KR101173344B1 - 태양전지 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

실시예에 따른 태양전지는, 기판 상에 형성되고 제1 관통홀에 의하여 분리된 후면전극; 상기 제1 관통홀을 포함하는 상기 후면전극 상에 형성된 광 흡수층; 상기 광 흡수층을 관통하여 상기 후면전극을 노출시키는 제2 관통홀; 상기 광 흡수층의 표면에 형성된 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 형성된 전면전극층; 및 상기 전면전극층에서 연장되어 상기 제2 관통홀 내부에 형성된 접속배선을 포함한다.
태양전지, 기판

Description

태양전지 및 이의 제조방법{SOLAR CELL AND MEHTOD OF FABRICATING THE SAME}
실시예는 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
최근 에너지의 수요가 증가함에 따라서, 태양광 에너지를 전기에너지로 변환시키는 태양전지들에 대한 개발이 진행되고 있다.
특히, 유리 기판, 금속 후면 전극층, p형 CIGS계 광 흡수층, 버퍼층, n형 창층 등을 포함하는 기판 구조의 pn 헤테로 접합 장치인 CIGS계 태양전지가 사용되고 있다.
상기 후면전극층과 n형 창층은 상기 광 흡수층 및 버퍼층에 형성된 관통홀을 통해 연결될 수 있다
상기 관통홀은 기계적 또는 레이저를 이용한 패터닝 공정에 의하여 형성되므로 파티클 등이 남아있을 수 있게 되어, 태양전지 셀의 직렬저항 및 누설전류를 발생의 요인이 될 수 있다.
또한, 상기 광 흡수층은 고온에서 형성되므로, 고온 공정을 견딜 수 있는 강성의 기판을 사용하게 된다. 따라서, 기판 사용에 제약이 따를 수 있다.
실시예에서는 전기적 특성을 향상시킬 수 있는 태양전지 및 이의 제조방법을 제공한다.
실시예에 따른 태양전지는, 기판 상에 형성되고 제1 관통홀에 의하여 분리된 후면전극; 상기 제1 관통홀을 포함하는 상기 후면전극 상에 형성된 광 흡수층; 상기 광 흡수층을 관통하여 상기 후면전극을 노출시키는 제2 관통홀; 상기 광 흡수층의 표면에 형성된 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 형성된 전면전극층; 및 상기 전면전극층에서 연장되어 상기 제2 관통홀 내부에 형성된 접속배선을 포함한다.
실시예에 따른 태양전지의 제조방법은, 지지기판 상에 후면전극층을 형성하고, 상기 후면전극층이 상호 분리되도록 제1 관통홀을 단계; 캐리어 기판 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 제1 관통홀과 인접하는 위치를 가지도록 상기 광 흡수층을 관통하는 제2 관통홀을 형성하는 단계; 상기 지지기판과 상기 캐리어 기판을 본딩하여, 상기 후면전극층 상에 상기 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 캐리어 기판을 제거하고, 상기 광 흡수층을 노출시키는 단계; 상기 광 흡수층의 표면에 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층 상에 전면전극층을 형성하고, 상기 제2 관통홀의 내부에는 접속배선을 형성하는 단계를 포함한다.
실시예에 의하면, 태양전지의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.
특히, 광기전력을 발생시키는 CIGS 광 흡수층이 셀별로 패터닝 되고, 상기 광 흡수층의 노출된 표면에 버퍼층이 형성되어 있으므로, 리키지 커런트를 방지할 수 있다.
또한, 상기 광 흡수층과 버퍼층의 접합면적 확장에 따라, 광전하 발생률을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 광 흡수층은 캐리어 기판에 별도로 형성한 후, 후면전극층이 형성된 지지기판과 본딩될 수 있다.
이에 따라, 상기 지지기판은 다양한 기판, 즉, 하드 또는 플렉서블한 기판의 사용이 가능하다. 또한, 상기 기판은 슬림화, 경량화될 수 있으므로 다양한 영역에 적용될 수 있다.
또한, 상기 광 흡수층은 캐리어 기판 상에 형성되고, 고온공정이 가능하므로, 상기 광 흡수층의 결정화도를 높일 수 있다.
이에 따라, 상기 광 흡수층의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따른 태양전지는 다양한 기판, 즉 하드 또는 플렉서블한 기판의 적용이 가능하다.
실시 예의 설명에 있어서, 각 기판, 층, 막, 결정 또는 전극 등이 각 기판, 층, 막, 결정 또는 전극 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요 소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.
도 1 내지 도 10은 실시예에 따른 태양전지의 제조방법을 도시한 단면도이다.
도 1을 참조하여, 지지기판(100) 상에 후면전극층(200) 및 전도성 접착층(300)이 형성된다.
상기 지지기판(100)은 유리(glass)가 사용될 수 있으며, 세라믹 기판, 금속기판 또는 폴리머 기판 등도 사용될 수 있다.
예를 들어, 유리 기판으로는 소다라임 유리(sodalime glass) 또는 고변형점 소다유리(high strained point soda glass)를 사용할 수 있다. 금속 기판으로는 스테인레스 스틸 또는 티타늄을 포함하는 기판을 사용할 수 있다 폴리머 기판으로는 폴리이미드(polyimide)를 사용할 수 있다.
상기 지지기판(100)은 투명할 수 있다. 상기 지지기판(100)은 리지드(rigid)하거나 플렉서블(flexible) 할 수 있다.
특히, 실시예에서는 상기 지지기판(100)은 플렉서블한 연성 기판을 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 지지기판(100)은 플라스틱과 같은 폴리머 계열 및 스테인레스(SUS) 계열의 플렉서블 기판이 사용될 수 있다.
상기 후면전극층(200)은 금속 등의 도전체로 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 후면전극층(200)은 몰리브덴(Mo)을 타겟으로 사용하여, 스 퍼터링(sputtering) 공정에 의해 형성될 수 있다.
이는, 몰리브덴(Mo)이 가진 높은 전기전도도, 광 흡수층과의 오믹(ohmic) 접합, Se 분위기 하에서의 고온 안정성 때문이다.
상기 후면전극층(200)인 몰리브덴(Mo) 박막은 전극으로서 비저항이 낮아야하고, 열팽창 계수의 차이로 인하여 박리현상이 일어나지 않도록 기판(100)에의 점착성이 뛰어나야 한다.
한편, 상기 후면전극층(200)을 형성하는 물질은 이에 한정되지 않고, 나트륨(Na) 이온이 도핑된 몰리브덴(Mo)으로 형성될 수도 있다.
도면에 도시되지는 않았지만, 상기 후면전극층(200)은 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다. 상기 후면전극층(200)이 복수개의 층으로 형성될 때, 상기 후면전극층(200)을 이루는 층들은 서로 다른 물질로 형성될 수 있다.
상기 후면전극층(200) 상에 전도성 접착층(300)이 형성된다.
상기 전도성 접착층(300)은 전도성 접착제일 수 있다.
예를 들어, 상기 전도성 접착층(300)은 카본, 알루미늄 또는 텅스텐과 같은 금속, 수지 및 플릿(frit)이 혼합되어 있는 접착성 물질일 수 있다.
상기 전도성 접착층(300)의 저항률은 1×10-5~10×10- 5 로서 상기 후면전극층(200)과 전기적으로 연결될 수 있다.
도 2를 참조하여, 상기 후면전극층(200) 및 전도성 접착층(300)을 관통하는 제1 관통홀(P1)이 형성된다. 상기 제1 관통홀(P1)은 상기 지지기판(100)의 상면을 노출시킬 수 있다.
상기 제1 관통홀(P1)에 의하여 상기 후면전극층(200) 및 전도성 접착층(300)은 다수개로 분리될 수 있다.
상기 제1 관통홀(P1)에 의하여 상기 후면전극층(200) 및 전도성 접착층(300)은 스트라이프(stripe) 형태 또는 매트릭스(matrix) 형태로 배치될 수 있으며, 각각의 셀에 대응할 수 있다.
한편, 상기 후면전극층(200)은 상기의 형태에 한정되지 않고 다양한 형태로 형성될 수 있다.
도 3을 참조하여, 캐리어 기판(110) 상에 서브 전극층(210) 및 광 흡수층(400)이 형성된다.
상기 캐리어 기판(110)은 유리(glass)가 사용될 수 있으며, 세라믹 기판, 금속기판 또는 폴리머 기판 등도 사용될 수 있다.
상기 캐리어 기판(100)은 리지드(rigid)한 강성의 기판을 사용할 수 있다.
예를 들어, 상기 캐리어 기판(110)은 소다라임 글래스, 넌-알칼리 글래스 및 로우-알칼리 글래스가 사용될 수 있다.
상기 캐리어 기판(110)은 상기 지지기판(100)에 비하여 상대적으로 두꺼운 두께로 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 지지기판(100)과 캐리어 기판(110)은 1:3~10의 두께를 가지도록 형성될 수 있다.
이는 상기 광 흡수층(400)이 고온에서 형성되기 때문에 상기 캐리어 기판(110)은 고온공정을 견딜 수 있도록 충분히 두꺼운 두께 및 단단한 성질을 가져 야만 하기 때문이다.
상기 캐리어 기판(110) 상에 상기 서브 전극층(210)이 형성된다. 상기 서브 전극층(210)은 금속 등의 도전체로 형성될 수 있다.
상기 서브 전극층(210)은 열팽창 계수의 차이로 인하여 박리현상이 일어나지 않도록 상기 캐리어 기판(110)과의 점착성이 뛰어나야 한다.
예를 들어, 상기 서브 전극층(210)은 몰리브덴(Mo)을 타겟으로 사용하여, 스퍼터링(sputtering) 공정에 의해 형성될 수 있다.
한편, 상기 서브 전극층(210)은 형성되지 않을 수도 있다.
상기 서브 전극층(210) 상에 광 흡수층(400)이 형성된다.
상기 광 흡수층(400)은 Ⅰb-Ⅲb-Ⅵb계 화합물을 포함한다
더 자세하게, 상기 광 흡수층(400)은 구리-인듐-갈륨-셀레나이드계(Cu(In, Ga)Se2, CIGS계) 화합물을 포함한다.
이와는 다르게, 상기 광 흡수층(400)은 구리-인듐-셀레나이드계(CuInSe2, CIS계) 화합물 또는 구리-갈륨-셀레나이드계(CuGaSe2, CGS계) 화합물을 포함할 수 있다.
예를 들어, 상기 광 흡수층(400)을 형성하기 위해서, 구리 타겟, 인듐 타겟 및 갈륨 타겟을 사용하여, 상기 서브 전극층(210) 상에 CIG계 금속 프리커서(precursor)막이 형성된다.
이후, 상기 금속 프리커서막은 셀레니제이션(selenization) 공정에 의해서, 셀레늄(Se)과 반응하여 CIGS계 광 흡수층(400)이 형성된다.
또한, 상기 광 흡수층(400)은 구리,인듐,갈륨,셀레나이드(Cu, In, Ga, Se)를 동시증착법(co-evaporation)에 의해 형성할 수도 있다.
상기 광 흡수층(400)은 외부의 광을 입사받아, 전기 에너지로 변환시킨다. 상기 광 흡수층(400)은 광전효과에 의해서 광 기전력을 생성한다.
상기 광 흡수층(400)은 1000℃ 이상의 고온에서 형성되므로, CIGS 화합물의 결정화도가 향상될 수 있다.
도 4를 참조하여, 상기 광 흡수층(400)을 관통하는 제2 관통홀(P2)이 형성된다. 상기 제2 관통홀(P2)은 상기 서브 전극층(210)을 노출시킬 수 있다.
상기 제2 관통홀(P2)에 의하여 상기 광 흡수층(400)은 이웃하는 광 흡수층과 상호 분리되고, 셀 별로 분리될 수 있다.
도 5 및 도 6을 참조하여, 상기 지지기판(100)과 상기 캐리어 기판(110)의 본딩공정을 진행한다.
상기 본딩공정에 의하여 상기 지지기판(100)과 상기 캐리어 기판(110)은 일체가 된다.
상기 본딩공정은 상기 지지기판(100) 상에 형성된 전도성 접착층(300)과 상기 캐리어 기판(110)의 광 흡수층(400)을 마주하도록 위치시킨 후 진행할 수 있다.
특히, 상기 본딩공정 시 열 또는 압력이 인가되어 상기 지지기판(100)과 상기 캐리어 기판(110)의 본딩력을 향상시킬 수도 있다.
상기 전도성 접착층(300)에 의하여 상기 후면전극층(200) 상에 상기 광 흡수 층(400)이 형성될 수 있다.
도 7을 참조하여, 상기 캐리어 기판(110) 및 서브 전극층(210)이 제거되고, 상기 광 흡수층(400)이 노출될 수 있다.
상기 캐리어 기판(110) 및 서브 전극층(210)은 리프트 오프(lift-off)를 통해 상기 광 흡수층(400)에서 제거될 수 있다.
따라서, 상기 지지기판(100) 상에는 후면전극층(200), 전도성 접착층(300), 광 흡수층(400)이 적층된 상태가 된다.
상기 전도성 접착층(300)은 전도성 물질이므로 상기 후면전극층(200) 및 광 흡수층(400)은 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 상기 후면전극층(200)의 제1 관통홀(P1)과 상기 광 흡수층(400)의 제2 관통홀(P2)은 인접하여 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 제1 관통홀(P1)과 상기 제2 관통홀(P2)은 제1 갭(G1)은 약 80±20㎛일 수 있다.
상기와 같이 광 흡수층(400)은 별도의 캐리어 기판(110)에 형성한 후, 상기 지지기판(100)과 본딩하여 상기 후면전극층(200) 상에 광 흡수층(400)이 형성될 수 있다.
이에 따라, 상기 지지기판(100)에는 광 흡수층 형성을 위한 고온공정이 진행되지 않으므로, 상기 지지기판(100)의 디펙트를 방지할 수 있다.
또한, 상기 지지기판(100)에 고온공정이 인가되지 않으므로, 상기 지지기판(100)은 경량화, 슬림화될 수 있다.
또한, 상기 광 흡수층(400)이 캐리어 기판(110)에서 형성되므로 고온공정의 진행이 가능하여, 상기 광 흡수층(400)을 이루는 CIGS 화합물의 결정화를 높일 수 있다.
이에 따라, 상기 광 흡수층(400)의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.
도 8을 참조하여, 상기 광 흡수층(400)의 표면을 따라 버퍼층(500) 및 고저항 버퍼층(600)이 적층된다.
상기 버퍼층(500) 및 고저항 버퍼층(600)은 상기 광 흡수층(400)의 상면 및 측면에만 선택적으로 형성되어, 상기 제2 관통홀(P2)의 바닥면인 상기 전도성 접착층(300)의 일부를 선택적으로 노출시킬 수 있다.
예를 들어, 상기 버퍼층(500)을 상기 광 흡수층(400) 및 제2 관통홀(P2)의 표면 프로파일을 따라 형성한 후, 상기 고저항 버퍼층(600)을 상기 버퍼층의 표면 프로파일을 따라 형성한다.
그리고, 상기 제2 관통홀(P2)의 바닥면인 상기 전도성 접착층(300)이 노출되도록 스크라이빙 공정을 진행할 수 있다. 상기 스크라이빙 공정은 레이저 또는 기계적 패터닝으로 진행될 수 있다.
이때, 상기 제2 관통홀(P2)은 상기 전도성 접착층(300)의 표면을 노출시킬 수도 있지만, 상기 후면전극층(200)의 표면을 노출시키도록 형성될 수 있다.
상기 버퍼층(500)은 상기 광 흡수층(400) 상에 적어도 하나 이상의 층으로 형성될 수 있다. 상기 버퍼층은 CBD 공정을 통해 황화 카드뮴(CdS)이 적층되어 형성될 수 있다.
이때, 상기 버퍼층(500)은 n형 반도체 층이고, 상기 광 흡수층(400)은 p형 반도체 층이다. 따라서, 상기 광 흡수층(400) 및 버퍼층(500)은 pn접합을 형성한다.
특히, 상기 버퍼층(500)은 상기 광 흡수층(400)의 상면 및 측면을 감싸도록 형성되고, 상기 버퍼층(500)과 광 흡수층(400)의 접촉면적은 확장될 수 있다.
이에 따라, pn 접합 영역이 확장되고, 광 전하 발생률을 높일 수 있다.
또한, 상기 버퍼층(500)이 상기 광 흡수층(400)의 표면에만 선택적으로 형성되어 있으므로, 인접하는 셀간의 누설전류를 방지할 수 있다.
상기 고저항 버퍼층(600)은 산화 아연(ZnO)를 타겟으로 한 스퍼터링 공정을 진행하여, 상기 황화 카드뮴(CdS) 상에 산화 아연층이 더 형성될 수 있다.
상기 고저항 버퍼층(600)은 상기 버퍼층(500) 상에 투명전극층으로 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 고저항 버퍼층(600)은 ITO, ZnO 및 i-ZnO 중 어느 하나로 형성될 수 있다.
상기 버퍼층(500) 및 고저항 버퍼층(600)은 상기 광 흡수층(400)과 이후 형성된 전면전극의 사이에 배치된다.
즉, 상기 광 흡수층(400)과 전면전극층은 격자상수와 에너지 밴드 갭의 차이가 크기 때문에, 밴드 갭이 두 물질의 중간에 위치하는 상기 버퍼층(500) 및 고저항 버퍼층을 삽입하여 양호한 접합을 형성할 수 있다.
본 실시예에서는 두 개의 버퍼층(500)을 상기 광 흡수층(400) 상에 형성하였 지만, 이에 한정되지 않고, 상기 버퍼층(500)은 한개의 층으로만 형성될 수 있다.
도 9를 참조하여, 상기 제2 관통홀(P2)을 포함하는 상기 고저항 버퍼층(600) 상에 투명한 도전물질을 적층하여 전면전극층(700)이 형성된다.
상기 전면전극층(700)이 형성될 때, 상기 투명한 도전물질이 상기 제2 관통홀(P2)에도 삽입되어 접속배선(800)을 형성할 수 있다. 즉, 상기 접속배선(800)은 상기 전도성 접착층(300)과 접촉할 수 있다.
상기 전면전극층(700)은 스퍼터링 공정을 진행하여 알루미늄(Al) 또는 알루미나(Aㄴl2O3)로 도핑된 산화 아연으로 형성된다.
상기 전면전극층(700)은 상기 광 흡수층(400)과 pn접합을 형성하는 윈도우(window)층으로서, 태양전지 전면의 투명전극의 기능을 하기 때문에 광투과율이 높고 전기 전도성이 좋은 산화 아연(ZnO)으로 형성된다.
따라서, 상기 산화 아연에 알루미늄 또는 알루미나를 도핑함으로써 낮은 저항값을 갖는 전극을 형성할 수 있다.
상기 전면전극층(700)인 산화 아연 박막은 RF 스퍼터링방법으로 ZnO 타겟을 사용하여 증착하는 방법과 Zn 타겟을 이용한 반응성 스퍼터링, 그리고 유기금속화학증착법 등으로 형성될 수 있다.
또한, 전기광학적 특성이 뛰어난 ITO(Indium Thin Oxide) 박막을 산화 아연 박막 상에 층착한 2중 구조를 형성할 수도 있다.
상기 접속배선(800)에 의해 각각의 셀은 서로 연결될 수 있다. 즉, 상기 접속배선(800)은 상호 인접하는 셀의 후면전극층(200)과 전면전극층(700)을 물리적, 전기적으로 연결할 수 있다.
도시되지는 않았지만, 상기 접속배선(800)은 상기 제2 관통홀(P2)을 통해 상기 후면전극층(200)과 직접 접촉할 수도 있다. 이에 따라, 상기 접속배선(800)과 상기 후면전극층(200)의 콘택특성을 향상시킬 수 있다.
상기 접속배선(800)의 주위에 상기 버퍼층(500) 및 고저항 버퍼층(600)이 형성되어 있으므로, 상기 접속배선(800)과 후면전극층(200)의 전기적 접합특성이 향상되어 전류의 이동이 양호할 수 있다.
즉, 상기 광 흡수층(400)과 상기 접속배선(800) 사이에 버퍼층(500) 및 고저항 버퍼층(600)이 배치되어 있으므로, 상기 접속배선(800)의 리키지 커런트 발생을 완전히 차단시키고 직렬저항 성분을 감소시킴으로써 태양전지의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.
도 10을 참조하여, 상기 전면전극층(700), 고저항 버퍼층(600), 버퍼층(500) 및 광 흡수층(400)을 관통하는 제3 관통홀(P3)이 형성된다.
상기 제3 관통홀(P3)은 상기 후면전극층(200)을 선택적으로 노출시킬 수 있다. 상기 제3 관통홀(P3)은 상기 제2 관통홀(P2)과 인접하도록 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 제2 관통홀(P2)과 제3 관통홀(P3)의 제2 갭(G2)은 80±20일 수 있다.
상기 제3 관통홀(P3)은 레이저(laser)를 조사(irradiate)하거나, 팁(Tip)과 같은 물리적인(mechanical) 방법으로 형성할 수 있다.
따라서, 상기 제3 관통홀(P3)에 의하여 상기 광 흡수층(400), 버퍼층(500), 고저항 버퍼층(600) 및 전면전극층(700)은 단위 셀별로 분리될 수 있다.
실시예에 따른 태양전지 및 이의 제조방법에 의하여 태양전지의 전기적인 특성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 1 내지 도 10는 실시예에 따른 태양전지의 제조방법을 나타내는 단면도이다.

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  7. 지지기판 상에 후면전극층을 형성하고, 상기 후면전극층이 상호 분리되도록 제1 관통홀을 형성하는 단계;
    캐리어 기판 상에 광 흡수층을 형성하는 단계;
    상기 제1 관통홀과 인접하는 위치를 가지도록 상기 광 흡수층을 관통하는 제2 관통홀을 형성하는 단계;
    상기 지지기판과 상기 캐리어 기판을 본딩하여, 상기 후면전극층 상에 상기 광 흡수층을 형성하는 단계;
    상기 캐리어 기판을 제거하고, 상기 광 흡수층을 노출시키는 단계;
    상기 광 흡수층의 표면에 버퍼층을 형성하는 단계;
    상기 버퍼층 상에 전면전극층을 형성하고, 상기 제2 관통홀의 내부에는 접속배선을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 지지기판의 후면전극층 상에 전도성 접합층을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 전도성 접합층은 카본, 알루미늄, 텅스텐과 같은 금속 분말, 수지 및 플릿(frit)이 혼합되어 형성되고, 상기 전도성 접합층의 저항률은 1×10-5~10×10-5 Ω㎝인 것을 포함하는 태양전지의 제조방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 지지기판은 폴리머 또는 스테인레스 계열의 연성 기판으로 형성되고
    상기 캐리어 기판은 강성 기판으로 형성되는 태양전지의 제조방법.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 캐리어 기판 상에 상기 광 흡수층을 형성하기 전에, 몰리브덴으로 이루어진 서브 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지의 제조방법.
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