KR101247826B1 - 화상 처리 시스템, 화상 처리 장치 및 화상 처리 방법 - Google Patents

화상 처리 시스템, 화상 처리 장치 및 화상 처리 방법 Download PDF

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Abstract

화상 처리 시스템은, 매체에 인쇄된 화상을 판독하여 그 화상을 나타내는 전자 데이터를 생성하는 화상 입력부와, 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 처리부를 갖는다. 그 처리부는, 전자 데이터로 나타내어진 화상으로부터, 그 화상에 부착된 제1 사이즈 및 형상을 갖는 제1 패턴을 검출하는 기능과, 검출된 제1 패턴의 사이즈의, 제1 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하는 기능과, 열화도가 작아지도록 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 기능을 실현한다.

Description

화상 처리 시스템, 화상 처리 장치 및 화상 처리 방법{IMAGE PROCESSING SYSTEM, IMAGE PROCESSING DEVICE, AND IMAGE PROCESSING METHOD}
여기에 개시되는 실시 형태는, 매체에 인쇄된 화상을 전자 데이터로 변환한 후에, 그 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 화상 처리 시스템, 화상 처리 장치 및 화상 처리 방법에 관한 것이다.
최근, 인쇄물에 기재된 비밀 정보가 누설되는 것을 방지하기 위한 기술이 개발되고 있다. 특히, 불특정 다수의 사람에게 보이고 싶지 않은 화상을 미리 암호화하고, 그 암호화된 화상을 종이 등의 매체에 인쇄하는 기술이 제안되어 있다. 그와 같은 기술 중의 하나를 이용한 암호화 장치는, 입력 화상의 일부분을 암호화함과 함께, 암호화된 영역의 화소값을 규칙적으로 변환한 후, 화소값 변환에 대응한 특유의 모양을 생성한다. 또한 그 암호화 장치는, 암호화된 영역의 4코너 중의 적어도 2개 이상에, 암호화된 영역을 특정하기 위한 위치 결정 마커를 부가한다. 또한 그 암호화 장치는, 암호화된 영역을 복호함으로써 얻어지는 복호 화상의 타당성을 검증하기 위한 체크용 마커를 부가한다. 한편, 복호 장치는, 암호화된 영역을 갖는 화상이 인쇄된 매체를 스캐너 등의 판독 장치를 이용하여 읽어들여, 판독한 화상에 대하여 위치 결정 마커를 참조하여 암호화된 영역을 복호함으로써, 원화상을 얻는다.
특허 문헌 1 : 국제 공개 제2008/053576호 팜플렛
그러나, 복호 장치가 암호화된 영역을 복호하는 것보다도 전에, 암호화된 영역을 갖는 화상이 인쇄된 매체가, 복사기에 의해 복사되고, 그 복사된 매체가 판독 장치에 의해 판독되는 경우가 있다. 혹은, 암호화된 영역을 갖는 화상이 인쇄된 매체가, 그 매체의 보관 상태에 의해 열화되는 경우가 있다. 이와 같은 경우, 판독 장치에 의해 그 매체를 판독함으로써 얻어진 화상에는, 노이즈가 중첩되게 된다. 또한, 스캐너 등의 판독 장치의 특성 혹은, 판독 장치의 광학계의 오염에 의해, 판독된 화상에는, 노이즈가 중첩되게 되는 경우도 있다. 그 때문에, 판독된 화상에서 암호화된 영역에 포함되는 화소의 값이, 암호화 장치에 의해 생성된 암호화 영역에 포함되는 대응 화소의 값과 상이하게 된다. 그 결과로서, 복호된 원화상의 화질이 저하되게 될 우려가 있었다.
따라서, 본 명세서는, 종이 등의 매체에 인쇄된 화상이 열화된 경우라도, 정확하게 그 화상을 복원 가능한 화상 처리 시스템, 화상 처리 장치 및 화상 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
일 실시 형태에 따르면, 화상 처리 시스템이 제공된다. 이러한 화상 처리 시스템은, 매체에 인쇄된 화상을 판독하여 그 화상을 나타내는 전자 데이터를 생성하는 화상 입력부와, 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 처리부를 갖는다. 그 처리부는, 전자 데이터로 나타내어진 화상으로부터, 그 화상에 부여된 제1 사이즈 및 형상을 갖는 제1 패턴을 검출하는 기능과, 검출된 제1 패턴의 사이즈의, 제1 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하는 기능과, 열화도가 작아지도록 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 기능을 실현한다.
또한, 다른 실시 형태에 따르면, 화상 처리 방법이 제공된다. 이러한 화상 처리 방법은, 매체에 인쇄된 화상을 판독하여 그 화상을 나타내는 전자 데이터를 생성하고, 전자 데이터로 나타내어진 화상으로부터, 그 화상에 부여된 소정의 사이즈 및 형상을 갖는 패턴을 검출하고, 검출된 패턴의 사이즈의, 소정의 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하고, 열화도가 작아지도록 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 것을 포함한다.
또 다른 실시 형태에 따르면, 화상의 보정을 컴퓨터에 실행시키는 컴퓨터 프로그램이 제공된다. 이러한 컴퓨터 프로그램은, 매체에 인쇄된 화상을 판독하여 얻어진 전자 데이터로 나타내어진 화상으로부터, 그 화상에 부여된 소정의 사이즈 및 형상을 갖는 패턴을 검출하고, 검출된 패턴의 사이즈의, 소정의 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하고, 열화도가 작아지도록 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 것을 컴퓨터에 실행시킨다.
또 다른 실시 형태에 따르면, 화상 처리 장치가 제공된다. 이러한 화상 처리 장치는, 매체에 인쇄된 화상을 판독하여 얻어진 전자 데이터로 나타내어진 화상으로부터, 그 화상에 부여된 소정의 사이즈 및 형상을 갖는 패턴을 검출하는 패턴 검출부와, 검출된 패턴의 사이즈의, 소정의 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하는 열화도 측정부와, 열화도가 작아지도록 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하는 화상 보정부를 갖는다.
본 발명의 목적 및 이점은, 청구항에서 특별히 지적된 엘리먼트 및 조합에 의해 실현되고, 또한 달성된다.
상기의 일반적인 기술 및 하기의 상세한 기술 모두, 예시적이면서 또한 설명적인 것이고, 청구항과 같이, 본 발명을 제한하는 것이 아닌 것을 이해하였으면 한다.
여기에 개시되는 화상 처리 시스템, 화상 처리 장치 및 화상 처리 방법은, 종이 등의 매체에 인쇄된 화상이 열화된 경우라도, 정확하게 그 화상을 복원할 수 있다고 하는 효과를 발휘한다.
도 1은 일 실시 형태에 따른 화상 처리 장치의 개략 구성도이다.
도 2의 (a)는 암호화 처리가 실행되기 전의 원화상의 일례를 도시하는 도면이다. 도 2의 (b)는 암호화 처리가 실행된 후의 암호 화상의 일례를 도시하는 도면이다. 도 2의 (c)는 도 2의 (b)에 도시되는 암호 화상에 부여된 검사 패턴을 확대 표시한 도면이다.
도 3의 (a)는 도 2의 (b)에 도시된 암호 화상이 인쇄된 매체를, 스캐너 또는 카메라가 판독함으로써 얻어진 열화된 암호 화상의 일례를 도시하는 도면이다. 도 3의 (b)는 종래의 복호 장치에 의해, 도 3의 (a)에 도시된 열화된 암호 화상으로부터 복호된 복호 화상의 일례를 도시하는 도면이다.
도 4는 암호 화상에 대한 화상 보정 처리 및 보정된 화상에 대한 복호 처리를 실행하기 위해서 실현되는 기능을 도시하는 처리부의 기능 블록도이다.
도 5의 (a)는, 도 3의 (a)에 도시된, 열화된 암호 화상으로부터 검출된, 열화된 가로로 긴 검사 패턴과, 열화가 없는 이상적인 가로로 긴 검사 패턴의 예를 도시하는 도면이다. 도 5의 (b)는, 도 5의 (a)에 도시된 각 검사 패턴에서의, 우단의 흑 영역의 확대도이다.
도 6은, 도 5의 (a)에 도시된, 검출 검사 패턴 및 열화가 없는 검사 패턴에 대하여 요구되는, 각 열마다의 가로 방향 차분값의 총합을 도시하는 도면이다.
도 7의 (a)는 암호화 영역 내의 흑 영역의 일례를 도시하는 도면이다. 도 7의 (b)는, 도 7의 (a)에 도시된 흑 영역에 대하여, 축퇴 처리가 행해진 후의 흑 영역을 도시하는 도면이다. 도 7의 (c)는, 도 7의 (a)에 도시된 흑 영역에 대하여, 확대 처리가 행해진 후의 흑 영역을 도시하는 도면이다.
도 8의 (a)는 암호화 영역 내의 흑 영역의 일례를 도시하는 도면이다. 도 8의 (b)는 도 8의 (a)에 도시된 흑 영역의 상단 및 좌단에 대하여 반축퇴 처리가 행해진 후의 흑 영역을 도시하는 도면이다. 도 8의 (c)는 도 8의 (a)에 도시된 흑 영역의 상단 및 좌단에 대하여 반확대 처리가 행해진 후의 흑 영역을 도시하는 도면이다.
도 9는 화상 복호 장치의 처리부 상에서 실행되는 컴퓨터 프로그램에 의해 제어되는, 열화 화상 보정부에 의한 보정 처리의 동작 플로우차트를 도시하는 도면이다.
도 10은 화상 복호 장치의 처리부 상에서 실행되는 컴퓨터 프로그램에 의해 제어되는, 화상 보정 처리를 포함하는 복호 처리의 동작 플로우차트를 도시하는 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서, 일 실시 형태에 따른, 화상 처리 시스템에 대하여 설명한다. 이 화상 처리 시스템은, 암호화된 화상이 인쇄된 매체를 판독 장치에 의해 판독하여 얻어지는 전자 데이터로 나타내어진 화상을 복호함으로써, 원화상을 재구성한다. 따라서 이 화상 처리 시스템은, 암호화된 화상에 부가된, 형상 및 사이즈가 기지인 마크를 화상으로부터 검출하고, 검출된 마크의 사이즈와, 미리 설정된 그 마크의 사이즈의 차를 구한다. 그리고 이 화상 처리 시스템은, 그 차가 작아지도록 전자 데이터로 나타내어진 화상을 보정하고, 그 후, 그 보정된 화상을 복호함으로써, 매체의 열화 또는 판독 시의 노이즈에 의한 암호화된 화상의 열화를 보상한다.
또한, 본 명세서에서는, 암호화된 화상을 간단히 「암호 화상」이라고 부른다.
도 1은 일 실시 형태에 따른 화상 처리 시스템의 개략 구성도이다. 도 1에 도시한 바와 같이, 화상 처리 시스템(1)은, 화상 입력부(2)와, 출력부(3)와, 화상 복호 장치(4)를 갖는다.
화상 입력부(2)는, 예를 들면, 스캐너 또는 카메라를 갖는다. 그리고 화상 입력부(2)는, 예를 들면, Universal Serial Bus(유니버설 시리얼 버스, USB) 또는 Small Computer System Interface(스카시, SCSI) 등의 통신 규격에 따른 통신 회선을 통하여, 화상 복호 장치(4)와 접속되어 있다.
화상 입력부(2)는, 종이 등의 매체에 인쇄된 암호 화상을 판독하고, 그 암호 화상을 전자 데이터로 변환한다. 또한 화상 입력부(2)는, 판독한 화상에 대하여 공지의 다양한 노이즈 제거 처리 중 어느 하나를 행해도 된다. 또한 화상 입력부(2)는, 암호 화상이 2치 화상이면, 판독한 화상에 대하여 2치화 처리를 행해도 된다. 그리고 화상 입력부(2)는, 암호 화상의 전자 데이터를 화상 복호 장치(4)에 송신한다.
출력부(3)는, 예를 들면, 액정 디스플레이 혹은 브라운관 디스플레이 등의 표시 장치, 혹은, 프린터 등의 인쇄 장치를 갖는다. 그리고 출력부(3)는, 화상 복호 장치(4)와 접속되어, 화상 복호 장치(4)가 복호한 원화상을 디스플레이 상에 표시하거나, 혹은, 종이 등의 매체에 인쇄한다.
화상 복호 장치(4)는, 통신부(41)와, 기억부(42)와, 처리부(43)를 갖는다. 그리고 화상 복호 장치(4)는, 화상 입력부(2)로부터 수신한, 암호 화상의 전자 데이터에 대하여 복호 처리를 실행함으로써, 원화상을 재구성한다.
통신부(41)는, 예를 들면, 화상 복호 장치(4)를, 화상 입력부(2) 및 출력부(3), 혹은 다른 주변 기기와 접속하기 위한 통신 인터페이스 및 그 제어 회로를 갖는다. 그와 같은, 주변 기기와 접속하기 위한 통신 인터페이스는, 예를 들면, USB 또는 SCSI 등의 통신 규격에 따른 인터페이스로 할 수 있다. 또한 통신부(41)는, Ethernet(등록 상표) 등의 통신 규격에 따른 통신 네트워크 또는 Integrated Services Digital Network(종합 디지털 통신망 서비스, ISDN)에 접속하기 위한 통신 인터페이스 및 그 제어 회로를 갖고 있어도 된다. 그리고 화상 복호 장치(4)는, 통신부(41)를 통하여, 다른 기기에 대하여, 복호된 원화상을 송신해도 된다.
기억부(42)는, 예를 들면, 반도체 메모리, 자기 디스크 장치, 또는 광 디스크 장치 중 적어도 어느 하나를 갖는다. 그리고 기억부(42)는, 화상 복호 장치(4)에서 실행되는 컴퓨터 프로그램, 암호 화상을 복호하기 위해서 사용되는 파라미터, 화상 입력부(2)로부터 수신한 암호 화상 또는 복호된 원화상을 기억한다. 또한 기억부(42)는, 암호 화상을 보정하기 위해서 사용되는 파라미터 및 데이터도 기억한다.
처리부(43)는, 1개 또는 복수개의 프로세서 및 그 주변 회로를 갖는다. 그리고 처리부(43)는, 화상 입력부(2)로부터 수신한, 암호 화상의 전자 데이터에 대하여 복호 처리를 실행함으로써, 원화상을 재구성한다. 또한 처리부(43)는, 화상 처리 시스템(1) 전체를 제어한다.
여기서, 처리부(43)에 의해 실행되는 복호 처리의 이해를 용이하게 하기 위해서, 원화상에 대하여 행해지는 암호화 처리의 일례를 설명한다.
암호화 처리를 실행하는 암호화 장치는, 우선, 원화상 중, 암호화하는 영역을 복수의 블록으로 분할하고, 각 블록에 고유의 번호를 설정한다. 예를 들면, 암호화 장치는, 암호화하는 영역을 세로 3개×가로 4개의 합계 12개의 블록으로 분할하고, 각각의 블록에 1∼12의 번호를 붙인다. 다음으로, 암호화 장치는, 암호키를 이용하여 각 블록의 위치를 교체하는 스크램블 처리를 실행한다. 그를 위해서, 암호화 장치는, 암호키로부터 변환 전과 변환 후의 블록의 위치 관계를 나타내는 대응 테이블을 작성한다. 예를 들면, 변환 전의 블록의 번호가 x로 나타내어지고, 변환 후의 블록의 번호가 y로 나타내어지는 것으로 한다. 이때, 스크램블 처리에 대응하는 블록의 변환식은 다음 수학식에 의해 나타내어진다.
Figure 112011045870460-pct00001
수학식 1에서, p 및 q는, 각각, 암호키가 나타내는 소수이다. 예를 들면, p=7, q=13이면, x가 1일 때, 대응하는 y의 값은 7로 된다. 따라서, 암호화 장치는, 변환 전의 블록 번호 x가 1인 블록을, 스크램블 처리에 의해, 변환 후의 블록 번호 y가 7인 블록의 위치로 이동한다.
다음으로, 암호화 장치는, 복호 처리를 실행하는 장치가 각 블록의 위치를 정확하게 검출할 수 있도록, 변환 후의 각 블록 내의 소정의 위치의 화소의 화소값을 반전한다. 또한, 각 블록 내의 소정의 위치의 화소는, 예를 들면, 각 블록의 좌상단에 있는, 가로 3×세로 3의 화소로 할 수 있다. 또한, 이하에서는, 이 화소값이 반전되는 화소를 포함하는 영역을 반전 마커라고 부른다. 예를 들면, 암호화 장치는, 반전 마커와 동일한 블록에 포함되고, 또한 그 반전 마커의 주위의 화소의 평균값에 기초하여, 반전 마커의 화소에 대하여 실행하는 반전 처리를 시프트 연산 또는 반전 연산 중 어느 하나로부터 선택한다. 여기서 반전 연산은, 다음 수학식에 의해 나타내어진다.
Figure 112011045870460-pct00002
또한, 시프트 연산은, 다음 수학식에 의해 나타내어진다.
Figure 112011045870460-pct00003
또한, 수학식 2 및 수학식 3에서, Pmax는, 암호화 처리의 대상으로 되는 화상의 각 화소가 취할 수 있는 최대 화소값을 나타내고, Pmin은, 암호화 처리의 대상으로 되는 화상의 각 화소가 취할 수 있는 최소 화소값을 나타낸다. 또한 u 및 v는, 각각, 반전 마커의 반전 처리 실행 전의 화소값 및 반전 처리 실행 후의 화소값을 나타낸다. 그리고, 예를 들면, Pmax=255, 또한, Pmin=0일 때, 암호화 장치는, 반전 마커의 주위의 화소의 평균값 Pav가 64 이상 또한 192 미만일 때, 시프트 연산을 선택하고, 그 평균값 Pav가 64 미만 또는 192 이상일 때, 반전 연산을 선택한다.
예를 들면, 반전 마커에 포함되는 화소의 화소값 u가 20이고, 반전 마커 주위의 화소의 평균값 Pav가 35이면, 암호화 장치는 반전 연산을 선택하므로, 반전 처리 후의 반전 마커의 화소값 v는, 수학식 2로부터, 235로 된다.
마지막으로, 암호화 장치는, 암호화된 영역의 4코너에 검사 패턴을 부가한다. 검사 패턴은, 복호 처리를 실행하는 장치가 암호화된 영역을 용이하게 특정할 수 있도록 하는 패턴이 바람직하다. 예를 들면, 검사 패턴은, 최대 화소값을 갖는 사각형 영역과 최소 화소값을 갖는 사각형 영역이 교대로 반복되는 패턴으로 할 수 있다. 혹은, 검사 패턴은, 사각형의 윤곽이 최소 화소값을 갖고, 그 내부가 최대 화소값을 갖는, 「口」자 형상의 패턴이어도 된다.
또한, 암호화 장치는, 예를 들면, 소위 컴퓨터이다. 그리고 암호화 장치는, 상기의 스크램블 처리, 화소값 변환 처리 및 검사 패턴 부여 처리를, 그 암호화 장치의 프로세서 상에서 동작하는 컴퓨터 프로그램에 따라서 실행한다.
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)는, 각각, 암호화 처리가 실행되기 전의 원화상 및 암호화 처리가 실행된 후의 암호 화상의 일례를 도시한다. 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이, 원화상(200)은 2치 화상이다. 그 원화상(200)에서는, 「Encrypt」의 문자열에 상당하는 부분과 다른 부분이 상이한 화소값을 갖고 있다. 한편, 도 2의 (b)에 도시된 바와 같이, 암호 화상(210)에서는, 블록 단위로 화소의 위치가 변경되어 있다. 그 때문에, 제3자는, 암호 화상(210)으로부터, 원화상(200)에 「Encrypt」의 문자열이 표시되어 있는 것을 인식할 수는 없다. 또한, 암호 화상(210)에는, 스크램블 처리의 실행 단위로 되는 블록의 위치를 나타내는 복수의 반전 마커(211)가 격자 형상으로 부가되어 있다. 또한, 암호 화상(210)의 4코너에는, 각각, 암호화된 영역을 특정하기 위한 가로로 긴 검사 패턴(212) 및 세로로 긴 검사 패턴(213)이 부여되어 있다.
도 2의 (c)는, 도 2의 (b)에 도시되는 암호 화상(210)에 부여된 검사 패턴(212 및 213)을 확대 표시한 도면이다. 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이, 가로로 긴 검사 패턴(212)은, 가로 방향으로 최소 화소값을 갖는 사각형 영역(212a)과 최대 화소값을 갖는 사각형 영역(212b)이 등간격으로 교대로 반복된 패턴을 갖는다. 또한, 세로로 긴 검사 패턴(213)은, 세로 방향으로 최소 화소값을 갖는 사각형 영역(213a)과 최대 화소값을 갖는 사각형 영역(213b)이 등간격으로 교대로 반복된 패턴을 갖는다. 또한, 이하에서는, 간단화를 위해서, 소정의 임계값 이하의 화소값을 갖는 화소의 집합 영역을 흑 영역이라고 부르고, 그 소정의 임계값보다도 큰 화소값을 갖는 화소의 집합 영역을 백 영역이라고 부른다. 또한, 소정의 임계값은, 암호 화상의 화소가 취할 수 있는 최대 화소값과 최소 화소값 사이의 어느 하나의 값으로 할 수 있다. 예를 들면, 소정의 임계값은, 암호 화상의 화소가 취할 수 있는 최대 화소값과 최소 화소값의 평균값으로 할 수 있다.
이와 같이, 검사 패턴(212, 213) 및 반전 마커(211)는, 특징적인 패턴을 갖고 있다. 그 때문에, 암호 화상(210)으로부터 원화상(200)을 복호하는 복호 장치는, 검사 패턴(212, 213) 및 반전 마커(211)를 참조하여, 각 블록의 위치를 특정할 수 있다. 그리고 그 복호 장치는, 암호 화상(210)이 열화되어 있지 않으면, 반전 마커의 화소값을 역반전하고, 그 후, 원화상(200)의 암호화에 이용된 암호키를 이용하여 역스크램블 처리를 실행함으로써, 정확하게 원화상(200)을 복호할 수 있다.
그러나, 암호 화상(210)이 인쇄된 매체가 오염되어 있거나, 그 매체가 복사되고, 복호 장치가 그 복사된 매체로부터 암호 화상을 판독하면, 판독된 암호 화상은 열화된다.
도 3의 (a)는, 도 2의 (b)에 도시되는 암호 화상(210)이 인쇄된 매체를, 스캐너 또는 카메라가 판독함으로써 얻어진 열화된 암호 화상의 일례를 도시한다. 또한 도 3의 (b)는, 종래의 복호 장치에 의해, 도 3의 (a)에 도시된 열화된 암호 화상으로부터 복호된 복호 화상의 일례를 도시한다. 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 열화된 암호 화상(300)은, 암호 화상(210)과 비교하여, 흑 영역이 확대되어 있다. 그 때문에, 종래의 복호 장치는, 이 열화된 암호 화상(300)에 대하여 복호 처리를 실행하면, 도 3의 (b)에 도시된 복호 화상(310)과 같이, 원화상(200)에 대하여 매우 노이즈가 많은, 저화질의 복호 화상밖에 얻을 수 없다.
따라서, 이 실시 형태에 따른 화상 처리 시스템(1)의 처리부(43)는, 화상 입력부(2)로부터 수신한 전자 데이터로 나타내어지는 암호 화상에 대하여 보정 처리를 실행하고, 보정된 화상을 복호함으로써, 원화상을 재구성한다.
도 4는 암호 화상에 대한 화상 보정 처리 및 보정된 화상에 대한 복호 처리를 실행하기 위해서 실현되는 기능을 도시하는 처리부(43)의 기능 블록도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 처리부(43)는, 패턴 검출부(431)와, 열화도 측정부(432)와, 열화 화상 보정부(433)와, 복호부(434)를 갖는다. 처리부(43)가 갖는 이들 각 부는, 처리부(43)가 갖는 프로세서 상에서 실행되는 컴퓨터 프로그램에 의해 실장되는 기능 모듈이다. 또한, 처리부(43)가 실행하는 화상 보정 처리는, 패턴 검출부(431), 열화도 측정부(432) 및 열화 화상 보정부(433)에 의해 실행되는 처리이다.
패턴 검출부(431)는, 화상 입력부(2)에 의해 취득된 전자 데이터로 나타내어진 암호 화상으로부터, 보정량을 결정하기 위한 기준으로 되는, 사이즈 및 형상이 기지인 특정 패턴을 검출한다. 본 실시 형태에서는, 패턴 검출부(431)는, 특정 패턴으로서, 암호화된 영역의 경계를 나타내는 검사 패턴을 검출한다. 검사 패턴은, 암호화된 영역을 특정하기 위해서도 검출되어야만 한다. 그 때문에, 패턴 검출부(431)가 특정 패턴으로서 검사 패턴을 검출하면, 암호화된 영역을 특정하기 위해서, 다시 검사 패턴을 검출할 필요가 없다. 그 때문에, 처리부(43)는, 암호화된 영역을 특정하기 위한 패턴 검출 처리를 생략할 수 있다.
예를 들면, 패턴 검출부(431)는, 템플릿 매칭, 혹은, 엣지 검출 처리를 이용하여 검사 패턴을 검출할 수 있다.
템플릿 매칭 처리를 이용하여 검사 패턴이 검출되는 경우, 검사 패턴과 동일한 패턴을 나타낸 템플릿이 미리 기억부(42)에 기억된다. 패턴 검출부(431)는, 검사 패턴을 암호 화상으로부터 검출할 때, 기억부(42)로부터 그 템플릿을 읽어낸다. 그리고 패턴 검출부(431)는, 읽어내어진 템플릿과, 암호 화상 상에서 검사 패턴이 존재한다고 상정되는 암호 화상의 부분 영역과의 상관 연산을 행함으로써, 상관값이 최대로 되는 암호 화상 상의 위치를 찾아낸다. 패턴 검출부(431)는, 상관값이 최대로 된 암호 화상 상의 위치에, 검사 패턴이 있다고 판정한다. 또한 상관값은, 예를 들면, 암호 화상의 화소값과 템플릿의 화소값이 일치하는 화소수를, 템플릿의 화소수로 나눔으로써 얻어진다.
또한, 엣지 검출 처리를 이용하여 검사 패턴이 검출되는 경우, 패턴 검출부(431)는, 암호 화상에 대하여 엣지 검출 처리를 실행함으로써 엣지 화소를 추출한다. 그리고 패턴 검출부(431)는, 검사 패턴에 포함되는 흑 영역 혹은 백 영역의 윤곽의 세로 방향의 길이만큼 엣지 화소가 세로 방향으로 연속하고, 또한, 검사 패턴에 포함되는 흑 영역 혹은 백 영역의 윤곽의 가로 방향의 길이만큼 엣지 화소가 가로 방향으로 연속하는 위치를 검출한다. 그리고 패턴 검출부(431)는, 검출된 위치에 검사 패턴이 있다고 판정해도 된다.
혹은 또한, 패턴 검출부(431)는, 암호 화상에 대하여 엣지 검출 처리를 실행함으로써 엣지 화소를 추출한다. 그리고 패턴 검출부(431)는, 추출된 엣지 화소를 나타낸 엣지 화상과, 검사 패턴에 포함되는 흑 영역 혹은 백 영역의 윤곽 형상을 나타내는 템플릿과의 템플릿 매칭 처리를 실행함으로써, 검사 패턴을 검출해도 된다.
패턴 검출부(431)는, 복수의 검사 패턴이 암호 화상에 부여되어 있는 경우, 적어도 어느 하나의 검사 패턴을 검출한다. 예를 들면, 도 2의 (b) 및 도 2의 (c)에 도시된 바와 같이, 암호 화상의 4코너에, 각각, 가로 방향으로 긴 검사 패턴(212)과 세로 방향으로 긴 검사 패턴(213)이 부여되어 있는 경우, 패턴 검출부(431)는, 모든 검사 패턴을 검출해도 된다. 혹은, 패턴 검출부(431)는, 어느 하나의 코너에 부여된 가로로 긴 검사 패턴(212)과 세로로 긴 검사 패턴(213)만을 검출해도 된다. 또한, 패턴 검출부(431)는, 어느 하나의 코너에 부여된 가로로 긴 검사 패턴(212)과 세로로 긴 검사 패턴(213) 중 어느 한쪽만을 검출해도 된다.
패턴 검출부(431)는, 검출된 검사 패턴의 위치를 나타내는 정보를, 열화도 측정부(432)에 전달한다. 또한, 검사 패턴의 위치를 나타내는 정보는, 예를 들면, 검사 패턴의 어느 하나의 코너의 화소의 좌표를 포함한다.
열화도 측정부(432)는, 패턴 검출부(431)에 의해, 암호 화상으로부터 검출된 특정 패턴의 사이즈와, 그 특정 패턴에 대응하는, 열화가 없는 패턴의 사이즈와의 차로부터, 암호 화상의 열화 정도를 나타내는 열화도를 측정한다. 또한, 이하에서는, 패턴 검출부(431)가 검출하는 특정 패턴이, 검사 패턴인 것으로서 설명한다.
일반적으로, 화상 입력부(2)에 의해 얻어진 암호 화상의 열화 정도가 클수록, 그 암호 화상은, 열화가 없는 암호 화상의 화소값과 상이한 화소값을 갖는 화소를 많이 포함한다. 예를 들면, 암호 화상이 인쇄된 매체가 복사되면, 그 복사된 매체에 나타내어진 암호 화상은, 전체적으로 검게 되는 경우가 있다. 이 경우, 화상 입력부(2)가, 그 복사된 매체를 판독하여 얻어지는 암호 화상의 각 화소값도 전체적으로 낮아진다. 그 때문에, 특히, 암호 화상이 2치 화상인 경우와 같이, 화상 입력부(2)가, 복사 매체를 판독하여 얻은 전자 데이터로 나타내어지는 암호 화상에 대하여 2치화 처리를 행하면, 2치화 처리 후의 암호 화상은, 열화가 없는 암호 화상보다도 낮은 화소값을 갖는 화소를 많이 갖는 경우가 있다. 반대로, 복사 매체에 나타내어진 암호 화상이 전체적으로 희게 되는 경우, 화상 입력부(2)가, 그 복사 매체를 판독하여 얻은 전자 데이터로 나타내어지는 암호 화상의 각 화소값도 전체적으로 높아진다. 그 때문에, 화상 입력부(2)가 판독하여 얻은 전자 데이터로 나타내어진 암호 화상에 대하여 2치화 처리를 행하면, 2치화 처리 후의 암호 화상은, 열화가 없는 암호 화상보다도 높은 화소값을 갖는 화소를 많이 갖는 경우가 있다.
이 모습을 도 5의 (a) 및 도 5의 (b)를 참조하면서 설명한다.
도 5의 (a)는, 도 3의 (a)에 도시된, 열화된 암호 화상으로부터 검출된, 열화된 가로로 긴 검사 패턴과, 열화가 없는 이상적인 가로로 긴 검사 패턴의 예를 도시하는 도면이다. 도 5의 (a)에서, 상측에 도시된 패턴(501)은, 화상 입력부(2)에 의해 얻어진 열화된 암호 화상으로부터 검출된 검사 패턴을 나타내고, 하측에 도시된 패턴(502)은, 열화가 없는 이상적인 검사 패턴을 나타낸다. 또한, 도 5의 (b)는, 도 5의 (a)에 도시된 각 검사 패턴에서의, 우단의 흑 영역의 확대도이다. 도 5의 (b)에서, 흑 영역(503)은, 검사 패턴(501)의 우단의 흑 영역(503)의 확대도이고, 흑 영역(504)은, 열화가 없는 검사 패턴(502)의 우단의 흑 영역(504)의 확대도이다. 도 5의 (a) 및 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 열화가 없는 검사 패턴(502)의 흑 영역(504)은, 가로 방향으로 10화소의 길이를 갖는다. 한편, 열화된 검사 패턴(501)의 흑 영역(503)은, 가로 방향의 길이가 12화소 이상으로 확대되어 있다.
따라서, 열화도 측정부(432)는, 예를 들면, 화상 입력부(2)가 판독하여 얻은 암호 화상으로부터 검출된 검사 패턴에 포함되는, 흑 영역의 가로 방향의 길이와, 열화가 없는 검사 패턴에 포함되는, 흑 영역의 가로 방향의 길이와의 차를 가로 방향의 열화도로서 구한다. 즉, 열화도 측정부(432)는, 화상 입력부(2)가 판독하여 얻은 암호 화상으로부터 검출된 검사 패턴의 길이의, 열화가 없는 검사 패턴의 길이로부터의 어긋남량을 열화도로 한다. 또한, 이하에서는, 명확화를 위해서, 화상 입력부(2)가 판독하여 얻은 암호 화상으로부터 검출된 검사 패턴을, 검출 검사 패턴이라고 부르고, 열화가 없는 이상적인 검사 패턴을 이상 검사 패턴이라고 부른다.
열화도 측정부(432)는, 검출 검사 패턴에 포함되는 흑 영역의 가로 방향의 길이를 구하기 위해서, 흑 영역의 좌우단을 검출한다. 그를 위해서, 열화도 측정부(432)는, 다음 수학식에 의해, 가로 방향으로 근방 화소간의 차분 연산을 행하여 얻어지는 차분값을 각 열마다 합계한 값 D(x-x1)을 산출한다.
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여기서, x, y는, 각각, 가로 방향의 좌표값 및 세로 방향의 좌표값을 나타낸다. 또한, 좌표 (x1, y1)은, 검출 검사 패턴을 포함하는 탐색 영역의 좌상단 위치의 좌표이고, 좌표 (x1+W, y1+H)는, 검출 검사 패턴을 포함하는 탐색 영역의 우하단 위치의 좌표이다. 또한, g(x, y)는, 그 탐색 영역에 포함되는, 좌표 (x, y)에 위치하는 화소의 화소값을 나타낸다.
도 6은, 도 5의 (a)에 도시된, 검출 검사 패턴(501) 및 이상 검사 패턴(502)에 대하여 구해지는, 각 열마다의 가로 방향 차분값의 총합을 도시하는 도면이다. 도 6에서, 그래프(601)는, 상측에 도시된 검출 검사 패턴(501)에 대응하는, 각 열마다의 가로 방향 차분값의 총합 D(x-x1)을 나타낸다. 또한 그래프(602)는, 하측에 도시된 이상 검사 패턴(502)에 대응하는, 각 열마다의 가로 방향 차분값의 총합Di(x-x1)을 나타낸다. 또한, Di(x-x1)도, 수학식 4를 이용하여 계산된다.
그래프(601 및 602)에 나타내어진 바와 같이, 흑 영역의 좌단에서는, 총합D(x-x1) 및 Di(x-x1)은 극소값을 나타낸다. 한편, 흑 영역의 우단에서는, 총합D(x-x1) 및 Di(x-x1)은 극대값을 나타낸다. 그리고, 그 극소값 및 극대값은, 그래프(601 및 602) 상에서, 주기적으로 또한 교대로 나타난다.
따라서, 열화도 측정부(432)는, 탐색 영역의 좌단의 좌표 x1로부터 우측으로 순서대로 총합 D(x-x1)의 값을 조사한다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 처음에 총합 D(x-x1)이 극소값으로 되는 가로 방향의 좌표 xL을, 흑 영역의 좌단으로 한다. 다음으로, 열화도 측정부(432)는, 총합 D(x-x1)이 극대값으로 되는 가로 방향의 좌표 xR을, 흑 영역의 우단으로 한다. 이후, 마찬가지로, 열화도 측정부(432)는, 총합 D(x-x1)이 극소값으로 되는 가로 방향의 좌표 및 극대값으로 되는 가로 방향의 좌표를 순차적으로 검출한다.
또한, 열화도 측정부(432)는, 검출 검사 패턴(501)으로부터 얻어진 D(x-x1)과, 이상 검사 패턴으로부터 얻어진 Di(x-x1)과의 패턴 매칭을 행하여, Di(x-x1)의 극소값 또는 극대값에 대응하는 D(x-x1)의 가로 방향의 좌표를 구해도 된다. 이 경우, 열화도 측정부(432)는, Di(x-x1)의 극소값에 대응하는 D(x-x1)의 가로 방향의 좌표 xL을, 흑 영역의 좌단으로 하고, Di(x-x1)의 극대값에 대응하는 D(x-x1)의 가로 방향의 좌표 xR을, 흑 영역의 우단으로 한다. 특히, 열화도 측정부(432)는, 동적 계획법을 이용한 패턴 매칭을 이용하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 열화도 측정부(432)는, 검출 검사 패턴(501)에 포함되는 흑 영역의 폭과 이상 검사 패턴(502)에 포함되는 흑 영역의 폭이 상이해도, 효율적으로 D(x-x1)과 Di(x-x1)의 일치 정도를 계산할 수 있다.
열화도 측정부(432)는, 검출 검사 패턴(501)에 포함되는, 각 흑 영역의 좌우단간의 거리의 평균값을 산출한다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 그 평균값과, 이상 검사 패턴(502)에 포함되는 흑 영역의 폭과의 차를, 가로 방향의 열화도로 한다. 예를 들면, 검출 검사 패턴(501)에 포함되는, 각 흑 영역의 좌우단간의 거리의 평균값이 12이고, 이상 검사 패턴(502)에 포함되는 흑 영역의 폭이 10이면, 가로 방향의 열화도는 +2이다. 또한, 검출 검사 패턴(501)에 포함되는, 각 흑 영역의 좌우단간의 거리의 평균값이 9이고, 이상 검사 패턴(502)에 포함되는 흑 영역의 폭이 10이면, 가로 방향의 열화도는 -1이다.
또한, 열화도 측정부(432)는, 화상 입력부(2)에 의해 판독된 암호 화상으로부터 검출된, 세로로 긴 검사 패턴에 포함되는 흑 영역의 세로 방향의 길이와, 열화가 없는 세로로 긴 검사 패턴에 포함되는, 흑 영역의 세로 방향의 길이와의 차를 세로 방향의 열화도로서 구한다.
따라서, 열화도 측정부(432)는, 상기의 수학식 4의 x와 y를 교체한 식을 이용함으로써, 세로 방향으로 근방 화소간의 차분 연산을 행하여 얻어지는 차분값을 각 행마다 합계한 값 D(y-y1)을 산출할 수 있다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 상기와 마찬가지로, D(y-y1)의 극소값에 대응하는 위치를 검출 검사 패턴에 포함되는 흑 영역의 상단으로 한다. 또한 열화도 측정부(432)는, D(y-y1)의 극대값에 대응하는 위치를 검출 검사 패턴에 포함되는 흑 영역의 하단으로서 구한다. 이에 의해, 열화도 측정부(432)는 흑 영역의 상하단간의 거리를 산출할 수 있다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 그 평균값과, 이상 검사 패턴에 포함되는 흑 영역의 세로 방향의 길이와의 차를, 세로 방향의 열화도로 한다.
또한, 열화도 측정부(432)는, 검출 검사 패턴에 포함되는, 백 영역의 가로 방향 및 세로 방향의 길이와, 열화가 없는 검사 패턴에 포함되는, 백 영역의 가로 방향 및 세로 방향의 길이와의 차를 열화도로서 구해도 된다. 이 경우에도, 열화도 측정부(432)는, 수학식 4 및 수학식 4에서 x와 y를 교체한 식을 이용하여, 검출 검사 패턴으로부터, D(x-x1) 및 D(y-y1)을 계산한다. 그리고, 열화도 측정부(432)는, D(x-x1)의 극대값에 대응하는 위치를, 백 영역의 좌단으로 하고, 그 극대값의 우측에 인접하는 D(x-x1)의 극소값에 대응하는 위치를, 백 영역의 우단으로 한다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 백 영역의 좌우단간의 거리의 평균값을 산출하고, 그 평균값과, 이상 검사 패턴에 포함되는 백 영역의 가로 방향의 길이와의 차를, 가로 방향의 열화도로 한다. 마찬가지로, 열화도 측정부(432)는, D(y-y1)의 극대값에 대응하는 위치를, 백 영역의 상단으로 하고, 그 극대값의 하측에 인접하는 D(y-x1)의 극소값에 대응하는 위치를, 백 영역의 하단으로 한다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 백 영역의 상하단간의 거리의 평균값을 산출하고, 그 평균값과, 이상 검사 패턴에 포함되는 백 영역의 세로 방향의 길이와의 차를, 세로 방향의 열화도로 한다.
열화도 측정부(432)는, 암호화 영역의 각 코너에 부여된 4개의 가로로 긴 검사 패턴(212)에 대하여, 상기의 처리를 실행함으로써, 각각, 가로 방향의 열화도를 구한다. 또한, 열화도 측정부(432)는, 암호화 영역의 각 코너에 부여된 4개의 세로로 긴 검사 패턴(213)에 대하여, 상기의 처리를 실행함으로써, 각각, 세로 방향의 열화도를 구한다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 얻어진 모든 가로 방향의 열화도 및 세로 방향의 열화도의 평균값을 사사오입한 값을, 화상 입력부(2)에 의해 판독된 암호 화상에 대한 열화도 Dg로 한다. 또한, 열화도 측정부(432)는, 암호화 영역의 어느 하나의 코너에 부여된 검사 패턴에만 기초하여 열화도 Dg를 구해도 된다. 혹은, 열화도 측정부(432)는, 암호화 영역의 4코너 중, 어느 2개 또는 3개의 코너에 부여된 검사 패턴으로부터 구해진 가로 방향의 열화도 및 세로 방향의 열화도를 평균함으로써, 열화도 Dg를 구해도 된다. 또한, 열화도 측정부(432)는, 가로로 긴 검사 패턴으로부터 구해진 가로 방향의 열화도를 평균함으로써, 혹은, 세로로 긴 검사 패턴으로부터 구해진 세로 방향의 열화도를 평균함으로써 열화도 Dg를 구해도 된다.
열화도 측정부(432)는, 얻어진 열화도 Dg를 열화 화상 보정부(433)에 전달한다.
열화 화상 보정부(433)는, 화상 입력부(2)에 의해 판독된 암호 화상의 암호화 영역에 대하여, 열화도 Dg에 따라서 흑 영역 또는 백 영역을 확대 또는 축퇴시키는 처리를 행함으로써, 그 암호 화상을 보정한다. 여기서, 흑 영역에 대하여 행해지는 확대 처리는, 주목하는 화소가 흑 영역에 포함되는 화소인 경우, 주목 화소 주위의 화소(예를 들면, 4근방 화소) 중, 백 영역에 포함되는 화소의 화소값을, 주목 화소의 화소값으로 변환하여, 흑 영역에 포함시키는 처리이다. 또한, 흑 영역에 대하여 행해지는 축퇴 처리는, 주목하는 화소가 백 영역에 포함되는 화소인 경우, 주목 화소 주위의 화소(예를 들면, 4근방 화소) 중, 흑 영역에 포함되는 화소의 화소값을, 주목 화소의 화소값으로 변환하여, 백 영역에 포함시키는 처리이다.
반대로, 백 영역에 대하여 행해지는 확대 처리는, 흑 영역에 대하여 행해지는 축퇴 처리와 동일한 처리이다. 마찬가지로, 백 영역에 대하여 행해지는 축퇴 처리는, 흑 영역에 대하여 행해지는 확대 처리와 동일한 처리이다.
예를 들면, 흑 영역에 대하여 구해진 열화도 Dg가 2N(단 N은 0 이상의 정수)이면, 열화 화상 보정부(433)는, 암호 화상 중의 암호화 영역에 포함되는 흑 영역 전체에 대하여 축퇴 처리를 N회 실행한다. 이에 의해, 암호화 영역에 포함되는 흑 영역의 상하 방향 및 좌우 방향의 길이는, 각각 2N화소 축소된다. 또한, 흑 영역에 대하여 구해진 열화도 Dg가 2N+1(단 N은 0 이상의 정수)이면, 열화 화상 보정부(433)는, 암호 화상 중의 암호화 영역에 포함되는 흑 영역 전체에 대하여 축퇴 처리를 N회 실행한다. 그 후, 열화 화상 보정부(433)는, 또한, 흑 영역의 상하단의 한쪽 및 좌우단의 한쪽에 대해서만, 축퇴 처리를 1회 실행한다. 또한, 본 명세서에서는, 흑 영역의 상하단의 한쪽 및 좌우단의 한쪽에 대해서만 행해지는 축퇴 처리를 반축퇴 처리라고 부른다. 구체적으로는, 열화 화상 보정부(433)는, 주목하는 화소가 백 영역에 포함되는 화소인 경우, 주목 화소의 상측 또는 하측에 인접하는 화소 중 어느 한쪽과, 주목 화소의 좌측 또는 우측에 인접하는 화소 중 어느 한쪽의 화소값을, 변환 대상 화소로 한다. 그리고, 열화 화상 보정부(433)는, 변환 대상 화소가 흑 영역에 포함되어 있는 경우, 변환 대상 화소의 화소값을 주목 화소의 화소값으로 변환하면 된다. 이에 의해, 암호화 영역에 포함되는 흑 영역의 상하 방향 및 좌우 방향의 길이는, 각각 (2N+1)화소 축소된다.
그 때문에, 열화 화상 보정부(433)는, 열화에 의해 확대된 양만큼, 흑 영역을 축퇴시킬 수 있으므로, 암호 화상을 열화가 없는 상태에 가깝게 할 수 있다. 또한, 암호화 영역은, 패턴 검출부(431)가 특정 패턴으로서 검사 패턴을 검출하는 경우, 그 검출된 검사 패턴에 의해 특정된다. 또한, 패턴 검출부(431)가 검사 패턴을 검출하지 않은 경우에는, 열화 화상 보정부(433)는, 패턴 검출부(431)에 관하여 설명한 처리와 마찬가지의 처리를 행하여, 검사 패턴을 검출함으로써, 암호화 영역을 특정할 수 있다.
또한, 예를 들면, 흑 영역에 대하여 구해진 열화도 Dg가 -2N(단 N은 0 이상의 정수)이면, 열화 화상 보정부(433)는, 암호 화상 중의 암호화 영역에 포함되는 흑 영역 전체에 대하여 확대 처리를 N회 실행한다. 이에 의해, 암호화 영역에 포함되는 흑 영역의 상하 방향 및 좌우 방향의 길이는, 각각 2N 화소 확대된다. 또한, 흑 영역에 대하여 구해진 열화도 Dg가 -(2N+1)(단 N은 0 이상의 정수)이면, 열화 화상 보정부(433)는, 암호 화상 중의 암호화 영역에 포함되는 흑 영역 전체에 대하여 확대 처리를 N회 실행한다. 그 후, 열화 화상 보정부(433)는, 또한, 흑 영역의 상하단의 한쪽의 측 및 좌우단의 한쪽의 측에 대해서만, 확대 처리를 1회 실행한다. 또한, 본 명세서에서는, 흑 영역의 상하단의 한쪽 및 좌우단의 한쪽에 대해서만 행해지는 확대 처리를 반확대 처리라고 부른다. 구체적으로는, 열화 화상 보정부(433)는, 주목하는 화소가 흑 영역에 포함되는 화소인 경우, 주목 화소의 상측 또는 하측에 인접하는 화소 중 어느 한쪽과, 주목 화소의 좌측 또는 우측에 인접하는 화소 중 어느 한쪽을 변환 대상 화소로 한다. 그리고, 열화 화상 보정부(433)는, 변환 대상 화소가 백 영역에 포함되어 있는 경우, 변환 대상 화소의 화소값을 주목 화소의 화소값으로 변환하면 된다. 이에 의해, 암호화 영역에 포함되는 흑 영역의 상하 방향 및 좌우 방향의 길이는, 각각 (2N+1)화소 확대된다.
그 때문에, 열화 화상 보정부(433)는, 열화에 의해 축소된 양만큼, 흑 영역을 확대시킬 수 있으므로, 암호 화상을 열화가 없는 상태에 가깝게 할 수 있다.
마찬가지로, 백 영역에 대하여 열화도가 구해져 있으면, 열화 화상 보정부(433)는, 상기의 흑 영역에 대하여 열화도가 구해져 있는 경우의 처리를, 암호 화상 중의 암호화 영역에 포함되는 백 영역에 대하여 행하면 된다.
또한, 열화 화상 보정부(433)는, 확대 처리 대신에, 모폴로지의 팽창 연산을 행해도 된다. 또한, 열화 화상 보정부(433)는, 축퇴 처리 대신에, 모폴로지의 수축 연산 혹은 세선화 처리를 행해도 된다. 열화 화상 보정부(433)는, 축퇴 처리 대신에 세선화 처리를 실행함으로써, 1화소의 폭밖에 없는 흑 영역 또는 백 영역이 소실되는 것을 방지할 수 있다.
도 7의 (a)는, 암호화 영역 내의 흑 영역의 일례를 도시하는 도면이다. 또한 도 7의 (b) 및 도 7의 (c)는, 각각, 도 7의 (a)에 도시된 흑 영역(700)에 대하여, 축퇴 처리 및 확대 처리가 행해진 후의 흑 영역(710 및 720)을 도시하는 도면이다. 도 7의 (a)∼도 7의 (c)에서, 흑 영역(700∼720)에 포함되는 화소는 검게, 그 밖의 화소는 희게 나타내어져 있다. 도 7의 (b)에 도시된 바와 같이, 열화 화상 보정부(433)가 흑 영역(700)에 대하여 축퇴 처리를 실행하면, 흑 영역(700)의 외연에 위치하는 각 화소(701)의 화소값이 흑 영역 주위의 인접 화소의 화소값으로 변환된다. 그 때문에, 각 화소(701)가 흑 영역(710)으로부터 벗어나게 된다. 따라서, 흑 영역(710)의 폭 및 높이는, 각각, 흑 영역(700)의 폭 및 높이보다도 2화소 작게 되어 있다.
한편, 도 7의 (c)에 도시된 바와 같이, 열화 화상 보정부(433)가 흑 영역(700)에 대하여 확대 처리를 실행하면, 흑 영역(700)의 외연에 인접하는 각 화소(702)의 화소값이 인접하는 흑 영역 내의 화소의 화소값으로 변환된다. 그 때문에, 각 화소(702)가 흑 영역(720)에 포함되게 된다. 따라서, 흑 영역(720)의 폭 및 높이는, 각각, 흑 영역(700)의 폭 및 높이보다도 2화소 크게 되어 있다.
도 8의 (a)는 암호화 영역 내의 흑 영역의 일례를 도시하는 도면이다. 또한 도 8의 (b) 및 도 8의 (c)는, 각각, 도 8의 (a)에 도시된 흑 영역(800)의 상단 및 좌단에 대하여, 반축퇴 처리 및 반확대 처리가 행해진 후의 흑 영역(810 및 820)을 도시하는 도면이다. 도 8의 (a)∼도 8의 (c)에서, 흑 영역(800∼820)에 포함되는 화소는 검게, 그 밖의 화소는 희게 나타내어져 있다. 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 열화 화상 보정부(433)가 흑 영역(800)에 대하여 반축퇴 처리를 실행하면, 흑 영역(800)의 좌단 또는 상단에 위치하는 각 화소(801)의 화소값이 흑 영역 주위의 인접 화소의 화소값으로 변환된다. 그 때문에, 각 화소(801)가 흑 영역(810)으로부터 벗어나게 된다. 따라서, 흑 영역(810)의 폭 및 높이는, 각각, 흑 영역(800)의 폭 및 높이보다도 1화소 작게 되어 있다.
한편, 도 8의 (c)에 도시된 바와 같이, 열화 화상 보정부(433)가 흑 영역(800)에 대하여 반확대 처리를 실행하면, 흑 영역(800)의 좌단 또는 상단에 인접하는 각 화소(802)의 화소값이 인접하는 흑 영역 내의 화소의 화소값으로 변환된다. 그 때문에, 각 화소(802)가 흑 영역(820)에 포함되게 된다. 따라서, 흑 영역(820)의 폭 및 높이는, 각각, 흑 영역(800)의 폭 및 높이보다도 1화소 크게 되어 있다.
도 9는 화상 복호 장치(4)의 처리부(43) 상에서 실행되는 컴퓨터 프로그램에 의해 제어되는, 열화 화상 보정부(433)에 의한 보정 처리의 동작 플로우차트를 도시한다. 또한, 이하에서는, 보정 처리의 동작 플로우를, 열화 화상 보정부(433)는 흑 영역에 대하여 확대 처리 또는 축퇴 처리를 실행하는 것으로서 설명한다. 그러나, 열화 화상 보정부(433)가 백 영역에 대하여 확대 처리 또는 축퇴 처리를 실행하는 경우도, 확대 처리 또는 축퇴 처리의 대상이 백 영역인 것을 제외하고, 보정 처리의 동작 플로우는 흑 영역에 대하여 확대 처리 또는 축퇴 처리가 실행되는 경우의 동작 플로우와 동일하다.
우선, 열화 화상 보정부(433)는, 열화도 Dg의 부호를 판정한다(스텝 S101). 열화도 Dg가 0인 경우, 열화 화상 보정부(433)는 처리를 종료한다.
스텝 S101에서, 열화도 Dg가 플러스인 경우, 열화 화상 보정부(433)는, 암호화 영역에 대하여 축퇴 처리를 실행한다. 따라서 열화 화상 보정부(433)는, 축퇴 처리의 반복 횟수 N을 1로 설정한다(스텝 S102). 다음으로, 열화 화상 보정부(433)는, 열화도 Dg의 절대값으로부터 2N을 뺀 값(|Dg|-2N)이 0 이상으로 되는지의 여부를 판정한다(스텝 S103). (|Dg|-2N)이 0 이상인 경우(스텝 S103-예), 열화 화상 보정부(433)는, 암호화 영역 내의 모든 흑 영역에 대하여 축퇴 처리를 실행한다(스텝 S104). 이에 의해, 각 흑 영역의 폭 및 높이는, 각각 2화소씩 축소된다. 그리고 열화 화상 보정부(433)는, 반복 횟수 N을 1 인크리먼트하고(스텝 S105), 그 후 제어를 스텝 S103으로 되돌린다.
한편, 스텝 S103에서, (|Dg|-2N)이 0보다 작은 경우(스텝 S103-아니오), 열화 화상 보정부(433)는, (|Dg|-2N)이 -1인지의 여부를 판정한다(스텝 S106). 그리고 (|Dg|-2N)이 -1인 경우(스텝 S106-예), 열화 화상 보정부(433)는, 암호화 영역 내의 모든 흑 영역에 대하여 반축퇴 처리를 실행한다(스텝 S107). 이에 의해, 각 흑 영역의 폭 및 높이는, 각각 1화소씩 축소된다. 스텝 S107 후, 혹은, 스텝 S106에서 (|Dg|-2N)이 -1이 아닌 경우(스텝 S106-아니오), 열화 화상 보정부(433)는 처리를 종료한다.
한편, 스텝 S101에서, 열화도 Dg가 마이너스인 경우, 열화 화상 보정부(433)는, 암호화 영역에 대하여 확대 처리를 실행한다. 따라서 열화 화상 보정부(433)는, 확대 처리의 반복 횟수 N을 1로 설정한다(스텝 S108). 다음으로, 열화 화상 보정부(433)는, 열화도 Dg의 절대값으로부터 2N을 뺀 값(|Dg|-2N)이 0 이상으로 되는지의 여부를 판정한다(스텝 S109). (|Dg|-2N)이 0 이상인 경우(스텝 S109-예), 열화 화상 보정부(433)는, 암호화 영역 내의 모든 흑 영역에 대하여 확대 처리를 실행한다(스텝 S110). 이에 의해, 각 흑 영역의 폭 및 높이는, 각각 2화소씩 확대된다. 그리고 열화 화상 보정부(433)는, 반복 횟수 N을 1 인크리먼트하고(스텝 S111), 그 후 제어를 스텝 S109로 되돌린다.
한편, 스텝 S109에서, (|Dg|-2N)이 0보다 작은 경우(스텝 S109-아니오), 열화 화상 보정부(433)는, (|Dg|-2N)이 -1인지의 여부를 판정한다(스텝 S112). 그리고 (|Dg|-2N)이 -1인 경우(스텝 S112-예), 열화 화상 보정부(433)는, 암호화 영역 내의 모든 흑 영역에 대하여 반확대 처리를 실행한다(스텝 S113). 이에 의해, 각 흑 영역의 폭 및 높이는, 각각 1화소씩 확대된다. 스텝 S113 후, 혹은, 스텝 S112에서 (|Dg|-2N)이 -1이 아닌 경우(스텝 S112-아니오), 열화 화상 보정부(433)는 처리를 종료한다.
열화 화상 보정부(433)는, 화상 입력부(2)에 의해 판독된 암호 화상을 상기한 바와 같이 보정하여 얻어진 보정 화상을 복호부(434)에 전달한다.
복호부(434)는, 열화 화상 보정부(433)에 의해 얻어진 보정 화상에 대하여 복호 처리를 실행함으로써, 원화상을 재구성한다.
따라서, 복호부(434)는, 우선, 암호 화상이 화상 입력부(2)에 의해 판독되었을 때 등에 생기는, 암호화 영역 내의 국소적인 신축 혹은 왜곡을 보정한다. 예를 들면, 복호부(434)는, 암호화 영역 내의 각 반전 마커의 위치를 특정한다. 그리고 복호부(434)는, 특정된 위치와, 암호화 영역의 신축 및 왜곡이 없을 때의 위치와의 어긋남을 구함으로써, 암호화 영역 내의 국소적인 왜곡량 혹은 신축량을 검출할 수 있다.
따라서, 복호부(434)는, 암호 화상에 대하여 반전 마커를 추출하는 필터 처리를 실행한다. 반전 마커는, 그 주위에 대하여 화소값이 반전되어 있다. 따라서, 복호부(434)는, 예를 들면, 반전 마커와, 반전 마커와 동일한 블록에 포함되는, 반전 마커 주위의 화소에 대하여 메디안 필터 처리를 행하여 평활화한다. 그리고 복호부(434)는, 그 평활화된 화상과 암호 화상과의 대응 화소간의 차분 절대값을 취함으로써, 반전 마커에 대응하는 화소만이 큰 화소값을 갖는 마커 추출 화상을 작성할 수 있다.
다음으로, 복호부(434)는, 반전 마커의 분포가 종횡 일정한 주기인 것을 이용하여, 반전 마커가 추출된 마커 추출 화상에 관하여 가로 방향과 세로 방향의 주기성을 구한다. 그를 위해서, 복호부(434)는, 각 열마다 마커 추출 화상의 화소값의 합계를 구한, 가로 방향의 신호 프로파일을 작성한다. 또한, 복호부(434)는, 각 행마다 마커 추출 화상의 화소값의 합계를 구한, 세로 방향의 신호 프로파일을 작성한다. 그렇게 하면, 반전 마커가 다수 배열되는 행 및 열에 대해서는, 그 화소값의 합계는 상대적으로 큰 값으로 되고, 한편, 반전 마커가 존재하지 않는 행 및 열에 대해서는, 그 화소값의 합계는 상대적으로 작은 값으로 된다. 그리고, 화소값의 합계값이 큰 열 및 행은, 스크램블 처리의 단위로 되는 블록의 가로 방향의 길이 및 세로 방향의 길이와 거의 동일한 간격으로 주기적으로 나타난다. 따라서 복호부(434)는, 암호화 영역의 신축 및 왜곡이 없는 경우에 반전 마커가 배열되는 열에 큰 값을 갖고, 그 밖의 열은 작은 값을 갖는 1차원의 템플릿과, 상기의 가로 방향의 신호 프로파일 및 세로 방향의 신호 프로파일의 패턴 매칭을 행한다. 이 패턴 매칭으로서는, 예를 들면, 동적 계획법을 이용한 패턴 매칭 처리가, 효율적으로 처리를 행할 수 있기 때문에 바람직하다. 그리고 복호부(434)는, 패턴 매칭 처리에 의해, 템플릿의 신호값이 큰 부분에 대응하는 위치를, 반전 마커가 배열되는 열 또는 행으로 결정할 수 있다. 그리고 복호부(434)는, 반전 마커가 배열되는 열 또는 행의 위치와, 암호화 영역의 신축 및 왜곡이 없는 경우에 반전 마커가 배열되는 열 또는 행과의 어긋남량을 구한다. 복호부(434)는, 그 어긋남량을 없애도록 암호화 영역을 국소적으로 신장 또는 축소함으로써, 반전 마커가 배열되는 열 및 행이 블록의 가로 방향의 길이 및 세로 방향의 길이에 상당하는 간격으로 주기적으로 나타나도록 한다.
다음으로, 복호부(434)는, 반전 마커에 포함되는 모든 화소에 대하여, 화소값 역변환 처리를 실행한다. 구체적으로는, 복호부(434)는, 암호화 처리에 대하여 설명한 바와 같이, 반전 마커와 동일한 블록에 포함되고, 또한 반전 마커 주위의 화소의 평균값 Pav를 구하고, 그 평균값 Pav에 따라서 상기의 수학식 2 또는 수학식 3 중 어느 한쪽을 선택한다. 그리고 복호부(434)는, 선택된 수학식을 이용하여, 반전 마커에 포함되는 화소의 값을 변환한다.
마지막으로, 복호부(434)는, 화소값 역변환이 실시된 화상에 대하여 역스크램블 처리를 실행함으로써, 원화상을 재구성한다. 복호부(434)는, 스크램블 처리를 실행하였을 때의 암호키 및 블록 위치를 변환하는 수학식 1을 이용하여, 스크램블 처리 실행 후의 블록의 위치가 y로 되는, 암호화 영역 내의 블록의 원래의 위치 x를 결정할 수 있다. 그리고 복호부(434)는, 암호화 영역 내의 각 블록을, 얻어진 원래의 블록 위치로 이동시킴으로써, 원화상을 재구성할 수 있다.
처리부(43)는, 재구성된 원화상을 통신부(41)를 통하여 출력부(3)에 출력한다. 또한, 처리부(43)는, 재구성된 원화상을 기억부(42)에 기억해도 된다.
도 10은 화상 복호 장치(4)의 처리부(43) 상에서 실행되는 컴퓨터 프로그램에 의해 제어되는, 화상 보정 처리를 포함하는 복호 처리의 동작 플로우차트를 도시한다.
도 10에 도시된 바와 같이, 화상 입력부(2)에 의해 매체에 인쇄된 암호 화상이 판독되어, 그 암호 화상의 전자 데이터를 화상 복호 장치(4)가 수신하면, 처리부(43)는 복호 처리를 개시한다. 그리고 처리부(43)의 패턴 검출부(431)는, 암호 화상으로부터, 보정량을 결정하기 위한 기준으로 되는, 사이즈 및 형상이 기지인 특정 패턴을 검출한다(스텝 S201). 본 실시 형태에서는, 특정 패턴은, 암호 화상에 포함되는 암호화된 영역의 4코너에 부여된 검사 패턴이다. 그리고 패턴 검출부(431)는, 검출된 특정 패턴의 위치를 나타내는 위치 정보를 처리부(43)의 열화도 측정부(432)에 전달한다.
열화도 측정부(432)는, 암호 화상으로부터 검출된 특정 패턴의 길이의, 열화가 없는 이상적인 특정 패턴의 길이로부터의 어긋남량을 구하고, 그 어긋남량을 열화도로 한다(스텝 S202). 예를 들면, 열화도 측정부(432)는, 암호 화상으로부터 검출된 검사 패턴에 포함되는 각 흑 영역의 가로 방향의 길이 및 세로 방향의 길이와, 열화가 없는 이상적인 검사 패턴에 포함되는, 대응하는 각 흑 영역의 가로 방향의 길이 및 세로 방향의 길이와의 차를 각각 구한다. 그리고 열화도 측정부(432)는, 그 차의 평균값을 열화도 Dg로 한다. 열화도 측정부(432)는, 얻어진 열화도 Dg를, 처리부(43)의 열화 화상 보정부(433)에 전달한다.
열화 화상 보정부(433)는, 암호 화상의 암호화 영역에 대하여, 열화도 Dg에 따라서 흑 영역 또는 백 영역을 확대 또는 축퇴시키는 처리를 행함으로써, 그 암호 화상을 보정한다(스텝 S203). 또한, 열화 화상 보정부(433)는, 도 9에 도시한 플로우차트에 따라서, 스텝 S203의 처리를 실행한다. 그리고 열화 화상 보정부(433)는, 얻어진 보정 화상을 처리부(43)의 복호부(434)에 전달한다.
복호부(434)는, 보정 화상에 대하여 복호 처리를 실행함으로써, 원화상을 재구성한다(스텝 S204). 구체적으로는, 전술한 바와 같이, 복호부(434)는, 보정 화상의 암호화 영역 내의 국소적인 신축 및 왜곡을 수정하여, 반전 마커가 블록의 세로 방향의 길이 및 가로 방향의 길이의 주기로 배열되도록 한다. 다음으로 복호부(434)는, 암호화 영역 내의 각 반전 마커에 포함되는 화소에 대하여 화소값 역변환 처리를 실행한다. 그 후, 복호부(434)는, 암호화 영역에 대하여 역스크램블 처리를 실행하여, 블록 단위로 화소의 위치를 교체함으로써, 원화상을 재구성할 수 있다.
처리부(43)는, 재구성된 원화상을 통신부(41)를 통하여 출력부(3)에 출력한다(스텝 S205). 그리고 처리부(43)는, 복호 처리를 종료한다.
이상에 설명한 바와 같이, 일 실시 형태에 따른 화상 처리 시스템은, 암호 화상이 인쇄된 매체를 화상 입력부에 의해 판독하여 얻어진 전자 데이터로부터, 암호 화상에 부여된, 미리 형상 및 사이즈가 기지인 특정 패턴을 검출한다. 그리고 이 화상 처리 시스템은, 검출된 특정 패턴에 포함되는 흑 영역 또는 백 영역의 길이의, 열화가 없는 경우의 길이로부터의 어긋남량을, 열화도로서 측정한다. 그 때문에, 이 화상 처리 시스템은, 매체로부터 판독된 전자 데이터에 포함되는 암호 화상의 열화도를 정확하게 추정할 수 있다. 그리고, 이 화상 처리 시스템은, 측정된 열화도가 작아지도록, 암호 화상 내의 암호화된 영역에 포함되는 흑 영역 또는 백 영역을 축퇴 또는 확대시킴으로써, 암호 화상을 보정한다. 그리고, 이 화상 처리 시스템은, 보정된 암호 화상을 복호하여 원화상을 재구성한다. 그 때문에, 이 화상 처리 시스템은, 화상 입력부가 판독하여 얻은 전자 데이터로 나타내어진 암호 화상이 열화되어 있어도, 정확하게 원화상을 재구성할 수 있다.
또한, 본 발명은, 상기의 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기의 화상 처리 시스템과 별개로 설치된 장치에 의해, 매체에 인쇄된 암호 화상이 판독되어, 암호 화상이 전자 데이터화되어 있고, 화상 복호 장치가 그 통신부를 통하여 암호 화상의 전자 데이터를 취득할 수 있는 경우, 화상 입력부는 생략되어도 된다. 또한 이와 같은 경우, 암호 화상을 포함하는 전자 데이터의 파일 형식은, JPEG(Joint Photographic Experts Group) 형식, tiff(Tagged Image File Format) 형식 등의 화상 데이터용의 형식이 아니어도 된다. 예를 들면, 암호 화상을 포함하는 전자 데이터의 파일 형식은, pdf(Portable Document Format) 형식 또는 HTML(HyperText Markup Language) 형식 등의 텍스트도 포함하는 형식과 같은 다른 형식이어도 된다. 화상 복호 장치의 처리부는, 암호 화상을 포함하는 전자 데이터의 파일 형식이 화상 데이터용의 형식이 아닌 경우도, 그 전자 데이터에 포함되는 암호 화상에 관한 정보를 추출함으로써, 그 추출된 암호 화상에 대하여 전술한 화상 보정 처리 및 화상 복호 처리를 적용할 수 있다.
또한, 처리부의 패턴 검출부는, 열화도를 측정하기 위한 특정 패턴으로서, 암호화 영역 내의 어느 하나의 반전 마커를 검출해도 된다. 또한, 원화상을 암호화하는 암호 장치가, 원화상을 암호화하여 암호 화상을 작성한 후, 암호 화상에서 암호화된 영역 또는 그 주위에, 형상 및 사이즈가 기지인 패턴을 부여해도 된다. 예를 들면, 암호 장치는, 암호화 영역의 주위의 좌측 상에, 소정 폭을 갖는 흑 영역과 백 영역이 교대로 배치된 패턴을 부여해도 된다. 이 경우, 패턴 검출부는, 암호화된 영역 또는 그 주위에 부여된, 형상 및 사이즈가 기지인 패턴을 특정 패턴으로서 검출해도 된다.
또한, 패턴 검출부는, 그들 특정 패턴의 형상 및 사이즈를 미리 알고 있기 때문에, 예를 들면, 암호 화상과, 열화가 없는, 이상적인 특정 패턴을 나타내는 템플릿과의 템플릿 매칭을 실행함으로써, 그들 특정 패턴을 검출할 수 있다.
단, 반전 마커는, 반전 마커에 포함되는 화소 및 반전 마커 주위의 화소의 값에 의해, 반전 마커 내에 포함되는 화소의 값이 변동된다. 그 때문에, 암호 화상이 열화되어 있지 않아도, 암호화 영역 중에 부가된 반전 마커의 형상이, 열화가 없는 반전 마커의 형상과 상이할 가능성이 있다. 따라서, 패턴 검출부는, 정확하게 반전 마커를 검출할 수 있도록, 반전 마커를 특정 패턴으로서 검출하는 경우, 복호부에 관하여 설명한 바와 같은 왜곡/신축 처리를 행하여, 반전 마커의 위치를 수정한다. 패턴 검출부는, 그 수정된 위치에 대하여 반전 마커를 검출하는 것이 바람직하다. 그리고 패턴 검출부는, 왜곡/신축 처리가 행해진 암호 화상과, 열화가 없는 반전 마커를 나타낸 템플릿과의 템플릿 매칭을 행하여, 암호 화상과 템플릿과의 일치도를 구한다. 그 일치도는, 예를 들면, 암호 화상과 템플릿의 상대적인 위치를 변화시키면서, 암호 화상의 화소값과 템플릿의 화소값이 일치하는 화소수를, 템플릿의 화소수로 나눔으로써 얻어지는 각 상관값 중의 최대값으로 할 수 있다. 패턴 검출부는, 일치도가 소정값 이상으로 되는 반전 마커만을, 특정 패턴으로서 검출한다. 또한, 소정값은, 예를 들면, 일치도가 0 내지 1의 범위 내에 포함되는 경우, 0.7로 할 수 있다.
또한, 처리부의 열화도 측정부는, 열화도 측정부에 관하여 전술한 것과 마찬가지의 처리에 따라서, 검출된 특정 패턴에 포함되는 흑 영역 혹은 백 영역의 사이즈의 변동을 조사함으로써, 열화도를 측정할 수 있다. 예를 들면, 열화도 측정부는, 특정 패턴으로서 검출된 반전 마커의 폭 및 높이와, 열화가 없는 반전 마커의 폭 및 높이와의 각각의 차의 평균값을 구하고, 그 평균값을 사사오입한 값을 열화도로 한다.
또한, 화상 처리 장치는, 패턴 검출부, 열화도 측정부 및 열화 화상 보정부에 의해 실행되는 화상 보정 처리를 2회 이상 반복하여 실행해도 된다. 또한, 화상 보정 처리는, 도 10에 도시된 플로우차트에서의, 스텝 S201∼S203의 처리를 의미한다. 예를 들면, 1회째의 화상 보정 처리에서는, 패턴 검출부는, 암호 화상으로부터 검사 패턴을 특정 패턴으로서 검출한다. 그리고 열화도 측정부는, 검출된 검사 패턴에 기초하여 열화도를 측정한다. 그리고 열화 화상 보정부는, 얻어진 열화도에 기초하여, 암호 화상을 보정한다.
다음으로, 2회째의 화상 보정 처리에서는, 패턴 검출부는, 1회째의 화상 보정 처리에 의해 보정된 암호 화상으로부터, 어느 하나의 반전 마커를 특정 패턴으로서 검출한다. 그리고 열화도 측정부는, 검출된 검사 패턴에 기초하여 열화도를 다시 측정한다. 그리고 열화 화상 보정부는, 얻어진 열화도에 기초하여, 한번 보정된 암호 화상을 다시 보정한다. 이하, 마찬가지로, 화상 처리 장치는, 미리 정해진 횟수 혹은, 측정된 열화도의 절대값이 소정값 이하로 될 때까지, 화상 보정 처리를 반복한다. 또한, 각 회의 화상 보정 처리에서 검출되는 특정 패턴은, 암호 화상 전체를 밸런스 좋게 보정하기 위해서, 서로 위치가 상이한 것이 바람직하다. 그리고 처리부의 복호부는, 화상 보정 처리를 반복하여 얻어진 보정 화상에 대하여, 복호 처리를 실행한다.
이와 같이, 화상 처리 장치는, 화상 보정 처리를 복수회 반복하여 실행하여 얻어진 보정 화상에 대하여 복호 처리를 실행함으로써, 보다 정확하게 원화상을 재구성할 수 있다.
또한, 이 화상 처리 장치가 화상 보정 처리의 대상으로 하는 화상은, 암호 화상에 한정되지 않는다. 화상 보정 처리의 대상으로 하는 화상은, 예를 들면, 종이 등의 매체에 인쇄되고, 또한, 미리 형상 및 사이즈가 기지인 패턴이 그 화상 또는 화상 주위에 부여된 것이면 된다. 화상 보정 처리의 대상으로 되는 화상이 암호 화상이 아니면, 화상 처리 장치에서의, 처리부의 복호부는 생략되어도 된다.
또한, 이 화상 처리 장치의 처리부가 갖는, 패턴 검출부, 열화도 측정부, 열화 화상 보정부, 및 복호부의 각 기능을 컴퓨터에 실현시키는 컴퓨터 프로그램은, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 매체에 기록된 형태로 제공되어도 된다.
여기에 들어진 모든 예 및 특정 용어는, 독자가, 본 발명 및 해당 기술의 촉진에 대한 본 발명자에 의해 기여된 개념을 이해하는 것을 돕는, 교시적인 목적에서 의도된 것이며, 본 발명의 우위성 및 열등성을 나타내는 것에 관한, 본 명세서의 어떠한 예의 구성, 그와 같은 특정의 들어진 예 및 조건에 한정되지 않도록 해석되어야 할 것이다. 본 발명의 실시 형태는 상세하게 설명되어 있지만, 본 발명의 정신 및 범위로부터 벗어나지 않고, 다양한 변경, 치환 및 수정을 이것에 가하는 것이 가능한 것이 이해되었으면 한다.
1 : 화상 처리 시스템
2 : 화상 입력부
3 : 출력부
4 : 화상 복호 장치
41 : 통신부
42 : 기억부
43 : 처리부
431 : 패턴 검출부
432 : 열화도 측정부
433 : 열화 화상 보정부
434 : 복호부

Claims (10)

  1. 매체에 인쇄된 암호화된 화상을 판독하여 그 화상을 나타내는 전자 데이터를 생성하는 화상 입력부와,
    상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상을 보정하는 처리부로서,
    상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상으로부터, 그 화상에 부여된 암호화된 영역의 경계를 나타내는 문자 이외의 제1 사이즈 및 형상을 갖는 제1 패턴을 검출하는 기능과,
    상기 검출된 제1 패턴의 사이즈의, 상기 제1 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하는 기능과,
    상기 열화도가 작아지도록 상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상을 보정하는 기능
    을 실현하는 처리부
    를 갖고,
    상기 처리부는, 상기 패턴 검출 기능에, 상기 보정 기능에 의해 보정된 암호화된 화상의 보정 화상으로부터, 상기 암호화된 영역 내의 소정 위치를 나타내는 문자 이외의 제2 사이즈 및 형상을 갖는 제2 패턴을 검출시키고,
    상기 열화도 측정 기능에, 상기 검출된 제2 패턴의 사이즈의, 상기 제2 사이즈로부터의 어긋남량을 제2 열화도로서 측정시키고,
    상기 화상 보정 기능에, 상기 제2 열화도가 작아지도록 상기 보정 화상을 더 보정시키는 화상 처리 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 사이즈는, 상기 제1 패턴에 포함되는, 소정값 이하의 화소값을 갖는 영역의 길이이고, 상기 열화도를 측정하는 기능은, 상기 검출된 제1 패턴에 포함되는, 소정값 이하의 화소값을 갖는 영역의 길이로부터 상기 제1 사이즈를 뺀 차를 상기 열화도로서 측정하고,
    상기 보정 기능은, 상기 열화도가 플러스의 값을 갖는 경우, 상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상에 포함되는, 상기 소정값 이하의 화소값을 갖는 영역을, 상기 열화도의 절대값만큼 그 영역의 길이가 짧아지도록 축퇴시키고, 상기 열화도가 마이너스의 값을 갖는 경우, 상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상에 포함되는, 상기 소정값 이하의 화소값을 갖는 영역을, 상기 열화도의 절대값만큼 그 영역의 길이가 길어지도록 확대하는 화상 처리 시스템.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 처리부는, 상기 보정 기능에 의해 보정된 암호 화상을 복호하여, 원화상을 재구성하는 복호 기능을 더 실현하는 화상 처리 시스템.
  4. 매체에 인쇄된 암호화된 화상을 판독하여 그 화상을 나타내는 전자 데이터를 생성하고,
    상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상으로부터, 그 화상에 부여된 암호화된 영역의 경계를 나타내는 문자 이외의 소정의 사이즈 및 형상을 갖는 패턴을 검출하고,
    상기 검출된 패턴의 사이즈의, 상기 소정의 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하고,
    상기 열화도가 작아지도록 상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상을 보정하고,
    암호화된 화상의 보정 화상으로부터, 상기 암호화된 영역 내의 소정 위치를 나타내는 문자 이외의 제2 사이즈 및 형상을 갖는 제2 패턴을 검출하고,
    상기 검출된 제2 패턴의 사이즈의, 상기 제2 사이즈로부터의 어긋남량을 제2 열화도로서 측정하고,
    상기 제2 열화도가 작아지도록 상기 보정된 화상을 더 보정하는 것
    을 포함하는 화상 처리 방법.
  5. 매체에 인쇄된 암호화된 화상을 판독하여 얻어진 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상으로부터, 그 화상에 부여된 암호화된 영역의 경계를 나타내는 문자 이외의 소정의 사이즈 및 형상을 갖는 패턴을 검출하고,
    상기 검출된 패턴의 사이즈의, 상기 소정의 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하고,
    상기 열화도가 작아지도록 상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상을 보정하고,
    암호화된 화상의 보정 화상으로부터, 상기 암호화된 영역 내의 소정 위치를 나타내는 문자 이외의 제2 사이즈 및 형상을 갖는 제2 패턴을 검출하고,
    상기 검출된 제2 패턴의 사이즈의, 상기 제2 사이즈로부터의 어긋남량을 제2 열화도로서 측정하고,
    상기 제2 열화도가 작아지도록 상기 보정된 화상을 더 보정하는 것
    을 컴퓨터에 실행시키는 컴퓨터 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체.
  6. 매체에 인쇄된 암호화된 화상을 판독하여 얻어진 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상으로부터, 그 화상에 부여된 암호화된 영역의 경계를 나타내는 문자 이외의 소정의 사이즈 및 형상을 갖는 패턴을 검출하는 패턴 검출부와,
    상기 검출된 패턴의 사이즈의, 상기 소정의 사이즈로부터의 어긋남량을 열화도로서 측정하는 열화도 측정부와,
    상기 열화도가 작아지도록 상기 전자 데이터로 나타내어진 암호화된 화상을 보정하는 화상 보정부
    를 갖고,
    상기 패턴 검출부는, 상기 화상 보정부에 의해 보정된 암호화된 화상의 보정 화상으로부터, 상기 암호화된 영역 내의 소정 위치를 나타내는 문자 이외의 제2 사이즈 및 형상을 갖는 제2 패턴을 검출하고,
    상기 열화도 측정부는, 상기 검출된 제2 패턴의 사이즈의, 상기 제2 사이즈로부터의 어긋낫량을 제2 열화도로서 측정하고,
    상기 화상 보정부는, 상기 제2 열화도가 작아지도록 상기 보정 화상을 더 보정하는 화상 처리 장치.
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