KR101129962B1 - 착색 감광성 수지 조성물 - Google Patents

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KR101129962B1 KR1020040035409A KR20040035409A KR101129962B1 KR 101129962 B1 KR101129962 B1 KR 101129962B1 KR 1020040035409 A KR1020040035409 A KR 1020040035409A KR 20040035409 A KR20040035409 A KR 20040035409A KR 101129962 B1 KR101129962 B1 KR 101129962B1
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Abstract

착색제(A), 바인더 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 안료 분산제(E) 및 용제(F)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기의 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판상에 도포하여 수지층을 형성하고, 상기의 수지층을 프리 베이크, 마스크를 통한 노광, 현상, 포스트 베이크할 때에, 포스트 베이크 후에 얻어지는 경화 수지층의 경도가 연필 경도로 3H 이상 9H 이하이며, 또한 프리 베이크, 마스크를 통한 노광 후에 얻어지는 감광성 수지층을 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지하여, 120초 후의 감광성 수지층의 비노광부가 용해한 부분의 투과율(400～780㎚의 평균)이 98% 이상 100% 이하인 착색 감광성 수지 조성물.
착색 감광성 수지 조성물, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 경화 수지층

Description

착색 감광성 수지 조성물{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}
본 발명은 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
컬러 액정 표시 장치나 촬영 소자 등에 이용되는 컬러 필터는 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판상에, 적, 녹 및 청의 삼원색에 상당하는 착색층을 형성함으로써 제조되고 있다.
종전의 패턴상으로 형성된 착색층(착색 화소)은 경도가 불충분하고, 컬러 필터 제작 후의 배향막 러빙 처리 등의 후공정에서 착색층에 손상이 가거나, 액정 패널의 조립시 2매의 기판 사이에 개재시키는 스페이서재로부터의 압력으로 인해 착색층이 변형되기 쉬우므로 셀 캡이 국소적으로 변형되어 표시 결함이 발생하기 쉬운 등의 문제가 있었다.
상기 착색층은 착색 수지 조성물로부터 형성된다. 그 착색 수지 조성물로서는 착색제, 바인더 수지, 분산제, 용매, 및 세라믹스 입자를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물이 알려져 있으나(일본 공개특허 평10-186126호 공보 참조), 그 조성물을 프리 베이크, 마스크를 통한 노광후, 비노광부의 감광성 수지층을 알칼리 수용 액에 침지시켜 감광성 수지층을 용해했을 때, 세라믹스 입자를 함유하고 있으므로 잔사가 발생하여 용해된 부분의 투과율(400～780㎚의 평균)이 낮고, 현상성이 충분하지 않다는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은 현상성이 우수하고, 표면 경도가 높은 경화 수지층을 형성할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 데 있다.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 현상성이 우수하고 표면 경도가 높은 경화 수지층을 형성할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 알아내었다.
즉, 본 발명은 이하의〔1〕～〔11〕을 제공하는 것이다.
〔1〕착색제 (A), 바인더 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 안료 분산제(E) 및 용제(F)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물에 있어서, 상기의 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판상에 도포하여 수지층을 형성하고, 상기의 수지층을 프리 베이크, 마스크를 통한 노광, 현상, 포스트 베이크할 때에, 포스트 베이크 후에 얻어지는 경화 수지층의 경도가 연필 경도로 3H 이상 9H 이하이며, 또한 프리 베이크, 마스크를 통하여 노광 후에 얻어지는 감광성 수지층을 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지하여, 120초 후의 감광성 수지층의 비노광부가 용해된 부분의 투과율(400～780㎚의 평균)이 98% 이상 100% 이하인 착색 감광성 수지 조성물.
〔2〕바인더 수지(B)가, (메타)아크릴산으로부터 유도되는 구성 단위를 포함하는 수지인〔1〕기재의 착색 감광성 수지 조성물.
〔3〕바인더 수지 (B)를 구성하는 전체 구성 단위 중에 (메타)아크릴산으로부터 유도되는 구성 단위의 함유량이 16㏖% 이상 40㏖% 이하인〔1〕또는〔2〕기재의 착색 감광성 수지 조성물.
〔4〕바인더 수지(B)가 벤질(메타)아크릴레이트로부터 유도되는 구성 단위를 더 포함하는〔1〕～〔3〕중 어느 것에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.
〔5〕바인더 수지(B)가, 식(I)으로 나타내어지는 구성 단위를 더 포함하는 수지인〔1〕～〔4〕중 어느 것에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.
Figure 112004020988500-pat00001
(I)
(식 (I) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.)
〔6〕바인더 수지(B)의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 5,000 이상 35,000 이하인〔1〕～〔5〕중 어느 것에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.
〔7〕안료 분산제 (E)가 폴리에스테르계, 폴리에틸렌이민계, 폴리우레탄계 및 아크릴산계로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 계면 활성제인〔1〕～〔6〕중 어느 것에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.
〔8〕안료 분산제(E)가 아크릴산계 계면 활성제인〔1〕～〔7〕중 어느 것에 기재된 착색 감광성 수지 조성물.
〔9〕〔1〕～〔8〕중 어느 것에 기재된 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 수지층을 기판상에 형성하고, 그 수지층을 마스크를 통하여 노광한 후, 현상하고, 이어서 포스트 베이크하는 것을 특징으로 하는 착색 패턴의 형성 방법.
〔10〕포스트 베이크 처리의 온도가 180℃ 이상 250℃ 이하인〔9〕기재의 착색 패턴의 형성 방법.
〔11〕〔9〕또는〔10〕기재의 방법으로 형성된 착색 패턴을 함유하는 컬러 필터.
발명을 실시하기 위한 형태
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 착색제(A), 바인더 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 안료 분산제(E) 및 용제(F)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기의 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판상에 도포하여 수지층을 형성하고, 상기의 수지층을 프리 베이크, 마스크를 통한 노광, 현상, 포스트 베이크할 때에, 포스트 베이크 후에 얻어지는 경화 수지층의 경도가 연필 경도로 3H 이상 9H 이하이며, 또한, 프리 베이크, 마스크를 통한 노광 후에 얻어지는 감광성 수지층을 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지하여, 120초 후의 감광성 수지층의 비노광부가 용해된 부분의 투과율(400～780㎚의 평균)이 98% 이상 100% 이하인 것이다.
경화 수지층(도막)의 경도는 연필 경도로 3H 이상 9H 이하인 것이 필요하며, 바람직하게는 4H 이상 9H 이하, 보다 바람직하게는 5H 이상 9H 이하이다. 경화 수 지층(도막)은 화소부가 되는 부분인데, 그 연필 경도가 3H 이상 9H 이하이면 화소 형성 후에 행하여지는 액정 배향막의 제조 등의 공정에 있어서, 경화 수지층(도막)에 손상이 발생하기 어려우므로 바람직하다. 연필 경도는 JISK5400호의 방법에 따라 측정한다.
상기의 프리 베이크는 그 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판상에 도포하고, 100℃에서 3분간 정도로 실시하는 것이 바람직하다.
프리 베이크, 마스크를 통한 노광 후에 얻어지는 감광성 수지층은 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지된다. 여기에서, 알칼리 수용액은 통상 질량분율로 수산화 칼륨을 0.05%, 부틸나프탈렌 술폰산 나트륨을 0.2% 각각 함유하는 수용액을 이용한다.
상기 감광성 수지층의 비노광부는 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지했을 때, 120초 이내에 용해되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1초 이상 100초 이내, 보다 바람직하게는 1초 이상 80초 이내, 더욱 바람직하게는 1초 이상 60초 이내이다. 용해에 요하는 시간이 상기의 범위에 있으면 컬러 필터의 생산성의 저하를 억제할 수 있으므로 바람직하다.
상기 감광성 수지층의 비노광부를 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지하여, 120초 후의 감광성 수지층이 용해된 부분의 투과율(투과 파장이 400㎚～780㎚인 범위의 평균치)는 98% 이상 100% 이하일 필요가 있으며, 바람직하게는 99% 이상 100% 이하, 보다 바람직하게는 99.5% 이상 100.0% 이하이다. 투과율이 98% 이상 100% 이하이면 착색층의 밝기에의 영향이 작으므로 바람직하다.
본 발명에서 이용되는 착색제(A)는 유기 착색제이어도 무기 착색제이어도 된다. 유기 착색제는 유기 안료이어도 유기 염료이어도 된다. 또한, 유기 착색제는 합성 착색제이거나 천연 착색제이어도 된다. 무기 착색제는 금속 산화물, 금속 착염, 황산 바륨의 무기염(체질 안료) 등의 무기 안료이어도 된다. 이들 착색제 중에서 유기 착색제가 특히 유기 안료가 더 바람직하게 이용된다.
유기 안료 및 무기 안료로서는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다.
구체적으로는, C.I.피그먼트 옐로우 1, C.I.피그먼트 옐로우 3, C.I.피그먼트 옐로우 12, C.I.피그먼트 옐로우 13, C.I.피그먼트 옐로우 14, C.I.피그먼트 옐로우 15, C.I.피그먼트 옐로우 16, C.I.피그먼트 옐로우 17, C.I.피그먼트 옐로우 20, C.I.피그먼트 옐로우 24, C.I.피그먼트 옐로우 31, C.I.피그먼트 옐로우 53, C.I. 피그먼트 옐로우 83, C.I.피그먼트 옐로우 86, C.I.피그먼트 옐로우 93, C.I.피그먼트 옐로우 94, C.I.피그먼트 옐로우 109, C.I.피그먼트 옐로우 110, C.I.피그먼트 옐로우 117, C.I.피그먼트 옐로우 125, C.I.피그먼트 옐로우 128, C.I.피그먼트 옐로우 137, C.I.피그먼트 옐로우 138, C.I.피그먼트 옐로우 139, C.I.피그먼트 옐로우 147, C.I.피그먼트 옐로우 148, C.I.피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 153, C.I. 피그먼트 옐로우 154, C.I. 피그먼트 옐로우 166, C.I. 피그먼트 옐로우 173, C.I. 피그먼트 옐로우 194, C.I. 피그먼트 옐로우 214 등의 황색 안료;
C.I. 피그먼트 오렌지 13, C.I. 피그먼트 오렌지 31, C.I. 피그먼트 오렌지 36, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 오렌지 40, C.I. 피그먼트 오렌지 42, C.I. 피그먼트 오렌지 43, C.I. 피그먼트 오렌지 51, C.I. 피그먼트 오렌지 55, C.I. 피그먼트 오렌지 59, C.I. 피그먼트 오렌지 61, C.I. 피그먼트 오렌지 64, C.I. 피그먼트 오렌지 65, C.I. 피그먼트 오렌지 71, C.I. 피그먼트 오렌지 73 등의 오렌지색의 안료;
C.I. 피그먼트 레드 9, C.I. 피그먼트 레드 97, C.I. 피그먼트 레드 105, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I. 피그먼트 레드 149, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 168, C.I. 피그먼트 레드 176, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 180, C.I. 피그먼트 레드 192, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 215, C.I. 피그먼트 레드 216, C.I. 피그먼트 레드 224, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 264, C.I. 피그먼트 레드 265 등의 적색 안료;
C.I. 피그먼트 블루 15, C.I. 피그먼트 블루 15:3, C.I. 피그먼트 블루 15:4, C.I. 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 블루 60 등의 청색 안료;
C.I. 피그먼트 바이올렛 1, C.I. 피그먼트 바이올렛 19, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 바이올렛 29, C.I. 피그먼트 바이올렛 32, C.I. 피그먼트 바이올렛 36, C.I. 피그먼트 바이올렛 38 등의 바이올렛색 안료;
C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36 등의 녹색 안료;
C.I. 피그먼트 브라운 23, C.I. 피그먼트 브라운 25 등의 브라운색 안료;
C.I. 피그먼트 블랙 1, C.I. 피그먼트 블랙 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있 다.
이들 중에서 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 209, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:6 및 C.I. 피그먼트 그린 36에서 선택되는 적어도 하나의 안료를 함유하고 있는 것이 바람직하다.
이들 유기 안료 및 무기 안료는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 이용할 수도 있다.
예를 들면, 적색 화소를 형성하려면 C.I. 피그먼트 레드 254 및 C.I. 피그먼트 옐로우 139를 함유하고 있는 것이 바람직하다.
녹색 화소를 형성하려면 C.I. 피그먼트 옐로우 150 및 C.I. 피그먼트 옐로우 138로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종과 C.I. 피그먼트 그린 36을 함유하고 있는 것이 바람직하다.
청색 화소를 형성하려면 C.I. 피그먼트 블루 15:6과 C.I. 피그먼트 바이올렛 23을 함유하고 있는 것이 각각 바람직하다.
상기 안료 중 유기 안료는 필요에 따라서 로진(rosin) 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 이용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에의 그래프팅(grafting) 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온성 불순물의 이온 교환법 등에 의한 제거 처리 등이 실시되어 있을 수도 있다. 또한, 착색 감광성 수지 조성물을 조제한 후에, 예를 들면, 이온 교환법 등의 제거 처리가 이루어져 있을 수도 있다.
착색제(A)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분을 100질량부로 했을 때, 통상 25질량부 이상 60질량부 이하이며, 바람직하게는 27질량부 이상 55질량부 이하이며, 더욱 바람직하게는 30질량부 이상 50질량부 이하이다. 착색제 (A)의 함유량이 25질량부 이상 60질량부 이하이면, 컬러 필터로 했을 때의 색농도가 충분하며, 또한 조성물 중에 바인더 수지를 필요량 함유시킬 수 있어 기계적 강도가 충분한 패턴을 형성할 수 있으므로 바람직하다.
여기에서, 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분이란 착색 감광성 수지 조성물에서 용제(F)를 제외한 나머지 부분을 말한다.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 있어서는, 착색제(A)로서 안료를 이용하는 경우 그 입경이 균일한 것이 바람직하다. 안료를 균일한 입경으로 하기 위해서는 계면 활성제를 안료 분산제(E)로서 함유시켜서 분산 처리를 행하는 방법 등을 들 수 있다.
상기의 안료 분산제(E)로서는 예를 들면, 폴리옥시 에틸렌 알킬 에테르계, 폴리옥시 에틸렌 알킬페닐에테르계, 폴리에스테르계, 아크릴산계, 폴리우레탄계, 폴리에틸렌이민계 등의 계면 활성제 등을 들 수 있으며, 각각 단독이나 2종 이상을 조합시켜 이용할 수도 있다.
폴리옥시 에틸렌 알킬에테르계의 계면 활성제로서는 하기 식의 구조를 갖는 것 등을 들 수 있다(14102의 화학 상품 1286페이지(화학 공업 일보사 2002년 1월 29일 발행)).
RO(CH2CH2O)nH
식 중, R은 탄소수 12～22인 알킬기를 나타내고, n은 2～60인 수를 나타낸다.
폴리옥시에틸렌 알킬 에테르계의 계면 활성제로서는 예를 들면, 폴리옥시 에틸렌 데실 에테르, 폴리옥시 에틸렌 라우릴 에테르, 폴리옥시 에틸렌 세틸 에테르, 폴리옥시 에틸렌 스테아릴 에테르, 폴리옥시 에틸렌 올레일 에테르, 폴리옥시 에틸렌2-에틸헥실 에테르 등을 들 수 있다.
폴리옥시 에틸렌 알킬 에테르계 계면 활성제의 시판품으로서는 BLAUNON-EL 시리즈, BLAUNON-CH 시리즈, BLAUNON-SR 시리즈, BLAUNON-EN 시리즈, BLAUNON-EH 시리즈, BLAUNON-DAL 시리즈, BLAUNON-DAI 시리즈, BLAUNON-DAH 시리즈, BLAUNON-OX 시리즈(모두, 아오키 유지(주)제품) 등을 들 수 있으며, 타사의 동등품도 마찬가지로 이용할 수 있다.
폴리옥시 에틸렌 알킬 페닐 에테르계의 계면 활성제로서는 하기 식의 구조를 갖는 것 등을 들 수 있다(14102의 화학 상품 1287페이지(화학 공업 일보사, 2002년 1월 29일 발행)).
Figure 112004020988500-pat00002
식 중, m은 1～5의 정수를 나타내고, n은 2～60의 수를 나타내고, R은 탄소 수 12～22의 알킬기 또는 치환되어 있을 수도 있는 페닐기를 나타낸다. 단, m이 2～5인 경우, R은 동일하거나 다를 수도 있다.
폴리옥시 에틸렌 알킬 페닐 에테르계의 계면 활성제의 시판품으로서는 BLAUNON-NK 시리즈, BLAUNON-N 시리즈, BLAUNON-DP 시리즈, BLAUNON-DNP 시리즈, BLAUNON-DSP 시리즈, BLAUNON-TSP 시리즈, BLAUNON-PH 시리즈, BLAUNON-BA 시리즈 등이 예시되고, 타사의 동등품도 마찬가지로 이용할 수 있다.
폴리에스테르계의 계면 화성제는 폴리 에스테르 구조를 갖는다. 폴리에스테르계의 계면 활성제로서는 Disperbyk-161, 동170(BYK Chemie사 제품), PB821(아지노모토(주)제품) 등을 들 수 있다.
폴리에틸렌이민계의 계면 활성제는 에틸렌이민 구조를 갖는다. 폴리에틸렌이민계의 계면 활성제로서는 솔스퍼스 24000GR(제네카(주)제품) 등이 예시되며, 타사의 동등품도 마찬가지로 이용할 수 있다.
아크릴산계의 계면 활성제는 아크릴 공중합 구조를 갖는다. 아크릴산계의 계면 활성제로서는 Disperbyk-352, 동 354, 동 2000, 동 2001(BYK Chemie사 제품), EFKA-폴리머-401(EFKA CHEMICALS사 제품) 등을 들 수 있으며, 타사의 동등품도 마찬가지로 이용할 수 있다.
폴리우레탄계의 계면 활성제는 폴리우레탄 구조를 갖는다. 폴리우레탄계의계면 활성제로서는 EFKA-폴리머-452, EFKA-47(EFKA CHEMICALS사 제품) 등을 들 수 있으며, 타사의 동등품도 마찬가지로 이용할 수 있다.
또한, 상기 이외의 계면 활성제로서는 상품명으로 KP(신에츠 화학 공업(주) 제품), 폴리플로우(쿄에이 화학(주)제품), 에프탑(토켐 프로덕트사 제품), 메가팩스(대일본 잉크 화학 공업(주) 제품), 플로라드(스미토모 쓰리엠(주)제품), 아사히가드, 서프론(이상, 아사히 글래스(주) 제품) 등이 예시된다.
안료 분산제(E)로서는 폴리에스테르계의 계면 활성제, 폴리에틸렌이민계의 계면 활성제, 폴리우레탄계의 계면 활성제, 아크릴산계의 계면 활성제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 계면 활성제를 이용하는 것이 바람직하고, 아크릴계의 계면 활성제를 이용하는 것이 보다 바람직하다.
안료 분산제(E)의 사용량은 착색제(A) 1질량부당, 통상 1질량부 이하, 바람직하게는 0.05 질량부 이상 0.5질량부 이하이다. 안료 분산제(E)의 사용량이 착색제(A) 1질량부당 1질량부 이하이면 균일한 입경의 안료를 얻을 수 있는 경향이 있으므로 바람직하다.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 이용되는 바인더 수지(B)는 (메타)아크릴산에서 유도되는 구조 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 바인더 수지(B)는 (메타)아크릴산에서 유도되는 구조 단위와 이들과 공중합 가능한 다른 모노머와의 아크릴계 공중합체인 것이 보다 바람직하다.
여기에서, (메타)아크릴산이란 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 나타낸다. 상기의 (메타)아크릴산으로부터 유도되는 구조 단위의 함유량은 바인더 수지(B)를 구성하는 전체 구성 단위 중, 16㏖% 이상 40㏖% 이하인 것이 바람직하다. 메타(아크릴)산 단위의 함유량이 상기의 범위에 있으면 현상시에 수지층 중 비화소부의 용해성이 양호하며, 또한 현상 후의 비화소부에 잔사가 잘 남지 않는 경향이 있으므 로 바람직하다.
그 밖의 공중합 가능한 다른 모노머로서는, 예를 들면 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복실산 에스테르류, 불포화 카르복실산 아미노 알킬 에스테르류, 불포화 카르복실산 글리시딜 에스테르류, 카르복실산 비닐 에스테르류, 불포화 에테르류, 시안화 비닐 화합물, 불포화 아미드류, 불포화 이미드류, 지방족 공역디엔류, 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 매크로 모노머류 등을 들 수 있다.
상기의 아크릴계 공중합체로서는 예를 들면, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, 메타크릴산/벤질메타크릴레이트/이소보르닐 메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/스티렌/벤질메타크릴레이트/N-페닐 말레이미드 공중합체, 및 하기 식(Ⅰ)으로 나타내어지는 구성 성분을 포함하는 공중합체 등을 들 수 있다.
Figure 112004020988500-pat00003
(Ⅰ)
식 (Ⅰ) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸 다.
이 가운데에서도 메타크릴산/벤질 메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/벤질 메타크릴레이트/스티렌 공중합체, 메타크릴산/벤질 메타크릴레이트/이소보르닐 메타크릴레이트 공중합체, 메타크릴산/상기 (Ⅰ)식으로 나타내어지는 구성 성분( (R1은 메틸기, R2는 수소 원자 )/벤질 메타크릴레이트 공중합체 및 상기 (Ⅰ)식으로 나타내어지는 구성 성분(R1은 메틸기, R2 는 수소 원자)/벤질 메타크릴레이트 공중합체가 바람직하게 사용된다.
(Ⅰ)식으로 나타내어지는 구성 성분을 갖는 바인더 수지, 예를 들면, 메타크릴산/상기 (Ⅰ)식으로 나타내어지는 구성 성분(R1은 메틸기, R2는 수소 원자)/벤질 메타크릴레이트 공중합체는 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트를 중합시켜 2성분 중합체를 얻고, 얻어진 2성분 중합체와 하기 식(Ⅱ)으로 나타내어지는 성분을 반응시키는 방법 등에 의해 얻을 수 있다.
Figure 112004020988500-pat00004
(Ⅱ)
식 (Ⅱ) 중, R2는 수소 원자를 나타낸다.
본 발명에서 이용되는 바인더 수지(B)의 산가는 통상 50～150이며, 바람직하 게는 60～135, 보다 바람직하게는 70～135이다. 상기의 산가가 50～150이면 현상액에 대한 용해성이 향상하여 미노광부가 용해되기 쉬워지고, 또한 고감도화되어 현상시에 노광부의 패턴이 남아 잔막율이 향상되는 경향이 있으므로 바람직하다. 여기에서, 산가란 아크릴산계 중합체 1g을 중화하는데 필요한 수산화 칼륨의 양(㎎)으로서 측정되는 값이며, 통상은 수산화 칼륨 수용액을 이용하여 적정(滴定)함으로써 구할 수 있다.
또한, 바인더 수지(B)는 그 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 통상 5,000～35,000이며, 바람직하게는 6,000～30,000이며, 보다 바람직하게는 7,000～28,000이다. 분자량이 5,000～35,000이면 경화 수지층(도막)의 경도가 향상되고, 잔막율도 높고, 미노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호하여, 해상도가 향상되는 경향이 있으므로 바람직하다.
상기의 바인더 수지(B)는 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 5질량% 이상 50질량% 이하이며 10질량% 이상 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이상 35질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기의 바인더 수지의 함유량이 5질량% 이상 50질량% 이하이면 패턴 형성이 가능하며, 또한 해상도 및 잔막율이 향상되는 경향이 있으므로 바람직하다.
본 발명에서 이용되는 광중합성 화합물(C)은 광선을 조사받음에 따라 광중합 개시제로부터 발생된 활성 라디칼에 의해 중합을 개시할 수 있는 화합물이다. 광중합성 화합물(C)로서는, 예를 들면 중합성 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 그 화합물은 단관능의 광중합성 화합물일 수도 있고, 2관능 또 는 3관능 이상의 다관능의 광중합성 화합물일 수도 있다.
단관능의 광중합성 화합물로서는, 예를 들면 노닐페닐 카르비톨 아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시 프로필 아크릴레이트, 2-에틸헥실 카르비톨 아크릴레이트 2-히드록시 에틸 아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.
2관능의 광중합성 화합물로서는, 예를 들면 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디메타크릴레이트,트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 비스페놀A의 비스(아크릴로일옥시에틸) 에테르, 3-메틸펜탄디올디아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
3관능 이상의 다관능 광중합성 화합물로서는 예를 들면, 트리메틸올 프로판트리아크릴레이트,트리메틸올 프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타크릴레이트,디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트,디펜타에리스리톨 헥사메타크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기의 광중합성 화합물은 각각 단독으로도 2종 이상을 조합시켜서도 이용할 수 있다. 광중합성 화합물(C)의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 16질량% 이상 31질량% 이하, 바람직하게는 18질량% 이상 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 19질량% 이상 29질량% 이하이다. 광중합성 화합물 (C)의 함유량이 16질량% 이상 31질량% 이하이면 경화가 충분히 일어나고, 잔막율이 향상되므로 바람직하다.
본 발명에 이용되는 광중합 개시제(D)로서는 예를 들면 아세토페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물, 이들 화합물의 2종 이상의 혼합물 등을 들 수 있다.
아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 디에톡시 아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐 프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-4-(2-히드록시 에톡시)페닐〕프로판-1-온, 1-히드록시 시클로헥실 페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(1-메틸비닐)페닐〕프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. 이들 가운데에서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐) 프로판-1-온이 바람직하게 사용된다. 또한, 복수의 아세토페논계 및 그 밖의 광중합 개시제를 조합시켜 사용할 수도 있다.
그 밖의 광중합 개시제로서는, 광을 조사받음으로써 활성 라디칼을 발생하는 활성 라디칼 발생제, 산발생제 등을 들 수 있다.
트리아진계 화합물로서는, 예를 들면, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(푸란-2-일)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)- 6-〔2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-〔2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐〕-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.
비이미다졸 화합물로서는 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(p-카르보에톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(p-브로모페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(o,p-디클로로페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(o,p- 디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(m-메톡시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(o,o'-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(o-니트로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(o-메틸페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸 등을 들 수 있다.
옥심 화합물로서는 O-아실옥심계 화합물을 들 수 있으며, 그 구체예로서는 1-(4-페닐술파닐-페닐)-부탄-1,2-디온 2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐-페닐)-옥탄-1,2-디온 2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐-페닐)옥탄-1-온옥심-O-아세테이트,1-(4-페닐술파닐-페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다.
활성 라디칼 발생제로서는 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티옥산톤계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다.
벤조인계 화합물로서는 예를 들면 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르 등을 들 수 있다.
벤조페논계 화합물로서는 예를 들면 벤조페논, o-벤조일 벤조산 메틸, 4-페 닐벤조페논, 4-벤조일-4'메틸디페닐설파이드, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등을 들 수 있다.
티옥산톤계 화합물로서는 예를 들면 2-이소프로필티옥산톤, 4-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤, 2,4-디클로로티옥산톤, 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤 등을 들 수 있다.
트리아진계 화합물로서는 상기와 동일 한 것을 들 수 있다.
상기 이외의 활성 라디칼 발생제로서는 예를 들면 2,4,6-트리메틸 벤조일 디페닐 포스핀 옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캠퍼퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다.
산발생제로서는 예를 들면 4-히드록시 페닐 디메틸술포늄 p-톨루엔술포네이트, 4-히드록시 페닐 디메틸술포늄 헥사 플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐 디메틸술포늄 p-톨루엔술포네이트, 4-아세톡시페닐?메틸?벤질술포늄 헥사 플루오로 안티모네이트, 트리페닐 술포늄 p-톨루엔 술포네이트, 트리페닐 술포늄 헥사 플루오로 안티모네이트, 디페닐 아이오도늄p-톨루엔술포네이트, 디페닐 아이오도늄 헥사 플루오로 안티모네이트 등의 오늄염류와, 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.
또한, 활성 라디칼 발생제로서 상기한 화합물 중에는 활성 라디칼과 동시에 산을 발생하는 화합물도 있으며, 예를 들면 트리아진계 광중합 개시제는 산발생제로서도 사용된다.
상기의 광중합 개시제(D)의 함유량은 바인더 수지(B) 및 광중합성 화합물 (C)의 합계량 100질량부에 대해서 통상 0.1질량부 이상 30질량부 이하, 바람직하게는 1질량부 이상 25질량부 이하이다. 광중합 개시제의 함유량이 0.1질량부 이상 30질량부 이하이면 고감도화하여 노광 시간이 단축되어 생산성이 향상되고, 또한 매우 고감도이므로 해상도가 불량해지지 않는 경향이 있으므로 바람직하다.
광중합 개시제(D)로서는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노 페닐)부탄-1-온, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진이 바람직하게 사용된다.
본 발명에 있어서는 광중합 개시 조제를 이용할 수도 있다. 광중합 개시 조제는 광중합 개시제와 조합시켜 이용하는 것이 바람직하고, 광중합 개시제에 의해 중합이 개시된 광중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해 이용되는 화합물이다. 광중합 개시 조제로서는 아민계 화합물, 알콕시 안트라센계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등을 들 수 있다.
아민계 화합물로서는 예를 들면 트리에탄올 아민, 메틸 디에탄올 아민, 트리이소프로판올 아민, 4-디메틸 아미노 벤조산 메틸, 4-디메틸 아미노 벤조산 에틸, 4-디메틸 아미노 벤조산 이소아밀, 벤조산 2-디메틸 아미노 에틸, 4-디메틸 아미노 벤조산2-에틸 헥실, N,N-디메틸 파라톨이진, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논(통칭 미힐러즈케톤), 4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸 메틸 아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 중에서 4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논이 바람직하게 이용된다.
알콕시 안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 9,10-디메톡시 안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시 안트라센, 9,10-디에톡시 안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시 안트라센 등을 들 수 있다.
티옥산톤계 화합물로서는 상기와 같은 것을 들 수 있다.
광중합 개시 조제는 단독으로도 복수를 조합해서도 사용할 수 있다. 또한, 광중합 개시 조제로서 시판되는 것을 이용할 수도 있으며, 시판의 광중합 개시 조제로서는, 예를 들면 상품명「EAB-F」(호도가야 화학 공업(주)제품) 등을 들 수 있다.
본 발명의 착색 감광성 개시 조성물에 있어서의 광중합 개시제 및 광중합 개시 조제의 조합으로서는, 예를 들면, 디에톡시 아세토페논/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 벤질디메틸케탈/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(2-히드록시 에톡시)페닐〕프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조 페논, 1-히드록시 시클로헥실 페닐 케톤/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 2-히드록시-2-메틸-1-〔4-(1-메틸 비닐)페닐〕프로판-1-온의 올리고머-/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논, 2-벤질-2-디메틸 아미노-1-(4-모르폴리노 페닐)부탄-1-온/4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸티오페닐)프로판-1-온/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하게 사용된다.
이들 광중합 개시 조제를 이용할 경우, 그 사용량은 광중합 개시제 1㏖당 통상 10㏖ 이하, 바람직하게는 0.01㏖ 이상 5㏖ 이하이다.
본 발명에 이용되는 용제 (F)로서는, 예를 들면, 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류, 아미드류 등을 들 수 있다.
에스테르류로서는, 예를 들면 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필 에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸 에티르, 디에틸렌글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디프로필에테르, 디에틸렌글리콜 디부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르 아세테이트, 메틸셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 카르비톨 아세테이트, 부틸 카르비톨 아세테이트, 프로필렌글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 메톡시 부틸 아세테이트, 메톡시 펜틸 아세테이트, 아니솔, 페네톨, 메틸아니솔 등을 들 수 있다.
방향족 탄화 수소류로서는, 예를 들면 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다.
케톤류로서는 예를 들면 아세톤, 2-부탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온, 4-헵탄온, 4-메틸-2-펜탄온, 시클로펜탄온, 시클로헥산온 등을 들 수 있다.
알콜류로서는 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로 헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등을 들 수 있다.
에스테르류로서는 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산-n-부틸, 아세트산 이소부틸, 포름산 아밀, 아세트산 이소아밀, 아세트산 이소부틸, 프로피온산 부틸, 부티르산 이소프로필, 부티르산 에틸, 부티르산 부틸, 알킬 에스테르류, 유산 메틸, 유산 에틸, 옥시 아세트산 메틸, 옥시 아세트산 에틸, 옥시 아세트산 부틸, 메톡시 아세트산 메틸, 메톡시 아세트산 에틸, 메톡시 아세트산 부틸, 에톡시 아세트산 메틸, 에톡시 아세트산 에틸, 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸, 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필, 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-메톡시 프로피온산 프로필, 2-에톡시 프로피온산 메틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필,아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 메틸, 2-옥소부탄산 에틸, 3-메톡시 부틸 아세테이트, 3-메틸-3-메톡시 부틸아세테이트, γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.
아미드류로서는 예를 들면 N,N-디메틸홀름 아미드, N,N-디메틸아세트 아미드 등을 들 수 있다.
그 밖의 다른 용제로서는 예를 들면 N-메틸 피롤리돈, 디메틸 술포옥시드 등을 들 수 있다.
상기의 용제는 각각 단독으로도 2종류 이상을 조합해서도 이용할 수도 있다. 착색 감광성 수지 조성물 중의 함유량은 질량분율로 통상 70질량% 이상 95질량% 이하, 바람직하게는 75질량% 이상 90질량% 이하이다. 용제(F)의 함유량이 상기의 범위에 있으면 도포시의 평탄성이 양호하며, 또한 컬러 필터를 형성했을 때에 표시 특성이 양호하므로 바람직하다.
용제(F)는 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 및 3-에톡시 프로피온산 에틸로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 및 3-에톡시 프로피온산 에틸로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용제와 그 밖의 용제를 병용할 경우, 그 혼합 비율은 질량 분율로 전체 용제의 사용량에 대해서 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트 및 3-에톡시 프로피온산 에틸로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 통상 50～100질량%인 것이 바람직하고, 60～100질량%인 것이 보다 바람직하다. 프로필렌글리콜 모노 메틸 에테르 아세테이트 및 3-에톡시 프로피온산 에틸로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 용제가 전용제에 대해서 질량분율로 50～100질량%이면 평탄성이 양호해지는 경향이 있으므로 바람직하다.
본 발명에 이용되는 착색 감광성 수지 조성물에는 에폭시 화합물이 함유되어 있을 수도 된다. 에폭시 화합물로서는, 예를 들면 현상 후의 착색 패턴의 포스트 베이크 처리(가열 처리)에 있어서 바인더 수지를 가교시킬 수 있는 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 가열됨에 따라서 그것 단독으로 중합할 수 있는 에폭시 화합물일 수도 있다. 이 에폭시 화합물은 바인더 수지를 가교시키거나 또는 그것 자체가 중합함으로써 착색 패턴을 경화시키므로, 상기의 포스트 베이크에 있어서 착색 패턴으로부터 승화물이 발생되기 어렵기 때문에 바람직하게 사용된다.
상기의 에폭시 화합물로서는, 예를 들면 비스 페놀 A형 에폭시 수지, 수소화 비스 페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소화 비스 페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지 등의 방향족계 에폭시 수지;
지환식 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜 에스테르형 수지, 글리시딜아민형 수지, 에폭시화유(油) 등의 에폭시 수지;
상기의 에폭시 수지의 브롬화 유도체;
지방족 화합물의 에폭시화물, 지환족 화합물의 에폭시화물, 방향족 화합물의 에폭시 화합물, 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화물, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜 이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
착색 감광성 수지 조성물 중의 에폭시 화합물의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대해서 질량분율로 통상 15% 이하, 바람직하게는 0.5% 이상 12% 이하, 보다 바람직하게는 1% 이상 10% 이하이다. 상기의 에폭시 화합물의 함유량이 15질량% 이하이면 경화가 충분히 일어나 잔막율이 향상되므로 바람직하다.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에는 계면 활성제, 충전제, 바인더 수지 이외의 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 유기산, 유기 아미노 화합물, 경화제 등의 첨가제가 함유되어 있을 수도 있다.
계면 활성제로서는 실리콘계 계면 활성제, 불소계 계면 활성제 및 불소 원자 를 갖는 실리콘계 계면 활성제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 이용할 수 있다.
실리콘계 계면 활성제로서는 실록산 결합을 갖는 계면 활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 토레 실리콘 DC3PA, 동 SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400(상품명:토레 실리콘(주)제품), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341(신에츠 실리콘 제품), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452 TSF4460(지이 도시바 실리콘(주)제품) 등을 들 수 있다.
불소계 계면 활성제로서는 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면 활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 플로리네이트(상품명) FC430, 동 FC431(스미토모 쓰리엠(주)제품), 메가팩(상품명) F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 R30(대일본 잉크 화학 공업(주)제품), 에프탑(상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352(신아키타 화성(주)제품), 서프론(상품명) S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105(아사히 글래스(주)제품), E5844((주)다이킨파인케미칼연구소 제품), BM-1000, BM-1100(모두 상품명: BM Chemie사 제품) 등을 들 수 있다.
불소 원자를 갖는 실리콘계 계면 활성제로서는 실록산 결합 및 플루오로 카본쇄를 갖는 계면 활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팩(상품명) R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477, 동 F443(대일본 잉크 화학 공업(주)제품) 등을 들 수 있다.
이들 계면 활성제는 단독으로도 2종류 이상을 조합해서도 이용할 수 있다.
이들 계면 활성제는 계면 활성제를 제외한 착색 감광성 수지 조성물 100 질량부에 대해서 0.6질량부 이하, 바람직하게는 0.001질량부 이상 0.5질량부의 범위에서 사용된다. 계면 활성제의 함유량이 0.6질량부 이하이면 평탄성이 좋아지는 경향이 있으므로 바람직하다.
충전제로서는 예를 들면 유리, 알루미나 등의 미립자를 들 수 있다.
바인더 수지 이외의 고분자 화합물로서는 예를 들면 폴리비닐 알콜, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜 모노알킬 에테르, 폴리플로로알킬 아크릴레이트 등을 들 수 있다.
밀착 촉진제로서는 예를 들면 비닐 트리메톡시 실란, 비닐 트리에톡시 실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노 프로필 메틸 디메톡시 실란, N-(2-아미노 에틸)-3-아미노 프로필 트리메톡시 실란, 3-아미노 프로필 트리에톡시 실란, 3-글리시독시 프로필 트리메톡시 실란, 3-글리시독시 메틸 디메톡시 실란, 2-(3,4-에폭시 시클로헥실)에틸 트리메톡시 실란, 3-클로로프로필메틸 디메톡시 실란, 3-클로로프로필 트리메톡시 실란, 3-메타크릴옥시 프로필 트리 메톡시 실란, 3-메르캅토 프로필 트리메톡시 실란 등을 들 수 있다.
산화 방지제로서는 예를 들면 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다.
자외선 흡수제로서는 예를 들면 2-(2-히드록시-3-t-부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조 트리아졸 등의 벤조 트리아졸계, 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논 등의 벤조페논계, 2,4-디-t-부틸 페닐-3,5-디-t-부틸-4-히드록시 벤조에이트 등의 벤조에이 트류, 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-헥실옥시페놀 등의 트리아진계 등을 들 수 있다.
응집 방지제로서는 예를 들면 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.
유기산으로서는 예를 들면, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프론산, 디에틸 아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족 모노카르복실산류;
옥살산(oxalic acid), 멜로닉산, 호박산(succinic acid), 타르타르산, 아디핀산, 피멜린산, 스페린산, 아제라인산, 세바신산, 브라실산(brasylic acid), 메틸멜로닉산, 에틸멜로닉산, 디메틸 멜로니산, 메틸 호박산, 테트라메틸 호박산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레인산, 푸말산, 메사콘산 등의 지방족 디카르복실산류;
트리카르바릴산, 아코니트산, 캠포론산(camphoronic acid) 등의 지방족 트리카르복실산류;
벤조산, 톨루익산(toluic acid), 타민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르복실산류;
프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카르복실산류;
트리멜리트산, 트리메신산, 멜로팬산, 필로멜리트산 등의 방향족 폴리카르복실산류 등을 들 수 있다.
유기 아미노 화합물로서는 예를 들면 n-프로필 아민, i-프로필 아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아 민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민 등의 모노 알킬 아민류;
시클로헥실 아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸 시클로헥실 아민, 4-메틸 시클로헥실아민 등의 모노 시클로 알킬 아민류;
메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸n-프로필아민, 에틸n-프로필아민, 디n-프로필아민, 디i-프로필아민, 디n-부틸아민, 디i-부틸아민, 디sec-부틸아민, 디t-부틸아민, 디n-펜틸아민, 디n-헥실아민 등의 디알킬 아민류;
메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민 등의 모노알킬 모노시클로알킬 아민류;
디시클로 헥실아민 등의 디시클로 알킬아민류;
디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸 n-프로필아민, 디에틸n-프로필아민, 메틸디n-프로필아민, 에틸디n-프로필아민, 트리n-프로필아민, 트리i-프로필아민, 트리n-부틸아민, 트리i-부틸아민, 트리sec-부틸아민, 트리t-부틸아민, 트리n-펜틸아민, 트리n-헥실아민 등의 트리알킬아민류;
디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민 등의 디알킬 모노시클로알킬아민류;
메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민,트리시클로헥실아민 등의 모노알킬디시클로알킬아민류;
2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올,4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올 등의 모노알칸올아민류;
4-아미노-1-시클로헥산올 등의 모노시클로알칸올아민류;
디에탄올아민, 디n-프로판올아민, 디i-프로판올아민, 디n-부탄올아민, 디 i-부탄올아민, 디n-펜탄올아민, 디n-헥산올아민 등의 디알칸올아민류;
디(4-시클로헥산올)아민 등의 디시클로알칸올아민류;
트리에탄올아민, 트리n-프로판올아민, 트리i-프로판올아민,트리n-부탄올아민, 트리i-부탄올아민, 트리n-펜탄올아민, 트리n-헥산올아민 등의 트리알칸올아민류;
트리(4-시클로헥산올) 아민 등의 트리시클로알칸올 아민류;
3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올,3-디에틸아미노-1,2-프로판디올,2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노 알칸디올류;
4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올 등의 아미노시클로알칸디올류;
1-아미노시클로펜탄온메탄올, 4-아미노시클로펜탄온메탄올 등의 아미노기 함유 시클로알칸온 메탄올류;
1-아미노시클로헥산온 메탄올, 4-아미노시클로헥산온 메탄올, 4-디메틸아미노시클로 펜탄메탄올, 4-디에틸 아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올,4-디에틸아미노시클로헥산메탄올 등의 아미노기 함유 시클로알칸 메탄올류;
β-알라닌, 2-아미노 부티르산, 3-아미노 부티르산, 4-아미노 부티르산, 2-아미노이소 아세트산, 3-아미노이소 아세트산, 2-아미노 발레르산, 5-아미노 발레르산, 6-아미노 카프론산,1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산 등의 아미노카르복실산류;
아닐린, o-메틸 아닐린, m-메틸 아닐린, p-메틸 아닐린, p-에틸 아닐린, p-n-프로필 아닐린, p-i-프로필 아닐린, p-n-부틸 아닐린, p-t-부틸 아닐린, N,N-디메틸 아닐린, N,N-디에틸 아닐린, p-메틸-N,N-디메틸 아닐린 등의 방향족 아민류;
o-아미노벤질 알콜, m-아미노벤질 알콜, p-아미노벤질 알콜, p-디메틸아미노벤질알콜, p-디에틸아미노벤질알콜 등의 아미노벤질알콜류;
o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀류;
m-아미노 벤조산, p-아미노 벤조산, p-디메틸아미노 벤조산, p-디에틸아미노 벤조산 등의 아미노 벤조산류 등을 들 수 있다.
경화제로서는 예를 들면 가열됨에 따라서 바인더 수지 중의 카르복실기와 반응하여 바인더 수지를 가교할 수 있는 화합물을 들 수 있다. 또한, 그것 단독으로 중합하여 착색 패턴을 경화시킬 수 있는 화합물도 들 수 있다. 상기 화합물로서는 예를 들면, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.
에폭시 화합물로서는 예를 들면, 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스 페놀 A계 에폭시 수지, 비스 페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스 페놀 F계 에폭시 수 지, 노볼락형 에폭시 수지, 다른 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 복소환식 에폭시 수지, 글리시딜 에스테르계 수지, 글리시딜 아민계 수지, 에폭시화유 등의 에폭시 수지나 이들 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족의 에폭시 화합물, 부타디엔의 (공)중합체의 에폭시화물, 이소프렌의 (공)중합체의 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레이트의 (공)중합체, 트리글리시딜 이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
옥세탄 화합물로서는 예를 들면 카보네이트 비스옥세탄, 크실렌 비스옥세탄, 아디페이트 비스옥세탄, 테레프탈레이트 비스 옥세탄, 시클로헥산 디카르복실산 비스옥세탄 등을 들 수 있다.
본 발명의 착색 감광성 조성물은, 경화제로서 에폭시 화합물이나 옥세탄 화합물 등을 함유하는 경우에는 에폭시 화합물의 에폭시기와 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합시킬 수 있는 화합물이 포함되어 있을 수도 있다. 상기 화합물로서는 예를 들면 다가 카르복실산류, 다가 카르복실산 무수물류, 산발생제 등을 들 수 있다.
다가(多價) 카르복실산류로서는 예를 들면, 프탈산, 3,4-디메틸 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 피로멜리트산, 트리멜리트산, 1,4,5,8-나프탈렌 테트라카르복실산, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라 카르복실산 등의 방향족 다가 카르복실산류;
호박산, 글루타르산, 아디핀산, 1,2,3,4-부탄 테트라 카르복실산, 말레인산, 푸말산, 이타콘산 등의 지방족 다가 카르복실산류;
헥사히드로프탈산, 3,4-디메틸 테트라히드로프탈산, 헥사히드로 이소프탈산, 헥사히드로 텔레프탈산, 1,2,4-시클로펜탄 트리카르복실산, 1,2,4-시클로헥산 트리카르복실산, 시클로펜탄 테트라 카르복실산, 1,2,4,5-시클로헥산 테트라 카르복실산 등의 지환족 다가 카르복실산류 등을 들 수 있다.
다가 카르복실산 무수물류로서는, 예를 들면 무수 프탈산, 무수 피로멜리트산, 무수 트리멜리트산, 3,3',4,4'-벤조페논 테트라카르복실산 2무수물 등의 방향족 다가 카르복실산 무수물류;
무수 이타콘산, 무수 호박산, 무수 시트라콘산, 무수 도데세닐 호박산, 무수 트리카르바릴산, 무수 말레인산, 1,2,3,4-부탄 테트라 카르복실산 2무수물 등의 지방족 다가 카르복실산 무수물류;
무수 헥사히드로프탈산, 3,4-디메틸 테트라히드로프탈산 무수물, 1,2,4-시클로펜탄 트리카르복실산 무수물, 1,2,4-시클로헥산 트리카르복실산 무수물, 시클로펜탄 테트라카르복실산 2무수물, 1,2,4,5-시클로헥산 테트라카르복실산 2무수물, 무수 하이믹산, 무수 나딘산 등의 지환족 다가 카르복실산 무수물류;
에틸렌글리콜 비스트리멜리테이트산, 글리세린 트리스트리멜리테이트 무수물 등의 에스테르기 함유 카르복실산 무수물류 등을 들 수 있다.
다가 카르복실산 무수물류로서, 에폭시 수지 경화제로서 시판되고 있는 것을 이용할 수도 있다. 상기의 에폭시 수지 경화제로서는 예를 들면 상품명「아데카하드너-EH-700」(아사히 전기 화학 공업(주)제품), 상품명「리카시드 HH」(신일본 이화(주)제품), 상품명「MH-700」(신일본 이화(주)제품) 등을 들 수 있다.
산발생제로서는 상기와 동일한 것을 들 수 있다.
상기의 경화제는 각각 단독으로도 2종 이상을 조합해서도 이용할 수 있다.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 컬러 필터를 형성하는 방법으로서는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기판, 또는 기판 위에 먼저 형성된 고체의 다른 착색 감광성 수지 조성물층(이하, 이를 기판 등이라고도 한다.)의 위에 도포하고, 도포된 수지층을 프리 베이크하여 용제 등 휘발 성분을 제거하고, 포토 마스크를 통하여 휘발 성분이 제거된 수지층을 노광한 후, 알칼리 수용액 등의 현상액에 의해 현상하고, 포스트 베이크하여 경화 수지층을 형성하는 공정을 1공정으로 하고, 이를 다른 색을 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 반복하여, 최종적으로 RGB의 3색을 갖는 컬러 필터를 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
기판으로서는, 예를 들면 유리 기판, 실리콘 기판, 폴리카보네이트 기판, 폴리에스테르 기판, 방향족 폴리아미드 기판, 폴리아미드이미드 기판, 폴리이미드 기판, Al기판, GaAs기판 등의 표면이 평탄한 기판을 들 수 있다. 이들 기판에는 실란 커플링제 등의 약품에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온플레이팅 처리, 스퍼터링 처리, 기상 반응 처리, 진공 증착 처리 등의 전처리가 이루어져 있을 수도 있다. 또한, 상기의 기판의 표면에는 TFT(박막 트랜지스터), CCD(전하 결합 소자) 등이 형성되어 있을 수도 있다.
상기의 기판 위에 착색 감광성 수지 조성물을 도포하기 위해서는, 예를 들면, 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 회전 도포법(스핀코트법), 캐스트법, 롤 도포법, 슬릿＆스핀코트법, 슬릿코트법 등의 통상의 도포 방법으로 기판 등의 위에 도포하고, 이어서 용제 등의 휘발 성분을 가열에 의해 휘발시키면 된다(프리 베이 크). 이와 같이 하여, 기판 등의 위에 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어지는 수지층이 형성된다.
이어서, 착색 감광성 수지 조성물의 고형분으로 이루어지는 수지층을 노광한다. 노광은 포토 마스크를 통하여 광선을 조사하는 방법 등에 의해서 수행하면 된다. 이용되는 광선으로서는, 통상 g선(파장 436㎚), i선(파장 365㎚)으로 불리는 자외선 등을 들 수 있다. 광선은 포토 마스크를 통하여 조사되나, 여기에서 포토 마스크는 예를 들면, 유리판의 표면에 광선을 차단하는 차광층이 설치된 것이다. 유리판 중의 차광층이 설치되어 있지 않은 부분은 광선이 투과하는 투광부로, 이 투광부의 패턴에 따른 패턴으로 착색 감광성 수지 조성물층이 노광되어, 광선이 조사되지 않은 미조사 영역과 광선이 조사된 조사 영역이 발생한다. 조사 영역에 서의 광선의 조사량은 바인더 수지의 중량 평균 분자량, 단량체비, 함유량, 광중합성 화합물의 종류와 함유량, 광중합 개시제의 종류와 함유량, 광중합 개시 조제의 종류와 함유량 등에 따라서 적절히 선택된다.
노광 후 현상한다. 현상하기 위해서는 예를 들면, 노광 후의 수지층을 현상액과 접촉시키면 되고, 구체적으로는, 그 표면 상에 수지층이 형성된 상태의 기판을 현상액에 침지하면 된다.
현상액으로서는 예를 들면 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 테트라메틸암모늄 하이드로옥사이드 등의 알칼리성 화합물의 수용액 등을 들 수 있다. 현상에 의해서, 수지층 중의 광선이 조사되지 않은 미조사 영역은 제거된다. 그 한편으로 광선 조사 영역은 그대로 남아 패턴이 형성된다.
현상 후 통상 수세하고, 건조함으로써, 목적으로 하는 패턴을 얻을 수 있다. 또한, 현상하고, 건조한 후, 이어서 베이크로 등의 장치 내에서 포스트 베이크를 행함으로써 경화 수지층이 형성된다. 포스트 베이크에 의해서, 패턴의 기계적 강도가 향상된다. 착색 감광성 수지 조성물로서 경화제를 추가로 함유하는 것을 이용한 경우에는, 착색 패턴이 더 경화되어 그 기계적 강도를 보다 향상시킬 수 있다. 포스트 베이크의 온도는 통상 180℃ 이상 250℃ 이하, 바람직하게는 200℃ 이상 230℃ 이하이다. 포스트 베이크의 온도가 상기의 범위이면 경화가 충분히 일어나므로 바람직하다. 또한, 포스트 베이크의 시간은 통상 5～40분, 바람직하게는 10～36분, 더욱 바람직하게는 15～30분이다. 포스트 베이크의 시간이 상기의 범위이면 경화가 충분히 일어나므로 바람직하다.
이와 같이 하여 목적하는 착색 패턴이 형성되나, 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 착색제의 색을 대체하여, 상기와 마찬가지로 하여 기판의 위에 수지층을 다시 형성하고, 상기의 수지층을 노광한 후, 현상하고, 이어서 포스트 베이크함으로써 착색 패턴을 더 형성할 수 있다. 착색 감광성 수지 조성물에 함유되는 착색제의 색을 대체하면서 상기 조작을 반복하여 행함으로써, 착색 패턴을 더욱 형성할 수 있어, 목적으로 하는 컬러 필터를 제조할 수 있다.
이어서, 얻어진 컬리 필터의 위에 ITO막을 증착 처리한다. 이와 같이 하여 얻어지는 컬러 필터는, 상기한 착색 패턴을 포함하는 것이며, 이 컬러 필터를 사용함으로써 적합한 액정 표시 장치를 제조할 수 있게 된다.
본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은 잔사 레벨이 양호한 점에서 현상성이 우수하고, 높은 표면 경도의 경화 수지층을 형성할 수 있으며, 게다가 그 경화 수지층은 내용제성도 우수하며, 단면 형상을 순테이퍼형 내지 구형상으로 하여 표면 거침(Roughening)이 없는 경화 수지층을 형성할 수 있으므로, 컬러 액정 표시 장치나 촬상 소자 등에 사용되는 착색 패턴, 그를 이용한 컬러 필터의 형성에 적합하게 사용할 수 있다.
[실시예]
이하, 본 발명을 실시예에 근거하여 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명이 실시예에 의해 한정되는 것은 아님은 물론이다.
제1 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물1의 조제〕
(A) C.I.피그먼트 블루 15:6(1.967질량부),
(A) C.I.피그먼트 바이올렛 23(0.030질량부)
(E) 폴리에스테르계 분산제(0.599질량부)
(B) 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트의 공중합체〔메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질량비(㏖비)로 3:7, 중량 평균 분자량(Mw)은 25,000〕(1.764질량부),
(C) 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(「KAYARAD DPHA」,일본 화약 (주)제품)(1.176질량부),
(D) 2-벤질-2-디메틸 아미노-1-(4-모르폴리노 페닐)부탄-1-온(0.353질량부),
(D2) 4,4'-비스(디에틸 아미노)벤조페논(「EAB-F」)(호도가야 화학 공업(주) 제품)(0.118질량부),
에폭시 화합물〔오르소크레졸 노볼락형 에폭시 수지,「스미 에폭시 ESCN-195XL-80」(스미토모 화학 공업(주)제품)〕(0.294질량부) 및
(F) 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(23.700질량부)
를 혼합하여, 착색 감광성 수지 조성물 1을 얻었다.
〔착색층의 형성〕
유리 기판(코닝사 제품, 「#1737」)의 표면 위에 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물 1을 스핀 코트법으로 도포한 후, 100℃에서 3분간 휘발 성분을 휘발시켜 착색 감광성 수지 조성물층 1A를 형성하였다. 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물층에 포토 마스크를 통하지 않고 전면에 걸쳐서 i선〔파장 365㎚〕을 조사하였다. i선의 광원에는 초고압 수은 램프를 이용하였고, 조사 광량은 150mJ/㎠로 했다. 이어서, 25℃의 현상액(질량 분율로 수산화 칼륨을 0.05%, 부틸나프탈렌 술폰산 나트륨을 0.2% 각각 함유하는 수용액)에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정한 후, 유리 기판의 전면에 걸쳐 형성된 청색의 착색층을 얻었다. 그 도막 기판을 220℃에서 20분간 베이크하여 착색 감광성 수지 조성물층 1B를 형성하였다. 또한, 층1A를 냉각 후, 이 착색 감광성 수지 조성물층에 포토 마스크를 통하여 i선〔파장 365㎚〕을 조사하여 노광했다. i선의 광원에는 초고압 수은 램프를 이용하여, 평행광으로 한 다음 조사하였다. 조사 광량은 150mJ/㎠로 했다. 포토 마스크로서는 선폭 3㎛, 4㎛, 5㎛, 6㎛, 7㎛, 8㎛, 9㎛, 10㎛, 20㎛, 30㎛, 40㎛, 50㎛ 및 100㎛의 선형의 색화소를 형성하기 위한 포토 마스크를 이용했다. 이어서 노광 후의 유리 기판〔표면에는 착색 감광성 수지 조성물층이 형성되어 있다〕을 25℃의 현상액〔질량 분율로 수산화 칼륨을 0.05%, 부틸나프탈렌 술폰산 나트륨을 0.2% 각각 포함하는 수용액〕에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정한 후, 220℃에서 20분간 가열하여, 청색 화소 1C를 형성하였다.
〔평가〕
1A층을 교반 하의 25℃의 현상액(질량 분율로 수산화 칼륨을 0.05%, 부틸나프탈렌 술폰산 나트륨을 0.2% 각각 함유하는 수용액)에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액 중에는 덩어리는 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 상기의 도막층을 용해한 현상액의 입도 분포를 마이크로 트랙 입경 측정 장치〔UPA 150,9230 UPA,(LEED＆NORTHRUP COMPANY)제품〕를 이용하여 광산란법에 의해 측정한 바, 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, JIS K 5400에 기재된 시험법에 준하여, 연필 경도 시험기에 연필 「미쯔비시 하이유니」을 이용하여, 하중 9.8N을 걸었을 때에 도막에 흠이 생기지 않는 가장 높은 경도를 측정치로서 구했다. 앞서 형성된 도막의 1B층의 연필 강도를 상기의 방법으로 측정한 결과, 그 연필 강도는 4H였다.
또한, 형성된 청색 화소 1C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 표면에는 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물1의 성능은 양호하였다.
제2 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물2의 조제〕
제1 실시예에서 이용한 폴리에스테르계 분산제를 대신하여 폴리에틸렌이민계 분산제를 이용하는 것 이외에는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물2를 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물2를 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 2A층을 교반하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리가 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막층 성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 2B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 4H였다. 또한, 형성된 청색 화소 2C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 또한 표면에 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물2의 성능은 양호하였다.
제3 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물3의 조제〕
제1 실시예에서 이용한 폴리에스테르계 분산제를 대신하여 폴리우레탄계 분산제를 이용하는 것 이외에는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물 3을 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물3을 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 3A층을 교반 하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리가 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막층 성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98%이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 3B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 4H였다. 또한, 형성된 청색 화소 3C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 또한 표면에 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물3의 성능은 양호하였다.
제1 비교예
〔착색 감광성 수지 조성물4의 조제〕
제1 실시예에서 이용한 바인더 수지(B)를 대신하여, 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트의 공중합체〔메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질량비(㏖비)로 3:7이고, 질량 평균 분자량(Mw)는 36,000〕(1.764질량부)를 이용하는 것 이외에는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물4를 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물4를 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작 하여, 4A층을 교반하의 25℃의 현상액에 120초 동안 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리가 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막층 성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이하로 95%였다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로, 4B층은 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 5H였다. 또한, 형성된 청색 화소 4C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이터형이나 한쪽으로 아래자락이 끌리는 형태가 보여, 착색 감광성 수지 조성물4의 성능은 나빴다.
제2 비교예
〔착색 감광성 수지 조성물5의 조제〕
제1 실시예에서 이용한 바인더 수지(B)를 대신하여, 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트의 공중합체〔메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질량비(㏖비)로 3:7, 중량 평균 분자량(Mw)은 4,800〕를 이용하는 것 이외에는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물5를 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물5를 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 5A층을 교반하의 25℃의 현상액에 120초 동안 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리가 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용 해된 도막층의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 5B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 1H였다. 또한, 형성된 청색 화소 5C의 단면 형상은 순테이퍼형이었으나, 표면에 표면 거침이 보였다. 또한, 잔막율도 낮고, 착색 감광성 수지 조성물5의 성능은 나빴다.
제4 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물6의 조제〕
제1 실시예에서 이용한 폴리에스테르계 분산제를 대신하여 아크릴산계 분산제를 이용하고, 바인더 수지(B)를 메타크릴산과 벤질 메타크릴레이트의 공중합체 〔메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질량비(㏖비)로 35:65, 중량 평균 분자량(Mw)은 10,000〕로 변경하고, 에폭시 화합물을 무첨가하는 이외는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물6을 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물6을 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 6A층을 교반 하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리는 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막층 성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 6B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 9H였다. 또한, 형성된 청색 화소 6C에 있어서, 그 단면 형상은 순(順)테이퍼형이며, 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물6의 성능은 양호하였다.
제5 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물7의 조제〕
제4 실시예에서 이용한 바인더 수지(B)를 대신하여, 메타크릴산, 벤질 메타크릴레이트 및 식(Ⅰ)〔식 (Ⅰ) 중, R1은 메틸기를 나타내고, R2는 수소 원자를 나타낸다〕으로 나타내어지는 성분과의 공중합체〔메타크릴산 단위와 벤질 메타크릴레이트 단위와 상기의 식(Ⅰ)로 나타내어지는 성분의 조성비는 물질량비(㏖비)로 25:60:15, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 9,000이다〕로 변경하고, 에폭시 화합물을 무첨가하는 이외는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물7을 얻었다.
Figure 112004020988500-pat00005
(Ⅰ)
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물7을 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작 하여, 7A층을 교반하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리는 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막층 성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 7B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 9H였다. 또한, 형성된 청색 화소 7C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물7의 성능은 양호하였다.
제6 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물8의 조제〕
제4 실시예의 바인더 수지(B)를, 제5 실시예에서 이용한 바인더 수지(B)로 변경하고, 또한 에폭시 화합물을 무첨가로 하는 이외는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물8을 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물8을 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 8A층을 교반하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리는 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막층의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 8B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강 도는 9H였다. 또한, 형성된 청색 화소 8C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물8의 성능은 양호하였다.
제7 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물9의 조제〕
제1 실시예의 바인더 수지(B)를 대신하여, 메타크릴산, 벤질 메타크릴레이트 및 스티렌의 공중합체〔메타크릴산 단위, 벤질 메타크릴레이트 단위 및 스티렌 단위의 조성비는 물질량비(㏖비)로 30:60:10, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 16,000이다〕를 이용하는 것 이외에는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물9를 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물9을 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 9A층을 교반하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리는 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 9B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 6H였다. 또한, 형성된 청색 화소 9C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물9의 성능은 양호하였다.
제8 실시예
〔착색 감광성 수지 조성물10의 조제〕
제1 실시예의 바인더 수지(B)를 대신하여, 메타크릴산, 벤질 메타크릴레이트 및 이소보르닐 메타크릴레이트와의 공중합체〔메타크릴산 단위, 벤질 메타크릴레이트 단위 및 이소보르닐 메타크릴레이트 단위의 조성비는 물질량비(㏖비)로 30:60:10, 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(Mw)은 16,000이다〕를 이용하는 것 이외에는 제1 실시예와 마찬가지로 혼합하여 착색 감광성 수지 조성물10을 얻었다.
〔평가〕
제1 실시예에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물1을 대신하여 상기에서 얻은 착색 감광성 수지 조성물10을 이용하는 것 이외에는, 제1 실시예와 마찬가지로 조작하여, 10A층을 교반 하의 25℃의 현상액에 120초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하자 현상액에는 덩어리는 보이지 않고, 도막층은 용해되었다. 현상액 중에 용해된 도막 성분의 입도 분포를 측정한 바, 그 최대 입경은 1.0㎛ 이하였다. 또한, 도막층을 용해한 후의 유리부의 투과율(400㎚～780㎚의 평균)은 98% 이상이었다.
이어서, 제1 실시예와 마찬가지로 10B층의 연필 강도를 측정한 결과, 연필 강도는 7H였다. 또한, 형성된 청색 화소 10C에 있어서, 그 단면 형상은 순테이퍼형이며, 표면 거침이 없고, 착색 감광성 수지 조성물10의 성능은 양호하였다.
본 발명에 의해 현상성이 우수하고, 표면 경도가 높은 경화 수지층을 형성할 수 있는 착색 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.

Claims (11)

  1. 착색제(A), 바인더 수지(B), 광중합성 화합물(C), 광중합 개시제(D), 안료 분산제(E) 및 용제(F)를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물로서,
    상기 바인더 수지(B)가 (메타)아크릴산으로부터 유도되는 구성 단위 및 하기 식(I)으로 나타내어지는 구성 단위를 포함하고,
    상기 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판상에 도포하여 수지층을 형성하고, 상기 수지층을 프리 베이크, 마스크를 통한 노광, 현상, 포스트 베이크할 때에, 포스트 베이크 후에 얻어지는 경화 수지층의 경도가 연필 경도로 3H 이상 9H 이하이며, 또한 프리 베이크, 마스크를 통한 노광 후에 얻어지는 감광성 수지층을 100rpm으로 교반되고 있는 25℃의 알칼리 수용액에 침지하여, 120초 후의 감광성 수지층의 비노광부가 용해된 부분의 투과율(400～780㎚의 평균)이 98% 이상 100% 이하인 것인 착색 감광성 수지 조성물.
    Figure 112011048818702-pat00008
    (I)
    (식 (I) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.)
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 바인더 수지(B)를 구성하는 전체 구성 단위 중에 (메타)아크릴산으로부터 유도되는 구성 단위의 함유량이 16㏖% 이상 40㏖% 이하인 것인 착색 감광성 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 바인더 수지(B)가 벤질(메타) 아크릴레이트로부터 유도되는 구성 단위를 더 포함하는 것인 착색 감광성 수지 조성물.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 바인더 수지(B)의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 5,000 이상 35,000 이하인 것인 착색 감광성 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 안료 분산제(E)가 폴리에스테르계, 폴리에틸렌이민계, 폴리우레탄계 및 아크릴산계로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 계면활성제인 것인 착색 감광성 수지 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 안료 분산제(E)가 아크릴산계 계면활성제인 것인 착색 감광성 수지 조성물.
  9. 제1항에 기재된 착색 감광성 수지 조성물로 이루어지는 수지층을 기판상에 형성하고, 상기 수지층을 마스크를 통하여 노광한 후, 현상하고, 이어서 포스트 베이크하는 것을 특징으로 하는 착색 패턴의 형성 방법.
  10. 제9항에 있어서, 포스트 베이크 처리의 온도가 180℃ 이상 250℃ 이하인 것인 착색 패턴의 형성 방법.
  11. 제9항 또는 제10항 기재의 방법으로 형성된 착색 패턴을 포함하는 컬러 필터.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100655044B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 우수한 전기적 특성을 가지는 컬러필터용 감광성 수지조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100655047B1 (ko) * 2005-12-30 2006-12-06 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙매트릭스
JP4954647B2 (ja) * 2006-09-11 2012-06-20 太陽ホールディングス株式会社 感光性ペーストと該感光性ペーストから形成された焼成物パターンを有するプラズマディスプレイパネル
KR100938446B1 (ko) * 2007-12-18 2010-01-25 제일모직주식회사 컬러필터용 녹색 안료 조성물
KR20140008033A (ko) * 2012-07-10 2014-01-21 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하는 컬러 필터
KR20160094305A (ko) * 2015-01-30 2016-08-09 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색 감광성 수지 조성물

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001013313A (ja) * 1999-06-29 2001-01-19 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
KR20010089147A (ko) * 2000-02-01 2001-09-29 미우라 아끼라 컬러필터용 조성물 및 컬러필터
JP2002072475A (ja) 2000-08-28 2002-03-12 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP2003035815A (ja) 2001-07-25 2003-02-07 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルター用組成物及びカラーフィルター

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3546687B2 (ja) * 1998-03-26 2004-07-28 住友化学工業株式会社 フォトレジスト組成物
TW538316B (en) * 2001-01-19 2003-06-21 Sumitomo Chemical Co Chemical amplifying type positive resist composition
JP3849486B2 (ja) * 2001-10-19 2006-11-22 住友化学株式会社 化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001013313A (ja) * 1999-06-29 2001-01-19 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
KR20010089147A (ko) * 2000-02-01 2001-09-29 미우라 아끼라 컬러필터용 조성물 및 컬러필터
JP2002072475A (ja) 2000-08-28 2002-03-12 Mitsubishi Chemicals Corp 光重合性組成物及びそれを用いたカラーフィルター
JP2003035815A (ja) 2001-07-25 2003-02-07 Mitsubishi Chemicals Corp カラーフィルター用組成物及びカラーフィルター

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140081465A (ko) * 2012-12-21 2014-07-01 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101599955B1 (ko) 2012-12-21 2016-03-04 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터

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