KR101195100B1 - 투명한 소자가 결합된 디스플레이 기기 및 그 제조 방법 - Google Patents

투명한 소자가 결합된 디스플레이 기기 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101195100B1
KR101195100B1 KR1020050088121A KR20050088121A KR101195100B1 KR 101195100 B1 KR101195100 B1 KR 101195100B1 KR 1020050088121 A KR1020050088121 A KR 1020050088121A KR 20050088121 A KR20050088121 A KR 20050088121A KR 101195100 B1 KR101195100 B1 KR 101195100B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent
interference modulator
array
substrate
electrical device
Prior art date
Application number
KR1020050088121A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060092893A (ko
Inventor
클라렌스 추이
Original Assignee
퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크. filed Critical 퀄컴 엠이엠에스 테크놀로지스, 인크.
Publication of KR20060092893A publication Critical patent/KR20060092893A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101195100B1 publication Critical patent/KR101195100B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/001—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on interference in an adjustable optical cavity

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

　　디스플레이 패널은 투명 기판 위에 배치된 간섭 변조기 어레이, 및 간섭 변조기 어레이와 투명 기판 사이에 배치된 투명한 전기 기기를 포함한다. 투명한 전기 기기는 간섭 변조기 어레이 또는 디스플레이 패널의 다른 부분에 전기적으로 연결될 수 있다. 투명한 전기 기기의 적합한 예로는 커패시터, 저항, 인덕터 및 필터가 포함된다. 이러한 투명한 전기 기기를 사용함으로써, 전기 기기가 관찰 영역을 포함하여 어레이의 여러 부분에 포함될 수 있게 함으로써, 향상된 설계 유연성과 같은 여러 가지 이점을 제공할 수 있다.
투명 기판, 간섭 변조기 어레이, 투명한 소자, 투명한 전기 기기, 디스플레이 기기, 미소 기전 시스템(MEMS)

Description

　　투명한 소자가 결합된 디스플레이 기기 및 그 제조 방법{METHOD AND DEVICE FOR A DISPLAY HAVING TRANSPARENT COMPONENTS INTEGRATED THEREIN}
　　도 1은, 제1 간섭 변조기의 이동가능한 반사층이 해방 위치에 있고, 제2 간섭 변조기의 이동가능한 반사층은 작동 위치에 있는, 간섭 변조기 디스플레이의 일실시예의 일부를 도시한 등각투영도이다.
　　도 2는 3x3 간섭 변조기 디스플레이를 포함하는 전자 기기의 일실시예를 나타낸 시스템 블록도이다.
　　도 3a는, 도 1의 간섭 변조기의 일실시예에서, 인가된 전압에 대응한 이동가능한 미러의 위치를 나타낸 도면이다.
　　도 3b는, 간섭 변조기 디스플레이를 구동하기 위해 이용될 수 있는 한 세트의 수평열 및 수직열 전압을 나타낸 것이다.
　　도 4a는, 도 2의 3X3 간섭 변조기 디스플레이에서 디스플레이 데이터의 하나의 예시적인 프레임을 나타낸 것이다.
　　도 4b는 도 4a의 프레임을 기록하기 위해 사용될 수 있는 수평열 및 수직열 신호에 대한 타이밍도의 일례를 나타낸 것이다.
　　도 5a및 도 5b는 디스플레이 기기의 일실시예를 예시한 시스템 블록도이다.
　　도 6a는 도 1에 도시한 기기의 단면도이다.
　　도 6b는 간섭 변조기의 다른 실시예의 단면도이다.
　　도 6c는 간섭 변조기의 또 다른 실시예의 단면도이다.
　　도 7은 필터 회로가 수평열 전극과 수평열 구동 회로 사이에 배치된 실시예를 나타낸 것이다.
　　도 8a는 투명한 커패시터(815)를 포함하는 디스플레이 패널의 실시예를 나타낸 개략적인 단면도이다.
　　도 8b는 투명한 필터(325)를 포함하는 디스플레이 패널의 실시예를 나타낸 개략적인 단면도이다.
　　도 9는 인턱터의 실시예를 설명하는 개략적인 사시도이다.
　　도 10은 디스플레이 기기를 제조하는 방법의 소정 단계들을 나타낸 공정 흐름도이다.
　　본 발명의 기술분야는 미소 기전 시스템(MEMS: Micro Electro-Mechanical Systems)에 관련된다.
　　미소 기전 시스템(MEMS)은 미소 기계 소자, 액추에이터, 및 전자 기기를 포함한다. 미소 기계 소자는 침적(deposition), 에칭, 및/또는, 그 밖의 기판 및/또는 침적된 재료 층의 일부를 에칭으로 제거하거나 전기 기기 및 기전 기기를 만들기 위해 층을 부가하는 기타 미소 기계 가공 공정을 이용하여 제조될 수 있다. 미소 기전 시스템 기기의 한 형태로서 간섭 변조기(interferometric modulator)가 있다. 여기에서 사용되는 간섭 변조기 또는 간섭 광 변조기라는 용어는 광학 간섭의 원리를 이용하여 선택적으로 광을 흡수하거나 및/또는 반사하는 기기를 말한다. 어떤 실시예에서, 간섭 변조기는 한 쌍의 도전 플레이트(plate)를 포함할 수 있고, 이들 중 하나 또는 양자 모두는 전체적으로 또는 부분적으로 투명하거나 및/또는 반사성을 가지고 있을 수 있고, 적절한 전기 신호가 인가되면 상대적으로 이동할 수 있다. 특정 실시예에서, 하나의 플레이트는 기판 위에 배치된 고정층을 포함할 수 있고, 다른 하나의 플레이트는 에어갭(air gap)에 의하여 상기 고정층과 분리된 금속막을 포함할 수 있다. 여기에 더 자세하게 개시된 바와 같이, 하나의 플레이트의 다른 하나의 플레이트에 대한 위치는 간섭 변조기에 입사된 광의 광학 간섭을 변화시킬 수 있다. 이러한 기기는 그 응용분야가 넓고, 이러한 형태의 기기의 특성을 활용 및/또는 개조하여, 그 특성이 기존의 제품을 개선하고 아직까지 개발되지 않은 새로운 제품을 창출하는 데에 이용될 수 있도록 하는 것은 해당 기술분야에서 매우 유익할 것이다.
　　본 발명은 투명 기판과 간섭 변조기 어레이의 사이에 투명한 전기 기기를 배치한 디스플레이 기기 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
　　여기에 개시된 시스템, 방법 및 기기는 각각 여러 가지 실시태양을 가지고 있고, 그들 중 하나가 단독으로 모든 바람직한 특성을 나타내는 것은 아니다. 이하 에서 본 발명의 주요 특징을 설명하겠지만, 이것이 본 발명의 권리범위를 제한하는 것은 아니다. 이러한 점을 고려하여, "발명의 상세한 설명"을 읽고 나면, 여기에 개시된 여러 가지 실시예가 어떻게 다른 방법과 디스플레이 기기에 비해 장점들을 제공하는지를 이해하게 될 것이다.
　　일실시예는 투명 기판 위에 배치된 간섭 변조기 어레이와, 상기 간섭 변조기 어레이와 상기 투명 기판 사이에 배치된 투명한 전기 기기를 포함하는 디스플레이 패널을 제공하고, 상기 투명한 전기 기기는 상기 간섭 변조기 어레이에 전기적으로 연결되어 있다.
　　또 다른 실시예는 어레이 영역을 포함하는 기판, 상기 어레이 영역 내에서 상기 기판에 부착된 간섭 변조기, 및 상기 어레이 영역 내에서 상기 기판에 부착된 투명한 수동 전자 소자를 포함하는 디스플레이 기기를 제공한다.
　　또 다른 실시예는 디스플레이 기기를 제조하는 방법을 제공한다. 이 방법은 기판 위에 투명한 전기 기기를 형성하는 단계, 상기 투명한 전기 기기 위에 절연층을 침적하는 단계, 상기 절연층 위에 간섭 변조기를 형성하는 단계, 및 상기 투명한 전기 기기와 상기 간섭 변조기 사이에 전기적 연결을 형성하는 단계를 포함한다.
　　또 다른 실시예는 디스플레이 기기를 제공한다. 이 디스플레이 기기는, 광을 간섭 변조하는 변조 수단, 상기 변조 수단을 지지하는 지지 수단, 상기 변조 수단과 상기 지지 수단 사이에 배치된 도전 수단을 포함하고, 상기 변조 수단은 상기 지지 수단 위에 배치되고, 상기 도전 수단은 실질적으로 투명하며, 상기 변조 수단 은 상기 도전 수단에 전기적으로 연결되어 있다.
　　이하에서, 이들 및 다른 실시예들을 보다 상세하게 설명하겠다.
　　
　　이하에서, 본 발명의 여러 가지 실시태양이 바람직한 실시예의 도면을 참조하여 설명되겠지만, 이는 설명을 위한 것이고 본 발명을 한정하기 위해 의도한 것이 아니다.
　　이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예에 관해 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여러 가지 다른 방법으로 구현될 수 있다. 이하의 설명에서, 도면이 참조되는데, 전체 도면에 걸쳐 동일한 부분에 대해 동일한 번호가 사용된다. 이하의 설명으로부터 명백한 바와 같이, 본 발명은 이미지를 디스플레이하도록 구성된 것이라면, 그 이미지가 동화상(예컨데, 비디오)이든 정지화상(예컨데, 스틸 이미지)이든, 그리고 텍스트이든 그림이든, 어떠한 기기에도 구현될 수 있다. 보다 상세하게는, 본 발명은, 한정되지는 않지만, 예컨대, 이동전화기, 무선 기기, 개인 휴대용 정보 단말기(PDA), 손에 들고 다니거나 휴대할 수 있는 컴퓨터, GPS 수신기/네비게이터, 카메라, MP3 플레이어, 캠코더, 게임 콘솔, 손목 시계, 시계, 계산기, 텔레비전 모니터, 평판 디스플레이, 컴퓨터 모니터, 자동차 디스플레이(예컨대, 주행 거리계 디스플레이), 조종석 제어 장치 및/또는 디스플레이, 감시 카메라의 디스플레이(예컨대, 자동차에서의 후방 감시 카메라의 디스플레이), 전자 사진 액자, 전자 게시판 또는 전자 표시기, 프로젝터, 건축 구조물, 포장물, 및 미적 구조물(예컨대, 보석 상의 이미지 디스플레이) 등과 같은 다양한 전자 기기와 결합되어 구 현될 수 있다. 또한, 여기에 개시된 미소 기전 시스템 기기와 유사한 구조의 기기를 전자 스위칭 기기와 같은 비(非)디스플레이 분야에 이용할 수도 있다.
　　일실시예는 기판과 간섭 변조기 어레이 사이에 투명한 전기 기기가 배치된 디스플레이 패널을 제공한다. 투명한 전기기기의 적합한 예로서는 커패시터, 저항, 인덕터 및 필터가 포함된다. 그러한 투명한 전기 기기의 이용은, 전기 기기가 관찰 영역(viewing region)을 포함하여 어레이의 여러 부분들에 포함될 수 있도록 함으로써, 향상된 설계 유연성과 같은 여러 가지 이점들을 제공할 수 있다.
　　간섭계 미소 기전 시스템 디스플레이 소자를 포함한 간섭 변조기 디스플레이의 일실시예가 도 1에 도시되어 있다. 이러한 기기에서, 픽셀은 밝은 상태 또는 어두운 상태 중 하나의 상태에 있다. 밝은 상태("온 상태" 또는 "개방 상태")에서는, 디스플레이 소자가 입사되는 가시광의 대부분을 사용자에게 반사한다. 어두운 상태("오프 상태" 또는 "패쇄 상태")에서는, 디스플레이 소자가 입사되는 가시광을 사용자에게 거의 반사하지 않는다. 실시예에 따라서는, "온 상태"와 "오프 상태"의 광 반사 특성이 반대로 바뀔 수도 있다. 미소 기전 시스템 픽셀은 선택된 컬러를 두드러지게 반사하여 흑백뿐 아니라 컬러 디스플레이도 가능하도록 구성될 수 있다.
　　도 1은 영상 디스플레이의 일련의 픽셀들 중 인접하는 두 개의 픽셀을 나타낸 등각투영도다. 여기서, 각 픽셀은 미소 기전 시스템의 간섭 변조기를 포함한다. 일부 실시예에서는, 간섭 변조기 디스플레이가 이들 간섭 변조기들의 수평열/수직열 어레이를 포함한다. 각각의 간섭 변조기는, 적어도 하나의 치수가 가변적인 공 진 광학 캐비티를 형성하도록 서로 가변적이고 제어 가능한 거리를 두고 위치한 한 쌍의 반사층을 포함한다. 일실시예에서, 이 반사층들 중 하나가 두 개의 위치 사이를 이동할 수 있다. 여기에서 해방 상태라고 부르는 제1 위치에서, 이동가능한 층은 부분적으로 반사하는 고정된 층으로부터 상대적으로 먼 거리에 위치한다. 제2 위치에서, 이동가능한 층은 부분적으로 반사하는 층에 보다 가까이 인접하여 위치한다. 두 개의 층으로부터 반사되는 입사광은 이동가능한 반사층의 위치에 따라 보강적으로 또는 상쇄적으로 간섭하여, 각 픽셀을 전체적으로 반사 상태 또는 비반사 상태로 만든다.
　　도 1의 픽셀 어레이에서 도시된 부분은 두 개의 인접한 간섭 변조기(12a, 12b)를 포함한다. 좌측에 있는 간섭 변조기(12a)에서는, 이동가능하고 반사성이 높은 층(14a)이 부분적으로 반사하는 고정된 층(16a)으로부터 미리 계산된 거리만큼 떨어진 해방 위치에 있는 것이 나타나 있다. 우측에 있는 간섭 변조기(12b)에서는, 이동가능하고 반사성이 높은 층(14b)이 부분적으로 반사하는 고정된 층(16b)에 인접한 작동 위치에 있는 것이 나타나 있다.
　　고정된 층(16a, 16b)은 전기적으로 도전성을 가지고 있고, 부분적으로 투명하며, 부분적으로 반사성을 가지고 있고, 예컨대 투명 기판(20) 상에 각각 크롬과 인듐주석산화물로 된 하나 이상의 층을 침적시킴으로써 제조될 수 있다. 이들 층을 병렬 스트립으로 패터닝하여, 이하에 개시되는 바와 같이, 디스플레이 기기의 수평열 전극을 형성할 수 있다. 이동가능한 층(14a, 14b)은, 포스트(18)와 이 포스트들 사이에 배치되어 개재된 희생 재료의 표면에 침적된 금속층(들)으로 된 일련의 (수평열 전극(16a, 16b)에 수직하는) 병렬 스트립으로 형성될 수 있다. 희생 재료를 에칭하여 제거하면, 변형가능한 금속층(14a, 14b)이 에어갭(19)에 의해 고정된 금속층으로부터 이격된다. 변형가능한 층은 알루미늄과 같이 도전성 및 반사성이 높은 재료를 이용하여 형성할 수 있고, 이러한 스트립들은 디스플레이 기기의 수직열 전극을 형성할 수 있다.
　　전압이 인가되지 않으면, 층(14a)과 층(16a) 사이에 캐비티(19)가 그대로 존재하게 되어, 변형가능한 층이 도 1의 픽셀(12a)에 나타난 바와 같이 기계적으로 해방된 상태에 있게 된다. 그러나, 선택된 열과 행에 전위차가 인가될 때에, 해당하는 픽셀에서 수평열 전극과 수직열 전극이 교차하는 지점에 형성된 커패시터가 충전되어, 정전기력이 이들 전극을 서로 당기게 된다. 만일 전압이 충분히 높다면, 이동가능한 층이 변형되고, 도 1에서 우측에 나타난 픽셀(12b)과 같이, 고정된 층에 대해 힘을 받게 된다(도 1에는 나타나지는 않았지만, 단락을 방지하고 이격 거리를 제어하기 위해 고정된 층 위에 유전 재료를 침적시킬 수 있다). 이러한 작용은 인가된 전위차의 극성에 관계없이 동일하다. 이러한 방식으로, 반사와 비반사의 픽셀 상태를 제어할 수 있는 수평열/수직열 구동은 종래의 액정 디스플레이 및 다른 디스플레이 기술에서 이용되던 방식과 여러 가지 면에서 유사하다.
　　도 2내지 도 4b는 디스플레이 응용분야에서 간섭 변조기 어레이를 이용하기 위한 방법 및 시스템의 일례를 보여준다.
　　도 2는 본 발명의 여러 가지 실시태양을 포함할 수 있는 전자 기기의 일실시예를 나타낸 시스템 블록도이다. 본 실시예에서는, 전자 기기가 프로세서(21)를 포 함한다. 이 프로세서(21)는 ARM, Pentium®, Pentium II®, Pentium III®, Pentium IV®, Pentium® Pro, 8051, MIPS®, Power PC®, ALPHA® 등과 같은 범용의 단일칩 또는 멀티칩 마이크로프로세서나, 또는 디지털 신호 처리기, 마이크로컨트롤러, 프로그래머블 게이트 어레이 등과 같은 특정 목적의 마이크로프로세서일 수 있다. 해당 기술분야에서 알려진 바와 같이, 프로세서(21)는 하나 이상의 소프트웨어 모듈을 실행하도록 구성될 수 있다. 오퍼레이팅 시스템을 실행하는 것 외에도, 프로세서는 웹 브라우저, 전화 응용프로그램, 이메일 프로그램, 또는 임의의 다른 소프트웨어 응용프로그램을 포함한 하나 이상의 소프트웨어 응용프로그램을 실행하도록 구성될 수 있다.
　　일실시예에서, 프로세서(21)는 또한 어레이 컨트롤러(22)와 통신하도록 구성된다. 일실시예에서, 어레이 컨트롤러(22)는 디스플레이 어레이 또는 패널(30)에 신호를 제공하는 수평열 구동 회로(24) 및 수직열 구동 회로(26)를 포함한다. 도 2에서 1-1의 선을 따라 절단한 어레이의 단면도가 도 1에 도시되어 있다. 미소 기전 시스템의 간섭 변조기에 대한 수평열/수직열 구동 프로토콜은 도 3a에 나타난 이 기기의 히스테리시스 특성을 이용할 수 있다. 이동가능한 층을 해방 상태에서 작동 상태로 변형시키기 위해, 예컨대, 10볼트의 전위차가 요구될 수 있다. 그러나, 전압이 그 값으로부터 감소할 때, 전압이 10볼트 이하로 다시 떨어지더라도 이동가능한 층은 그 상태를 유지한다. 도 3a의 실시예에서, 이동가능한 층은 전압이 2볼트 이하로 떨어질 때까지는 완전히 해방되지 않는다. 따라서, 기기가 해방 상 태 또는 작동 상태 중 어느 하나의 상태로 안정되는 인가 전압 영역이 존재하는 전압의 범위가 있다. 도 3a에서는 전압의 범위로서 약 3~7볼트가 예시되어 있다. 이것을 여기서는 "히스테리시스 영역" 또는 "안정 영역"이라고 부른다. 도 3a의 히스테리시스 특성을 가진 디스플레이 어레이에서는, 수평열/수직열 구동 프로토콜은, 수평열 스트로브가 인가되는 동안에 스트로브가 인가된 수평열에 있는 픽셀들 중에 작동되어야 할 픽셀들은 약 10볼트의 전위차에 노출되고, 해방되어야 할 픽셀들은 0(영)볼트에 가까운 전위차에 노출되도록 설계될 수 있다. 스트로브를 인가한 후에는, 픽셀들이 수평열 스트로브에 의해 어떠한 상태가 되었든지 간에 그 상태로 유지되도록 약 5볼트의 정상 상태 전압차를 받는다. 기록된 후에, 각 픽셀은 본 실시예에서는 3-7볼트인 "안정 영역" 내의 전위차를 가진다. 이러한 구성으로 인해, 도 1에 나타낸 픽셀 구조가 동일한 인가 전압의 조건 하에, 작동 상태든 해방 상태든 기존의 상태로 안정되게 된다. 작동 상태로 있든 해방 상태로 있든, 간섭 변조기의 각 픽셀은 본질적으로 고정된 반사층과 이동하는 반사층에 의해 형성되는 커패시터이기 때문에, 이 안정된 상태는 히스테리시스 영역 내의 전압에서 거의 전력 소모 없이 유지될 수 있다. 인가 전위가 고정되어 있으면, 필연적으로 픽셀에 유입되는 전류는 없다.
　　전형적인 응용예에서, 첫번째 수평열에 있는 소정 세트의 작동된 픽셀에 따라 한 세트의 수직열 전극을 어서팅(asserting)함으로써 디스플레이 프레임을 만들 수 있다. 그런 다음, 수평열 펄스를 수평열 1의 전극에 인가하여 어서트된 수직열 라인에 대응하는 픽셀들을 작동시킨다. 그러면, 수직열 전극의 어서트된 세트가 두 번째 수평열에 있는 소정 세트의 작동된 픽셀에 대응하도록 변경된다. 그런 다음, 펄스를 수평열 2의 전극에 인가하여 어서트된 수직 전극에 따라 수평열 2에서의 해당하는 픽셀을 작동시킨다. 수평열 1의 픽셀들은 수평열 2의 펄스에 영향을 받지 않고, 수평열 1의 펄스에 의해 설정되었던 상태를 유지한다. 이러한 동작을 순차적으로 전체 수평열에 대해 반복하여 프레임을 생성할 수 있다. 일반적으로, 이러한 프레임들은 초당 소정 수의 프레임에 대해 이러한 처리를 계속해서 반복함으로써 리프레시(refresh)되거나, 및/또는 새로운 디스플레이 데이터로 갱신된다. 디스플레이 프레임을 생성하기 위해 픽셀 어레이의 수평열 및 수직열 전극을 구동하는 많은 다양한 프로토콜이 잘 알려져 있고, 본 발명과 관련하여 이용될 수 있다.
　　도 3b, 4a 및 4b는 도 2의 3x3 어레이 상에서 디스플레이 프레임을 생성하기 위한 하나의 가능한 구동 프로토콜을 나타낸 것이다. 도 3b는 도 3a의 히스테리시스 곡선을 보여주는 픽셀들에 사용될 수 있는 수직열 및 수평열의 가능한 전압 레벨 세트를 보여준다. 도 3b의 실시예에서, 픽셀을 작동시키기 위해, 해당하는 수직열은 -Vbias로 설정하고 해당하는 수평열은 +ΔV로 설정한다. 각각의 전압은 -5볼트 및 +5볼트에 대응할 수 있다. 픽셀을 해방시키기 위해서는, 해당하는 수직열은 +Vbias로 설정하고 해당하는 수평열은 동일한 값의 +ΔV로 설정하여, 픽셀에 걸리는 전위차가 0(영)볼트가 되도록 한다. 수평열의 전압이 0(영)볼트로 되어 있는 수평열에서는, 수직열이 +Vbias이든 -Vbias이든 관계없이 픽셀들이 원래 있던 상태로 안정된다. 도 3b에 나타낸 바와 같이, 위에 개시된 전압과 반대 극성의 전압을 사용해 도 무방하다. 예를 들어 한 픽셀을 작동시키기 위해, 해당하는 수직열은 +Vbias로 설정하고 해당하는 수평열은 -ΔV로 설정할 수 있다. 본 실시예에서, 위 픽셀을 해방시키기 위해서는, 해당하는 수직열은 -Vbias로 설정하고, 해당하는 수평열은 동일한 값의 -ΔV로 설정하여, 픽셀에 걸리는 전위차가 0(영)볼트가 되도록 한다.
　　도 4b는 도 2의 3x3 어레이에 인가되는 일련의 수평열 및 수직열 신호를 보여주는 타이밍도이며, 그 결과, 작동된 픽셀들이 비반사성인 도 4a에 도시된 디스플레이 배열이 얻어진다. 도 4a에 나타낸 프레임을 기록하기에 앞서, 픽셀들은 어떤 상태로 되어 있어더라도 무방하다. 본 예에서는, 모든 수평열이 0(영)볼트이고, 모든 수직열이 +5볼트이다. 이러한 인가 전압으로, 모든 픽셀들은 기존의 작동 상태 또는 해방 상태로 안정되어 있다.
　　도 4a의 프레임에서, (1,1), (1,2), (2,2), (3,2) 및 (3,3)의 픽셀들이 작동된다. 이를 구현하기 위해, 수평열 1에 대한 "라인 시간" 동안, 수직열 1및 수직열 2는 -5볼트로 설정되고, 수직열 3은 +5볼트로 설정된다. 이것은 어느 픽셀의 상태도 변화시키지 않는다. 왜냐하면, 모든 픽셀들이 3-7볼트의 안정영역 내에 머무르기 때문이다. 그런 다음, 수평열 1에 0볼트에서 5볼트로 상승한 후 다시 0볼트로 되는 펄스를 가진 스트로브를 인가한다. 이것은 (1,1) 및 (1,2)의 픽셀을 작동시키고 (1,3)의 픽셀을 해방시킨다. 어레이의 다른 픽셀들은 영향을 받지 않는다. 수평열 2를 원하는 대로 설정하기 위해, 수직열 2를 -5볼트로 설정하고, 수직열 1 및 3은 +5볼트로 설정한다. 동일한 스트로브를 수평열 2에 인가하면, (2,2)의 픽 셀이 작동되고, (2,1) 및 (2,3)의 픽셀이 해방된다. 여전히, 어레이의 다른 픽셀들은 영향을 받지 않는다. 수직열 2 및 3을 -5볼트로 설정하고 수직열 1을 +5볼트로 설정함으로써, 수평열 3도 마찬가지의 방법으로 설정된다. 수평열 3에 인가한 스트로브는 수평열 3의 픽셀들을 도 4a에 도시된 바와 같이 설정한다. 프레임을 기록한 후에, 수평열 전위는 0(영)이고, 수직열 전위는 +5볼트 또는 -5볼트로 남아있으므로, 디스플레이는 도 4a의 배열로 안정된다. 수십 또는 수백의 수평열 및 수직열로 된 어레이에 대해 동일한 처리가 행해질 수 있다는 것은 잘 알 수 있을 것이다. 또한, 수평열 및 수직열의 구동을 위해 사용되는 전압의 타이밍, 순서 및 레벨은 위에서 설명한 전반적인 원리 내에서 다양하게 변경될 수 있고, 상술한 예는 예시에 불과하고, 임의의 작동 전압 방법을 여기에 개시된 시스템과 방법에 적용하여도 무방하다.
　　도 5a 및 5b는 디스플레이 기기(40)의 일실시예를 나타낸 시스템 블록도이다. 디스플레이 기기(40)는, 예컨대, 휴대 전화기일 수 있다. 그러나, 텔레비전이나 휴대용 미디어 플레이어와 같이 디스플레이 기기(40)와 동일한 구성품이나 약간 변형된 것도 디스플레이 기기의 여러 가지 형태의 예에 해당한다.
　　디스플레이 기기(40)는 하우징(41), 디스플레이(30), 안테나(43), 스피커(44), 입력 기기(48), 및 마이크(46)를 포함한다. 하우징(41)은 일반적으로 사출 성형 및 진공 성형을 포함하는 해당 기술분야의 당업자에게 잘 알려진 여러 가지 제조 공정 중 어느 것에 의해서도 제조될 수 있다. 또한, 하우징(41)은, 한정되는 것은 아니지만, 플라스틱, 금속, 유리, 고무, 및 세라믹 또는 이들의 조합을 포함하여 여러 가지 재료 중 어느 것으로도 만들어질 수 있다. 일실시예에서, 하우징(41)은 분리가능한 부분(도시되지 않음)을 포함하고, 이 분리가능한 부분은 다른 색깔이나 다른 로고, 그림 또는 심볼을 가진 다른 분리가능한 부분으로 교체될 수 있다.
　　본 예의 디스플레이 기기(40)의 디스플레이(30)는, 여기에 개시된 쌍안정(bi-stable) 디스플레이를 포함하여, 여러 가지 디스플레이 중 어느 것이어도 무방하다. 다른 실시예에서, 디스플레이(30)는, 상술한 바와 같은, 플라즈마, EL, OLED, STN LCD, 또는 TFT LCD 등과 같은 평판 디스플레이, 또는 해당 기술분야의 당업자에게 잘 알려진 바와 같은, CRT나 다른 튜브 디스플레이 기기 등과 같은 비평판 디스플레이를 포함한다. 그러나, 본 실시예를 설명하기 위해, 디스플레이(30)는 여기에 개시된 바와 같이 간섭 변조기 디스플레이를 포함한다.
　　예시된 디스플레이 기기(40)의 일실시예의 구성요소가 도 5b에 개략적으로 나타나 있다. 예시된 디스플레이 기기(40)는 하우징(41)을 포함하고, 적어도 부분적으로 하우징 내에 배치되어 있는 구성요소들을 추가로 포함할 수 있다. 예컨대, 일실시예에서, 본 예의 디스플레이 기기(40)가 송수신기(47)와 연결된 안테나(43)를 포함하는 네트워크 인터페이스(27)를 포함할 수 있다. 송수신기(47)는 프로세서(21)에 연결되어 있고, 프로세서(21)는 컨디셔닝 하드웨어(conditioning 하드웨어)(52)에 연결되어 있다. 컨디셔닝 하드웨어(52)는 신호를 고르게 하도록(예컨대, 신호를 필터링하도록) 구성될 수 있다. 컨디셔닝 하드웨어(52)는 스피커(44) 및 마이크(46)에 연결되어 있다. 프로세서(21)는 입력 기기(48) 및 드라이버 컨트롤러(29)에도 연결되어 있다. 드라이버 컨트롤러(29)는 프레임 버퍼(28) 및 어레 이 드라이버(22)에 연결되어 있고, 어레이 드라이버는 디스플레이 어레이(30)에 연결되어 있다. 전원(50)은 예시된 디스플레이 기기(40)의 특정 설계에 따라 요구되는 모든 구성요소에 전력을 공급한다.
　　네트워크 인터페이스(27)는 예시된 디스플레이 기기(40)가 네트워크를 통해 하나 이상의 기기들과 통신할 수 있도록 안테나(43)와 송수신기(47)를 포함한다. 일실시예에서, 네트워크 인터페이스(27)는 프로세서(21)의 부담을 경감하기 위해 어느 정도의 처리 능력을 가질 수도 있다. 안테나(43)는 신호를 송수신하는 것으로서, 해당 기술분야의 당업자에게 알려진 어떠한 안테나라도 무방하다. 일실시예에서, 안테나는 IEEE 802.11(a), (b), 또는 (g)를 포함하여 IEEE802.11 표준에 따라 RF 신호를 송수신한다. 다른 실시예에서, 안테나는 블루투스 표준에 따라 RF 신호를 송수신한다. 휴대 전화기의 경우, 안테나는 CDMA, GSM, AMPS 또는 무선 휴대폰 네트워크를 통한 통신에 사용되는 공지의 다른 신호를 수신하도록 설계된다. 송수신기(47)는 안테나(43)로부터 수신한 신호를, 프로세서(21)가 수신하여 처리할 수 있도록 전처리한다. 또한, 송수신기(47)는 프로세서(21)로부터 수신한 신호를, 안테나(43)를 통해 본 예의 디스플레이 기기(40)로부터 전송될 수 있도록 처리한다.
　　다른 실시예에서, 송수신기(47)를 수신기로 대체할 수 있다. 또 다른 실시예에서, 네트워크 인터페이스(27)는 프로세서(21)로 전송될 이미지 데이터를 저장하거나 생성할 수 있는 이미지 소스로 대체될 수 있다. 예컨대, 이미지 소스는 이미지 데이터를 담고 있는 DVD 또는 하드디스크 드라이브일 수도 있고, 또는 이미지 데이터를 생성하는 소프트웨어 모듈일 수도 있다.
　　프로세서(21)는 일반적으로 본 예의 디스플레이 기기(40)의 전반적인 동작을 제어한다. 프로세서(21)는 네트워크 인터페이스(27) 또는 이미지 소스로부터 압축된 이미지와 같은 데이터를 수신하여, 이를 본래의 이미지 데이터 또는 곧 바로 본래의 이미지 데이터로 변환될 수 있는 포맷으로 가공한다. 그런 다음, 프로세서(21)는 가공된 데이터를 드라이버 컨트롤러(29) 또는 저장을 위한 프레임 버퍼(28)로 보낸다. 전형적으로, 본래의 데이터는 이미지 내의 각 위치에 대한 이미지 특성을 나타내는 정보를 말한다. 예컨대, 그러한 이미지 특성은 컬러, 채도, 명도(그레이 스케일 레벨)를 포함할 수 있다.
　　일실시예에서, 프로세서(21)는 마이크로컨트롤러, CPU, 또는 예시된 디스플레이 기기(40)의 동작을 제어하는 논리 유닛을 포함한다. 일반적으로, 컨디셔닝 하드웨어(52)는, 스피커(44)로 신호를 전송하고 마이크(46)로부터 신호를 수신하기 위한, 증폭기 및 필터를 포함한다. 컨디셔닝 하드웨어(52)는 예시된 디스플레이 기기(40) 내의 별도의 구성요소일 수도 있고, 또는 프로세서(21)나 다른 구성요소 내에 통합되어 있을 수도 있다.
　　드라이버 컨트롤러(29)는 프로세서(21)에 의해 생성된 본래의 이미지 데이터를 이 프로세서(21)로부터 직접 또는 프레임 버퍼(28)로부터 받아서, 이를 어레이 드라이버(22)에 고속으로 전송하기에 적합한 포맷으로 재구성한다. 구체적으로, 드라이버 컨트롤러(29)는 디스플레이 어레이(30)를 가로질러 스캐닝하기에 적합한 시간 순서를 가지도록 본래의 이미지 데이터를 래스터(raster)와 같은 포맷을 가진 데이터 흐름으로 재구성한다. 그런 다음, 드라이버 컨트롤러(29)는 재구성된 정보 를 어레이 드라이버(22)로 보낸다. 종종 액정 디스플레이의 컨트롤러 등과 같은 드라이버 컨트롤러(29)가 독립형 집적 회로(stand-alone IC)로서 시스템 프로세서(21)와 결합되기도 하지만, 이러한 컨트롤러는 여러 가지 방법으로 구현될 수 있다. 이러한 컨트롤러는 프로세서(21)에 하드웨어로서 또는 소프트웨어로서 내장될 수도 있고, 또는 어레이 드라이버(22)와 함께 하드웨어로 완전히 통합될 수도 있다.
　　전형적으로, 어레이 드라이버(22)는 드라이버 컨트롤러(29)로부터 재구성된 정보를 받아서, 이 비디오 데이터를 디스플레이의 x-y 행렬의 픽셀들로부터 이어져 나온 수 백 때로는 수 천 개의 리드선에 초당 수 회에 걸쳐 인가되는 병렬의 파형 세트로 변환한다.
　　일실시예에서, 드라이버 컨트롤러(29), 어레이 드라이버(22), 및 디스플레이 어레이(30)는 여기에 기술한 어떠한 형태의 디스플레이에 대해서도 적합하다. 예컨대, 일실시예에서, 드라이버 컨트롤러(29)는 종래의 디스플레이 컨트롤러 또는 쌍안정 디스플레이 컨트롤러(예컨대, 간섭 변조기 컨트롤러)이다. 또 다른 실시예에서, 어레이 드라이버(22)는 종래의 드라이버 또는 쌍안정 디스플레이 드라이버(예컨대, 간섭 변조기 디스플레이)이다. 일실시예에서, 드라이버 컨트롤러(29)는 어레이 드라이버(22)와 통합되어 있다. 그러한 예는 휴대폰, 시계 및 다른 소형 디스플레이와 같은 고집적 시스템에서는 일반적인 것이다. 또 다른 실시예에서, 디스플레이 어레이(30)는 전형적인 디스플레이 어레이 또는 쌍안정 디스플레이 어레이(예컨대, 간섭 변조기 어레이를 포함하는 디스플레이)이다.
　　입력 기기(48)는 사용자로 하여금 예시된 디스플레이 기기(40)의 동작을 제어할 수 있도록 한다. 일실시예에서, 입력 기기(48)는 쿼티(QWERTY) 키보드 또는 전화기 키패드 등의 키패드, 버튼, 스위치, 터치 스크린, 압력 또는 열 감지 막을 포함한다. 일실시예에서, 마이크(46)는 예시된 디스플레이 기기(40)의 입력 기기이다. 기기에 데이터를 입력하기 위해 마이크(46)가 사용되는 경우에, 예시된 디스플레이 기기(40)의 동작을 제어하기 위해 사용자는 음성 명령을 제공할 수 있다.
　　전원(50)은 해당 기술분야에서 잘 알려진 다양한 에너지 저장 기기를 포함할 수 있다. 예컨대, 일실시예에서, 전원(50)은 니켈-카드뮴 전지 또는 리튬-이온 전지와 같은 재충전 가능한 전지이다. 또 다른 실시예에서, 전원(50)은 재생 가능한 에너지원, 커패시터, 또는 플라스틱 태양 전지 및 태양 전지 도료를 포함하는 태양 전지이다. 또 다른 실시예에서, 전원(50)은 콘센트로부터 전력을 공급받도록 구성된다.
　　몇몇 구현예에서는, 상술한 바와 같이, 전자 디스플레이 시스템 내의 여러 곳에 위치될 수 있는 드라이버 컨트롤러의 제어를 프로그래머블하게 구성할 수 있다. 어떤 경우에는, 어레이 드라이버(22)의 제어를 프로그래머블하게 구성할 수도 있다. 해당 기술분야의 당업자라면 임의의 수의 하드웨어 및/또는 소프트웨어 구성요소로도 상술한 최적화 상태를 구현할 수 있고, 또 여러 가지 다양한 구성으로 구현할 수도 있다는 것을 인식할 수 있을 것이다.
　　위에서 설명한 원리에 따라 동작하는 간섭 변조기의 상세한 구조는 다양하게 변경될 수 있다. 예컨대, 도 6a 내지 6c는 이동하는 미러 구조의 세가지 다른 예 를 보여준다. 도 6a는 도 1에 도시된 실시예의 단면도로서, 금속 재료로 된 스트립(14)이 직각으로 연장된 지지대(18) 상에 배치되어 있다. 도 6b에서, 이동가능한 반사 재료(14)가 연결선(32)에 의해 그 코너에서만 지지대에 부착되어 있다. 도 6c에서, 이동가능한 반사 재료(14)가 변형가능한 층(34)에 매달려 있다. 이 실시예는, 반사 재료(14)에 대한 구조적 설계 및 재료는 광학 특성에 대해 최적화될 수 있고, 변형가능한 층(34)에 대한 구조적 설계 및 재료는 원하는 기계적 특성에 대해 최적화될 수 있기 때문에 유용하다. 여러 가지 형태의 간섭 기기의 제조에 대해, 예컨대 미국특허공개 제2004/0051929호를 포함하여 여러 공개 문헌에 기술되어 있다. 일련의 재료 침적, 패터닝 및 에칭 단계들을 포함하여, 상술한 구조를 제조하기 위해 다양한 공지 기술이 이용될 수 있다.
　　도 1및 도 2에 도시된 바와 같이, 그리고 상술한 바와 같이, 픽셀 어레이(30)의 각각의 캐비티(19)는 수평열 구동 회로(24)에 의해 충전되는 커패시턴스를 형성한다. 수직열 전극(14b)이 수평열 전극(16b)에 매우 가까이 이동하기 때문에, 임의의 작동된 픽셀(12b)의 커패시턴스 값은 상대적으로 크다. 주어진 수평열 펄스에 따라 작동하는 캐비티의 수가 다르기 때문에, 수평열 구동 회로에서 바라본 임피던스는 매우 가변적일 수 있다.
　　도 7은 수평열 전극(16a, 16b, 16c) 및 수평열 구동 회로(24) 사이의 기판(20) 위에 필터 회로(325a, 325b, 325c)가 배치된 일실시예를 나타낸 것이다. 이러한 필터 회로(325a, 325b, 325c)가 수평열 구동 회로(24)에 의해 유도되는 임피던스를 제어하는 데에 유용하다는 것을 발견하였다. 예컨대, 이러한 필터 회로(325a, 325b, 325c)는 임피던스의 안정성을 제어하거나, 또는 여러 가지 수평열 펄스에 대한 임피던스를 변경하기 위해 이용될 수 있다. 도시된 실시예에서, 각각의 필터 회로(325a, 325b, 325c)는 커패시터(328a, 328b, 328c) 및 저항(329a, 329b, 329c)을 각각 포함한다. 필터 회로(325a-c), 커패시터(328a-c), 및 저항(329a-c)은 픽셀 어레이(30)에 결합될 수 있는 전기 기기의 예이다. 이 전기 기기의 다른 예로서는 인덕터(도 7에는 도시되지 않음)가 포함된다. 예컨데, 일실시예에서, 필터는 적어도 하나의 커패시터, 적어도 하나의 저항, 및 적어도 하나의 인덕터를 포함한다. 이러한 전기 기기는 픽셀 어레이(30)의 다양한 영역에서 결합될 수 있고 여러 가지 목적으로 이용될 수 있다. 예컨데, 필터 회로, 커패시터, 저항, 및/또는 인덕터와 같은 전기 기기는 수직열 구동 회로(26) 및 수직열 전극(14) 사이에 배치될 수 있다(도 7에는 도시되지 않음). 비록 도 7은 간섭 변조기들의 3 x 3 어레이(30)를 나타내고 있지만, 여기에 개시된 디스플레이 패널 또는 기기는 수백, 수천 또는 심지어 수백만의 개별적인 간섭 변조기들을 포함하는 어레이로 구성될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
　　일실시예에서, 전기 기기는 기판(20)의 에지 또는 주변부(36) 또는 그 근처에서 픽셀 어레이에 결합될 수 있다. 그러나, 어떤 경우에는, 기판(20)의 주변부(36) 또는 그 근처에서 전기 기기를 결합하는 것이 편리하지 않거나 바람직하지 않다. 예컨대, 어떤 구성에서는 상대적으로 큰 커패시턴스값을 가진 커패시터가 사용될 수 있는데, 이러한 커패시터는 상당히 큰 커패시터 플레이트 영역을 차지할 수 있고, 및/또는 상당히 많은 개수가 사용될 수 있다. 따라서 기판(20)의 주변부 (36)나 그 근처에서 많은 영역을 차지할 수 있고, 어떤 경우에는 픽셀 어레이(30)에 이용할 기판(20)의 영역이 감소하게 된다.
　　여기에 개시된 여러 가지 실시예는 기기 내의 다양한 위치에서 결합될 수 있는 하나 이상의 투명한 전기 기기를 포함하는 디스플레이 기기를 제공한다. 그 위치는 기판에서 어레이가 차지하는 영역 또는 공간 내의 위치를 포함하는데, 구체적으로는 기판(20)과 픽셀 어레이(30)의 사이이다. 예컨데, 간섭 변조기를 포함하는 디스플레이 기기의 설계자는 필터, 저항, 커패시터 및 인덕터와 같은 전기 기기를 반드시 기기의 에지나 그 근처에 배치해야 할 필요는 없다. 그 대신, 여러 가지 실시예들은 기기의 관찰 영역 내에 포함될 수 있는 투명한 전기 기기를 제공함으로써 향상된 디자인 유연성을 허용한다.
　　"투명한" 전기 기기가 모든 가시 영역의 파장에서 입사 광선의 100%를 투과시킬 필요는 없다는 것을 이해할 것이다. 전기 기기는, 만일 그것이 디스플레이 기기의 관찰 영역 내에 포함되었을 때에, 그 전기 기기가 관찰 영역에 투명한 전기 기기를 포함하지 않은 다른 유사한 기기와 비교해 볼 때, 전체적으로 비슷하거나 향상된 방법으로 기기가 동작하도록 충분한 입사 광선을 투과 시킬 수 있다면, "투명한" 것으로 간주된다. 많은 경우에, 투명한 전기 기기는 적어도 입사한 광학적 광선의 80%를, 보다 바람직하게는 적어도 90% 정도를 투과시킨다. 상술한 바와 같이, 투명한 전기 기기를 제조하는 데 사용되는 재료 전부가 그 자체로서 투명할 필요는 없다. 예컨데, 여러 가지 재료(예를 들어 금속)는, 한 덩어리의 재료가 그 자체로서 투명하다고 여겨지지 않는 경우에도, 매우 적은 양이 사용되고, 및/또는 매우 얇은 층이 되도록 침적되고, 및/또는 다른 재료 속으로 미세하게 분산됨으로써 투명성을 갖게 된다.
　　여기에는 필터, 저항, 커패시터 및 인덕터를 포함하는 여러 가지 전기 기기가 개시되어 있다. 따로 언급하지 않는 이상, 여기에 사용되는 용어들은 해당 기술분야의 당업자가 이해할 수 있는 보통의 의미로 사용된다. 예컨대, 캐피시터는 저장성 커패시터(a storage capacitor)이다. 바람직한 커패시터의 예는 약 10㎊(picoFarad) 내지 약 0.1㎌(microFarad)의 범위의 전기용량값을 가지는 것을 포함한다. 바람직한 저항의 예는 약 100Ω(Ohms) 내지 약 1gigaΩ(gigaOhms)의 범위의 저항값을 가지는 것을 포함한다. 바람직한 인덕터의 예는 약 1nH(nanoHenry) 내지 약 10microH(microHenry)의 범위의 인덕턴스값을 가지는 것을 포함한다. 여기에 개시된 각각의 전기 기기는, 아래 개시하는 모든 실시예에서, 단독으로, 또는 둘 이상의 유사한 기기의 그룹으로, 또는 둘 이상의 서로 다른 기기의 그룹으로 사용될 수 있다. 마찬가지로, 특정의 실시예에서 나타난 여러 가지 특징들은 다른 실시예에서도 사용될 수 있음을 알 수 있다.
　　일실시예는 투명한 기판 위에 배치된 간섭 변조기 어레이, 및 이 간섭 변조기 어레이와 투명한 기판 사이에 배치된 투명한 전기 기기를 포함하는 디스플레이 패널을 제공하고, 이 투명한 전기 기기는 간섭 변조기 어레이에 전기적으로 연결된다. 투명한 전기 기기는 커패시터, 저항, 인턱터 및/또는 필터와 같은 수동 전자 소자일 수 있다. 투명한 전기 기기는 각 전기 부품의 다양한 조합을 포함할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예컨대, 필터가, 도 7에 도시된 바와 같이, 저항 및 커패시터를 포함할 수 있다.
　　도 8a는 디스플레이 패널 또는 기기(800)의 실시예를 도시한 개략적인 단면도이다. 디스플레이 패널(800)은 투명 기판(20) 위에 배치된 간섭 변조기(805)를 포함한다. 디스플레이 패널(800)은 또한 간섭 변조기(805)와 투명 기판(20) 사이에 배치된 투명한 커패시터(815)를 포함한다. 간섭 변조기(805)는 상술한 간섭 변조기(12b)와 유사하고, (작동 위치에 나타나 있는) 이동 가능한 층(14b), 고정된 층(16b), 및 포스트(18)을 포함한다. 또한, 간섭 변조기(805)는 고정된 층(16b) 위에 배치된 유전층(820)을 포함하여 단락을 방지하고, 이동 가능한 층(14b)과 고정된 층(16b) 사이의 작동 위치에서의 이격 거리를 제어한다. 유전층(820)은 실리콘 산화물과 같은 유전 재료로 형성될 수 있다. 고정된 층(16b)은 바람직하게는 크롬 및 인듐주석산화물로 된 서브-층(도시되지 않음)을 포함하고, 이동 가능한 층(14b)은 바람직하게는 알루미늄을 포함한다. 간섭 변조기(805)는 투명 기판(20)을 통해 보이고, 따라서 투명 기판(20)은 디스플레이 패널(800)의 관찰면측에 있다고 말할 수 있다. 따라서, 고정된 층(16b)의 두께는 디스플레이 패널(800)이 작동하는 동안 그것이 투명하게 되도록 선택되어야 한다.
　　도 8a에서, 투명한 커패시터(815)는 투명한 절연층(825)에 의하여 간섭 변조기(805)의 고정된 층(16b)으로부터 분리된다. 투명한 절연층은 실리콘 산화물을 포함할 수 있다. 투명한 커패시터(815)는, 커패시터 유전층(840)에 의하여 서로 분리된, 제1 커패시터 층(830) 및 제2 커패시터 층(835)을 포함한다. 제1 커패시터 층(830) 및 제2커패시터 층(835)은 바람직하게는 인듐주석산화물 과 같은 투명한 전기적 도전체로 형성된다. 커패시터 유전층(840)은 바람직하게는 실리콘 산화물 (k~4.1)과 같은 투명한 유전 재료를 포함한다. 일반적으로, 접점(도시되지 않음)들이 투명한 커패시터(815)를 어레이(예컨대, 그 위에 있는 간섭 변조기(805) 및/또는 어레이 내의 다른 간섭 변조기) 및 구동기와 같은 다른 회로에 전기적으로 연결한다.
　　상술한 바와 같이, 도시된 실시예에서는, 투명 기판(20)이 디스플레이 패널(800)의 관찰면측에 있다고 말할 수 있다. 따라서, 투명한 커패시터(815)는 투명 기판(20)의 관찰면측으로부터 간섭 변조기(805)로 광을 투과시키도록 구성된 투명한 수동 전자 소자의 일예이다
　　도시된 구성에서, 투명한 커패시터(815) 및 간섭 변조기(805)는 모두 그들이 결합되는 디스플레이 기기의 어레이 영역 내에서 기판(20)에 (직접적 또는 간접적으로) 부착되어 있다.
　　도 8b는 디스플레이 패널(850)의 실시예를 나타내는 개략적인 단면도이다. 이 디스플레이 패널은 커패시터(815) 대신에 필터(325)를 포함한다는 점을 제외하고는 도 8a에 도시된 디스플레이 패널(800)과 유사하다. 필터(325)는 커패시터(815a) 및 저항(329)을 포함한다. 커패시터(815a)는 제1커패시터 층(830) 및 제2커패시터 층(835)을 포함한다는 점에서, 도 8a에 도시된 커패시터(815)와 유사하다. 그러나, 이 커패시터(815a)에서는, 제1커패시터 층(830) 및 제2커패시터 층(835)은 투명한 저항(329)을 포함하는 커패시터 유전층(840a)에 의하여 서로 분리되어 있다. 투명한 저항(329)은 제1커패시터 층(830)과 제2커패시터 층(835)을 전기적으로 연 결한다. 도시된 실시예에서, 투명한 저항(329)은 약 10㏀의 저항값을 가진다.
　　커패시터에 저항이 부착되지 않은 실시예, 및/또는 디스플레이 패널이 커패시터를 포함하지 않은 실시예를 포함하는 다른 실시예들에서, 저항은 위에서 언급한 바와 같이 약 100Ω 내지 약 1 gigaΩ의 범위의 저항값을 가진다. 이 저항은 소정 양의 전기적으로 도전성인 재료(예컨대 금속)를 도핑한 투명한 절연체(예컨대 투명한 폴리머 또는 실리콘 산화물)를 포함할 수 있고, 이 전기적으로 도전성인 재료를 도핑함으로써 결과적으로 절연체의 저항값과 도전체의 저항값 사이의 중간 저항값을 갖는 저항을 효과적으로 제공하게 된다.
　　도 9는 인덕터(900)의 실시예를 개략적으로 나타낸 사시도이다. 인턱터(900)는 제2 도전체(920)에 연결된 대략 나선형인 도전체(910)를 포함한다. 대략 나선형인 도전체(910)는 제1 면(905) 내에 형성되고, 제2 도전체(920)는 일반적으로 제1 면(905)에 평행한 제2 면(915) 내에 형성된다. 대략 나선형인 도전체(910)는 제1 면(905) 및 제2 면(915)에 대체로 수직인 횡단 도전체(912)를 통해 제2 도전체(920)에 연결되어 있다. 인덕터(900)는 해당 기술 분야의 당업자에게 알려진 방법에 의해 형성될 수 있다. 예컨대, 제1 면(905)은 투명 기판을 포함할 수 있는데, 이 기판 위에는 인듐주석산화물과 같은 투명한 도전성 금속이 침적되어 대략 나선 모양으로 패터닝되어 있다. 제2 면(915)은 공지의 방법을 이용하여 제1 면(905)위에 침적시킨 실리콘 산화물과 같은 절연 재료의 층을 포함할 수 있다. 그 다음에, 제2 면(915)을 통해 제2 도전체(920)까지 통로(via)가 형성되고 그 다음에는, 횡단 도전체(912)를 형성하기 위하여 인듐주석산화물과 같은 도전성 금속이 통로에 채워 진다. 그 다음에, 제2 도전체(920)는, 횡단 도전체(912)와 접촉하기 위해, 제2 면(915) 상에 인듐주석산화물과 같은 투명한 금속을 침적하고 패터닝함으로써 형성된다. 해당 기술분야의 당업자에게 알려진 다른 방법들을 이용하려면, 미국특허 제6,531,945호, 제6,249,039호, 및 제6,166,422와를 참조하면 된다. 인덕터(900)와 같은 것은 위의 도 8a 및 도 8b에 개시된 것과 유사한 방법으로 디스플레이 패널에 포함될 수 있다.
　　디스플레이 패널(800,850)의 실시예가, 바람직하게는, 예컨대 도 7에 도시된 바와 같이 하나의 어레이(30) 내에 구성되는 추가적인 간섭 변조기(도 8a 및 도 8b에는 도시되지 않음)를 포함한다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 디스플레이 패널 내의 투명한 전기 기기(예컨데, 커패시터(815) 및 필터(325))는 여러 가지 방법으로 간섭 변조기 어레이에 작동가능하게 연결될 수 있다. 일실시예에서, 투명한 커패시터(815)는, 도 7에 도시된 바와 같이, 제2 커패시터 층(835)을 고정된 층(16b)에 전기적으로 연결하고, 제1 커패시터 층(830)을 수평열 구동 회로(24)에 전기적으로 연결함으로써, 갑섭 변조기 어레이에 전기적으로 연결된다. 수평열 구동 회로(24)는 기판(20)의 주변에, 또는 기판(20)과 분리되어 있을 수 있다. 그러한 전기적 연결은 여러 가지 방식으로 이루어질 수 있다. 예컨데, 도 8a 및 도 8b를 참조하면, 예컨데, 투명한 절연층(825) 내에 통로를 형성하고, 금속과 같은 전기적으로 도전성인 재료로 통로를 채우고, 그런 다음 채워진 통로 내의 전기적으로 도전성인 재료가 제2 커패시터 층(835)과 고정된 층(16b) 사이에 전기적 연결을 형성하도록 투명한 절연층(825) 및 채워진 통로 위에 인듐주석산화물의 얇은 층을 침적시 켜 고정된 층(16b)을 형성함으로써, 제2 커패시터 층(835)이 고정된 층(16b)에 전기적으로 연결될 수 있다.
　　투명한 커패시터(815)로부터 어레이까지의 전기적 연결은 여러 가지 방법으로 구현될 수 있고, 투명한 커패시터(815)는 복수의 간섭 변조기에 연결될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 예컨데, 도 7에 도시된 바와 같이, 고정된 층(16b)은 어레이 내의 다수의 간섭 변조기를 위한 하나의 수평열 라인을 형성할 수 있다. 제2 커패시터 층(835)에서부터 고정된 층(16b)으로의 전기적 연결은 고정된 층(16b)의 길이 방향을 따라 다양한 위치에서 이루어질 수 있다. 투명한 필터(325)는 유사한 방식으로 간섭 변조기 어레이에 전기적으로 연결될 수 있다.
　　상술한 바에 의해, 간섭 변조기 어레이 내의 어떤 투명한 전기 기기는 그것으로부터 가장 가까운 각각의 간섭 변조기에, 꼭 그럴 필요는 없지만, 전기적으로 연결될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 마찬가지로, 어떤 투명한 전기 기기는 간섭 변조기에 전기적으로 연결될 필요가 없다는 것도 이해할 수 있을 것이다. 예컨대, 어떤 투명한 전기 기기는 간섭 변조기 어레이와 연결된(예컨대, 패키징 되거나 기계적으로 연결된) 다른 기기에 전기적으로 연결될 수 있다. 일실시예는, 어레이 영역을 포함한 기판, 이 어레이 영역에서 기판에 부착된 간섭 변조기, 및 이 어레이 영역에서 기판에 부착된 투명한 수동 전자 소자를 포함하는 디스플레이 기기를 제공한다. 투명한 수동 전자 소자의 적합한 예로는 상술한 필터, 저항, 커패시터, 및 인덕터가 포함된다. 투명한 수동 전기 소자(들)는 간섭 변조기와 기판 사이와 같은 어레이 영역의 다양한 부분에 위치할 수 있고, 또는 그 주변부에 형성될 수 있다. 일실시예에서, 하나 이상의 투명한 수동 전자 소자는 어레이 영역 내에서 기판의 관찰면측으로부터 하나 이상의 간섭 변조기로 광을 투과시키도록 구성된다. 이러한 구성들의 예는 위에 개시되어 있고 도 8a 및 도 8b에 도시되어 있다.
　　또 다른 실시예는 다음의 단계를 포함하는 디스플레이 기기를 제조하는 방법을 제공한다. 기판위에 투명한 전기 기기를 형성하는 단계; 이 투명한 전기 기기 위에 절연층을 침적시키는 단계; 이 절연층 위에 간섭 변조기를 형성하는 단계; 및 이 투명한 전기 기기와 간섭 변조기 사이에 전기적 연결을 형성하는 단계. 도 10은 이런 방법에서의 소정 단계들을 나타내는 공정 흐름도이다. 도 10에 나타난 각 단계는 미소 기전 시스템 제조 분야의 당업자에게 알려진 여러 가지 방법으로 처리 될 수 있다. 예컨대, 화학 증기 침적(플라스마 화학적 기상 증착 및 열 화학적 기상 증착을 포함한다), 스핀-온(spin-on) 침적, 리소그라피(lithography), 에칭, 패터닝(patterning), 세정, 납땜(soldering), 및 패키징 기술을 포함하는 다양한 기술이 해당 기술분야의 당업자에게 알려져 있다.
　　일실시예에서, 투명한 전기 기기는 화학적 기상 증착, 패터닝 및 제거(removal) 단계의 조합에 의해 형성된다. 투명한 전기 기기의 형성은, 바람직하게는, 도전층 및 유전층을 침적하는 단계를 포함한다. 예컨대 상술한 제1 커패시터 층(830) 및 커패시터 유전층(840)을 침적하는 단계를 포함한다. 나아가, 투명한 전기 기기의 형성은 패터닝하는 단계를 포함할 수 있다. 예컨데, 투명한 저항(329)의 삽입을 위해 제거해야 할 영역을 정하기 위하여, 침적된 커패시터 유전층 (840)을 패터닝하여 도 8b에 도시된 바와 같이 커패시터 유전층(840a)를 형성하는 단계를 포함한다.
　　투명한 전기 기기 위의 절연층의 침적은, 예컨대 실리콘 산화물의 화학적 기상 증착, 실리콘 산화물을 형성하기 위한 산화작용이 뒤따르는 실리콘의 화학적 기상 증착, 또는 스핀-온 글래스(spin-on glass, SOG) 공정에 의해 수행될 수 있다. 이런 방법의 세부사항은 해당 기술분야의 당업자에게 알려져 있다. 예컨데 도 6에 도시된 바와 같이, 절연층 위에 간섭 변조기를 형성하는 것은 간섭 변조기의 구성에 따라 여러 가지 방법으로 수행될 수 있다. 간섭 변조기를 제조하기 위한 많은 알려진 공정들이 유리 기판 상에 침적시키는 공정을 포함하고 있기 때문에, 절연층이 미리 침적된 기판은 간섭 변조기를 형성하기에 적합한 것이다.
　　투명한 전기 기기와 간섭 변조기 사이의 전기적 연결을 형성하기 위한 여러 가지 방법이 있다. 예컨대, 상술한 바와 같이, 간섭 변조기를 형성하기에 앞서 투명한 절연층(825) 내에 통로를 형성하는 단계, 통로를 금속과 같은 전기적으로 도전성인 재료로 채우는 단계, 및 채워진 통로 내의 전기적으로 도전성인 재료가 제2 커패시터 층(835)과 고정된 층(16b) 사이에 전기적 연결을 형성하도록 투명한 절연층(825) 및 채워진 통로 위에 인듐주석산화물의 얇은 층을 침적시켜 고정된 층(16b)을 형성하는 단계에 의해, 제2 커패시터 층(835)이 고정된 층(16b)에 전기적으로 연결될 수 있다. 바깥쪽의 전기적 연결은 도전성 금속을 이용한 침적 및 패터닝에 의해 형성될 수 있다.
　　해당 기술분야의 당업자라면 본 발명의 기술적 사상에서 이탈되지 않는 범위 내에서 여러 가지 변경이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 실시형태는 단지 예시적인 것일 뿐이고 본 발명의 범위를 제한하기 위해 의도한 것이 아님을 명확히 인식하여야 한다.
　　본 발명에 의하면, 투명 기판과 간섭 변조기 어레이의 사이에 투명한 전기 기기를 배치하기 때문에, 전기 기기를 디스플레이 패널의 어느 곳에든 배치할 수 있게 되므로 설계 자유도가 향상되고, 전체적으로 부피 및/또는 두께를 감소시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있습니다.
　　

Claims (38)

  1. 　　투명 기판 위에 배치된 간섭 변조기 어레이; 및
    　　상기 간섭 변조기 어레이와 상기 투명한 기판 사이에 배치된 투명한 전기 기기(electrical device)를 포함하고,
    　　상기 투명한 전기 기기는 상기 간섭 변조기 어레이에 전기적으로 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  2. 　　제1항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가, 커패시터, 저항, 인덕터 및 필터를 포함하는 그룹으로부터 선택된 것인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  3. 　　제2항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가 커패시터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  4. 　　제 3항에 있어서,
    　　상기 커패시터가 저장형 커패시터(a storage capacitor)인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  5. 　　제2항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가 저항인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  6. 　　제2항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가 인덕터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  7. 　　제2항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가 필터인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  8. 　　제 7항에 있어서,
    　　상기 필터가 커패시터 및 저항을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  9. 　　제 8항에 있어서,
    　　상기 필터가 인덕터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  10. 　　제1항에 있어서,
    　　상기 간섭 변조기 어레이가 적어도 제1 간섭 변조기를 포함하고,
    　　상기 제1 간섭 변조기는,
    　　제1 전극,
    　　상기 제1 전극에 기계적으로 결합된 제1 미러,
    　　제2 전극, 및
    　　상기 제2 전극에 기계적으로 결합된 제2 미러
    　　를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  11. 　　제10항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가 상기 제1 전극에 전기적으로 연결된 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  12. 　　제10항에 있어서,
    　　상기 제2 미러가 상기 제1 미러에 대하여 상대적으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  13. 　　제12항에 있어서,
    　　상기 제1 미러가 상기 제1 전극의 반사 표면인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  14. 　　제1항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기가 수동 전자 소자인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  15. 　　어레이 영역을 포함하는 기판,
    　　상기 어레이 영역 내에서 상기 기판에 부착된 제1 간섭 변조기; 및
    　　상기 어레이 영역 내에서 상기 기판에 부착된 투명한 수동 전자 소자
    　　를 포함하는 디스플레이 기기.
  16. 　　제15항에 있어서,
    　　상기 투명한 수동 전자 소자가 상기 어레이 영역 내에서 상기 기판의 관찰면측으로부터 상기 제1 간섭 변조기까지 광을 투과시키도록 구성된 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  17. 　　제15항에 있어서,
    　　상기 어레이 영역 내에서 상기 기판에 부착된 제2 간섭 변조기를 더 포함하는 디스플레이 기기.
  18. 　　제17항에 있어서,
    　　상기 투명한 수동 전자 소자가 상기 어레이 영역 내에서 상기 기판과 상기 제2 간섭 변조기 사이에 배치된 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  19. 　　제17항에 있어서,
    　　상기 어레이 영역 내에서 상기 제1 간섭 변조기 및 상기 제2 간섭 변조기에 전기적으로 연결된 수평열 라인을 더 포함하는 디스플레이 기기.
  20. 　　제19항에 있어서,
    　　상기 투명한 수동 전자 소자가 상기 수평열 라인에 전기적으로 연결된 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  21. 　　디스플레이 기기를 제조하는 방법에 있어서,
    　　기판 위에 투명한 전기 기기를 형성하는 단계;
    　　상기 투명한 전기 기기 위에 절연층을 침적시키는 단계;
    　　상기 절연층 위에 간섭 변조기를 형성하는 단계; 및
    　　상기 투명한 전기 기기와 상기 간섭 변조기 사이에 전기적 연결을 형성하는 단계
    　　를 포함하는 디스플레이 기기의 제조 방법.
  22. 　　제21항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기를 형성하는 단계가, 도전층 및 유전층을 침적시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 디스플레이 기기의 제조 방법.
  23. 　　제22항에 있어서,
    　　상기 투명한 전기 기기를 형성하는 단계가, 제2 도전층을 침적시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기의 제조 방법.
  24. 　　제22항에 있어서,
    　　상기 도전층 및 상기 유전층 중 하나 이상을 패터닝하는 단계를 더 포함하는 디스플레이 기기의 제조 방법.
  25. 　　제21항에 있어서,
    　　상기 전기적 연결을 형성하는 단계가, 상기 절연층 내에 통로를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기의 제조 방법.
  26. 　　제21항에 있어서,
    　　상기 간섭 변조기를 형성하는 단계가, 제1 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기의 제조 방법.
  27. 　　제26항에 있어서,
    　　상기 제1 전극이 상기 절연층에 의해 상기 투명한 전기 기기로부터 절연되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기의 제조 방법.
  28. 　　제1항에 있어서,
    　　상기 간섭 변조기 어레이와 전기적으로 연결되고, 이미지 데이터를 처리하도록 구성된 프로세서; 및
    　　상기 프로세서와 전기적으로 연결된 메모리 기기
    　　를 더 포함하는 디스플레이 기기.
  29. 　　제28항에 있어서,
    　　상기 간섭 변조기 어레이에 하나 이상의 신호를 전송하도록 구성된 제1 컨트롤러; 및
    　　상기 제1 컨트롤러에 상기 이미지 데이터의 적어도 일부를 전송하도록 구성된 제2 컨트롤러
    　　를 더 포함하는 디스플레이 기기.
  30. 　　제28항에 있어서,
    　　상기 프로세서에 상기 이미지 데이터를 전송하도록 구성된 이미지 소스 모듈을 더 포함하는 디스플레이 기기.
  31. 　　제 30항에 있어서,
    　　상기 이미지 소스 모듈이 수신기, 송수신기, 및 송신기 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  32. 　　제28항에 있어서,
    　　입력 데이터를 수신하고, 이를 상기 프로세서에 전달하도록 구성된 입력 기기를 더 포함하는 디스플레이 기기.
  33. 　　제21항의 방법에 의해 제조된 디스플레이 기기.
  34. 　　광을 간섭 변조하는 변조 수단
    　　상기 변조 수단을 지지하는 지지 수단; 및
    　　상기 변조 수단과 상기 지지 수단 사이에 배치된 투명한 전기 기기
    　　를 포함하고,
    　　상기 변조 수단은 상기 지지 수단 위에 배치되어 있으며,
    　　상기 변조 수단은 상기 투명한 전기 기기에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  35. 　　제 34항에 있어서,
    　　상기 변조 수단이 간섭 변조기 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  36. 　　제 34항 또는 제 35항에 있어서,
    　　상기 지지 수단이 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 기기.
  37. 삭제
  38. 　　간섭 변조기를 구동시키는 방법에 있어서,
    　　투명한 기판 위에 배치된 간섭 변조기와 전기적으로 연결된 투명한 전기 기기에 전압을 인가하는 단계; 및
    　　상기 전압이 미리 정해진 임계치를 초과하는 경우에, 상기 간섭 변조기의 이동가능한 층을 상기 간섭 변조기의 고정된 층에 대하여 상대적으로 이동시키는 단계
    　　를 포함하고,
    　　상기 투명한 전기 기기는 상기 간섭 변조기와 상기 투명한 기판 사이에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 간섭 변조기의 구동 방법.
KR1020050088121A 2004-09-27 2005-09-22 투명한 소자가 결합된 디스플레이 기기 및 그 제조 방법 KR101195100B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US61329004P 2004-09-27 2004-09-27
US60/613,290 2004-09-27
US11/139,108 2005-05-27
US11/139,108 US7349136B2 (en) 2004-09-27 2005-05-27 Method and device for a display having transparent components integrated therein

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060092893A KR20060092893A (ko) 2006-08-23
KR101195100B1 true KR101195100B1 (ko) 2012-10-29

Family

ID=35462198

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050088121A KR101195100B1 (ko) 2004-09-27 2005-09-22 투명한 소자가 결합된 디스플레이 기기 및 그 제조 방법

Country Status (13)

Country Link
US (1) US7349136B2 (ko)
EP (1) EP1640336B1 (ko)
JP (1) JP4399404B2 (ko)
KR (1) KR101195100B1 (ko)
AT (1) ATE510794T1 (ko)
AU (1) AU2005203530A1 (ko)
BR (1) BRPI0503867A (ko)
CA (1) CA2517328A1 (ko)
MX (1) MXPA05009861A (ko)
MY (1) MY139407A (ko)
RU (1) RU2005129903A (ko)
SG (1) SG121077A1 (ko)
TW (1) TW200627346A (ko)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7652814B2 (en) 2006-01-27 2010-01-26 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device with integrated optical element
US7450295B2 (en) * 2006-03-02 2008-11-11 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods for producing MEMS with protective coatings using multi-component sacrificial layers
CA2544457C (en) 2006-04-21 2009-07-07 Mostar Directional Technologies Inc. System and method for downhole telemetry
US7706042B2 (en) 2006-12-20 2010-04-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device and interconnects for same
US7719752B2 (en) 2007-05-11 2010-05-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same
US8400408B2 (en) * 2007-06-13 2013-03-19 Apple Inc. Touch screens with transparent conductive material resistors
US7570415B2 (en) * 2007-08-07 2009-08-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device and interconnects for same
US20090078316A1 (en) * 2007-09-24 2009-03-26 Qualcomm Incorporated Interferometric photovoltaic cell
US7864403B2 (en) * 2009-03-27 2011-01-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Post-release adjustment of interferometric modulator reflectivity
KR20130096155A (ko) 2010-04-16 2013-08-29 플렉스 라이팅 투 엘엘씨 필름 기반 라이트가이드를 포함하는 조명 디바이스
EP2558893A4 (en) 2010-04-16 2014-06-11 Flex Lighting Ii Llc SHIELD WITH A FILM-BASED LIGHT GUIDE
JP2013544370A (ja) * 2010-08-17 2013-12-12 クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 干渉ディスプレイデバイスの電荷中性電極の作動及び較正
JP5707780B2 (ja) 2010-08-25 2015-04-30 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置
JP5779852B2 (ja) 2010-08-25 2015-09-16 セイコーエプソン株式会社 波長可変干渉フィルター、光モジュール、および光分析装置
US8786592B2 (en) * 2011-10-13 2014-07-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods and systems for energy recovery in a display
US20130120327A1 (en) * 2011-11-11 2013-05-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Storage capacitor for electromechanical systems and methods of forming the same
US20140268273A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Pixtronix, Inc. Integrated elevated aperture layer and display apparatus
US10029908B1 (en) * 2016-12-30 2018-07-24 Texas Instruments Incorporated Dielectric cladding of microelectromechanical systems (MEMS) elements for improved reliability
DE102020207184B3 (de) * 2020-06-09 2021-07-29 TechnoTeam Holding GmbH Verfahren zur Bestimmung des Relaxationsbeginns nach einem Bildeinbrennvorgang an pixelweise ansteuerbaren optischen Anzeigevorrichtungen

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010055208A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-27 Koichi Kimura Optical element, optical light source unit and optical display device equipped with the optical light source unit
JP2004212670A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光変調素子及び平面表示素子

Family Cites Families (173)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2534846A (en) 1946-06-20 1950-12-19 Emi Ltd Color filter
DE1288651B (de) 1963-06-28 1969-02-06 Siemens Ag Anordnung elektrischer Dipole fuer Wellenlaengen unterhalb 1 mm und Verfahren zur Herstellung einer derartigen Anordnung
US3616312A (en) 1966-04-15 1971-10-26 Ionics Hydrazine manufacture
FR1603131A (ko) 1968-07-05 1971-03-22
US3567847A (en) * 1969-01-06 1971-03-02 Edgar E Price Electro-optical display system
US3653741A (en) 1970-02-16 1972-04-04 Alvin M Marks Electro-optical dipolar material
US3813265A (en) 1970-02-16 1974-05-28 A Marks Electro-optical dipolar material
US3725868A (en) 1970-10-19 1973-04-03 Burroughs Corp Small reconfigurable processor for a variety of data processing applications
US3699242A (en) * 1971-02-24 1972-10-17 Edgar E Price Electro-optical display system
DE2336930A1 (de) 1973-07-20 1975-02-06 Battelle Institut E V Infrarot-modulator (ii.)
US4099854A (en) 1976-10-12 1978-07-11 The Unites States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Optical notch filter utilizing electric dipole resonance absorption
US4196396A (en) 1976-10-15 1980-04-01 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Interferometer apparatus using electro-optic material with feedback
US4389096A (en) 1977-12-27 1983-06-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Image display apparatus of liquid crystal valve projection type
US4445050A (en) 1981-12-15 1984-04-24 Marks Alvin M Device for conversion of light power to electric power
US4663083A (en) 1978-05-26 1987-05-05 Marks Alvin M Electro-optical dipole suspension with reflective-absorptive-transmissive characteristics
US4228437A (en) 1979-06-26 1980-10-14 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Wideband polarization-transforming electromagnetic mirror
NL8001281A (nl) 1980-03-04 1981-10-01 Philips Nv Weergeefinrichting.
DE3012253A1 (de) 1980-03-28 1981-10-15 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zum sichtbarmaschen von ladungsbildern und eine hierfuer geeignete vorichtung
US4377324A (en) 1980-08-04 1983-03-22 Honeywell Inc. Graded index Fabry-Perot optical filter device
US4441791A (en) 1980-09-02 1984-04-10 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror light modulator
FR2506026A1 (fr) 1981-05-18 1982-11-19 Radant Etudes Procede et dispositif pour l'analyse d'un faisceau de rayonnement d'ondes electromagnetiques hyperfrequence
NL8103377A (nl) 1981-07-16 1983-02-16 Philips Nv Weergeefinrichting.
US4571603A (en) 1981-11-03 1986-02-18 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror electrostatic printer
NL8200354A (nl) 1982-02-01 1983-09-01 Philips Nv Passieve weergeefinrichting.
US4500171A (en) 1982-06-02 1985-02-19 Texas Instruments Incorporated Process for plastic LCD fill hole sealing
US4482213A (en) 1982-11-23 1984-11-13 Texas Instruments Incorporated Perimeter seal reinforcement holes for plastic LCDs
US4566935A (en) 1984-07-31 1986-01-28 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4710732A (en) 1984-07-31 1987-12-01 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5061049A (en) 1984-08-31 1991-10-29 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5096279A (en) 1984-08-31 1992-03-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4662746A (en) 1985-10-30 1987-05-05 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4596992A (en) 1984-08-31 1986-06-24 Texas Instruments Incorporated Linear spatial light modulator and printer
US4615595A (en) 1984-10-10 1986-10-07 Texas Instruments Incorporated Frame addressed spatial light modulator
US4617608A (en) 1984-12-28 1986-10-14 At&T Bell Laboratories Variable gap device and method of manufacture
US4660938A (en) * 1985-03-11 1987-04-28 Xerox Corporation Optical display device
US5172262A (en) 1985-10-30 1992-12-15 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4859060A (en) 1985-11-26 1989-08-22 501 Sharp Kabushiki Kaisha Variable interferometric device and a process for the production of the same
GB8610129D0 (en) 1986-04-25 1986-05-29 Secr Defence Electro-optical device
US4748366A (en) 1986-09-02 1988-05-31 Taylor George W Novel uses of piezoelectric materials for creating optical effects
US4786128A (en) 1986-12-02 1988-11-22 Quantum Diagnostics, Ltd. Device for modulating and reflecting electromagnetic radiation employing electro-optic layer having a variable index of refraction
NL8701138A (nl) 1987-05-13 1988-12-01 Philips Nv Electroscopische beeldweergeefinrichting.
DE3716485C1 (de) 1987-05-16 1988-11-24 Heraeus Gmbh W C Xenon-Kurzbogen-Entladungslampe
US4900136A (en) 1987-08-11 1990-02-13 North American Philips Corporation Method of metallizing silica-containing gel and solid state light modulator incorporating the metallized gel
US4857978A (en) 1987-08-11 1989-08-15 North American Philips Corporation Solid state light modulator incorporating metallized gel and method of metallization
US4956619A (en) 1988-02-19 1990-09-11 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
US4856863A (en) 1988-06-22 1989-08-15 Texas Instruments Incorporated Optical fiber interconnection network including spatial light modulator
US5028939A (en) 1988-08-23 1991-07-02 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator system
JP2700903B2 (ja) * 1988-09-30 1998-01-21 シャープ株式会社 液晶表示装置
US4982184A (en) 1989-01-03 1991-01-01 General Electric Company Electrocrystallochromic display and element
US5214420A (en) 1989-02-27 1993-05-25 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator projection system with random polarity light
US5214419A (en) 1989-02-27 1993-05-25 Texas Instruments Incorporated Planarized true three dimensional display
US5206629A (en) 1989-02-27 1993-04-27 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and memory for digitized video display
US5272473A (en) 1989-02-27 1993-12-21 Texas Instruments Incorporated Reduced-speckle display system
US5192946A (en) 1989-02-27 1993-03-09 Texas Instruments Incorporated Digitized color video display system
US5287096A (en) 1989-02-27 1994-02-15 Texas Instruments Incorporated Variable luminosity display system
US5162787A (en) 1989-02-27 1992-11-10 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for digitized video system utilizing a moving display surface
US5170156A (en) 1989-02-27 1992-12-08 Texas Instruments Incorporated Multi-frequency two dimensional display system
US5079544A (en) 1989-02-27 1992-01-07 Texas Instruments Incorporated Standard independent digitized video system
US4900395A (en) 1989-04-07 1990-02-13 Fsi International, Inc. HF gas etching of wafers in an acid processor
US5022745A (en) 1989-09-07 1991-06-11 Massachusetts Institute Of Technology Electrostatically deformable single crystal dielectrically coated mirror
US4954789A (en) 1989-09-28 1990-09-04 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
US5381253A (en) * 1991-11-14 1995-01-10 Board Of Regents Of University Of Colorado Chiral smectic liquid crystal optical modulators having variable retardation
US5124834A (en) 1989-11-16 1992-06-23 General Electric Company Transferrable, self-supporting pellicle for elastomer light valve displays and method for making the same
US5037173A (en) 1989-11-22 1991-08-06 Texas Instruments Incorporated Optical interconnection network
US5500635A (en) * 1990-02-20 1996-03-19 Mott; Jonathan C. Products incorporating piezoelectric material
CH682523A5 (fr) 1990-04-20 1993-09-30 Suisse Electronique Microtech Dispositif de modulation de lumière à adressage matriciel.
GB9012099D0 (en) 1990-05-31 1990-07-18 Kodak Ltd Optical article for multicolour imaging
US5216537A (en) 1990-06-29 1993-06-01 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5142405A (en) 1990-06-29 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Bistable dmd addressing circuit and method
US5083857A (en) * 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5018256A (en) 1990-06-29 1991-05-28 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
DE69113150T2 (de) 1990-06-29 1996-04-04 Texas Instruments Inc Deformierbare Spiegelvorrichtung mit aktualisiertem Raster.
US5099353A (en) 1990-06-29 1992-03-24 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5153771A (en) * 1990-07-18 1992-10-06 Northrop Corporation Coherent light modulation and detector
US5192395A (en) 1990-10-12 1993-03-09 Texas Instruments Incorporated Method of making a digital flexure beam accelerometer
US5044736A (en) 1990-11-06 1991-09-03 Motorola, Inc. Configurable optical filter or display
US5602671A (en) * 1990-11-13 1997-02-11 Texas Instruments Incorporated Low surface energy passivation layer for micromechanical devices
US5331454A (en) 1990-11-13 1994-07-19 Texas Instruments Incorporated Low reset voltage process for DMD
FR2669466B1 (fr) 1990-11-16 1997-11-07 Michel Haond Procede de gravure de couches de circuit integre a profondeur fixee et circuit integre correspondant.
US5233459A (en) 1991-03-06 1993-08-03 Massachusetts Institute Of Technology Electric display device
US5136669A (en) 1991-03-15 1992-08-04 Sperry Marine Inc. Variable ratio fiber optic coupler optical signal processing element
CA2063744C (en) 1991-04-01 2002-10-08 Paul M. Urbanus Digital micromirror device architecture and timing for use in a pulse-width modulated display system
US5142414A (en) 1991-04-22 1992-08-25 Koehler Dale R Electrically actuatable temporal tristimulus-color device
US5226099A (en) 1991-04-26 1993-07-06 Texas Instruments Incorporated Digital micromirror shutter device
FR2679057B1 (fr) 1991-07-11 1995-10-20 Morin Francois Structure d'ecran a cristal liquide, a matrice active et a haute definition.
US5179274A (en) 1991-07-12 1993-01-12 Texas Instruments Incorporated Method for controlling operation of optical systems and devices
US5168406A (en) 1991-07-31 1992-12-01 Texas Instruments Incorporated Color deformable mirror device and method for manufacture
US5254980A (en) 1991-09-06 1993-10-19 Texas Instruments Incorporated DMD display system controller
US5233385A (en) 1991-12-18 1993-08-03 Texas Instruments Incorporated White light enhanced color field sequential projection
US5233456A (en) 1991-12-20 1993-08-03 Texas Instruments Incorporated Resonant mirror and method of manufacture
US5228013A (en) 1992-01-10 1993-07-13 Bik Russell J Clock-painting device and method for indicating the time-of-day with a non-traditional, now analog artistic panel of digital electronic visual displays
US5296950A (en) 1992-01-31 1994-03-22 Texas Instruments Incorporated Optical signal free-space conversion board
US5231532A (en) 1992-02-05 1993-07-27 Texas Instruments Incorporated Switchable resonant filter for optical radiation
US5212582A (en) 1992-03-04 1993-05-18 Texas Instruments Incorporated Electrostatically controlled beam steering device and method
EP0562424B1 (en) 1992-03-25 1997-05-28 Texas Instruments Incorporated Embedded optical calibration system
US5312513A (en) 1992-04-03 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Methods of forming multiple phase light modulators
JPH07508856A (ja) * 1992-04-08 1995-09-28 ジョージア テック リサーチ コーポレイション 成長基板から薄膜材料をリフトオフするためのプロセス
US5311360A (en) 1992-04-28 1994-05-10 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for modulating a light beam
TW245772B (ko) * 1992-05-19 1995-04-21 Akzo Nv
JPH0651250A (ja) * 1992-05-20 1994-02-25 Texas Instr Inc <Ti> モノリシックな空間的光変調器およびメモリのパッケージ
US5818095A (en) * 1992-08-11 1998-10-06 Texas Instruments Incorporated High-yield spatial light modulator with light blocking layer
US5345328A (en) 1992-08-12 1994-09-06 Sandia Corporation Tandem resonator reflectance modulator
US5293272A (en) 1992-08-24 1994-03-08 Physical Optics Corporation High finesse holographic fabry-perot etalon and method of fabricating
US5737050A (en) * 1992-08-25 1998-04-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Light valve having reduced reflected light, high brightness and high contrast
US5327286A (en) 1992-08-31 1994-07-05 Texas Instruments Incorporated Real time optical correlation system
US5325116A (en) 1992-09-18 1994-06-28 Texas Instruments Incorporated Device for writing to and reading from optical storage media
US5296775A (en) 1992-09-24 1994-03-22 International Business Machines Corporation Cooling microfan arrangements and process
US6674562B1 (en) * 1994-05-05 2004-01-06 Iridigm Display Corporation Interferometric modulation of radiation
US5324683A (en) 1993-06-02 1994-06-28 Motorola, Inc. Method of forming a semiconductor structure having an air region
US5489952A (en) * 1993-07-14 1996-02-06 Texas Instruments Incorporated Method and device for multi-format television
US5497197A (en) * 1993-11-04 1996-03-05 Texas Instruments Incorporated System and method for packaging data into video processor
US5500761A (en) * 1994-01-27 1996-03-19 At&T Corp. Micromechanical modulator
JPH07253594A (ja) * 1994-03-15 1995-10-03 Fujitsu Ltd 表示装置
US7550794B2 (en) * 2002-09-20 2009-06-23 Idc, Llc Micromechanical systems device comprising a displaceable electrode and a charge-trapping layer
US6680792B2 (en) * 1994-05-05 2004-01-20 Iridigm Display Corporation Interferometric modulation of radiation
US6710908B2 (en) * 1994-05-05 2004-03-23 Iridigm Display Corporation Controlling micro-electro-mechanical cavities
US6040937A (en) * 1994-05-05 2000-03-21 Etalon, Inc. Interferometric modulation
US5497172A (en) * 1994-06-13 1996-03-05 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulation for spatial light modulator with split reset addressing
US5499062A (en) * 1994-06-23 1996-03-12 Texas Instruments Incorporated Multiplexed memory timing with block reset and secondary memory
US5610624A (en) * 1994-11-30 1997-03-11 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with reduced possibility of an on state defect
US5726480A (en) * 1995-01-27 1998-03-10 The Regents Of The University Of California Etchants for use in micromachining of CMOS Microaccelerometers and microelectromechanical devices and method of making the same
US5610438A (en) * 1995-03-08 1997-03-11 Texas Instruments Incorporated Micro-mechanical device with non-evaporable getter
US6969635B2 (en) * 2000-12-07 2005-11-29 Reflectivity, Inc. Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates
US5710656A (en) * 1996-07-30 1998-01-20 Lucent Technologies Inc. Micromechanical optical modulator having a reduced-mass composite membrane
US5884083A (en) * 1996-09-20 1999-03-16 Royce; Robert Computer system to compile non-incremental computer source code to execute within an incremental type computer system
DE69806846T2 (de) * 1997-05-08 2002-12-12 Texas Instruments Inc Verbesserungen für räumliche Lichtmodulatoren
US5867302A (en) * 1997-08-07 1999-02-02 Sandia Corporation Bistable microelectromechanical actuator
CN1283369A (zh) * 1997-10-31 2001-02-07 大宇电子株式会社 光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法
US6028690A (en) * 1997-11-26 2000-02-22 Texas Instruments Incorporated Reduced micromirror mirror gaps for improved contrast ratio
US6180428B1 (en) * 1997-12-12 2001-01-30 Xerox Corporation Monolithic scanning light emitting devices using micromachining
US6016693A (en) * 1998-02-09 2000-01-25 The Regents Of The University Of California Microfabrication of cantilevers using sacrificial templates
US6195196B1 (en) * 1998-03-13 2001-02-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Array-type exposing device and flat type display incorporating light modulator and driving method thereof
JP4074714B2 (ja) * 1998-09-25 2008-04-09 富士フイルム株式会社 アレイ型光変調素子及び平面ディスプレイの駆動方法
US6323834B1 (en) * 1998-10-08 2001-11-27 International Business Machines Corporation Micromechanical displays and fabrication method
US6194323B1 (en) * 1998-12-16 2001-02-27 Lucent Technologies Inc. Deep sub-micron metal etch with in-situ hard mask etch
US6335831B2 (en) * 1998-12-18 2002-01-01 Eastman Kodak Company Multilevel mechanical grating device
US6537427B1 (en) * 1999-02-04 2003-03-25 Micron Technology, Inc. Deposition of smooth aluminum films
JP3592136B2 (ja) * 1999-06-04 2004-11-24 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドおよびその製造方法と微小電気機械装置の製造方法
US6201633B1 (en) * 1999-06-07 2001-03-13 Xerox Corporation Micro-electromechanical based bistable color display sheets
US6359673B1 (en) * 1999-06-21 2002-03-19 Eastman Kodak Company Sheet having a layer with different light modulating materials
WO2003007049A1 (en) * 1999-10-05 2003-01-23 Iridigm Display Corporation Photonic mems and structures
US6351329B1 (en) * 1999-10-08 2002-02-26 Lucent Technologies Inc. Optical attenuator
US6960305B2 (en) * 1999-10-26 2005-11-01 Reflectivity, Inc Methods for forming and releasing microelectromechanical structures
US6531945B1 (en) * 2000-03-10 2003-03-11 Micron Technology, Inc. Integrated circuit inductor with a magnetic core
EP1172681A3 (en) * 2000-07-13 2004-06-09 Creo IL. Ltd. Blazed micro-mechanical light modulator and array thereof
US6853129B1 (en) * 2000-07-28 2005-02-08 Candescent Technologies Corporation Protected substrate structure for a field emission display device
US6522801B1 (en) * 2000-10-10 2003-02-18 Agere Systems Inc. Micro-electro-optical mechanical device having an implanted dopant included therein and a method of manufacture therefor
US6859218B1 (en) * 2000-11-07 2005-02-22 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Electronic display devices and methods
US6531767B2 (en) * 2001-04-09 2003-03-11 Analog Devices Inc. Critically aligned optical MEMS dies for large packaged substrate arrays and method of manufacture
US7005314B2 (en) * 2001-06-27 2006-02-28 Intel Corporation Sacrificial layer technique to make gaps in MEMS applications
KR100437825B1 (ko) * 2001-07-06 2004-06-26 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치용 어레이기판
US6782166B1 (en) * 2001-12-21 2004-08-24 United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Optically transparent electrically conductive charge sheet poling electrodes to maximize performance of electro-optic devices
US7027200B2 (en) * 2002-03-22 2006-04-11 Reflectivity, Inc Etching method used in fabrications of microstructures
US7029829B2 (en) * 2002-04-18 2006-04-18 The Regents Of The University Of Michigan Low temperature method for forming a microcavity on a substrate and article having same
US7071289B2 (en) * 2002-07-11 2006-07-04 The University Of Connecticut Polymers comprising thieno [3,4-b]thiophene and methods of making and using the same
US20040058531A1 (en) * 2002-08-08 2004-03-25 United Microelectronics Corp. Method for preventing metal extrusion in a semiconductor structure.
US6674033B1 (en) * 2002-08-21 2004-01-06 Ming-Shan Wang Press button type safety switch
TW544787B (en) * 2002-09-18 2003-08-01 Promos Technologies Inc Method of forming self-aligned contact structure with locally etched gate conductive layer
TWI289708B (en) * 2002-12-25 2007-11-11 Qualcomm Mems Technologies Inc Optical interference type color display
TW557395B (en) * 2003-01-29 2003-10-11 Yen Sun Technology Corp Optical interference type reflection panel and the manufacturing method thereof
TW567355B (en) * 2003-04-21 2003-12-21 Prime View Int Co Ltd An interference display cell and fabrication method thereof
US6829132B2 (en) * 2003-04-30 2004-12-07 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Charge control of micro-electromechanical device
TW570896B (en) * 2003-05-26 2004-01-11 Prime View Int Co Ltd A method for fabricating an interference display cell
US7173314B2 (en) * 2003-08-13 2007-02-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Storage device having a probe and a storage cell with moveable parts
TWI305599B (en) * 2003-08-15 2009-01-21 Qualcomm Mems Technologies Inc Interference display panel and method thereof
TW200506479A (en) * 2003-08-15 2005-02-16 Prime View Int Co Ltd Color changeable pixel for an interference display
TW593127B (en) * 2003-08-18 2004-06-21 Prime View Int Co Ltd Interference display plate and manufacturing method thereof
TWI231865B (en) * 2003-08-26 2005-05-01 Prime View Int Co Ltd An interference display cell and fabrication method thereof
US20050057442A1 (en) * 2003-08-28 2005-03-17 Olan Way Adjacent display of sequential sub-images
TWI232333B (en) * 2003-09-03 2005-05-11 Prime View Int Co Ltd Display unit using interferometric modulation and manufacturing method thereof
US6982820B2 (en) * 2003-09-26 2006-01-03 Prime View International Co., Ltd. Color changeable pixel
US20050068583A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Gutkowski Lawrence J. Organizing a digital image
US7184202B2 (en) * 2004-09-27 2007-02-27 Idc, Llc Method and system for packaging a MEMS device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010055208A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-27 Koichi Kimura Optical element, optical light source unit and optical display device equipped with the optical light source unit
JP2004212670A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Fuji Photo Film Co Ltd 光変調素子及び平面表示素子

Also Published As

Publication number Publication date
AU2005203530A1 (en) 2006-04-13
MXPA05009861A (es) 2006-03-29
MY139407A (en) 2009-09-30
CA2517328A1 (en) 2006-03-27
ATE510794T1 (de) 2011-06-15
EP1640336B1 (en) 2011-05-25
JP4399404B2 (ja) 2010-01-13
BRPI0503867A (pt) 2006-05-09
TW200627346A (en) 2006-08-01
SG121077A1 (en) 2006-04-26
EP1640336A3 (en) 2007-03-07
US20060077151A1 (en) 2006-04-13
KR20060092893A (ko) 2006-08-23
JP2006099078A (ja) 2006-04-13
US7349136B2 (en) 2008-03-25
RU2005129903A (ru) 2007-04-10
EP1640336A2 (en) 2006-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101195100B1 (ko) 투명한 소자가 결합된 디스플레이 기기 및 그 제조 방법
KR101290628B1 (ko) 미소 기전 시스템 전기 스위치를 구비한 간섭 변조기 어레이
US7612932B2 (en) Microelectromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function
KR101232205B1 (ko) 간섭 변조기 어레이용 도전성 버스 구조체
JP5065487B2 (ja) 機械的および電気的機能から分離された光学的機能を備えた微小電気機械デバイス
KR20060092907A (ko) 전기적으로 프로그램가능한 디스플레이를 위한 방법 및장치
KR20090028528A (ko) 정전 작동 및 해제를 갖는 아날로그 간섭계 변조기
KR20070061821A (ko) 아날로그 간섭 변조기 기기
KR20140006746A (ko) 커패시터 및 ｒｆ 기기
KR20070062517A (ko) 미소 기전 시스템 디스플레이 소자의 작동을 위한 시스템및 방법
KR20060092901A (ko) 비사각형 어레이로 배열된 반사형 디스플레이 픽셀
KR20090033457A (ko) 디스플레이 입력을 역다중화하기 위한 수동적 회로
KR101258880B1 (ko) 세트 및 래치 전극을 가지는 미소 기전 시스템 스위치
US8022896B2 (en) ESD protection for MEMS display panels
TWI403456B (zh) 微機電裝置、微機電開關、包含微機電開關之顯示系統、及操作及製造微機電開關之方法
CN100487547C (zh) 用于其中集成有透明组件的显示器的方法和装置
KR101169971B1 (ko) 스태거링된 수직열 구동 회로 시스템 및 그 구동 방법

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee