KR101229096B1 - 마스크 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 마스크 세정장치는 세정이 수행되는 챔버, 상기 챔버 내부중 상측에 구비되는 상부 전극, 상기 챔버 내부중 하측에 구비되는 하부 전극, 상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 세정이 수행되는 마스크를 부양시켜 지지하는 마스크 핸들링부, 상기 마스크를 경계로 상기 상부 전극과 상기 마스크 사이에 상부 플라즈마가 발생하도록 상기 상부 전극에 RF 전원을 인가하는 상부 RF 전원 제공부, 상기 마스크를 경계로 상기 하부 전극과 상기 마스크 사이에 하부 플라즈마가 발생하도록 상기 하부 전극에 RF 전원을 인가하는 상부 RF 전원 제공부를 구비하는 것으로, 본 발명에 따른 마스크 세정장치는 마스크의 양면에 대하여 동시에 세정이 이루어지도록 함으로써 세정 효율이 매우 우수하고, 챔버 내부에서의 마스크 취급이 용이하다. 또한 플라즈마에 의한 식각으로 세정을 수행함으로써 세정 효율이 매우 우수하며, 세정 시간도 단축시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

마스크 세정장치{Apparatus for cleaning mask}
본 발명은 마스크 세정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유기물 증착장치에 사용된 금속 마스크를 세정하기 위한 마스크 세정장치에 관한 것이다.
유기발광표시소자는 다수의 화소 영역이 매트릭스 형태로 배열되어 구성되며, 각각의 화소 영역에는 각 화소를 구동하기 위한 구동 소자와 같은 마이크로 패턴이 형성되어 있다.
그리고 유기발광표시소자에서 빛을 발광하는 유기 발광층의 경우, 내화학성이 취약한 유기 물질로 이루어지기 때문에 종래와 같은 노광 및 식각을 이용하는 포토리소그래피 방법이 아닌 유기 물질을 기화시킨 후, 유기발광표시소자 증착용 마스크를 이용하여 선택적으로 기판에 증착한다.
그러나, 증착 과정에서 기판을 선택적으로 스크리닝(screening)하는 유기발광 표시소자 증착용 마스크의 표면에도 다량의 유기 물질이 증착되기 때문에, 일정한 공정 횟수가 지난 이후에는 유기발광표시소자 증착용 마스크를 세정하는 것이 필수적으로 요구된다. 마스크는 통상적으로 내화학성 및 내식성이 뛰어나 금속재질로 제조된다.
종래에 사용되는 마스크 세정방법은 습식 또는 건식 세정 방법이 있다. 습식 세정방법은 세정에 필요한 세정액이 매우 많이 필요하므로 유지비가 매우 많이 소요된다. 반면에 건식 세정방법은 오버 클리닝(over cleaning 또는 over etching)에 의하여 마스크가 손상되는 경우가 발생하거나, 언더 클리닝(under cleaning 또는 under etching)에 의하여 유기물에 대한 세정이 완전히 이루어지지 않는 문제가 발생한다.
본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로 본 발명의 목적은 유기물 증착에 사용된 마스크를 건식 세정하되, 세정시에 마스크에 대한 세정 상태를 모니터링 할 수 있도록 하는 마스크 세정장치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명에 따른 마스크 세정장치는 세정이 수행되는 챔버, 상기 챔버 내부중 상측에 구비되는 상부 전극, 상기 챔버 내부중 하측에 구비되는 하부 전극, 상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 세정이 수행되는 마스크를 부양시켜 지지하는 마스크 핸들링부; 상기 마스크를 경계로 상기 상부 전극과 상기 마스크 사이에 상부 플라즈마가 발생하도록 상기 상부 전극에 RF 전원을 인가하는 상부 RF 전원 제공부; 상기 마스크를 경계로 상기 하부 전극과 상기 마스크 사이에 하부 플라즈마가 발생하도록 상기 하부 전극에 RF 전원을 인가하는 하부 RF 전원 제공부를 구비한다.
상기 하부 전극에는 상기 챔버 내부로 상기 마스크가 입출하도록 상기 마스크를 지지하는 리프트핀 모듈이 구비될 수 있다.
상기 챔버 내부의 측벽중 상기 마스크 핸들링부의 상측에는 상기 마스크의 상부측으로 플라즈마 여기 가스를 제공하는 상부 가스 공급부가 구비될 수 있다.
상기 챔버 내부의 측벽중 상기 마스크 핸들링부의 하측에는 상기 마스크의 하부측으로 플라즈마 여기 가스를 제공하는 하부 가스 공급부가 구비될 수 있다.
상기 마스크 핸들링부는 상기 챔버 내부의 일측면에서 전진하여 상기 마스크의 일단을 받쳐 지지하는 제 1마스크 핸들링부와 상기 챔버 내부의 타측면에서 전진하여 상기 마스트의 타단을 받쳐 지지하는 이동하는 제 2마스크 핸들링부를 구비할 수 있다.
상기 제 1마스크 핸들링부와 상기 제 2마스크 핸들링부 각각은 복수개의 엔드 이펙트와 상기 복수개의 엔드 이펙트를 전후진 시키는 구동부를 구비할 수 있다.
상기 제 1마스크 핸들링부의 상기 엔드 이펙터에는 상기 엔드 이펙트의 끝단에서 노출되어 상기 마스크 표면과 접촉하는 프로브가 구비되고, 상기 프로브와 접속되며 상기 챔버 외부에 구비되는 표면저항측정기를 구비할 수 있다.
상기 상부 전극에 접속되어 상기 마스크의 상부측에서 발생하는 아크를 측정하는 상부 아크 발생 측정기를 구비할 수 있다.
상기 하부 전극에 접속되어 상기 마스크의 하부측에서 발생하는 아크를 측정하는 하부 아크 발생 측정기를 구비할 수 있다.
상기 챔버의 상부에는 상기 챔버 내부를 관찰하기 위한 뷰포트가 구비될 수 있다.
본 발명에 따른 마스크 세정장치는 마스크의 양면에 대하여 동시에 세정이 이루어지도록 함으로써 세정 효율이 매우 우수하고, 챔버 내부에서의 마스크 취급이 용이하다. 또한 플라즈마에 의한 식각으로 세정을 수행함으로써 세정 효율이 매우 우수하며, 세정 시간도 단축시킬 수 있는 효과가 있다.
이상과 같은 본 발명의 기술적 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치에 구비되는 마스크 핸들링부를 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 핸들링부의 암의 단부를 도시한 단면도이다.
도 4, 도 5 그리고 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 이하에서 개시되는 실시예에서는 마스크 세정장치를 실시예로 하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치를 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이 마스크 세정장치는 세정이 수행되는 챔버(100)를 구비한다. 챔버(100) 상부에는 챔버(100) 내부에서 세정되는 마스크(500)를 관찰하기 위한 뷰포트(110)(view port)가 구비된다. 뷰포트(110)는 복수개로 구비될 수 있으며, 뷰포트(110)에는 카메라가 설치될 수 있다. 그리고 챔버(100) 하부에는 챔버(100) 내부를 진공 펌핑하기 위한 복수개의 배출구(120)가 형성된다. 이 배출구(120)에는 진공펌프가 연결된다.
챔버(100) 내부의 상측에는 상부 전극(130)이 구비된다. 상부 전극(130)에는 상부 RF 전원 공급부(200)가 연결된다. 이 상부 RF 전원 공급부(200)는 10Kw 전력의 13.56 Mhz의 고주파를 상부 전극(130)에 인가한다.
또한 챔버(100) 내부의 하측에는 하부 전극(140)이 구비된다. 이 하부 전극(140)은 열 용사 전극(thermal spray electrode)으로 구비될 수 있다. 이러한 하부 전극(140)에는 하부 RF 전원 공급부(300)가 연결된다. 하부 RF 전원 공급부(300)는 10Kw 전력의 13.56 Mhz와 10Kw의 3.39Mhz의 고주파를 하부 전극(140)에 듀얼로 인가한다. 따라서 하부 RF 전원 공급부(300)과 하부 전극(140)은 ECCP(Enhanced Capacitively Coupled Plasma)로 구현된다.
챔버(100)의 외측 하부에는 리프트 핀 모듈(400)이 구비된다. 리프트 핀 모듈(400)의 리프트(410)는 챔버(100)의 하부와 하부 전극(140)을 각각 관통하도록 설치된다. 그리고 챔버(100) 벽체와 리프트 핀(410) 사이에는 벨로우즈(미도시)가 구비될 수 있다.
한편, 챔버(100)의 중간 부분에는 챔버(100) 내부의 중간부분으로 진출입하여 마스크(500)를 상부 전극(130)과 하부 전극(140) 사이에 부양시켜 위치시키는 마스크 핸들링부(150)(160)가 구비된다.
이 마스크 핸들링부(150)(160)는 챔버(100) 내부의 일측면에서 전진하여 마스크(500)의 일단을 받쳐 지지하는 제 1마스크 핸들링부(150)와 챔버(100) 내부의 타측면에서 전진하여 마스크(500)의 타단을 받쳐 지지하도록 이동하는 제 2마스크 핸들링부(160)를 구비한다. 이러한 마스크 핸들링부(150)(160)는 2개 이상이 챔버(100)에 설치될 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치에 구비되는 마스크 핸들링부를 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 핸들링부의 엔드 이펙트의 단부를 도시한 단면도이다.
도 2와 도 3에 도시된 바와 같이 각각의 마스크 핸들링부(150)(160)는 복수개의 엔드 이펙트(151)와 이 복수개의 엔드 이펙트(151)를 전후진 시키는 구동부(152)를 구비한다. 구동부(152)는 선형 구동하도록 된 모터 또는 선형 구동하는 리니어 액츄에이터로 실시될 수 있다.
또한, 제 1마스크 핸들링부(150)의 엔드 이펙터(151)에는 엔드 이펙트(151)의 끝단 상부 표면측으로 노출되어 마스크(500)의 끝단과 접촉하는 2개의 프로브(171)가 노출되어 설치된다. 그리고 프로브(171)는 엔드 이펙트(151)의 내부를 거쳐서 외부로 연장된 접속선(172)에 접속되어 있다. 이 접속선(172)는 챔버(100)의 외부에 설치되어 마스크(500)의 표면 저항을 측정하는 표면 저항 측정기(Surface resistance tester; 170)와 연결되어 있다.
이 표면 저항 측정기(170)는 마스크(500)에 대한 전기적 특성 검사를 통하여 마스크(500)의 세정 정도를 측정하기 위한 것이다. 즉 마스크(500)에 전압을 인가하여, 인가된 전압에 대하여 마스크(500)를 거쳐서 수신되는 전압의 크기를 측정하여 마스크(500)의 표면 저항을 측정한다.
따라서 세정 전 마스크(500)에서는 표면 저항이 매우 크고, 세정이 이루어지는 동안 마스크(500)의 표면 저항은 점차적으로 작아진다. 이에 따라 설정된 저항값 이하로 표면 저항이 측정되면 마스크(500)의 세정이 완료되었다고 판단할 수 있다.
그리고 챔버(100) 내부의 측벽중 마스크 핸들링부(150)(160)가 위치하는 부분의 상측에는 마스크(500)의 상부측으로 플라즈마 여기 가스를 제공하는 상부 가스 공급부(181)가 구비되고, 챔버(100) 내부의 측벽중 마스크 핸들링부(150)(160)의 하측에는 마스크(500)의 하부측으로 플라즈마 여기 가스를 제공하는 하부 가스 공급부(182)가 구비된다.
또한, 챔버(100) 외부에는 상부 전극(130)에 접속되어 마스크(500)의 상부측에서 발생하는 아크를 측정하는 상부 아크 발생 측정기(192)가 구비되고, 하부 전극(140)에 접속되어 마스크(500)의 하부측에서 발생하는 아크를 측정하는 하부 아크 발생 측정기가 구비된다.
이 각각의 아크 발생 측정기(191)(192)는 상부 전극(130)과 하부 전극(140))에 각각 연결되어 있다. 그리고 아크 발생 측정기(191)(912)는 각각이 전극(130)(140)에 인가되는 전압을 감지하기 위한 전압 감지부와, 전압 감지부로부터 출력되는 신호를 입력받아 그 입력되는 값의 변화로부터 아크 발생수 및 그 크기를 측정하는 제어부를 구비할 수 있다. 그리고 필요한 경우 아크 발생 측정기(191)(192)는 정격전압에 맞게 전압을 강하시키도록 하는 전압 강하부를 포함할 수 있다.
이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치의 작용상태에 대하여 설명한다.
도 4, 도 5 그리고 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치에서 마스크(500) 세정을 위하여 도 1에 도시된 바와 같이 챔버(100)의 게이트(101)를 통하여 로봇암(520)에 의하여 세정을 위한 마스크(500)가 챔버(100) 내부로 반입된다.
이때 마스크(500)의 테두리에는 마스크(500)를 지지하기 위한 지지 프레임(510)이 설치될 수 있다. 마스크(500)가 챔버(100) 내부로 반입되면 도 4에 도시된 바와 같이 리프트 핀(410)이 상승하여 마스크(500)를 지지한다. 이후 도 5에 도시된 바와 같이 리프트 핀(410)은 마스크(500)가 상부 가스 공급부(181)의 돌출된 하측에 인접하도록 상승시킨다.
그리고 마스크(500)가 상승한 후 각각의 마스크 핸들링부(150)(160)의 엔드 이펙터(151)는 전진하여 마스크(500)를 지지하는 지지프레임(510) 하부를 받쳐서 지지한다. 그리고 마스크(500)가 마스크 핸들링부(150)(160)의 엔드 이펙트(151)에 의하여 지지되면 리프트 핀(410)은 하부 전극(140) 하측으로 복귀한다.
한편, 제 1마스크 핸들링부(150)의 엔드 이펙트(151)에 설치된 프로브(171)는 마스크(500)를 지지하는 지지프레임(510)이 설치된 경우 지지프레임(510)에 접촉한다. 이 지지프레임(510)에는 유기물이 증착되어 있지 않을 수 있다. 그리고 지지프레임(510)이 설치되지 않은 경우에 프로브(171)는 마스크(500)와 직접 접촉할 수 있다.
이후 상부 전극(130)과 하부 전극(140)에 RF 전원이 각각 인가된다. 상부 전극(130)과 하부 전극(140)에 RF 전원이 각각 인가되면 마스크(500)의 상부면과 상부 전극(130) 사이에는 제 1플라즈마가 발생하고, 마스크(500)의 하부면과 하부 전극(140) 사이에는 제 2플라즈마가 발생한다. 따라서 제 1플라즈마에 의하여 마스크(500)의 상부면이 건식 세정되고, 제 2플라즈마에 의하여 마스크(500)의 하부면이 건식 세정된다.
한편, 세정이 소정시간동안 수행되면 유기물이 식각됨에 따라 마스크(500)의 표면이 세정으로 노출되기 시작한다. 이때 마스크(500)를 지속적으로 건식 세정상태에 놓아두면 오버 에칭이 발생하여 마스크(500)가 손상될 수 있다. 이때의 세정 상태의 확인은 뷰포트(110)를 통한 카메라로 육안 식별하여 구분할 수 있으나, 이에 의한 세정 완료 여부의 식별은 신뢰성이 떨어진다.
따라서 본 발명의 실시예에서는 상부 전극(130)과 하부 전극(140)에 각각 연결된 상부 아크 발생 측정기(191)와 하부 아크 발생 측정기(192)를 이용하여 마스크(500)의 상부면과 하부면 각각에 대한 세정 정도를 측정한다.
즉, 플라즈마에 의한 건식 세정으로 마스크(500)의 표면이 노출되면 마스크(500)의 표면과 상부 전극(130) 사이에는 플라즈마에 의한 아크가 발생한다. 따라서 이 아크 발생 정도를 측정하여, 설정된 값 이상의 전압을 감지하면 세정이 완료되었다고 판단할 수 있다.
그리고 세정이 상부면 또는 하부면 어느 한쪽에서 완료되면, 선택적으로 상부 전극(130) 또는 하부 전극(140)에 인가되는 RF 전원을 차단하여 세정을 종료시킬 수 있다.
한편, 아크 발생 측정기(191)(192)외에 본 발명의 실시예서는 마스크(500) 또는 지지프레임(510)의 표면과 접촉한 프로브(171)과 이 프로브(171)과 연렬되어 마스크(500)의 표면 저항을 측정하는 표면 저항 측정기(170)를 구비하고 있다.
따라서 필요한 경우 이 표면 저항 측정기(170)를 이용하여 마스크(500) 표면에서의 저항을 측정함으로써 세정 정도를 측정할 수 있다. 즉 마스크(500)에 대한 세정이 이루어짐에 따라 마스크(500)의 표면 노출이 이루어지고, 이 표면 노출에 의하여 마스크(500)에서의 저항이 작아지게 된다. 따라서 저항이 설정값 이하로 작이지면 세정이 완료된 것으로 판단할 수 있다.
그리고 각각의 아크 발생 측정기(191)(192)와 표면 저항 측정기(170)를 동시에 연동하여 세정 정도를 판단할 수 있다. 즉 아크 발생 측정기(191)(192)는 마스크(500)의 노출 외에 비정상적인 플라즈마의 여기로 아크가 챔버(100) 내부에서 발생하는 경우 이때에는 아크 발생을 감지한다. 하지만 이러한 경우 표면 저항 측정기(170)에서의 표면 저항은 변화가 없을 수 있다.
따라서 제어부에서는 아크 발생 정도에 대한 측정값과 표면 저항 측정기(170)의 측정값을 동시에 측정하여 이 두 측정값이 모두 설정값으로 측정되면 세정이 완료된 것으로 판단하도록 할 수 있다.
한편, 세정이 끝난 마스크(500)의 표면에 유기물이 일부 남아 있는 경우에 습식 세정 등의 방법으로 후처리 세정을 수행하도록 한 후 다시 유기물 증착에 사용될 수 있다.
이와 같은 본 발명의 실시예에 따른 마스크 세정장치는 마스크(500)의 양면에 대하여 동시에 세정이 이루어지도록 함으로써 세정 효율이 매우 우수하고, 챔버(100) 내부에서의 마스크(500) 취급이 용이하다. 또한 플라즈마에 의한 식각으로 세정을 수행함으로써 세정 효율이 매우 우수하며, 세정 시간도 단축시킬 수 있다.
상기한 바와 같은, 본 발명의 실시예들에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 세정이 수행되는 챔버;
    상기 챔버 내부중 상측에 구비되는 상부 전극;
    상기 챔버 내부중 하측에 구비되는 하부 전극;
    상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 세정이 수행되는 마스크를 부양시켜 지지하는 마스크 핸들링부;
    상기 마스크를 경계로 상기 상부 전극과 상기 마스크 사이에 상부 플라즈마가 발생하도록 상기 상부 전극에 RF 전원을 인가하는 상부 RF 전원 제공부;
    상기 마스크를 경계로 상기 하부 전극과 상기 마스크 사이에 하부 플라즈마가 발생하도록 상기 하부 전극에 RF 전원을 인가하는 하부 RF 전원 제공부를 구비하고,
    상기 마스크 핸들링부는 상기 챔버 내부의 일측면에서 전진하여 상기 마스크의 일단을 받쳐 지지하는 제 1마스크 핸들링부와 상기 챔버 내부의 타측면에서 전진하여 상기 마스크의 타단을 받쳐 지지하는 이동하는 제 2마스크 핸들링부를 구비하는 마스크 세정장치.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 제 1마스크 핸들링부와 상기 제 2마스크 핸들링부 각각은 복수개의 엔드 이펙트와 상기 복수개의 엔드 이펙트를 전후진 시키는 구동부를 구비하는 마스크 세정장치.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 제 1마스크 핸들링부의 상기 엔드 이펙터에는 상기 엔드 이펙트의 끝단에서 노출되어 상기 마스크 표면과 접촉하는 프로브가 구비되고, 상기 프로브와 접속되며 상기 챔버 외부에 구비되는 표면저항측정기를 구비하는 마스크 세정장치.
  4. 세정이 수행되는 챔버;
    상기 챔버 내부중 상측에 구비되는 상부 전극;
    상기 챔버 내부중 하측에 구비되는 하부 전극;
    상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 세정이 수행되는 마스크를 부양시켜 지지하는 마스크 핸들링부;
    상기 마스크를 경계로 상기 상부 전극과 상기 마스크 사이에 상부 플라즈마가 발생하도록 상기 상부 전극에 RF 전원을 인가하는 상부 RF 전원 제공부;
    상기 마스크를 경계로 상기 하부 전극과 상기 마스크 사이에 하부 플라즈마가 발생하도록 상기 하부 전극에 RF 전원을 인가하는 하부 RF 전원 제공부를 구비하고,
    상기 상부 전극에 접속되어 상기 마스크의 상부측에서 발생하는 아크를 측정하는 상부 아크 발생 측정기를 구비하는 마스크 세정장치.
  5. 세정이 수행되는 챔버;
    상기 챔버 내부중 상측에 구비되는 상부 전극;
    상기 챔버 내부중 하측에 구비되는 하부 전극;
    상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 세정이 수행되는 마스크를 부양시켜 지지하는 마스크 핸들링부;
    상기 마스크를 경계로 상기 상부 전극과 상기 마스크 사이에 상부 플라즈마가 발생하도록 상기 상부 전극에 RF 전원을 인가하는 상부 RF 전원 제공부;
    상기 마스크를 경계로 상기 하부 전극과 상기 마스크 사이에 하부 플라즈마가 발생하도록 상기 하부 전극에 RF 전원을 인가하는 하부 RF 전원 제공부를 구비하고,
    상기 하부 전극에 접속되어 상기 마스크의 하부측에서 발생하는 아크를 측정하는 하부 아크 발생 측정기를 구비하는 마스크 세정장치.
  6. 제 1항, 제 4항, 제 5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 하부 전극에는 상기 챔버 내부로 상기 마스크가 입출하도록 상기 마스크를 지지하는 리프트핀 모듈이 구비되는 마스크 세정장치.
  7. 제 1항, 제 4항, 제 5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 챔버 내부의 측벽중 상기 마스크 핸들링부의 상측에는 상기 마스크의 상부측으로 플라즈마 여기 가스를 제공하는 상부 가스 공급부가 구비되는 마스크 세정장치.
  8. 제 1항, 제 4항, 제 5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 챔버 내부의 측벽중 상기 마스크 핸들링부의 하측에는 상기 마스크의 하부측으로 플라즈마 여기 가스를 제공하는 하부 가스 공급부가 구비되는 마스크 세정장치.
  9. 제 1항, 제 4항, 제 5항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 챔버의 상부에는 상기 챔버 내부를 관찰하기 위한 뷰포트가 구비되는 마스크 세정장치.
  10. 삭제
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