KR101150208B1 - 레이저 가공 공정 중에 발생되는 미세 분진의 처리시스템 - Google Patents

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KR101150208B1
KR101150208B1 KR1020110122033A KR20110122033A KR101150208B1 KR 101150208 B1 KR101150208 B1 KR 101150208B1 KR 1020110122033 A KR1020110122033 A KR 1020110122033A KR 20110122033 A KR20110122033 A KR 20110122033A KR 101150208 B1 KR101150208 B1 KR 101150208B1
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이사훈
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주식회사 고려반도체시스템
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Abstract

본 발명은 미세 분진 처리시스템 및 그 제어 방법에 관한 것으로, 뒤집힌 원추 형태의 하측 영역과 원통 형태의 상측 영역으로 이루어지고, 상측 영역에 분진이 유입되는 유입구가 형성되고 하단에 분진 배출구가 형성된 회오리통과; 상기 회오리통의 상측에서 회전 가능하게 설치되어, 상기 유입구로 분진을 상기 회오리통 내부로 유입시키는 흡입팬과; 상기 배출구를 통해 유입되는 분진을 수용하고, 액체가 담겨 있고, 상기 분진이 혼합된 액체를 배출하는 분진혼합액 배출구가 구비된 수조를; 포함하여 구성되어, 가공 장치에서 발생되는 분진을 흡입팬의 회전에 의해 유입구를 통해 회오리통 내부로 유도한 후, 회오리통의 뒤집힌 원추 형태의 영역에서 공기와 분진을 분리하여 공기는 상방으로 배출시키고 분진을 하방으로 모아 수조로 배출시켜, 수조의 액체와 혼합된 분진 혼합액의 형태로 배출함으로써, 유입구를 통해 유입되는 분진을 빠른 시간 내에 정체없이 처리하면서 혼합액 형태로 배출하므로 주변으로 분진이 확산되거나 주변을 오염시키는 것을 방지할 수 있는 미세분진 처리시스템 및 미세분진 처리시스템의 제어 방법을 제공한다.

Description

레이저 가공 공정 중에 발생되는 미세 분진의 처리시스템 {DUST EXHAUSTING SYSTEM OF EXHUASTING DUST DURING LASER PROCESS}
본 발명은 미세 분진 처리시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 나 기판 등의 레이저 가공 공정 중에 발생되는 분진의 처리 속도를 보다 향상시킴으로써, 레이저 가공 공정에서 잔류하는 분진을 최소화하여 가공 품질을 향상시킬 수 있는 미세 분진 처리시스템에 관한 것이다.
최근 반도체 소자 및 기판이 점점 고집적화되면서 레이저 가공장치에 의한 가공 방식이 널리 사용되고 있다. 레이저 가공은 반도체 소자나 기판을 정교하게 가공할 수 있는 잇점이 있지만, 가공 중 발생되는 분진이 많이 발생된다.
레이저 가공 중에 발생되는 분진이 원활하게 배출되지 않으면, 레이저 가공 중에 부유하는 분진이 가공 레이저에 의해 다시 용해되어 기판에 고착되어 가공 품질을 저하시키거나 불량을 야기하는 심각한 문제가 발생된다. 한편 이와 같은 문제는 레이저 가공에 국한되지 않으며, 가공에 따라 분진이 발생되는 기계적 수단에 의해 이루어지는 다른 형태의 가공에서도 이와 유사한 문제가 야기된다.
따라서, 종래에는 상기와 같은 문제를 해소하기 위하여, 분진을 흡입하여 제거하는 분진 처리 장치가 레이저 가공장치 등의 가공 장치와 함께 설치되어, 가공 공정 중에 발생되는 분진을 지속적으로 배출하여 가공 공정이 이루어지는 공간에서의 분진의 양을 최소화하기 위한 시도를 해왔다.
그러나, 종래의 분진 처리 장치는 가공 중에 발생되는 분진을 필터로 거르는 형태이어서, 필터를 통과하는 데 압력 강하가 커져 비효율적일 뿐만 아니라, 분진을 함유한 공기가 필터를 통과하는 효율이 낮아서 가공장치로부터 흡입된 분진을 실시간으로 그때그때 분리시키는 처리 속도가 저하되었다. 따라서, 가공 장치에서 발생되는 분진이 바로바로 처리되지 못함에 따라, 가공 장치에 분진이 남아 있게 되어 가공 대상물의 가공 품질이 저하되는 한계를 벗어나지 못하였다. 이로 인하여, 가공 공정을 일정 시간 동안 행한 이후에는 가공 장치에서 발생된 분진이 모두 처리될 때까지 가공 공정을 중단해야 하므로, 가공 효율이 저하되는 문제점이 야기되었다.
이에 따라, 레이저 및 기타 가공 공정에서 발생되는 분진을 실시간으로 흡입하여 분진의 제거 속도를 높일 수 있는 방안의 필요성이 절실히 요구되고 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 반도체나 기판 등의 레이저 가공 공정 중에 발생되는 분진의 처리 속도를 보다 향상시킴으로써, 레이저 가공 공정에서 잔류하는 분진을 최소화하여 가공 품질을 향상시킬 수 있는 미세 분 진 처리시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 통해, 본 발명은 분진의 발생에 의하여 가공 공정이 저하되는 것을 근본적으로 방지하여, 가공 대상물이 우수한 상태로 가공되면서 분진에 의해 가공이 지연되는 것을 최소화하는 것을 목적으로 한다.
그리고, 본 발명은 분진이 함유된 공기를 완전히 정제하여 깨끗한 공기를 배출시킴으로써, 작업 주변이나 대기 오염을 야기하지 않는 미세 분진 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상술한 바의 목적을 달성하기 위하여, 뒤집힌 원추 형태의 내부 공간이 형성되는 하측 영역과 원통 형태의 내부 공간이 형성되는 상측 영역으로 이루어지고, 상측 영역에 분진이 유입되는 유입구가 형성되고 하단에 분진 배출구가 형성된 회오리통과; 상기 회오리통의 상측에서 회전 가능하게 설치되어, 상기 유입구로 분진을 상기 회오리통 내부로 유입시키는 흡입팬과; 상기 배출구를 통해 유입되는 분진을 수용하고, 액체가 담겨 있고, 상기 분진이 혼합된 액체를 배출하는 분진혼합액 배출구가 구비된 수조를; 포함하여 구성되어, 상기 유입구로 흡입된 분진을 상기 회오리통에서 분진을 모아 상기 수조로 배출하고, 상기 수조에서 분진과 액체를 혼합한 분진 혼합액의 형태로 배출하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템을 제공한다.
이는, 가공 장치에서 발생되는 분진을 흡입팬의 회전에 의해 유입구를 통해 회오리통 내부로 유도한 후, 회오리통의 뒤집힌 원추 형태의 영역에서 공기와 분진을 분리하여 공기는 상방으로 배출시키고 분진을 하방으로 모아 수조로 배출시켜, 수조의 액체와 혼합된 분진 혼합액의 형태로 배출함으로써, 유입구를 통해 유입되는 분진을 빠른 시간 내에 정체없이 처리하면서 혼합액 형태로 배출하므로 주변으로 분진이 확산되거나 주변을 오염시키는 것을 방지하기 위함이다.
이 때, 상기 유입구로부터 흡입된 공기를 상기 수조 내의 액체 내부로 유도하는 공기통로를 추가적으로 구비할 수 있다. 이를 통해, 수조 내의 액체에 공기 방울을 발생시켜 와류를 발생시켜, 수조 내의 액체로 유입되는 분진이 액체에 부유하는 상태로 유도함으로써, 수조 내에 그대로 가라앉아 침전되어 배출되지 않는 것을 방지할 수 있다.
상기 공기 통로는 상기 흡입팬에 의해 유입된 공기의 일부 이상을 상기 수조 내의 액체 내부로 공급하도록 상기 흡입팬의 주변으로부터 상기 수조의 액체 내부까지 연장된다. 이에 의해, 별도로 수조에 공기를 불어넣는 구동원이 없더라도, 상기 공기 통로에 의해 흡입팬의 작동에 의한 공기 유동을 활용하여 수조에 분진이 쌓이는 것을 방지하여, 수조에 유입된 분진이 수조에 머무르지 않고 지체없이 배출될 수 있게 된다. 또한, 이와 같은 구성에 의하여 흡입 공기에 함유된 분진 중에 회오리 통에서 분리되지 않은 분진을 흡입 공기와 함께 수조의 액체 내부로 유입시키므로, 보다 완전한 분진 처리를 할 수 있게 된다.
상기 수조의 액체 내로 연장된 상기 공기 통로의 끝단은 상기 수조의 공기 배출구와 이격되고, 상기 공기 통로의 끝단과 상기 공기 배출구의 사이에 상기 분진 혼합액 배출구가 위치하도록 배열된 것이 바람직하다. 이를 통해, 공기 통로에 의해 유입되는 공기 방울에 의하여 수조 내의 액체에 유동이 야기되고, 이 유동이 분진 혼합액 배출구의 주변에도 발생됨으로써, 분진이 분진 혼합액 배출구의 주변에 침전되는 것을 방지하여, 수조에 유입되는 분진이 그때그때 지체없이 배출될 수 있게 된다.
한편, 상기 수조에는 상기 액체의 수위를 측정하는 수위 센서가 설치되어, 수조 내의 액체의 수위가 실시간으로 감시된다. 상기 수위 센서는 상기 액체의 수위에 따라 상하로 이동하면서 액체의 수위가 미리 정해진 범위 내에 있는지를 확인한다. 그리고, 상기 수위 센서는 상기 액체의 수위가 미리 정해진 최저 수위와 최고 수위에 도달하게 되면, 수조의 액체가 넘치는 것을 방지하기 위하여 수조에 유입되는 액체의 공급을 중단시키고 경고 신호를 출력한다.
또한, 상기 수조 내에 위치 고정되어 상기 액체의 수위가 높아져 미리 정해진 위치에 도달하는 것을 감지하는 제2수위센서를 추가적으로 마련될 수 있다. 이는, 상기 수위 센서가 작동하지 않은 경우에는 수조에서 액체가 흘러 넘칠 수 있으므로, 상기 수위 센서의 오류에도 수조에서 액체가 흘러 넘치는 것을 방지하기 위함이다.
그리고, 상기 수조의 둘레에는 상기 수조로부터 넘친 액체를 감지하는 제3센서를 구비하고, 상기 제3센서에 액체가 감지되면 상기 미세분진 처리시스템의 동작이 정지하도록 구성될 수 있다. 이는, 상기 수위 센서와 상기 제2수위 센서가 모두 동작하지 않는 오류가 발생되는 경우에, 수조에 과도한 액체가 공급되어 수조 바깥으로 액체가 넘치면, 이를 자동적으로 정지함으로써 주변의 작업 환경이 오염되는 것을 최소화한다.
한편, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 상기 회오리 통의 하측에 모인 분진을 상기 수조로 밀어내는 고압의 공기를 불어주는 에어 블로어(air blower)가 상기 회오리통 내부의 상기 분진 배출구의 상측에는 설치될 수도 있다. 이는, 회오리 통의 하단에 형성되는 분진 배출구의 크기가 처리되는 분진의 양에 비하여 작게 형성되면, 가공 장치로부터 회오리 통으로 유입된 흡입 공기로부터 분리된 분진에 의해 분진 배출구가 막힐 수도 있는데, 에어 블로어에 의해 고압 공기를 순간적으로 불어줌으로써, 회오리 통의 하측에 모인 분진을 한꺼번에 수조로 밀어 넣기 위함이다. 이를 통해, 갑자기 분진이 다량으로 함유된 흡입 공기가 유입구를 통해 유입되더라도, 분진의 적체없이 원활하게 배출시키는 처리가 가능해진다.
이 때, 상기 분진 배출구와 상기 분진혼합액 배출구는 서로 정렬된 위치로 설치되는 것이 바람직하다. 이에 의하여, 에어 블로어로 고압 공기를 불어주면 회오리 통의 하단에 모여있는 다량의 분진이 분진 배출구로부터 배출되어 곧바로 액체에 섞이면서 분진혼합액 배출구로 배출된다. 이를 통해, 분진의 배출 효율을 보다 향상시킬 수 있다.
그리고, 상기 분진 배출구와 정렬되는 분진 안내통로가 하방으로 연장되어 끝단이 상기 수조의 액체에 잠기도록 설치되어, 상기 회오리통으로부터의 분진이 상기 분진 안내통로를 통하여 상기 수조 내로 유입된다. 이에 의하여, 회오리통으로부터 수조로 유입되는 분진이 수면 위의 공간에 부유하는 것을 최소화하고, 곧바로 액체에 섞인 분진 혼합액으로 배출될 수 있다.
한편, 상기 흡입팬은 상기 회오리 통의 내부에 위치할 수도 있지만 상기 회오리통의 바깥 상측에 위치할 수도 있다. 이를 통해, 회오리 통의 상부에 위치한 유입구에 흡입압을 작용시켜 레이저 가공 장치로부터 연결되는 덕트 등으로부터 분진이 함유된 공기를 흡입할 수 있다.
이 때, 흡입팬을 회전 구동하는 구동 모터는 3상 전원에 의해 회전된다. 이에 의하여, 구동 모터에 인가하는 전원 중 1개에 오류가 있더라도 구동 모터의 회전이 정지하지 않고, 적은 용량이더라도 회전 상태를 지속하여 급작스런 분진이 함유된 공기를 흡입하지 못하여 가공장치에서의 오류가 발생되는 것을 방지한다.
그리고, 상기 유입구를 통해 유입되는 흡입 풍압을 실시간으로 계측하는 풍압센서가 상기 유입구에 설치된다. 이를 통해, 가공장치로부터 흡입되는 상태를 실시간으로 감시하여, 가공장치에서 발생되는 분진을 신뢰성있게 흡입하여 처리하도록 한다.
이 때, 미세 분진의 처리시스템을 조작하는 작업자가 흡입되는 공기의 상태를 보다 정확하게 시각적으로 확인할 수 있도록 상기 풍압 센서에 의해 측정된 흡입압을 디스플레이하는 디스플레이가 구비되는 것이 좋다. 그리고, 상기 풍압 센서에 의해 측정된 흡입압이 정해진 범위로부터 벗어나면 경고 신호를 출력하여, 작업자가 신속하게 대응 조치를 취할 수 있도록 한다.
한편, 상기 수조와 상기 회오리 통 사이에는 개폐 마개가 개재될 수 있다. 수조와 회오리통 사이에 개폐 마개가 구비됨에 따라, 개폐 마개로 회오리통과 수조의 연통 상태를 선택적으로 차단시킨 후, 수조의 내부에 있는 액체를 비우고 다시 깨끗한 액체로 채우는 등의 과정을 행하면서도, 유입구에서 흡입 공기를 지속적으로 공급받아 처리하는 것이 가능해진다. 이 경우, 회오리 통의 하측에 분진이 많이 쌓이더라도 에어 블로어로 한꺼번에 분진을 수조로 배출시키므로, 회오리통에 다량의 분진이 모이더라도 처리가 가능하다.
상기 회오리 통의 상측에는 상기 흡입팬으로 공기 유동을 안내하는 안내 부재를 더 포함하여 구성될 수 있다. 이를 통해, 회오리 통의 내부의 압력 상태를 흡입팬으로 보다 정교하게 조절할 수 있으며, 흡입팬의 크기와 회전 구동하는 구동 모터의 용량도 적게 할 수 있다.
회오리 통에 형성된 유입구를 통하여 가공장치로부터 분진이 함유된 공기를 보다 효율적으로 흡입시키도록, 상기 흡입팬은 터보팬으로 형성되고, 상기 터보팬의 날개는 중심으로 반경 바깥을 향하여 굽어진 곡면 궤적을 따라 연장된 형태의 흡입팬이 채용되는 것이 좋다.
그리고, 상기 흡입팬은 상기 안내 부재와 간극을 두고 위치한다. 이 때, 상기 간극은 1mm 내지 15mm로 정해지는 것이 좋다. 흡입팬과 안내 부재 사이의 간극이 1mm보다 작거나 간극이 없는 경우에는 유입되는 흡입압에 의하여 구동 모터 측에 진동이 발생되며, 간극이 15mm보다 큰 경우에는 흡입압이 저하되는 문제가 야기될 수 있기 때문이다.
다만, 본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 "흡입팬"은 레이저 드릴링 장치 등의 가공장치로부터 분진을 함유한 공기를 회오리 통 내부로 유입시키는 역할도 하지만, 가공장치로부터의 공기를 유입시키는 데 필요한 모든 힘을 작용하지 않아도 무방하며, 상기 회오리 통 내부에서의 유동을 야기하는 힘을 작용시키도록 회전 구동되는 팬(fan)으로 정의하기로 한다.
이 때, 상기 유입구는 미세 분진이 많이 발생되는 레이저 가공 장치로부터 연장된 유입 덕트에 연결되어, 레이저 가공장치로부터 발생되는 분진을 흡입하여 분리 처리하도록 구성될 수 있다. 그러나, 본 발명은 이에 국한되지 않으며 분진을 발생시키는 다양한 형태의 가공 장치에 연결되어, 발생되는 분진을 처리하는 데 사용될 수 있다.
한편, 발명의 다른 분야에 따르면, 본 발명은 상기와 같이 구성된 미세분진 처리시스템의 제어 방법으로서, 상기 유입구에 유입되는 풍압을 실시간으로 측정하는 단계와; 상기 유입구에서 측정된 흡입 풍압에 따라 상기 흡입팬의 회전 속도를 조절하는 단계를; 포함하는 미세분진 처리시스템의 제어 방법을 제공한다.
이를 통해, 가공 장치에서 발생되는 분진을 실시간으로 흡입하여 배출 처리를 행함으로써, 가공 장치에서 가공 중인 가공 대상물의 가공 품질을 보다 신뢰성있게 확보할 수 있다.
이 때, 본 발명은 상기 흡입 풍압이 미리 정해진 범위를 벗어나면 경고 신호를 출력하는 단계를; 더 포함할 수도 있다. 그리고, 본 발명은 상기 흡입 풍압을 디스플레이하는 단계를 추가할 수도 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은, 뒤집힌 원추 형태의 하측 영역과 원통 형태의 상측 영역으로 이루어지고, 상측 영역에 분진이 유입되는 유입구가 형성되고 하단에 분진 배출구가 형성된 회오리통과; 상기 회오리통의 상측에서 회전 가능하게 설치되어, 상기 유입구로 분진을 상기 회오리통 내부로 유입시키는 흡입팬과; 상기 배출구를 통해 유입되는 분진을 수용하고, 액체가 담겨 있고, 상기 분진이 혼합된 액체를 배출하는 분진혼합액 배출구가 구비된 수조를; 포함하여 구성되어, 가공 장치에서 발생되는 분진을 흡입팬의 회전에 의해 유입구를 통해 회오리통 내부로 유도한 후, 회오리통의 뒤집힌 원추 형태의 영역에서 공기와 분진을 분리하여 공기는 상방으로 배출시키고 분진을 하방으로 모아 수조로 배출시켜, 수조의 액체와 혼합된 분진 혼합액의 형태로 배출함으로써, 유입구를 통해 유입되는 분진을 빠른 시간 내에 정체없이 처리하면서 혼합액 형태로 배출하므로 주변으로 분진이 확산되거나 주변을 오염시키는 것을 방지할 수 있는 미세분진 처리시스템 및 미세분진 처리시스템의 제어 방법을 제공한다.
즉, 본 발명은 상기와 같이 구성되어 반도체나 기판 등의 레이저 가공 공정 중에 발생되는 분진의 처리 속도를 보다 향상시킴으로써, 가공 장치에서의 가공 공정 중에 잔류하는 분진을 최소화하여 가공 품질을 향상시킬 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
무엇보다도, 본 발명은 1차적으로 분진이 함유된 공기를 회오리 통에서 1차적으로 정제하여 분진 혼합액의 형태로 배출시키고, 1차 정제된 공기를 수조의 액체에 공급하여 다시 정제하는 2차 정제 과정을 거침으로써, 배출되는 공기로부터 분진이 완전히 제거된 깨끗한 공기를 배출시킴으로써, 작업 주변이나 대기 오염을 야기하지 않고 분진을 완전히 처리할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
이 때, 상기 2차 정제 과정은 회오리 통의 공기 유동을 제어하는 흡입팬에 의해 공기 흐름을 유도하여 이루어짐으로써, 추가적인 동력을 필요로 하지 않으면서 짧은 시간 내에 정체없이 그리고 완전하게 분진을 처리할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명은 가공 장치로부터 회오리통으로 유입되는 유입구 주변에 풍압 센서를 설치하여 실시간으로 유입되는 공기의 압력을 실시간으로 항상 감시함으로써, 흡입 풍량이 부족하여 가공 장치에서 과다한 분진에 의해 가공 대상물에 가공 오류가 발생되는 것을 근본적으로 방지할 수 있는 잇점도 얻을 수 있다.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 미세분진 처리시스템의 구성을 도시한 도면
도2는 도1의 미세분진 처리시스템의 흡입 공기의 유동 방향을 도시한 도면
도3은 도1의 회오리 통의 구성을 도시한 도면
도4는 도1의 흡입팬의 구성을 도시한 도면
도5는 도1의 수조를 도시한 정면도
도6은 도5의 측면도
도7은 도5의 평면도
도8은 도1의 제어 판넬을 도시한 도면
도9는 도1의 'A'부분의 확대도
도10은 도1의 미세분진 처리시스템을 이용한 제어방법을 도시한 순서도
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 상술한다. 다만, 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.
도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 미세분진 처리시스템(100)은, 뒤집힌 원추 형태의 하측 영역과 원통 형태의 상측 영역으로 이루어진 회오리통(110)과, 회오리통(110)의 상측에서 회전 가능하게 설치되어 회오리통(110) 내부에 공기 유동을 발생시키는 흡입팬(120)과, 회오리통(110)에서 분리된 분진을 수용하여 물(77)과 혼합한 분진혼합액을 배출시키는 수조(130)로 구성된다.
상기 회오리통(110)은 도3에 도시된 바와 같이 하측 영역에는 원추 형태의 내부 공간이 형성되는 하측 영역(111)과 원통 형태의 내부 공간이 형성되는 상측 영역(112)으로 이루어진다.
상측 영역(112)에는 유입구(112a)가 형성되어 가공 장치(미도시)로부터 분진이 혼합된 분진 혼합 공기가 회오리 통(110)의 내부로 유입(99d1)된다. 유입구(112a)로 유입되는 공기는 흡입팬(120)의 회전에 의해 회오리통(110) 내의 압력이 가공 공정이 이루어지는 가공 장치의 공간 보다 더 낮아지므로 분진 혼합 공기는 압력차에 의해 유동이 발생되어 회오리 통(110)의 내부로 유입된다. 한편, 본 발명의 다른 실시형태에 따르면, 가공 장치에서의 분진 혼합 공기를 회오리 통(110) 내부로 유입시키기 위한 힘을 발생시키기 위하여 가공 장치로부터 유입구(112a)로 연장되는 유입 덕트(미도시)에 팬(fan) 등의 공기 이송 수단이 추가적으로 구비될 수 있다.
유입구(112a)에는 풍압 센서(114)가 설치되어, 가공 장치로부터 회오리 통(110)에 분진 혼합 공기가 유입되는 상태를 지속적으로 실시간 감시한다. 이를 통해, 가공장치에서 발생되는 분진 혼합 공기를 지속적으로 유입하여 가공 장치에서 분진없는 환경 하에서 가공이 이루어지는지 여부를 파악한다. 도8에 도시된 제어 판넬(170)에는 풍압 센서(114)로 측정된 풍압이 표시되는 디스플레이(171)가 구비되어, 작업자가 분진 혼합 공기의 상태를 보다 정확하게 시각적으로 확인할 수 있도록 한다. 제어 판넬(170)의 제어 버튼(171a, 171b)을 이용하여 유입구(112a)에 유입되는 풍압의 범위를 미리 설정하여, 풍압 센서(114)로 측정되는 풍압이 정해진 범위를 벗어나면 경고음, 경고 라이트 등의 경고 신호를 출력한다. 이에 의해, 작업자가 신속하게 대응 조치를 취할 수 있게 된다.
이와 같이, 가공 장치로부터 분진 혼합 공기가 99d0로 표시된 방향으로 이동하여, 유입구(112a)를 통해 회오리 통(110)의 내부에 유입(99d1)되면, 회오리 통(110)의 상측에서 회전하는 흡입팬(120)에 의하여 원추 형태의 내부 공간을 형성하는 하측 영역(111)에서는 회오리 형태의 유동(99d2)이 발생되면서, 분진 혼합 공기 중에 분진(88)을 사이클론의 원리로 분리하여 하측 방향(도2의 88d1)으로 이동시킨다. 이에 의하여, 회오리 통(110)에 유입된 분진 혼합 공기로부터 분진(88)이 분리되어 분진 배출구(111e)를 통해 수조(130)로 배출된다.
한편, 회오리 통(110)의 중앙부에는 고압의 공기를 분진 배출구(111e)를 향하여 분사하는 에어 블로어(113)가 설치된다. 회오리 통(110)의 하단에 형성되는 분진 배출구(111e)가 처리되는 분진의 양에 비하여 작게 형성되면, 가공 장치로부터 유입된 흡입 공기로부터 분리된 분진(88)에 의해 분진 배출구(111e)가 막힐 수도 있다. 이 때, 에어 블로어(113)에 의해 고압 공기를 순간적으로 불어줌으로써, 회오리 통(110)의 하측에 모인 분진(88)을 일시에 수조로 밀어 넣을 수 있게 된다. 에어 블로어(113)의 작동은 미리 정해진 상태가 되면 자동으로 이루어지거나 작업자에 의해 제어 판넬(170)의 작동 버튼(172)을 조작하는 것에 의해 이루어질 수 있다. 이를 통해, 갑자기 분진이 다량으로 함유된 흡입 공기가 유입구를 통해 유입되더라도, 분진이 적체되지 않고 실시간으로 원활하게 처리시킬 수 있게 된다.
그리고, 분진 배출구(111e)와 분진혼합액 배출구(140)는 서로 정렬된 위치로 설치된다. 이는, 후술하는 분진 안내통로(135)가 분진 배출구(111e)와 분진혼합액 배출구(140)의 사이에 개재된 경우를 포함한다. 따라서, 에어 블로어(113)로 고압 공기를 불어주면 회오리 통(110)의 하단에 모여있는 다량의 분진(88)이 분진 배출구(111e)로부터 배출되어 곧바로 액체(77)에 섞이면서 분진혼합액 배출구(140)로 배출된다. 이를 통해, 분진의 배출 효율을 보다 향상시킬 수 있다.
상기 흡입팬(120)은 회오리 통(110)의 상측에 배치되어 고효율 3상 구동 모터(120m)에 의해 회전(120d) 구동됨으로써, 회오리 통(110) 내부의 공기를 상방으로 끌어 올려 이를 측방향으로 옮기는 역할을 한다. 도4에 도시된 바와 같이, 흡입팬(120)은 회오리 통(110)의 향하는 면에는 회전 중심으로부터 반경 방향의 바깥으로 곡면 궤적을 따라 연장된 다수의 블레이드(120b)가 몸체(120a)에 형성된 터보팬으로 형성되어 보다 많은 공기를 유동시킬 수 있다. 그리고, 흡입팬(120)은 구동 모터(120m)의 회전축에 커플러(120c)를 매개로 하여 고정된다.
회오리 통(110)의 상측에는 내부 공간과 연통되는 구멍이 형성된 연결 브라켓(112c)이 위치하고, 그 상측에 흡입팬(120)으로 공기 유동을 안내하는 안내 부재(122)가 위치한다. 이에 의하여, 흡입팬(120)의 회전 속도에 따라 회오리 통(110)의 내부 공간의 유동 속도 및 유동량을 보다 정교하게 조절할 수 있다. 이 때, 흡입팬(120)은 안내 부재(122)에 삽입된 상태로 위치할 수도 있다. 다만, 안내 부재(122)의 치수에 따라 흡입팬(120)에 의해 유도되는 유동에 의하여 구동 모터(120m)측에 진동이 발생될 수 있다. 이 경우에는 흡입팬(120)은 안내 부재(122)와 간극(d)을 두고 위치하는 것이 좋다. 상기 간극은 1mm 내지 15mm로 정해지는 데, 흡입팬(120)과 안내 부재(22) 사이의 간극이 1mm보다 작으면 구동 모터(120m) 측에 야기되는 진동을 줄이기 어려우며, 간극이 15mm보다 크면 흡입압의 누설이 많아지기 때문이다.
상기 수조(130)는 도5 내지 도7에 도시된 바와 같이 회오리 통(110)에서 모여진 분진(88)이 수조로 유입되면, 수조(130)에 담겨진 액체(77)와 분진(88)을 혼합한 분진 혼합액을 분진 혼합액 배출구(140)를 통해 배출시킨다. 회오리 통(110)으로부터 수조(130)로 유입되는 분진이 액체(77)에 혼합되어 배출됨에 따라, 외부로 배출된 분진이 다시 공기 중에 부유하여 주변을 오염시키는 것을 방지할 수 있으며, 처리가 보다 용이해지는 장점을 얻을 수 있다.
회오리통(110)과 수조(130)를 연통하는 통로는 개폐 마개(111c)에 의해 선택적으로 차단된다. 도9에 도시된 바와 같이 개폐 마개(111c)는 개폐 노브(111h)를 회전(55)시키는 것에 의해 선택적으로 회오리통(110)과 수조(130)를 연통시킨다. 이를 통해, 수조(130)를 순간적으로 비워야 하는 경우 등에 회오리 통(110)에서는 분진(88)을 지속적으로 분리시키면서 수조(130)에서의 작업은 계속할 수 있게 된다.
회오리 통(110)의 분진 배출구(111e)가 위치하는 수조(130)에는 분진 배출구(111e)를 통해 유입되는 분진을 수조(130)의 액체(77) 내부로 안내하는 분진 안내통로(135)가 설치된다. 이에 의하여, 회오리 통(110)으로부터 유입되는 분진(88)은 수조(130)의 액체(77) 상측 공간에서 부유하지 않고 수중으로 곧바로 유입되어 섞이게 된다.
한편, 도2에 도시된 바와 같이 흡입팬(120) 주변의 공기를 수조(130)의 액체(77)내부로 유입시키는 공기 통로(150)가 수직 배열되도록 구비된다. 공기 통로(150)의 끝단(150e)은 수조(130)의 액체(77)에 잠기도록 설치되어, 공기 통로(150)를 통해 유입되는 공기는 수조(130) 내의 액체(77)에서 공기 방울(158)을 형성하면서, 수조(130) 내의 액체(77)가 혼합되는 유동(ww)을 발생시킨다. 공기 통로(150)를 통해 유입되는 공기는 별도의 구동 수단이 없더라도 흡입팬(120)의 회전에 의해 자연스럽게 회오리 통(110)으로부터 공기 통로(150)를 거쳐 수조(130)의 액체(77) 내부로 유입된다.
공기 통로(150)를 통해 유입되는 공기는 회오리통(110)에서 분리되지 않은 미세한 분진(88)이 함유될 수 있으므로, 회오리통(110)만을 거친 처리 공기를 곧바로 배출할 경우에 분진을 충분히 정제시키지 못하는 문제가 야기될 수 있다. 그러나, 공기 통로(150)에 의해 1차로 분진(88)을 분리한 1차 정제 공기를 다시 수조(130)의 액체(77)내로 유입시킴으로써, 1차 정제 공기에 함유되어 있던 미세 분진까지도 완전히 습식 방식으로 분진을 제거하여, 깨끗하게 정제된 공기를 배출시킬 수 있는 장점을 얻을 수 있다.
공기 통로(150)를 통해 수조(130)로 유입된 공기의 공기 배출구(160)는 수조(130)를 가로지르는 격벽(130w)의 반대편에 위치한다. 이에 의하여, 도7에 도시된 바와 같이 공기 통로(150)에 의해 유입된 공기는 수조(130) 내의 액체(77)에 공기 방울(158)을 형성하고, 이 공기 방울(158)이 이동(158d)하면서 액체(77)도 유동하며, 공기에 함유되어 있던 분진을 액체(77) 내에 남긴 상태로 2차로 정제된 깨끗한 공기는 액체(77)의 바깥으로 이동하여 공기 배출구(160)를 향해 도면부호 99d5-99d6로 표시된 방향으로 이동하여, 외기로 배출된다. 이 때, 외기는 작업장일 수도 있지만, 덕트를 통해 연결된 대기인 것이 바람직하다.
이렇듯, 수조(130) 내의 액체(77)는 지속적으로 공기 방울(158)에 의하여 와류 유동(ww)이 발생됨에 따라, 회오리 통(110)으로부터 유입된 분진들이 침전되지 않고 액체(77)내에 부유하는 상태가 되어, 분진혼합액 배출구(140)의 입구를 막지 않으면서 수조(130)로 유입되는 분진을 원활하게 배출시킬 수 있게 된다.
이 때, 분진혼합액 배출구(140)는 자연 배수되도록 할 수도 있지만, 필요에 따라 작동할 수 있는 진공 펌프가 설치될 수도 있다.
수조(130)에서 분진과 혼합되는 액체는 다양한 종류가 사용될 수 있다. 이는 분진이 쉽게 뜨지 않게 하면서 분진이 쉽게 가라앉지 않게 하는 액체가 사용되는 것이 좋다. 저렴하고 쉽게 구할 수 있는 물을 이용할 수도 있다. 분진혼합액 배출구(140)를 통해 배출되는 액체의 양을 고려하여 대체로 일정한 수위를 유지하도록 액체 공급구(133)를 통해 액체(77)가 채워진다.
액체 공급구(133)로부터 액체가 공급될 때에 공급되는 액체에 의해 수조(130) 내의 수위에 출렁이는 수위 변동을 최소화하기 위하여, 액체 공급구(133)의 끝단과 이격된 수조(130)의 내부에는 경사면(134)이 설치된다. 이에 따라, 액체 공급구(133)에 액체를 공급하면, 공급되는 액체는 수조(130)의 바닥을 향하여 직접 낙하하지 않고 수조(130) 내에 설치된 경사면(134)에 도달한 후, 경사면(134)을 타고 수조(130)로 유입된다. 따라서, 다량의 액체(133)가 한꺼번에 수조(130)의 내부로 유입되더라도 수조(130)에 담긴 액체가 출렁거리는 것을 최소화할 수 있다. 도면에는 경사면(134)이 수위보다 높은 위치까지만 연장된 형태가 도시되어 있지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면 경사면(134)이 수위보다 아래까지 연장되어, 액체를 공급하는 과정에서 액체가 출렁이는 것을 완전히 제거할 수 있다
수조(130)에 담기는 액체(77)의 수위를 감지하는 수위 센서(136)가 설치된다. 수위 센서(136)는 다양한 형태의 센서가 설치될 수 있지만, 공기가 채워진 고무볼(136a)로부터 상방으로 연장된 막대의 끝단에 감지부(136b)가 형성된 기계식 센서로 사용될 수 있다. 이에 따라 액체(77)의 수위에 따라 감지부(136b)가 상하 방향(136d)으로 이동하면서, 액체(77)의 수위가 미리 정해진 하한치(136l)와 상한치(136u)의 사이에 있는지 감지할 수 있다. 그리고, 미리 정해진 하한치(136l)에 도달한 경우에는 액체 공급구(133)를 통해 액체(77)를 공급하여 수조(130)의 수위를 일정 높이 이상 유지하며, 미리 정해진 상한치(136u)에 도달하면 제어 판넬(170)의 액체공급조작노브(173)를 이용하여 액체의 공급을 중단시키는 등의 조치를 수동 또는 자동으로 취할 수 있도록 한다.
한편, 수위 센서(136)의 오작동이 있는 경우에 수조(130) 내의 액체가 흘러 넘칠 수 있으므로, 도5에 도시된 바와 같이 액체가 주변으로 넘쳐 흐르는 것을 방지할 수 있는 높이에 전자식 제2수위 센서(137)가 설치된다. 그리고, 2종류의 수위 센서(136, 137)가 모두 오작동으로 액체가 수조(130)의 바깥으로 흘러 넘칠 경우에, 도7에 도시된 바와 같이 수조(130)의 둘레를 감싸는 제3수위센서(138)가 설치되어, 흘러넘치는 액체가 감지되면 곧바로 수조(130)에 액체를 공급하는 공정 등을 중단시킨다.
이하, 상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 미세분진 처리시스템(100)의 제어 방법 및 작동 원리를 도면을 참조하여 설명한다.
단계 1: 가공 장치로부터 분진을 흡입하여 처리하기에 앞서서, 수조(130)에 액체(77)를 미리 정해진 높이로 채운다(S110). 수조(130)에 채워지는 액체(77)의 수위는 유입되는 분진을 충분히 수용할 수 있을 정도의 수량이 되어야 한다.
단계 2: 그리고 나서, 레이저 가공 장치로부터 분진이 함유된 공기를 흡입구(112a)로 유입시킨다(S110). 이 때, 분진이 함유된 공기를 유입시키는 데 필요한 흡입력은 흡입팬(120)에 의해서만 이루어질 수도 있고, 그 밖에 별도의 팬이 유입 덕트에 설치될 수도 있다.
가공 장치로부터 발생된 분진은 주변의 공기와 함께 가공 장치로부터 유입구(112a)까지 연결하는 유입 덕트를 통해 이동(도3의 99d0)하여 회오리 통(110)으로 유입(99d1)되면, 회오리 통(110)의 상측에는 회전하는 흡입팬(120)에 의하여 99d2로 표시된 방향의 유동이 발생된다. 이에 따라, 분진을 함유한 공기는 99d2로 표시된 회오리 방향의 유동을 하면서 뒤집힌 원뿔 형태의 내측 영역(111)의 하방으로 내려온다. 이 때, 분진을 함유한 공기로부터 분진이 분리되며, 공기로부터 분리된 분진(88)은 회오리 통(110)의 하방(88d1)으로 이동하여, 분진 배출구(111e)와 안내 통로(135)를 통해 수조(130)의 액체(77) 내부로 유입된다.
한편, 회오리 통(110) 내에서 분진을 함유한 공기는 회오리 방향(99d2)의 유동을 행하면서 분진(88)을 1차적으로 분리하여 정제된 후에, 회오리 통(110)의 하부로부터 상방(99d3)으로 이동하여 안내 부재(122)의 상측으로 이동한다. 그리고, 회오리통(110)에서 1차 정제되어 안내 부재(122)를 통과한 공기는 흡입팬(120)의 회전에 의해 구멍(121a)을 관통하여 공기 통로(150)로 이동한 후, 공기 통로(150)를 통해 수조(130)의 액체(77) 내부로 하방(99d4) 이송된다.
공기 통로(150)를 통해 수조(130)의 액체(77) 내부로 유입된 1차 정제 공기는 다수의 공기 방울(158)을 만들어내면서, 수조(130) 내의 액체(77) 와류(ww)를 형성한다. 이와 동시에, 공기 통로(150)를 통해 수조(130)의 액체(77) 내로 유입된 공기는 그 안에 함유하고 있던 분진을 다시 2차로 액체(77) 내에 남기고 깨끗한 공기만 액체 바깥으로 나오며, 이와 같이 2차 정제된 깨끗한 공기는 공기 배출구(160)를 통해 외기로 배출된다.
단계 3: 한편, 수조(130) 내에는 공기 방울(158)에 의하여 와류 유동(ww)이 지속적으로 발생되므로, 회오리 통(110)으로부터 안내 통로(135)를 통해 88d2방향으로 이동하여 액체(77)내로 유입된 분진(88)과 공기 통로(150)를 통해 액체 내로 유입된 공기 내의 분진들은 액체(77)에 가라앉지 않고 함께 액체에 부유하는 상태로, 분진 혼합액 배출구(140)를 통해 배출(88d3)된다(S130).
이 때, 분진 혼합액 배출구(140)를 통해 배출되는 액체의 양에 부합하는 양의 액체가 액체 공급구(133)로부터 유입되어, 수조(130)에 채워진 액체(77)의 수위는 항상 적정 높이로 유지된다.
단계 4: 단계 1 내지 단계 3을 진행하는 과정에서, 레이저 가공 장치로부터 회오리 통(110)에 유입되는 분진이 함유된 공기의 풍압이 풍압 센서(114)에 의해 실시간으로 측정되어 제어 판넬(170)의 디스플레이(171)에 표시된다.
단계 5: 풍압 센서(114)에서 측정된 풍압이 미리 정해진 범위를 벗어나면, 경고 신호를 출력하여 작업자에게 알리고, 자동으로 미리 정해진 절차에 따라 정상 작동 상태로 회복하도록 흡입팬(120)의 회전 속도 등을 변경시킨다. 이와 같이, 풍압 센서(114)에 의해 가공 장치로부터 유입되는 공기 압력을 실시간으로 항상 감시함으로써, 흡입 풍량이 부족하여 가공 장치에서 과다한 분진에 의해 가공 대상물에 가공 오류가 발생되는 것을 근본적으로 방지할 수 있다.
이와 같이 본 발명은 1차적으로 분진이 함유된 공기를 회오리 통(110)에서 사이클론의 원리로 1차적으로 정제하여 수조(130)의 액체(77)로 이동(88d1, 88d2)시키고, 1차 정제된 공기를 공기 통로(150)를 이용하여 수조(130)의 액체(77) 내로 공급하여 다시 정제하는 2차 정제 과정을 거침으로써, 배출되는 공기로부터 분진이 완전히 제거된 깨끗한 공기를 배출시킴으로써, 분진의 제거 효율이 매우 높을 뿐만 아니라 주변 대기를 오염시키지 않는 친환경적인 특징을 갖는다.
이 뿐만 아니라, 본 발명은 분진을 함유한 공기로부터 분진을 제거하고 깨끗한 공기로 처리하는 데 있어서, 공정의 지체 없이 실시간으로 유입되는 분진을 처리할 수 있으므로, 레이저 가공장치 등에서 발생되는 분진을 공정 지연없이 그때그때 처리할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명은 2차 정제 과정을 거치는 데 있어서, 회오리 통의 공기 유동을 제어하는 흡입팬에 의해 2차 정제 과정이 별도의 구동수단없이 저절로 이루어지도록 구성됨으로써, 전력 소모량을 최소화하면서 짧은 시간 내에 분진을 완전하게 처리할 수 있게 되는 잇점을 얻을 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 범위는 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며, 특허청구 범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다.
100: 미세분진 처리시스템 110: 회오리통
120: 흡입팬 111e: 분진 배출구
130: 수조 140: 분진혼합액 배출구
150: 공기 통로

Claims (28)

  1. 뒤집힌 원추 형태의 내부 공간이 형성되는 하측 영역과 원통 형태의 내부 공간이 형성되는 상측 영역으로 이루어지고, 상측 영역에 분진이 유입되는 유입구가 형성되고 하단에 분진 배출구가 형성된 회오리통과;
    상기 회오리통의 상측에서 회전 가능하게 설치되어, 상기 유입구로 분진을 상기 회오리통 내부로 유입시키는 흡입팬과;
    상기 배출구를 통해 유입되는 분진을 수용하고, 액체가 담겨 있고, 상기 분진이 혼합된 액체를 배출하는 분진혼합액 배출구가 구비된 수조와;
    상기 유입구로부터 흡입된 공기를 상기 수조 내의 액체 내부로 유도하는 공기통로를;
    포함하여 구성되어, 상기 유입구로 흡입된 분진을 상기 회오리통에서 분진을 모아 상기 수조로 배출하고, 상기 수조에서 분진과 액체를 혼합한 분진 혼합액의 형태로 배출하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 공기 통로는 상기 흡입팬에 의해 유입된 공기의 일부 이상을 상기 수조 내의 액체 내부로 공급하도록 상기 흡입팬의 주변으로부터 상기 수조의 액체 내부까지 연장된 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 수조의 액체 내로 연장된 상기 공기 통로의 끝단은 상기 수조의 공기 배출구와 이격되고, 상기 공기 통로의 끝단과 상기 공기 배출구의 사이에 상기 분진 혼합액 배출구가 위치한 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 수조에는 상기 액체의 수위를 측정하는 수위 센서가 위치한 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 수위 센서는 상기 액체의 수위에 따라 상하로 이동하면서, 현재 액체의 수위를 감지하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 수위 센서는 상기 액체의 수위가 미리 정해진 최저 수위와 최고 수위에 도달하는 것을 감지하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 수조 내에 위치 고정되어 상기 액체의 수위가 높아져 미리 정해진 위치에 도달하는 것을 감지하는 제2수위센서를 추가적으로 포함하는 미세분진 처리시스템.
  8. 제 6항에 있어서,
    상기 수조의 둘레에는 상기 수조로부터 넘친 액체를 감지하는 제3센서를 구비하고, 상기 제3센서에 액체가 감지되면 상기 미세분진 처리시스템의 동작이 정지하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 회오리 통의 하측에 모인 분진을 상기 수조로 밀어내는 고압의 공기를 불어주는 에어 블로어(air blower)가 상기 회오리통 내부의 상기 분진 배출구의 상측에는 설치된 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  10. 제 9항에 있어서,
    상기 분진 배출구와 상기 분진혼합액 배출구는 서로 정렬된 위치로 설치된 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 분진 배출구와 정렬되는 분진 안내통로가 하방으로 연장되어 끝단이 상기 수조의 액체에 잠기도록 설치되어, 상기 회오리통으로부터의 분진이 상기 분진 안내통로를 통하여 상기 수조 내로 유입되는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 흡입팬은 상기 회오리 통의 상측에 위치한 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 유입구를 통해 유입되는 흡입 풍량의 압력을 실시간으로 계측하는 풍압센서가 상기 유입구에 설치된 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 풍압 센서에 의해 측정된 흡입압을 디스플레이하는 디스플레이를;
    더 포함하는 미세분진 처리시스템.
  15. 제 13항에 있어서,
    상기 풍압 센서에 의해 측정된 흡입압이 정해진 범위로부터 벗어나면 경고 신호를 출력하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  16. 제 12항에 있어서,
    상기 흡입팬을 구동하는 구동모터는 3상 전원에 의해 회전 구동되는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  17. 제 1항에 있어서,
    상기 수조와 상기 회오리 통 사이에는 개폐 마개가 개재된 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  18. 제 12항에 있어서,
    상기 회오리 통의 상측에는 상기 흡입팬으로 공기 유동을 안내하는 안내 부재를 더 포함하는 미세분진 처리시스템.
  19. 제 18항에 있어서,
    상기 흡입팬은 터보팬으로 형성되고, 상기 터보팬의 날개는 중심으로 반경 바깥을 향하여 굽어진 곡면 궤적을 따라 연장된 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  20. 제 18항에 있어서,
    상기 흡입팬은 상기 안내 부재와 간극을 두고 위치하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  21. 제 20항에 있어서,
    상기 간극은 1mm 내지 15mm인 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  22. 제 1항에 있어서,
    액체를 공급하는 액체 공급구가 상기 수조에 형성되고, 상기 액체 공급구로부터 이격된 위치에 상기 수조 내에는 액체 공급구로부터 공급되는 액체가 경유하는 경사면이 형성되어, 상기 액체 공급구로부터 공급되는 액체는 상기 경사면을 통해 상기 수조 내에 유입되는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  23. 제 1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유입구는 레이저 가공 장치로부터 연결된 유입 덕트에 연결되어, 상기 미세분진 처리시스템은 상기 레이저 가공장치로부터 발생되는 분진을 흡입하여 처리하는 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
  24. 제 1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 수조의 액체는 물인 것을 특징으로 하는 미세분진 처리시스템.
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