CN209533113U

CN209533113U - 一种旋转靶基材喷砂装置

Info

Publication number: CN209533113U
Application number: CN201920176595.4U
Authority: CN
Inventors: 温艳玲; 惠知; 张春
Original assignee: Hebei Guantao Technology Co Ltd
Current assignee: Hebei Guantao Technology Co Ltd
Priority date: 2019-01-31
Filing date: 2019-01-31
Publication date: 2019-10-25
Anticipated expiration: 2029-01-31

Abstract

本实用新型涉及一种旋转靶基材喷砂装置，包括上端为开放端的喷砂箱、固定在喷砂箱侧壁上的喷枪、开在喷砂箱底面上的落砂口和设在喷砂箱内的固定装置。固定装置包括设在喷砂箱内的下支架、与下支架转动连接的下转轴、固定在下转轴上端的下顶尖、与喷砂箱连接的挡盘、与挡盘转动连接的上转轴和固定在上转轴下端的上顶尖。下支架上转动连接有下悬臂，下转轴与下悬臂转动连接。上转轴上转动连接有上悬臂，上转轴与上悬臂转动连接。挡盘上设有翻边，翻边上设有卡紧螺栓。本实用新型用于旋转靶的喷砂处理，具有体积小，操作方便和处理效率高的技术效果。

Description

一种旋转靶基材喷砂装置

技术领域

本实用新型涉及靶材表面处理的技术领域，尤其是涉及一种旋转靶基材喷砂装置。

背景技术

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线：在平面显示器产业中，各种显示技术(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步发展，有的已经用于电脑及计算机的显示器制造；在信息存储产业中，磁性存储器的存储容量不断增加，新的磁光记录材料不断推陈出新这些都对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求，需求数量也逐年增加。

靶材基材在制作完成后，需要对其表面进行喷砂，提高粗糙度，保证后续邦定工序的质量。现有的喷砂设备都是针对大批量的机械加工零件设计的，无法满足靶材喷砂的需要。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种体积小，处理效率高的旋转靶基材喷砂装置。

本实用新型的上述目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种旋转靶基材喷砂装置，包括上端为开放端的喷砂箱、固定在喷砂箱侧壁上的喷枪和开在喷砂箱底面上的落砂口；所述喷砂箱内设有固定装置；

所述固定装置包括设在喷砂箱内的下支架、与下支架转动连接的下转轴、固定在下转轴上端的下顶尖、与喷砂箱连接的挡盘、与挡盘转动连接的上转轴和固定在上转轴下端的上顶尖。

通过采用上述技术方案，对旋转靶进行喷砂时，将其下端套到下顶尖上，然后将挡盘放到喷砂箱内，上顶尖插到旋转靶的上端，将旋转靶密封在喷砂箱与挡板形成的密封腔内进行喷砂。这种结构体积小，操作方便，能够满足旋转靶小批量生产时的喷砂需要。

本实用新型进一步设置为：所述下支架上转动连接有下悬臂；所述下转轴与下悬臂转动连接；

所述上转轴上转动连接有上悬臂；所述上转轴与上悬臂转动连接。

通过采用上述技术方案，旋转靶不在喷砂箱的中心处，喷砂过程中，旋转靶能够在砂料的推动下转动，能够提高喷砂效果。

本实用新型进一步设置为：所述挡盘上设有翻边；所述翻边上设有卡紧螺栓；

所述卡紧螺栓的中心线垂直于喷砂箱的中心线。

通过采用上述技术方案，挡盘可以固定在喷砂箱内的任意位置上，可以对不同长度的旋转靶进行喷砂，使用范围更广。

本实用新型进一步设置为：所述下悬臂和上悬臂的数量相同且均围绕喷砂箱的中心线圆形阵列。

通过采用上述技术方案，本实用新型可以对多个旋转靶进行喷砂，工作效率更高。

本实用新型进一步设置为：所述喷砂箱底面的圆锥形。

通过采用上述技术方案，圆锥形的箱底方便砂料从喷砂箱内流出。

本实用新型进一步设置为：还包括自上而下穿过挡盘和上转轴的传动轴；所述传动轴的下端与下悬臂固定连接。

通过采用上述技术方案，安装时将挡盘拉起到合适的高度后能进行安装操作，而不需要将挡盘取下。

本实用新型进一步设置为：所述挡盘的底面上设有主动轮；

所述上转轴的上端设有从动轮；

所述主动轮与从动轮啮合。

通过采用上述技术方案，转动传动轴时，传动轴能够带动喷砂箱内的旋转靶围绕其轴线转动，转动过程中旋转靶同时围绕其自身的中心线转动，可以使砂料均匀的喷到旋转靶的外表面上，起到提高喷砂效果的作用。

本实用新型进一步设置为：所述主动轮与从动轮均为齿轮或者摩擦轮。

通过采用上述技术方案，本实用新型提供了主动轮与从动轮的两种类型，齿轮传动转速损失小，摩擦轮传动安装更加方便，可以根据实际的使用情况进行选择。

综上所述，本实用新型的有益技术效果为：

1.使用本实用新型进行喷砂作业时，将旋转靶放置在喷砂箱内后将挡盘装回，喷砂过程中，砂料推动旋转靶转动，可以使砂料均匀的喷在旋转靶表面，喷砂效果更好。

2.本实用新型可以同时对多根旋转靶进行喷砂作业。喷砂过程中，旋转靶在传动轴、主动轮和从动轮的带动下匀速转动，使砂料均匀的喷在旋转靶表面，处理效率更高。

附图说明

图1是本实用新型的主视图。

图2是图1中A-A向的剖面示意图。

图3是图1中B-B向的剖面示意图。

图中，11、喷砂箱；12、喷枪；13、落砂口；21、下支架；22、下转轴；23、下顶尖；24、挡盘；25、上转轴；26、上顶尖；31、下悬臂；32、上悬臂；41、翻边；42、卡紧螺栓；5、传动轴；61、主动轮；62、从动轮。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

参照图1，为本实用新型公开的一种旋转靶基材喷砂装置，其中喷砂箱11由圆柱形的桶身和圆锥形的桶底组成，桶底的中心处开有落砂口13。喷枪12固定安装在桶身上，喷嘴穿过桶身后伸入桶身内。

下支架21固定在圆锥形底面的内壁上，下悬臂31与下支架21转动连接，具体的连接方式为下支架21的上端插入到下悬臂31上的孔内，二者的连接处设有防尘轴承。下转轴22同样与下悬臂31转动连接，下悬臂31上开有孔，孔内安装有轴承，下转轴22插入到轴承的内圈里。下顶尖23固定在下转轴22的上端，能够随其一起转动。

挡盘24的直径略小于桶身的内径，其上表面的边缘上固定有翻边41，翻边41上设有多个卡紧螺栓42。拧紧卡紧螺栓42时，其螺杆能够顶到桶身的内壁上。

上转轴25固定在挡盘24底面的中心处，其上套有上悬臂32，上悬臂32能够围绕上转轴25转动，上悬臂32的一端开有孔，孔内安装有轴承，上转轴25插入到轴承内，其下端固定有上顶尖26，上顶尖26能够与上转轴25一起转动。

传动轴5自上而下顺序穿过挡盘24中心处的孔和上转轴25上的后后插入到桶身内，其下端与下悬臂31固定连接，具体的连接可以使焊接、螺栓连接和键连接等形式。

主动轮61固定在挡盘24的底面上，从动轮62固定在上转轴25的上端，主动轮61与从动轮62啮合。主动轮61的中心处开有一个孔，上转轴25位于该孔内。

参照图2和图3，上悬臂32和下悬臂31的数量为多个并分别围绕上转轴25和下转轴22圆形阵列，为了结构更加简单，多个上悬臂32和下悬臂31分别固定在两个环的外侧壁上，这两个环分别套在上转轴25和下转轴22上。主动轮61和从动轮62可以选择齿轮或者摩擦轮，齿轮传动精度高不会出现打滑，摩擦轮安装方便，具体需要根据实际的使用需求进行选择。

本实施例的实施原理为：

反向拧动翻边41上的卡紧螺栓42，将挡盘24向上拉起，接着将旋转靶基材顺序放置到每一个下顶尖23上，并将挡盘24放回原位。此时上顶尖26和下顶尖23分别插入旋转靶基材的两端，将其固定。然后将翻边41上的卡紧螺栓42拧紧。

将传动轴5位于喷砂箱11意外的部分与电机连接，连接方式可以是齿轮传动、链轮传动或者皮带传动。电机转动时，带动传动轴5转动。

传动轴5转动时，与之固定在下悬臂31开始转动。下悬臂31转动时，会通过下转轴22和下顶尖23带动旋转靶基材围绕传动轴5转动。该过程中，主动轮61不动，上转轴25上与之啮合的从动轮62会匀速转动。从动轮62转动时，会通过上转轴25和上顶尖26带动旋转靶围绕其自身的中心线匀速转动。

旋转靶在转动的过程中，砂料从喷枪12中喷出，均匀的喷到旋转靶基材的表面上。喷砂完成后，将旋转靶基材取出，取出过程与放置过程内容相同，顺序相反，此处不再赘述。

本具体实施方式的实施例均为本实用新型的较佳实施例，并非依此限制本实用新型的保护范围，故：凡依本实用新型的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本实用新型的保护范围之内。

Claims

1.一种旋转靶基材喷砂装置，包括上端为开放端的喷砂箱（11）、固定在喷砂箱（11）侧壁上的喷枪（12）和开在喷砂箱（11）底面上的落砂口（13）；其特征在于：所述喷砂箱（11）内设有固定装置；

所述固定装置包括设在喷砂箱（11）内的下支架（21）、与下支架（21）转动连接的下转轴（22）、固定在下转轴（22）上端的下顶尖（23）、与喷砂箱（11）连接的挡盘（24）、与挡盘（24）转动连接的上转轴（25）和固定在上转轴（25）下端的上顶尖（26）。

2.根据权利要求1所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：所述下支架（21）上转动连接有下悬臂（31）；所述下转轴（22）与下悬臂（31）转动连接；

所述上转轴（25）上转动连接有上悬臂（32）；所述上转轴（25）与上悬臂（32）转动连接。

3.根据权利要求1所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：所述挡盘（24）上设有翻边（41）；所述翻边（41）上设有卡紧螺栓（42）；

所述卡紧螺栓（42）的中心线垂直于喷砂箱（11）的中心线。

4.根据权利要求2所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：所述下悬臂（31）和上悬臂（32）的数量相同且均围绕喷砂箱（11）的中心线圆形阵列。

5.根据权利要求1所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：所述喷砂箱（11）底面的圆锥形。

6.根据权利要求2所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：还包括自上而下穿过挡盘（24）和上转轴（25）的传动轴（5）；所述传动轴（5）的下端固定在下悬臂（31）上。

7.根据权利要求6所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：所述挡盘（24）的底面上设有主动轮（61）；

所述上转轴（25）的上端设有从动轮（62）；

所述主动轮（61）与从动轮（62）啮合。

8.根据权利要求7所述的一种旋转靶基材喷砂装置，其特征在于：所述主动轮（61）与从动轮（62）均为齿轮或者摩擦轮。