 셀 어레이(100)는 복수의 행(워드라인)들(WL0, WL1)과 복수의 열(비트라인)(BL0, BL1, BL2, BL3)들로 배열된 메모리 셀들을 포함한다. 복수의 행들과 복수의 열들 각각은 X-Y 행렬(matrix)로 구성될 수 있다. 메모리 셀 어레이(100)는 복수의 메모리 셀과 복수의 메모리 셀들 각각에 연결된 액세스 소자(110)를 포함한다.
액세스 소자(110)는 메모리 셀(120)을 액세스하기 위한 소자이다.
메모리 셀(120)은 회전 자기장에 의해 자화 방향이 설정됨으로서 원통형의 구조를 갖는다. 이에 따라 메모리 셀(120)은 원형으로 도시되어 있으며, 나머지 메모리 셀들도 원형으로 도시되어 있다.
본 발명의 메모리 셀(110)은 시변 전기장의 인가에 의해 자화 방향이 설정된다. 시변 전기장을 인가하면 변위 전류가 발생된다.
여기서, 변위 전류는 실제로 전류가 흐르지 않고, 전류가 흐르는 것과 같은 효과를 갖는다. 따라서, 액세스 소자(120)는 저전류에서 동작하는 소자, 일예로 박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor) 등으로 구성될 수 있다.
도 3은 도 2에 도시된 메모리 셀의 구조를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 3을 참조하면, 메모리 셀(120)이 도시되어 있으며, (a)와 (b)는 자화 방향 설정에 따라 데이터가 저장된 메모리 셀(120) 각각을 도시한 도면이다.
데이터층(121)은 강자성체 재료로 만들어질 수 있다. 데이터층(121)은 인가되는 전류에 의해 자화 방향이 설정된다. 자화 방향은 시계 방향 또는 반시계 방향 중 하나의 방향으로 설정된다.
절연 터널 장벽(122)은 반강자성체 재료로 만들어질 수 있다. 절연 터널 장벽(122)은 데이터층(121)과 기준층(123) 사이에서 양자 역학 터널링(quantum mechanical tunneling)을 발생시킨다. 이러한 터널링 현상은 전자 스핀 의존적이다.
기준층(123)은 강자성체 재료로 만들어질 수 있다. 기준층(123)은 시계 방향 또는 반시계 방향 중 하나의 자화 방향으로 설정될 수 있다. 기준층(123)의 자화 방향은 하나의 방향(시계 방향과 반시계 방향 중 하나의 방향)으로 고정된다.
예를 들어, (a)에서 데이터층(121)과 기준층(123)의 자화 방향은 모두 시계 방향이다. (a)와 같은 메모리 셀 상태는 '평행(parallel)'이라고 한다.
(b)에서 데이터층(121)의 자화 방향은 반시계 방향이고, 기준층(123)의 자화 방향은 시계 방향이다. (b)와 같은 메모리 셀 상태는 '반평행(anti-parallel)'이라고 한다.
데이터층(121)과 기준층(123) 간의 자화 방향에 따른 메모리 셀 상태, 즉 평행, 반평행은 논리값 '0'과 '1'에 대응한다.
한편, 데이터 읽기를 하는 경우에, 데이터층(121)과 기준층(123) 간의 자화 방향에 따라서 메모리 셀(120)이 갖는 저항값이 다르다. 즉, 메모리 셀 상태가 반평행 상태이면, 평행 상태에 비해 상대적으로 큰 저항값을 갖는다. 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 읽기를 하는 경우, 메모리 셀의 저항값에 따라 데이터를 독출한다.
데이터층(121)과 기준층(123)의 자화 방향은 폐루프를 형성하게 되고, 메모리 셀 간의 크로스토크(cross talk)가 감소(누설 자속이 '0'에 가까워지므로)한다. 그러므로 본 발명에서와 같이 변위 전류에 의해 발생된 회전 자기장으로 메모리 셀에 데이터 쓰기를 수행하면, 안정적으로 데이터를 저장할 수 있게 된다.
즉, 본 발명은 시변 전기장의 인가만으로 메모리 셀에 데이터를 저장할 수 있다.
도 4는 도 2에 도시된 메모리 셀의 상세 구조를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 4를 참조하면, 메모리 셀(120)은 상부 기록 전극(124), 제 1 절연층(125-1), 상부 재생 전극(126), 데이터층(121), 절연 터널 장벽(122), 기준층(123), 반강자성층(127), 하부 재생 전극(128), 제 2 절연층(125-2), 하부 기록 전극(129)을 포함한다.
상부 기록 전극(124)과 하부 기록 전극(129)은 데이터 쓰기를 위한 전극이다.
상부 재생 전극(126)과 하부 재생 전극(128)은 데이터 재생, 즉 데이터 읽기를 위한 전극이다.
제 1 절연층(125-1)은 상부 기록 전극(124)과 상부 재생 전극(126) 간의 절연을 위해 삽입된다. 제 2 절연층(125-2)은 하부 재생 전극(128)과 하부 기록 전극(129) 간의 절연을 위해 삽입된다.
반강자성층(127)은 인접한 기준층(123)의 자화 방향을 한 방향으로 고정되도록 한다.
데이터층(121), 절연 터널 장벽(122), 기준층(123)은 도 3에서 설명하였으므로 여기서는 상세한 설명을 생략하기로 한다.
도 5는 도 1에 도시된 읽기/쓰기 회로에 포함된 쓰기 회로의 구조를 예시적으로 도시한 도면이다.
도 5를 참조하면, 쓰기 회로(510)는 버퍼(511)와 쓰기 드라이버(512)를 포함한다. 쓰기 회로(510)는 읽기/쓰기 회로(500)에 포함된다.
버퍼(511)는 쓰기 데이터(WDATA)를 수신하고, 쓰기 데이터(WDATA)를 저장한다.
쓰기 드라이버(512)는 쓰기 데이터(WDATA)에 대응되는 시변 전기장을 발생한다. 쓰기 드라이버(512)는 시변 전기장을 커플링된 비트라인으로 인가한다. 시변 전기장에 의해 발생된 변위 전류는 전류 진행 방향을 중심으로 회전 자기장을 유도한다. 즉, 쓰기 드라이버(512)는 시변 전기장에 의해 발생된 회전 자기장으로 메모리 셀에 쓰기 데이터(WDATA)의 쓰기 동작을 할 수 있다. 쓰기 드라이버(512)는 시변 전기장의 제공에 의해 메모리 셀에 쓰기 전류를 인가하지 않고, 메모리 셀에 쓰기 동작을 할 수 있다.
여기서 발생된 시변 전기장은 일예로, 전압 펄스(voltage pulse) 등이 될 수 있다. 전압 펄스는 쓰기 데이터(WDATA)에 따라 양의 전압 펄스 또는 음의 전압 펄스의 형태를 가질 수 있다. 이때, 시변 전기장에 의해 발생된 회전 자기장의 크기는 하기와 같이 계산될 수 있다.
회전 자기장의 크기 계산을 용이하게 하기 위해 전압 펄스(시변 전기장)는 정현파 전압(
Figure 112010045889335-pat00001
)으로 가정한다. 따라서, 메모리 셀 내부의 상부 기록 전극과 하부 기록 전극 간에는 정현파 전압(
Figure 112010045889335-pat00002
)이 인가된다고 가정한다. 메모리 셀의 상부기록전극(124)과 하부기록전극(129) 간의 간격을 '
Figure 112010045889335-pat00003
'라 하고, 원통형 메모리 셀의 반경을 '
Figure 112010045889335-pat00004
'이라 하고, 유전율을 '
Figure 112010045889335-pat00005
'이라 한다.
상부기록전극과 하부기록전극 간의 전속밀도(
Figure 112010045889335-pat00006
)는 하기의 수학식 1과 같이 나타낼 수 있다.
Figure 112010045889335-pat00007
전속밀도를 시간으로 미분한 것이 변위전류밀도이므로 변위전류밀도(
Figure 112010045889335-pat00008
)는
Figure 112010045889335-pat00009
로 나타낼 수 있다.
그러므로 변위전류(
Figure 112010045889335-pat00010
)는 하기의 수학식 2로 나타낼 수 있다.
Figure 112010045889335-pat00011
또한, 변위 전류(
Figure 112010045889335-pat00012
)에 의한 회전 자기장(
Figure 112010045889335-pat00013
)은 하기의 수학식 3으로 나타낼 수 있다.
Figure 112010045889335-pat00014
이때, 유전율(
Figure 112010045889335-pat00015
)은
Figure 112010045889335-pat00016
로 나타낼 수 있다.
Figure 112010045889335-pat00017
는 진공의 유전율을 나타내고,
Figure 112010045889335-pat00018
은 메모리 셀의 비유전율을 나타낸다.
따라서, 회전 자기장(
Figure 112010045889335-pat00019
)은 인가되는 전압의 주파수, 절연층의 유전율, 메모리 셀의 반경에 비례한다. 또한, 기록 속도가 고속이거나 메모리 셀들 간의 절연 터널 장벽의 두께가 얇으면, 회전 자기장에 의한 쓰기 동작 성능이 향상될 수 있다.
만약, 주파수(
Figure 112010045889335-pat00020
)가 1GHz이고, 전압의 진폭(
Figure 112010045889335-pat00021
)이 5V이고, 상부기록전극과 하부기록전극 간의 간격(
Figure 112010045889335-pat00022
)이 10nm이고, 원통형 메모리 셀의 반경(r)이 50nm, 메모리 셀의 비유전율(
Figure 112010045889335-pat00023
)은 1000이고, 진공의 유전율(
Figure 112010045889335-pat00024
)은
Figure 112010045889335-pat00025
이라고 가정한다.
이때, 회전 자기장의 크기(
Figure 112010045889335-pat00026
), 즉 진폭을 계산하면, 하기의 수학식 4와 같다.
Figure 112010045889335-pat00027
여기서, 회전 자기장의 크기(
Figure 112010045889335-pat00028
)는 회전 자기장에서 코싸인 함수의 계수에 해당한다. 여기서, 에르스텟(Oe: Oersted)은 자기장의 세기에 대한 사용단위의 하나이고, 가우스(G: Gauss)와 같은 크기 즉, '1Oe = 1G'의 관계를 갖는다. 회전 자기장(H)은 강자성층으로 구성된 데이터층(121)의 자화 방향을 설정하기에 충분한 크기를 갖는다.
쓰기 회로(510)가 시변 전기장에 의해 메모리 셀에 메모리 셀의 자화 방향을 설정하는 동작을 하기의 도 6과 도 7을 참조하여 살펴보기로 한다.
도 6은 도 1에 도시된 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서 메모리 셀에 제 1 데이터의 쓰기 동작을 예시적으로 도시한 도면이다.
도 6를 참조하면, 쓰기 회로(510)는 제 1 시변 전기장, 일예로 양의 전압 펄스(TE+)를 발생한다.
양의 전압 펄스(TE+)는 전압 상승할 때, 제 1 방향의 변위 전류(610)를 발생한다. 제 1 방향의 변위 전류(610)는 반시계 방향의 회전 자기장(611)을 발생시킨다. 제 1 방향은 전압 상승 방향에 대응되는 방향이다.
쓰기 회로(510)는 데이터층(121)의 자화 방향을 반시계 방향을 갖는 회전 자기장(611)에 의해 반시계 방향으로 설정할 수 있다. 여기서, 양의 전압 펄스(TE+)의 전압 상승에 의해 반시계 방향으로 자화 방향이 설정된 데이터층(121a)을 도시하였다.
양의 전압 펄스(TE+)는 전압 하강할 때, 제 2 방향의 변위 전류(620)를 발생한다. 제 2 방향의 변위 전류(620)는 시계 방향의 회전 자기장(621)을 발생시킨다. 제 2 방향은 전압 하강 방향에 대응되는 방향이다.
쓰기 회로(510)는 메모리 셀(120)의 데이터층(121)의 자화 방향을 시계 방향을 갖는 회전 자기장(611)에 의해 시계 방향으로 설정할 수 있다. 여기서, 양의 전압 펄스(TE+)의 전압 하강에 의해 시계 방향으로 자화 방향이 설정된 데이터층(121b)을 도시하였다.
결국, 양의 전압 펄스(TE+)의 전압 상승에 따라 데이터층(121)의 자화 방향이 반시계 방향으로 설정(121a)된 후, 양의 전압 펄스(TE+)의 전압 하강에 따라 데이터층(121)의 자화 방향이 최종적으로 시계 방향으로 설정(121b)된다.
쓰기 회로(510)는 양의 전압 펄스(TE+)에 의해 데이터층(121)의 자화 방향을 시계 방향으로 설정할 수 있다.
도 7은 도 1에 도시된 자기 랜덤 액세스 메모리 장치에서 메모리 셀에 제 1 데이터의 쓰기 동작을 예시적으로 도시한 도면이다.
도 7을 참조하면, 쓰기 회로(510)는 제 2 시변 전기장, 일예로 음의 전압 펄스(TE-)를 발생한다.
음의 전압 펄스(TE-)는 전압 하강할 때, 제 2 방향의 변위 전류(710)를 발생한다. 제 2 방향의 변위 전류(710)는 시계 방향의 회전 자기장(711)을 발생시킨다. 제 2 방향은 전압 하강 방향에 대응되는 방향이다.
쓰기 회로(510)는 데이터층(121)의 자화 방향을 시계 방향을 갖는 회전 자기장(711)에 의해 시계 방향으로 설정할 수 있다. 여기서, 음의 전압 펄스(TE-)의 전압 하강에 의해 시계 방향으로 자화 방향이 설정된 데이터층(121c)을 도시하였다.
음의 전압 펄스(TE-)는 전압 상승할 때, 제 1 방향의 변위 전류(720)를 발생한다. 제 1 방향의 변위 전류(720)는 반시계 방향의 회전 자기장(721)을 발생시킨다. 제 1 방향은 전압 상승 방향에 대응되는 방향이다.
쓰기 회로(510)는 데이터층(121)의 자화 방향을 반시계 방향을 갖는 회전 자기장(711)에 의해 반시계 방향으로 설정할 수 있다. 여기서, 음의 전압 펄스(TE-)의 전압 상승에 의해 반시계 방향으로 자화 방향이 설정된 데이터층(121d)을 도시하였다.
결국, 음의 전압 펄스(TE-)의 전압 하강에 따라 데이터층(121)의 자화 방향이 시계 방향으로 설정(121c)된 후, 음의 전압 펄스(TE-)의 전압 상승에 따라 데이터층(121)의 자화 방향이 최종적으로 반시계 방향으로 설정(121d)된다.
쓰기 회로(510)는 음의 전압 펄스(TE-)에 의해 데이터층(121)의 자화 방향을 반시계 방향으로 설정할 수 있다.
도 8은 도 1에 도시된 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 동작을 예시적으로 도시한 순서도이다.
도 8을 참조하면, S100단계에서, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 외부로부터 쓰기 명령을 수신한다.
S200단계에서 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 쓰기 명령 수신에 대응하여 메모리 셀들에 저장될 쓰기 데이터(WDATA)를 수신하고, 쓰기 데이터(WDATA)를 저장한다.
S300단계에서 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 시변 전기장을 발생한다. 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 쓰기 데이터(WDATA)에 대응되는 시변 전기장을 생성한다. 이때, 시변 전기장은 논리값 '1' 또는 '0'에 대응되도록 생성된다.
S400단계에서 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 시변 전기장을 메모리 셀(120)로 제공한다. 시변 전기장의 제공에 따라 메모리 셀(120)의 자화 방향이 설정된다. 여기서, 시변 전기장은 변위 전류를 발생시킨다. 시변 전기장에 의해 생성된 변위 전류는 메모리 셀의 자화 방향을 설정하기 위해 최종적으로 시계 방향 또는 반시계 방향의 자화 방향을 갖는 회전 자기장을 유도한다.
회전 자기장은 변위 전류의 전류 진행 방향에 대응될 수 있고, 쓰기 데이터(WDATA)의 논리값에 대응되는 두 개의 자화 방향을 가질 수 있다. 메모리 셀(120)의 자화 방향은 회전 자기장에 의해 설정된다.
즉, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 시변 전기장을 이용함으로써 메모리 셀에 실제 전류를 인가하지 않고도, 데이터 쓰기를 할 수 있다.
S500단계에서 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 쓰기 명령 수신에 대응하여 쓰기 동작이 종료되었는지 판단한다. S500단계의 판단결과, 쓰기 동작이 종료되지 않은 경우, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 S200단계로 진행한다. 이에 반해, S500단계의 판단결과, 쓰기 동작이 종료된 경우, 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 쓰기 동작을 종료한다.
본 발명에서는 시변 전기장에 의해 발생된 변위 전류로부터 유도된 회전 자기장을 사용하여 메모리 셀에 데이터 쓰기를 할 수 있다. 본 발명의 자기 랜덤 액세스 메모리 장치는 변위 전류를 발생시키는 시변 전기장을 인가함으로서 실제 쓰기 전류의 인가없이 데이터 쓰기가 가능하다. 따라서, 메모리 셀의 엑세스 소자로 저전류에서 동작하는 액세스 소자, 일예로 박막트랜지스터(TFT)를 사용할 수 있다. 따라서 유리 기판 등의 저가의 기판에 넓은 면적으로 반도체 소자를 제조할 수 있으므로 반도체 메모리 장치의 제조 단가가 낮아진다.
100: 메모리 셀 어레이 200: 열 디코더
300: 행 디코더 400: 코어
500: 읽기 쓰기 회로 110: 메모리 셀
120: 액세스 소자 121: 데이터층
122: 절연 터널 장벽 123: 기준층
124: 상부 기록 전극 125: 절연층
126: 상부 재생 전극 127: 반강자성층
128: 하부 재생 전극 129: 하부 기록 전극
510: 쓰기 회로 511: 버퍼
512: 쓰기 드라이버 610, 620, 710, 720: 변위 전류
611, 621, 711, 721: 회전 자기장

Claims (17)

  1. 메모리 셀; 및
    상기 메모리 셀에 데이터 쓰기를 위한 변위 전류를 발생시키는 시변 전기장을 인가하는 쓰기 회로를 포함하고,
    상기 변위 전류에 의해 유도된 시계 또는 반시계 방향의 회전 자기장에 의해 상기 메모리 셀의 자화 방향이 설정되는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 시변 전기장은 전압 펄스인 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 전압 펄스의 전압 하강 시에 발생되는 변위 전류는 시계 방향의 회전 자기장을 유도하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 변위 전류는 상기 전압 펄스의 전압 상승 시에 발생되는 변위 전류는 반시계 방향의 회전 자기장을 유도하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 메모리 셀을 액세스 하는 액세스 소자를 더 포함하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 액세스 소자는 박막트랜지스터임을 특징으로 하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  7. 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법에 있어서,
    메모리 셀에 데이터 쓰기를 위한 변위 전류를 발생시키는 시변 전기장을 인가하는 단계를 포함하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 변위 전류에 의해 유도된 회전 자기장이 상기 메모리 셀의 자화 방향을 설정하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 시변 전기장을 인가하는 단계는
    전압 펄스를 인가하는 단계를 포함하는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 전압 펄스가 양의 전압 펄스인 경우, 시계 방향으로 상기 메모리 셀의 자화 방향이 설정되는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 전압 펄스가 음의 전압 펄스인 경우, 반시계 방향으로 상기 메모리 셀의 자화 방향이 설정되는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치의 쓰기 방법.
  12. 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 위치하는 메모리층, 그리고 상기 메모리층 상에 위치하는 제2 전극을 포함하는 메모리 셀; 그리고,
    상기 메모리 셀의 제1 전극 및 제2 전극 사이에 시변 전기장을 인가하는 회로를 포함하고,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 인가되는 시변 전기장에 의해 상기 메모리 층의 자화 방형이 설정되는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  13. 제12 항에 있어서, 상기 시변 전기장은 전압 펄스인 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  14. 제13 항에 있어서, 상기 전압 펄스가 양의 전압 펄스인 경우 시계 방향으로 자화 방향이 설정되고, 음의 전압 펄스인 경우 반시계 방향으로 자화 방향이 설정되는 자기 랜덤 액세스 메모리 장치.
  15. 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 위치하는 자기 메모리층, 그리고 상기 자기 메모리층 상에 위치하는 제2 전극을 포함하는 자기 메모리 셀의 정보 기록 방법에 있어서,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 시변 전기장을 인가하는 단계를 포함하는 자기 메모리 셀의 정보 기록 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 시변 전기장을 인가하는 단계는, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극 사이에 전압 펄스를 인가하는 단계를 포함하는 자기 메모리 셀의 정보 기록 방법.
  17. 제16 항에 있어서, 상기 전압 펄스가 양의 전압 펄스인 경우 시계 방향으로 자화 방향이 설정되고, 음의 전압 펄스인 경우 반시계 방향으로 자화 방향이 설정되는 자기 메모리 셀의 정보 기록 방법.
KR1020100068797A 2010-07-16 2010-07-16 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법 KR101251417B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100068797A KR101251417B1 (ko) 2010-07-16 2010-07-16 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100068797A KR101251417B1 (ko) 2010-07-16 2010-07-16 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120008131A KR20120008131A (ko) 2012-01-30
KR101251417B1 true KR101251417B1 (ko) 2013-04-05

Family

ID=45613191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100068797A KR101251417B1 (ko) 2010-07-16 2010-07-16 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101251417B1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100798092B1 (ko) * 1999-12-08 2008-01-28 프리스케일 세미컨덕터, 인크. Mtj가 적층된 셀 메모리 감지 방법 및 장치
WO2009048025A1 (ja) * 2007-10-11 2009-04-16 Japan Science And Technology Agency 不揮発性固体磁気メモリの記録方法及び不揮発性固体磁気メモリ
KR20090040030A (ko) * 2007-10-19 2009-04-23 서울대학교산학협력단 자기기록소자의 정보기록방법
JP2010055681A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッド

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100798092B1 (ko) * 1999-12-08 2008-01-28 프리스케일 세미컨덕터, 인크. Mtj가 적층된 셀 메모리 감지 방법 및 장치
WO2009048025A1 (ja) * 2007-10-11 2009-04-16 Japan Science And Technology Agency 不揮発性固体磁気メモリの記録方法及び不揮発性固体磁気メモリ
KR20090040030A (ko) * 2007-10-19 2009-04-23 서울대학교산학협력단 자기기록소자의 정보기록방법
JP2010055681A (ja) * 2008-08-27 2010-03-11 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッド

Also Published As

Publication number Publication date
KR20120008131A (ko) 2012-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6270934B2 (ja) 磁気メモリ
KR101312366B1 (ko) 자기 메모리 장치를 위한 라이트 드라이버 회로 및 자기 메모리 장치
US8514615B2 (en) Structures and methods for a field-reset spin-torque MRAM
TWI445000B (zh) Semiconductor device
US8228715B2 (en) Structures and methods for a field-reset spin-torque MRAM
Reohr et al. Memories of tomorrow
US9734884B2 (en) Method for writing to a magnetic tunnel junction device
JP2002334972A (ja) 磁気メモリ装置
CN100466094C (zh) 电阻交叉点阵列中多比特存储单元存储器
US9070456B2 (en) High density magnetic random access memory
US8437180B2 (en) Memory and write control method
KR20080109651A (ko) 반도체 메모리 디바이스 및 그 데이터 판독 방법
JP4532909B2 (ja) 多段セルの磁気抵抗効果型ランダムアクセスメモリ
KR20100138825A (ko) 불휘발성 메모리의 기록 방법 및 불휘발성 메모리
KR100697140B1 (ko) 자기 랜덤 액세스 메모리
KR20050004160A (ko) 매트릭스 및 이의 동작 방법 및 판독 기록 동시 수행mram 메모리
US9620189B2 (en) Magnetic memory
US7203088B2 (en) Magnetoresistive random access memory and driving method thereof
JP2013026337A (ja) 半導体装置及び磁気ランダムアクセスメモリ
JP2019160365A (ja) 磁気メモリ装置及び磁気メモリ装置の書き込み方法
US6925003B2 (en) Magnetic memory cell structure
WO2017154382A1 (ja) 記憶装置、情報処理装置、および、記憶装置の制御方法
KR101251417B1 (ko) 자기 랜덤 액세스 메모리 장치 및 그것의 쓰기 방법
JP4386158B2 (ja) Mram及びmramの書き込み方法
US7027323B2 (en) Storage device having parallel connected memory cells that include magnetoresistive elements

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160401

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170403

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee