KR101246131B1 - 삼차원 형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법 및 그에 이용되는 장치 - Google Patents

삼차원 형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법 및 그에 이용되는 장치 Download PDF

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Abstract

복잡한 삼차원형상의 워크에도 스퍼터입자를 균일하게 성막할 수 있는 스퍼터링 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. 당해 기술은 타깃을 스퍼터링함으로써, 타깃과 대향하여 설치되며, 회전하는 캐루셀형 워크홀더에 부착된 삼차원형상의 워크에 성막하는 방법이며, 상기 삼차원형상의 워크를 상기 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전시키며, 또한, 전체 스퍼터링 시간중에 적어도 일부 시간에 있어서, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터입자의 주된 비산방향을 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심방향으로부터 편심시킨 방향으로 하는 것을 특징으로 한다.

Description

삼차원 형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법 및 그에 이용되는 장치{METHOD FOR FORMING SPUTTERING FILM ON THREE-DIMENSIONAL WORK AND APPARATUS USED IN THE METHOD}
본 발명은 스퍼터링에 의해 복잡한 삼차원형상의 워크에 균일하게 성막하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
지금까지, 스퍼터링은 반도체, 액정, 플라스마 디스플레이, 광디스크 등의 분야에 있어서, 금속, 플라스틱 등의 2차원의 평활한 워크상에 스퍼터 입자를 균일하게 성막하는 기술로서 이용되어 왔다.
그러나, 근래에는 상기와 같은 2차원의 평활한 워크상뿐만 아니라, 카메라, 휴대전화 등의 본체, 외장품 등의 복잡한 3차원 형상의 워크에도 스퍼터 입자를 균일하게 성막하는 것이 요구되어 오고 있다.
종래부터 있는 스퍼터링 장치를 이용하여 복잡한 3차원 형상의 워크에 성막하는 경우에는 타깃으로부터 스퍼터 된 입자에는 직선성이 강하고, 돌아서 들어가는 것이 그다지 없기 때문에, 타깃과 대향하지 않는 측면이나 상하면의 피복력 및 균일전착성이 나쁘다는 문제가 있었다.
따라서, 본 발명은 복잡한 3차원 형상의 워크에도 스퍼터 입자를 균일하게 성막할 수 있는 스퍼터링 기술을 제공하는 것을 과제로 했다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의검토를 행한 결과, 캐루셀형(carousel type) 워크홀더에 부착된 삼차원형상의 워크를 회전시키면서 타깃을 스퍼터링하여 성막 할 때에, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을 전체 스퍼터링 시간 중의 적어도 일부 시간에 있어서, 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심시킨 방향으로 함으로써, 복잡한 3차원 형상의 워크에 스퍼터 입자를 균일하게 성막할 수 있음을 발견하고, 본 발명을 완성했다.
즉, 본 발명은 타깃을 스퍼터링 함으로써, 타깃과 대향하여 설치되며, 회전하는 캐루셀형 워크홀더에 부착된 삼차원형상의 워크에 성막하는 방법이며,
상기 삼차원형상의 워크를 상기 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전시키며,
또한,
전체 스퍼터링 시간 중의 적어도 일부 시간에 있어서, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을, 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심시킨 방향으로 하는 것을 특징으로 하는 삼차원 형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법이다.
또, 본 발명은 진공챔버내에 타깃과 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
상기 캐루셀형 워크홀더는 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더 및/또는 워크유지부는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
상기 타깃이 회전축을 가지며, 좌우방향으로 회동가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치이다.
더욱이, 본 발명은 진공챔버내에 타깃과 상기 타깃용 마그넷과, 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
상기 캐루셀형 워크홀더는 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더 및/또는 워크유지부는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
상기 타깃용 마그넷이 회전축을 가지며, 좌우 방향으로 회동 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치이다.
더욱이, 본 발명은 진공챔버내에 타깃과 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
상기 캐루셀형 워크홀더는 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더 및/또는 워크유지부는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
상기 타깃을 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심 방향으로 되도록 설치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치이다.
더욱이 또, 본 발명은 진공챔버내에 타깃과 상기 타깃용 마그넷과, 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
상기 캐루셀형 워크홀더는 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더 및/또는 워크유지부는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
상기 타깃용 마그넷을, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심 방향이 되도록 설치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치이다.
본 발명에 의하면, 삼차원 형상의 워크에 스퍼터링을 하는 경우라도, 타깃과대향하지 않는 측면이나, 상하면의 피복력 및 균일전착성이 양호한 것으로 된다.
따라서, 카메라, 휴대전화 등의 본체, 외장품 등의 복잡한 삼차원 형상의 워크에도 스퍼터입자를 균일하게 성막할 수 있다.
도 1은 본 발명의 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치의 주요부를 나타내는 도면이다. (도면중, 흰색 화살표는 타깃용 마그넷(5)의 회동방향을 나타낸다.)
도 2는 도 1의 A-A'에 있어서의 단면도이다.
도 3은 마그넷의 구조를 나타내는 도면이다(도면중, 흰색 화살표는 타깃용 마그넷(5)의 회동방향을 나타낸다).
도 4는 도 3의 B방향에서 본 마그넷의 구조를 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 형태의 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치의 주요부를 나타내는 도면이다(도면중, 흰색 화살표는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을 나타낸다).
도 6은 캐루셀형 워크홀더의 구조를 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 형태의 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치의 주요부를 나타내는 도면이다(도면중, 흰색 화살표는 타깃용 마그넷(5)의 회동방향을 나타낸다).
도 8은 본 발명의 다른 형태의 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치의 주요부를 나타내는 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 형태의 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치의 주요부를 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명의 일실시 형태인 타깃에 원통형의 것을 이용한 마그네트론 스퍼터링 장치(이하,「동축형 마그네트론 스퍼터링 장치」라고 한다)를 나타내는 도면과 함께 본 발명의 설명을 계속한다.
도 1은 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치의 주요부를 모식적으로 나타내는 도면이다. 도면중 1은 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치, 2는 진공 쳄버, 3은 원통형 타깃, 4는 마그넷 수납부, 5는 타깃용 마그넷, 6은 캐루셀형 워크홀더, 7은 삼차원형상의 워크, 8은 배기구 및 9는 가스 도입구를 각각 나타낸다.
또, 도 2는 도 1의 A-A'에 있어서의 단면도이다. 도면중, 1~9는 상기와 동일한 것을 나타내며, 10은 플라스마용 고압전원 및 11은 접지어스를 각각 나타낸다.
진공챔버(2)는 그 내부에 타깃(3) 및 캐루셀형 워크홀더(6)를 설치할 수 있는 것이면, 크기 및 형상은 특히 한정되지 않는다. 또, 진공챔버(2)에는 배기구(8)가 설치되어 있다. 이 배기구(8)에는 로터리 펌프, 터보 분자펌프 등의 진공용 펌프(도시하지 않음)가 접속된다. 게다가, 진공챔버(2)에는 스퍼터에 이용되는 가스를 도입하기 위한 가스 도입구(9)가 설치되어 있다. 스퍼터에 이용되는 가스로서는 특히 한정되지 않고, 예를 들면, 아르곤, 질소, 산소 등을 들 수 있다.
원통형 타깃(3)은 상단 및/또는 하단을 지지부로 한 원통형의 파이프에, 상기 지지부를 제외한 외면에 타깃재를 용사 등에 의해 소정의 두께로 부착시킨 것이다. 타깃재료로서는 규소, 티탄, 지르코늄, 금, 은 동, 인듐, 주석, 크롬, 알루미늄, 탄소 등의 금속 및 이것들의 산화물 또는 질화물 등을 들 수 있다. 또, 파이프의 재질로서는 스텐레스, 강철, 알루미늄 등을 들 수 있다. 이 원통형 타깃(3)은 진공챔버(2)의 긴쪽 방향(도 1의 지면 직각방향)에 대하여 충분히 길게 배치되어 있다. 이 원통형 타깃(3)은 진공챔버(2)로부터 전기적으로 절연되며, 고압전원의 일단에 접속된다. 또, 고압전원의 다른 일단은 진공챔버(2)와 접지어스(11)에 접속된다(도 2참조).
원통형 타깃(3)의 내부에는 마그넷 수납부(4)가 설치되며, 더욱이 그 내부에는 원통형 타깃(3)에 대하여 충분한 길이의 타깃용 마그넷(5)이 설치된다. 원통형 타깃(3)과 마그넷 수납부(4)의 사이에는 원통형 타깃(3)을 냉각하기 위한 냉각수가 공급된다. 타깃용 마그넷(5)은 마그넷 지지봉(5a)에 고정된 3개의 마그넷(5b, 5c 및 5d)으로 구성된다. 마그넷(5b 및 5d)은 자석지지봉 측에 N극, 타깃 측을 S극으로 하고, 마그넷(5c)은 그 역의 자극에서 설치된다(도 3참조). 또, 이 마그넷(5b 및 5d)은 타깃용 마그넷(5)의 상하단에서 접속하고, 루프를 형성한다(4참조). 상기 마그넷(5)에, 평형의 자장을 발생시키기 위해서는 마그넷(5c)의 자력과 마그넷(5b 및 5d)으로 이루어지는 마그넷과의 자력이 등가인 것을 이용하면 좋고, 비평형의 자장을 발생시키기 위해서는 마그넷(5c)의 자력이, 마그넷(5c 및 5d)으로 이루어지는 마그넷의 자력보다 약한 것을 이용하면 좋다.
상기한 원통형 타깃(3)과 타깃용 마그넷(5)을 이용하여, 전체 스퍼터링 시간중의 적어도 일부 시간에 있어서, 상기 원통형 타깃(3)으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을, 후술하는 캐루셀형 워크홀더(6)의 회전축에서 편심시킨 방향(이하, 「편심방향」이라고 한다)으로 한다. 여기서, 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이라는 것은 내부에 설치된 타깃용 마그넷(5)의 자계가 가장 강한 2개 장소의 중심과 원통형 타깃(3)의 중심을 연결한 방향을 말한다.
스퍼터 입자의 주된 비산 방향을 편심방향으로 하기에는 예를 들면, 도 1에 나타내는 바와 같이, 원통형 타깃(3)을, 후술하는 캐루셀형 워크홀더(6)에 대향하여 설치하고, 더욱이 상기 원통형 타깃(3)의 내부에 설치된 타깃용 마그넷(5)을, 원통형 타깃(3)과 동축에서 좌우방향으로 회동 가능하게 설치한다. 타깃용 마그넷(5)의 회동범위는 삼차원형상의 워크(7)에 스퍼터 입자를 균일하게 성막할 수 있는 범위이면 특히 한정되지 않는다. 또, 상기 회동은 삼차원 형상의 워크(7)에 대하여, 중심방향보다 편심방향으로부터의 스퍼터가 길어지도록 제어하는 것이 바람직하다.
또, 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을 편심방향으로 하는 다른 수단으로서는 예를 들면, 도 5에 나타내는 바와 같이, 원통형 타깃(3)을, 후술하는 캐루셀형 워크홀더(6)에 대향하여 설치하고, 더욱이, 타깃용 마그넷(5)을, 원통형 타깃(3)으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이 캐루셀형 워크홀더(6)의 회전축에서 편심 방향이 되도록 설치한다. 이 경우, 타깃용 마그넷(5)은 회동시키지 않고, 위치를 고정하고, 전체 스퍼터링 시간에 있어서 원통형 타깃(3)으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을 편심방향으로 하는 것이 바람직하다. 또, 이 경우에 원통형 타깃(3)은 복수개, 바람직하게는 2개 설치하는 것이 바람직하다.
캐루셀형 워크홀더(6)는 원통형 타깃(3)에 대향하여 설치된다. 이 캐루셀형 워크홀더(6)는 도 6에 나타내는 바와 같이, 워크홀더 지지부(6a) 및 복수의 워크유지부(6b)에서 거의 원통형으로 구성되며, 워크유지부(6b)는 워크를 고정하기 위한 복수의 훅(6c)을 갖춘다. 워크유지부(6b)는 상기 워크홀더 지지부(6a)의 외주부에 설치된다. 상기 캐루셀형 워크홀더(6) 및/또는 워크유지부(6b)는 원통형 타깃(3)의 축과 캐루셀형 워크홀더(6)의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 평행한 축으로 회전 가능하게 설치, 바람직하게는 원통형의 타깃(3)과 축이 평행하게 되는 축으로 회전 가능하게 설치되며, 각각 독립 또는 동조하여 회전(공전·자전)한다. 이 캐루셀형 워크홀더(6)는 진공챔버(2)로부터 전기적으로 절연된다.
더욱이, 본 발명에 있어서는 삼차원형상의 워크(7)에 의해 균일하게 성막하기 위해, 도 7~9에 나타내는 바와 같이, 캐루셀형 워크홀더(6)에 대향하여 설치된 원통형 타깃(3)과는 별도로 캐루셀형 워크홀더(6)의 위쪽 및/또는 아래쪽에, 원통형 타깃(3)(그 내부에는 마그넷 수납부(4) 및 타깃용 마그넷(5)이 설치된다)을 설치하는 것이 바람직하다. 또, 이 경우에는 원통형 타깃(3)의 내부에 설치된 타깃용 마그넷(5)은 상기와 동일하게 하여 회동시키며, 삼차원 형상의 워크(7)의 상하의 피복력 및 균일전착성을 조정 가능하게 해도 좋다.
이상 설명한 장치에 있어서, 스퍼터링을 행하기에는 우선, 진공챔버(2)를 배기한 후, 스퍼터 가스를 공급한다. 그 다음에, 타깃(3)과 진공챔버(2)에 접속된 고압 전원(10)으로부터, 전력을 공급(직류전원의 경우에는 타깃(3)을 음극으로 한다)함으로써 글로 방전이 시작되며, 스퍼터링을 개시할 수 있다.
상기 장치에 있어서, 전체 스퍼터링 시간중 적어도 일부 시간에 있어서, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을, 캐루셀형 워크홀더의 회전축으로부터 편심시킨 방향으로 함으로써, 캐루셀형 워크홀더에 부착된 삼차원 형상의 워크에 스퍼터 입자를 균일하게 성막할 수가 있었다.
또, 상기 삼차원 형상의 워크의 위쪽 및/또는 아래쪽으로부터 스퍼터링을 행함으로써, 피복력 및 균일전착성이 좋은 막두께가 균일한 성막이 생긴다.
이상 설명한 본 발명의 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용하여, 이하의 조건에서 3차원 형상의 워크에 성막한 바 균일하게 성막할 수가 있었다.
〈성막 조건〉
워크(형상):ABS수지(휴대전화의 케이스)
스퍼터가스:아르곤
타깃: 티탄
타깃의 배치:(1)도 1의 배치
(2)도 5의 배치
(3)도 6의 배치
(4)도 7의 배치
(5)도 8의 배치
자장: 언밸런스형
챔버내 진공도:10-3~10-4Torr
입력전력:10kW
전원방식:직류
시간:20~30분
또한, 상기에 있어서는 타깃으로서 원통형의 타깃을 이용한 동축형의 마그네트론 스퍼터링 장치에 대하여 설명했지만, 본 발명은 타깃으로서 평판형의 타깃을 이용하는 마그네트론 스퍼터링 장치, 타깃용 마그넷을 사용하지 않는 스퍼터링 장치 등에 대해서도 실시할 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
즉, 타깃으로서 평판형의 타깃을 이용하는 스퍼터링 장치의 경우에는 삼차원형상의 워크를, 평판형의 타깃의 스퍼터링을 실시하는 면내에 가지는 축과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전시키면 좋다. 또, 타깃용 마그넷을 사용하지 않는 스퍼터링 장치의 경우에는 타깃을 좌우 방향으로 회동 가능하게 설치하거나, 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심 방향이 되도록 타깃을 설치하면 좋다.
1. 동축형 마그네트론 스퍼터링 장치 2. 진공챔버
3. 타깃 4. 마그넷 수납부
5. 타깃용 마그넷 5a. 마그넷 지지봉
5b. 마그넷 5c. 마그넷
5d. 마그넷 6. 캐루셀형의 워크홀더
6a. 워크홀더 지지부 6b. 워크유지부
6c. 훅 7. 워크
8. 배기구 9. 가스 도입구
10. 플라스마용 고압전원 11. 접지어스

Claims (14)

  1. 타깃을 스퍼터링함으로써, 타깃과 대향하여 설치되며, 회전하는 캐루셀형 워크홀더에 부착된 삼차원형상의 워크에 성막하는 방법이며,
    상기 삼차원형상의 워크를 상기 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전시키며,
    또한,
    전체 스퍼터링 시간중의 적어도 일부 시간에 있어서, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향을, 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심시킨 방향으로 하는 것을 특징으로 하는 삼차원형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    더욱이, 삼차원형상의 워크의 위쪽, 아래쪽 또는 위 아래 양쪽으로부터 스퍼터링을 행하는 삼차원형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    타깃의 스퍼터링을 마그네트론 스퍼터링으로 행하는 것인 삼차원형상의 워크에의 스퍼터링 성막 방법.
  4. 진공챔버내에 타깃과 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
    상기 캐루셀형 워크홀더는 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더, 워크유지부, 또는 워크홀더와 워크유지부의 모두는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
    상기 타깃이 회전축을 가지며, 좌우방향으로 회동 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.
  5. 진공챔버내에 타깃과 상기 타깃용 마그넷과 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
    상기 캐루셀형 워크홀더는 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더, 워크유지부, 또는 워크홀더와 워크유지부의 모두는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
    상기 타깃용 마그넷이 회전축을 가지며, 좌우방향으로 회동 가능하게 설치한 것을 특징으로 하는 스퍼터링 장치.
  6. 진공챔버내에 타깃과 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
    상기 캐루셀형 워크홀더는, 삼차원형상의 워크를 부착하기 위한 것이며, 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더, 워크유지부, 또는 워크홀더와 워크유지부의 모두는 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
    상기 타깃을 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축중심 방향으로부터 편심 방향이 되도록 설치한 것을 특징으로 하는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링 장치.
  7. 진공챔버내에 타깃과 상기 타깃용 마그넷과 타깃에 대향하여 설치되며, 회전축을 가지는 캐루셀형 워크홀더를 갖춘 스퍼터링 장치이며,
    상기 캐루셀형 워크홀더는 삼차원형상의 워크를 부착하기 위한 것이며, 워크홀더 지지부와 복수의 워크유지부를 갖추며, 상기 워크유지부는 상기 워크홀더 지지부의 외주부에 설치되며, 상기 캐루셀형 워크홀더, 워크유지부, 또는 워크홀더와 워크유지부 모두의 타깃과 캐루셀형 워크홀더의 회전축을 연결하는 면에 수직인 면내에 가지는 축으로 회전 가능하게 설치된 것이며,
    상기 타깃용 마그넷을, 상기 타깃으로부터 비산하는 스퍼터 입자의 주된 비산 방향이 상기 캐루셀형 워크홀더의 회전축 중심 방향으로부터 편심 방향이 되도록 설치한 것을 특징으로 하는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링 장치.
  8. 제 4항에 있어서,
    더욱이, 타깃을 상기 캐루셀형 워크홀더의 위쪽, 아래쪽 또는 위 아래 양쪽에 설치한 것인 스퍼터링 장치 또는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링장치.
  9. 삭제
  10. 제 5항에 있어서,
    더욱이, 타깃을 상기 캐루셀형 워크홀더의 위쪽, 아래쪽, 위 아래 양쪽에 설치한 것인 스퍼터링 장치 또는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링장치.
  11. 제 6항에 있어서,
    더욱이, 타깃을 상기 캐루셀형 워크홀더의 위쪽, 아래쪽 또는 위 아래 양쪽에 설치한 것인 스퍼터링 장치 또는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링장치.
  12. 제 7항에 있어서,
    더욱이, 타깃을 상기 캐루셀형 워크홀더의 위쪽, 아래쪽 또는 위 아래 양쪽에 설치한 것인 스퍼터링 장치 또는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링장치.
  13. 제 5항 또는 제 10항에 있어서,
    타깃이 원통형이며, 타깃용 마그넷이 상기 타깃 내부에 설치된 것인 스퍼터링 장치 또는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링장치.
  14. 제 7항 또는 제 12항에 있어서,
    타깃이 원통형이며, 타깃용 마그넷이 상기 타깃 내부에 설치된 것인 스퍼터링 장치 또는 삼차원형상의 워크에의 성막용 스퍼터링장치.
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