KR101117199B1 - 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 새기기 위한 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치에 관한 것이다.
본 발명은 자기부상 원리로 원통을 부상하여 비접촉으로 회전 및 축방향으로 이송시키면서 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 새길 수 있는 새로운 형태의 스테이지와 원통 표면에 빛을 조사하는 광원을 구현함으로써, 나노미터 크기의 오차로 위치를 능동 제어할 수 있는 등 기계가공에 의한 오차 및 외란을 실시간적으로 보정할 수 있고, 결국 대형 크기의 원통 표면에 나노미터 크기의 패턴을 효율적으로 가공할 수 있는 한편, 스테이지와 조합되어 광원과 원통 표면 사이를 부분적으로 진공환경이 유지되도록 하는 차동 진공수단을 구현함으로써, X선이나 전자빔, 그리고 극자외선(EUV)과 같은 광원을 적용할 수 있는 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 제공한다.
원통형, 자기부상, 스테이지, 노광장치, 대면적, 나노미터, 패턴

Description

원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치{Cylindrical magnetic levitation stage and lithography}
본 발명은 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 새기기 위한 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치에 관한 것이다.
일반적으로 광학적 패턴을 형성하기 위한 방법은 미세 패턴 금형을 가공하고, 이 미세 패턴 금형을 이용하여 패턴을 성형하는 방법을 적용하고 있다.
이러한 미세 패턴 금형의 가공에서 중요한 요소로는 금형의 전체적인 균일화, 미세 패턴의 조밀도, 가공 깊이, 표면 조도 등이 있다.
최근 원통형 금형의 경우 그 크기가 점차 대형화되는 추세에 따라 대형 크기의 원통형 금형을 가공할 수 있는 수단이나 방법이 요구되고 있다.
현재까지 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 가공하는 장치는 제시되어 있지 않은 실정이다.
과거에는 원통 표면에 마이크로 크기의 패턴을 새길 수 잇는 유사한 장치가 사용되고 있었다.
이러한 장치에 적용된 기술을 살펴보면, 원통의 회전을 위해 접촉식 기계 베어링을 사용하거나, 또는 비접촉식 공기 베어링과 회전 모터를 조합하여 사용하고, 원통의 축방향 이송을 위해 접촉식 선형 가이드 또는 비접촉식 공기 가이드와 선형 모터를 조합하여 사용하였다.
그러나, 이 경우 장치를 구성하는 기구물의 가공 정도에 따라 패턴 크기를 최소화하는데 한계가 있다.
특히, X선이나 전자빔, 그리고 극자외선(EUV)과 같은 광원의 경우 진공환경을 요구하므로, 기존의 기술들을 적용하는 것이 용이하지 않다.
결국, 종래의 기술과 같이 원통의 회전 및 축방향 이송시 발생되는 오차를 나노미터 크기로 최소화하는데 있어서 다소 한계가 있으며, 이 오차로 인해 광원을 이용한 나노미터 크기의 패턴을 직접 대형 크기의 원통 표면에 대면적으로 새기는 것이 어렵다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로서, 자기부상 원리로 원통을 부상하여 비접촉으로 회전 및 축방향으로 이송시키면서 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 새길 수 있는 새로운 형태의 스테이지와 원통 표면에 빛을 조사하는 광원을 구현함으로써, 나노미터 크기의 오차로 위치를 능동 제어할 수 있는 등 기계가공에 의한 오차 및 외란을 실시간적으로 보정할 수 있고, 결국 대형 크기의 원통 표면에 나노미터 크기의 패턴을 효율적으로 가공할 수 있는 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 스테이지와 조합되어 광원과 원통 표면 사이를 부분적으로 진공환경이 유지되도록 하는 차동 진공수단을 구현함으로써, X선이나 전자빔, 그리고 극자외선(EUV)과 같은 광원을 적용할 수 있는 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 제공하는데 다른 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서 제공하는 원통형 자기부상 스테이지는 원통 금형을 양쪽에서 지지하며 영구자석과 전자석의 상호작용에 의한 자기부상력과 자기이송력에 의해 회전 및 직선이송이 가능한 회전용 원통가동부 및 직선이송용 원통가동부와, 상기 회전용 원통가동부 및 직선이송용 원통가동부의 각 아래쪽에 배치되어 비접촉으로 원통가동부를 지지하는 회전용 원통고정부 및 직선이 송용 원통고정부를 포함하는 형태로 이루어져 있다.
따라서, 상기 회전용 원통가동부의 영구자석 배열과 회전용 원통고정부의 전자석 배열의 상호작용에 의해 자기부상력과 자기회전력이 발생되는 동시에 직선이송용 원통가동부의 영구자석의 배열과 직선이송용 원통고정부의 전자석 배열의 상호작용에 의해 자기부상력과 자기이송력이 발생되어, 원통 금형을 비접촉으로 초정밀하게 부상, 회전 및 축방향 이송시킬 수 있는 특징을 갖는다.
한편, 상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에서 제공하는 노광장치는 챔버의 내부에 설치되는 원통형 자기부상 스테이지와, 챔버 내의 원통 금형 상부에 설치되는 광원을 포함하는 형태로 이루어져 있으며, 이에 따라 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 새길 수 있는 특징을 갖는다.
여기서, 상기 노광장치의 경우, 각각이 몸체의 측방향과 하방향을 통해 연통되는 구조로서, 몸체 저면쪽에서 일정간격을 두고 동심 배치되는 고진공관로, 저진공관로 및 공압관로를 갖는 차동 진공부를 구비하여, 광원과 원통 금형 사이에 부분적으로만 진공환경을 조성할 수 있도록 함으로써, X선이나 전자빔, 그리고 극자외선(EUV)과 같은 광원을 적용할 수 있도록 하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 제공하는 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치는 다음과 같은 장점이 있다.
첫째, 원통을 부상하여 비접촉으로 회전함은 물론, 나노미터 크기의 오차로 위치를 능동 제어할 수 있으므로, 기계 가공에 의한 오차 및 외란을 실시간적으로 보정할 수 있는 등 나노미터 크기의 패턴을 직접 대형 크기의 원통 표면에 대면적으로 가공할 수 있고, 고품질 원통형 금형을 제작할 수 있는 장점이 있다.
둘째, 차동 진공부와 원통형 자기부상 스테이지를 조합하여, 광원과 원통 표면 사이를 부분적으로 진공환경이 유지되도록 함으로써, X선이나 전자빔, 그리고 극자외선(EUV)과 같은 광원을 적용할 수 있는 장점이 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 나타내는 사시도, 정면도 및 측면도이다.
도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 노광장치는 자기부상 원리에 의해 원통을 부상하여 비접촉으로 회전 및 축방향 이송을 담당하는 원통형 자기부상 스테이지, 이 원통형 자기부상 스테이지를 원통 축방향으로 이송하는 것을 담당하는 공기부상 선형 스테이지, 원통 표면에 빛을 조사하는 광원, 그리고 광원과 원통 표면 사이에 부분적으로 진공환경을 유지해주는 차동 진공부를 포함한다.
상기 원통형 자기부상 스테이지는 크게 원통 금형의 부상 및 회전을 위한 회전용 원통가동부(12) 및 회전형 원통고정부(14), 원통 금형의 부상 및 미소 직선이송을 위한 직선이송용 원통가동부(13) 및 직선이송용 원통고정부(15)로 구성되며, 이때의 원통가동부와 원통고정부는 영구자석 배열과 전자석 배열의 상호작용에 의 해 만들어지는 자기부상력, 자기회전력, 자기이송력에 의해 비접촉방식으로 부상, 회전 및 이송이 이루어지게 된다.
상기 회전용 원통가동부(12)와 직선이송용 원통가동부(13)는 원통 금형(100)의 양편에 직선상으로 나란히 배치되면서 원통 금형(100)을 잡아주는 수단으로서, 각각은 원통가동부 둘레를 따라가면서 배치되어 있는 영구자석(10a,10b)을 갖추고 있다.
이때, 상기 원통 금형(100)은 양단 축(110)을 이용하여 회전용 원통가동부(12)와 직선이송용 원통가동부(13)의 각 중심을 관통하는 홀 내에 끼워지는 형태로 지지될 수 있다.
여기서, 영구자석(10a,10b)은 원통가공부의 내부에 축방향으로 끼워져 압입되는 형태로 설치되며, 이에 따라 영구자석 간의 반발력에 의한 배열이 분리되는 것을 방지할 수 있다.
상기 회전용 원통고정부(14)와 직선이송용 원통고정부(15)는 각각 회전용 원통가동부(12) 및 직선이송용 원통가동부(13)와 각각 짝을 이루면서 원통가동부를 비접촉 방식으로 지지하는 역할을 한다.
이를 위하여, 상기 회전용 원통고정부(14)와 직선이송용 원통고정부(15)에는 에는 대략 반원형의 호가 조성되고, 이 호 내에 원통가동부의 일부가 수용되는 형태로 배치된다.
여기서, 상기 회전용 원통고정부(14)와 직선이송용 원통고정부(15)는 후술하는 공기부상 선형 스테이지의 공기부상 가동부(17)에 지지되는 구조로 설치된다.
이러한 회전용 원통고정부(14)와 직선이송용 원통고정부(15)에는 원통가동부에 있는 영구자석(10a,10b)과의 상호작용을 일으켜 자기부상력을 발생시키기 위한 수단으로 전자석(11a,11b)이 마련된다.
이때의 상기 전자석(11a,11b)은 원통고정부의 호 내에서 소정의 배열을 이루면서 배치되고, 이렇게 배치되는 전자석(11a,11b)은 호 내에 삽입되는 동시에 에폭시 몰딩으로 처리되어 고정되므로서, 전자석 간의 반발력에 의한 배열 분리가 방지될 수 있게 된다.
따라서, 원통가동부측 영구자석(10a,10b)과 원통고정부측 전자석(11a,11b)이 도 4에 도시한 바와 같은 배열을 이룸에 따라 서로 간의 상호작용에 의해 한쪽에서는 자기부상력과 자기회전력이 발생하게 되고, 반대쪽에서는 자기부상력과 자기이송력이 발생하게 되며, 결국 원통 금형(100)을 포함하는 회전용 원통가동부(12)와 직선이송용 원통가동부(13) 전체는 비접촉으로 초정밀하게 부상, 회전, 이송할 수 있게 되는 것이다.
예를 들면, 원통가동부에 있는 영구자석은 원통 주위를 따라서 극성이 번갈아가면 바뀐다.
원통가동부의 비접촉 부상 및 회전을 위하여 원통가동부측 영구자석과 상호 작용을 일으키는 원통고정부측 전자석은 원통고정부에 배치되며, 원통고정부측 전자석에 3상 전류가 흐르면, 사인파 형태의 자속이 생성된다.
이 자속은 원통가동부측 영구자석에서 발생한 자속과 동기되어 반발력을 생성한다.
이 반발력이 수직방향(Z)으로 부상력, X축 방향에 대한 회전방향(φ)에 의해 회전력을 만든다.
또한, 원통형 자기부상 스테이지에는 자기부상력을 보조하기 위한 수단으로 2개의 자기부상력 보조부(16a,16b)가 마련된다.
상기 자기부상력 보조부(16a,16b)는 회전형 원통가동부(12)와 직선이송용 원통가동부(13)의 상부에 하나씩 배속되는 형태로 배치되고, 회전용 원통가동부(12)의 영구자석 배열과 회전용 원통고정부(14)의 전자석 배열의 상호작용에 의한 자기부상력과, 직선이송용 원통가동부(13)의 영구자석 배열과 직선이송용 원통고정부(15)의 전자석 배열의 상호작용에 의한 자기부상력을 보조할 수 있게 된다.
여기서, 상기 자기부상력 보조부(16a,16b)는 후술하는 챔버(21)의 상부에 지지되는 구조로 설치될 수 있다.
원통가동부 상에 있는 영구자석과 자성체인 자기부상력 보조부 사이에 자기 흡인력이 발생되고, 이 힘은 원통가동부와 원통고정부 사이에 발생하는 자기부상력에 힘을 보태게 된다.
본 발명의 다른 예로서, 상기 원통형 자기부상 스테이지를 대신하여 원통형 공기베어링으로 원통 금형을 비접촉으로 초정밀하게 부상시킬 수 있거나, 또는 원통형 자기부상 스테이지 및 원통형 공기베어링과 함께 적용하여 초정밀하게 부상, 회전 및 축방향 이송시킬 수 있으며, 이 경우에는 시스템적으로 제어하는 측면에서의 부담을 줄일 수 있는 이점이 있다.
한편, 상기 원통형 자기부상 스테이지 전체를 축방향으로 장거리 이송시키기 위한 수단으로 공기부상 선형 스테이지가 마련된다.
상기 공기부상 선형 스테이지는 상하로 배치 조합되는 공기부상 가동부(17)와 공기부상 고정부(18)를 포함하며, 가동부 및 고정부 간의 저면쪽 경계에는 각각 가동부측으로는 공기부상 전자석(19)이, 고정부측으로는 공기부상 영구자석(20)이 축선을 따라 나란하게 배치되는 형태로 구비된다.
이에 따라, 공기부상 가동부(17)에 있는 공기부상 영구자석 배열과 공기부상 고정부(18)에 있는 공기부상 전자석 배열의 상호작용에 의해 자기이송력이 발생되면서 공기부상 가동부(17)가 비접촉으로 축방향을 따라 이송할 수 있게 된다.
그리고, 상기 공기부상 가동부(17)와 공기부상 고정부(18)의 양측면쪽 경계에서는 가공부와 고정부가 서로 결속되는 요철 배치구조가 만들어지게 되고, 이때의 결속부위에는 공기베어링(27)이 개재되므로서, 직선이송이 보다 원활히 이루어질 수 있게 된다.
다른 예로서, 상기 원통형 자기부상 스테이지 전체를 축방향으로 장거리 이송시키기 위한 수단으로 접촉식 구름베어링 선형 스테이지의 형태를 적용할 수 있으며, 이 경우 저렴한 비용으로 스테이지를 구성하는 이점을 얻을 수 있다.
여기서, 상기 공기부상 선형 스테이지는 원통 금형을 축방향으로 장거리 이송시키는데 사용하고, 원통 금형의 회전 및 미소 이송은 원통형 자기부상 스테이지가 담당하도록 하는 것이 바람직하다.
따라서, 상기 회전용 원통가동부(12)의 영구자석 배열과 회전용 원통고정부(14)의 전자석 배열의 상호작용에 의한 자기부상력과 자기회전력으로 원통 금형 의 부상 및 회전이 가능하게 되고, 또 직선이송용 원통가동부(13)의 영구자석의 배열과 직선이송용 원통고정부(15)의 전자석 배열의 상호작용에 의한 자기부상력과 자기이송력으로 원통 금형의 부상 및 미소 직선 이송이 가능하게 되며, 공기부상 영구자석 배열을 갖는 공기부상 가동부(17)와 공기부상 전자석 배열을 갖는 공기부상 고정부(18)의 조합으로 이루어진 공기부상 선형 스테이지에 의해 원통 금형의 축방향 장거리 이송이 가능하게 된다.
본 발명에서는 위와 같은 원통형 자기부상 스테이지와 공기부상 선형 스테이지를 적용한 노광장치를 제공한다.
상기 원통형 자기부상 스테이지와 공기부상 선형 스테이지는 챔버(21)의 내부에 설치되고, 챔버(21)의 상부에는 광원(22)과 양옆으로 자기부상력 보조부(16a,16b)가 설치된다.
이때, 상기 광원(22)은 원통 금형에 빛을 조사하여 패턴을 가공하는 부분으로서, X선, 전자빔, 극자외선(EUV) 등을 적용할 수 있다.
그리고, 상기 공기부상 선형 스테이지의 공기부상 고정부(18)의 경우, 챔버 밖으로 길게 연장되는 구조로 마련될 수 있으며, 이에 따라 공기부상 가동부(17)가 공기부상 고정부(18)를 따라 챔버 밖까지 이송될 수 있게 된다.
이러한 노광장치에서는 원통형 자기부상 스테이지와 공기부상 선형 스테이지의 특성, 예를 들면 비접촉 회전 및 이송에 따른 나노미터 크기의 오차로 위치를 능동 제어할 수 있는 특성에 의해 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 효과적으로 가공할 수 있게 된다.
또한, 본 발명에서는 광원(22)과 원통 금형 사이에 부분적으로만 진공환경을 조성하는 차동 진공부(23)를 제공한다.
도 5와 도 6에 도시한 바와 같이, 상기 차동 진공부(23)는 챔버(21)의 상부에서 광원(22)의 둘레에 설치되며, 원통 금형(100)과 접하는 저면은 구면 또는 비구면 형상으로 되어 있다.
이러한 상기 차동 진공부(23)에는 몸체의 측방향과 하방향을 통해 연통되는 구조로 이루어진 3개의 관로, 즉 고진공관로(24), 저진공관로(25) 및 공압관로(26)가 형성되고, 이것들은 몸체 저면쪽에서 일정간격을 두고 동심으로 배치된다.
이때, 상기 광원(22)과 원통 금형(100) 사이의 공간을 차동 진공부(23)와 원통형 자기부상 스테이지가 미세하게 제어할 수 있다.
예를 들면, 차동 진공부(23)의 진공압력을 조절하거나, 또는 자기부상 스테이지의 자기력 세기를 조절하는 등의 방법으로 광원(22)과 원통 금형(100) 사이의 공간, 즉 간격을 미세하게 제어할 수 있다.
여기서, 상기 몸체 저면쪽에 형성되는 고진공관로(24), 저진공관로(25) 및 공압관로(26)의 경우, 원형이나 다각형 등 다양한 형상으로 배치될 수 있다.
따라서, 외부로부터 가해지는 공압에 의해 패턴 가공을 위한 광조사 부위의 일정 영역이 공압에 의해 차단되고, 이와 함께 공압으로 차단되는 영역의 내부에는 외부로부터 가해지는 진공압이 작용하게 되므로서, 광원과 원통 금형 사이의 소정의 영역이 진공환경으로 조성될 수 있게 된다.
이와 같이, 본 발명에서 제공하는 노광장치는 자기부상 원리에 의해 원통을 부상하여 비접촉으로 회전을 담당하는 원통형 자기부상 스테이지, 원통형 자기부상 스테이지를 원통 축방향으로 이송하는 것을 담당하는 공기부상 선형 스테이지, 원통 표면에 빛을 조사하는 광원, 광원과 원통 표면 사이를 부분적으로 진공환경을 유지해주는 차동 진공부 등으로 구성되므로서, 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 새기는데 매우 효율적이며, 또 부분적인 진공환경의 조성을 통해 X선, 전자빔, 극자외선 등과 같은 광원을 적용할 수 있는 이점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 나타내는 사시도
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 나타내는 정면도
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치를 나타내는 측면도로서, (a)는 좌측면도, (b)는 우측면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치에서 회전용 원통가동부와 직선이송용 원통가동부를 나타내는 사시도
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치에서 차동 진공부를 나타내는 사시도
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 원통형 자기부상 스테이지 및 노광장치에서 차동 진공부를 나타내는 단면도
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10a,10b : 영구자석 11a,11b : 전자석
12 : 회전용 원통가동부 13 : 직선이송용 원통가동부
14 : 회전용 원통고정부 15 : 직선이송용 원통고정부
16a,16b : 자기부상력 보조부 17 : 공기부상 가동부
18 : 공기부상 고정부 19 : 공기부상 전자석
20 : 공기부상 영구자석 21 : 챔버
22 : 광원 23 : 차동 진공부
24 : 고진공관로 25 : 저진공관로
26 : 공압관로 27 : 공기베어링

Claims (14)

  1. 원통 금형을 양쪽에서 지지하며 영구자석(10a,10b)과 전자석(11a,11b)의 상호작용에 의한 자기부상력과 자기이송력에 의해 회전 및 직선이송이 가능한 회전용 원통가동부(12) 및 직선이송용 원통가동부(13);
    상기 회전용 원통가동부(12) 및 직선이송용 원통가동부(13)의 각 아래쪽에 배치되어 비접촉으로 원통가동부를 지지하는 회전용 원통고정부(14) 및 직선이송용 원통고정부(15);
    를 포함하며, 상기 회전용 원통가동부(12)의 영구자석(11a) 배열과 회전용 원통고정부(14)의 전자석(11a) 배열의 상호작용에 의해 자기부상력과 자기회전력이 발생되는 동시에 직선이송용 원통가동부(13)의 영구자석(11b)의 배열과 직선이송용 원통고정부(15)의 전자석(11b) 배열의 상호작용에 의해 자기부상력과 자기이송력이 발생되어, 원통 금형을 비접촉으로 초정밀하게 부상, 회전 및 축방향 이송시킬 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 회전용 원통가동부(12)와 직선이송용 원통가동부(13)의 영구자석(10a,10b)은 원통가동부 내에 압입되어, 영구자석 간의 반발력에 의한 배열 분리를 방지할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 회전용 원통고정부(14)와 직선이송용 원통고정부(15)의 전자석(11a,11b)은 원통고정부 내에 삽입 및 에폭시 몰딩되어, 전자석 간의 반발력에 의한 배열 분리를 방지할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 회전용 원통가동부(12) 및 직선이송용 원통가동부(13)의 각 상부에 근접 배치되어, 영구자석 배열과 전자석 배열의 상호작용에 의한 자기부상력을 보조하는 자기부상력 보조부(16a,16b)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 회전용 원통고정부(14) 및 직선이송용 원통고정부(15)를 지지하는 공기부상 가동부(17)와 이 공기부상 가동부(17)의 하부에 조합되는 공기부상 고정부(18)를 포함하며, 공기부상 가동부 각각이 가지고 있는 공기부상 영구자석(19)과 공기부상 전자석(20)에 의해 공기부상 가동부(17)가 부상되어, 회전용 원통고정부(14) 및 직선이송용 원통고정부(15)를 포함하는 공기부상 가동부(17) 전체가 비접촉으로 이송될 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 원통 금형의 축방향 장거리 이송은 공기부상 가동부(17) 및 공기부상 고정부(18)가 담당하고, 원통 금형의 축방향 미소 이송은 직선이송용 원통가동부(13) 및 직선이송용 원통고정부(15)가 담당하는 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  7. 챔버(21)의 내부에 설치되는 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항의 원통형 자기부상 스테이지와, 챔버(21) 내의 원통 금형 상부에 설치되는 광원(22)을 포함하며, 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 새길 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 청구항 7에 있어서, 상기 원통 금형의 상부에 설치되어, 광원(22)과 원통 금형 사이에 부분적으로만 진공환경이 되도록 구면 또는 비구면 형상을 갖는 차동 진공부(23)를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  9. 청구항 8에 있어서, 상기 차동 진공부(23)는 각각은 몸체의 측방향과 하방향을 통해 연통되는 구조로서, 몸체 저면쪽에서 일정간격을 두고 동심 배치되는 고진 공관로(24), 저진공관로(25) 및 공압관로(26)를 포함하며, 광원과 원통 금형 사이에 부분적으로만 진공환경을 조성할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 청구항 9에 있어서, 상기 차동 진공부(23)의 몸체 저면쪽에 형성되는 고진공관로(24), 저진공관로(25) 및 공압관로(26)는 원형 또는 다각형의 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 챔버(21)의 내부에 설치되는 청구항 6의 원통형 자기부상 스테이지와, 챔버(21) 내의 원통 금형 상부에 설치되는 광원(22)을 포함하며, 대형 크기의 원통 표면에 직접 나노미터 크기의 패턴을 대면적으로 새길 수 있고,
    상기 공기부상 가동부(17)가 공기부상 고정부(18)를 따라 이동함에 있어서, 공기부상 고정부(18)를 길게 연장하여, 원통 금형을 포함하는 원통가동부 및 원통고정부 전체를 챔버(21)의 바깥으로 이송할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 청구항 8에 있어서, 상기 광원(22)과 원통 금형 사이의 간격을 차동 진공부(23)와 원통형 자기부상스테이지에 의해 제어할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  13. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 회전용 원통고정부(14) 및 직선이송용 원통고정부(15) 전체는 구름베어링 선형스테이지에 의해 이동될 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 원통형 자기부상 스테이지.
  14. 청구항 7에 있어서, 상기 원통형 자기부상 스테이지를 대신하여 원통형 공기베어링으로 원통 금형을 비접촉으로 초정밀하게 부상시킬 수 있거나, 또는 원통형 자기부상 스테이지 및 원통형 공기베어링과 함께 적용하여 초정밀하게 부상, 회전 및 축방향 이송시킬 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 노광장치.
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