KR101138537B1 - Method for opening laser mask of ultra thin core and printed-circuit-board fabricated using the same - Google Patents

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KR101138537B1
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신승호
박현경
차상석
정창보
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Abstract

PURPOSE: A method for opening a laser mask of an ultra thin core using a carrier foil and a printed-circuit-board manufactured by the same are provided to prevent damage to a copper foil pattern during a process of removing a dry film among DES processes since a carrier foil layer is used in a laser mask opening process. CONSTITUTION: A copper foil-laminated substrate coated with a carrier foil is prepared(S100). The top of the carrier foil is coated with a dry film. A laser mask opening process including a carrier foil is executed(S110). A laser drilling fixing process is executed(S120). A process of eliminating the carrier foil is executed(S130). A copper plating process is executed to plate copper in an exposed area(140). An outer layer image is formed by patterning a copper foil(S150).

Description

캐리어 포일을 이용한 UTC 레이저 마스크 오픈 방법 및 이를 이용하여 제조한 인쇄회로기판{METHOD FOR OPENING LASER MASK OF ULTRA THIN CORE AND PRINTED-CIRCUIT-BOARD FABRICATED USING THE SAME}TECHNICAL FOR OPENING LASER MASK OF ULTRA THIN CORE AND PRINTED-CIRCUIT-BOARD FABRICATED USING THE SAME}

본 발명은 캐리어 포일을 이용한 초박막기판의 레이저 마스크 오픈 방법 및 이를 이용하여 제조한 인쇄회로기판에 관한 것으로, 구리 포일이 코팅된 동박적층기판 상태에서 바로 레이저 마스크 오픈 공정을 수행함으로써, 후속 DES 공정에서의 불량 발생을 현저하게 감소시킬 수 있도록 하는 기술에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of opening a laser mask of an ultra-thin substrate using a carrier foil and a printed circuit board manufactured using the same. In the subsequent DES process, a laser mask opening process is performed directly in a copper foil-coated substrate. The present invention relates to a technology that can significantly reduce the occurrence of defects.

전자산업의 발달에 따라 전자 부품이 고기능화, 소형화 되고 있다. 특히 휴대단말기의 두께를 줄이기 위하여 탑재되는 부품의 두께를 감소시켜야 하는 요구가 증가하고 있는 상황이다.With the development of the electronics industry, electronic components have become highly functional and miniaturized. In particular, there is an increasing demand for reducing the thickness of components mounted in order to reduce the thickness of portable terminals.

이러한 상황에서 다층 인쇄회로기판의 미세패턴 형성 및 회로 패턴의 설계밀도를 증가시키고, 신뢰성을 향상시키기 위해서는 원자재의 변경과 함께 회로의 층구성을 복합화하는 구조가 요구되고 있다. 이에 맞추어 부품들 역시 DIP(Dual In-Line Package) 타입에서 SMT(Surface Mount Technology) 타입으로 변경되고 있으며, 그 실장밀도 역시 증가되고 있는 추세이다.In such a situation, in order to increase the fine pattern of the multilayer printed circuit board, increase the design density of the circuit pattern, and improve the reliability, a structure for complexing the layer structure of the circuit with the change of raw materials is required. Accordingly, parts are also changed from DIP (Dual In-Line Package) type to Surface Mount Technology (SMT) type, and mounting density is also increasing.

또한, 전자기기의 휴대화와 더불어 고기능화, 인터넷, 동영상, 고용량의 데이터 송수신 등으로 인쇄회로기판의 설계가 복잡해지고 고난이도의 기술을 요하게 되었다.In addition, the portable circuit board has become more complicated, and the design of the printed circuit board has become complicated due to high functionality, internet, video, and high capacity data transmission.

한편, 인쇄회로기판에는 절연기판의 한쪽 면에만 배선을 형성한 단면 PCB, 양쪽 면에 배선을 형성한 양면 PCB 및 다층으로 배선한 MLB(다층 인쇄회로기판; Multi Layered Board)가 있다. 과거에는 부품 소자들이 단순하고 회로 패턴도 간단하여 단면 PCB를 사용하였으나, 최근에는 회로의 복잡도가 증가하고, 고밀도 및 소형화 회로에 대한 요구가 증가하여 대부분 양면 PCB 또는 MLB를 사용하는 것이 일반적인 추세로 되고 있다.On the other hand, a printed circuit board includes a single-sided PCB in which wiring is formed only on one side of an insulated substrate, a double-sided PCB in which wiring is formed on both sides, and an MLB (Multi Layered Board) which is wired in multiple layers. In the past, single-sided PCBs were used because of simple components and simple circuit patterns. However, in recent years, due to increased complexity of circuits and increased demand for high-density and miniaturized circuits, it is common to use double-sided PCBs or MLBs. have.

상기 인쇄회로 기판에는 고밀도화를 위한 회로패턴, 회로패턴 층간 전기적 도통을 위한 비아콘택 및 미세회로 배선이 적용된다.The printed circuit board is applied with a circuit pattern for higher density, a via contact and a fine circuit wiring for electrical conduction between circuit pattern layers.

여기서, 비아콘택을 위해서는 레이저 마스크 오픈(Laser mask open) 공정을 수행하였다.Here, a laser mask open process was performed for via contact.

레이저 마스크 오픈 공정은 드릴전 드라이 필름(Dry film)을 인쇄회로 기판의 전면에 형성한 후 노광 및 DES(Develop-Etching-Strip) 공정을 수행하여 비아콘택 영역을 노출시키는 동박패턴을 형성하는 공정이다.The laser mask open process is a process of forming a copper foil pattern exposing a via contact region by forming a dry film before drilling on the entire surface of a printed circuit board and then performing exposure and development-etching-strip (DES) processes. .

이때, 0.06mm 이하의 UTC(Ultra Thin Core) 기판을 사용하는 경우에는 DES공정에서 상기 동박 패턴에 다량의 파손을 발생되는 문제가 있다.At this time, when using a UTC (Ultra Thin Core) substrate of 0.06 mm or less, there is a problem that a large amount of breakage occurs in the copper foil pattern in the DES process.

도 1 내지 도 6은 종래 기술에 따른 레이저 마스크 오픈 과정을 도시한 단면도들 이다.1 to 6 are cross-sectional views showing a laser mask opening process according to the prior art.

도 1을 참조하면, 코어층(10)의 양면에 동박(20, 25)이 형성된 동박적층기판(50)을 마련한다.Referring to FIG. 1, a copper foil laminated substrate 50 having copper foils 20 and 25 formed on both surfaces of a core layer 10 is provided.

이때, 동박적층기판(50)은 동박(20, 25)의 보호를 위해 캐리어 구리 포일(30, 35)을 포함한다.At this time, the copper foil laminated substrate 50 includes carrier copper foils 30 and 35 to protect the copper foils 20 and 25.

따라서, 도 2에서와 같이 캐리어 구리 포일(30, 35)을 제거한 상태에서 후속 공정을 진행하게 된다.Therefore, as shown in FIG. 2, the subsequent process is performed while the carrier copper foils 30 and 35 are removed.

다음으로 도 3을 참조하면, 동박(20, 25) 중 일면에 있는 동박을 식각하여 동박 패턴(20P)을 형성하는 레이저 마스크 오픈 공정을 수행한다.Next, referring to FIG. 3, a laser mask opening process of etching the copper foil on one surface of the copper foils 20 and 25 to form the copper foil pattern 20P is performed.

이때, 레이저 마스크 오픈 공정은 동박(20) 상부에 레지스트 필름을 형성한 후 노광 및 현상 공정을 이용하여 동박을 직접 패터닝하게 된다.At this time, in the laser mask opening process, a resist film is formed on the copper foil 20, and then the copper foil is directly patterned by using an exposure and development process.

한편, 코어층(10)의 두께가 감소하면, 상대적으로 코어층(10) 상부에 형성되는 동박의 두께도 감소되므로, 초박형코어를 갖는 동박적층 기판에서는 상기와 같은 레지스트 필름을 노광 및 현상한 후, 에칭 및 스트립 과정에서 동박층의 손상이 발생할 우려가 높다.On the other hand, when the thickness of the core layer 10 decreases, the thickness of the copper foil formed on the core layer 10 is also relatively reduced, so that the copper foil laminated substrate having the ultra-thin core is exposed and developed as described above. There is a high possibility of damage to the copper foil layer during the etching and stripping process.

따라서, 하기 도 4 내지 도 6과 같이 코어층(10)이 관통되는 홀 및 최종 상부 인쇄회로 패턴(40P)에도 지속적인 불량이 발생하는 문제가 있다.Therefore, there is a problem that the continuous failure occurs in the hole through which the core layer 10 and the final upper printed circuit pattern 40P as shown in FIGS.

이와 같은 경우, 인쇄회로기판 제조를 위한 수율이 떨어지고, 정상적으로 레이저 마스크 오픈 및 인쇄회로기판 제조가 진행되었더라도, 그 수율이나 신뢰성이 현저하게 감소될 위험이 있다.
In this case, the yield for the printed circuit board is lowered, and even if the laser mask opening and the printed circuit board manufacturing proceed normally, there is a risk that the yield or reliability is significantly reduced.

본 발명은 0.06mm 이하의 코어층을 갖는 UTC(Ultra Thin Core) 제품의 동박적층기판을 레이저 마스크 오픈(Laser mask open)공정을 진행 하는 과정에서, DES 공정을 수행하면서 동박 패턴에 손상이 가해지는 문제를 해결하기 위하여, 최초 동박적층기판에 형성된 캐리어 포일층을 이용한 레이저 마스크 오픈 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.The present invention is to damage the copper foil pattern while performing the DES process in the process of performing a laser mask open (Laser mask open) process of copper thin laminated substrate of UTC (Ultra Thin Core) product having a core layer of 0.06mm or less In order to solve the problem, it is an object of the present invention to provide a laser mask opening method using a carrier foil layer formed on the first copper foil laminated substrate.

아울러, 본 발명은 상기 레이저 마스크 오픈 방법을 이용함으로써, 인쇄회로 패턴 형성 시 동박층에 손상이 가해지지 않아 불량 발생률이 현저히 감소되는 인쇄회로기판 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
In addition, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed circuit board by which the copper foil layer is not damaged when the printed circuit pattern is formed, thereby significantly reducing the incidence of defects.

본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 마스크 오픈 방법은 (a) 코어층의 양면에 동박이 형성되고, 동박의 표면에 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계와, (b) 상기 캐리어 포일 상부에 드라이 필름을 코팅하는 단계와, (c) 상기 동박적층기판의 코어층 관통영역을 정의하는 홀 부분이 현상되도록 상기 드라이 필름을 노광하는 단계와, (d) DES(Develop-Etching-Strip) 공정으로 상기 코어층을 노출시키는 홀을 형성하는 단계를 수행하되, 상기 DES 공정은 상기 (c) 단계에 현상된 드라이 필름 부분을 제거하여 드라이 필름 패턴을 형성하는 단계와, 상기 드라이 필름 패턴을 마스크로 상기 캐리어 포일 및 상기 동박에 레이저를 순차적으로 조사하여 상기 홀 영역의 상기 코어층을 노출시키는 홀을 형성하는 단계와, 상기 캐리어 포일을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The laser mask opening method according to an embodiment of the present invention comprises the steps of: (a) providing copper foil laminated substrates on which copper foils are formed on both surfaces of the core layer and the carrier foil is coated on the surface of the copper foil, and (b) the carrier foil. Coating a dry film thereon; (c) exposing the dry film to develop a hole portion defining a core layer through area of the copper-clad substrate; and (d) developing-etching-strip (DES). Forming a hole exposing the core layer by a process, wherein the DES process removes the dry film portion developed in the step (c) to form a dry film pattern, and masks the dry film pattern Sequentially irradiating a laser on the carrier foil and the copper foil to form a hole exposing the core layer of the hole region, and removing the carrier foil. It is characterized by including.

여기서, 상기 캐리어 포일은 구리층이고, 15 ~ 20㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 동박적층기판의 코어층은 0.06mm 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 한다.Here, the carrier foil is a copper layer, it is preferable to form a thickness of 15 ~ 20㎛. In addition, the core layer of the copper-clad laminate is characterized in that it has a thickness of 0.06mm or less.

다음으로, 상기 (c) 단계의 노광은 UV 를 이용한 노광 공정을 이용하는 것이 바람직하다.
Next, it is preferable to use the exposure process using UV for the exposure of the said (c) step.

아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조 방법은 코어층의 양면에 동박이 형성되고, 동박의 표면에 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계와, 상술한 레이저 마스크 오픈 방법으로 상기 캐리어 포일 패턴 및 상기 동박 패턴을 형성하는 단계와, 레이저 드릴링 공정을 이용하여 상기 캐리어 포일 패턴 및 상기 동박 패턴을 마스크로 상기 동박적층기판의 코어 기판을 관통시키는 홀을 형성하는 단계와, 상기 캐리어 포일 패턴을 제거하는 단계와, 상기 홀의 측벽에 구리층을 도금하는 구리 플레이팅층을 형성하는 단계 및 상기 구리 플레이팅층 및 하부 동박을 패터닝하여 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
In addition, the method for manufacturing a printed circuit board according to an embodiment of the present invention includes the steps of providing copper foil laminated substrates on which copper foils are formed on both surfaces of the core layer, and the carrier foil is coated on the surface of the copper foil, and the laser mask opening method described above. Forming the carrier foil pattern and the copper foil pattern by forming a hole through the core substrate of the copper foil laminated substrate using the carrier foil pattern and the copper foil pattern as a mask by using a laser drilling process; Removing a carrier foil pattern, forming a copper plating layer for plating a copper layer on the sidewalls of the hole, and patterning the copper plating layer and the lower copper foil to form a circuit pattern.

아울러, 본 발명의 다른 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조 방법은 코어층의 양면에 동박이 형성되고, 동박의 표면에 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계와, 상술한 레이저 마스크 오픈 방법으로 상기 캐리어 포일 패턴 및 상기 동박 패턴을 형성하는 단계와, 상기 캐리어 포일 패턴을 제거하는 단계와, 레이저 드릴링 공정을 이용하여 상기 동박 패턴을 마스크로 상기 동박적층기판의 코어 기판을 관통시키는 홀을 형성하는 단계와, 상기 홀의 측벽에 구리층을 도금하는 구리 플레이팅층을 형성하는 단계 및 상기 구리 플레이팅층 및 하부 동박을 패터닝하여 회로 패턴을 형성하는 단계하는 것을 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a printed circuit board according to another embodiment of the present invention includes the steps of providing a copper foil laminated substrate having copper foil formed on both surfaces of the core layer and coated with a carrier foil on the surface of the copper foil, and the laser mask opening method described above. Forming the carrier foil pattern and the copper foil pattern, removing the carrier foil pattern, and forming a hole through the core substrate of the copper foil laminated substrate using the copper foil pattern as a mask using a laser drilling process. And forming a copper plating layer for plating a copper layer on the sidewalls of the holes, and patterning the copper plating layer and the lower copper foil to form a circuit pattern.

여기서, 상기 구리 플레이팅 단계는 상기 동박적층기판 표면에 형성된 동박 패턴 및 그 반대면에 형성된 동박이 서로 연결되도록 하는 것을 특징으로 한다.
Here, the copper plating step is characterized in that the copper foil pattern formed on the copper foil laminated substrate surface and the copper foil formed on the opposite surface are connected to each other.

본 발명은 최초 동박적층기판에 형성된 캐리어 포일층을 레이저 마스크 오픈(Laser mask open)공정에 이용함으로써, 0.06mm 이하의 코어층을 갖는 UTC(Ultra Thin Core) 제품의 동박적층기판에서 DES 공정 중 드라이 필름을 제거하는 공정에서 동박 패턴에 손상이 가해지는 문제를 해결할 수 있다.The present invention uses the carrier foil layer formed on the first copper foil laminated substrate in a laser mask open process to dry the DES process in a copper foil laminated substrate of a UTC (Ultra Thin Core) product having a core layer of 0.06 mm or less. In the process of removing a film, the problem which damage to a copper foil pattern can be solved.

따라서, 인쇄회로기판 제조를 위한 외층 이미지 형성공정에서 불량 발생률을 현저히 감소시키고, 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.
Therefore, in the outer layer image forming process for manufacturing a printed circuit board, it significantly reduces the incidence of defects and provides an effect of improving reliability.

도 1 내지 도 6은 종래 기술에 따른 레이저 마스크 오픈 과정을 도시한 단면도들 이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 마스크 오픈 방법 및 인쇄회로기판 제조 방법을 나타낸 순서도 이다.
도 8 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 마스크 오픈 방법 및 인쇄회로기판 제조 방법을 나타낸 단면도들이다.
1 to 6 are cross-sectional views showing a laser mask opening process according to the prior art.
7 is a flow chart showing a laser mask opening method and a printed circuit board manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
8 to 13 are cross-sectional views illustrating a method of opening a laser mask and a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 상세하게 후술되어 있는 실시예들 및 도면을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention, and how to accomplish them, will become apparent with reference to the embodiments and drawings described in detail below. However, it is to be understood that the present invention is not limited to the disclosed embodiments, but may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein. It is intended that the disclosure of the present invention be limited only by the terms of the appended claims.

이하, 본 발명에 따른 레이저 마스크 오픈 방법 및 이를 이용한 인쇄회로기판 제조 방법에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a laser mask opening method and a printed circuit board manufacturing method using the same according to the present invention will be described in detail.

먼저, 본 발명은 기존 0.06mm 두께를 초과하는 코어층을 갖는 동박적층기판에서는 발생하지 않았던 코어층의 이상 문제를 해결하기 위한 것이다. First, the present invention is to solve the problem of abnormality of the core layer that did not occur in the copper-clad substrate having a core layer exceeding the existing 0.06mm thickness.

0.06mm 이하의 코어층을 갖는 동박적층기판에 양면 캐리어 구리 포일을 제거한 후 레이저 마스크 오픈 공정을 진행할 경우 높은 제품 파손율이 나타났다.When the double-sided carrier copper foil was removed on the copper-clad laminate having a core layer of 0.06 mm or less, the laser mask open process showed a high product breakage rate.

특히, 본 발명은 레이저 마스크 오픈 공정에서 DES 공정을 수행하면서, 동박 패턴에 손상이 가해지는 문제가 나타났는데, 본 발명은 이를 해결하기 위한 레이저 마스크 오픈 방법을 제공 한다.In particular, the present invention, while performing the DES process in the laser mask open process, a problem that damage to the copper foil pattern appeared, the present invention provides a laser mask open method for solving this problem.

그 일례로서, 본 발명은 동박적층기판의 표면에 보호층으로서 형성되는 캐리어 구리 포일을 그대로 잔류시킨 상태에서 레이저 마스크 오픈 공정을 진행하는 방법을 제공한다.As one example thereof, the present invention provides a method of performing a laser mask opening process in a state in which a carrier copper foil formed as a protective layer is left on the surface of a copper clad laminate substrate as it is.

따라서, 최소한 동박 패턴을 보호할 수 있으며, 코어층 등을 패터닝하는 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 그 구체적 실용예들을 살펴보면 다음과 같다.
Therefore, at least the copper foil pattern can be protected, and reliability of patterning the core layer and the like can be improved, and the specific practical examples are as follows.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 마스크 오픈 방법 및 인쇄회로기판 제조 방법을 나타낸 순서도 이다.7 is a flow chart showing a laser mask opening method and a printed circuit board manufacturing method according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판 제조 방법으로 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계(S100)와, 상기 캐리어 포일 상부에 드라이 필름을 코팅하는 단계(S110)와, 캐리어 포일을 포함하여 레이저 마스크 오픈 공정을 진행하는 단계(S110)와, 레이저 드릴링 단계(S120)와, 캐리어 포일을 제거하는 단계(S130)와, 노출된 영역에 구리를 도금하는 구리 플레이팅 단계(140)와, 동박을 패터닝하여 외층 이미지를 형성하는 단계(S150)를 수행한다.First, referring to FIG. 7, a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present disclosure includes preparing a copper foil laminated substrate having a carrier foil coated thereon (S100), and coating a dry film on the carrier foil. (S110), the step of performing a laser mask open process including a carrier foil (S110), the laser drilling step (S120), the step of removing the carrier foil (S130), and copper plating the exposed area The copper plating step 140 and the copper foil are patterned to form an outer layer image (S150).

여기서, 상기 레이저 마스크 오픈 공정(S110)에 대해 보다 상세히 살펴 보면 다음과 같다.Here, the laser mask opening process (S110) will be described in more detail as follows.

레이저 마스크 오픈을 위해서는 먼저, 드라이 필름을 캐리어 호일 상부에 형성한다. 이때, 캐리어 호일 중 일례로서 구리층이 형성되고 있으므로, 기존에 동박 상부에 드라이 필름을 형성하던 공정보다 구리층 상부에 형성되는 드라이 필름 코팅이 미흡하거나 성능이 떨어지는 문제는 없다.In order to open the laser mask, a dry film is first formed on the carrier foil. At this time, since the copper layer is formed as one example of the carrier foil, there is no problem that the dry film coating formed on the copper layer is inadequate or inferior in performance compared to the process of forming a dry film on the copper foil.

다음으로, 노광 및 DES 공정으로 드라이 필름 패턴을 형성한다. 이때, 드라이 필름 패턴은 코어층을 관통시키는 홀 형성 영역을 정의하는 패턴으로, 후속의 레이저 드릴링 공정이 수행될 영역을 노출시키는 형태가 된다.Next, a dry film pattern is formed by an exposure and a DES process. In this case, the dry film pattern is a pattern defining a hole formation region through which the core layer penetrates, thereby exposing a region to be subjected to a subsequent laser drilling process.

이때, DES 공정에서 드라이 필름을 현상한 후 드라이 필름 패턴을 이용하여 캐리어 호일 및 동박을 에칭하고, 드라이 필름 패턴을 스트립하는 과정에서 동박층에 직접적인 손상이 가해지지 않으므로, 레이저 마스크 오픈 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.At this time, since the dry film is developed in the DES process, the carrier foil and the copper foil are etched using the dry film pattern, and no direct damage is applied to the copper foil layer in the process of stripping the dry film pattern, thereby improving reliability of the laser mask open process. Can be improved.

여기서, 상기 캐리어 호일 및 동박 에칭 공정은 레이저 조사를 이용한 패터닝 공정으로 수행하는 것이 바람직하다.Here, the carrier foil and the copper foil etching process is preferably performed by a patterning process using laser irradiation.

이 과정에서 기존에는 동박에 직접적인 타격이 가해졌지만, 본 발명에서는 캐리어 호일 패턴이 커버층으로서 작용하므로, 동박이 손상될 위험이 없다.In the process, a direct blow was previously applied to the copper foil, but in the present invention, since the carrier foil pattern acts as a cover layer, there is no risk of damaging the copper foil.

따라서, 후속의 레이저 드릴링 및 구리 플레이트 공정 등이 원활하게 진행될 수 있으며, 그 구체적 공정을 살펴보면 다음과 같다.
Therefore, the subsequent laser drilling and copper plate process can be performed smoothly, and look at the specific process as follows.

도 8 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 마스크 오픈 방법 및 인쇄회로기판 제조 방법을 나타낸 단면도들이다.8 to 13 are cross-sectional views illustrating a method of opening a laser mask and a method of manufacturing a printed circuit board according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 0.06mm 이하의 두께를 갖는 코어층(100) 양면에 동박(120, 125)이 형성된 UTC 동박적층기판(150)을 마련한다. 이때, 동박(120, 125)의 보호를 위해서 동박(120, 125)의 표면에 캐리어 구리 포일(130, 135)을 형성된다.Referring to FIG. 8, a UTC copper-clad laminate 150 having copper foils 120 and 125 formed on both surfaces of a core layer 100 having a thickness of 0.06 mm or less is prepared. At this time, the carrier copper foils 130 and 135 are formed on the surfaces of the copper foils 120 and 125 in order to protect the copper foils 120 and 125.

일반적인 인쇄회로기판 제조 공정의 경우에는 상기 캐리어 구리 포일을 제거한 후에 진행하게 되나, 본 발명에서는 상기 캐리어 구리 포일이 잔류하는 상태에서 그대로 인쇄회로기판 제조 공정을 진행 한다.In the case of a general printed circuit board manufacturing process, the carrier copper foil is removed after proceeding, but in the present invention, the printed circuit board manufacturing process is performed as it is while the carrier copper foil remains.

또한, 본 발명에서 캐리어 구리 포일(130, 135)은 15 ~ 20㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.In addition, in the present invention, the carrier copper foils 130 and 135 are preferably formed to have a thickness of 15 to 20 μm.

예를 들면, 18㎛ 두께를 갖는 양면 캐리어 구리 포일을 제거한 후 레이저 마스크 오픈 공정을 진행할 경우, 0.06mm 이하의 코어층을 갖는 동박 적층판은 50% 이상의 불량 발생률을 보였다.For example, when the laser mask open process was performed after removing the double-sided carrier copper foil having a thickness of 18 μm, the copper foil laminate having a core layer of 0.06 mm or less showed a failure rate of 50% or more.

따라서, 본 발명은 UTC 박판에 캐리어 구리 포일(130)을 적용하되, 캐리어 구리 포일(130)의 두께가 15㎛ 미만일 경우에는 동박 보호 효과가 미흡할 수 있으며, 반대로 20㎛를 초과할 경우에는 그 두께가 너무 두꺼워서 패터닝 공정이 어려워질 수 있다.
Therefore, in the present invention, the carrier copper foil 130 is applied to the UTC thin plate, but the copper foil protection effect may be insufficient when the thickness of the carrier copper foil 130 is less than 15 μm. The thickness can be so thick that the patterning process can be difficult.

다음으로 도 9를 참조하면, 상술한 레이저 마스크 오픈 공정을 수행하여 캐리어 구리 포일 패턴(130P) 및 상부 동박 패턴(120P)을 형성한다.Next, referring to FIG. 9, the above-described laser mask opening process is performed to form the carrier copper foil pattern 130P and the upper copper foil pattern 120P.

이때, 편의를 위해서 도시된 단면 상태에서 상부를 기준으로 패턴이 형성되는 것으로 하였으나, 도시된 화면을 180°회전할 경우 하부에 패턴이 형성되는 것으로 되므로, 상부 및 하부와 같은 용에 의해서 본 발명이 제한되는 것은 아니고, 전체적인 공정의 흐름을 종합적으로 판단하여야 한다.At this time, the pattern is formed based on the upper side in the state shown in the cross-sectional view for convenience, but the pattern is formed at the bottom when rotating the screen shown 180 °, the present invention by the same as the upper and lower The present invention is not limited thereto, and the overall process flow should be judged comprehensively.

여기서, 본 발명에서는 드라이 필름을 이용한 DES 공정에서 상부 동박 패턴(120P)이 손상될 위험이 없으므로, 상기 도 3의 경우와 달리 완전한 형태의 캐리어 구리 포일 패턴(130P) 및 상부 동박 패턴(120P)이 형성될 수 있다.
Here, in the present invention, there is no risk of damaging the upper copper foil pattern 120P in the DES process using a dry film. Thus, unlike the case of FIG. 3, the carrier copper foil pattern 130P and the upper copper foil pattern 120P of the complete form are Can be formed.

다음으로 도 10을 참조하면, 레이저 드릴링 공정을 이용하여 코어층(100)에 홀을 형성한다. 이때, 캐리어 구리 포일 패턴(130P) 및 상부 동박 패턴(120P)을 이용하여 드릴링 공정을 수행하는데, 캐리어 구리 포일 패턴(130P)을 먼저 제거한 후에 홀을 포함하는 코어층(100P)을 형성할 수도 있다.
Next, referring to FIG. 10, holes are formed in the core layer 100 using a laser drilling process. In this case, a drilling process is performed using the carrier copper foil pattern 130P and the upper copper foil pattern 120P. The carrier copper foil pattern 130P may be removed first, and a core layer 100P including a hole may be formed. .

그 다음으로 도 11을 참조하면, 홀을 포함하는 코어층(100P) 제조가 완료된 상태에서 캐리어 구리 포일 패턴(130P)을 제거한다.
Next, referring to FIG. 11, the carrier copper foil pattern 130P is removed while the core layer 100P including the hole is manufactured.

그 다음으로 도 12를 참조하면, 홀을 포함하는 코어층(100P) 상부에 도금 공정을 수행하여 상부 동박 패턴(120P)과 하부 동박(125)을 연결하는 구리 플레이팅층(140)을 형성한다.
Next, referring to FIG. 12, a plating process is performed on the core layer 100P including the holes to form a copper plating layer 140 connecting the upper copper foil pattern 120P and the lower copper foil 125.

그 다음으로 도 13을 참조하면, 외층 이미지 형성 공정을 수행하여 상부 회로 패턴(140P) 및 하부 회로 패턴(125P)을 형성한다.13, the upper circuit pattern 140P and the lower circuit pattern 125P are formed by performing an outer layer image forming process.

그 결과 상기 도 6과 대비되는 완전한 형태의 회로 패턴을 형성할 수 있으며, 이를 포함하는 인쇄회로기판을 제조 할 수 있다.
As a result, it is possible to form a circuit pattern of a complete form as compared to FIG. 6, it is possible to manufacture a printed circuit board including the same.

이상에서 설명한 본 발명의 레이저 마스크 오픈 과정 및 인쇄회로기판 제조 방법에 대한 우수성을 살펴보기 위하여, 다음과 같이 실시예 및 비교예를 들어서 설명하는 것으로 한다.In order to examine the excellence of the laser mask opening process and the printed circuit board manufacturing method of the present invention described above, it will be described with reference to Examples and Comparative Examples as follows.

실시예 Example

0.04mm 의 코어층을 갖는 동박적층기판 표면에 18㎛ 두께의 캐리어 구리 포일층을 형성한 후, 캐리어 구리 포일층이 잔류한 상태에서 레이저 마스크 오픈 공정을 진행하였다.
After forming a 18-micrometer-thick carrier copper foil layer on the copper foil laminated substrate surface which has a 0.04 mm core layer, the laser mask open process was performed in the state which the carrier copper foil layer remained.

비교예 Comparative example

상기 실시예1과 모든 조건을 동일하게 수행하되, 캐리어 구리 포일층을 제거한 상태에서 레이저 마스크 오픈 공정을 진행하였다.
All the same conditions as in Example 1 were carried out, but the laser mask open process was performed while the carrier copper foil layer was removed.

상기 실시예 및 비교예에 대한 인쇄회로기판 제조 공정을 각각 10회씩 진행한 후 불량 발생 여부를 판별하여 다음과 같이 정리하였다.Printed circuit board manufacturing process for each of the above Examples and Comparative Examples was carried out 10 times, and then whether or not a defect occurred was summarized as follows.

1회1 time 2회Episode 2 3회3rd time 4회4 times 5회5 times 6회6th 7회7 times 8회8th 9회9th 10회10 times 실시예Example 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 정상normal 비교예Comparative example 정상normal 정상normal 불량Bad 정상normal 불량Bad 정상normal 불량Bad 정상normal 불량Bad 불량Bad

상기 표 1을 참조하면 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 레이저 마스크 오픈 공정을 이용하는 경우 36㎛의 표면 보호층을 가지므로 불량이 전혀 발생하지 않았다. 반면에 캐리어 구리 포일을 제거한 비교예의 경우 50% 이상의 불량이 발생한 것을 볼 수 있다.
As can be seen with reference to Table 1, when using the laser mask open process according to the present invention has a surface protective layer of 36㎛, no defect occurred. On the other hand, in the comparative example in which the carrier copper foil was removed, it can be seen that a defect of 50% or more occurred.

따라서, 본 발명에 따른 인쇄회로기판 제조 방법은 동박적층기판에 형성된 캐리어 포일층을 레이저 마스크 오픈(Laser mask open)공정에 이용함으로써, DES 공정 중 드라이 필름을 제거하는 공정에서 동박 패턴에 손상이 가해지는 문제를 해결하고, 불량 발생률을 현저하게 감소시킬 수 있다.
Therefore, in the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, a carrier foil layer formed on a copper foil laminated substrate is used in a laser mask open process, thereby damaging the copper foil pattern in a process of removing a dry film during the DES process. Loss can solve the problem and significantly reduce the incidence of defects.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

10, 100 : 코어층 100P : 홀 포함 코어층
20, 25, 120, 125 : 동박 20P, 120P : 동박 패턴
25P, 125P : 하부회로 패턴 30, 35, 130, 135 : 캐리어 호일
130P : 캐리어 구리 포일 패턴 140 : 구리 플레이팅층
40P, 140P 상부회로 패턴 50, 150 : 동박적층기판
10, 100: core layer 100P: core layer with holes
20, 25, 120, 125: copper foil 20P, 120P: copper foil pattern
25P, 125P: Lower circuit pattern 30, 35, 130, 135: Carrier foil
130P: carrier copper foil pattern 140: copper plating layer
40P, 140P Upper Circuit Pattern 50, 150: Copper Clad Substrate

Claims (8)

(a) 코어층의 양면에 동박이 형성되고, 동박의 표면에 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계;
(b) 상기 캐리어 포일 상부에 드라이 필름을 코팅하는 단계;
(c) 상기 동박적층기판의 코어층 관통영역을 정의하는 홀 부분이 현상되도록 상기 드라이 필름을 노광하는 단계; 및
(d) DES(Develop-Etching-Strip) 공정으로 상기 코어층을 노출시키는 홀을 형성하는 단계;를 수행하되,
상기 DES 공정은 상기 (c) 단계에 현상된 드라이 필름 부분을 제거하여 드라이 필름 패턴을 형성하는 단계와, 상기 드라이 필름 패턴을 마스크로 상기 캐리어 포일 및 상기 동박에 레이저를 순차적으로 조사하여 상기 홀 영역의 상기 코어층을 노출시키는 홀을 형성하는 단계와, 상기 캐리어 포일을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 마스크 오픈 방법.
(a) forming copper foil on both surfaces of the core layer, and providing a copper foil laminated substrate coated with a carrier foil on the surface of the copper foil;
(b) coating a dry film on top of the carrier foil;
(c) exposing the dry film to develop a hole portion defining a core layer through area of the copper clad laminate substrate; And
(d) forming a hole exposing the core layer by a DEEP-Dtching-Strip (DES) process;
The DES process may include removing a portion of the dry film developed in step (c) to form a dry film pattern, and sequentially irradiating a laser onto the carrier foil and the copper foil using the dry film pattern as a mask to form the hole region. Forming a hole exposing the core layer of the substrate; and removing the carrier foil.
제1항에 있어서,
상기 캐리어 포일은
구리재질로 형성된 것을 특징으로 하는 레이저 마스크 오픈 방법.
The method of claim 1,
The carrier foil is
Laser mask opening method characterized in that formed of a copper material.
제1항에 있어서,
상기 캐리어 포일의 두께는
15 ~ 20㎛인 것을 특징으로 하는 레이저 마스크 오픈 방법.
The method of claim 1,
The thickness of the carrier foil
Laser mask opening method, characterized in that 15 ~ 20㎛.
제1항에 있어서,
상기 동박적층기판의 코어층은
0.06mm 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 레이저 마스크 오픈 방법.
The method of claim 1,
The core layer of the copper clad laminate substrate
Laser mask opening method characterized in that it has a thickness of less than 0.06mm.
제1항에 있어서,
상기 (c) 단계의 노광은
UV 를 이용한 노광인 것을 특징으로 하는 레이저 마스크 오픈 방법.
The method of claim 1,
The exposure of step (c)
The laser mask opening method characterized by exposure using UV.
코어층의 양면에 동박이 형성되고, 동박의 표면에 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계;
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 레이저 마스크 오픈 방법으로 상기 캐리어 포일 패턴 및 상기 동박 패턴을 형성하는 단계;
레이저 드릴링 공정을 이용하여 상기 캐리어 포일 패턴 및 상기 동박 패턴을 마스크로 상기 동박적층기판의 코어 기판을 관통시키는 홀을 형성하는 단계;
상기 캐리어 포일 패턴을 제거하는 단계;
상기 홀의 측벽에 구리층을 도금하는 구리 플레이팅층을 형성하는 단계; 및
상기 구리 플레이팅층 및 하부 동박을 패터닝하여 회로 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로 기판 제조 방법.
Preparing copper foil laminated substrates on which copper foils are formed on both surfaces of the core layer, and the carrier foil is coated on the surface of the copper foil;
Forming the carrier foil pattern and the copper foil pattern by the laser mask open method according to any one of claims 1 to 5;
Forming a hole through the core substrate of the copper foil laminated substrate using the carrier foil pattern and the copper foil pattern as a mask by using a laser drilling process;
Removing the carrier foil pattern;
Forming a copper plating layer for plating a copper layer on sidewalls of the holes; And
And patterning the copper plating layer and the lower copper foil to form a circuit pattern.
코어층의 양면에 동박이 형성되고, 동박의 표면에 캐리어 포일이 코팅된 동박적층기판을 마련하는 단계;
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 레이저 마스크 오픈 방법으로 상기 캐리어 포일 패턴 및 상기 동박 패턴을 형성하는 단계;
상기 캐리어 포일 패턴을 제거하는 단계;
레이저 드릴링 공정을 이용하여 상기 동박 패턴을 마스크로 상기 동박적층기판의 코어 기판을 관통시키는 홀을 형성하는 단계;
상기 홀의 측벽에 구리층을 도금하는 구리 플레이팅층을 형성하는 단계; 및
상기 구리 플레이팅층 및 하부 동박을 패터닝하여 회로 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로 기판 제조 방법.
Preparing copper foil laminated substrates on which copper foils are formed on both surfaces of the core layer, and the carrier foil is coated on the surface of the copper foil;
Forming the carrier foil pattern and the copper foil pattern by the laser mask open method according to any one of claims 1 to 5;
Removing the carrier foil pattern;
Forming a hole through the core substrate of the copper-clad laminate using the copper foil pattern as a mask using a laser drilling process;
Forming a copper plating layer for plating a copper layer on sidewalls of the holes; And
And patterning the copper plating layer and the lower copper foil to form a circuit pattern.
제6항에 있어서,
상기 구리 플레이팅층 형성 단계는
상기 동박적층기판 표면에 형성된 동박 패턴 및 그 반대면에 형성된 동박이 서로 연결되도록 하는 것을 특징으로 하는 인쇄회로 기판 제조 방법.
The method of claim 6,
The copper plating layer forming step
And a copper foil pattern formed on the copper foil laminated substrate surface and the copper foil formed on the opposite surface thereof are connected to each other.
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