KR101121850B1 - 직접 합성된, 본질적으로 알콜성 용액인 과산화수소에존재하는 무기산과 금속 불순물의 제거 방법 - Google Patents

Abstract

팔라듐과 백금 촉매를 함유하는 반응기에 공급되는 수소 및 산소로부터 출발하여, 무기산 및 할로겐을 프로모터로서 함유하는 본질적으로 알콜성 액체 반응 매질에서 직접 합성된 H₂O₂ 용액에 존재하는 무기산과 중금속의 동시제거를 위한 방법은 H₂O₂ 용액을 음이온 교환 수지와 접촉하도록 하여 처리하는 것을 포함한다.

Description

직접 합성된, 본질적으로 알콜성 용액인 과산화수소에 존재하는 무기산과 금속 불순물의 제거 방법 {PROCESS FOR THE REMOVAL OF THE INORGANIC ACID AND METAL IMPURITIES PRESENT IN ESSENTIALLY ALCOHOLIC SOLUTIONS OF HYDROGEN PEROXIDE COMING FROM DIRECT SYNTHESIS}

본원 발명은 고순도로 정제된 과산화수소 용액을 제조하는 방법에 관계한다.

보다 구체적으로, 본원 발명은 직접 합성된, 본질적으로 알콜성 용액인 H₂0₂에 존재하는 무기산과 금속 불순물을 이온 교환을 사용하여 제거하기 위한 방법에 관계한다.

과산화수소는 그 사용으로 인한 부산물이 오직 물 뿐이기 때문에, 환경적으로 충격을 주지 않는 이점을 가지는, 극히 효과적인 산화제이다. 주로 염기성 화학약품 제품의 합성에서의 용도 또는 예를 들면, 가스 오일의 탈황과 같은 신규한 적용에 있어서 H₂0₂에 관한 수요는 앞으로 수년간 증가할 것으로 예상된다.

국제 특허 출원 WO 02/14297 및 WO 02/14298에 설명된 프로필렌 옥사이드와 같은 염기성 산물의 합성에서, 예를 들면, 염소 유도체 또는 스티렌 또는 tert-부 틸 알콜과 같은 그밖의 다른 산물을 공동 생성시키지 않는 이점이 존재하며, 다른 한편으로는 현재의 염기성 산물의 합성으로 특징된다.

H₂O₂와 시클로-헥사논의 암모니아 부가반응에서, 미국 특허 제 4,794,198호에 설명된 바와 같이 염은 공동생성되지 않는 반면, 미국 특허 제 6,133,487호에 설명된 바와 같이, 벤젠의 페놀로의 수산화는 그 공정이 단순화된다, 즉, 큐멘으로부터 페놀의 합성에서 아세톤이 공동생성되지 않는다.

복합적인 2-단계 공정에 의한 H₂0₂ 수용액의 산업적 규모의 제조가 공지되어 있다.

이 공정에서, 물과 혼화될 수 없는 유기성 매질에서의 부틸 안트라퀴논 또는 에틸 안트라퀴논과 같은 안트라퀴논 용액은 먼저 수소화된 후, 공기를 이용하여 산화되어, H₂O₂를 생성하는데, 이것은 후속적으로 수성 상으로 추출되고, 증류에 의하여 농축되고 정제된다.

그러나 이러한 공정은 많은 부피의 반응물을 가지고 작업을 하여야 하는 필요성, 요구되는 수많은 단계들, 비교적 고가의 중간생성물 그리고 비반응성 부산물의 생성에서 파생하는 실제적인 결점을 갖는다.

안트라퀴논을 사용한 합성에 대한 대안적 방법은 H₂와 O₂로부터의 직접 합성으로 정의되는 방법이다. 이 반응은 팔라듐과 백금으로 구성되는 촉매의 존재하에서 발생하며, 선택적으로 고체 매질과 주로 알콜에 기초한 용매 상에서 수행된다. H₂0₂의 직접 합성 공정의 예는 예를 들면, 국제 특허 출원 WO 02/14217호 및 미국 특허 제 6,630,118호와 6,649,140호에서 언급된다.

용매 및 불순물의 수준, 특히 과산화수소 산 반응 프로모터가 하부스트림 공정과 양립가능할 때, 직접 합성에 의하여 제조된 H₂O₂ 용액은 상기 언급된 통합 공정에 바로 직접 사용될 수 있다. 이것은 미국 특허 제 6,284,213호에 설명된 바와 같이 합성 동안 적절한 작업 조건을 선택하거나 또는 직접 합성에 의하여 생성된 용액이 정제 처리를 거쳐야 함을 의미한다. 만약 농축된 수용액이 직접 합성으로부터 수득된 용액으로부터 출발하여 수득된다면, 용매의 분리 및 H₂O₂의 농축은 WO 02/14217에 설명된 바와 같이 정제 처리와 조합되어야 한다.

직접 합성에 의하여 제조된 용액에 존재하는 불순물은 이들의 유래의 기초에 따라 분류될 수 있다. 귀금속, 특히 Pd와 Pt는 과산화수소 합성 촉매의 활성 상의 용액에 존재하는 산 프로모터의 작용에 의한 용해로부터 유래한다. 산은 반응 프로모터로서 합성 상에 첨가될 때 용액으로 존재한다. 이러한 그룹의 주된 대표예에는 황산 또는 질산, 브롬화수소산, 염화수소산 및 인산이 있다. 중금속은 장치를 제조하는 금속 물질의 표면위에서 H₂O₂ 산용액의 화학적 공격으로부터 유래할 수 있다. 이러한 금속 그룹 중에서, Fe, Cr, Ni, Mn, Cu, Zn, Mo 및 W가 언급될 수 있다.

출원인은 실질적으로 알콜성 용매에서 수소와 산소로부터 제조된 H₂O₂ 용액 중의 무기산, 특히 H₂SO₄ 및 귀금속과 중금속, 특히 Fe, Cr, Ni, Mn, Cu, Zn, Pd, Pt, Mo 및 W의 정제를 위하여, H₂O₂ 용액을 음이온 수지와 접촉되게 함으로써 간단하고 편리한 방법으로 진행시키는 것이 가능함을 발견하였다. 이러한 발견 덕분에, 과산화수소의 분해없이 존재하는 산의 거의 완전한 제거(예를 들면 < 10 ppm) 뿐만 아니라, 놀랍게도 용액 중에 존재하는 금속 성질의 불순물(귀금속과 중금속) 또한 용액으로부터 제거된다는 것도 관찰되었다.

이온 교환에 의하여 정제된 용액은 최초의 용액보다 더 안정하며, 용액의 취급 및 일시적 보존을 위한 안정화제의 첨가를 반드시 요하는 것은 아니다.

또한 교환 화학, 특히 유기 용매와 산화제의 존재하에서 선택성 및 안정도 계수는 예측불가능한 특성이기 때문에 이러한 결과는 놀라운 것으로 생각될 수 있다. G.Svehla 등의 "Comprehensive Analytical Chemistry", ELSEVIER 1982, Vol. XIV, 52-122 페이지에서: 실제로 분석 화학에서의 이온 교환은, 교환 평형이 이온 화학종의 화학적 성질 뿐만 아니라 몇몇 용매의 동시 존재에 따라 달라지는 것으로 지적되며, 무엇보다도 시스템에 존재하는 비-수성 용매에서 교환능(exchange capacity)이 감소될 수 있음이 지적된다. 특히, 교환능의 손실은 비수성 용매의 농도 증가와 함께 증가하며, 유기 용매는 또한 수지의 작용기와 반응할 수 있다고 설명하고 있다. 또한 비-수성 용매에서 결과의 예측성의 부족은 R. M. Wheaton and L. J. Lefevre의 "DOWEX Ion Exchange Resins Fundamentals of Ion Exchange"에 나타나 있는 원리에 기초하는데, 이 원리는 이온 교환 기전은 확산 단계를 거쳐야만 한다는 것이다. 수지의 표면과 접촉되어 있는 유체 필름을 통한 확산은 금속 이온이 H₂O₂ 용액에 존재하는 낮은 농도 수준으로 전체 교환 중에서 느린 단계를 나타낸다. 용매의 성질은 수성상의 비교 시스템에 비하여 현저한 개질을 야기할 수 있다.

그러므로 본원 발명의 목적은 프로모터로서 무기산과 할로겐을 함유하는 본질적으로 알콜성 액체 반응 매질에서, 팔라듐 및 백금 촉매를 함유하는 반응기에 공급되는 수소 및 산소로부터 출발하여 직접 합성된 H₂O₂ 용액에 존재하는 무기산과 귀금속과 중금속을 동시에 제거하기 위한 공정에 관계하는데, 이 공정은 H₂O₂ 용액을 음이온 교환 수지와 접촉하도록 함으로써 처리하는 단계를 포함한다.

본원 발명에 따르면, 유기산의 제거는 반응 촉진제로서 황산 및 질산과 같은 하나 이상의 무기산을 사용하고, C₁-C₄ 알콜에서 선택된 용매, 바람직하게는 메탄올의 존재하에서의 공정을 통한 H₂O₂의 직접 합성에 의하여 수득된 용액에 영향을 미칠 수 있다. 그밖의 다른 무기산은 상기 언급된 것들로부터 선택될 수 있다. 이러한 타입의 공정의 예는 국제 특허 출원 WO 02/14217, WO 02/92501, Wo 02/92502, WO 03/14014호 및 미국 특허 제 6,630,118호 및 제 6,649,140호에 설명된다.

본원 발명의 목적인 공정에서 사용될 수 있는 음이온 교환 수지 중에서, 음이온을 교환할 수 있는 4차 질소 원자를 가지는 강염기 수지가 바람직하다. 4차 질소 그룹을 함유하는 다양한 상업적 수지 중에서, -N(CH₃)³⁺ 타입의 작용기를 가지는 스티렌-디비닐 벤젠 또는 아크릴-디비닐 벤젠 매트릭스를 가지는 수지가 바람직한데, 이들은 Mitsubishi 사의 DIAION PA316와 SA10A 수지 및 Rohm & Haas 사의 IRA 400, IRA 900 및 AMBERSEP 900-OH이다. 상업적 수지는 일반적으로 수산화물 형태로 구입가능하다. 수산화물 형태의 수지가 너무 염기성이어서 사용될 수 없고, 필연적인 안정성 문제를 가지며 과산화수소를 상당히 분해시킬 때, 이들은 탄산 및/또는 중탄산 나트륨, 칼륨 또는 암모늄과 같은 반응물을 사용하여 산 또는 중탄산 형태, 바람직하게는 중탄산과 같은 덜 염기성인 형태로 전환된다. 본원 발명에 적합한 형태로 상기 수지들을 전환시키기 위해 사용되는 용액의 농도에는 특별한 제한이 없다. 용액의 농도는 통상적으로 1 내지 10 중량%, 바람직하게는 3-7 중량% 범위이다.

H₂O₂ 용액의 정제는 H₂O₂ 용액을 탄산화물 또는 중탄산화물 형태의 수지와 접촉되도록 함으로써 발생하는데, 예를 들면, 상기 수지를 용액에 침적시킨 후 교반에 의하여 효과적인 접촉을 시킨 후에 수지를 제거함으로써, 또는 대안적으로, 용액을 고정수지층을 통과시킴으로써 접촉하도록 함으로써 정제된다. 작업 관점에서 보면, 고정수지층을 통과시키는 시스템이 바람직하다. 본원 발명에 따르면, 정제 단계에서 작동하는 하나 이상의 층 및 재생 또는 세척 단계에서 작동하는 하나 이상의 층을 항상 가지도록 하기 위하여, H₂O₂ 용액의 스트림에 대하여 평행하게 배열된 둘 이상의 수지층을 포함하는 구조를 사용하여 작업하는 것이 바람직하다. 그러므로 각각의 수지층은 주기적으로 정제 단계 (F), 세척 단계 (C), 후속적 재생 단계 (D) 및 최종 세척 단계 (E)를 거치게 되고, 그후 정제 단계 (F)가 반복된다.

정제가 특수항 고정층 반응기에서 수행될 때, 용액이 탄산화물 또는 중탄산화물 형태의 수지층과 접촉되는 공간 속도, 즉 매시간 액체 공간 속도(Liquid Hourly Space Velocity (LHSV))는 1 내지 100 h^-1, 바람직하게는 5 내지 70 h^-1 범위인 반면, 수지층의 압력 강하를 극복하기에 충분하여야 하는 압력에 관하여는 제한이 없다.

적합한 온도는 60℃ 미만, 바람직하게는 5 내지 50℃ 미만이다.

또한 처리될 수 있는 H₂O₂ 용액의 농도에 관하여도 제한이 없으며, 비록 본원 발명의 범위내에서 30 중량% 미만, 바람직하게는 2 내지 30 중량% 미만 또는 5 내지 15 중량% 미만의 과산화수소 함량을 가지는 용액이 바람직하다.

정제할 수 있는 용액의 양은 사용되는 수지의 교환능 및 용액 중에 존재하는 불순물의 농도에 따라 달라진다. 수지와 접촉되었던 용액으로부터 산도 및 금속의 제거는 더이상 충분히 효과적이지 않으며, 수지는 재생되어야 한다.

고정층에 배치된 음이온 교환 수지의 재생 단계는 일반적으로 0.5 내지 20 h^-1 범위의 재생 수용액 LHSV로 수행된다. 재생 스트림은 1 내지 10 중량%, 전형적으로는 3 내지 5 중량% 범위의 농도로 사용된다. 재생 스트림은 수지의 재생에 필요한 화학정량적 양과 동일하거나 그 양을 능가하는 양으로 사용된다. 재생을 위한 반응물은 탄산 및/또는 중탄산 나트륨, 칼륨 또는 암모늄에서 선택된다.

수지의 재생 단계는, 중성 보다 높은 pH를 가지는 스트림과 과산화수소 간의 접촉 또는 재생 단계에서 사용되는 Na⁺, K⁺, NH₄ ⁺ 양이온에 의한 H₂O₂ 용액의 오염을 막기 위하여, 예를 들면 탈염수를 사용한 세척 단계에 의해 H₂O₂ 용액의 정제 단계와 분리되어야 한다.

음이온교환 수지로 처리하는 마지막에서, H₂O₂ 용액은 10 ppm 미만의 무기산, 특히 황산의 전체 함량을 가진다. 무기산의 제거와 동시에, 실제적으로 귀금속과 중금속으로부터의 H₂O₂ 용액의 전체 정제물이 수득되는데, 예를 들면 Fe, Cr, Ni, W, Mo, V, Cu, Pd, Pt, Ag, Pb 및 Rh의 총합으로 생각되는 이들 모든 금속은 정제된 유출액에서 20 ppb 미만의 총 잔류치까지 제거될 수 있다. 따라서, 이러한 정제는 놀랍게도 다양한 오염물 그룹에 대하여 결과적으로 효과적이며, 최초의 용액에 비하여 개선된 안정성을 가지는 H₂O₂ 용액을 생성한다.

또한 예를 들면 Na⁺, K⁺, 또는 Ca⁺⁺과 같은 알칼리 또는 알칼리 토금속 이온의 최소량을 제거하기 위하여와 같은 작업의 요구에 기초하여, 음이온 교환 수지를 사용하는 정제 공정에 양이온 교환 수지 또는 킬레이트 수지층에서의 또다른 정제 단계가 추가될 수 있는데, 이 정제 단계는 정제된 용액의 하부스트림에서 수행되어야 한다.

수지층을 함유하는 장비는 수지층 하부에 분배기, 혼합기, 및 여과 시스템을 포함하며, 이 장비는 비-수성 H₂O₂ 용액의 최종 사용을 위한 지점 또는 제조 지점에 배치될 수 있다.

정제의 마지막에서, 과산화수소 용액은 예를 들면, 증류에 의하여 처리되어, 15 내지 60 중량% 범위의 농도를 가지는 수성 H₂O₂ 용액을 생성할 수 있으며, 또는 에폭사이드의 제조나 케톤의 암모니아 부가반응을 위한 공정과 같은 통합 공정에서 사용될 수 있다.

본원 발명의 보다 자세한 이해 및 본원 발명의 구체예를 위한, 몇 가지 설명적이고 비-제한적인 실시예들이 이하에 제공된다.

비교 실시예

7 중량%의 H₂O₂ 하이드로-알콜 용액을 미국 특허 제 6,649,140호의 실시예 5에 설명된 공정에 따라 제조한다. 반응 용매는 95/5 비율의 MeOH /H2O로 구성되며,반응 프로모터로서 H₂SO₄와 HBr를 함유한다.

수소와 산소로부터 과산화수소의 직접 합성 유체는 다음의 거시적 조성을 가진다 (표 1).

산물	중량%
H2O2	7.1
H2O	5.8
MeOH	87.1

이온 크로마토그래피를 사용한 분석은 다음의 산의 존재를 보여준다 (표 2).

산	ppm (중량)
H2SO4	300
HBr	6

ICP-MS를 통한 분석은 다음 표에 지시된 원소들의 존재를 보여준다 (표 3).

금속	ppb (중량)
Na	60
Cr	5
Mn	2
Fe	72
Ni	4
Cu	1
Zn	51
Mo	1
Pd	4
Pt	0.5

H₂0₂ 용액의 안정성은 시간에 따른 농도를 모니터함에 의해, 어두운 곳에서 Pyrex 용기안에 25℃에서 보존된 용액의 표본을 주기적으로 제거하고 이 표본들을 과망간산을 이용하여 전위차 적정시킴으로써 결정된다. 3500 시간 동안의 관찰 후, H₂O₂의 분해 속도는 다음과 같이 표현되며, 0.0037 %/h로 증명되었다:

v[%, h] = (초기 H₂O₂ [중량%]- 최종 H₂O₂ [중량 %] / 초기 H₂O₂ [중량%]) ㆍ100/시간 [h].

실시예 1

1.18 mm의 평균 직경을 가지는 구의 형태인, Rohm & Haas 사의 상업적 음이온 수지 AMBERSEP 900-OH가 충진되고, 25 ml의 부피를 위하여 0.84 cm의 내부 직경을 가지는 Pyrex 실린더로 패킹 되었다. 수지를 200 ml의 탈염수 (LHSV = 10^-1), 200ml의 메탄올 (LHSV = 10^-1, 다시 200 ml의 탈염수(LHSV = 10^-1)로 처리한 후, 5 중량% (LHSV = 10^-1)의 중탄산 암모늄 수용액으로 처리하고, 최종적으로 배출구의 물이 중성 pH를 가질 때까지 다시 탈염수로 처리한다. 비교 실시예에 따라 제조된 H₂O₂ 용액을 수지와 접촉시키고, 하부스트림 조건하의 25℃ 및 10^-1의 LHSV에서 상기와 같이 처리한다. 수지층의 배출구에서 용액 800g을 수집한 후, 후속하여 200g을 제거한다. 제거된 액체에서 다음의 결과를 수득하였다 (표 4).

산물	중량%
H202	7.1
산	ppm (중량)
H2SO4	9.3
HBr	0.4
금속	ppb (중량)
Na	60
Cr	< 0.1
Mn	2
Fe	4
Ni	1
Cu	< 0.3
Zn	3
Mo	< 0.1
Pd	< 0.1
Pt	< 0.1

제거된 액체에서 H₂O₂의 분해 속도는 비교 실시예의 조건하에서 3900 시간 동안 모니터되었고, 0.00001%/h 미만, 즉, 0.1%/년 미만으로 밝혀졌다.

실시예 2

중탄산 암모늄 대신에 중탄산 나트륨을 사용하여 실시예 1을 반복하였다.

제거된 액체에 대하여 다음의 결과가 얻어졌다(표 5).

산물	중량%
H202	7.1
산	ppm (중량)
H2SO4	9.0
HBr	0.3
금속	ppb (중량)
Na	70
Cr	< 0.1
Mn	2
Fe	3
Ni	1
Cu	< 0.3
Zn	2.5
Mo	< 0.1
Pd	< 0.1
Pt	< 0.1

중탄산 나트륨의 사용은 Na⁺ 이온으로 인한 정제된 용액의 오염을 야기하지 않는다.

실시예 3

1.18 mm의 평균 직경을 가지는 구의 형태인 Rohm & Haas 사의 상업적 음이온 수지 AMBERSEP 900-OH가 충진되고, 20 ml의 부피의, 1.04 cm의 내부 직경을 가지는 Pyrex 실린더에 패킹하였다. 수지를 The resin is treated with 200 ml의 탈염수 (A), 200 ml의 메탄올 (B), 다시 200 ml의 탈염수 (C)로 처리한 후, 5 중량%의 ㅈ중탄산 암모늄 수용액으로 처리하고 (D), 마지막으로 다시 탈염수 (E) 및 비교 실시예 (F)에 따라 제조된 용액 2500 g으로 처리하였다. A 내지 F의 작업은 10-1의 LHSV로 수행되었다.

단계 C 내지 F는 상부스트림 조건하에서 48시간 반복되었고, 단계 F 이전의 마지막 시간 동안 중단되었다.

이 후 수지를 25℃ 및 58 h-1의 LHSV에서 H2O2 용액 2500g과 접촉시키고, 배출구에서 액체를 수집한다. 제거된 액체에 대하여 다음의 결과가 수득되었다 (표 6).

산물	중량%
H202	7.1
산	ppm (중량)
H2SO4	< 10
HBr	< 1
금속	ppb (중량)
Na	65
Cr	0.8
Mn	2
Fe	2
Ni	2
Cu	< 0.3
Zn	1.5
Mo	< 0.1
Pd	0.15
Pt	< 0.1

비교 실시예의 조건하에서 3000 시간 동안 모니터 된, 제거된 액체에서의 분해 속도는 0.00003 %/h 미만인 것으로 밝혀졌다.

팔라듐과 백금 촉매를 함유하는 반응기에 공급되는 수소 및 산소로부터 출발하여, 무기산 및 할로겐을 프로모터로서 함유하는 본질적으로 알콜성 액체 반응 매질에서 직접 합성된 H₂O₂ 용액에 존재하는 무기산과 중금속의 동시제거를 위한 방법은 H₂O₂ 용액을 음이온 교환 수지와 접촉하도록 하여 처리하는 것을 포함한다.

Claims (17)

1. H₂0₂ 용액을 이온 교환 수지와 접촉시킴으로써 H₂0₂ 용액을 처리하는 것을 포함하는, H₂0₂ 용액 내에 존재하는 무기산과 중금속을 동시에 제거하는 방법에 있어서,

   상기 H₂0₂ 용액은 팔라듐과 백금 촉매를 함유하는 반응기로 공급되는 수소와 산소에서 출발하여, 하나 이상의 무기산 및 선택적으로 할로겐으로 구성되는 프로모터를 함유하고 본질적으로 알콜성인 액체 반응 매질 내에서의 직접 합성 공정으로부터 유래하는 점, 및 상기 이온 교환 수지는 유일한 음이온 교환 수지인 점에서 특징이 있고, 이에 의해 과산화수소 용액을 정제된 과산화수소 유출액로서 정제하는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제 1항에 있어서, 상기 과산화수소 용액을 고정된 수지층을 통해 통과시킴으로써 과산화수소 용액을 수지와 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 반응 매질은 본질적으로 C₁-C₄ 알콜로 구성됨을 특징으로 하는 방법.
4. 제 3항에 있어서, 상기 알콜은 메탄올임을 특징으로 하는 방법.
5. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 무기산은 황산 또는 질산임을 특징으로 하는 방법.
6. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 음이온 교환 수지는 음이온을 교환할 수 있는 4차 질소 원자를 가지는 염기성 수지에서 선택됨을 특징으로 하는 방법.
7. 제 6항에 있어서, 상기 음이온 교환 수지는 1 내지 10 중량% 범위의 농도의 탄산 또는 중탄산 나트륨, 칼륨 또는 암모늄의 수용액에 의하여 탄산 및 중탄산 형태로 전환됨을 특징으로 하는 방법.
8. 제 2항에 있어서, 상기 음이온 교환 수지층과 과산화수소 용액의 접촉은 1 내지 100 h^-1범위의 공간 속도로 발생함을 특징으로 하는 방법.
9. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 H₂0₂ 용액의 정제는 60℃ 미만의 온도에서 수행됨을 특징으로 하는 방법.
10. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 정제 처리의 종결시에 상기 무기산의 잔류 농도는 10 ppm 미만임을 특징으로 하는 방법.
11. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 무기산의 제거와 동시에, 정제된 유출액 내 총 잔류치가 20 ppb 미만인 귀금속과 중금속의 정제물을 얻는 것을 특징으로 하는 방법.
12. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 음이온 수지의 재생 또는 세척은 0.5 내지 20 h^-1 범위의 재생 수용액의 LHSV로 수행됨을 특징으로 하는 방법.
13. 제 12항에 있어서, 상기 재생 스트림은 1 내지 10 중량%의 농도의 탄산 또는 중탄산 나트륨, 칼륨 또는 암모늄 수용액으로 구성됨을 특징으로 하는 방법.
14. 제 1항 또는 2항에 있어서, 양이온 교환 또는 킬레이트 수지층에 의한 추가의 정제 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
15. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 정제된 과산화수소 용액은 처리되어, 15 내지 60 중량% 범위의 농도를 가지는 H₂0₂의 수용액을 생성함을 특징으로 하는 방법.
16. 제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 정제된 과산화수소 용액은 에폭사이드 생성 또는 암모니아 부가반응 공정을 위한 통합 공정에서 사용됨을 특징으로 하는 방법.
17. 제 9항에 있어서, 상기 H₂0₂ 용액의 정제는 5 내지 50℃의 온도에서 수행됨을 특징으로 하는 방법.